JP2005017274A - 先行パルスにより強化されたレーザ生成プラズマeuv光源 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 先行パルスはターゲットエリア内に弱いプラズマを生成し、メインレーザパルスのレーザ吸収を改善して、EUV放射の放出量を改善する。高エネルギーイオン流束は、先行パルスによって生成される、局在化したターゲット蒸気雲内の衝突によって低減される。また低エネルギーの先行パルスは、最大出力強度を得るためのメインパルスの20〜200ns前にターゲットエリアに到達する。低い強度のEUV放射を与えるため、先行パルスとメインパルスとの間のタイミングは160ns未満に低減することができる。1実施形態では、先行パルスは、適当なビーム強度比を有するビームスプリッタによってメインパルスから分離され、メインパルスは遅延され、先行パルス後にターゲットエリアに到達する。
【選択図】 図2
Description
Claims (12)
- 極紫外線(EUV)放射を生成するためのEUV放射源であって、
ターゲット材料の少なくとも1つのストリームを生成するための装置であって、ターゲット材料がターゲットエリアに向けて指向される装置と、
メインパルスレーザビームおよび先行パルスレーザビームとを生成するためのシステムと、
を備え、前記メインパルスビームおよび前記先行パルスビームは、前記メインパルスビームの前に前記先行パルスビームが前記ターゲットエリアに到達するように時間設定され、前記先行パルスビームは前記ターゲットエリアにおいて弱くイオン化されたプラズマを生成し、前記メインパルスビームは前記EUV放射を生成する、EUV放射源。 - 請求項1に記載の放射源において、前記システムは、前記メインパルスビームを生成するための第1のレーザ源と、前記先行パルスビームを生成するための第2のレーザ源とを含む放射源。
- 請求項1に記載の放射源において、前記システムはさらにコントローラを含み、前記コントローラは前記メインパルスビームと前記先行パルスビームとの間のタイミングを与える、放射源。
- 請求項3に記載の放射源において、前記コントローラは前記先行パルスビームと前記メインパルスビームとの間のタイミングを制御し、前記放射源によって生成される前記EUV放射の強度を制御する、放射源。
- 請求項4に記載の放射源において、前記コントローラは前記先行パルスビームと前記メインパルスビームとの間のタイミングが160ns未満になるように設定し、最大強度の所定のパーセンテージの前記EUV放射を与える、放射源。
- 請求項1に記載の放射源において、前記システムは、レーザパルスを生成するための単一のレーザ光源と、前記レーザパルスを前記メインパルスレーザビームと前記先行パルスレーザビームとに分割するためのビームスプリッタとを含み、前記システムはさらに、前記先行パルスレーザビームに対して前記メインパルスレーザビームを遅延させるための遅延デバイスを含む、放射源。
- 請求項1に記載の放射源において、前記メインパルスビームおよび前記先行パルスビームは、前記ターゲットエリアにおいて、0°〜180°の範囲内の角度だけ分離される、放射源。
- 請求項7に記載の放射源において、前記角度は約30°である放射源。
- 請求項7に記載の放射源において、前記角度は約90°である放射源。
- 請求項1に記載の放射源において、前記先行パルスビームは、前記メインパルスビームの20〜200ns前に前記ターゲットエリアに到達する、放射源。
- 請求項1に記載の放射源において、前記先行パルスビームは約10〜40mJのエネルギーを有し、前記メインパルスビームは約0.1ないし1Jのエネルギーを有する、放射源。
- 請求項1に記載の放射源において、前記ターゲット材料の前記少なくとも1つのストリームは、凍結されたストリーム、液体流、複数のストリームおよびターゲット小滴からなるグループから選択される、放射源。
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