JP2005005698A - 圧電単結晶素子とその製造方法 - Google Patents
圧電単結晶素子とその製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2005005698A JP2005005698A JP2004150824A JP2004150824A JP2005005698A JP 2005005698 A JP2005005698 A JP 2005005698A JP 2004150824 A JP2004150824 A JP 2004150824A JP 2004150824 A JP2004150824 A JP 2004150824A JP 2005005698 A JP2005005698 A JP 2005005698A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- single crystal
- piezoelectric single
- polarization
- electric field
- piezoelectric
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Abstract
【解決手段】 分極方向3を擬立方晶の〔001〕軸としたとき、圧電素子端面の法線方向1が、分極方向3に直交する〔010〕及び〔100〕軸を含む結晶平面内に存在するドメイン構造と直交する方向nに対し0〜15°の範囲内、または、40〜50°の範囲内にあることを特徴とする。
【選択図】 図9
Description
すなわち、本発明は分極方向に直交する方向(横方向振動モード)の電気機械結合係数k31に着目したドメイン構造(素子表面の縞模様の線の延在方向)を適正に制御した圧電単結晶素子及び該圧電単結晶素子の製造方法に関するものである。
Jpn.J.Appl.Phys.41(2002)L55 Jpn.J.Appl.Phys.41(2002)pp.7108-7112
(1)分極方向を擬立方晶の〔001〕軸としたとき、圧電素子端面の法線方向が、分極方向に直交する〔010〕及び〔100〕軸を含む結晶平面内に存在するドメイン構造(前記結晶平面内に見える縞模様の線の延在方向)と直交する方向に対し0〜15°の範囲または40〜50°の範囲内にある分極方向と直交する方向で、横方向の振動モードの電気機械結合係数k31に優れた圧電単結晶素子である。
例えば、亜鉛ニオブ酸鉛−チタン酸鉛(PZN-PTまたはPZNTと言う)の固溶体単結晶は、その単位格子が図3に模式的に示したような複合ペロブスカイト構造(単位格子の角の位置にPbイオンがあり、単位格子の体心位置にZn,Nb,Tiのいずれかの元素イオンがある構造)をなしている。図4は、亜鉛ニオブ酸鉛(PZN)とチタン酸鉛(PT)の組成比による相図を示したものである。尚、図4は、Nomura et al., J.Phys.(1969)等より引用したものである。なお、図4中の○印は、実施例1〜4に使用された0.91亜鉛ニオブ酸鉛(PZN)+0.09チタン酸鉛(PT)(x=0.91とモル分率で表現)の圧電単結晶素子(0.91PZN-0.09PT)の組成の一例である。なお、図4中のTcは、キュリー温度を示し、Trtは、菱面晶(広い概念では、擬立方晶という)から正方晶への相転移温度を示す。
また、これらの自発分極は、結晶中にばらばらに存在するのでなく、自発分極の揃った小さな領域(ドメイン)が互いに接して連続的に存在する構造(ドメイン構造)を作る。この構造は、固溶体単結晶を擬立方晶と見なしたとき、6つの{110}面の一つに平行な面の組として存在する。この様子は、前述のように単結晶を素子に適する大きさに切り出して素子材料としたとき、図5の擬立方晶の表面に示されているように、その素子材料の表面上に縞模様として肉眼または、実体顕微鏡(図7(b),図7(c)および図9(b)参照)により観察できる。この縞模様は濃淡の縞であり、その間隔は数マイクロメートルから百数十マイクロメートルであるが、1mm以上の間隔になることも観察されている。
しかし、分極方向3と直交する方向におけるドメインの配列は、上記の分極処理では制御できない。本来、切り出された素子材料の分極方向3と直交する面内のドメイン構造の適切な選択と、分極方向3での分極条件、即ち、分極処理温度と印加電界の適切な範囲内でのみ制御することが可能である。
(1)圧電単結晶素子の結晶構造(擬立方晶の複合ペロブスカイト構造):
