JP2010123726A - 半導体レーザおよびその製造方法 - Google Patents
半導体レーザおよびその製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2010123726A JP2010123726A JP2008295545A JP2008295545A JP2010123726A JP 2010123726 A JP2010123726 A JP 2010123726A JP 2008295545 A JP2008295545 A JP 2008295545A JP 2008295545 A JP2008295545 A JP 2008295545A JP 2010123726 A JP2010123726 A JP 2010123726A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- refractive index
- layer
- ridge portion
- ridge
- resonator
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Landscapes
- Semiconductor Lasers (AREA)
Abstract
【課題】光モード形状の急激な変化による光の散乱ロスを低減することの可能な半導体レーザおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】端面付近のリッジ部20A外において、活性層22に近い方の絶縁膜として、屈折率の低いもの(低屈折率層31)が用いられている。これにより、リッジ残し厚が厚いことによる等価屈折率の上昇が、低屈折率層31を設けたことによる等価屈折率の低下によって減殺(相殺)される。共振器方向の中央部分のリッジ部20A外において、活性層22に近い方の絶縁膜として、屈折率の高いもの(高屈折率層32)が用いられている。これにより、リッジ残し厚が薄いことによる等価屈折率の低下が、高屈折率層32を設けたことによる等価屈折率の上昇によって減殺(相殺)される。
【選択図】図2
【解決手段】端面付近のリッジ部20A外において、活性層22に近い方の絶縁膜として、屈折率の低いもの(低屈折率層31)が用いられている。これにより、リッジ残し厚が厚いことによる等価屈折率の上昇が、低屈折率層31を設けたことによる等価屈折率の低下によって減殺(相殺)される。共振器方向の中央部分のリッジ部20A外において、活性層22に近い方の絶縁膜として、屈折率の高いもの(高屈折率層32)が用いられている。これにより、リッジ残し厚が薄いことによる等価屈折率の低下が、高屈折率層32を設けたことによる等価屈折率の上昇によって減殺(相殺)される。
【選択図】図2
Description
本発明は、特に高出力の用途に好適な半導体レーザおよびその製造方法に関する。
一般に、高出力半導体レーザでは、端面での再結合や光吸収の増大に伴う温度上昇によって突然破壊(Catastrophic Optical Damage:COD)が生じ易いことが知られている。このCODが高出力動作や高信頼性の妨げになっており、CODの発生を防ぐために、従来から、様々な改良がなされてきた。
例えば、そのうちの一つの手法として、端面付近の光密度を低減するという方法がある。例えば、特許文献1では、リッジ導波路型の半導体レーザにおいて、活性層からリッジ脇の表面までの厚さが、端面およびその近傍で厚く、リッジストライプの中央部分で薄くなっている。これにより、端面付近において、光スポットサイズが拡大し、光密度が減少するので、CODレベルを上昇させることができる。また、リッジストライプの中央部分においては、リッジ脇へのリーク電流を小さくすることができるので、閾値電流を低く抑えることができる。
ところで、特許文献1では、上述したように、活性層からリッジ脇の表面までの厚さが、端面およびその近傍で厚く、リッジストライプの中央部分で薄くなっている。つまり、リッジストライプの延在方向において、リッジ脇の表面に段差が生じている。そのため、段差の前後で、横方向の屈折率差が異なっており、光モード形状に差異が生じるので、光モード形状が急激に変化する部分(つまり、段差の生じている部分)で光の散乱ロスが生じてしまうという問題があった。
本発明はかかる問題点に鑑みてなされたものであり、その目的は、光モード形状の急激な変化による光の散乱ロスを低減することの可能な半導体レーザおよびその製造方法を提供することにある。
本発明の半導体レーザは、半導体層と、屈折率調整層とを備えたものである。半導体層は、活性層を含むと共に、上部に帯状のリッジ部を有しており、かつリッジ部を当該リッジ部の延在方向から挟み込む一対の共振器端面を有している。屈折率調整層は、半導体層のうち、少なくともリッジ部の両脇の表面上に設けられている。ここで、リッジ部とリッジ部の両脇とを含む光導波路において、一対の共振器端面の少なくとも一方の端面近傍の横方向屈折率分布が、共振器方向の中央部分の横方向屈折率分布よりもなだらかとなっている。さらに、屈折率調整層は、光導波路および当該屈折率調整層の全体としての横方向屈折率分布の、共振器方向の変化率の最大値が、光導波路の横方向屈折率分布の、共振器方向の変化率の最大値よりも小さくなるように構成されている。
本発明の半導体レーザでは、屈折率調整層が、光導波路および当該屈折率調整層の全体としての横方向屈折率分布の、共振器方向の変化率の最大値が、光導波路の横方向屈折率分布の、共振器方向の変化率の最大値よりも小さくなるように構成されている。これにより、屈折率調整層が設けられていない場合と比べて、横方向屈折率分布の、共振器方向の変化が緩やかとなる。
本発明の半導体レーザの製造方法は、以下の3つの工程を含むものである。
(A)活性層を含む半導体層の上面に、帯状の第1低屈折率層を形成したのち、第1低屈折率層をマスクとして半導体層をエッチングすることにより、半導体層の上部にリッジ部を形成する工程
(B)第1低屈折率層を含む表面のうち、一対の共振器端面のうち少なくとも一方の端面を形成することとなる領域を含む帯状の領域(以下、単に「端面に対応する帯状領域」と称する)に第2低屈折率層を形成したのち、第1低屈折率層および第2低屈折率層をマスクとして半導体層をエッチングすることにより、リッジ部の両脇のうち、共振器方向の中央部分に溝を形成する工程
(C)第1低屈折率層、第2低屈折率層および溝を含む表面全体に高屈折率層を形成したのち、第1低屈折率層、第2低屈折率層および高屈折率層のうち、リッジ部の上面との対向領域の少なくとも一部をエッチングすることにより、リッジ部の上面の少なくとも一部を露出させる工程
(A)活性層を含む半導体層の上面に、帯状の第1低屈折率層を形成したのち、第1低屈折率層をマスクとして半導体層をエッチングすることにより、半導体層の上部にリッジ部を形成する工程
(B)第1低屈折率層を含む表面のうち、一対の共振器端面のうち少なくとも一方の端面を形成することとなる領域を含む帯状の領域(以下、単に「端面に対応する帯状領域」と称する)に第2低屈折率層を形成したのち、第1低屈折率層および第2低屈折率層をマスクとして半導体層をエッチングすることにより、リッジ部の両脇のうち、共振器方向の中央部分に溝を形成する工程
(C)第1低屈折率層、第2低屈折率層および溝を含む表面全体に高屈折率層を形成したのち、第1低屈折率層、第2低屈折率層および高屈折率層のうち、リッジ部の上面との対向領域の少なくとも一部をエッチングすることにより、リッジ部の上面の少なくとも一部を露出させる工程
本発明の半導体レーザの製造方法では、第1低屈折率層および第2低屈折率層をマスクとする半導体層のエッチングにより、活性層からリッジ部の両脇の表面までの厚さが、端面に対応する帯状領域で厚く形成され、共振器方向の中央部分で薄く形成される。次いで、第1低屈折率層、第2低屈折率層および溝を含む表面全体に高屈折率層を形成することにより、活性層からリッジ部の両脇の表面までの厚さが厚い部分の表面に第1低屈折率層が形成され、共振器方向の中央部分の表面において高屈折率層が形成される。これにより、第1低屈折率層および高屈折率層が設けられていない場合と比べて、横方向屈折率分布の、共振器方向の変化が緩やかとなる。
本発明の半導体レーザおよびその製造方法によれば、屈折率調整層(または、第1低屈折率層および高屈折率層)が設けられていない場合と比べて、横方向屈折率分布の、共振器方向の変化が緩やかとなる。これにより、光モード形状の急激な変化による光の散乱ロスを低減することができる。
以下、本発明を実施するための最良の形態(以下、単に実施の形態という)について、図面を参照して詳細に説明する。なお、説明は以下の順序で行う。
1.第1の実施の形態(両端部が帯状に厚い)
2.第2の実施の形態(両端部がテーパー状に厚い)
3.第3の実施の形態(両端部の幅が広い)
4.変形例(リッジ部が複数ある)
5.変形例(一方の端部だけが帯状に厚い)
6.変形例(一方の端部だけがテーパー状に厚い)
7.変形例(一方の端部の幅だけが広い)
1.第1の実施の形態(両端部が帯状に厚い)
2.第2の実施の形態(両端部がテーパー状に厚い)
3.第3の実施の形態(両端部の幅が広い)
4.変形例(リッジ部が複数ある)
5.変形例(一方の端部だけが帯状に厚い)
6.変形例(一方の端部だけがテーパー状に厚い)
7.変形例(一方の端部の幅だけが広い)
<第1の実施の形態>
[半導体レーザ1の構造]
図1は、本発明の第1の実施の形態に係る半導体レーザ1の概略構成を斜視的に表したものである。図2(A)は図1の半導体レーザ1のA−A矢視方向の断面構成を、図2(B)は図1の半導体レーザ1のB−B矢視方向の断面構成を、図2(C)は図1の半導体レーザ1のC−C矢視方向の断面構成をそれぞれ表したものである。なお、図1,図2(A)〜(C)は、模式的に表したものであり、実際の寸法,形状とは異なっている。
[半導体レーザ1の構造]
図1は、本発明の第1の実施の形態に係る半導体レーザ1の概略構成を斜視的に表したものである。図2(A)は図1の半導体レーザ1のA−A矢視方向の断面構成を、図2(B)は図1の半導体レーザ1のB−B矢視方向の断面構成を、図2(C)は図1の半導体レーザ1のC−C矢視方向の断面構成をそれぞれ表したものである。なお、図1,図2(A)〜(C)は、模式的に表したものであり、実際の寸法,形状とは異なっている。
本実施の形態の半導体レーザ1は、後に詳述するように、帯状のリッジ部20Aを共振器方向(リッジ部20Aの延在方向)から一対の前端面S1および後端面S2によって挟み込んだ構造となっており、いわゆる端面発光型の半導体レーザである。この半導体レーザ1は、例えば、基板10上に、下部クラッド層21、活性層22、上部クラッド層23およびコンタクト層24を基板10側からこの順に含む半導体層20を備えたものである。なお、半導体層20には、上記した層以外の層(例えば、バッファ層やガイド層など)がさらに設けられていてもよい。
基板10は、例えばGaNなどのIII−V族窒化物半導体からなる。ここで、「III−V族窒化物半導体」とは、短周期型周期率表における3B族元素群のうちの少なくとも1種と、短周期型周期率表における5B族元素のうちの少なくともNとを含むものを指している。III−V族窒化物半導体としては、例えば、GaとNとを含んだ窒化ガリウム系化合物が挙げられる。窒化ガリウム系化合物には、例えば、GaN、AlGaN、AlGaInNなどが含まれる。III−V族窒化物半導体には、必要に応じてSi、Ge、O、SeなどのIV族またはVI族元素のn型不純物、または、Mg、Zn、CなどのII族またはIV族元素のp型不純物がドープされている。
半導体層20は、例えば、III−V族窒化物半導体を主に含んで構成されている。下部クラッド層21は、例えばAlGaNにより構成されている。活性層22は、例えば、組成比の互いに異なるGaInNによりそれぞれ形成された井戸層およびバリア層を交互に積層してなる多重量子井戸構造となっている。上部クラッド層23は、例えばAlGaNにより構成されている。コンタクト層24は、例えばGaNにより構成されている。
半導体層20の上部、具体的には、上部クラッド層23の上部およびコンタクト層24には、帯状のリッジ部20Aが形成されている。このリッジ部20Aは、半導体層20のうち、リッジ部20Aの両脇の部分と共に、光導波路を構成しており、横方向(共振器方向と直交する方向)の屈折率差を利用して横方向の光閉じ込めを行うと共に、半導体層20へ注入される電流を狭窄するものである。活性層22のうち上述の光導波路の直下の部分が、電流注入領域に対応しており、この電流注入領域が発光領域22Aとなる。
半導体層20には、リッジ部20Aをリッジ部20Aの延在方向から挟み込む一対の前端面S1および後端面S2が形成されている。これら前端面S1および後端面S2は、例えばへき開によって形成されたへき開面であり、前端面S1および後端面S2によって共振器が構成されている。前端面S1はレーザ光を射出する面であり、前端面S1の表面には多層反射膜(図示せず)が形成されている。一方、後端面S2はレーザ光を反射する面であり、後端面S2の表面にも多層反射膜(図示せず)が形成されている。後端面S2側の多層反射膜は、当該多層反射膜と後端面S2とにより構成される射出側端面の反射率が例えば10%程度となるように調整された低反射率膜である。一方、後端面S2側の多層反射膜は、当該多層反射膜と後端面S2とにより構成される反射側端面の反射率が例えば95%程度となるように調整された高反射率膜である。
なお、本実施の形態のリッジ部20Aとリッジ部20Aの両脇の部分が本発明の「光導波路」の一具体例に相当する。また、本実施の形態の一対の前端面S1および後端面S2が本発明の「一対の共振器端面」の一具体例に相当している。
リッジ部20Aの上面(コンタクト層24の表面)には上部電極41が設けられている。この上部電極41は、例えばTi、Pt、Auをこの順に積層して構成されており、コンタクト層24と電気的に接続されている。一方、基板10の裏面には下部電極42が設けられている。この下部電極42は、例えばAuとGeとの合金,NiおよびAuを基板10側から順に積層して構成されており、基板10と電気的に接続されている。
また、半導体レーザ1では、半導体層20のうち、リッジ部20Aの両脇(リッジ部20Aの両脇の裾野)の部分に、両端面(前端面S1および後端面S2)付近の光密度を低減する構造が設けられている。具体的には、図1に示したように、リッジ部20Aの両脇において、両端面およびその近傍に高台部20Cが設けられており、共振器方向の中央部分に溝部20Bが設けられている。つまり、活性層22からリッジ脇の表面までの厚さが、両端面およびその近傍で厚く、共振器方向の中央部分で薄くなっている。これにより、リッジ部20Aとリッジ部20Aの両脇の部分とを含む光導波路において、両端面近傍の横方向屈折率分布が、共振器方向の中央部分の横方向屈折率分布よりもなだらかとなっている。以下、リッジ部20Aとリッジ部20Aの両脇の部分とを含む光導波路のことを単に光導波路と称するものとする。
高台部20Cの幅、共振器方向の長さおよび厚さ(H1)は、リッジ部20Aおよび高台部20Cによって構成される、端面付近の光導波路の横方向屈折率分布をどのようなプロファイルにしたいかによって変わる。また、溝部20B直下における、活性層22からリッジ部20Aの両脇の表面までの厚さ(H2)は、リッジ脇へのリーク電流を小さくする観点から、できるだけ薄いことが好ましい。
また、半導体レーザ1では、少なくともリッジ部20Aの両脇(リッジ部20Aの両脇の裾野)の表面には、屈折率調整層30が設けられている。なお、図1には、屈折率調整層30は、リッジ部20Aの両脇だけでなく、リッジ部20Aの両側面にも設けられている場合が例示されている。この屈折率調整層30は、光導波路の横方向屈折率分布を調整(補正)するものである。この屈折率調整層30は、光導波路および当該屈折率調整層30の全体としての横方向屈折率分布(以下、単に、全体の横方向屈折率分布と称する。)の、共振器方向の変化率の最大値が、光導波路の横方向屈折率分布の、共振器方向の変化率の最大値よりも小さくなるように構成されている。つまり、屈折率調整層30は、全体の横方向屈折率分布の、共振器方向の変化ができるだけ小さくなるように、構成されている。これにより、屈折率調整層30は、端面付近の光導波路の横方向屈折率分布を、共振器方向の中央部分の光導波路の横方向屈折率分布に近づけるように作用する。さらに、屈折率調整層30は、共振器方向の中央部分の光導波路の横方向屈折率分布を、端面付近の光導波路の横方向屈折率分布に近づけるように作用する。
屈折率調整層30は、例えば、図1、図2(A)〜(C)に示したように、半導体層20のうち、両端面近傍(高台部20Cおよびリッジ部20Aの両側面)の表面上に、低屈折率層31を有している。低屈折率層31は、例えば、SiO2などの絶縁材料によって構成されており、後述の高屈折率層32の屈折率よりも低い屈折率を有している。この低屈折率層31は、光導波路を伝播している光が低屈折率層31の上にある物質(後述の高屈折率層)の屈折率を感じない程度に厚くなっている。この低屈折率層31は、後述するように、ドライエッチングにおけるマスクとしても機能する。
また、屈折率調整層30は、少なくとも、半導体層20のうち、共振器方向の中央部分(溝部20Bおよびリッジ部20Aの両側面)の表面上に、高屈折率層32を有している。なお、図1、図2(A)〜(C)には、高屈折率層32が、共振器方向の中央部分(溝部20Bおよびリッジ部20Aの両側面)の表面だけでなく、低屈折率層31の表面にも設けられている場合が例示されている。高屈折率層32は、例えば、ZrO2またはSiNなどの絶縁材料によって構成されており、低屈折率層31の屈折率よりも高い屈折率を有している。
[半導体レーザ1の製造方法]
このような構成を有する半導体レーザ1は、例えば次のようにして製造することができる。
このような構成を有する半導体レーザ1は、例えば次のようにして製造することができる。
図3(A),(B)、図4(A),(B)および図5(A),(B)は、製造過程における素子を斜視的に表したものである。基板10の表面を例えばサーマルクリーニングにより清浄する。次に、清浄された基板10上に、例えばMOCVD法により、下部クラッド層21、活性層22、上部クラッド層23およびコンタクト層24を順次成長させて、半導体層20を形成する。
次に、半導体層20(コンタクト層24)上に帯状の絶縁層31A(第1低屈折率層)を形成する(図3(A))。なお、絶縁層31Aは、上述の低屈折率層31と同様の材料によって構成されている。続いて、例えばドライエッチングにより、絶縁層31Aをマスク層として、上部クラッド層23の上部およびコンタクト層24を選択的に除去する。これにより、上部クラッド層13の上部およびコンタクト層14に帯状のリッジ部20Aが形成される。
次に、絶縁層31Aを残した状態で、絶縁層31Aを含む表面のうち、両端面(共振器端面)を形成することとなる領域を含む帯状の領域に絶縁層31B(第2低屈折率層)を形成する(図3(B))。なお、絶縁層31Bは、上述の低屈折率層31と同様の材料によって構成されている。次に、例えばドライエッチングにより、絶縁層31A,31Bをマスクとして、半導体層20を選択的に除去する。これにより、リッジ部20Aの両脇(リッジ部20Aの両脇の裾野)のうち、共振器方向の中央部分に溝20Bが形成され、両端面を形成することとなる領域に、高台部20Cが形成される(図4(A))。このとき、リッジ部20Aとリッジ部20Aの両脇(溝20B、高台部20C)とを含む光導波路において、共振器端面を形成することとなる領域の近傍の横方向屈折率分布が、共振器方向の中央部分の横方向屈折率分布よりもなだらかになっている。
次に、絶縁層31A,31Bを残した状態で、絶縁層31A,31Bおよび溝20Bを含む表面全体に、絶縁層32Aを形成する(図4(B))。なお、絶縁層32Aは、上述の高屈折率層32と同様の材料によって構成されている。次に、絶縁層31A,31B,32Bのうち、リッジ部20Aの上面との対向領域の少なくとも一部に開口33Aを有するレジスト層33を形成する(図5(A))。続いて、開口33Aを介して、絶縁層31A,31B,32Bのうち、リッジ部20Aの上面との対向領域の少なくとも一部をエッチングする(図5(B))。これにより、リッジ部20Aの上面の少なくとも一部が露出されると共に、屈折率調整層30が形成される。その後、レジスト層33を除去する。
次に、リッジ部20Aの上面に上部電極41を形成すると共に、基板10の裏面に下部電極42を形成する。続いて、基板10を横方向にバー状にへき開して、前端面S1および後端面S2を形成したのち、前端面S1および後端面S2に多層反射膜を形成する。最後に、バー状の基板10をダイシングする。このようにして、本実施の形態の半導体レーザ1が製造される。
[半導体レーザ1の作用・効果]
次に、本実施の形態の半導体レーザ1の作用および効果について説明する。
次に、本実施の形態の半導体レーザ1の作用および効果について説明する。
本実施の形態の半導体レーザ1では、上部電極41および下部電極42に所定の電流が供給されると、リッジ部20Aにより電流狭窄された電流が活性層22の電流注入領域(発光領域22A)に注入され、これにより電子と正孔の再結合による発光が生じる。この光は、前端面S1および後端面S2に形成された多層反射膜により反射され、所定の波長でレーザ発振を生じ、前端面S1側からビームとして外部に射出される。
ところで、光導波路の横方向の光閉じ込めは、リッジ部20A内の等価屈折率n1と、リッジ部20A外の等価屈折率n2の差Δn(=n1−n2)によって決まる。リッジ部20A内の屈折率n1は、エピ層構造により決まるので、端面付近と共振器方向の中央部分とで同一である。しかし、端面付近のリッジ残し量を厚くして、高台部20Cを形成した場合に、リッジ部20Aの両側面や裾野を同一の絶縁膜で被覆したときには、リッジ部20A外の等価屈折率n2については、リッジ残し量の差により端面付近の方が大きくなっている。そのため、端面付近と共振器方向の中央部分とでΔnに差が生じ、リッジ残し厚の段差の部分(溝部20Bと高台部20Cとの境界部分)で、横方向の光閉込が急激に変化する。その結果、従来のように、屈折率調整層30が設けられていない場合には、両者の光モードプロファイルの差によって光の散乱ロスが生じることになる。
一方、本実施の形態では、端面付近のリッジ部20A外において、活性層22に近い方の絶縁膜として、屈折率の低いもの(低屈折率層31)が用いられている。これにより、リッジ残し厚が厚いことによる等価屈折率n2の上昇が、低屈折率層31を設けたことによる等価屈折率n2の低下によって減殺(相殺)される。また、共振器方向の中央部分のリッジ部20A外において、活性層22に近い方の絶縁膜として、屈折率の高いもの(高屈折率層32)が用いられている。これにより、リッジ残し厚が薄いことによる等価屈折率n2の低下が、高屈折率層32を設けたことによる等価屈折率n2の上昇によって減殺(相殺)される。このように、本実施の形態では、屈折率調整層30は、端面付近の光導波路の横方向屈折率分布を、共振器方向の中央部分の光導波路の横方向屈折率分布に近づけるように作用する。さらに、屈折率調整層30は、共振器方向の中央部分の光導波路の横方向屈折率分布を、端面付近の光導波路の横方向屈折率分布に近づけるように作用する。その結果、端面付近のリッジ部20A外の等価屈折率n2が、共振器方向の中央部分の等価屈折率n2と同一またはほぼ同一とすることができる。従って、リッジ残し厚の段差の部分(溝部20Bと高台部20Cとの境界部分)での光の散乱ロスを低減もしくはなくすることができる。
この場合、特許文献1で主張されているような光プロファイルの拡大による光密度低減の効果は生じなくなる。しかし、端面付近においてリッジ残し量が厚くなっていることにより、製造過程において、ドライエッチングによる活性層22へのダメージが低減し、信頼性が向上する。
<第2の実施の形態>
[半導体レーザ2の構造]
図6は、本発明の第2の実施の形態に係る半導体レーザ2の上面構成を表したものである。図7(A)は図6の半導体レーザ2のA−A矢視方向の断面構成を、図7(B)は図6の半導体レーザ1のB−B矢視方向の断面構成をそれぞれ表したものである。なお、図6、図7(A),(B)は、模式的に表したものであり、実際の寸法,形状とは異なっている。
[半導体レーザ2の構造]
図6は、本発明の第2の実施の形態に係る半導体レーザ2の上面構成を表したものである。図7(A)は図6の半導体レーザ2のA−A矢視方向の断面構成を、図7(B)は図6の半導体レーザ1のB−B矢視方向の断面構成をそれぞれ表したものである。なお、図6、図7(A),(B)は、模式的に表したものであり、実際の寸法,形状とは異なっている。
本実施の形態の半導体レーザ2は、テーパー状の高台部20Cを備えている点で、上記実施の形態の半導体レーザ1の構成と相違する。そこで、以下では、上記実施の形態との相違点について主に説明し、上記実施の形態との共通点についての説明を適宜省略するものとする。
図6に示したように、高台部20Cは、上面側から見たときに、共振器方向の中央部分から両端面に向かうにつれて幅が広がるテーパー形状となっている。高台部20Cの上面が、共振器方向の中央部分に、わずかに形成されていてもよいし、全く形成されていなくてもよい。これにより、光導波路において、両端面近傍の横方向屈折率分布が、共振器方向の中央部分の横方向屈折率分布よりもなだらかとなっている。なお、高台部20Cの上面が、共振器方向の中央部分に、わずかに形成されている場合には、例えば、図6に示したように、そのわずかに形成された部分の表面上に低屈折率層31が形成されていることもある。しかし、そのような場合であっても、その低屈折率層31は、横方向屈折率分布に対して実質的に影響を及ぼすことはない。そのため、共振器方向の中央部分において、「リッジ部20Aの両脇(リッジ部20Aの両脇の裾野)」は、高台部20Cの上面ではなく、高台部20Cの両脇の表面に相当する。従って、本実施の形態では、屈折率調整層30の屈折率は、上記第1の実施の形態と同様、活性層22からリッジ部20Aの両脇の表面までの厚さが厚い部分(高台部20C)の表面において低く、共振器方向の中央部分の表面において高くなっている
[半導体レーザ2の製造方法]
このような構成を有する半導体レーザ2は、例えば次のようにして製造することができる。
このような構成を有する半導体レーザ2は、例えば次のようにして製造することができる。
図7(A),(B)および図8(A),(B)は、製造過程における素子を斜視的に表したものである。まず、基板10上に、例えばMOCVD法により、下部クラッド層21,活性層22,上部クラッド層23およびコンタクト層24を順次成長させて、半導体層20を形成する。
次に、半導体層20(コンタクト層24)上に、例えば、共振器方向の中央部分において所望のリッジ幅より1μm程度太く、かつ端面に相当する部分でテーパー状にリッジ幅の広がる帯状の形状を持つ絶縁層34を形成する(図8(A))。なお、絶縁層34は、例えば、上述の低屈折率層31と同様の材料によって構成されている。続いて、例えばドライエッチングにより、絶縁層34をマスク層として、上部クラッド層23の上部およびコンタクト層24を選択的に除去する。これにより、上部クラッド層13の上部およびコンタクト層14に、テーパー状のリッジ部20Aが形成される。その後、絶縁層34を除去する。
次に、リッジ部20Aの上面に、帯状の絶縁膜35を形成する(図8(B))。続いて、例えばドライエッチングにより、絶縁層35をマスクとして、リッジ部20Aを選択的に除去する。このとき、高台部20Cが、CODの抑制に必要な程度の高さとなるようにリッジ部20Aのエッチングを行う。その後、絶縁層35を除去する。これにより、リッジ部20Aとリッジ部20Aの両脇(溝20B、高台部20C)とを含む光導波路において、共振器端面を形成することとなる領域の近傍の横方向屈折率分布が、共振器方向の中央部分の横方向屈折率分布よりもなだらかになる。
次に、リッジ部20Aの上面および両側面と、高台部20Cの上面とに渡る帯状の領域に絶縁層31Cを形成する(図9(A))。なお、絶縁層31Cは、上述の低屈折率層31と同様の材料によって構成されている。次に、絶縁層31Cを含む表面全体に、絶縁層32Bを形成する(図4(B))。なお、絶縁層32Bは、上述の高屈折率層32と同様の材料によって構成されている。
以降、上記実施の形態と同様のプロセスを経る。具体的には、図示しないが、絶縁層31C,32Bのうち、リッジ部20Aの上面との対向領域の少なくとも一部に開口を有するレジスト層を形成する。続いて、その開口を介して、絶縁層31C,32Bのうち、リッジ部20Aの上面との対向領域の少なくとも一部をエッチングする。これにより、リッジ部20Aの上面の少なくとも一部が露出されると共に、屈折率調整層30が形成される。その後、レジスト層を除去する。
次に、リッジ部20Aの上面に上部電極41を形成すると共に、基板10の裏面に下部電極42を形成する。続いて、基板10を横方向にバー状にへき開して、前端面S1および後端面S2を形成したのち、前端面S1および後端面S2に多層反射膜を形成する。最後に、バー状の基板10をダイシングする。このようにして、本実施の形態の半導体レーザ2が製造される。
[半導体レーザ2の効果]
本実施の形態では、高台部20Cの幅が、端面付近に近づくに従い拡大している。第1の実施の形態の半導体レーザ1では、端面付近と共振器方向の中央部分とでΔnの差を低減することにより、リッジ残し厚の段差の部分(溝部20Bと高台部20Cとの境界部分)での光の散乱ロスを低減もしくはなくしている。しかし、第1の実施の形態では、リッジ部20Aの側面部分の光プロファイルを、端面付近と、共振器方向の中央部分とにおいて完全に同一にすることが難しく、光の散乱ロスが残存し易い。これは、光モード形状が完全なガウシアン形状からわずかにずれることが原因である。
本実施の形態では、高台部20Cの幅が、端面付近に近づくに従い拡大している。第1の実施の形態の半導体レーザ1では、端面付近と共振器方向の中央部分とでΔnの差を低減することにより、リッジ残し厚の段差の部分(溝部20Bと高台部20Cとの境界部分)での光の散乱ロスを低減もしくはなくしている。しかし、第1の実施の形態では、リッジ部20Aの側面部分の光プロファイルを、端面付近と、共振器方向の中央部分とにおいて完全に同一にすることが難しく、光の散乱ロスが残存し易い。これは、光モード形状が完全なガウシアン形状からわずかにずれることが原因である。
そこで、本実施の形態では、この点を鑑み、光モードを共振器方向に緩やかに(Gradualに)変化させている。本実施の形態では、共振器方向の中央部分では光導波路を伝播している光が主に高屈折率材に染み出しているのに対し、端面付近では低屈折率材に染み出しており、さらにその光モードの形状変換が共振器方向に緩やかに行われている。これにより、光の散乱ロスを最小限に抑制している。また、端面付近においてエッチングダメージの活性層22への影響を最小限とすることができ、さらに、光の伝搬ロスも少なくすることができる。
<第3の実施の形態>
[半導体レーザ2の構造]
図10は、本発明の第3の実施の形態に係る半導体レーザ3の上面構成を表したものである。図11(A)は図10の半導体レーザ3のA−A矢視方向の断面構成を、図11(B)は図10の半導体レーザ3のB−B矢視方向の断面構成をそれぞれ表したものである。なお、図10、図11(A),(B)は、模式的に表したものであり、実際の寸法,形状とは異なっている。
[半導体レーザ2の構造]
図10は、本発明の第3の実施の形態に係る半導体レーザ3の上面構成を表したものである。図11(A)は図10の半導体レーザ3のA−A矢視方向の断面構成を、図11(B)は図10の半導体レーザ3のB−B矢視方向の断面構成をそれぞれ表したものである。なお、図10、図11(A),(B)は、模式的に表したものであり、実際の寸法,形状とは異なっている。
本実施の形態の半導体レーザ3は、リッジ部20Aそのものがテーパー状となっている点で、上記第2の実施の形態の半導体レーザ2の構成と相違する。そこで、以下では、上記第2の実施の形態との相違点について主に説明し、上記第2の実施の形態との共通点についての説明を適宜省略するものとする。
図10に示したように、リッジ部20Aは、上面側から見たときに、共振器方向の中央部分から両端面に向かうにつれて幅が広がるテーパー形状となっている。これにより、光導波路において、両端面近傍の横方向屈折率分布が、共振器方向の中央部分の横方向屈折率分布よりもなだらかとなっている。リッジ部20Aの側面および両脇(裾野)には、両端面近傍に低屈折率層31が接して設けられており、共振器方向の中央部分に高屈折率層32が接して設けられている。屈折率調整層30の屈折率は、リッジ部20Aのうち、当該リッジ部20Aの幅が広い部分の両脇において低く、リッジ部20Aのうち、当該リッジ部20Aの幅が狭い部分の両脇において高くなっている。なお、図11(A),(B)には、高屈折率層32が共振器方向の中央部分においてリッジ部20Aの側面および両脇(裾野)に接して設けられているだけでなく、両端面近傍の低屈折率層31の上面にも接して設けられている場合が例示されている。また、半導体レーザ3は、上記第2の実施の形態において説明した製法において、絶縁膜35をマスクとするエッチングのプロセスを省略することにより製造することが可能である。
[半導体レーザ3の効果]
本実施の形態では、リッジ部20Aの幅が、端面付近に近づくに従い拡大しており、上記第2の実施の形態と同様、光モードを共振器方向に緩やかに(Gradualに)変化させている。本実施の形態では、共振器方向の中央部分では光導波路を伝播している光が主に高屈折率材に染み出しているのに対し、端面付近では低屈折率材に染み出しており、さらにその光モードの形状変換が共振器方向に緩やかに行われている。これにより、光の散乱ロスを最小限に抑制している。また、端面付近においてエッチングダメージの活性層22への影響を最小限とすることができ、さらに、光の伝搬ロスも少なくすることができる。
本実施の形態では、リッジ部20Aの幅が、端面付近に近づくに従い拡大しており、上記第2の実施の形態と同様、光モードを共振器方向に緩やかに(Gradualに)変化させている。本実施の形態では、共振器方向の中央部分では光導波路を伝播している光が主に高屈折率材に染み出しているのに対し、端面付近では低屈折率材に染み出しており、さらにその光モードの形状変換が共振器方向に緩やかに行われている。これにより、光の散乱ロスを最小限に抑制している。また、端面付近においてエッチングダメージの活性層22への影響を最小限とすることができ、さらに、光の伝搬ロスも少なくすることができる。
以上、実施の形態を挙げて本発明を説明したが、本発明は上記の実施の形態に限定されるものではなく、種々変形可能である。
例えば、上記実施の形態では、半導体レーザ1,2,3がリッジ部20Aを1つだけ備えている場合について説明していたが、複数備えていてもよい。
また、上記第1の実施の形態では、両端面近傍に高台部20Cが設けられていたが、両端面のいずれか一方にだけ設けられていてもよい。同様に、上記第2の実施の形態では、高台部20Cの幅が、両端面付近に近づくに従い拡大していたが、両端面のいずれか一方に近づくに従い拡大するようにしてもよい。また、上記第3の実施の形態では、リッジ部20Aの幅が、両端面付近に近づくに従い拡大していたが、両端面のいずれか一方に近づくに従い拡大するようにしてもよい。
また、上記実施の形態等では、窒化ガリウム系の半導体レーザを例にして本発明を説明したが、他の化合物半導体レーザ、例えば、例えば、GaInAsP系などの赤色半導体レーザ、ZnCdMgSSeTeなどのII−VI族の半導体レーザにも適用可能である。また、AlGaAs系、InGaAs系、InP系、GaInAsNP系などの、発振波長が可視域とは限らないような半導体レーザにも適用可能である。
1,2,3…半導体レーザ、10…基板、20…半導体層、20A…リッジ部、20B…溝部、20C…高台部、21…下部クラッド層、22…活性層、22A…発光領域、23…上部ガイド層、24…コンタクト層、30…屈折率調整層、31…低屈折率層、31A,31B,31C,32A,32B,34,35…絶縁層、32…高屈折率層、33…レジスト層、33A…開口、41…上部電極、42…下部電極、S1…前端面、S2…後端面。
Claims (5)
- 活性層を含むと共に、上部に帯状のリッジ部を有し、かつ前記リッジ部を当該リッジ部の延在方向から挟み込む一対の共振器端面を有する半導体層と、
前記半導体層のうち、少なくとも前記リッジ部の両脇の表面上に設けられた屈折率調整層と
を備え、
前記リッジ部と前記リッジ部の両脇とを含む光導波路において、前記一対の共振器端面の少なくとも一方の端面近傍の横方向屈折率分布が、共振器方向の中央部分の横方向屈折率分布よりもなだらかとなっており、
前記屈折率調整層は、前記光導波路および当該屈折率調整層の全体としての横方向屈折率分布の、共振器方向の変化率の最大値が、前記光導波路の横方向屈折率分布の、共振器方向の変化率の最大値よりも小さくなるように構成されている半導体レーザ。 - 前記屈折率調整層において、前記一対の共振器端面のうち、横方向屈折率分布がなだらかとなっている端面近傍の屈折率が、共振器方向の中央部分の屈折率よりも小さくなっている請求項1に記載の半導体レーザ。
- 前記活性層から前記リッジ部の両脇の表面までの厚さが、前記一対の共振器端面の少なくとも一方の端面近傍で厚く、共振器方向の中央部分で薄くなっており、
前記屈折率調整層の屈折率は、前記活性層から前記リッジ部の両脇の表面までの厚さが厚い部分の表面において低く、共振器方向の中央部分の表面において高くなっている請求項1または請求項2に記載の半導体レーザ。 - 前記リッジ部の幅は、前記一対の共振器端面の少なくとも一方の端面近傍で広く、共振器方向の中央部分で狭くなっており、
前記屈折率調整層の屈折率は、前記リッジ部のうち、当該リッジ部の幅が広い部分の両脇において低く、前記リッジ部のうち、当該リッジ部の幅が狭い部分の両脇において高くなっている請求項1または請求項2に記載の半導体レーザ。 - 活性層を含む半導体層の上面に、帯状の第1低屈折率層を形成したのち、前記第1低屈折率層をマスクとして前記半導体層をエッチングすることにより、前記半導体層の上部にリッジ部を形成する工程と、
前記第1低屈折率層を含む表面のうち、一対の共振器端面のうち少なくとも一方の端面を形成することとなる領域を含む帯状の領域に第2低屈折率層を形成したのち、前記第1低屈折率層および前記第2低屈折率層をマスクとして前記半導体層をエッチングすることにより、前記リッジ部の両脇のうち、共振器方向の中央部分に溝を形成する工程と、
前記第1低屈折率層、前記第2低屈折率層および前記溝を含む表面全体に高屈折率層を形成したのち、前記第1低屈折率層、前記第2低屈折率層および前記高屈折率層のうち、前記リッジ部の上面との対向領域の少なくとも一部をエッチングすることにより、前記リッジ部の上面の少なくとも一部を露出させる工程と
を含む半導体レーザの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008295545A JP2010123726A (ja) | 2008-11-19 | 2008-11-19 | 半導体レーザおよびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008295545A JP2010123726A (ja) | 2008-11-19 | 2008-11-19 | 半導体レーザおよびその製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010123726A true JP2010123726A (ja) | 2010-06-03 |
Family
ID=42324813
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008295545A Pending JP2010123726A (ja) | 2008-11-19 | 2008-11-19 | 半導体レーザおよびその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2010123726A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011003590A (ja) * | 2009-06-16 | 2011-01-06 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 半導体レーザ素子 |
JP2017041466A (ja) * | 2015-08-17 | 2017-02-23 | セイコーエプソン株式会社 | 発光装置およびプロジェクター |
WO2020194806A1 (ja) * | 2019-03-22 | 2020-10-01 | パナソニック株式会社 | 半導体発光装置 |
-
2008
- 2008-11-19 JP JP2008295545A patent/JP2010123726A/ja active Pending
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011003590A (ja) * | 2009-06-16 | 2011-01-06 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 半導体レーザ素子 |
JP2017041466A (ja) * | 2015-08-17 | 2017-02-23 | セイコーエプソン株式会社 | 発光装置およびプロジェクター |
WO2020194806A1 (ja) * | 2019-03-22 | 2020-10-01 | パナソニック株式会社 | 半導体発光装置 |
JPWO2020194806A1 (ja) * | 2019-03-22 | 2020-10-01 | ||
US20220165917A1 (en) * | 2019-03-22 | 2022-05-26 | Panasonic Corporation | Semiconductor light-emitting device |
JP7402222B2 (ja) | 2019-03-22 | 2023-12-20 | パナソニックホールディングス株式会社 | 半導体発光装置 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US8279906B2 (en) | Laser diode and method of manufacturing the same | |
JP2007036298A (ja) | 半導体発光素子 | |
JP2012526375A (ja) | 大出力パワー用の横結合を持つdfbレーザダイオード | |
US20090034573A1 (en) | Semiconductor laser device and fabrication method for the same | |
WO2018168430A1 (ja) | 半導体レーザ装置、半導体レーザモジュール及び溶接用レーザ光源システム | |
JP5247444B2 (ja) | 半導体レーザ装置 | |
JP2007095758A (ja) | 半導体レーザ | |
JP2010080867A (ja) | 半導体レーザ装置 | |
JP2008021705A (ja) | 自励発振型半導体レーザとその製造方法 | |
JP5323553B2 (ja) | 半導体光増幅素子 | |
KR19990072352A (ko) | 자기발진형반도체레이저 | |
JP4077348B2 (ja) | 半導体レーザ装置およびそれを用いた光ピックアップ装置 | |
JP2009283605A (ja) | 半導体レーザ | |
JP2003163417A (ja) | 半導体発光素子及びその製造方法 | |
JP5273459B2 (ja) | 半導体レーザの製造方法 | |
JP2010123726A (ja) | 半導体レーザおよびその製造方法 | |
JP2011124521A (ja) | 半導体レーザおよびその製造方法 | |
JP2004186259A (ja) | 半導体レーザ素子、その製造方法、および多波長集積化半導体レーザ装置 | |
WO2018105015A1 (ja) | 半導体レーザの製造方法 | |
JP6925540B2 (ja) | 半導体光素子 | |
JP2008066447A (ja) | 半導体発光素子およびその製造方法 | |
JP2005209952A (ja) | 半導体レーザ装置およびそれを用いた光ピックアップ装置 | |
JP7297875B2 (ja) | 利得導波型半導体レーザおよびその製造方法 | |
JPWO2002021578A1 (ja) | 半導体レーザ素子 | |
JP2009076640A (ja) | 半導体発光素子 |