JP2005012178A - 半導体レーザ - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本発明の半導体レーザ装置は、基板(101)上に、少なくとも第1導電型のクラッド層(102)と、活性層(104)と、第2導電型のクラッド層(107)を含む半導体レーザ装置であって、キャリアを注入するためのストライプ構造(117)を有しており、レーザ光が出射される共振器の前方端面のストライプの幅が、反対側に位置する後方端面のストライプの幅よりも広く、かつ前方端面の反射率が後方端面の反射率よりも低い。
【選択図】 図1
Description
ここで、Wfは前方端面でのストライプの幅、Wrは後方端面でのストライプの幅、Lは共振器長である。本実施形態では、前方端面でのリッジ幅Wfは2.0μm、後方端面でのリッジ幅Wrは、サンプルNo.1:1.4μm、サンプルNo.2:1.6μm、サンプルNo.3:1.8μm、サンプルNo.4(比較例):2.0μm、サンプルNo.5(比較例):2.2μm、サンプルNo.6(比較例):2.4μmの計6種類とした。ストライプ構造はレーザ光が出射する方向に向かって左右対称となるように形成されている。
102 n型クラッド層
103 光ガイド層
104 活性層
105 キャップ層
106 光ガイド層
107 p型クラッド層
108 コンタクト層
109 pメタル層
110 絶縁層
115 p電極
116 n電極
117 ストライプ構造
121 ストライプ幅が連続的に減少する領域A
122 ストライプ幅が一定の領域B
Claims (11)
- 基板上に、第1導電型のクラッド層と、活性層と、第2導電型のクラッド層を含む半導体レーザ装置であって、
前記半導体レーザ装置は、キャリアを注入するためのストライプ構造を有しており、
レーザ光が出射される共振器の前方端面でのストライプの幅が、反対側に位置する後方端面でのストライプの幅よりも広く、
前方端面の反射率が後方端面の反射率よりも低いことを特徴とする半導体レーザ装置。 - 少なくとも前記活性層はIII−V族窒化物系半導体材料からなる請求項1に記載の半導体レーザ装置。
- 少なくとも前記活性層はAlGaAs系半導体材料からなる請求項2に記載の半導体レーザ装置。
- 少なくとも前記活性層はAlGaInP系半導体材料からなる請求項2に記載の半導体レーザ装置。
- 前記前方端面でのストライプの幅と、前記後方端面でのストライプの幅の比が、
1<(前方端面でのストライプの幅)/(後方端面でのストライプの幅)<2
の関係を満たす請求項1に記載の半導体レーザ装置。 - 前記前方端面でのストライプの幅と、前記後方端面でのストライプの幅の比が、
1.4<(前方端面でのストライプの幅)/(後方端面でのストライプの幅)<1.8
の関係を満たす請求項5に記載の半導体レーザ装置。 - 前記前方端面から前記後方端面に向かって、ストライプの幅が連続的に減少する請求項1に記載の半導体レーザ装置。
- 前記ストライプの幅が連続的に変化する領域と、前記ストライプの幅が一定である領域とを有し、各領域の境界においてストライプ幅に継ぎ目がない請求項1に記載の半導体レーザ装置。
- 前記前方端面および前記後方端面の近傍において、前記前方端面および前記後方端面から共振器内部に向かって、前記ストライプの幅が一定である領域を有する請求項1に記載の半導体レーザ装置。
- 前記ストライプの幅が一定である領域が、前方端面、および後方端面から共振器の内部方向に向かって、それぞれ共振器長の20分の1以下の長さである請求項9に記載の半導体レーザ装置。
- 前方端面の反射率が後方端面の反射率よりも15%以上低い請求項1に記載の半導体レーザ装置。
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