本発明が対象とする「擬立方晶」は、立方晶の他、結晶学的な3軸のなす角度が90°±1°以内である菱面晶、及び菱面晶と正方晶が混合して存在するために、結晶学的に立方晶として取り扱える結晶を含むものである。さらに固溶体単結晶の単位格子が図3に模式的に示したように、Pbイオンが、単位格子の角に位置し、酸素イオンが、単位格子の面心に位置し、Mイオンが単位格子の体心に位置するようなペロブスカイト構造(RMO3)であり、さらに、図3の体心位置にあるMイオンが、一種類の元素イオンでなく、2つ以上の複数の元素イオン(A1,A2…,B1,B2…)のいずれかからなる複合ペロブスカイト構造であることが必要である。
本発明が対象とする「圧電単結晶素子」の形状は、図2(a)に示すような板状体が、分極方向3に直交する方向1(横方向振動モード)の電気機械結合係数k31を利用する場合にその効果を最も大きく発揮するので望ましい。特に、望ましい素子の形状は、細長比(アスペクト比:a/b)が2.5以上の板状体(a>>L,b>>L)、さらに望ましくは、細長比(アスペクト比:a/b)が3以上の板状体である。なお、本発明の板状体の両端部(短辺b)の形状は、用途に応じて、図2(b)に示すように凸状に湾曲b´(破線)あるいは、凹状に湾曲b´´(一点鎖線)していても良い。また、a=bの方形板であっても良い。なお、本発明で言う素子端面は、図2(b)の長辺aに直角な短辺bを言う。従って、素子端面(b)の法線方向1は、素子の長辺aに平行である。
このような角度範囲に横方向振動を利用する素子の端面の法線方向1が限られることの理由は、以下のように考えられる。即ち、該範囲以外の角度θの範囲である、分極方向3である〔001〕軸に直交する〔010〕及び〔100〕軸を含む結晶平面内に存在するドメイン構造と直交する方向nに対し15°<θ<40°及び50°<θ<75°の範囲では、分極方向〈100〉軸(例えば〔001〕軸)に直交する平面内にある〈100〉方向(例えば〔010〕方向)と〈110〉方向(例えば〔110〕方向)の間に〈310〉,〈210〉,〈320〉等の低指数の結晶軸方位が存在し、それらの方向で、横振動モードが分散して生ずるため、横振動モードのインピーダンスカーブにスプリアス(曲線の乱れ)が発生したり、横振動モードの周波数範囲(より具体的には、共振周波数fRと反共振周波数fAの差)が狭まったりする。その結果、横振動モードの電気機械結合係数k31が低下するもと考えられる。なお、下記の(4)で述べるように、立方晶の対称性から、0°〜−15°または−40°〜−50°の角度範囲も、本発明の範囲内である。
本発明の圧電単結晶素子の組成は、xPb(A1,A2,…,B1,B2,…)O3+(1−x)PbTiO3(但し、xはモル分率であり、0<x<1とする。)からなる組成の固溶体であって、A1,A2,…はZn,Mg,Ni,Lu,In及びScからなる群から選ばれた1又は複数の元素からなり、B1,B2…はNb,Ta,Mo及びWからなる群から選ばれた1又は複数の元素からなる複合ペロブスカイト構造の単結晶を用いた場合に、横方向振動モードに適した素子となる。すなわち、固溶体単結晶の単位格子が図3に模式的に示したように、Pbイオンが、単位格子の角に位置し、酸素イオンが、単位格子の面心に位置し、Mイオンが単位格子の体心に位置するようなペロブスカイト構造(RMO3)であり、さらに、図3の体心位置にあるMイオンが、一種類の元素イオンでなく、Zn,Mg,Ni,Lu,In及びScからなる群から選ばれた1又は複数の元素およびNb,Ta,Mo及びWからなる群から選ばれた1又は複数の元素のいずれかからなる複合ペロブスカイト構造であることが必要である。
特に、固溶体単結晶として、亜鉛ニオブ酸鉛−チタン酸鉛(PZN-PT)を用いる場合には、前記モル分率xを0.80〜0.98、さらに好ましくは、0.89〜0.95の範囲にすることが好ましい。また、固溶体単結晶として、マグネシウム・ニオブ酸鉛−チタン酸鉛(PMN-PT)を用いる場合には、前記モル分率xを0.60〜0.98、さらに好ましくは、0.60〜0.80の範囲にすることが好ましい。また、固溶体単結晶として、イ ンジウム・マグネシウム酸鉛−チタン酸鉛(PIMN-PT)を用いる場合には、前記モル分率xを0.60〜0.80、さらに好ましくは、0.64〜0.76の範囲にすることが好ましい。
さらに、比誘電率εrや機械的品質係数Qmを大きくする等の必要がある場合には、さらに、上記圧電単結晶素子の組成に、Mn,Cr,Sb,Ca,W,Al,La,Li,Taのうちの1又は複数の元素をそれぞれ0.5質量ppm〜5質量%添加しても良い。合計で、5質量%を超える添加は、単結晶とするのが難しく、多結晶となる恐れがある。これらの元素を添加する効果は、例えば、Mn,Crを添加することで、機械的品質係数Qmの向上や経時劣化の抑制を図ることができる。また、Sb,La,W,Taの添加により比誘電率εrが向上する。
本発明の圧電単結晶素子の製造方法は、ドメイン構造を有する単結晶のインゴットを製造する工程、その単結晶のインゴットから所定形状の圧電単結晶材料を所定方向に切り出す工程と、この圧電単結晶材料の[001]方向に、所定の条件で電界を印加して圧電単結晶材料を分極する主分極工程、あるいは、この主分極工程の前後で補助分極工程を有することを特徴とするものである。
以下、各工程における本発明の製造方法の限定理由を説明する。
xPb(A1,A2,…,B1,B2,…)O3+(1-x)PbTiO3(但し、xはモル分率であり、0<x<1とする。)からなる固溶体であって、A1,A2,…はZn,Mg,Ni,Lu,In及びScからなる群から選ばれた1又は複数の元素からなり、B1,B2…はNb,Ta,Mo及びWからなる群から選ばれた1又は複数の元素からなる単結晶、あるいは、さらに、上記組成に、Mn,Cr,Sb,Ca,W,Al,La,Li,Taのうちの1又は複数の元素を0.5質量ppm〜5質量%添加した単結晶のインゴットの製造方法は、上記の組成に調整された原料をフラックス中に溶解させた後、降温させて凝固させる方法か、融点以上に加熱して融解させた後、一方向に凝固させることにより単結晶を得る方法がある。前者の方法としては、フラックス法、融液ブリッジマン法、または、TSSG法(Top Seeded Solution Growth)などがあり、後者としては、水平融解ブリッジマン法、CZ法(チョクラルスキー法)などがあるが、本願発明では、特に規定しない。
単結晶インゴットの[001]軸方位をラウエ法によって概ね決定し、同時に[001]軸方位と直交する[010]軸方位及び[100]軸方位又は、必要に応じて[110]、[101]、[011]軸方位などの結晶学的方位を概ね決定する。
さらに、[001]軸、[010]軸及び[100]軸等のいずれかの結晶軸に直交する結晶学的面{100}面を研磨し、エックス線方位測定機などを用いて正確な方位を決定し、上記の研磨面のズレを修正する。
上記の単結晶インゴットの研磨面{100}面に平行又は直交して単結晶インゴットをワイヤーソー又は内周刃切断機などの切断機を用いて切断し、適切な厚さの板材(ウェハー)を得る。尚、切断後に、必要に応じてエッチング液を用いて化学エッチングする工程を含むこともできる。
上記のウェハーをラッピング機、ポリッシング機などの研削機又は研磨機によって研削又は研磨し、所望の厚さのウェハーを得る。尚、研削、研磨後に、必要に応じてエッチング液を用いて化学エッチングする工程を含むこともできる。
上記のウェハーは、{100}面をウェハー面(もっとも広い面)に持つ。このウェハーのドメイン構造(縞模様の線の延在方向)は、図5に示すように、[100]軸方位に対し、平行又は直交(図7(a))ないしは45°の角度を成す。{100}面内に存在するドメイン構造(縞模様の線の延在方向)と直交する方向nに対し、素子端面の法線方向1が、0〜15°あるいは、40〜50°になるように、このウェハーから所定形状の圧電単結晶材料を、ダイシングソーやカッティングソーなどの精密切断機を用いて切り出して作製する。
主分極処理あるいは、さらに、補助分極処理で、印加電界を掛けるために必要な電極を事前に作製する必要がある。
主分極処理前に、作製した圧電単結晶材料の対向する{100}面である上下面に、スパッタ法でCr-Au被膜(1層目にCr層:厚み約50Å、2層目にAu層:厚み約100〜200Å)を形成するか、プラズマ蒸着で金被膜を形成するか、あるいは、スクリーン印刷で銀被膜を形成した後、焼成して電極を作製する。
また、補助分極処理前では、補助分極方向に垂直な対向する2つの面に、上記と同じ方法で電極を形成する。
なお、補助分極処理後に主分極処理する場合、あるいは、主分極処理後に補助分極処理する場合には、最初の分極処理に使用した電極が残っていると、後の分極処理を不安定にするので、適当な化学エッチング液および酸で完全に電極を除去しておく必要がある。
育成後の単結晶インゴットから切り出された単結晶のままでは、分極方向3及びこれと直交する方向において、同一方向の電気双極子の集合からなるドメイン内の電気双極子の向きがドメイン毎に種々の方向を向いているため、圧電性を示さず、未分極の状態にある。
通常用いられる一般的な分極条件である分極処理温度と印加電界を選択し、分極方向3に電界を印加して分極することにより、初めてドメイン毎に種々の方向を向く多くのドメイン内の電気双極子の向きを分極方向3(一方向)に揃えることができる。このことにより、分極方向3の電気機械結合係数k33は、例えば亜鉛ニオブ酸鉛−チタン酸鉛の場合に、80%以上の大きな値を示すようになる。
しかし、分極方向3と直交する方向におけるドメインの配列は、上記の分極処理では制御できない。本来、切り出された素子材料の分極方向3と直交する面内のドメイン構造の適切な選択と、分極方向3での分極条件、即ち、分極処理温度と印加電界および分極処理時間の適切な範囲内でのみ制御することが可能である。
あるいは、主分極工程は、切り出した圧電単結晶材料の分極方向3に、該圧電単結晶材料のキュリー温度Tcより高い温度、好適には、180〜300℃の温度範囲で250〜500V/mmの直流電界を印加したまま室温まで冷却(電界冷却)してもよい。キュリー温度より高い温度にすることで、電気双極子の存在を一旦無くし、その後、キュリー温度以下に冷却することで、電気双極子の向きが、よりきれいに揃うためである。キュリー温度以下の温度の場合には、一部に、電気双極子が残り、分極が不十分になるためである。また、上記の好適な印加電界範囲の下限値250V/mm未満の場合には、分極が不十分である。上記の好適な印加電界範囲の上限値500V/mmを超えた場合には、過分極(オーバーポール)が起こり、圧電単結晶素子の圧電特性を劣化させる。また、過度の電界により、結晶中の歪が増大し、圧電単結晶素子にクラックが発生し、破断が生ずるおそれがある。なお、冷却速度は、冷却中に素子にクラックが生じない冷却速度が望ましい。
なお、キュリー温度は、それ以上の温度になると電気双極子がそれぞれ無秩序な方向を向いて整列しなくなり、圧電性または、強誘電性を示さなくなる転移温度である。これは、組成や物質の構造により決まっている。
上述した主分極工程は、圧電単結晶素子の主たる分極を行う工程であるが、該主分極工程の実施前あるいは実施後に、上記の分極方向3と直交する方向、望ましくは、横振動方向1に電界を印加し、上記の分極方向3と直交する方向の強誘電体ドメインの整列状態を制御する製造方法も有効である。
上記の分極方向3と直交する方向に印加する電界の種類としては、直流電界、パルス電界、交流電界、またこれらの定常電界のほか、減衰電界などがあり、電界の強さや印加時間、温度条件等は、個々の圧電単結晶素子の特性及び分極方向に直交する方向の電気機械結合係数k31の所望の値に応じて適正条件がある。これらは、実験等によって定めることができる。補助分極の効果を得るためには、補助分極処理温度は、25℃〜相転移温度(例えば、図4に示すTrt線)以下、印加電界範囲は、350〜1500V/mmが好ましい。なお、分極時間は、上記の好適範囲内で選ばれた分極処理温度と印加電界に応じて調整することが好ましいが、特に、10分〜2時間が望ましい。
また、前記のパルス電界としては、直角波のほか、図10に示すような交流三角波などユニポーラ及びバイポーラパルスを用いることができる。
使用した0.91亜鉛ニオブ酸鉛(PZN)+0.09チタン酸鉛(PT)(x=0.91とモル分率で表現)の圧電単結晶素子(キュリー温度Tc=175℃、素子形状:13mm長さ×4mm幅×0.36mm厚み)の形状等を図6(a)に示す。
作製した6面が{100}面で囲まれた圧電単結晶材料10,11において、分極方向を上面10a又は11aと下面10b又は11bとの間の[00-1]軸方向(図6(a)の上下方向)とする。
本発明者は、更に、横方向振動モード利用の素子の端面方位1(より厳密には、端面の法線方向)とドメイン構造との相関を詳細に調べるため,図9(a)で示すように、ドメイン構造(表面上の縞模様の線の延在方向)と直交する方向nに対し、横方向モード利用の素子の端面11c等の法線方向1が0°(図9(a)に示す[100]方向)から5°ごとに90°(図9(a)に示す[010]方向)まで変化させて、ダイシングソーを用いて切り出した種々の単結晶素材料11、13等を作製し、25℃の大気中で700V/mmの直流電界を60分間印加する分極方法を用いて図9(a)の紙面に垂直な方向に分極し、圧電単結晶素子11′、13′とした後、その横方向振動モードに関する電気機械結合係数k31を測定した。その測定結果を表2に示す。なお、圧電単結晶素子の製造方法や素子寸法および、試験条件は、実施例1と同様に行った。
次に、横方向振動モード利用に好適な圧電単結晶素子を製造する好適な分極処理方法について実施例3を用いて説明する。種々の分極処理条件で製造した圧電単結晶素子10′,11′の横方向振動モードの電気機械結合係数k31を測定した結果を表3に示す。なお、圧電単結晶素子の製造方法や素子寸法および、試験条件は、実施例1と同様に行った。また、圧電単結晶素子の組成は、実施例2と同じ組成の素子を用いた。その測定結果を表3に示す。
結晶10ではいずれの場合でも、分極方向に直交する方向〈横方向振動モード〉の電気機械結合係数k31は、0.91亜鉛ニオブ酸鉛(PZN)+0.09チタン酸鉛(PT)では、55%以下であり、分極処理条件での改善は得られなかった。
次に、横方向振動モード利用に好適な圧電単結晶素子を製造する好適な補助分極処理方法について実施例4を用いて説明する。種々の補助分極処理条件で製造した圧電単結晶素子11′の横方向振動モードの電気機械結合係数k31を測定した結果を表4に示す。なお、圧電単結晶素子11の製造方法や素子寸法および、試験条件は、実施例1と同様に行った。また、圧電単結晶素子の組成は、実施例2と同じ組成の素子を用いた。なお、{100}面内に存在するドメイン構造(縞模様の線の延在方向)と直交する方向nに対し、素子端面11cの法線方向1が、15°になるように、素子形状:13mm長さ×4mm幅×0.36mm厚みの圧電単結晶材料を、ダイシングソーを用いて切り出して作製した。
10a,11a 電極面(001)
10b,11b 電極面(00-1)
10c,11c 切り出した圧電単結晶材料の端面
12 単結晶ウエーハ
10’、11’、13’:分極処理後の圧電単結晶材料
a 単結晶素子の横方向(横振動の方向1)寸法
b 単結晶素子の端面の(奥行き(方向2))寸法
b´ 単結晶素子の凸状の端面
b´´ 単結晶素子の凹状の端面
L:単結晶素子の縦方向(分極の方向3)寸法
V:直流電圧
1:素子端面の法線方向(横振動方向)
3:分極方向(縦振動方向)
n:ドメイン構造(縞模様の線の延在方向)と直交する方向
Claims (7)
- 分極方向を擬立方晶の〔001〕軸としたとき、圧電素子端面の法線方向が、分極方向に直交する〔010〕及び〔100〕軸を含む結晶平面内に存在するドメイン構造と直交する方向に対し0〜15°の範囲内、または、40〜50°の範囲内にある分極方向と直交する方向で、横方向の振動モードの電気機械結合係数k31に優れた圧電単結晶素子。
- 請求項1において、前記圧電単結晶素子が、xPb(A1,A2,…,B1,B2,…)O3+(1−x)PbTiO3(但し、xはモル分率であり、0<x<1とする。)からなる固溶体であって、A1,A2,…はZn,Mg,Ni,Lu,In及びScからなる群から選ばれた1又は複数の元素からなり、B1,B2…はNb,Ta,Mo及びWからなる群から選ばれた1又は複数の元素からなり、複合ペロブスカイト構造を有する圧電単結晶材料からなる圧電単結晶素子。
- 請求項2において、前記圧電単結晶素子が、さらに、前記固溶体に、Mn,Cr,Sb,Ca,W,Al,La,Li及びTaからなる群から選ばれた1又は複数の元素を0.5質量ppm〜5質量%を含む圧電単結晶素子。
- 請求項1、2または3記載の圧電単結晶素子を製造する方法であって、
ドメイン構造を有する単結晶インゴットから所定形状の圧電単結晶材料を所定方向に切り出す工程と、
この圧電単結晶材料の[001]方向に、所定の条件で電界を印加して圧電単結晶材料を分極する主分極工程と、
を有することを特徴とする圧電単結晶素子の製造方法。 - 請求項4において、主分極工程は、切り出した圧電単結晶材料の[001]方向に、20〜200℃の温度範囲で350〜1500V/mmの直流電界を印加する工程である圧電単結晶素子の製造方法。
- 請求項4において、主分極工程は、切り出した圧電単結晶材料の[001]方向に、該圧電単結晶材料のキュリー温度(Tc)より高い温度で250〜500V/mmの直流電界を印加したまま室温まで冷却する工程である圧電単結晶素子の製造方法。
- 請求項4、5または6において、前記主分極工程の前後いずれかに、分極方向と直交する方向に電界を印加して分極する補助分極工程をさらに有する圧電単結晶素子の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004150824A JP4508725B2 (ja) | 2003-05-21 | 2004-05-20 | 圧電単結晶素子とその製造方法 |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003143668 | 2003-05-21 | ||
JP2004150824A JP4508725B2 (ja) | 2003-05-21 | 2004-05-20 | 圧電単結晶素子とその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005005698A true JP2005005698A (ja) | 2005-01-06 |
JP4508725B2 JP4508725B2 (ja) | 2010-07-21 |
Family
ID=34106491
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004150824A Expired - Fee Related JP4508725B2 (ja) | 2003-05-21 | 2004-05-20 | 圧電単結晶素子とその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4508725B2 (ja) |
Cited By (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007036142A (ja) * | 2005-07-29 | 2007-02-08 | Seiko Epson Corp | 圧電素子、圧電アクチュエーター、インクジェット式記録ヘッド、およびインクジェットプリンター |
JP2007036141A (ja) * | 2005-07-29 | 2007-02-08 | Seiko Epson Corp | 圧電素子、圧電アクチュエーター、インクジェット式記録ヘッド、およびインクジェットプリンター |
WO2007029850A1 (ja) * | 2005-09-05 | 2007-03-15 | Canon Kabushiki Kaisha | エピタキシャル酸化物膜、圧電膜、圧電膜素子、圧電膜素子を用いた液体吐出ヘッド及び液体吐出装置 |
JP2007067125A (ja) * | 2005-08-31 | 2007-03-15 | Toko Inc | 単板型圧電バイモルフ素子 |
JP2008042191A (ja) * | 2006-07-14 | 2008-02-21 | Canon Inc | 圧電体素子、インクジェットヘッド及び圧電体素子の製造方法 |
JP2008277672A (ja) * | 2007-05-07 | 2008-11-13 | Fujifilm Corp | 圧電素子とその製造方法、及び液体吐出装置 |
US7622852B2 (en) | 2007-03-02 | 2009-11-24 | Canon Kabushiki Kaisha | Piezoelectric member, piezoelectric element, and liquid discharge head and liquid discharge apparatus utilizing piezoelectric element |
JP2009280413A (ja) * | 2008-05-19 | 2009-12-03 | Jfe Mineral Co Ltd | 圧電単結晶インゴット及びその製造方法、並びに、圧電単結晶素子 |
WO2013132747A1 (ja) * | 2012-03-08 | 2013-09-12 | コニカミノルタ株式会社 | 圧電デバイス、超音波探触子、液滴吐出装置および圧電デバイスの製造方法 |
JP2013241314A (ja) * | 2012-05-22 | 2013-12-05 | Univ Of Tokyo | 酸化物強誘電体およびその製造方法 |
JP2021034629A (ja) * | 2019-08-28 | 2021-03-01 | 住友金属鉱山株式会社 | 圧電性基板、圧電性基板の製造方法、及び複合基板 |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR102007526B1 (ko) * | 2018-12-21 | 2019-08-06 | 주식회사 메타바이오메드 | 압전소자 분극 방법 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH1045470A (ja) * | 1996-07-29 | 1998-02-17 | Kyocera Corp | 圧電セラミックス |
JPH10335713A (ja) * | 1997-05-27 | 1998-12-18 | Fujitsu Ltd | 圧電体装置及びその製造方法 |
JP2000232331A (ja) * | 1999-02-10 | 2000-08-22 | Univ Tohoku | KNbO3圧電素子 |
JP2002348195A (ja) * | 2001-03-19 | 2002-12-04 | Asahi Techno Glass Corp | ニオブ酸カリウム単結晶の単分域化処理方法 |
JP2003282986A (ja) * | 2002-03-25 | 2003-10-03 | Toshio Ogawa | ドメイン制御圧電単結晶素子及びその製造方法 |
-
2004
- 2004-05-20 JP JP2004150824A patent/JP4508725B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH1045470A (ja) * | 1996-07-29 | 1998-02-17 | Kyocera Corp | 圧電セラミックス |
JPH10335713A (ja) * | 1997-05-27 | 1998-12-18 | Fujitsu Ltd | 圧電体装置及びその製造方法 |
JP2000232331A (ja) * | 1999-02-10 | 2000-08-22 | Univ Tohoku | KNbO3圧電素子 |
JP2002348195A (ja) * | 2001-03-19 | 2002-12-04 | Asahi Techno Glass Corp | ニオブ酸カリウム単結晶の単分域化処理方法 |
JP2003282986A (ja) * | 2002-03-25 | 2003-10-03 | Toshio Ogawa | ドメイン制御圧電単結晶素子及びその製造方法 |
Cited By (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007036141A (ja) * | 2005-07-29 | 2007-02-08 | Seiko Epson Corp | 圧電素子、圧電アクチュエーター、インクジェット式記録ヘッド、およびインクジェットプリンター |
JP2007036142A (ja) * | 2005-07-29 | 2007-02-08 | Seiko Epson Corp | 圧電素子、圧電アクチュエーター、インクジェット式記録ヘッド、およびインクジェットプリンター |
JP2007067125A (ja) * | 2005-08-31 | 2007-03-15 | Toko Inc | 単板型圧電バイモルフ素子 |
JP4676286B2 (ja) * | 2005-08-31 | 2011-04-27 | 東光株式会社 | 単板型圧電バイモルフ素子の製造方法 |
KR100978145B1 (ko) | 2005-09-05 | 2010-08-25 | 캐논 가부시끼가이샤 | 에피택셜 산화물막, 압전막, 압전막 소자, 압전막 소자를이용한 액체 토출 헤드 및 액체 토출 장치 |
WO2007029850A1 (ja) * | 2005-09-05 | 2007-03-15 | Canon Kabushiki Kaisha | エピタキシャル酸化物膜、圧電膜、圧電膜素子、圧電膜素子を用いた液体吐出ヘッド及び液体吐出装置 |
US7804231B2 (en) | 2005-09-05 | 2010-09-28 | Canon Kabushiki Kaisha | Epitaxial oxide film, piezoelectric film, piezoelectric film element, liquid discharge head using the piezoelectric film element, and liquid discharge apparatus |
JP2008042191A (ja) * | 2006-07-14 | 2008-02-21 | Canon Inc | 圧電体素子、インクジェットヘッド及び圧電体素子の製造方法 |
US7622852B2 (en) | 2007-03-02 | 2009-11-24 | Canon Kabushiki Kaisha | Piezoelectric member, piezoelectric element, and liquid discharge head and liquid discharge apparatus utilizing piezoelectric element |
JP2008277672A (ja) * | 2007-05-07 | 2008-11-13 | Fujifilm Corp | 圧電素子とその製造方法、及び液体吐出装置 |
JP2009280413A (ja) * | 2008-05-19 | 2009-12-03 | Jfe Mineral Co Ltd | 圧電単結晶インゴット及びその製造方法、並びに、圧電単結晶素子 |
WO2013132747A1 (ja) * | 2012-03-08 | 2013-09-12 | コニカミノルタ株式会社 | 圧電デバイス、超音波探触子、液滴吐出装置および圧電デバイスの製造方法 |
JPWO2013132747A1 (ja) * | 2012-03-08 | 2015-07-30 | コニカミノルタ株式会社 | 圧電デバイス、超音波探触子、液滴吐出装置および圧電デバイスの製造方法 |
US9634229B2 (en) | 2012-03-08 | 2017-04-25 | Konica Minolta, Inc. | Piezoelectric device, ultrasound probe, droplet discharge device, and piezoelectric device fabrication method |
JP2013241314A (ja) * | 2012-05-22 | 2013-12-05 | Univ Of Tokyo | 酸化物強誘電体およびその製造方法 |
JP2021034629A (ja) * | 2019-08-28 | 2021-03-01 | 住友金属鉱山株式会社 | 圧電性基板、圧電性基板の製造方法、及び複合基板 |
JP7439415B2 (ja) | 2019-08-28 | 2024-02-28 | 住友金属鉱山株式会社 | 圧電性基板、圧電性基板の製造方法、及び複合基板 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4508725B2 (ja) | 2010-07-21 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR100628812B1 (ko) | 압전단결정 소자와 그 제조방법 | |
KR100852536B1 (ko) | 압전단결정, 압전단결정소자 및 그 제조방법 | |
JP5156065B2 (ja) | 圧電単結晶素子 | |
JP4508725B2 (ja) | 圧電単結晶素子とその製造方法 | |
JP4613032B2 (ja) | 圧電単結晶素子およびその製造方法 | |
JP4568529B2 (ja) | 圧電単結晶素子 | |
JP4268111B2 (ja) | 圧電単結晶、圧電単結晶素子およびその製造方法ならびに1−3コンポジット圧電素子 | |
JP4658773B2 (ja) | 圧電単結晶素子 | |
JP5065763B2 (ja) | 圧電単結晶素子 | |
JP2022132883A (ja) | 圧電振動子及びその製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20060705 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20060720 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20100318 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20100406 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20100427 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130514 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4508725 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140514 Year of fee payment: 4 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |