JPH08285901A - 電圧測定方法及び電圧測定装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 電気光学材料に達する電圧パルスとレーザパ
ルスを短時間で正確に一致させる。 【構成】 光電気変換装置３は入射レーザパルスを電圧
パルスに変換し、光遅延回路５はレーザパルスを第２の
遅延量だけ遅らせる。電圧パルスは被測定回路８への印
加により電気光学材料９の置かれた箇所に達し、またミ
ラー６を介してレーザパルスが材料９に導入される。波
形比較装置１２は発振周波数の異なるレーザ光による電
圧の応答波形の時間のずれΔｔを求める。信号処理装置
１１ａは、このずれΔｔに基づいて補正量を求め、この
補正量だけ上記第２の遅延量を変化させる。こうして、
電気光学材料９に達する電圧パルスとレーザパルスはビ
ームスプリッタ２に入射した同一のレーザパルスから生
成されたものとなる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、電気光学効果とレーザ
光を利用して電気回路の電圧を高い時間分解能で測定す
ることができる電圧測定方法及び電圧測定装置に関する
ものである。

【０００２】

【従来の技術】電界によって複屈折率が変化する電気光
学材料を電気回路の動作によって生じる電界中に置き、
この材料にレーザ光を入射させると、その複屈折率変化
によりレーザ光が偏光する。この偏光変化を受けたレー
ザ光をポラライザを用いた偏光検出光学系に通すと、レ
ーザ光の偏光変化をレーザ光の強度変化に変換できる。
このレーザ光の強度変化を測定することにより電気光学
材料に結合した電界、つまり測定点での電圧が測定でき
る。したがって、パルス発振しているレーザ光を２つに
分割し、一方のレーザ光をを電圧パルスに変換して、こ
れを駆動電圧として被測定回路に印加し、他方のレーザ
光を光路長を変化させながら電気光学材料に導入し、偏
光変化を受けたレーザ光の光強度変化を測定すること
で、被測定回路の駆動電圧に対する時間応答を測定する
ことができる。

【０００３】図３はこのような従来の電圧測定装置のブ
ロック図である。１はパルス発振しているレーザ光を生
成するレーザ光源、２はレーザ光源１からの光を２つに
分割するビームスプリッタ、３はこの分割によって得ら
れた一方のレーザパルスを電圧パルスに変換する光電気
変換装置、４は他方のレーザパルスに遅延を与える光遅
延回路、６、７はミラー、８はプリント配線板やＬＳＩ
等の電気回路、９は電気光学材料、１０は電気光学材料
９を通過したレーザ光の偏光変化をポラライザによって
光強度変化に変換して電圧の応答波形を得るレーザ光検
出装置、１１は検出装置１０で得られた電圧波形を後述
する波形表示装置に出力する信号処理装置、１３は電圧
波形を表示する波形表示装置、１８ａ、１８ｂは電気回
路８中の素子である。

【０００４】次に、このような電圧測定装置の動作を説
明する。この電圧測定装置を扱う作業者は、電気光学材
料９を被測定回路８上の任意の箇所（以下、測定箇所と
する）に設置する。本実施例では、素子１８ａと１８ｂ
の間に置くことにより、駆動電圧（電圧パルス）の印加
による素子１８ａ、１８ｂ間の電圧を測定することがで
きる。レーザ光源１からのレーザ光はビームスプリッタ
２によって２つに分割され、一方の第１のレーザパルス
は、光電気変換装置３によってこのパルスと同期した電
圧パルスに変換され、駆動電圧として被測定回路８に印
加される。また、もう一方の第２のレーザパルスは、光
遅延回路４、ミラー６を介して電気光学材料９に導入さ
れる。

【０００５】図４は第１のレーザパルスが光電気変換装
置３に導入されることで発生する電圧パルスの波形を示
す図であり、図５（ａ）はこの電圧パルスが被測定回路
８に印加された場合の測定箇所における電圧Ｖの変化を
示す図である。また、光遅延回路４で第２のレーザパル
スに与えられる遅延が光路長ｘで、第２のレーザパルス
は時間ｔｘのときに電気光学材料９に達するとする。こ
れにより、レーザ光検出装置１０では、図５（ｂ）に示
すように時間ｔｘにおける電圧Ｖの値Ｖ（ｔｘ）に比例
した光強度を検出することになる。ここで、光遅延回路
４で第２のレーザパルスに与える遅延を長さとしてｄだ
け増すと、第２のレーザパルスはｄだけ余計な経路を通
って電気光学材料９に到達するので、ｄ／ｃ（ｃは空気
中の光の速度）だけ材料９に到達する時間が遅れること
になり、図５（ａ）で示す時間ｔｘ＋ｄ／ｃでの電圧Ｖ
の値Ｖ（ｔｘ＋ｄ／ｃ）に比例した光強度がレーザ光検
出装置１０で検出される。

【０００６】したがって、光遅延回路４で第２のレーザ
パルスに与える遅延量を変化させながら、電気光学材料
９を通過する光の強度をレーザ光検出装置１０で測定す
ることにより、測定箇所における電圧Ｖの時間変化を測
定することができる。実際の測定では、繰り返し測定を
行い、光強度の平均値を求めることで、測定時のノイズ
を除去し、高精度の測定を行っている。ただし、どのよ
うなレーザ光源を使用しても、周波数ｆでパルス発振し
ているレーザ光の隣同士の時間間隔は、正確に１／ｆで
はなく、ノイズによりランダムに揺らいでいる。

【０００７】よって、第１のレーザパルスがビームスプ
リッタ２を出射してから装置３で電圧パルスに変換され
回路８に印加されて測定箇所に達するまでの時間が、第
２のレーザパルスがビームスプリッタ２を出射してから
光遅延回路４を経て電気光学材料９に達するまでの時間
よりＭ／ｆ（Ｍは自然数）以上大きかった場合、又は−
Ｍ／ｆより小さい場合、電圧パルスに対してＭ周期前又
はＭ周期後に生成された第２のレーザパルスで電界を測
定することになる。この場合、レーザの間隔がランダム
に揺らいでいるため、第２のレーザパルスが電気光学材
料９に到達する時刻は上記時刻ｔｘではなく、図６に示
すようにノイズによる揺らぎ分だけ不確定になる。すな
わち、繰り返し測定では、揺らぎ分の時間幅の平均の電
圧しか求めることができず、この時間幅以下の微小な時
間で変化する電圧を正確に評価することは不可能であ
る。

【０００８】このようなランダムに揺らぐレーザ間隔の
影響を避けて高い時間分解能を得るためには、第１のレ
ーザパルスがビームスプリッタ２を出射してから電圧パ
ルスに変換されて測定箇所に達するまでの時間と、第２
のレーザパルスがビームスプリッタ２を出射してから電
気光学材料９に達するまでの時間との差が、−１／ｆ以
上、１／ｆ以下になるように第２のレーザパルス側の光
路長を調整し、材料９に達した電圧パルスと第２のレー
ザパルスがビームスプリッタ２に入射した同一のレーザ
パルスから生成されるようにしなければならない。

【０００９】しかし、複雑な構成の被測定回路８の任意
の箇所について電圧パルスの到達時間を正確に求めるこ
とは非常に困難である。また、被測定回路８を変更する
と、この回路に合わせて駆動電圧を変えるために光電気
変換装置３を交換する必要がでてくるが、この場合光電
気変換装置中を信号が通過する時間を調べておく必要が
あり、光電気変換装置を交換する度に第２のレーザパル
スの光路長を調整し直さなければならない。

【００１０】

【発明が解決しようとする課題】以上のように従来の電
圧測定装置では、被測定回路、被測定回路中の測定箇
所、あるいは光電気変換装置を変える度に、光及び電気
が通過する時間を調べて、測定箇所に達した電圧パルス
と第２のレーザパルスが同一のレーザパルスから生成さ
れるように装置を調整し直さなければならないという問
題点があった。本発明は、上記課題を解決するためにな
されたもので、様々な被測定回路や光電気変換装置に関
して事前に光及び電気が通過する時間を調べておくこと
なしに、被測定回路の電圧を高い時間分解能で測定する
ことができる電圧測定方法及び電圧測定装置を提供する
ことを目的とする。

【００１１】

【課題を解決するための手段】本発明の電圧測定方法
は、電圧パルスに変換される前の第１のレーザパルス、
電気光学材料に入射する前の第２のレーザパルス又は電
圧パルスに第２の遅延量だけ遅延を与え、パルス発振し
ているレーザ光の発振周波数を第１の発振周波数にして
電圧の応答波形を測定し、レーザ光の発振周波数を第２
の発振周波数にして電圧の応答波形を測定し、得られた
２つの応答波形の時間のずれを求め、この時間のずれに
基づいて、電気光学材料に達した電圧パルスと第２のレ
ーザパルスがビームスプリッタに入射した同一のレーザ
パルスから生成されるような補正量を求め、この補正量
だけ第２の遅延量を変化させるようにしたものである。

【００１２】また、パルス発振しているレーザ光を生成
すると共に、このレーザ光の発振周波数の調整が可能な
レーザ光源と、このレーザ光源からのレーザ光を２つに
分割するビームスプリッタと、この分割によって得られ
た第１のレーザパルスを電圧パルスに変換し、これを駆
動電圧として被測定回路に印加する光電気変換装置と、
分割によって得られた第２のレーザパルスを第１の遅延
量だけ遅らせる第１の遅延回路と、電気光学材料に第１
の遅延回路からの光を入射させる入射装置と、電気光学
材料を通過したレーザ光の偏光変化を強度変化に変換し
て、電圧の応答波形を得るレーザ光検出装置と、レーザ
光源から発せられた第１の発振周波数のレーザ光による
電圧の応答波形と、第２の発振周波数のレーザ光による
電圧の応答波形との時間のずれを求める波形比較装置
と、電圧パルスに変換される前の第１のレーザパルス、
電気光学材料に入射する前の第２のレーザパルス又は電
圧パルスを第２の遅延量だけ遅らせる第２の遅延回路
と、上記時間のずれに基づいて、電気光学材料に達した
電圧パルスと第２のレーザパルスがビームスプリッタに
入射した同一のレーザパルスから生成されるような補正
量を求め、この補正量だけ第２の遅延量を変化させる信
号処理装置とを有するものである。

【００１３】

【作用】本発明によれば、第１の発振周波数のレーザ光
による電圧の応答波形と、第２の発振周波数のレーザ光
による電圧の応答波形との時間のずれを求め、この時間
のずれに基づいて補正量を求め、この補正量だけ第２の
遅延量を変化させることにより、電気光学材料に達する
電圧パルスと第２のレーザパルスは、ビームスプリッタ
に入射した同一のレーザパルスから生成されたものとな
る。

【００１４】また、第２の遅延回路が第１のレーザパル
ス、第２のレーザパルス又は電圧パルスを第２の遅延量
だけ遅らせて、波形比較装置が第１の発振周波数のレー
ザ光による電圧の応答波形と第２の発振周波数のレーザ
光による電圧の応答波形との時間のずれを求め、信号処
理装置がこの時間のずれに基づいて補正量を求めてこの
補正量だけ第２の遅延量を変化させることにより、電気
光学材料に達する電圧パルスと第２のレーザパルスは、
ビームスプリッタに入射した同一のレーザパルスから生
成されたものとなる。

【００１５】

【実施例】図１は本発明の１実施例を示す電圧測定装置
のブロック図であり、図３と同様の作用をする構成には
同一の符号を付してある。１ａは後述する基準信号の周
波数に基づいて、この周波数で発振する短パルスのレー
ザ光を生成する半導体レーザ光源、５は第２のレーザパ
ルスに遅延を与える第２の遅延回路となる光遅延回路で
ある。

【００１６】また、１１ａは信号処理装置であり、後述
する波形比較装置で得られた時間のずれに基づいて、電
気光学材料９に達した電圧パルスと第２のレーザパルス
がビームスプリッタ２に入射した同一のレーザパルスか
ら生成されるような補正量を求め、この補正量だけ上記
第２の遅延量を変化させる。１２はレーザ光源１ａから
発せられた第１の発振周波数のレーザ光による電圧の応
答波形と、第２の発振周波数のレーザ光による電圧の応
答波形との時間のずれを求める波形比較装置、１４はレ
ーザ光の発振周波数を制御するための基準信号を発生す
る基準信号発生装置である。

【００１７】電気光学材料９は図３の例と同様に被測定
回路８上の任意の測定箇所に設置される。ここで、電気
光学材料９の底面には入射光を反射させる反射膜が設け
られており、この反射膜により材料９を通過した光を取
り出すことができるようになっている。

【００１８】次に、このような電圧測定装置の動作を説
明する。最初に、基準信号発生装置１４は、信号処理装
置１１ａの制御により周波数ｆ１の基準信号を発生し、
これに応じてレーザ光源１ａは、第１の発振周波数ｆ１
のレーザ光を発する。

【００１９】このレーザ光源１ａからのレーザ光はビー
ムスプリッタ２によって２つに分割され、一方の第１の
レーザパルスはフォトダイオード等からなる光電気変換
装置３によって電圧パルスに変換されて被測定回路８に
印加される。また、もう一方の第２のレーザパルスは、
光遅延回路４、５、入射手段となるミラー６を介してＣ
ｄＴｅ等からなる電気光学材料９に導入される。このと
き、光遅延回路５の遅延量は初期の値である第２の遅延
量に設定されている。

【００２０】そして、信号処理装置１１ａは、第１の遅
延回路である光遅延回路４の第１の遅延量を変化させな
がら、電気光学材料９を通過する光の強度をレーザ光検
出装置１０で測定させることにより、測定箇所における
電圧の応答波形を測定することができる。こうして得ら
れた電圧の時間応答波形Ｖ１（ｔ）が波形比較装置１２
に記憶されると共に、波形表示装置１３によって表示さ
れる。

【００２１】次に、基準信号発生装置１４は、信号処理
装置１１ａの制御により周波数ｆ２の基準信号を発生
し、レーザ光源１ａは、第２の発振周波数ｆ２のレーザ
光を発する。これにより、上記と同様に電圧の時間応答
波形Ｖ２（ｔ）が得られ、波形比較装置１２に記憶され
る。

【００２２】続いて、波形比較装置１２は、図２に示す
ように応答波形Ｖ１（ｔ）、Ｖ２（ｔ）において同一電
圧となる時間軸上のずれΔｔ、すなわちＶ１（ｔ）＝Ｖ
２（ｔ−Δｔ）となる時間Δｔを求める。なお、この時
間のずれΔｔの符号については、応答波形Ｖ２（ｔ）が
Ｖ１（ｔ）よりも右にずれたときを正、左にずれたとき
を負とする。そして、信号処理装置１１ａは、測定箇所
に達した電圧パルスに対して何周期前又は何周期後に生
成された第２のレーザパルスで測定箇所の電圧（偏光変
化）を測定しているのかを以下のようにして求める。

【００２３】今、レーザ光の発振周波数を第１の発振周
波数ｆ１とし、ビームスプリッタ２から光電気変換装置
３までの第１のレーザパルスの光路長をＬ11、光電気変
換装置３から測定箇所までの電圧パルスの伝送線路長を
Ｌ12、ビームスプリッタ２から電気光学材料９までの第
２のレーザパルスの光路長をＬ2 とする。

【００２４】光、電気の速度をそれぞれＣ１、Ｃ２とす
ると、第１のレーザパルスがビームスプリッタ２から光
電気変換装置３を経て電圧パルスとして測定箇所に達す
るまでに、このパルスの位相は次式だけ進むことにな
る。 ２×π×ｆ１×Ｌ11／Ｃ１＋２×π×ｆ１×Ｌ12／Ｃ２ ・・・（１） 同様に、第２のレーザパルスがビームスプリッタ２から
電気光学材料９に達するまでにこのパルスの位相は次式
だけ進むことになる。 ２×π×ｆ１×Ｌ2 ／Ｃ１ ・・・（２）

【００２５】ここで、第２のレーザパルス側よりも第１
のレーザパルス及び電圧パルス側の経路が長く、第２の
レーザパルスが電圧パルスより先に電気光学材料９に達
するために、Ｍ周期前に生成された電圧パルスによる電
界を第２のレーザパルスが測定しているとすると、次式
のような関係が成立する。 ２×π×ｆ１×（Ｌ11／Ｃ１＋Ｌ12／Ｃ２−Ｌ2 ／Ｃ１）＝２×π×Ｍ ・・・（３）

【００２６】次に、レーザ光の発振周波数をｆ１から第
２の発振周波数ｆ２（ここで、ｆ１＜ｆ２）にしたと
き、図２のように応答波形Ｖ２（ｔ）がＶ１（ｔ）より
もΔｔだけ右にずれたということは第２のレーザパルス
が更に時間Δｔだけ早く到達したことになるので、位相
差としては２×π×ｆ２×Δｔだけ広がったことにな
り、次式のような関係が成立する。 ２×π×ｆ２×（Ｌ11／Ｃ１＋Ｌ12／Ｃ２−Ｌ2 ／Ｃ１） ＝２×π×Ｍ＋２×π×ｆ２×Δｔ ・・・（４）

【００２７】式（３）、（４）より次式の関係が得られ
る。 Ｍ／ｆ１＝Ｍ／ｆ２＋Δｔ ・・・（５） 式（５）よりＭは次式となる。 Ｍ＝Δｔ×｛ｆ１×ｆ２／（ｆ２−ｆ１）｝ ・・・（６）

【００２８】こうして、測定箇所に達した電圧パルスと
第２のレーザパルスにＭ周期のずれがあるときに、この
ＭをΔｔから求めることができる。よって、測定箇所に
達した電圧パルスと第２のレーザパルスがビームスプリ
ッタ２に入射した同一のレーザパルスから生成されるよ
うにするためには、第２のレーザパルスを遅らせて、第
２のレーザパルスの位相が２×π×Ｍだけ進むようにす
ればよいので、この遅延に必要な光路長をＬ3 とすれ
ば、次式が得られる。 ２×π×ｆ１×Ｌ3 ／Ｃ１＝２×π×Ｍ ・・・（７）

【００２９】式（６）、（７）より光路長Ｌ3 は次式と
なる。 Ｌ3 ＝Δｔ×Ｃ１×｛ｆ２／（ｆ２−ｆ１）｝ ・・・（８） こうして、信号処理装置１１ａは、測定箇所に達した電
圧パルスと第２のレーザパルスの生成タイミングのずれ
を補正するための補正量（光路長）Ｌ3 を式（８）によ
って計算し、光遅延回路５を制御して第２のレーザパル
スに補正量Ｌ3だけ更に遅延をかけさせる。

【００３０】このような調整により、測定箇所に達する
電圧パルスと第２のレーザパルスを同一のレーザパルス
から生成されたものとすることができ、以後は第１の周
波数ｆ１のレーザ光によって測定を行えば、測定箇所の
電圧を高い時間分解能で測定することができる。

【００３１】また、第１のレーザパルス及び電圧パルス
側よりも第２のレーザパルス側の経路が長く、Ｍ周期後
に生成された電圧パルスによる電界を第２のレーザパル
スが測定している場合には、上記Δｔが負の値となるの
で、補正量Ｌ3 が負の値となる。つまり、信号処理装置
１１ａは、光遅延回路５を制御して第２のレーザパルス
に与える第２の遅延量を補正量Ｌ3 の分だけ減らすこと
になる。

【００３２】なお、上記の計算では議論を単純にするた
めに、レーザ光、電圧パルスの速度をそれぞれ一定のＣ
１、Ｃ２として扱ったが、実際にはレーザ光、電圧パル
スを伝送する光路や線路の材質及び素子によって速度は
異なる。しかし、これらの影響を式（３）、（４）に取
り入れても式（５）への変形の際にそれらは全て相殺さ
れ、Ｍは必ずｆ１、ｆ２、Δｔのみで表される。よっ
て、補正量Ｌ3 も必ずｆ１、ｆ２、Δｔ、Ｃ１だけで表
されることになる。したがって、式（８）の補正量Ｌ3
は、被測定回路８、光電気変換装置３によらず、いつで
も適用可能である。

【００３３】本実施例では、被測定回路８の駆動用電圧
パルスを発生させるレーザパルスと第２のレーザパルス
を発生させるレーザパルスを一致させるために、光遅延
回路５を第２のレーザパルス側の光路に設け、第２のレ
ーザパルスの電気光学材料９への到達時刻を調整した
が、これに限るものではなく、光遅延回路４のみの構成
としてもよい。この場合には、第２のレーザパルスに与
える応答波形の測定のための第１の遅延量の制御と、同
じく第２のレーザパルスに与える到達時刻調整のための
第２の遅延量（補正量Ｌ3 の分も含む）の調整の両方
を、１つの光遅延回路で行えばよい。

【００３４】また、本実施例では、第２の光遅延回路５
を第２のレーザパルス側の光路に設けたが、この第２の
遅延回路に相当する光遅延回路をビームスプリッタ２と
光電気変換装置３の間の光路に設けて、第１のレーザパ
ルスに与える遅延量（光路長）を調整するか、あるいは
第２の遅延回路に相当する可変電気遅延回路を光電気変
換装置３と被測定回路８の間の伝送線路に設けて、電圧
パルスに与える遅延量を調整してもよい。ただし、可変
電気遅延回路で調整を行う場合には、補正量が電圧パル
スを伝送する線路長となるので、式（８）における速度
Ｃ１を電気の速度Ｃ２に置き換えた式を用いることにな
る。

【００３５】

【発明の効果】本発明によれば、発振周波数の異なるレ
ーザ光による２つの電圧波形の時間のずれを求め、この
時間のずれから求めた補正量だけ第２の遅延量を変化さ
せることにより、電気光学材料に達する電圧パルスと第
２のレーザパルスをビームスプリッタに入射した同一の
レーザパルスから生成されたものとすることができるの
で、被測定回路、被測定回路中の測定箇所、あるいは光
電気変換装置が変わっても、事前に光又は電気が通過す
る時間を調べる必要がなくなり、短時間で、かつ正確に
電圧パルスと第２のレーザパルスの生成タイミングを一
致させることができる。その結果、レーザ光のノイズの
影響を受けずに電圧の時間変化を測定することができ、
高い時間分解能で測定を行うことができる。

【００３６】また、電圧測定装置をレーザ光源、ビーム
スプリッタ、光電気変換装置、第１の遅延回路、入射装
置、レーザ光検出装置、波形比較装置、第２の遅延回
路、及び信号処理装置から構成することにより、様々な
被測定回路や光電気変換装置に関して事前に光又は電気
が通過する時間を調べておくことなしに、電圧の時間変
化を高い時間分解能で測定することができる電圧測定装
置を簡単な構成で実現できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】 本発明の１実施例を示す電圧測定装置のブロ
ック図である。

【図２】 レーザ光の発振周波数を第１の発振周波数か
ら第２の発振周波数に変えた場合の電圧の応答波形のず
れを示す図である。

【図３】 従来の電圧測定装置のブロック図である。

【図４】 図３の光電気変換装置によって生成された電
圧パルスの波形を示す図である。

【図５】 図４の電圧パルスが被測定回路に印加された
場合の測定箇所における電圧の時間変化及びレーザ光検
出装置で検出された光強度を示す図である。

【図６】 ノイズによる影響を説明するためにレーザ光
検出装置で検出された光強度を示す図である。

【符号の説明】

１ａ…レーザ光源、２…ビームスプリッタ、３…光電気
変換装置、４…第１の光遅延回路、５…第２の光遅延回
路、６、７…ミラー、８…被測定回路、９…電気光学材
料、１０…レーザ光検出装置、１１ａ…信号処理装置、
１２…波形比較装置、１３…波形表示装置、１４…基準
信号発生装置。

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 被測定回路の動作によって電界変化が生
   じる前記回路上の任意の箇所に、電界によって複屈折率
   が変化する電気光学材料を設置し、パルス発振している
   レーザ光をビームスプリッタで２つに分割し、一方の第
   １のレーザパルスを電圧パルスに変換して被測定回路に
   印加し、他方の第２のレーザパルスを電気光学材料に入
   射させ、この第２のレーザパルスに与える第１の遅延量
   を変化させながら電気光学材料を通過したレーザ光の強
   度を測定することにより、被測定回路の任意の箇所にお
   ける電圧の応答波形を測定する電圧測定方法において、 電圧パルスに変換される前の第１のレーザパルス、電気
   光学材料に入射する前の第２のレーザパルス又は電圧パ
   ルスに第２の遅延量だけ遅延を与え、 パルス発振しているレーザ光の発振周波数を第１の発振
   周波数にして電圧の応答波形を測定し、 レーザ光の発振周波数を第２の発振周波数にして電圧の
   応答波形を測定し、 得られた２つの応答波形の時間のずれを求め、 この時間のずれに基づいて、電気光学材料に達した電圧
   パルスと第２のレーザパルスが前記ビームスプリッタに
   入射した同一のレーザパルスから生成されるような補正
   量を求め、この補正量だけ前記第２の遅延量を変化させ
   ることを特徴とする電圧測定方法。
2. 【請求項２】 被測定回路の動作によって電界変化が生
   じる前記回路上の任意の箇所に、電界によって複屈折率
   が変化する電気光学材料を設置し、被測定回路に駆動電
   圧を印加すると共に、レーザ光を電気光学材料に入射さ
   せて、このレーザ光に与える第１の遅延量を変化させな
   がら電気光学材料を通過したレーザ光の強度を測定する
   ことにより、被測定回路の任意の箇所における電圧の応
   答波形を測定する電圧測定装置において、 パルス発振しているレーザ光を生成すると共に、このレ
   ーザ光の発振周波数の調整が可能なレーザ光源と、 このレーザ光源からのレーザ光を２つに分割するビーム
   スプリッタと、 この分割によって得られた第１のレーザパルスを電圧パ
   ルスに変換し、これを駆動電圧として被測定回路に印加
   する光電気変換装置と、 前記分割によって得られた第２のレーザパルスを前記第
   １の遅延量だけ遅らせる第１の遅延回路と、 電気光学材料に第１の遅延回路からの光を入射させる入
   射装置と、 電気光学材料を通過したレーザ光の偏光変化を強度変化
   に変換して、前記電圧の応答波形を得るレーザ光検出装
   置と、 レーザ光源から発せられた第１の発振周波数のレーザ光
   による電圧の応答波形と、第２の発振周波数のレーザ光
   による電圧の応答波形との時間のずれを求める波形比較
   装置と、 電圧パルスに変換される前の第１のレーザパルス、電気
   光学材料に入射する前の第２のレーザパルス又は電圧パ
   ルスを第２の遅延量だけ遅らせる第２の遅延回路と、 波形比較装置で得られた時間のずれに基づいて、電気光
   学材料に達した電圧パルスと第２のレーザパルスが前記
   ビームスプリッタに入射した同一のレーザパルスから生
   成されるような補正量を求め、この補正量だけ前記第２
   の遅延量を変化させる信号処理装置とを有することを特
   徴とする電圧測定装置。