JP2007129066A - 極端紫外光発生方法および極端紫外光発生装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】錫ナノ粒子が混入された低濃度錫ナノ粒子溶液により構成された液体ターゲットTをレーザー照射位置A1に向かって吐出する液体ターゲット吐出装置2と、予備的なプラズマを発生させる第1レーザー光と、前記第1レーザー光から所定時間遅れて照射されて極端紫外光を発生させる第2レーザー光とからなる二重レーザー光を前記レーザー照射位置A1に照射する二重レーザー光照射装置7と、を備えた極端紫外光発生装置1。
【選択図】図1
Description
例えば、特許文献1(特開2003−297737号公報)の従来技術の説明には、キセノンを気体状態、液体状態、あるいは固体状態にしてレーザー光の照射位置に供給することが記載されている。また、特許文献1には、高出力の極端紫外光を得るために、キセノンやリチウム、スズまたは酸化スズに電荷を付与してイオン化させて、イオン化したキセノン等をレーザー光の照射位置に供給してプラズマ化させ、極端紫外光を得る技術が記載されている。
しかしながら、キセノンをターゲットとして使用した場合には、プラズマ励起用のレーザー光のエネルギーと、得られた極端紫外光のエネルギーとの比であるエネルギー変換効率が0.5%程度と非常に低いという問題がある。特に、光源として使用する場合には、エネルギー変換効率が1%を超えることが産業上望まれている。
また、前記特許文献1記載の技術では、ターゲットに電荷を付与するための装置が必要になるため、装置が大がかりになり、構成の複雑化、コスト高になるという問題もある。
前記デブリの発生を抑えるための技術としては、特許文献2(特開2004−279246号公報)に、常温で気体の水素化スズ(SnH4:モノスタナン)をターゲットとし、気体状、液体状または固体状でレーザー光照射位置に供給して、極端紫外光を得る技術が記載されている。
さらに、固体状のスズを所定のサイズでプラズマ励起用レーザー光照射位置に供給するための技術として、特許文献4(特開2004−288517号公報)記載の技術が公知である。特許文献4(特開2004−288517号公報)記載の技術では、数十nmのスズ微粒子を溶媒に分散させた液滴をプラズマ励起用レーザー光照射位置に供給する前に、溶媒蒸発用のレーザー光を照射して、溶媒を蒸発させる。そして、溶媒蒸発用レーザー光の照射位置からずれた位置に設定されたプラズマ励起用のレーザー光照射位置に、溶媒が蒸発した固体状のスズ微粒子を供給して、極端紫外光を発生させている。
特許文献2記載の技術では、反応性が高く特殊なガスである水素化スズを使用するため、取り扱いが容易でないという問題がある。
特許文献3記載の技術では、デブリを抑える技術ではなく、デブリを除去する装置を設けているため、デブリ除去装置が必要となり、装置が大型化する問題がある。
特許文献4記載の技術では、溶媒蒸発用のレーザー光を照射する装置と、プラズマ励起用のレーザー光を照射する装置とを備えており、プラズマ励起のレーザー装置としては、結局は一般的な一台のレーザー装置でのシングルパルスレーザー光の照射にすぎない。
また、プラズマ励起用のレーザー光の照射位置に、溶媒が蒸発した数十nmの固体状のスズが供給されるため、スズの量によってはプラズマ発生時に全て蒸発せず、デブリが発生する恐れも残る。
また、前記特許文献1〜4記載のいずれの技術においても、エネルギー変換効率1%を達成することは困難であるという問題がある。
また、本発明は、取り扱いが容易かつ簡素な構成で、極端紫外光を発生させることを第2の技術的課題とする。
前記技術的課題を解決するために第1発明の極端紫外光発生方法は、
スズナノ粒子が混入された低濃度スズナノ粒子溶液により構成された液体ターゲットに、
予備的なプラズマを発生させる第1レーザー光と、前記第1レーザー光から所定時間遅れて照射されて極端紫外光を発生させる第2レーザー光とからなる二重レーザー光を照射することにより、極端紫外光を発生させることを特徴とする。
前記構成要件を備えた第1発明の極端紫外光発生方法では、スズナノ粒子が混入された低濃度スズナノ粒子溶液により構成された液体ターゲットに、予備的なプラズマを発生させる第1レーザー光と、前記第1レーザー光から所定時間遅れて照射されて極端紫外光を発生させる第2レーザー光とからなる二重レーザー光を照射することにより、極端紫外光を発生させる。
したがって、第1発明の極端紫外光発生方法では、ターゲットとして液体ターゲットを使用すると共に、液体ターゲットは、スズナノ粒子が混入された低濃度スズナノ粒子溶液により構成されているので、プラズマ発生時にスズナノ粒子がすべて蒸発しやすい。したがって、デブリの発生を抑えることができる。また、予備的なプラズマを発生させる第1レーザー光と、前記第1レーザー光から所定時間遅れて照射されて極端紫外光を発生させる第2レーザー光とからなる二重レーザー光を使用するので、効率的にターゲットをプラズマ化して極端紫外光を発生させることができ、高いエネルギー変換効率を達成することができる。
また、第1発明の極端紫外光発生方法では、予め溶媒を蒸発させたり、デブリを除去する装置を特に設ける必要がないので、これらを省略した場合には構成を簡素化できる。
第1発明の形態1の極端紫外光発生方法は、第1発明において、
平均粒子径5nmの酸化スズにより構成された前記スズナノ粒子を使用することを特徴とする。
(第1発明の形態1の作用)
前記構成要件を備えた第1発明の形態1の極端紫外光発生方法では、平均粒子径5nmの酸化スズにより構成された前記スズナノ粒子を使用するので、レーザー光照射時に蒸発しやすく、デブリの発生を低減することができる。また、酸化スズを使用するので、比較的取り扱いが容易である。
第1発明の形態2の極端紫外光発生方法は、前記第1発明または第1発明の形態1において、
6%のスズナノ粒子水溶液により構成された前記低濃度スズナノ粒子溶液を使用することを特徴とする。
(第1発明の形態2の作用)
前記構成要件を備えた第1発明の形態2の極端紫外光発生方法では、6%の低濃度スズナノ粒子水溶液により構成された前記低濃度スズナノ粒子溶液を使用するので、レーザー光照射時に蒸発せずに残る粒子を低減でき、デブリの発生を低減できる。
第1発明の形態3の極端紫外光発生方法は、前記第1発明および第1発明の形態1,2のいずれかにおいて、
前記第2レーザー光を、前記第1レーザー光から100ナノ秒遅れて前記液体ターゲットに照射することを特徴とする。
(第1発明の形態3の作用)
前記構成要件を備えた第1発明の形態3の極端紫外光発生方法では、前記第2レーザー光を、前記第1レーザー光から100ナノ秒遅れて前記液体ターゲットに照射するので、ターゲットのプラズマ化が最適な条件で行われるので、高いエネルギー変換効率を達成することができる。
第1発明の形態4の極端紫外光発生方法は、前記第1発明および第1発明の形態1〜3のいずれかにおいて、
Nd:YAGレーザーの2倍高調波により構成された前記第1レーザー光と、Nd:YAGレーザーの基本波により構成された前記第2レーザー光とを使用することを特徴とする。
(第1発明の形態4の作用)
前記構成要件を備えた第1発明の形態4の極端紫外光発生方法では、Nd:YAGレーザーの2倍高調波により構成された前記第1レーザー光と、Nd:YAGレーザーの基本波により構成された前記第2レーザー光とを使用するので、高いエネルギー効率を達成することができる。
前記技術的課題を解決するために第2発明の極端紫外光発生装置は、
スズナノ粒子が混入された低濃度スズナノ粒子溶液により構成された液体ターゲットをレーザー照射位置に向かって吐出する液体ターゲット吐出装置と、
予備的なプラズマを発生させる第1レーザー光と、前記第1レーザー光から所定時間遅れて照射されて極端紫外光を発生させる第2レーザー光とからなる二重レーザー光を前記レーザー照射位置に照射する二重レーザー光照射装置と、
を備えたことを特徴とする。
前記構成要件を備えた第2発明の極端紫外光発生装置では、液体ターゲット吐出装置は、スズナノ粒子が混入された低濃度スズナノ粒子溶液により構成された液体ターゲットをレーザー照射位置に向かって吐出する。二重レーザー光照射装置は、予備的なプラズマを発生させる第1レーザー光と、前記第1レーザー光から所定時間遅れて照射されて極端紫外光を発生させる第2レーザー光とからなる二重レーザー光を前記レーザー照射位置に照射する。
したがって、第2発明の極端紫外光発生装置では、ターゲットとして液体ターゲットを使用すると共に、液体ターゲットは、スズナノ粒子が混入された低濃度スズナノ粒子溶液により構成されているので、プラズマ発生時にスズナノ粒子がすべて蒸発しやすい。したがって、デブリの発生を抑えることができる。また、予備的なプラズマを発生させる第1レーザー光と、前記第1レーザー光から所定時間遅れて照射されて極端紫外光を発生させる第2レーザー光とからなる二重レーザー光を使用するので、効率的にターゲットをプラズマ化して極端紫外光を発生させることができ、高いエネルギー変換効率を達成することができる。
また、第2発明の極端紫外光発生装置では、予め溶媒を蒸発させたり、デブリを除去する装置を特に設ける必要がないので、これらを省略した場合に構成を簡素化できる。
第2発明の形態1の極端紫外光発生装置は、前記第2発明において、
平均粒子径5nmの酸化スズにより構成された前記スズナノ粒子を使用することを特徴とする。
(第2発明の形態1の作用)
前記構成要件を備えた第2発明の形態1の極端紫外光発生装置では、平均粒子径5nmの酸化スズにより構成された前記スズナノ粒子を使用するので、レーザー光照射時に蒸発しやすく、デブリの発生を低減することができる。また、酸化スズを使用するので、比較的取り扱いが容易である。
第2発明の形態2の極端紫外光発生装置は、前記第2発明または第2発明の形態1において、
6%のスズナノ粒子水溶液により構成された前記低濃度スズナノ粒子溶液を使用することを特徴とする。
(第2発明の形態2の作用)
前記構成要件を備えた第2発明の形態2の極端紫外光発生装置は、6%のスズナノ粒子水溶液により構成された前記低濃度スズナノ粒子溶液を使用するので、レーザー光照射時に蒸発せずに残る粒子を低減でき、デブリの発生を低減できる。
第2発明の形態3の極端紫外光発生装置は、前記第2発明および第2発明1,2のいずれかにおいて、
前記第2レーザー光を、前記第1レーザー光から100ナノ秒遅れて前記液体ターゲットに照射することを特徴とする。
(第2発明の形態3の作用)
前記構成要件を備えた第2発明の形態3の極端紫外光発生装置は、前記第2レーザー光を、前記第1レーザー光から100ナノ秒遅れて前記液体ターゲットに照射するので、ターゲットのプラズマ化が最適な条件で行われるので、高いエネルギー変換効率を達成することができる。
第2発明の形態4の極端紫外光発生装置は、前記第2発明および第2発明1〜3のいずれかにおいて、
Nd:YAGレーザーの2倍高調波により構成された前記第1レーザー光と、Nd:YAGレーザーの基本波により構成された前記第2レーザー光とを使用することを特徴とする。
(第2発明の形態4の作用)
前記構成要件を備えた第2発明の形態4の極端紫外光発生装置は、Nd:YAGレーザーの2倍高調波により構成された前記第1レーザー光と、Nd:YAGレーザーの基本波により構成された前記第2レーザー光とを使用するので、高いエネルギー効率を達成することができる。
また、本発明は、酸化スズのスズナノ粒子を使用することにより、取り扱いが容易かつ簡素な構成で、極端紫外光を発生させることができる。
(実施の形態1)
図1は本発明の実施の形態1の極端紫外光発生装置の説明図である。
図1において、実施の形態1の極端紫外光発生装置としてのレーザー励起プラズマ方式による光源装置1は、図示しない真空容器内に設定されたレーザー光照射位置A1に向けて液体ターゲットTを吐出する液体ターゲット吐出装置2を有する。なお、実施の形態1の液体ターゲット吐出装置2では、液体ターゲットTとして、直径50〜80μmの液体ジェットを吐出する。また、前記液体ターゲットTは、平均粒子径が5nmの酸化スズ(SnO2)が水溶液中に分散された濃度(重量%濃度)が6%の低濃度スズナノ粒子溶液により構成されている。
前記レーザー光照射位置A1の側方には、モリブデン(Mo)とシリコン(Si)の膜が多層に積層された多層膜反射鏡(光学系)4が配置されている。前記多層膜反射鏡4は、レーザー光照射位置A1で発生した極端紫外光(波長13.5nm近傍)を反射して、焦点A2(露光位置等)に集光する。前記多層膜反射鏡4には、励起レーザー光通過孔4aが形成されている。
(実験装置の説明)
図2は本発明の実施の形態1の極端紫外光発生装置におけるデブリの発生やエネルギー変換効率の観測実験用の実験装置の説明図である。
図2において、実験装置11は、球形の真空容器12内部の真空室12a中に液体ターゲットTを吐出する液体ターゲット吐出装置13を有する。前記真空容器12は、上下、左右、右上、右下、左上、左下に外部接続口が形成されており、右下の外部接続口には真空ポンプが接続されている。左側の外部接続口の外部には、集光レンズ16が配置されており、外部から照射されたレーザー光Lが集光レンズ16で集光されて、レーザー光照射位置A1に照射される。左下の外部接続口には、分光器(スペクトロメータ、図示せず)が接続されており、分光器は真空室12aで発生した極端紫外光を含む光のスペクトルを観測する。左上の外部接続口には、モリブデン(Mo)とシリコン(Si)の多層膜反射鏡を介して真空紫外光のエネルギーを計測するエネルギー計(図示せず)が接続されている。また、デブリの発生の観測をする場合には、左上の外部接続口の手前にシリコン基板17を配置して、シリコン基板表面にデブリが付着等していないかを観測する。したがって、エネルギー計で極端紫外光のエネルギーを計測する場合には、シリコン基板17は取り除かれる。
図3は水溶液中のスズナノ粒子の濃度とスペクトル強度との関係の実験結果の説明図であり、図3Aは濃度が6%の場合の説明図、図3Bは濃度が17%の場合の説明図である。
なお、図3では、横軸に波長(nm)をとり、縦軸に強度(任意単位)をとっている。
図3には、液体ターゲットTに分散された酸化スズナノ粒子の濃度をパラメータとし且つ、照射するレーザー光は前記基本波ω(第2レーザー光)のみとし、それ以外は実施の形態1と同様の条件で実験を行った結果を示している。
図3において、波長13.5nmの部分に8+〜13+のスズにより発生した極端紫外光を示すスペクトルが検出され、6%および17%の濃度の場合を比較すると、濃度が高いほど強度が強くなっていることがわかる。なお、波長13.5nm以外の波長の光(波)も検出されているが、これらは水溶液や酸化スズの酸素が励起状態から基底状態に遷移する際に発生する光の波長が観測されており、例えば、波長11.5nmの光は、原子軌道が4pから2sに遷移する際に発生する光である。なお、これらの光は、13.5nmの近傍の光しか反射させない多層膜反射鏡でふるいにかけられる。
図4はスズナノ粒子の濃度とエネルギー変換効率との関係の実験結果のグラフであり、横軸に酸化スズの濃度をとり、縦軸にエネルギー変換効率をとったグラフである。
図4には、スズナノ粒子の濃度が3%、6%、12%、17%の液体ターゲットTに、プラズマ励起用のレーザー光として、前記Nd:YAGレーザー光の基本波ωのみ(シングルパルスレーザー光)を入射した場合のエネルギー変換効率の結果を示している。
図4に示すように、スズナノ粒子の濃度が上昇するのに伴い、エネルギー変換効率が上昇しているのがわかる。なお、エネルギー変換効率は、エネルギー計で計測された中心波長13.5nm、波長帯域幅2%で立体角2π[sr](ステラジアン)の極端紫外光のエネルギーの値を、プラズマ励起用のレーザー光のエネルギーで割った値を使用している。
図5はプラズマ励起用のレーザー光としての二重パルスレーザー光において、第1レーザー光と第2レーザー光とのズレ時間とエネルギー変換効率との関係を示すグラフであり、横軸にズレ時間、縦軸にエネルギー変換効率をとったグラフである。
図5に示す実験は、第1レーザー光としてのNd:YAGレーザーの2倍高調波2ωと第2レーザー光としてのNd:YAGレーザーの基本波ωのズレ時間をパラメータとして、水溶液中のスズナノ粒子の濃度が6%、ターゲット径が50μm〜80μmの液体ジェット等の条件は実施の形態1の場合と同じ条件で、エネルギー変換効率の観測を行った。なお、液体ジェットを使用せず、液滴(droplet)を滴下して実験を行っても同様の作用が得られる。
図5に示すように、第2レーザー光(Nd:YAGレーザー光の基本波ω)を第1レーザー光(Nd:YAGレーザー光の2倍高調波2ω)に対して100ns(ナノ秒)程度(100ns〜200ns)遅らせて照射した場合に、最もエネルギー変換効率が高く、1%を超えることがわかった。これは、第1レーザー光2ωによりプラズマが発生し、ある程度プラズマが膨張した状態のところに第2レーザー光ωが照射されるため、効率的にプラズマ化され、極端紫外光が発生するためと考察される。
図6はレーザー集光強度とエネルギー変換効率との関係を示すグラフであり、横軸にレーザー集光強度、縦軸にエネルギー変換効率をとったグラフである。
図6に示す実験は、エネルギー集光強度をパラメータとして、水溶液中のスズナノ粒子の濃度が6%、ターゲット径が50〜80μmの液体ジェット、第1レーザー光2ωと第2レーザー光ωとのズレ時間(ディレイタイム)が100ns等の条件は実施の形態1の場合と同じ条件で、エネルギー変換効率の観測を行った。
図6において、レーザー集光強度を高めることでエネルギー変換効率が高まるが、3×1011W/cm2を超えると変換効率が下がることがわかった。また、シングルパルス(基本波のみ)ではエネルギー変換効率が最大でも0.3%程度で、1%に届かないのに対し、ダブルパルスレーザー光(二重レーザー光)とすることによりエネルギー変換効率が1%を超えることがわかった。
図7はデブリが発生したか否かの観測結果の説明図であり、図7Aはレーザー光照射前のSEM画像の説明図であり、図7Bはレーザー光照射後のSEM画像の説明図である。
図7に示す実験は、真空室12aにシリコン基板17を配置して、水溶液中のスズナノ粒子の濃度が6%、ターゲット径が50〜80μmの液体ジェットを使用し、レーザー光としては第1レーザー光(Nd:YAGレーザー光の2倍高調波2ω)は照射せず、第2レーザー光(Nd:YAGレーザー光の基本波ω)を3×1011W/cm2で照射して実験を行った。この条件の下、レーザー光照射前と、10000パルス分レーザー光を照射した状態でのシリコン基板17表面をSEM(Scanning Electron Microscope、走査型電子顕微鏡)で撮像した結果を図7に示す。
図7に示すように、レーザー光照射の前後において、ほとんど画像に変化が無い。すなわち、シリコン基板17にスズがほとんど付着しておらず、デブリがほとんど発生していないことが確認された。
図9はスズナノ粒子の濃度が6%の場合の図7のシリコン基板表面の酸素の結合エネルギーをX線光電子分光法で観測した結果を示す図であり、図9Aはレーザー光照射前の観測結果のグラフ、図9Bはレーザー光照射後の観測結果のグラフである。
なお、図8、図9は、横軸に結合エネルギーをとり、縦軸にスペクトル強度をとっている。
図8には、前記図7の実験と同様の条件で実験が行われたシリコン基板17において、極端紫外光発生の前後におけるスズ(原子軌道3d)の観測結果を示し、図9には、前記図7の実験と同様の条件で実験が行われたシリコン基板17における酸素(原子軌道1s)の観測結果を示す。
図8において、極端紫外光発生の前後において、スペクトルに変化が少なく、スズがほとんど観測されなかったことがわかる。また、酸素のスペクトルにもほとんど変化が無く、酸素の付着等も観測されなかったことがわかる。したがって、図7に示すSEM画像でも、図8,図9に示すXPSの結果からでも、濃度6%の場合にはデブリは検出されなかった。
図11はスズナノ粒子の濃度が17%の場合のシリコン基板表面の酸素の結合エネルギーをX線光電子分光法で観測した結果を示す図であり、図11Aはレーザー光照射前の観測結果のグラフ、図11Bはレーザー光照射後の観測結果のグラフである。
図10、図11に示す実験は、スズナノ粒子の濃度が17%であるだけで、その他の条件は前記図7の実験と同一の条件で行った。
図10に示すように、スズナノ粒子の濃度が17%の場合には、スペクトルに変化が現れており、スズが観測されている。また、図11に示すように、酸素のピークが高くなっており、酸素も観測されている。したがって、濃度17%の場合には、デブリが発生している。
したがって、前記構成を備えた実施の形態1の光源装置1では、平均粒子径が5nmで6%の低濃度のスズナノ粒子分散溶液を液体ターゲットとして使用するので、図7〜図11に示す実験結果からわかるように、デブリの発生を抑えることができる。また、図4〜図6の結果から、実施の形態1の光源装置1では、100nsずらした二重パルスのレーザー光を使用しているので、エネルギー変換効率を高めることができ、エネルギー変換効率1.1%〜1.2%、すなわち、1%以上を達成することができる。
この結果、実施の形態1の光源装置1は、デブリの発生を抑え且つ高いエネルギー変換効率を達成することができる。また、液体ターゲットTを使用しているため、スズナノ粒子の濃度の調整が容易である。さらに、酸化スズを使用しているため、水素化スズのような反応性の高いガスを使用する場合に比べ、取り扱いが容易になり、容易に高効率の極端紫外光を得ることができる。また、実施の形態1の光源装置1(極端紫外光発生装置)では、予め溶媒を蒸発させたり、デブリを除去する装置が必要がないので、構成を簡素化できる。
以上、本発明の実施例を詳述したが、本発明は、前記実施例に限定されるものではなく、特許請求の範囲に記載された本発明の要旨の範囲内で、種々の変更を行うことが可能である。
例えば、前記実施の形態において、スズナノ粒子の平均粒子径を5nmとしたが、デブリの発生を抑えることが可能な範囲内で変更可能であるが、プラズマ発生時に蒸発するためには、10nm以下であることが望ましいものと考えられる。
また、前記実施の形態において、液体ターゲットのスズナノ粒子の濃度は6%のものを例示したが、スズナノ粒子の平均粒子径やプラズマ励起用レーザー光の出力等に応じて、デブリの発生を抑えることが可能な範囲で濃度を調整することも可能であると考えられる。特に、本発明は、液体ターゲットを使用しているので、濃度の調整は容易である。
また、前記実施の形態において、第1レーザー光や第2レーザー光の波長やエネルギー等は、適宜変更可能である。
さらに、前記実施の形態において、スズナノ粒子としては容易に入手可能で取り扱いが容易な酸化スズが好ましいが、これに限定されず、金属スズやその他のスズ化合物を使用することも不可能ではない。但し、溶媒中に分散可能なナノ粒子状に加工可能なものが望ましい。
2…液体ターゲット吐出装置
3…ターゲット回収器
3a…回収口
3b…外部タンク
4…多層膜反射鏡
4a…励起レーザー光通過孔
6…集光レンズ
7…二重レーザー光照射装置
11…実験装置
12…真空容器
12a…真空室
13…液体ターゲット吐出装置
16…集光レンズ
17…シリコン基板
A1…レーザー照射位置
A2…焦点
L…レーザー光
T…液体ターゲット
Claims (10)
- 錫ナノ粒子が混入された低濃度錫ナノ粒子溶液により構成された液体ターゲットに、
予備的なプラズマを発生させる第1レーザー光と、前記第1レーザー光から所定時間遅れて照射されて極端紫外光を発生させる第2レーザー光とからなる二重レーザー光を照射することにより、極端紫外光を発生させることを特徴とする極端紫外光発生方法。 - 平均粒子径5nmの酸化錫により構成された前記錫ナノ粒子を使用することを特徴とする請求項1に記載の極端紫外光発生方法。
- 6%の錫ナノ粒子水溶液により構成された前記低濃度錫ナノ粒子溶液を使用することを特徴とする請求項1または2に記載の極端紫外光発生方法。
- 前記第2レーザー光を、前記第1レーザー光から100ナノ秒遅れて前記液体ターゲットに照射することを特徴とする請求項1ないし3のいずれかに記載の極端紫外光発生方法。
- Nd:YAGレーザーの2倍高調波により構成された前記第1レーザー光と、Nd:YAGレーザーの基本波により構成された前記第2レーザー光とを使用することを特徴とする請求項1ないし4のいずれかに記載の極端紫外光発生方法。
- 錫ナノ粒子が混入された低濃度錫ナノ粒子溶液により構成された液体ターゲットをレーザー照射位置に向かって吐出する液体ターゲット吐出装置と、
予備的なプラズマを発生させる第1レーザー光と、前記第1レーザー光から所定時間遅れて照射されて極端紫外光を発生させる第2レーザー光とからなる二重レーザー光を前記レーザー照射位置に照射する二重レーザー光照射装置と、
を備えたことを特徴とする極端紫外光発生装置。 - 平均粒子径5nmの酸化錫により構成された前記錫ナノ粒子を使用することを特徴とする請求項6に記載の極端紫外光発生装置。
- 6%の錫ナノ粒子水溶液により構成された前記低濃度錫ナノ粒子溶液を使用することを特徴とする請求項6または7に記載の極端紫外光発生装置。
- 前記第2レーザー光を、前記第1レーザー光から100ナノ秒遅れて前記液体ターゲットに照射することを特徴とする請求項6ないし8のいずれかに記載の極端紫外光発生装置。
- Nd:YAGレーザーの2倍高調波により構成された前記第1レーザー光と、Nd:YAGレーザーの基本波により構成された前記第2レーザー光とを使用することを特徴とする請求項6ないし9のいずれかに記載の極端紫外光発生装置。
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