JP2003282986A - ドメイン制御圧電単結晶素子及びその製造方法 - Google Patents
ドメイン制御圧電単結晶素子及びその製造方法Info
- Publication number
- JP2003282986A JP2003282986A JP2002083702A JP2002083702A JP2003282986A JP 2003282986 A JP2003282986 A JP 2003282986A JP 2002083702 A JP2002083702 A JP 2002083702A JP 2002083702 A JP2002083702 A JP 2002083702A JP 2003282986 A JP2003282986 A JP 2003282986A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- single crystal
- piezoelectric
- electric field
- piezoelectric single
- temperature
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N—ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N30/00—Piezoelectric or electrostrictive devices
- H10N30/80—Constructional details
- H10N30/85—Piezoelectric or electrostrictive active materials
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N—ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N30/00—Piezoelectric or electrostrictive devices
- H10N30/80—Constructional details
- H10N30/85—Piezoelectric or electrostrictive active materials
- H10N30/853—Ceramic compositions
- H10N30/8548—Lead based oxides
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N—ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N30/00—Piezoelectric or electrostrictive devices
- H10N30/01—Manufacture or treatment
- H10N30/04—Treatments to modify a piezoelectric or electrostrictive property, e.g. polarisation characteristics, vibration characteristics or mode tuning
- H10N30/045—Treatments to modify a piezoelectric or electrostrictive property, e.g. polarisation characteristics, vibration characteristics or mode tuning by polarising
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
- Compositions Of Oxide Ceramics (AREA)
Abstract
上、且つk31が70%以上で−d31が1200pC/N
以上のk31を有効に利用した横方向振動モード(k 31)
利用のドメイン制御圧電単結晶素子、及びk33が80%
以上でd33が800pC/N以上、且つk31が30%以
下でk33振動モードの使用帯域内にスプリアス等のな
い、高効率、高性能の縦方向振動モード(k33)利用の
ドメイン制御圧電単結晶素子を開発した。 【解決手段】圧電単結晶素子の厚み方向の分極条件とし
て、20℃〜200℃の温度範囲で400V/mm〜1
500V/mmの直流電界を最大2時間印加するか、電
界を印加したまま冷却すること(電界冷却)、この工程
の前段として分極方向に直交する方向に電界を印加する
こと(電界印加)、又は圧電単結晶の菱面晶−正方晶相
境界温度、又は正方晶−立方晶相境界温度を挟んで昇降
温するか、又は立方晶温度域の異なる2温度間で昇降温
する(熱処理)こと、又は、これらを併用する。
Description
びその製造方法に関する。さらに詳しくは、単結晶材料
からなる素子であって、分極方向に直交する方向、即ち
横方向振動モードの電気機械結合係数と該方向のドメイ
ン制御に着目した素子及びその製造方法に関する。
開平6−38963号公報には、亜鉛ニオブ酸−チタン
酸鉛の固溶単結晶からなる圧電体を用いた超音波プロー
ブが開示されている。この技術は、このような圧電体が
分極方向の電気機械結合係数(k33)が80〜85%と
大きく、この単結晶を使用することにより、感度の良い
プローブが得られることを示している。従来、圧電単結
晶素子はこのように分極方向の電気機械結合係数につい
て研究され、各種の用途も関発されているが、分極方向
に直交する方向の特性については、未開拓の技術分野で
ある。
結晶素子の分極方向(縦方向振動モード)の電気機械結
合係数(k33)が≧80%の値を持つことにより、多種
の用途に供されているにもにも拘わらず、分極方向に直
交する方向(横方向振動モード)の電気機械結合係数
(k31)が例えば、IEEE Proc.MEDICA
L IMAGING3664(1999)pp.239
やその他の文献に示されるように49%〜62%と分極
方向(縦方向振動モード)の電気機械結合係数(k33)
に比較して低い値であり、且つ文献によりばらつきのあ
る値を示すことに着目した。そして鋭意研究した結果、
k33が80%以上で同時にd33が800pC/N以上、
且つk31が70%以上で同時に−d31、が1200pC
/N(定義上d31は、負の値を持つ)以上にした場合
は、k31を有効に利用した圧電単結晶素子の製造が可能
であり、k33が80%以上で同時にd33が800pC/
N以上、且つk31が30%以下で同時に−d31が300
pC/N(定義上d31は、負の値を持つ)以下にした場
合には、k33の値をその使用帯域内にスプリアス(不要
振動)等の発生がないため更に効率よく利用でき、より
高性能の縦方向振動モード(k33)利用の圧電単結晶素
子が得られることを発見した。
きな電気機械結合係数(k33)を有しながら分極方向に
直交する方向(横方向振動モード)の電気機械結合係数
(k 31)が小さく、ばらつきを有する原因は、分極され
た圧電単結晶素子の分極方向と直交する方向に関する電
気双極子により形成されるドメイン構造が単一ドメイン
でなく、複数個のドメイン(マルチドメイン)で形成さ
れているためであること、そして、該ドメイン構造を制
御することにより、次の(A)、(B)の圧電単結晶素
子が得られることを見出した。
機械結合係数k33≧80%で且つ圧電歪定数d33≧80
0pC/Nを持つ圧電単結晶材料において、分極方向に
直交する方向の横方向振動モードの電気機械結合係数k
31≧70%で且つ、圧電歪定数−d31≧1200pC/
Nを持ち、且つk31に関する分極方向に直交する方向の
横方向振動モードの共振周波数(fr)と素子の振動方
向の長さ(L)の積である周波数定数(fc31=fr・
L)の値fc31≦650Hz・mであるドメイン制御圧
電単結晶素子。
機械結合係数k33≧80%で且つ圧電歪定数d33≧80
0pC/Nを持つ圧電単結晶材料において、分極方向に
直交する方向の横方向振動モードの電気機械結合係数k
31≦30%で且つ、圧電歪定数−d31≦300pC/N
を持ち、且つk31に関する分極方向に直交する方向の横
方向振動モードの共振周波数(fr)と素子の振動方向
の長さ(L)の積である周波数定数(fc31=fr・
L)の値fc31≧800Hz・mであるドメイン制御圧
電単結晶素子。
電単結晶素子の分極方向と直交する方向(横方向振動モ
ード)の電気機械結合係数k31に関わる振動モードの共
振周波数(fr)と素子の振動方向の長さ(L)の積で
ある周波数定数(fc31=fr・L)の値により整理さ
れることを発見した。
圧電単結晶素子及びその製造方法を提供することを目的
とする。
分極方向の縦方向振動モードの電気機械結合係数k33≧
80%で且つ圧電歪定数d33≧800pC/Nを持つ圧
電単結晶材料において、分極方向に直交する方向の横方
向振動モードの電気機械結合係数k31≧70%で且つ、
圧電歪定数−d31≧1200pC/N(定義上d31は、
負の値を持つ)を持ち、且つk31に関する分極方向に直
交する方向の横方向振動モードの共振周波数(fr)と
素子の振動方向の長さ(L)の積である周波数定数(f
c31=fr・L)の値fc31≦650Hz・mであるこ
とを特徴とするドメイン制御圧電単結晶素子である。
縦方向振動モードの電気機械結合係数k33≧80%で且
つ圧電歪定数d33≧800pC/Nを持つ圧電単結晶材
料において、分極方向に直交する方向の横方向振動モー
ドの電気機械結合係数k31≦30%で且つ、圧電歪定数
−d31≦300pC/N(定義上d31は、負の値を持
つ)を持ち、且つk31に関する分極方向に直交する方向
の横方向振動モードの共振周波数(fr)と素子の振動
方向の長さ(L)の積である周波数定数(fc31=fr
・L)の値fc31≧800Hz・mであることを特徴と
するドメイン制御圧電単結晶素子である。
上の棒状体について、その長手方向を分極方向とし、分
極方向に電圧をかけた時の分極方向の振動(縦方向振
動)及び歪の大きさの変換効率をそれぞれ縦方向振動モ
ードの電気機械結合係数(k33)及び圧電歪定数
(d33)で表わしており、これらの数値が大きいほど効
率が良い。棒状体のほか、方形板や円板等の形状のもの
についてもそれそれが規定されている。本発明は分極方
向に直交する方向(横方向振動モード)の電気機械結合
係数(k31)に着目したドメイン制御圧電体単結晶素子
である。
単結晶材料としては、下記(a)又は(b)を好適に用
いることができる。
…)O3+(1−X)PbTiO3(0<X<1)からな
る固溶体であって、A1,A2,…はZn,Mg,Ni,
Lu,In及びScからなる群から選ばれた1又は複数
の元素、B1,B2…はNb,Ta,Mo及びWからなる
群から選ばれた1又単複数の元素で、A1,A2,…のイ
オン価をそれぞれa1,a2…、化学式中の構成比を
Y1,Y2…、B1,B2…のイオン価をそれぞれb1,b2
…,化学式中の構成比をZ1,Z2…、とした時に、化学
式Pb(A1Y1 al,A2Y2 a2,…,B1Z1b1,B1Z2 b2…)
O3における、かっこ内の元素群のイオン価の総和Wが
W=a1・Y1+a2Y2+…b1・Z1+b2Z2+…=4+
の電荷を満たすものであること。
は2種を0.5ppm〜1質量%添加したものであるこ
と。
鉛ニオブ酸鉛Pb(Zn1/3Nb2/3)O3やマグネシウ
ムニオブ酸鉛Pb(Mg1/3Nb2/3)O3とチタン酸鉛
PbTiO3の固溶体からなる圧電体単結晶材料(前者
をPZN−PT又はPZNT、後者をPMN−PT又は
PMNTと呼称する)がある。
する方法として次に示す製造方法がある。
分極条件として、20℃〜200℃の温度範囲で400
V/mm〜1500V/mmの直流電界を最大2時間印
加するか、又は電界を印加したまま冷却する(電界冷
却)工程で、上記ドメイン制御圧電単結晶素子を製造す
ることを特徴とする圧電単結晶素子の製造方法である。
素子の最終的な分極を行う工程であるが、この工程の前
段に、分極方向と直交する方向に電界を印加し、分極方
向と直交する方向の強誘電体ドメインの整列状態を制御
する工程を加える製造方法も有効である。分極方向と直
交する方向に印加する電界の種類としては、直流電界、
パルス電界、交流電界、またこれらの定常電界のほか、
減衰電界などがあり、電界の強さや印加時間、温度条件
等は個々の圧電単結晶素子の特性及び分極方向に直交す
る方向の電気機械結合係数(k31)の所望の値に応じて
適正条件がある。これらは、実験等によって定めること
ができる。また、前記のパルス電界としては、直角波の
ほか、交流三角波などユニポーラ及びバイポーラパルス
を用いることができる。
℃〜200℃の温度範囲で400V/mm〜1500V
/mmの直流電界を最大2時間印加するか、又は電界を
印加したまま冷却するドメイン制御単結晶圧電素子の最
終的な分極を行う工程の前段に、単結晶圧電素子を加熱
・冷却することを特徴とする製造方法がある。例えば、
圧電単結晶素子は、菱面晶、正方晶、立方晶となる温度
領域が組成に応じて決まっている。従って、例えば単結
晶圧電素子を該圧電単結晶材料の低温相である菱面晶と
中温相である正方晶の転移温度を挟んで加熱冷却する工
程(1)、又は該圧電単結晶材料の正方晶と強誘電性・
圧電性の消失温度であるキュリー温度(この温度より高
温では、該年電体単結晶材料は立方晶(高温相)とな
る)を挟んで加熱冷却する工程(2)、又は、高温相内
で加熱冷却する工程(3)、又は、工程(1)、
(2)、(3)を適宜組み合わせる工程(4)を行い、
次いで20℃〜200℃の温度範囲で400V/mm〜
1500V/mmの直流電界を最大2時間印加するか又
は電界を印加したまま冷却する工程を行うことにより、
分極方向に直交する方向の強誘電体ドメインの整列状態
を制御することができる。
400V/mm〜1500V/mmの直流電界を最大2
時間印加するか又は電界を印加したまま冷却する工程ド
メイン制御単結晶圧電素子の最終的な分極を行う工程の
前段に、単結晶圧電素子の分極方向に直交する方向に電
界を印加する工程と、単結晶圧電素子を加熱冷却する工
程とを併用する工程を行い、次いで20℃〜200℃の
温度範囲で400V/mm〜1500V/mmの直流電
界を最大2時間印加するか又は電界を印加したまま冷却
する工程を行うことにより、分極方向に直交する方向の
強誘電体ドメイン整列状態を制御することができる。
鉛(PZN−PTまたはPZNT)の固溶体単結晶は、
その単位格子が図1に模式的に示したようなペロブスカ
イト構造(ABO3)をなしている。図2にPZNとP
Tの組成比による相図を示した。この図はNomura
et at.,J.Phys.(1969)。J.K
uwata et at.,Ferroelectri
cs(1981)より引用したものである。図2に見ら
れるように、菱面晶PZNTでは、擬立方晶と見た時の
結晶の〈111〉方位の8つの方向に電気双極子に相当
する自発分極を有している。このような自発分極状態に
おげる〈100〉方向(結晶切り出し方向)に電界を印
加すると、電気双極子は分極電界印加方向に回転し、自
発分極方向が揃うようになる。
様等により種々の状態が生じ、その結果、分極方向の電
気機械結合係数(k33)が80%以上の値を持つにもか
かわらず、分極方向に直交する方向の電気機械結合係数
(k31)が、文献等によれば49〜62%にばらつきを
持って分布すること、即ち、分極方向と直交する方向
(横振動モード)に関して電気機械結合係数(k31)の
制御がなされていないことがわかった。このようなk31
の値では、積極的にk31を利用したデバイスを作製する
ことが困難であったり、一方、積極的にk33を利用する
デバイスでは分極方向の縦方向振動(k33)モード中に
スプリアスが発生したりして、十分な特性を得られない
状況が発生していた。この結果を与える要因は、以下の
ように説明される。即ち、育成後の圧電体単結晶から切
り出された圧電単結晶素子の素材では、分極方向及び分
極方向と直交する方向において同一方向の電気双極子の
集合からなるドメインが種々の方向を向いており、圧電
性を示さず、未分極の状態にある。
し、分極方向に電界を印加することにより初めて、多く
のドメインが分極方向に揃っていくことができる。この
ことにより、分極方向の電気機械結合係数k33は80%
以上の大きな値を示すようになる。しかし、分極方向と
直交する方向におけるドメインの状態は、分極方向での
分極条件、即ち、分極処理温度と印加電圧の適切な範囲
内でのみ制御することが可能である。
て、実施例をあげて説明する。表1は従来例(試料番号
1,2,3)及び文献値(文献値1,2)及び本発明に
関わる圧電単結晶材料の分極条件等を変えた場合の誘電
・圧電特性を示したものである。表1中のd33値はd33
メータ(中国科学院声学研究所製ZJ−3D型)で測定
した。k33値の算出は、本発明者らの測定に基づく、図
12に示すd33vsk33カーブから求めた。k31、
d31、fc31はインピーダンスの周波数応答を測定し、
計算により算出した。使用した0.91PZN+0.0
9PT(X=0.91とモル分率で表現)の圧電単結晶
素子(素子形状:13mm長さ×4mm幅×0.36m
m厚み)を、図3に示すように6面が(100)面で囲
まれた結晶10の二つの対向する(001)面11に金
電極をスパッタ法で作製し、40℃のシリコンオイル中
に浸漬して、電極間に250V/mm(試料番号4)、
500V/mm(試料番号5)、700V/mm(試料
番号6)、1000V/mm(試料番号7)、1600
V/mm(試料番号8)の各電界を10分間印加した後
での、k31モードのインピーダンスカーブを図4〜図8
に示した。250V/mm(図4)では、分極不十分の
状態であり、500V/mm(図5)、700V/mm
(図6)では、3つのk31振動モードが見られるが、こ
れは分極方向に直交する方向に複数のドメインがあるた
めである。
ダンスカーブから明らかなように、分極方向に直交する
方向でのドメインは単一ドメインとなっており、k31の
値は>80%を満たすと同時に分極方向のk33も>95
%を示す。1600V/mm(図8)では、再び、2つ
以上のドメインに分離し、k33の値は>95%であった
が、k31の値は61%である。又、それぞれの試料のk
31に関する横方向振動モードの共振周波数(fr)と素
子の振動方向の長さ(L)の積である周波数定数(fc
31=fr・L)の値fc31は、試料番号4で741Hz
・m、試料番号5で601Hz・m、試料番号6で60
3Hz・m、試料番号7で522Hz・m、試料番号8
で700Hz・mであった。250V/mm、500V
/mm、1000V/mm、1600V/mm印加後の
分極方向に直交する面内のドメインの状態を図9に示
す。
十分であり、500V/mmでは複数ドメイン(マルチ
ドメイン)であるが、k31に関わる分極成分の相乗作用
でk 31が大きくなる。1000V/mmでは単一ドメイ
ンとなり、さらに1600V/mmでは複数ドメインと
なり、k31に関わる分極成分の相殺作用でk31が小さく
なる。本発明内で高k33(d33)、高k31(d31)が得
られるドメイン配列は500V/mm、1000V/m
mであった。一方、同様な設定の素子、試料番号9を2
00℃のシリコンオイル中で、400V/mmの直流電
界を印加したまま、シリコンオイルの温度を室温まで降
下させると、分極方向(縦方向振動モード)の電気機械
結合係数k33は≧80%であり、分極方向に直交する方
向(横方向振動モード)の電気機械結合係数k31は>7
0%であった。この時のfc31は609Hz・mであっ
た。試料番号10では、同じ設定の素子を60℃のシリ
コンオイル中に浸漬し、400V/mmの直流電界を1
20分間印加した。その結果、分極方向(縦方向振動モ
ード)の電気機械結合係数k33は>95%であったが、
分極方向に直交する方向(横方向振動モード)の電気機
械結合係数k31は<30%であった。
1500V/mmの直流電界を10分間印加すると、分
極方向(縦方向振動モード)の電気機械結合係数k33は
>90%であったが、分極方向に直交する方向(横方向
振動モード)の電気機械結合係数k31は<30%であっ
た。試料番号10及び試料番号11のfc31は、それぞ
れ981Hz・m及び1004Hz・mであった。この
結果は、横方向振動を抑えるドメイン配列からくるもの
と考えられる。
を適切に設定することにより、分極時のドメイン状態及
び、それに依存するk33,k31の値を制御することがで
きる。又、ここに示した実施例に限らず、20℃〜20
0℃の温度範囲で400V/mm〜1500V/mmの
直流電界を最大2時間印加するか又は電界を印加したま
ま冷却する工程の温度範囲、分極電界値範囲、印加時間
範囲と印加方法を用いることにより、上記案施例にと同
様な誘電・圧電特性が得られることが確認されている。
0V/mm〜1500V/mmの直流電界を最大2時間
印加するか又は電界を印加したまま冷却する工程に関し
ては、キュリー温度以上の200℃で1時間保持する脱
分極の工程を挟んで、20℃〜200℃の温度範囲で4
00V/mm〜1500V/mmの直流電界を最大2時
間印加するか又は電界を印加したまま冷却する工程の工
程を繰り返すことによっても第1の発明、第2の発明に
示す特性が向上することが確認されている。これらの結
果を、分極方向に直交する方向(横方向振動モード)の
電気機械結合係数k31とk31モードの共振周波数(f
r)と素子の振動方向の長さ(L)の積である周波数定
数(fc31=fr・L)の値で整理すると図10に示す
ような高k 33、高k31の領域と高k33、低k31の領域が
周波数定数(fc31=fr・L)の値の範囲を横軸とし
て得られることが解った。
たが、従来例及び文献値ではk31モードの共振周波数
(fr)と素子の振動方向の長さ(L)の積である周波
数定数(fc31=fr・L)の値が本発明の請求項1、
2の中間にあり、本発明で明らかにしたように分極方向
と直交する方向のドメイン制御が不充分な領域にあり、
そのため、k31の値がばらつくものと考えられる。
る方向に電界を印加し、分極方向に直交する方向の強誘
電体ドメインの方向を制御する工程、単結晶圧電素子を
該圧電単結晶材料の低温相である菱面晶と中温相である
正方晶の転移温度を挟んで加熱冷却する工程(1)、又
は該圧電単結晶材料の正方晶と強誘電性・圧電性の消失
温度であるキュリー温度を挟んで加熱冷却する工程
(2)、又は、高温相内で加熱冷却する工程(3)、又
は、前記工程(1)、(2)、(3)を適宜組み合わせ
た工程(4)を行い、次いで20℃〜200℃の温度範
囲で400V/mm〜1500V/mmの直流電界を最
大2時間印加するか又は電界を印加したまま冷却する工
程を行った実施例について表2に則して説明する。表2
中のd33の測定、k33値の算出、k31、d31、fc31の
測定及び計算は表1と同様である。
度範囲で400V/mm〜1500V/mmの直流電界
を最大2時間印加するか又は電界を印加したまま冷却す
る工程の工程の前に、上記の単結晶圧電体素子と同じ形
状の素子に、図11に示すように図3の(001)面1
1と直交して対向する2つの(010)面13に金電極
をスパッタ法で作製し、40℃のシリコンオイル中で1
000V/mmの直流電界を10分間印加し分極した。
素子を取り出したあと、エッチング液で該金電極を除去
し、更に図3に示す二つの対向する(001)面11に
金電極をスパッタ法で作製し、上記実施例で示した20
℃〜200℃の温度範囲で400V/mm〜1500V
/mmの直流電界を最大2時間印加するか又は電界を印
加したまま冷却する工程を実施し、誘電・圧電特性を測
定した。
に、分極方向(縦方向振動モード)の電気機械結合係数
k33で97.3%、圧電歪定数d33で2810pC/N
を得た。又、分極方向に直交する方向(横方向振動モー
ド)の電気機械結合係数k31で85.5%、圧電歪定数
d31で−2380pC/Nを得た。k31に関する横方向
振動モードの共振周波数(fr)と素子の振動方向の長
さ(L)の積である周波数定数(fc31=fr・L)の
値fc31は、483Hz・mであった。
200℃の温度範囲で400V/mm〜1500V/m
mの直流電界を最大2時間印加するか又は電界を印加し
たまま冷却する工程の前に、上記の単結晶圧電体素子と
同じ形状の素子を、それぞれシリコンオイル中に浸漬
し、50〜90℃、150〜200℃の温度範囲を、更
に温度槽内で200〜400℃の温度範囲を30分周期
で3回温度上昇・下降を繰り返した。その後、図3に示
す二つの対向する(001)面11に金電極をスパッタ
法で作製し、上記実施例で示した20℃〜200℃の温
度範囲で400V/mm〜1500V/mmの直流電界
を最大2時間印加するか又は電界を印加したまま冷却す
る工程を実施し、誘電・圧電特性を測定した。その結
果、試料番号13では、分極方向(縦方向振動モード)
の電気機械結合係数k33で97.5%、圧電歪定数d33
で2840pC/Nを得た。
モード)の電気機械結合係数k31で85.3%、圧電歪
定数d31で−2360pC/Nを、試料番号14では分
極方向(縦方向振動モード)の電気機械結合係数k33で
97.8%、圧電歪定数d33で2880pC/Nを得
た。
モード)の電気機械結合係数k31で85.3%、圧電歪
定数d31で−2350pC/Nを、試料番号15では、
分極方向(縦方向振動モード)の電気機械結合係数k33
で97.4%、圧電歪定数d 33で2820pC/Nを得
た。又、分極方向に直交する方向(横方向振動モード)
の電気機械結合係数k31で85.6%、圧電歪定数d31
で−2380pC/Nをそれぞれ得た。周波数定数(f
c31=fr・L)の値fc31は、試料番号13では、5
03Hz・m、試料番号14では、506Hz・m、試
料番号15では、437Hz・mmであった。
3の(001)面11と直交して対向する2つの(01
0)面13に金電極をスパッタ法で作製し、シリコンオ
イル中に浸漬し、150〜200℃の温度範囲を30分
周期で3回温度上昇・下降を繰り返しながら、直流電界
400V/mmを印加した。素子を取り出したあと、エ
ッチング液で該金電極を除去し、更に図3に示す二つの
対向する(001)面11に金電極をスパッタ法で作製
し、上記実施例で示した20℃〜200℃の温度範囲で
400V/mm〜1500V/mmの直流電界を最大2
時間印加するか又は電界を印加したまま冷却する工程を
実施し、誘電・圧電特性を測定した。その結果、分極方
向(縦方向振動モード)の電気機械結合係数k33で9
7.8%、圧電歪定数d33で2870pC/Nを得た。
又、分極方向に直交する方向(横方向振動モード)の電
気機械結合係数k31で86.0%、圧電歪定数d31で−
2450pC/Nを得た。周波数定数(fc31=fr・
L)の値fc31は、415Hz・mであった。
る別の面として、図11の(100)面間に直流電界を
印加後、20℃〜200℃の温度範囲で400V/mm
〜1500V/mmの直流電界を最大2時間印加するか
又は電界を印加したまま冷却する工程を実施しても、同
じ効果が得られることを確認している。
度範囲で400V/mm〜1500V/mmの直流電界
を最大2時間印加するか又は電界を印加したまま冷却す
る工程の前に、上記の単結晶圧電体素子と同じ形状の素
子に、図11に示すように図3の(001)面11と直
交して対向する2つの(010)面13に金電極をスパ
ッタでつけ、60℃のシリコンオイル中でピーク値50
0V/mm、周期800msecのバイポーラ三角波電
界を10分間印加した。バイポーラ三角波の波形を図1
3に示した。素子を取り出したあと、エッチング液で該
金電極を除去し、更に図3に示す二つの対向する(00
1)面11に金電極をスパッタ法で作製し、上記実施例
で示した20℃〜200℃の温度範囲で400V/mm
〜1500V/mmの直流電界を最大2時間印加するか
又は電界を印加したまま冷却する工程を実施し、誘電・
圧電特性を測定した。その結果、分極方向(縦方向振動
モード)の電気機械結合係数k33で97.1%、圧電歪
定数d33で2780pC/Nを得た。又、分極方向に直
交する方向(横方向振動モード)の電気機械結合係数k
31で18.3%、圧電歪定数d31で−230pC/Nを
得た。周波数定数(fc31=fr・L)の値fc31は、
863Hz・mであった。
200℃の温度範囲で400V/mm〜1500V/m
mの直流電界を最大2時間印加するか又は電界を印加し
たまま冷却する工程の前に、上記の単結晶圧電体素子と
同じ形状の素子を、それぞれシリコンオイル中に浸漬
し、50〜90℃、150〜200℃、200〜400
℃の温度範囲を5分周期で3回温度上昇・下降を繰り返
した。その後、図3に示す二つの対向する(001)面
11に金電極をスパッタ法で作製し、上記実施例で示し
た20℃〜200℃の温度範囲で400V/mm〜15
00V/mmの直流電界を最大2時間印加するか又は電
界を印加したまま冷却する工程を実施し、誘電・圧電特
性を測定した。
(縦方向振動モード)の電気機械結合係数k33で97.
0%、圧電歪定数d33で2760pC/Nを、又、分極
方向に直交する方向(横方向振動モード)の電気機械結
合係数k31で18.6%、圧電歪定数d31で−260p
C/Nを得た。試料番号19では、分極方向(縦方向振
動モード)の電気機械結合係数k33で97.3%、圧電
歪定数d33で2810pC/Nを、又、分極方向に直交
する方向(横方向振動モード)の電気機械結合係数k31
で17.8%、圧電歪定数d31で−190pC/Nを得
た。
モード)の電気機械結合係数k33で97.2%、圧電歪
定数d33で2790pC/Nを、又、分極方向に直交す
る方向(横方向振動モード)の電気機械結合係数k31で
18.2%、圧電歪定数d31で−220pC/Nをそれ
ぞれ得た。周波数定数(fc31=fr・L)の値fc 31
は、試料番号18では、836Hz・m、試料番号19
では、892Hz・m、試料番号20では、847Hz
・mであった。
3の(001)面11と直交して対向する2つの(01
0)面13に金電極をスパッタ法で作製し、シリコンオ
イル中に浸漬し、150〜200℃の温度範囲を5分周
期で3回温度上昇・下降を繰り返しながら、直流電界4
00V/mmを印加した。素子を取り出したあと、エッ
チング液で該金電極を除去し、更に図3に示す二つの対
向する(001)面11に金電極をスパッタ法で作製
し、上記実施例で示した20℃〜200℃の温度範囲で
400V/mm〜1500V/mmの直流電界を最大2
時間印加するか又は電界を印加したまま冷却する工程を
実施し、誘電・圧電特性を測定した。その結果、分極方
向(縦方向振動モード)の電気機械結合係数k33で9
7.7%、圧電歪定数d33で2850pC/Nを得た。
又、分極方向に直交する方向(横方向振動モード)の電
気機械結合係数k31で17.6%、圧電歪定数d31で−
150pC/Nを得た。周波数定数(fc31=fr・
L)の値fc31は、924Hz・mであった。
最終的な分極を行う工程、即ち、20℃〜200℃の温
度範囲で400V/mm〜1500V/mmの直流電界
を最大2時間印加するか又は電界を印加したまま冷却す
る工程の前段に、分極方向と直交する方向に電界を印加
し、分極方向と直交する方向の強誘電体ドメインの整列
状態を制御する方法、圧電単結晶材料の低温相である菱
面晶と中温相である正方晶の転移温度を挟んで加熱冷却
する工程(1)、又は圧電単結晶材料の正方晶と強誘電
性・圧電性の消失温度であるキュリー温度(この温度よ
り高温では、該圧電体単結晶材料は立方晶(高温相)と
なる)を挟んで加熱冷却する工程(2)、又は、高温相
内で加熱冷却する工程(3)、又は、工程(1)、
(2)、(3)を適宜組み合わせた工程(4)により分
極方向と直交する方向の強誘電体ドメインの整列状態を
制御する方法、単結晶圧電素子の分極方向に直交する方
向に電界を印加する工程と、単結晶圧電素子を加熱冷却
する工程とを併用する工程により分極方向と直交する方
向の強誘電体ドメインの整列状態を制御する方法を実施
することは、結晶育成時の徐冷過程で生成される結晶中
の複数のドメインを、上記の各工程を実施することによ
り、より人的に制御されたものとし、上記ドメイン制御
圧電単結晶素子を製造するドメイン制御単結晶圧電素子
の最終的な分極を行う工程での分極方向に直交する方向
のドメイン構造を、より容易に制御するために有効であ
ること、又、本発明の第1の発明、第2の発明でいう誘
電・圧電特性を向上させるために有効であることがわか
った。
及びその製造方法は、以上のように構成されているの
で、k33が80%以上で同時にd33が800pC/N以
上、且っk31が70%以上で同時に−d31が1200p
C/N(定義上d31は、負の値を持つ)以上にした場合
は、k31を有効に利用した圧電単結晶素子の製造が可能
であり、k33が80%以上で同時にd33が800pC/
N以上、且つk31が30%以下で同時に−d31が300
pC/N(定義上d31は、負の値を持つ)以下にした場
合には、k33の振動モードの使用帯域内にスプリアス等
の発生がないためk 33モードを更に効率よく利用でき、
より高性能の縦方向(k33)振動モード利用の圧電単結
晶素子を得ることが可能となった。
ある。
ある。
ある。
ある。
ある。
インの状態の図である。
振周波数(fr)と素子の振動方向の長さ(L)の積で
ある周波数定数(fc31=fr・L)の値のグラフであ
る。
Claims (7)
- 【請求項1】 分極方向の縦方向振動モードの電気機械
結合係数k33≧80%で且つ圧電歪定数d33≧800p
C/Nを持つ圧電単結晶材料において、分極方向に直交
する方向の横方向振動モードの電気機械結合係数k31≧
70%で且つ、圧電歪定数−d31≧1200pC/Nを
持ち、且つk31に関する分極方向に直交する方向の横方
向振動モードの共振周波数(fr)と素子の振動方向の
長さ(L)の積である周波数定数(fc31=fr・L)
の値fc31≦650Hz・mであることを特徴とするド
メイン制御圧電単結晶素子。 - 【請求項2】 分極方向の縦方向振動モードの電気機械
結合係数k33≧80%で且つ圧電歪定数d33≧800p
C/Nを持つ圧電単結晶材料において、分極方向に直交
する方向の横方向振動モードの電気機械結合係数k31≦
30%で且つ、圧電歪定数−d31≦300pC/Nを持
ち、且つk31に関する分極方向に直交する方向の横方向
振動モードの共振周波数(fr)と素子の振動方向の長
さ(L)の積である周波数定数(fc31=fr・L)の
値fc31≧800Hz・mであることを特徴とするドメ
イン制御圧電単結晶素子。 - 【請求項3】 圧電単結晶材料が、下記(a)又は
(b)であることを特徴とする請求項1又は請求項2記
載のドメイン制御圧電体単結晶素子。 (a)X・Pb(A1,A2,…,B1,B2…)O3+
(1−X)PbTiO3(0<X<1)からなる固溶体
であって、A1,A2,…はZn,Mg,Ni,Lu,I
n及びScからなる群から選ばれた1又は複数の元素、
B1,B2…はNb,Ta,Mo及びWからなる群から選
ばれた1又は複数の元素で、A1,A2,…のイオン価を
それぞれa1,a2…、化学式中の構成比をY1,Y2…、
B1,B2…のイオン価をそれぞれb1,b2…,化学式中
の構成比をZ1,Z2…、とした時に、化学式Pb(A
1Y1 al,A2Y2 a2,…,B1Z1 b1,B1Z2 b2…)O3におけ
るかっこ内の元素群のイオン価の総和WがW=a1・Y1
+a2Y2+…b1・Z1+b2Z2+…=4+の電荷を満た
すものであること。 (b)上記(a)に、Mn,Cr、の1又は2種を0.
5ppm〜1質量%添加したものであること。 - 【請求項4】 圧電単結晶素子の厚み方向の分極条件と
して、20℃〜200℃の温度範囲で400V/mm〜
1500V/mmの直流電界を最大2時間印加するか又
は電界を印加したまま冷却する工程を行い、ドメイン制
御圧電単結晶素子を製造することを特徴とする圧電単結
晶素子の製造方法。 - 【請求項5】 請求項4に記載の工程の前段階として、
単結晶圧電素子の分極方向に直交する方向に電界を印加
する工程を行い、分極方向に直交する方向の強誘電体ド
メインの方向を制御する工程を行い、次いで請求項4に
記載する工程を行うことによりドメイン制御圧電体単結
晶素子を製造することを特徴とする請求項4記載の圧電
単結晶素子の製造方法。 - 【請求項6】 請求項4に記載の工程の前段階として、
単結晶圧電素子を該圧電単結晶材料の低温相である菱面
晶と中温相である正方晶の転移温度を挟んで加熱冷却す
る工程(1)、又は該圧電単結晶材料の正方晶と強誘電
性・圧電性の消失温度であるキュリー温度を挟んで加熱
冷却する工程(2)、又は、キュリー温度以上の高温相
である立方晶の温度範囲内で加熱冷却する工程(3)、
又は、前記工程(1)、(2)、(3)を適宜組み合わ
せた工程(4)を行い、次いで請求項4に記載する工程
を行うことにより、分極方向に直交する方向の強誘電体
ドメインの方向を制御し、ドメイン制御圧電体単結晶素
子を製造することを特徴とする圧電単結晶素子の製造方
法。 - 【請求項7】 単結晶圧電素子の分極方向に直交する方
向に電界を印加する工程と、単結晶圧電素子を該圧電単
結晶材料の低温相である菱面晶と中温相である正方晶の
転移温度を挟んで加熱冷却する工程(1)、又は該圧電
単結晶材料の正方晶と強誘電性・圧電性の消失温度であ
るキュリー温度を挟んで加熱冷却する工程(2)、又
は、キュリー温度以上の高温相である立方品の温度範囲
内で加熱冷却する工程(3)、又は、前記工程(1)、
(2)、(3)を適宜組み合わせた工程(4)を併用す
る工程を行い、次いで20℃〜200℃の温度範囲で4
00V/mm〜1500V/mmの直流電界を最大2時
間印加するか又は電界を印加したまま冷却する工程を行
い、分極方向に直交する方向の強誘電体ドメインの方向
を制御し、ドメイン制御圧電体単結晶素子を製造するこ
とを特徴とする圧電単結晶素子の製造方法。
Priority Applications (10)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002083702A JP3987744B2 (ja) | 2002-03-25 | 2002-03-25 | ドメイン制御圧電単結晶素子 |
US10/246,400 US6756238B2 (en) | 2002-03-25 | 2002-09-19 | Domain controlled piezoelectric single crystal and fabrication method therefor |
KR20020057743A KR100921301B1 (ko) | 2002-03-25 | 2002-09-24 | 도메인제어 압전단결정소자 |
SG200205771A SG115497A1 (en) | 2002-03-25 | 2002-09-24 | Domain controlled piezoelectric single crystal and fabrication method therefor |
EP20060001261 EP1655789B1 (en) | 2002-03-25 | 2002-09-25 | Domain controlled piezoelectric single crystal and fabrication method therefor |
CNB021434298A CN100385701C (zh) | 2002-03-25 | 2002-09-25 | 畴控制压电单晶元件 |
EP20020256636 EP1349220B1 (en) | 2002-03-25 | 2002-09-25 | Domain controlled piezoelectric single crystal |
DE60228508T DE60228508D1 (de) | 2002-03-25 | 2002-09-25 | Piezoelektrischer Einkristall mit Domänenkontrolle und dessen Herstellungsverfahren |
DE2002616039 DE60216039T2 (de) | 2002-03-25 | 2002-09-25 | Piezoelektrischer Einkristall mit kontrollierter Domänenstruktur |
KR1020090052380A KR100947156B1 (ko) | 2002-03-25 | 2009-06-12 | 도메인제어 압전단결정소자 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002083702A JP3987744B2 (ja) | 2002-03-25 | 2002-03-25 | ドメイン制御圧電単結晶素子 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2003282986A true JP2003282986A (ja) | 2003-10-03 |
JP3987744B2 JP3987744B2 (ja) | 2007-10-10 |
Family
ID=27800407
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2002083702A Expired - Fee Related JP3987744B2 (ja) | 2002-03-25 | 2002-03-25 | ドメイン制御圧電単結晶素子 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6756238B2 (ja) |
EP (2) | EP1655789B1 (ja) |
JP (1) | JP3987744B2 (ja) |
KR (2) | KR100921301B1 (ja) |
CN (1) | CN100385701C (ja) |
DE (2) | DE60216039T2 (ja) |
SG (1) | SG115497A1 (ja) |
Cited By (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005005698A (ja) * | 2003-05-21 | 2005-01-06 | Jfe Mineral Co Ltd | 圧電単結晶素子とその製造方法 |
WO2005064699A1 (ja) * | 2003-12-26 | 2005-07-14 | Jfe Mineral Company | 圧電デバイス |
WO2005106986A1 (ja) * | 2004-04-30 | 2005-11-10 | Jfe Mineral Company, Ltd. | 圧電単結晶素子およびその製造方法 |
JP2005322673A (ja) * | 2004-05-06 | 2005-11-17 | Jfe Mineral Co Ltd | 圧電単結晶素子およびその製造方法 |
JP2007036142A (ja) * | 2005-07-29 | 2007-02-08 | Seiko Epson Corp | 圧電素子、圧電アクチュエーター、インクジェット式記録ヘッド、およびインクジェットプリンター |
WO2007023985A1 (ja) * | 2005-08-23 | 2007-03-01 | Canon Kabushiki Kaisha | 圧電体素子、それを用いた液体吐出ヘッド、および液体吐出装置 |
KR101305271B1 (ko) * | 2012-03-22 | 2013-09-06 | 한국기계연구원 | 자기전기 복합체 |
JP2015128090A (ja) * | 2013-12-27 | 2015-07-09 | 株式会社ユーテック | 熱ポーリング方法、圧電体膜及びその製造方法、熱ポーリング装置、圧電特性の検査方法 |
JP2021057388A (ja) * | 2019-09-27 | 2021-04-08 | テイカ株式会社 | 圧電単結晶素子、その製造方法およびその用途 |
JP7406876B2 (ja) | 2018-10-17 | 2023-12-28 | キヤノン株式会社 | 圧電トランス、および電子機器 |
Families Citing this family (20)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
ATE308119T1 (de) * | 2002-02-01 | 2005-11-15 | Siemens Ag | Verfahren zum vorbehandeln einer piezoelektrischen keramik und verfahren zum justieren eines einspritzventils |
KR100628812B1 (ko) * | 2003-05-21 | 2006-09-26 | 제이에프이 미네랄 가부시키가이샤 | 압전단결정 소자와 그 제조방법 |
US7402938B2 (en) * | 2004-10-29 | 2008-07-22 | Jfe Mineral Co., Ltd. | Piezoelectric single crystal device |
DE102005043037B4 (de) * | 2005-09-09 | 2009-04-09 | Siemens Ag | Vorrichtung mit piezoakustischem Resonatorelement, Verfahren zu dessen Herstellung und Verfahren zur Ausgabe eines Signals in Abhängigkeit einer Resonanzfrequenz |
JP5307986B2 (ja) * | 2007-05-07 | 2013-10-02 | 富士フイルム株式会社 | 圧電素子とその製造方法、及び液体吐出装置 |
JP5065763B2 (ja) * | 2007-05-18 | 2012-11-07 | Jfeミネラル株式会社 | 圧電単結晶素子 |
US8818193B2 (en) * | 2009-09-29 | 2014-08-26 | Finisar Corporation | Multichannel tunable optical dispersion compensator |
WO2012021608A2 (en) | 2010-08-10 | 2012-02-16 | Trs Technologies, Inc. | Temperature and field stable relaxor-pt piezoelectric single crystals |
US8987976B2 (en) * | 2011-09-23 | 2015-03-24 | Qualcomm Incorporated | Piezoelectric resonator having combined thickness and width vibrational modes |
JP6073600B2 (ja) * | 2012-08-28 | 2017-02-01 | 東芝メディカルシステムズ株式会社 | 超音波プローブおよび圧電振動子 |
JP6091951B2 (ja) * | 2013-03-25 | 2017-03-08 | 東芝メディカルシステムズ株式会社 | 圧電振動子、超音波プローブ、圧電振動子製造方法および超音波プローブ製造方法 |
CN103346253B (zh) * | 2013-06-08 | 2015-01-21 | 西安交通大学 | 铁电单晶/环氧2-2结构及应力板加固的2-2结构复合材料 |
CN105256376B (zh) * | 2015-11-18 | 2017-12-22 | 中国科学技术大学 | 一种控制铁电单晶电致形变取向的方法 |
CN107512910B (zh) * | 2016-06-16 | 2019-11-26 | 中国科学院福建物质结构研究所 | 一种三元弛豫铁电压电材料铌镥酸铅-铌镍酸铅-钛酸铅及其制备方法和应用 |
US11039814B2 (en) | 2016-12-04 | 2021-06-22 | Exo Imaging, Inc. | Imaging devices having piezoelectric transducers |
CN109037432B (zh) * | 2018-07-24 | 2022-05-13 | 歌尔微电子股份有限公司 | 压电元件变温极化装置及方法 |
US11971477B2 (en) | 2018-09-25 | 2024-04-30 | Exo Imaging, Inc. | Imaging devices with selectively alterable characteristics |
EP3931636A4 (en) | 2020-03-05 | 2023-02-22 | Exo Imaging Inc. | ULTRASOUND IMAGING DEVICE WITH PROGRAMMABLE ANATOMY AND FLOW IMAGING |
CN111740005B (zh) * | 2020-06-17 | 2022-05-24 | 上海新硅聚合半导体有限公司 | 一种压电薄膜高温极化方法 |
US11545615B2 (en) * | 2020-09-09 | 2023-01-03 | Baker Hughes Oilfield Operations Llc | Method for manufacturing piezoelectric instrumentation devices with 3D structures using additive manufacturing |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3258111B2 (ja) | 1992-02-12 | 2002-02-18 | 株式会社東芝 | 超音波送受信素子、超音波プローブおよび超音波治療装置用送波器 |
US5295487A (en) * | 1992-02-12 | 1994-03-22 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Ultrasonic probe |
JPH07240546A (ja) * | 1994-02-28 | 1995-09-12 | Toyota Central Res & Dev Lab Inc | 大変位用圧電セラミックスおよび圧電セラミックスの分極処理方法 |
JP2001106569A (ja) * | 1995-10-09 | 2001-04-17 | Ngk Insulators Ltd | 電界誘起歪み材料 |
JP2001509312A (ja) * | 1997-01-28 | 2001-07-10 | ザ ペンステート リサーチファウンデーション | 超音波変換器のためのリラクサー強誘電体単結晶 |
US6231779B1 (en) * | 1997-10-20 | 2001-05-15 | Massachusetts Institute Of Technology | Piezoelectric actuators and method of making same |
JP3345580B2 (ja) * | 1998-03-05 | 2002-11-18 | 株式会社東芝 | 超音波プローブの製造方法 |
US6491889B2 (en) * | 2000-04-03 | 2002-12-10 | Ibule Photonics Co., Ltd. | Ferroelectric single crystal wafer and process for the preparation thereof |
KR100384442B1 (ko) * | 2000-04-03 | 2003-05-22 | (주)아이블포토닉스 | 신규의 복합 금속 화합물 및 이의 제조방법 |
-
2002
- 2002-03-25 JP JP2002083702A patent/JP3987744B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2002-09-19 US US10/246,400 patent/US6756238B2/en not_active Expired - Lifetime
- 2002-09-24 SG SG200205771A patent/SG115497A1/en unknown
- 2002-09-24 KR KR20020057743A patent/KR100921301B1/ko active IP Right Grant
- 2002-09-25 EP EP20060001261 patent/EP1655789B1/en not_active Expired - Fee Related
- 2002-09-25 DE DE2002616039 patent/DE60216039T2/de not_active Expired - Lifetime
- 2002-09-25 CN CNB021434298A patent/CN100385701C/zh not_active Expired - Fee Related
- 2002-09-25 DE DE60228508T patent/DE60228508D1/de not_active Expired - Lifetime
- 2002-09-25 EP EP20020256636 patent/EP1349220B1/en not_active Expired - Lifetime
-
2009
- 2009-06-12 KR KR1020090052380A patent/KR100947156B1/ko not_active IP Right Cessation
Cited By (19)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005005698A (ja) * | 2003-05-21 | 2005-01-06 | Jfe Mineral Co Ltd | 圧電単結晶素子とその製造方法 |
JP4508725B2 (ja) * | 2003-05-21 | 2010-07-21 | Jfeミネラル株式会社 | 圧電単結晶素子とその製造方法 |
WO2005064699A1 (ja) * | 2003-12-26 | 2005-07-14 | Jfe Mineral Company | 圧電デバイス |
KR100797214B1 (ko) * | 2004-04-30 | 2008-01-23 | 제이에프이미네라르 가부시키가이샤 | 압전 단결정소자 및 그 제조방법 |
WO2005106986A1 (ja) * | 2004-04-30 | 2005-11-10 | Jfe Mineral Company, Ltd. | 圧電単結晶素子およびその製造方法 |
JP2005317831A (ja) * | 2004-04-30 | 2005-11-10 | Jfe Mineral Co Ltd | 圧電単結晶素子およびその製造方法 |
JP4568529B2 (ja) * | 2004-04-30 | 2010-10-27 | Jfeミネラル株式会社 | 圧電単結晶素子 |
JP4613032B2 (ja) * | 2004-05-06 | 2011-01-12 | Jfeミネラル株式会社 | 圧電単結晶素子およびその製造方法 |
WO2005109537A1 (ja) * | 2004-05-06 | 2005-11-17 | Jfe Mineral Company,Ltd. | 圧電単結晶素子およびその製造方法 |
JP2005322673A (ja) * | 2004-05-06 | 2005-11-17 | Jfe Mineral Co Ltd | 圧電単結晶素子およびその製造方法 |
US7888848B2 (en) | 2004-05-06 | 2011-02-15 | Jfe Mineral Company, Ltd. | Piezoelectric single crystal device and fabrication method thereof |
JP2007036142A (ja) * | 2005-07-29 | 2007-02-08 | Seiko Epson Corp | 圧電素子、圧電アクチュエーター、インクジェット式記録ヘッド、およびインクジェットプリンター |
US7309950B1 (en) | 2005-08-23 | 2007-12-18 | Canon Kabushiki Kaisha | Piezoelectric device, liquid discharge head employing this device and liquid discharge apparatus |
WO2007023985A1 (ja) * | 2005-08-23 | 2007-03-01 | Canon Kabushiki Kaisha | 圧電体素子、それを用いた液体吐出ヘッド、および液体吐出装置 |
KR101305271B1 (ko) * | 2012-03-22 | 2013-09-06 | 한국기계연구원 | 자기전기 복합체 |
JP2015128090A (ja) * | 2013-12-27 | 2015-07-09 | 株式会社ユーテック | 熱ポーリング方法、圧電体膜及びその製造方法、熱ポーリング装置、圧電特性の検査方法 |
JP7406876B2 (ja) | 2018-10-17 | 2023-12-28 | キヤノン株式会社 | 圧電トランス、および電子機器 |
JP2021057388A (ja) * | 2019-09-27 | 2021-04-08 | テイカ株式会社 | 圧電単結晶素子、その製造方法およびその用途 |
JP7369504B2 (ja) | 2019-09-27 | 2023-10-26 | テイカ株式会社 | 圧電単結晶素子の製造方法、超音波送受信素子の製造方法および超音波プローブの製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
SG115497A1 (en) | 2005-10-28 |
EP1349220A3 (en) | 2005-04-13 |
JP3987744B2 (ja) | 2007-10-10 |
EP1349220B1 (en) | 2006-11-15 |
US20030178914A1 (en) | 2003-09-25 |
KR20030077924A (ko) | 2003-10-04 |
EP1349220A2 (en) | 2003-10-01 |
EP1655789B1 (en) | 2008-08-20 |
DE60216039T2 (de) | 2007-05-24 |
DE60228508D1 (de) | 2008-10-02 |
KR100921301B1 (ko) | 2009-10-09 |
KR20090081354A (ko) | 2009-07-28 |
US6756238B2 (en) | 2004-06-29 |
DE60216039D1 (de) | 2006-12-28 |
KR100947156B1 (ko) | 2010-03-12 |
CN100385701C (zh) | 2008-04-30 |
CN1447455A (zh) | 2003-10-08 |
EP1655789A1 (en) | 2006-05-10 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2003282986A (ja) | ドメイン制御圧電単結晶素子及びその製造方法 | |
US5804907A (en) | High strain actuator using ferroelectric single crystal | |
JP5156065B2 (ja) | 圧電単結晶素子 | |
EP1479796B1 (en) | Piezoelectric single crystal device and fabrication method thereof | |
JP2001509312A (ja) | 超音波変換器のためのリラクサー強誘電体単結晶 | |
JP5013269B2 (ja) | 共振アクチュエータ | |
JP4613032B2 (ja) | 圧電単結晶素子およびその製造方法 | |
JP4568529B2 (ja) | 圧電単結晶素子 | |
JP4658773B2 (ja) | 圧電単結晶素子 | |
Park et al. | Relaxor-based ferroelectric single crystals for electromechanical actuators | |
Heywang et al. | The role of ferroelectricity for piezoelectric materials | |
Ogawa | Poling field dependence of ferroelectric properties in piezoelectric ceramics and single crystal | |
Ishihama et al. | Achieving High Piezoelectric Performance across a Wide Composition Range in Tetragonal (Bi, Na) TiO3–BaTiO3 Films for Micro-electromechanical Systems | |
Sébald et al. | Stability of morphotropic< 110> oriented 0.65 PMN-0.35 PT single crystals | |
Fuierer et al. | Electric field assisted hot forging of bismuth titanate | |
Kato et al. | Chemical Composition Dependence of Giant Piezoelectricity on k31 Mode in Pb (Mg1/3Nb2/3) O3–PbTiO3 Single Crystals | |
CN102443850B (zh) | 铁电晶体铌镁酸铅-锡酸铅-钛酸铅及其制备方法和用途 | |
KR20210007146A (ko) | 납-금속 화합물 단결정의 개질방법 | |
Heywang et al. | High effective lead perovskite ceramics and single crystals for ultrasonic imaging | |
Cross et al. | Complete Thermodynamic Phenomenologies for Lead Zinc Niobate: Lead Titanate (PZN: PT) and the Lead Magnesium Niobate: Lead Titanate (PMT: PT) Single Crystal System | |
Ferroelectric | MATERIALS STUDIES |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20040916 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20060726 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20060815 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20061016 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20061017 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20070306 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20070426 |
|
A911 | Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20070625 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20070710 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20070713 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 3987744 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100720 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110720 Year of fee payment: 4 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110720 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120720 Year of fee payment: 5 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120720 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130720 Year of fee payment: 6 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |