JP2005026673A - ドッキング型基板移送及び処理システムと、それを利用した移送及び処理方法 - Google Patents
ドッキング型基板移送及び処理システムと、それを利用した移送及び処理方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2005026673A JP2005026673A JP2004163771A JP2004163771A JP2005026673A JP 2005026673 A JP2005026673 A JP 2005026673A JP 2004163771 A JP2004163771 A JP 2004163771A JP 2004163771 A JP2004163771 A JP 2004163771A JP 2005026673 A JP2005026673 A JP 2005026673A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- transfer
- processing
- cleaning
- docking
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/68—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for positioning, orientation or alignment
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
- H01L21/67155—Apparatus for manufacturing or treating in a plurality of work-stations
- H01L21/6719—Apparatus for manufacturing or treating in a plurality of work-stations characterized by the construction of the processing chambers, e.g. modular processing chambers
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
- H01L21/67017—Apparatus for fluid treatment
- H01L21/67028—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
- H01L21/67155—Apparatus for manufacturing or treating in a plurality of work-stations
- H01L21/67196—Apparatus for manufacturing or treating in a plurality of work-stations characterized by the construction of the transfer chamber
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Abstract
【解決手段】基板が積置される積置台Cと、積置台Cから/へ基板を引受ける/引継ぐ基板移送部材Rと、基板移送部材Rから基板を引受けて洗浄及び乾燥処理する基板洗浄及び乾燥装置Hと、そして基板洗浄及び乾燥装置Hから引出された基板を基板移送部材Rから引受けて処理する基板処理装置Dとを含む。
【選択図】図1
Description
第1に、主工程ラインに洗浄及び乾燥装置をドッキング方式で配置することによって、既存のように洗浄及び乾燥ラインを独立的に配置した場合に比べて、空間効率性が優れていて投資費などを節減することができる。
12 上部移送手段
13 下部ベース
14、16 垂直移送手段
15 上部ベース
18、20 移送ユニット
22 基板処理ユニット
24 レール
26 整列部
27 支持ピン
28 浮上板
30 上部ハンド
32 下部ハンド
36 搬送ローラ
37 アンローダー
42 出側
44 有機洗浄モジュール
46 洗浄モジュール
49 回転部材
C 積置台
D 基板処理装置
H 基板洗浄及び乾燥装置
R 基板移送部材
Claims (10)
- 基板が積置される積置台と;
前記積置台から/へ基板を引受ける/引継ぐ基板移送部材と;
前記基板移送部材から基板を引受けて洗浄及び乾燥処理する基板洗浄及び乾燥装置と;そして
前記基板洗浄及び乾燥装置から引出された基板を前記基板移送部材から引受けて処理する基板処理装置と
を含むことを特徴とする、ドッキング型基板移送及び処理システム。 - 前記基板移送部材は、基板を積置するアームを備え、
回転及び昇降可能なロボットを含むことを特徴とする、請求項1に記載のドッキング型基板移送及び処理システム。 - 前記基板処理装置は、真空蒸着装置或いはスパッタリング装置のうちのいずれか一つであることを特徴とする、請求項1に記載のドッキング型基板移送及び処理システム。
- 前記基板洗浄及び乾燥装置は、
内部が層構造に形成されるフレームと;
前記フレームの内部層のうちの一つの層に滑走可能に装着され、外部から基板を引受けて前後方へ移送させたり外部に引継ぐ上部移送手段と;
前記フレームに昇降可能に各々備えられることによって、前記上部移送手段から/へ基板を引受ける/引継ぐ垂直移送手段と;
前記上部移送手段と異なる層に配置され、前記垂直移送手段から/へ基板を引受ける/引継ぐ移送ユニットと;そして
前記移送ユニットによって供給された基板を洗浄及び乾燥処理する基板処理ユニットとを含むことを特徴とする、請求項1に記載のドッキング型基板移送及び処理システム。 - 前記上部移送手段は、
前記フレームに装着されたレール上に安着し、滑走可能な下部ベースと、
前記下部ベースの上部に装着され、基板が積置される上部ベースと、
前記上部ベース上に備えられ、基板が安着する整列部と、
少なくとも一つ以上の支持ピンとを含むことを特徴とする、請求項4に記載のドッキング型基板移送及び処理システム。 - 前記垂直移送手段は、
垂直或いは水平運動が可能であり、前記上部移送手段から/へ基板を引受ける/引継ぐ上部ハンドと、
前記上部ハンドから基板を引受けて下降して前記移送ユニットに基板を引継いだり移送ユニットから基板を引受けて前記上部ハンドに引継ぐ下部ハンドとを含むことを特徴とする、請求項4に記載のドッキング型基板移送及び処理システム。 - 前記移送ユニットは、
前記垂直移送手段から基板を引受けて前記基板処理ユニットに供給するローダーと、
前記基板処理ユニットから基板を排出するアンローダーとを含むことを特徴とする、請求項4に記載のドッキング型基板移送及び処理システム。 - 前記垂直移送手段は、
前記フレームの前部に配置され、前記上部移送手段から基板を引受けて下降して前記ローダーに引継ぐ第1アップダウンバッファーユニットと、
前記フレームの後部に配置され、前記アンローダーから供給された基板を上部に移送させて前記上部移送手段に引継ぐ第2アップダウンバッファーユニットとを含むことを特徴とする、請求項7に記載のドッキング型基板移送及び処理システム。 - 基板移送部材が積置台から基板を引出す第1段階と;
引出された基板をドッキング方式で連結されるように配置される基板洗浄及び乾燥装置に供給して処理する第2段階と;そして
前記基板移送部材が前記基板洗浄及び乾燥装置から基板を引受けて基板処理装置に供給することによって基板を処理する第3段階とを含むことを特徴とする、ドッキング型基板移送及び処理方法。 - 前記第2段階は、
供給された基板を上部移送手段が引受けて第1アップダウンバッファーユニットの上部ハンドに引継ぐ段階と;
第1アップダウンバッファーユニットの上部ハンドが下降して下部ハンドに基板を引継ぎ、前記下部ハンドが基板を移送してローダーに引継ぐ段階と;
前記ローダーによって供給された前記基板を洗浄及び乾燥処理する段階と;
洗浄及び乾燥処理された前記基板を第2アップダウンバッファーユニットの下部ハンドに引継ぎ、下部ハンドが前記基板を上昇させて上部ハンドに引継ぐ段階と;
前記第2アップダウンバッファーユニットの上部ハンドが前記基板を移送して前記上部移送手段に引継ぐ段階と;そして
前記上部移送手段が前記基板を引受けて前記基板移送部材に引継ぐ段階とを含むことを特徴とする、請求項9に記載のドッキング型基板移送及び処理方法。
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR10-2003-0044490A KR100500169B1 (ko) | 2003-07-02 | 2003-07-02 | 도킹형 기판 이송 및 처리 시스템과, 그를 이용한 이송 및 처리 방법 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005026673A true JP2005026673A (ja) | 2005-01-27 |
JP4391320B2 JP4391320B2 (ja) | 2009-12-24 |
Family
ID=33550241
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004163771A Expired - Lifetime JP4391320B2 (ja) | 2003-07-02 | 2004-06-01 | ドッキング型基板移送及び処理システム |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7065900B2 (ja) |
JP (1) | JP4391320B2 (ja) |
KR (1) | KR100500169B1 (ja) |
CN (1) | CN1316560C (ja) |
TW (1) | TWI259825B (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2015525468A (ja) * | 2012-05-30 | 2015-09-03 | エーファウ・グループ・エー・タルナー・ゲーエムベーハー | 基板同士をボンディングする装置および方法 |
Families Citing this family (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
ES2263371B1 (es) * | 2002-11-25 | 2008-01-16 | Industrias El Gamo, S.A. | Perfeccionamientos en el objeto de la patente principal n.200202704 por pistola de gas comprimido. |
KR100568069B1 (ko) | 2004-09-02 | 2006-04-05 | 한국전자통신연구원 | Tdma 통신 시스템에서의 반송파 및 도플러 주파수오차 추정 장치 및 그 방법 |
US7644512B1 (en) | 2006-01-18 | 2010-01-12 | Akrion, Inc. | Systems and methods for drying a rotating substrate |
KR100699128B1 (ko) * | 2006-03-24 | 2007-03-21 | 주식회사 디엠에스 | 기판 진공 건조 장치 |
US9834378B2 (en) | 2006-12-22 | 2017-12-05 | Brooks Automation, Inc. | Loader and buffer for reduced lot size |
KR100864262B1 (ko) * | 2008-05-19 | 2008-10-17 | 김명학 | 반도체 웨이퍼 세정장치 |
KR101331507B1 (ko) * | 2010-08-09 | 2013-11-20 | 엘지디스플레이 주식회사 | 기판 세정/건조 장치와 이를 포함하는 기판 처리 장치, 그의 기판 세정/건조 방법, 및 디스플레이 패널의 제조 방법 |
JP5681412B2 (ja) * | 2010-08-27 | 2015-03-11 | 川崎重工業株式会社 | 板状部材収納用ラック、板状部材移載設備、及び板状部材収納方法 |
CN102064126B (zh) * | 2010-11-04 | 2013-04-17 | 友达光电股份有限公司 | 基板运输处理方法 |
CN102610548A (zh) * | 2011-01-20 | 2012-07-25 | 佶新科技股份有限公司 | 基板交换装置 |
JP6133120B2 (ja) * | 2012-05-17 | 2017-05-24 | 株式会社荏原製作所 | 基板洗浄装置 |
KR102561186B1 (ko) * | 2018-04-19 | 2023-07-28 | 삼성디스플레이 주식회사 | 기재 부착 방법 및 기재 부착 장치 |
KR102596033B1 (ko) * | 2020-11-16 | 2023-11-01 | (주)에스티아이 | 포드 세정공정 |
KR102565731B1 (ko) * | 2020-11-16 | 2023-08-17 | (주)에스티아이 | 포드 세정챔버 |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08313856A (ja) * | 1995-05-18 | 1996-11-29 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板搬送装置 |
JP2002170823A (ja) * | 2000-09-19 | 2002-06-14 | Hitachi Kokusai Electric Inc | 半導体製造装置および半導体装置の製造方法並びにそれに使用されるカバー部材 |
JP3360001B2 (ja) * | 1996-10-30 | 2002-12-24 | 芝浦メカトロニクス株式会社 | 処理装置 |
JP2003051529A (ja) * | 2001-05-30 | 2003-02-21 | Tokyo Electron Ltd | 搬送装置 |
JP2003243481A (ja) * | 2002-02-21 | 2003-08-29 | Asm Japan Kk | 半導体製造装置及びメンテナンス方法 |
JP2003309160A (ja) * | 2002-04-16 | 2003-10-31 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置用ユニットおよび基板処理装置並びにその装置の組立方法 |
Family Cites Families (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4923584A (en) * | 1988-10-31 | 1990-05-08 | Eaton Corporation | Sealing apparatus for a vacuum processing system |
EP0408216A3 (en) * | 1989-07-11 | 1991-09-18 | Hitachi, Ltd. | Method for processing wafers and producing semiconductor devices and apparatus for producing the same |
JP2644912B2 (ja) * | 1990-08-29 | 1997-08-25 | 株式会社日立製作所 | 真空処理装置及びその運転方法 |
DE69230493T2 (de) * | 1991-04-04 | 2000-05-04 | Seagate Technology | Verfahren und vorrichtung zum sputtern mit hoher geschwindigkeit |
US5979475A (en) * | 1994-04-28 | 1999-11-09 | Hitachi, Ltd. | Specimen holding method and fluid treatment method of specimen surface and systems therefor |
US6712577B2 (en) * | 1994-04-28 | 2004-03-30 | Semitool, Inc. | Automated semiconductor processing system |
US5934856A (en) * | 1994-05-23 | 1999-08-10 | Tokyo Electron Limited | Multi-chamber treatment system |
JPH10256345A (ja) * | 1997-03-13 | 1998-09-25 | Tokyo Electron Ltd | 基板処理装置および基板搬送方法 |
JP2000150611A (ja) * | 1998-11-06 | 2000-05-30 | Canon Inc | 試料の処理システム |
TW423052B (en) * | 1999-09-06 | 2001-02-21 | Taiwan Semiconductor Mfg | Preprocess of metal silidation manufacturing process |
US6485988B2 (en) * | 1999-12-22 | 2002-11-26 | Texas Instruments Incorporated | Hydrogen-free contact etch for ferroelectric capacitor formation |
US6635528B2 (en) * | 1999-12-22 | 2003-10-21 | Texas Instruments Incorporated | Method of planarizing a conductive plug situated under a ferroelectric capacitor |
-
2003
- 2003-07-02 KR KR10-2003-0044490A patent/KR100500169B1/ko active IP Right Grant
-
2004
- 2004-05-25 US US10/852,965 patent/US7065900B2/en not_active Expired - Lifetime
- 2004-05-28 TW TW093115261A patent/TWI259825B/zh active
- 2004-06-01 JP JP2004163771A patent/JP4391320B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 2004-06-15 CN CNB2004100487305A patent/CN1316560C/zh not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08313856A (ja) * | 1995-05-18 | 1996-11-29 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板搬送装置 |
JP3360001B2 (ja) * | 1996-10-30 | 2002-12-24 | 芝浦メカトロニクス株式会社 | 処理装置 |
JP2002170823A (ja) * | 2000-09-19 | 2002-06-14 | Hitachi Kokusai Electric Inc | 半導体製造装置および半導体装置の製造方法並びにそれに使用されるカバー部材 |
JP2003051529A (ja) * | 2001-05-30 | 2003-02-21 | Tokyo Electron Ltd | 搬送装置 |
JP2003243481A (ja) * | 2002-02-21 | 2003-08-29 | Asm Japan Kk | 半導体製造装置及びメンテナンス方法 |
JP2003309160A (ja) * | 2002-04-16 | 2003-10-31 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置用ユニットおよび基板処理装置並びにその装置の組立方法 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2015525468A (ja) * | 2012-05-30 | 2015-09-03 | エーファウ・グループ・エー・タルナー・ゲーエムベーハー | 基板同士をボンディングする装置および方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN1316560C (zh) | 2007-05-16 |
TWI259825B (en) | 2006-08-11 |
KR20050004347A (ko) | 2005-01-12 |
TW200513426A (en) | 2005-04-16 |
US7065900B2 (en) | 2006-06-27 |
CN1577720A (zh) | 2005-02-09 |
JP4391320B2 (ja) | 2009-12-24 |
US20050000110A1 (en) | 2005-01-06 |
KR100500169B1 (ko) | 2005-07-07 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4391320B2 (ja) | ドッキング型基板移送及び処理システム | |
JP4563191B2 (ja) | 基板処理装置 | |
US9087866B2 (en) | Substrate cleaning/drying apparatus and substrate processing apparatus comprising the same, and substrate cleaning/drying method and method for manufacturing display panel | |
JP4744427B2 (ja) | 基板処理装置 | |
JP4767783B2 (ja) | 液処理装置 | |
JP2006253373A (ja) | 基板処理装置及び基板処理方法及び基板処理プログラム | |
JP2005019986A (ja) | 基板の水平及び上下移送装置 | |
JP2009124061A (ja) | 基板処理装置 | |
KR102099114B1 (ko) | 기판 처리 방법 및 기판 처리 장치 | |
JP3587788B2 (ja) | 昇降式基板処理装置及びこれを備えた基板処理システム | |
JP5221508B2 (ja) | 基板処理装置 | |
JP4450724B2 (ja) | 基板処理装置及びローダ装置及びアンローダ装置 | |
JP3958572B2 (ja) | 基板処理装置及び基板処理方法 | |
KR101327009B1 (ko) | 도포막 형성 장치, 기판 반송 방법 및 기억 매체 | |
JP2002134588A (ja) | 基板搬送処理装置 | |
KR100617454B1 (ko) | 기판 이송시스템 및 이를 이용한 기판 이송방법 | |
JP4633294B2 (ja) | 搬送ロボット移転対応型搬送装置及び搬送ロボット移転方法 | |
KR101118885B1 (ko) | 처리 장치 및 처리 방법 | |
KR20050049935A (ko) | 기판세정시스템 | |
JP3681916B2 (ja) | 基板洗浄装置 | |
JP2020053675A (ja) | 基板処理装置 | |
JP4627992B2 (ja) | 基板処理システム | |
KR102238974B1 (ko) | 석션부를 구비한 기판 이송장치 | |
KR102415323B1 (ko) | 노즐 유닛 및 기판 처리 장치 | |
JP2008109158A (ja) | 基板処理装置、基板処理方法、基板の製造方法及び電子機器 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20070322 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20070327 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20070627 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20080108 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20080407 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20090120 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090413 |
|
A911 | Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20090519 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090804 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090824 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20090908 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20091007 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121016 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4391320 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131016 Year of fee payment: 4 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |