JP2018132668A - 極紫外放射源 - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (20)
- プラズマ形成領域に燃料の液滴を提供するように構成された燃料エミッタと;
前記プラズマ形成領域をプラズマ生成レーザビームで照明するように構成されたプラズマ生成レーザシステムと;
前記プラズマ形成領域をプラズマ加熱レーザビームで照明するように構成されたプラズマ加熱レーザと;
を備え、
前記プラズマ生成レーザビームの波長は前記プラズマ加熱レーザビームの波長の半分よりも短く;
前記プラズマ加熱レーザビームはパルス状である、放射源。 - 前記プラズマ加熱レーザビームのパルスは少なくとも5nsの幅を有する、請求項1の放射源。
- 前記プラズマ加熱レーザビームのパルスは最大で20nsの幅を有する、請求項1又は2の放射源。
- 前記プラズマ加熱レーザビームは前記プラズマ加熱レーザビームのパルス間に少なくとも5nsの間隔を含む、請求項1乃至3のいずれかの放射源。
- 前記プラズマ加熱レーザビームは前記プラズマ加熱レーザビームのパルス間に最大で20nsの間隔を含む、請求項1乃至4のいずれかの放射源。
- 前記プラズマ加熱レーザビームは40%乃至60%のデューティ比を有する、請求項1乃至5のいずれかの放射源。
- 前記プラズマ生成レーザシステムは、可視波長又は紫外波長を有するプラズマ生成レーザビームを提供するように構成されている、請求項1乃至6のいずれかの放射源。
- 前記プラズマ生成レーザシステムは、第1の波長を有するレーザビームを放出するように構成されたレーザと、前記レーザビームをより短波長のレーザビームに変換するように構成された光学デバイスとを備える、請求項1乃至7のいずれかの放射源。
- 前記プラズマ生成レーザビーム及び前記プラズマ加熱レーザビームは前記プラズマ形成領域において略一直線上にある、請求項1乃至8のいずれかの放射源。
- 前記プラズマ生成レーザビームは前記プラズマ形成領域を連続的に照明するように構成されている、請求項1乃至9のいずれかの放射源。
- 前記プラズマ加熱レーザビームの前記波長は少なくとも8μmである、請求項1乃至10のいずれかの放射源。
- 請求項1乃至11のいずれかに記載の放射源を備え、リソグラフィ装置をさらに備えるリソグラフィシステム。
- プラズマ形成領域に燃料の液滴を提供することと;
前記燃料の液滴をプラズマ生成レーザビームを用いて照明することと;
前記燃料の液滴をパルス状のプラズマ加熱レーザビームを用いて照明することと
を備え、
前記プラズマ生成レーザビームの波長は前記プラズマ加熱レーザビームの波長の半分よりも短い、EUV放射線の生成方法。 - 前記プラズマ加熱レーザビームのパルスは少なくとも5nsの幅を有する、請求項13の方法。
- 前記プラズマ加熱レーザビームのパルスは最大で20nsの幅を有する、請求項13又は14の方法。
- 前記プラズマ加熱レーザビームのパルスは少なくとも5nsの期間によって分離されている、請求項13乃至15のいずれかの方法。
- 前記プラズマ加熱レーザビームのパルスは最大で20nsの期間によって分離されている、請求項13又は14のいずれかの方法。
- 前記プラズマ加熱レーザビームは40%乃至60%のデューティ比を有する、請求項13乃至17のいずれかの方法。
- 前記プラズマ生成レーザビームは可視波長又は紫外波長を有する、請求項13乃至18のいずれかの方法。
- 前記プラズマ生成レーザビームは前記燃料の液滴を連続的に照明する、請求項13乃至19のいずれかの方法。
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