JP2020521998A - 放射源 - Google Patents
放射源 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2020521998A JP2020521998A JP2019561890A JP2019561890A JP2020521998A JP 2020521998 A JP2020521998 A JP 2020521998A JP 2019561890 A JP2019561890 A JP 2019561890A JP 2019561890 A JP2019561890 A JP 2019561890A JP 2020521998 A JP2020521998 A JP 2020521998A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- laser beam
- pulse
- sub
- laser
- radiation source
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 230000005855 radiation Effects 0.000 title claims abstract description 124
- 239000000446 fuel Substances 0.000 claims abstract description 25
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims abstract description 14
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 50
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 25
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 claims description 22
- 230000003321 amplification Effects 0.000 claims description 14
- 238000003199 nucleic acid amplification method Methods 0.000 claims description 14
- 238000005286 illumination Methods 0.000 claims description 12
- 238000000059 patterning Methods 0.000 claims description 11
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 10
- NJPPVKZQTLUDBO-UHFFFAOYSA-N novaluron Chemical compound C1=C(Cl)C(OC(F)(F)C(OC(F)(F)F)F)=CC=C1NC(=O)NC(=O)C1=C(F)C=CC=C1F NJPPVKZQTLUDBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 230000003111 delayed effect Effects 0.000 claims description 4
- 230000001934 delay Effects 0.000 claims 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 abstract 1
- 230000036278 prepulse Effects 0.000 description 10
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 10
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 9
- 230000002123 temporal effect Effects 0.000 description 8
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 7
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 6
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 4
- 230000005670 electromagnetic radiation Effects 0.000 description 4
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 4
- 238000002310 reflectometry Methods 0.000 description 4
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 4
- 230000008859 change Effects 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 210000001747 pupil Anatomy 0.000 description 3
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 2
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 230000015654 memory Effects 0.000 description 2
- 230000006798 recombination Effects 0.000 description 2
- 238000005215 recombination Methods 0.000 description 2
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 2
- 230000004044 response Effects 0.000 description 2
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 2
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 230000006870 function Effects 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 230000005381 magnetic domain Effects 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 235000012771 pancakes Nutrition 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 230000000644 propagated effect Effects 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05G—X-RAY TECHNIQUE
- H05G2/00—Apparatus or processes specially adapted for producing X-rays, not involving X-ray tubes, e.g. involving generation of a plasma
- H05G2/001—Production of X-ray radiation generated from plasma
- H05G2/008—Production of X-ray radiation generated from plasma involving an energy-carrying beam in the process of plasma generation
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/005—Optical devices external to the laser cavity, specially adapted for lasers, e.g. for homogenisation of the beam or for manipulating laser pulses, e.g. pulse shaping
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05G—X-RAY TECHNIQUE
- H05G2/00—Apparatus or processes specially adapted for producing X-rays, not involving X-ray tubes, e.g. involving generation of a plasma
- H05G2/001—Production of X-ray radiation generated from plasma
- H05G2/003—Production of X-ray radiation generated from plasma the plasma being generated from a material in a liquid or gas state
- H05G2/005—Production of X-ray radiation generated from plasma the plasma being generated from a material in a liquid or gas state containing a metal as principal radiation generating component
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- X-Ray Techniques (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Lasers (AREA)
- Plasma Technology (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
Abstract
Description
[0001] 本出願は、2017年5月30日に出願された欧州特許出願第17173481.7号の優先権を主張する。これは援用により全体が本願に含まれる。
Claims (18)
- 燃料の小滴をプラズマ形成領域に提供するように構成された燃料放出器と、
レーザビームを供給するように構成されたレーザシステムと、
を備え、前記レーザシステムは、前記レーザビームの主要部のパルスよりも前に前記レーザビームの副部のパルスが前記プラズマ形成領域に入射するように、前記レーザビーム副部に対して前記レーザビーム主要部を遅延させるよう構成された遅延線を含む、放射源。 - 前記レーザビーム副部の前記パルスは前記レーザビーム主要部の前記パルスに先行するペデスタルを形成する、請求項1に記載の放射源。
- 前記レーザビーム副部の前記パルスは前記レーザビーム主要部の前記パルスと時間的に重複しない、請求項1に記載の放射源。
- 前記遅延線は、前記レーザビーム副部のパルスに対して前記レーザビーム主要部のパルスを100nsから300ns遅延させるように構成されている、請求項1から3のいずれかに記載の放射源。
- 前記副レーザビーム部パルスのパルスは30nsから150nsのパルス長を有する、請求項1から4のいずれかに記載の放射源。
- 前記遅延線は光学増幅器を含む、請求項1から5のいずれかに記載の放射源。
- 前記レーザシステムは、前記レーザビーム主要部が前記光学増幅器内で複数回行ったり来たりすると共に前記レーザビーム副部が前記光学増幅器内をまっすぐ進むように構成されている、請求項6に記載の放射源。
- 前記光学増幅器は、入射ウィンドウ、出射ウィンドウ、及び一連のミラーを含み、前記レーザシステムは、前記レーザビーム副部が前記入射ウィンドウから前記出射ウィンドウへ直接進むと共に前記レーザビーム主要部が前記入射ウィンドウから前記一連のミラーを介して前記出射ウィンドウへ進むように構成されている、請求項6又は請求項7に記載の放射源。
- 前記レーザビームはレーザビーム分割装置を用いて前記主要部と前記副部に分離される、請求項1から8のいずれかに記載の放射源。
- 前記レーザシステムは、前記レーザビーム副部のパルスを変更するように構成されたパルス整形デバイスを更に備える、請求項1から9のいずれかに記載の放射源。
- 前記レーザシステムは、前記レーザビーム主要部及び前記レーザビーム副部が前記プラズマ形成領域に入射するよりも前にそれらを増幅するよう構成された増幅システムを更に備える、請求項1から10のいずれかに記載の放射源。
- 請求項1から11のいずれかに記載の放射源を含み、更に、
前記放射源から受光された放射ビームを調節するように構成された照明システムと、
前記放射ビームの断面にパターンを付与してパターン付き放射ビームを形成することができるパターニングデバイスを支持するように構成された支持構造と、
基板を保持するように構成された基板テーブルと、
前記パターン付き放射ビームを前記基板に投影するように構成された投影システムと、
を備える、リソグラフィシステム。 - EUV放射源のためのレーザビームを供給するように構成されたレーザシステムであって、前記レーザビームの主要部のパルスよりも前に前記レーザビームの副部のパルスが前記レーザシステムから出力するように、前記レーザビーム副部に対して前記レーザビーム主要部を遅延させるよう構成された遅延線を含む、レーザシステム。
- EUV放射を発生させる方法であって、
パルスレーザシステムを用いてパルスレーザビーム主要部及びパルスレーザビーム副部を提供することであって、前記主要部は前記副部に対して遅延線によって遅延されている、ことと、
前記パルスレーザビーム主要部及び前記パルスレーザビーム副部を燃料小滴へ誘導してEUV放射放出プラズマを発生させることと、
を含む方法。 - 前記レーザビーム副部のパルスは前記レーザビーム主要部のパルスに先行するペデスタルを形成する、請求項14に記載の方法。
- 前記レーザビーム副部のパルスは前記レーザビームの主要部のパルスと重複しない、請求項14に記載の方法。
- 前記遅延線は、前記レーザビーム副部に対して前記レーザビーム主要部を100nsから300ns遅延させる、請求項14から16のいずれかに記載の方法。
- 前記副レーザビーム部パルスのパルスは30nsから150nsのパルス長を有する、請求項14から17のいずれかに記載の方法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
EP17173481.7 | 2017-05-30 | ||
EP17173481 | 2017-05-30 | ||
PCT/EP2018/061243 WO2018219578A1 (en) | 2017-05-30 | 2018-05-03 | Radiation source |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2020521998A true JP2020521998A (ja) | 2020-07-27 |
JP7239491B2 JP7239491B2 (ja) | 2023-03-14 |
Family
ID=58994856
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2019561890A Active JP7239491B2 (ja) | 2017-05-30 | 2018-05-03 | 放射源 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP7239491B2 (ja) |
CN (1) | CN110692283B (ja) |
NL (1) | NL2020864A (ja) |
WO (1) | WO2018219578A1 (ja) |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005017274A (ja) * | 2003-06-26 | 2005-01-20 | Northrop Grumman Corp | 先行パルスにより強化されたレーザ生成プラズマeuv光源 |
JP2011508965A (ja) * | 2007-12-20 | 2011-03-17 | サイマー インコーポレイテッド | Euv光源用の駆動レーザ |
JP2012146683A (ja) * | 2012-04-18 | 2012-08-02 | Komatsu Ltd | 極端紫外光源装置 |
JP2013084971A (ja) * | 2012-12-03 | 2013-05-09 | Gigaphoton Inc | 極端紫外光源用ドライバレーザ |
JP2013546172A (ja) * | 2010-10-18 | 2013-12-26 | サイマー インコーポレイテッド | Euv光源のためのシード保護を備える発振器−増幅器駆動レーザー |
Family Cites Families (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08285901A (ja) * | 1995-04-13 | 1996-11-01 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 電圧測定方法及び電圧測定装置 |
US7643528B2 (en) * | 2007-09-20 | 2010-01-05 | Cymer, Inc. | Immersion lithography laser light source with pulse stretcher |
EP2556729A1 (en) * | 2010-04-08 | 2013-02-13 | ASML Netherlands BV | Euv radiation source and euv radiation generation method |
US9516732B2 (en) * | 2011-09-02 | 2016-12-06 | Asml Netherlands B.V. | Radiation source |
JP6021454B2 (ja) * | 2011-10-05 | 2016-11-09 | ギガフォトン株式会社 | 極端紫外光生成装置および極端紫外光生成方法 |
EP2651196B1 (en) * | 2012-04-13 | 2017-04-12 | Ecole Polytechnique | All optical high energy radiation source |
WO2013174620A1 (en) * | 2012-05-21 | 2013-11-28 | Asml Netherlands B.V. | Radiation source |
US10114157B2 (en) * | 2012-09-20 | 2018-10-30 | Applied Materials, Inc. | Pulse width controller |
US9357625B2 (en) * | 2014-07-07 | 2016-05-31 | Asml Netherlands B.V. | Extreme ultraviolet light source |
CN105573061B (zh) * | 2014-10-16 | 2018-03-06 | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 | Euv光源和曝光装置 |
US9548582B2 (en) * | 2014-11-26 | 2017-01-17 | Electronics And Telecommunications Research Institute | Pulse width stretcher and chirped pulse amplifier including the same |
-
2018
- 2018-05-03 WO PCT/EP2018/061243 patent/WO2018219578A1/en active Application Filing
- 2018-05-03 JP JP2019561890A patent/JP7239491B2/ja active Active
- 2018-05-03 NL NL2020864A patent/NL2020864A/en unknown
- 2018-05-03 CN CN201880035555.6A patent/CN110692283B/zh active Active
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005017274A (ja) * | 2003-06-26 | 2005-01-20 | Northrop Grumman Corp | 先行パルスにより強化されたレーザ生成プラズマeuv光源 |
JP2011508965A (ja) * | 2007-12-20 | 2011-03-17 | サイマー インコーポレイテッド | Euv光源用の駆動レーザ |
JP2013546172A (ja) * | 2010-10-18 | 2013-12-26 | サイマー インコーポレイテッド | Euv光源のためのシード保護を備える発振器−増幅器駆動レーザー |
JP2012146683A (ja) * | 2012-04-18 | 2012-08-02 | Komatsu Ltd | 極端紫外光源装置 |
JP2013084971A (ja) * | 2012-12-03 | 2013-05-09 | Gigaphoton Inc | 極端紫外光源用ドライバレーザ |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2018219578A1 (en) | 2018-12-06 |
NL2020864A (en) | 2018-12-04 |
JP7239491B2 (ja) | 2023-03-14 |
CN110692283B (zh) | 2023-09-19 |
CN110692283A (zh) | 2020-01-14 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US11553582B2 (en) | Optical isolation module | |
JP6498680B2 (ja) | 放射源 | |
US11096266B2 (en) | Target expansion rate control in an extreme ultraviolet light source | |
JP6952844B2 (ja) | 極端紫外光源におけるターゲット膨張率制御 | |
US9713240B2 (en) | Stabilizing EUV light power in an extreme ultraviolet light source | |
TW201603650A (zh) | 極紫外光源 | |
KR20150131187A (ko) | 극자외 광원 | |
US10686290B2 (en) | Radiation source | |
JP6990582B2 (ja) | レーザシステム内の利得エレメントを隔離するためのシステム及び方法 | |
JP2013543210A (ja) | リソグラフィ装置、euv放射発生装置、およびデバイス製造方法 | |
US9271382B2 (en) | Laser apparatus and extreme ultraviolet light generation apparatus | |
JP2014527273A (ja) | 放射源及びリソグラフィ装置 | |
JP7239491B2 (ja) | 放射源 | |
JP2022539994A (ja) | 光増幅キャビティと共に使用するための測定システム | |
TW202308459A (zh) | 雷射光束度量衡系統、雷射光束系統、euv輻射源、及微影設備 | |
WO2023237313A1 (en) | Multi-wavelength shadowgraphy for an euv radiation source | |
JP2018132668A (ja) | 極紫外放射源 | |
NL2012718A (en) | Radiation systems and associated methods. |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20210426 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20211220 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20220318 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20220713 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20221012 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20230131 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20230302 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7239491 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |