JP2004531577A - シクロヘキサノール誘導体の調製法 - Google Patents
シクロヘキサノール誘導体の調製法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2004531577A JP2004531577A JP2003507059A JP2003507059A JP2004531577A JP 2004531577 A JP2004531577 A JP 2004531577A JP 2003507059 A JP2003507059 A JP 2003507059A JP 2003507059 A JP2003507059 A JP 2003507059A JP 2004531577 A JP2004531577 A JP 2004531577A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- alkyl
- formula
- compound
- ene
- hydrogen
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Ceased
Links
- HPXRVTGHNJAIIH-PTQBSOBMSA-N cyclohexanol Chemical class O[13CH]1CCCCC1 HPXRVTGHNJAIIH-PTQBSOBMSA-N 0.000 title abstract description 15
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 title description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 26
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 25
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims abstract description 11
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 30
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 21
- 125000002524 organometallic group Chemical group 0.000 claims description 17
- PACGLQCRGWFBJH-UHFFFAOYSA-N 2-(4-methoxyphenyl)acetonitrile Chemical compound COC1=CC=C(CC#N)C=C1 PACGLQCRGWFBJH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 13
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 13
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 11
- FVKFHMNJTHKMRX-UHFFFAOYSA-N 3,4,6,7,8,9-hexahydro-2H-pyrimido[1,2-a]pyrimidine Chemical compound C1CCN2CCCNC2=N1 FVKFHMNJTHKMRX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 claims description 7
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 7
- KYVBNYUBXIEUFW-UHFFFAOYSA-N 1,1,3,3-tetramethylguanidine Chemical compound CN(C)C(=N)N(C)C KYVBNYUBXIEUFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 claims description 6
- SGUVLZREKBPKCE-UHFFFAOYSA-N 1,5-diazabicyclo[4.3.0]-non-5-ene Chemical compound C1CCN=C2CCCN21 SGUVLZREKBPKCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- LMBFAGIMSUYTBN-MPZNNTNKSA-N teixobactin Chemical compound C([C@H](C(=O)N[C@@H]([C@@H](C)CC)C(=O)N[C@@H](CO)C(=O)N[C@H](CCC(N)=O)C(=O)N[C@H]([C@@H](C)CC)C(=O)N[C@@H]([C@@H](C)CC)C(=O)N[C@@H](CO)C(=O)N[C@H]1C(N[C@@H](C)C(=O)N[C@@H](C[C@@H]2NC(=N)NC2)C(=O)N[C@H](C(=O)O[C@H]1C)[C@@H](C)CC)=O)NC)C1=CC=CC=C1 LMBFAGIMSUYTBN-MPZNNTNKSA-N 0.000 claims description 5
- OEBXWWBYZJNKRK-UHFFFAOYSA-N 1-methyl-2,3,4,6,7,8-hexahydropyrimido[1,2-a]pyrimidine Chemical compound C1CCN=C2N(C)CCCN21 OEBXWWBYZJNKRK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 4
- 230000029936 alkylation Effects 0.000 claims description 3
- 238000005804 alkylation reaction Methods 0.000 claims description 3
- 150000001409 amidines Chemical class 0.000 claims description 3
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 3
- 125000002252 acyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000004423 acyloxy group Chemical group 0.000 claims description 2
- 239000007810 chemical reaction solvent Substances 0.000 claims description 2
- 150000002357 guanidines Chemical class 0.000 claims description 2
- 239000002815 homogeneous catalyst Substances 0.000 claims description 2
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims description 2
- 125000001475 halogen functional group Chemical group 0.000 claims 1
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims 1
- 125000002023 trifluoromethyl group Chemical group FC(F)(F)* 0.000 claims 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 abstract description 11
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 36
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 21
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 20
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 239000008213 purified water Substances 0.000 description 17
- ASYJSBPNAIDUHX-UHFFFAOYSA-N 2-(1-hydroxycyclohexyl)-2-(4-methoxyphenyl)acetonitrile Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1C(C#N)C1(O)CCCCC1 ASYJSBPNAIDUHX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 15
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 12
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 10
- MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N N-Butyllithium Chemical compound [Li]CCCC MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- HPXRVTGHNJAIIH-UHFFFAOYSA-N cyclohexanol Chemical compound OC1CCCCC1 HPXRVTGHNJAIIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- ZCSHNCUQKCANBX-UHFFFAOYSA-N lithium diisopropylamide Chemical compound [Li+].CC(C)[N-]C(C)C ZCSHNCUQKCANBX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 8
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 description 7
- SUSQOBVLVYHIEX-UHFFFAOYSA-N o-phenylene-diaceto-nitrile Natural products N#CCC1=CC=CC=C1 SUSQOBVLVYHIEX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 7
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 6
- -1 phenylacetonitrile anion Chemical class 0.000 description 6
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 5
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 4
- 238000004880 explosion Methods 0.000 description 4
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 4
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 4
- 0 CCC1C=C*CC1C Chemical compound CCC1C=C*CC1C 0.000 description 3
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 3
- 238000000262 chemical ionisation mass spectrometry Methods 0.000 description 3
- UAOMVDZJSHZZME-UHFFFAOYSA-N diisopropylamine Chemical compound CC(C)NC(C)C UAOMVDZJSHZZME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000001819 mass spectrum Methods 0.000 description 3
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 3
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 3
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 3
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 3
- 125000004172 4-methoxyphenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(OC([H])([H])[H])=C([H])C([H])=C1* 0.000 description 2
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZRALSGWEFCBTJO-UHFFFAOYSA-N Guanidine Chemical compound NC(N)=N ZRALSGWEFCBTJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WQDUMFSSJAZKTM-UHFFFAOYSA-N Sodium methoxide Chemical compound [Na+].[O-]C WQDUMFSSJAZKTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 2
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 2
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 2
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 2
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 2
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 2
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 2
- 238000005984 hydrogenation reaction Methods 0.000 description 2
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 2
- 238000005191 phase separation Methods 0.000 description 2
- QZAYGJVTTNCVMB-UHFFFAOYSA-N serotonin Chemical compound C1=C(O)C=C2C(CCN)=CNC2=C1 QZAYGJVTTNCVMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SFLSHLFXELFNJZ-QMMMGPOBSA-N (-)-norepinephrine Chemical compound NC[C@H](O)C1=CC=C(O)C(O)=C1 SFLSHLFXELFNJZ-QMMMGPOBSA-N 0.000 description 1
- AXQUONJGMAVWJA-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,3,3-pentabutylguanidine Chemical compound CCCCN=C(N(CCCC)CCCC)N(CCCC)CCCC AXQUONJGMAVWJA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ISNICOKBNZOJQG-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,3,3-pentamethylguanidine Chemical compound CN=C(N(C)C)N(C)C ISNICOKBNZOJQG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FXJRXJXSLXNGBY-UHFFFAOYSA-N 1,1,3,3-tetrabutylguanidine Chemical compound CCCCN(CCCC)C(=N)N(CCCC)CCCC FXJRXJXSLXNGBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GVNVAWHJIKLAGL-UHFFFAOYSA-N 2-(cyclohexen-1-yl)cyclohexan-1-one Chemical compound O=C1CCCCC1C1=CCCCC1 GVNVAWHJIKLAGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N Ammonia chloride Chemical class [NH4+].[Cl-] NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 1
- 101150065749 Churc1 gene Proteins 0.000 description 1
- ZAFNJMIOTHYJRJ-UHFFFAOYSA-N Diisopropyl ether Chemical group CC(C)OC(C)C ZAFNJMIOTHYJRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SUQHIQRIIBKNOR-UHFFFAOYSA-N N,N-didesmethylvenlafaxine Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1C(CN)C1(O)CCCCC1 SUQHIQRIIBKNOR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CHJJGSNFBQVOTG-UHFFFAOYSA-N N-methyl-guanidine Natural products CNC(N)=N CHJJGSNFBQVOTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- 102100038239 Protein Churchill Human genes 0.000 description 1
- KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N Sodium Chemical compound [Na] KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001430 anti-depressive effect Effects 0.000 description 1
- 239000000935 antidepressant agent Substances 0.000 description 1
- 229940005513 antidepressants Drugs 0.000 description 1
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 1
- 229940043279 diisopropylamine Drugs 0.000 description 1
- SWSQBOPZIKWTGO-UHFFFAOYSA-N dimethylaminoamidine Natural products CN(C)C(N)=N SWSQBOPZIKWTGO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- 230000002401 inhibitory effect Effects 0.000 description 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 1
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 239000002858 neurotransmitter agent Substances 0.000 description 1
- 229960002748 norepinephrine Drugs 0.000 description 1
- SFLSHLFXELFNJZ-UHFFFAOYSA-N norepinephrine Natural products NCC(O)C1=CC=C(O)C(O)=C1 SFLSHLFXELFNJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 238000004445 quantitative analysis Methods 0.000 description 1
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 1
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 description 1
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940076279 serotonin Drugs 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- ODZPKZBBUMBTMG-UHFFFAOYSA-N sodium amide Chemical compound [NH2-].[Na+] ODZPKZBBUMBTMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QDRKDTQENPPHOJ-UHFFFAOYSA-N sodium ethoxide Chemical compound [Na+].CC[O-] QDRKDTQENPPHOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012312 sodium hydride Substances 0.000 description 1
- 229910000104 sodium hydride Inorganic materials 0.000 description 1
- PNVNVHUZROJLTJ-UHFFFAOYSA-N venlafaxine Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1C(CN(C)C)C1(O)CCCCC1 PNVNVHUZROJLTJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960004688 venlafaxine Drugs 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C253/00—Preparation of carboxylic acid nitriles
- C07C253/30—Preparation of carboxylic acid nitriles by reactions not involving the formation of cyano groups
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C2601/00—Systems containing only non-condensed rings
- C07C2601/12—Systems containing only non-condensed rings with a six-membered ring
- C07C2601/14—The ring being saturated
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
Description
発明の背景
発明の分野
本発明は、1-[シアノ(4-メトキシフェニル)メチル]シクロヘキサノールなどのシクロヘキサノール誘導体の調製法に関する。
関連分野の背景
1-[シアノ(4-メトキシフェニル)メチル] シクロヘキサノールなどのシクロヘキサノール誘導体は、神経伝達物質、ノルエピネフリンおよびセロトニンの再取り込みを阻害することにより抗鬱作用を有するベンラファキシンなどの化合物を作製するための有用な中間体である。 米国特許第4,535,186号に記載されているように、シクロヘキサノール誘導体は、シクロアルカノンまたはシクロアルケノンの適当に置換された(オルトまたはパラ) フェニルアセトニトリルアニオンとの反応により作製することができる。
【0002】
U.S. 186 特許に開示されている調製法は、反応においてフェニルアセトニトリルアニオンを誘導するためのn-ブチルリチウムなどの有機金属塩基の使用を含む。有機金属塩基は高価であり、反応物の少なくとも1当量の量にて−50 ℃未満の低温にて用いられなければならず、発火または爆発の危険を伴って、水に感受性のある特性があり、50 %未満の低い製造収率しか得られない。それゆえ、有機金属塩基は産業規模での合成には実用的でないと考えられる。
【0003】
米国特許第5,043,466号は、以下の反応メカニズムに示されているように、リチウムジイソプロピルアミドなどの有機金属塩基を用いるシクロヘキサノール誘導体の調製法を開示する。 U.S. 466 特許は、 反応温度および収率を改善するために、炭化水素溶媒の混合比を変更するが、塩基、リチウムジイソプロピルアミドが非常に高価で扱いにくく、発火または爆発の危険性があり得るために産業規模での合成には実用的でないという問題は依然として残る。
【0004】
【化1】
【0005】
中国特許公開第1225356 (CNO1225356A)号は、0 − 5℃の範囲に反応温度を高めるための、シクロヘキサノール誘導体の調製におけるナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、水素化ナトリウムおよびナトリウムアミドなどの塩基の使用を開示する。 しかし、開示される塩基は、反応物質の少なくとも1当量の量にて用いられ、さらに、それらもまた発火または爆発の傾向があるので危険である。
【0006】
前記の公知方法には、2つの工程、即ち、フェニルアセトニトリルを塩基と反応させてアニオンを作製すること、次いでアニオンをケトン化合物とカップリングさせることを含む。特に、アニオン-作製工程における反応は、工程の終了時点の決定および作製されたアニオンの定量分析に関していくらかの困難を含む。そのような問題のために、カップリング工程における収率に変化が生じ、それゆえ、この理由のために産業上利用も、困難である。
【0007】
発明の概要
従って、本発明は、従来技術の問題および不都合を実質上克服するシクロヘキサノール誘導体の調製法に関する。
本発明の目的は、経済的かつ合理的な大量生産を可能とするための、フェニルアセトニトリルのシクロヘキサノンとの反応によるシクロヘキサノール誘導体の調製法を提供することである。
本発明の他の目的は、発火または爆発の危険のない安全かつ環境にやさしい、そして反応物質が一つの反応において全て混合されるために、常套の合成よりも簡単な、シクロヘキサノール誘導体の調製法を提供することである。
【0008】
本発明の1つの態様は、式 I:
【化2】
【0009】
(式中、R6およびR7は、水素、ヒドロキシル、C1-C6アルキル、C1-C6アルコキシ、C7-C9アラルコキシ、 C2-C7アルカノイルオキシ、 C1-C6アルキルメルカプト、ハロまたはトリフルオロメチルから独立に選択されるオルトまたはパラ置換体であり; R8は、水素またはC1-C6アルキル; pは、整数0、1、2、3 または 4の1つ;およびR9は、水素またはC1-C6アルキルである)のシクロヘキサノール誘導体の調製法であって、
【0010】
式IIの化合物を式 IIIの化合物と、式 IVまたはVにより示される非-有機金属塩基性触媒の存在下、反応溶媒の存在または不在下に反応させること;
【0011】
【化3】
【0012】
【化4】
【0013】
[式中、A は-(CH2)n(nは、2 − 4の整数である); B は、-(CH2)m- (式中、 m は、2 − 5の整数) ; X は、CH2、O、 NH または NR'(式中、R'は C1-C4アルキルまたはアシル、または アルキル担持ポリマー ; R1− R4のそれぞれは独立に、水素、アルキル、シクロアルキルまたはアルキルまたはシクロアルキル担持ポリマー、および R1- R4の全てが水素ではなく、および R5は、アルキル、シクロアルキル、またはアルキルまたはシクロアルキル担持ポリマーである]を含み、およびR9がアルキルの場合、アルキル基をアルキル化により導入する方法である。
【0014】
本発明に用いられる非-有機金属塩基は、IV またはVにより示されるアミジンまたはグアニジンを含む。より詳細には、本発明の非-有機金属塩基の例には、アミジン、例えば1,8-ジアザビシクロ [5,4,0]アンデク-7-エン (DBU)および1,5-ジアザビシクロ[4,3,0]ノン-5-エン (DBN); 環状グアニジン、例えば、1,5,7-トリアザビシクロ[4,4,0]デク-5-エン (TBD)および7-メチル-1,5,7-トリアザビシクロ[4,4,0]デク-5-エン (MTBD); アルキルグアニジン、例えばテトラメチルグアニジン (TMG)、テトラブチルグアニジン、ペンタメチルグアニジン、ペンタブチルグアニジンおよびN'-ブチル-N",N"-ジシクロヘキシルグアニジンが含まれる。本発明の塩基性触媒は均一系触媒であってよく、またはポリマー担持体(例えばポリスチレン)または無機担持体(例えば、シリカ)に固定されたアミジン-またはグアニジン-に基く有機アミン塩基を含んでいる触媒であってよい。本発明の非-有機金属塩基は、前記の塩基から成る群から選択される少なくとも1つである。
【0015】
用いられる非-有機金属塩基の量は特に制限されず、式 IIの化合物の1当量に対して約0.0001〜約2当量、およびより好ましくは、約0.005〜0.5当量の範囲にあってよい。本発明の反応は、塩基性触媒を触媒量でのみいて首尾よく達成し得、これは好都合である。
本発明は、常套の合成において所望される炭化水素またはエーテルを含む有機溶媒を用いなくてもよい。有機溶媒を用いるか否かは、当業者により決定されてもよいが、有機溶媒を使用しないことが一般的には好ましい。
【0016】
式 Iにより示される1-[シアノ(4-メトキシフェニル)メチル]シクロヘキサノールなどのシクロヘキサノール誘導体の調製において、反応温度は、好ましくは約−20 〜 80℃の範囲内であり、より好ましくは約10 〜 30℃の範囲内である。 本発明の方法は、室温においても行うことができ、これは好都合である。
【0017】
本発明により、適当に置換されたパラ-フェニルアセトニトリルのシクロヘキサノンとの、非-有機金属アミン塩基(例えば DBU、DBN、TBN、MTBD、TMGまたは N'-ブチル-N",N"-ジシクロヘキシルグアニジン)の存在下での、反応メカニズムIに従う反応によるシクロヘキサノール誘導体の調製法が提供される。
【0018】
【化5】
【0019】
前記反応において、R6〜 R9、および pは前に定義したものと同じであり、およびR9がアルキルである場合、それはアルキル化により導入する。
【0020】
式 Iに示す1-[シアノ(4-メトキシフェニル)メチル]シクロヘキサノールなどのシクロヘキサノール誘導体の調製において、アミン塩基であるDBU、DBN、TBD、MTBD、TMGまたはN'-ブチル-N",N"-ジシクロヘキシルグアニジンなどの非-有機金属塩基をフェニルアセトニトリルアニオンを誘導するための常套のプロセスに用いられるn-ブチルリチウムまたはリチウムジイソプロピルアミドなどの有機金属塩基の代わりに用いる。比較的安価で、水素化に対する反応性が低く、室温にて操作可能な、発火または爆発のリスクのない比較的少量の非-有機金属塩基の使用により、安全かつ比較的簡単な工業プロセスによる大量生産が可能となる。本発明において必要とされるのは触媒量の非-有機金属塩基のみであり、これにより、高度に純粋な、高収量のシクロヘキサノール誘導体が生じる。
本発明の方法はさらに、有機溶媒の使用が回避されるので、より簡単であり、そして有機金属副産物の産生を伴わず、環境にやさしい。
【0021】
好ましい具体例の詳細な記載
本発明を、以下の実施例を引用してここに詳細に示すが、これらは本発明の範囲を制限するものではない。
【0022】
実施例 1
100 g(0.68 モル)のp-メトキシフェニルアセトニトリル、100 g (1.02 モル)のシクロヘキサノンおよび32 g (0.21 モル)の1,8-ジアザビシクロ[5,4,0]アンデク-7-エン (DBU)をフラスコに添加し、15〜20 ℃にて、48時間攪拌しながら維持した。1NのHC1を次いで、pHを酸のレベルへと調節するために、生じた溶液に添加した。室温にて1時間攪拌後、生じた沈殿を濾過により分離し、次いで精製水で洗浄し、エチルアセテートおよびn-ヘキサンで洗浄して、標的化合物としての収量140 gの白色固体、1-[シアノ(4-メトキシフェニル)メチル]シクロヘキサノール (収率 84%, 融点 123.7 ℃)を得た。
【0023】
1H NMR 分析 (DMSO-d6) : δ 7.27-6.93 (4H, q, 芳香族). 4.85 (1H, s, OH), 4.05 (3H, s, OCH3), 3.76 (1H, s, CHCN), 1.69-1.08 (10H, m, シクロヘキシル)
1H NMR 分析 (CDCl3) : δ 7.23-6.89 (4H, q, 芳香族). 3.82 (3H, s, OCH3), 3.73 (1H, s, CHCN), 1.72-1.16 (10H, m, シクロヘキシル)
【0024】
13C NMR 分析 (DMSO-d6) : δ 159.4, 131.3, 125.8, 121.4, 114.1, 72.2, 55.8, 48.8, 36.0, 34.7, 25.9, 22.0, 21.9
マススペクトル 分析: 分子量 245 [M+ C.I.M.S.による]
IR (KBr パレット) : 3408 cm-1(-OH), 2249 cm-1(-CN)
【0025】
実施例 2
52.7 g (0.36 モル)のp-メトキシフェニルアセトニトリル、35.8 g (0.36 モル) のシクロヘキサノンおよび28.6 g (0.19 モル)の1,8-ジアザビシクロ[5,4,0]アンデク-7-エンをフラスコに添加し、 15〜20 ℃にて90 時間攪拌しながら維持した。1NのHC1を次いで生じた溶液に、pHを酸レベルへと調節するために添加した。1時間室温にて攪拌後、生じた沈殿を濾過により分離し、精製水、次いでエチルアセテートおよび n-ヘキサンにて洗浄し、標的化合物として収量 62 gの白色固体、1-[シアノ(4-メトキシフェニル)メチル]シクロヘキサノールを得た(収率 70%)。
【0026】
実施例 3
1,8-ジアザビシクロ[5,4,0]アンデク-7-エンの0.5当量を6日の反応に用いること以外は、実施例 1に記載する同じ方法にて工程を行い、標的化合物として収量67gの白色固体、1-[シアノ(4-メトキシフェニル)メチル]シクロヘキサノールを得た(収率 80%)。
【0027】
実施例 4
100 g (0.68 モル)のp-メトキシフェニルアセトニトリル、167 g (1.70 モル)のシクロヘキサノンおよび52 g (0.34 モル)の1,8-ジアザビシクロ[5,4,0]アンデク-7-エンをフラスコに添加し、0 ℃にて60 時間攪拌しながら維持した。1N HClを次いで反応溶液に、pHを酸のレベルへと調節するために添加した。1時間室温にて攪拌後、生じた沈殿を濾過により分離し、精製水、次いでエチルアセテートおよびn-ヘキサンにて洗浄し、標的化合物としての収量147 gの白色固体、1-[シアノ(4-メトキシフェニル)メチル]シクロヘキサノールを得た(収率 88%)。
【0028】
実施例 5
1,8-ジアザビシクロ[5,4,0]アンデク-7-エンの0.5当量を8時間の反応に用いた以外は、実施例1に記載する同じ方法にて操作を行い、標的化合物としての収量 116 gの白色固体、1-[シアノ(4-メトキシフェニル)メチル]シクロヘキサノールを得た(収率 70%)。
【0029】
実施例 6
25.4 g (0.17 モル)のp-メトキシフェニルアセトニトリル、41.8 g (0.42 モル)のシクロヘキサノンおよび13.2 g (0.087 モル)の1,8-ジアザビシクロ[5,4,0]アンデク-7-エンをフラスコに添加し、 25 ℃にて24 時間攪拌しながら維持した。1N HClを次いで反応溶液に、pHを酸のレベルへと調節するために添加した。50mlのメチルアルコールを添加し、次いで1時間室温にて攪拌後、生じた沈殿を濾過により分離し、精製水、次いでエチルアセテートおよびn-ヘキサンで洗浄して、標的化合物としての収量 23.7 gの白色固体、1-[シアノ(4-メトキシフェニル)メチル]シクロヘキサノールを得た(収率 56.1%)。
【0030】
実施例 7
50.3 g (0.34 モル)のp-メトキシフェニルアセトニトリル、34.8 g (0.35 モル)のシクロヘキサノンおよび43.3g (0.35 モル)の1,5-ジアザビシクロ[4,3,0]ノン-5-エン (DBN)をフラスコに添加し、20 〜 25℃にて90時間攪拌しながら維持した。生じた溶液に50 mlのメチルアルコールおよび200 mlの精製水を添加した。1時間室温にて攪拌後、生じた沈殿を濾過により分離し、精製水、次いでエチルアセテートおよびn-ヘキサンで洗浄して、標的化合物としての収量 116gの白色固体、1-[シアノ(4-メトキシフェニル) メチル]シクロヘキサノールを得た(収率 70%)。
【0031】
実施例 8
20 g (0.14 モル)のp-メトキシフェニルアセトニトリル、13.7 g (0.14 モル)のシクロヘキサノンおよび21.2 g (0.14 モル)の1,8-ジアザビシクロ[5,4,0]アンデク-7-エンをフラスコに添加し、100 mlのメチルアルコールで希釈し、次いで 15 〜 20 ℃へと20 時間攪拌しながら維持した。生じた溶液に20 mlのメチルアルコール、および150 mlの精製水を添加した。1時間室温にて攪拌後、生じた沈殿を濾過により分離し、精製水、次いでエチルアセテートおよびn-ヘキサンで洗浄して、標的化合物としての収量 17.4 gの白色固体、1-[シアノ(4-メトキシフェニル)メチル]シクロヘキサノール(収率 52%)を得た。
【0032】
実施例 9
1,8-ジアザビシクロ[5,4,0]アンデク-7-エンを6日の反応に用いる以外は実施例1に記載する同じ方法にて操作を行い、 標的化合物としての、収量76.1 gの白色固体、1-[シアノ(4-メトキシフェニル)メチル]シクロヘキサノールを得た(収率 90.5%)。
【0033】
実施例 10
25.4 g (0.17 モル)のp-メトキシフェニルアセトニトリル、83.6 g (0.85 モル) のシクロヘキサノンおよび26.7 g (0.17 モル)の1,8-ジアザビシクロ[5,4,0] アンデク7-エンをフラスコに添加し、20 〜 25 ℃にて 24 時間攪拌しながら維持した。生じた溶液に50 mlのメチルアルコールおよび 200 mlの精製水を添加した。1時間室温にて攪拌後、沈殿を濾過により分離し、精製水、およびエチルアセテートおよびn-ヘキサン にて洗浄し、標的化合物としての収量 18.0 gの白色固体、1-[シアノ(4-メトキシフェニル) メチル]シクロヘキサノールを得た(収率 42.6%)。
【0034】
実施例 11
35 〜40 ℃の範囲に反応温度を維持した以外は実施例1に記載する同じ方法にて操作を行い、標的化合物としての収量 30.6 gの白色固体、1-[シアノ(4-メトキシフェニル)メチル]シクロヘキサノール(収率 36.8%)を得た。
【0035】
実施例 12
100 g (0.68 モル)のp-メトキシフェニルアセトニトリル、100 g (1.02 モル)のシクロヘキサノンおよび0.47 g (0.0034 モル)の1,5,7-トリアザビシクロ[4,4,0]デク-5-エン(TBD)をフラスコに添加し、20 〜 25 ℃にて10 〜 12 時間攪拌しながら維持した。1NのHClを次いで生じた溶液に、pHを酸のレベルへと調節するために添加した。1時間室温にて攪拌後、生じた沈殿を濾過により分離し、精製水、次いでエチルアセテートおよびn-ヘキサンにて洗浄し、標的化合物としての、収量 128 gの白色固体、1-[シアノ(4-メトキシフェニル)メチル]シクロヘキサノールを得た(収率 77%)。
【0036】
実施例 13
実施例 1, 0.03当量の7- メチル-1, 5, 7-トリアザビシクロ [4, 4, 0]デク-5-エン (MTBD)を20 〜 22-時間の反応に用いた以外は実施例1に記載の同じ反応にて操作を行い、標的化合物としての収量 128 gの白色化合物、1-[シアノ(4-メトキシフェニル)メチル]シクロヘキサノールを得た(収率 77%)。
【0037】
実施例 14
50 g (0.34 モル)のp-メトキシフェニルアセトニトリル、50 g (0.51 モル) のシクロヘキサノンおよび0.24 g (0.0017 モル)の1, 5, 7-トリアザビシクロ[4, 4, 0] デク-5-エン (TBD)をフラスコに添加し、20 〜 25℃へと19 時間攪拌しながら維持した。反応混合物を500 ml のエチルアセテートに溶解し、200 mlの精製水の添加後、6N HC1で中和した。30 〜 35 ℃にての相分離後、有機溶媒を真空下に除去し、500 mlのエチルアセテートおよび200 mlの精製水を濾液に添加した。1時間室温にて攪拌後、生じた沈殿を濾過により分離し、精製水、次いでエチルアセテートおよびn-ヘキサンにて洗浄し、標的化合物としての収量74gの白色固体、1-[シアノ(4-メトキシフェニル)メチル]シクロヘキサノールを得た(収率 89%)。
【0038】
実施例 15
25 g (0.17 モル)の p-メトキシフェニルアセトニトリル、25 g (0.25 モル)のシクロヘキサノン および2.5g (0.0090 モル)のN'-ブチル-N",N"-ジシクロヘキシルグアニジンをフラスコに添加し、20 〜 25℃にて 24 時間攪拌しながら維持した。1N HClを生じた溶液に、pHを酸のレベルへと調節するために添加した。1時間室温にて攪拌後、生じた沈殿を濾過により分離し、精製水、次いでエチルアセテートおよびn-ヘキサンにて洗浄し、標的化合物としての収量 30 gの白色固体、1-[シアノ(4-メトキシフェニル)メチル]シクロヘキサノールを得た(収率 72%)。
【0039】
比較例 1
50g (0.34 モル)のp-メトキシフェニルアセトニトリルを250mlの乾燥テトラヒドロフラン(THF)で希釈し、次いで-70℃へと窒素雰囲気下に冷却した。210ml(0.34 モル)のn-ブチル リチウム (n-BuLi)を生じた溶液に、溶液の温度を-50℃未満に維持しながら滴下した。溶液を30分間攪拌し、50 g (0.51 モル)のシクロヘキサノンの添加後、45分以上攪拌し、その間溶液の温度を-50℃未満に維持した。その後、反応溶液の温度を0℃へと上昇させ、飽和塩化アンモニウム溶液を、相分離を生じさせるために添加した。水層をジエチルエーテルで抽出し、有機層と合わせた。有機溶媒を次いで減圧下に除去し、標的化合物としての収量 25.2 gの1-[シアノ(4-メトキシフェニル)メチル]シクロヘキサノールを得た(収率 34.2%)。
【0040】
融点: 123 〜126 ℃.
マススペクトル 分析: 分子量 245 [M+ C.I.M.S.による]
1H NMR 分析 (DMSO-d6): δ 7.32, 6.95 (4H, q, p-置換された 芳香族), 3.8 (3H, s, O-CH3), 3.76 (1H, s, CH-CN), 1.56 (10H, m, 脂肪族 シクロヘキシル)
【0041】
比較例 2
内部温度を10℃未満に維持しながら、75 ml のトルエンで希釈した76.5 g のp-メトキシフェニルアセトニトリルをゆっくりと、73 mlのジイソプロピルアミン を325 ml の 6M BuLiおよび300 mlのトルエンへと窒素雰囲気下に添加することにより作製したリチウム ジイソプロピルアミド溶液へと添加した。30分の攪拌後、50mlのトルエンで希釈した46.0gのシクロヘキサノンをゆっくりと、内部温度を10℃未満に維持しながら添加し、次いで約30分以上攪拌した。生じた溶液を100mlの12N HCl水溶液および1 Lの冷やした精製水に添加した。濾過後、濾液をジクロロメタンで希釈し、次いで精製水で洗浄した。ジクロロメタンをジイソプロピルエーテルと置き換え、溶媒を減圧下に除去し、濾液を冷却して、標的化合物としての、収量 91.0gの白色固体、1-[シアノ(4-メトキシフェニル)メチル]メチル]シクロヘキサノールを得た(収率 79%)。
【0042】
引用例
実施例 1にて調製した12 g (0.05 モル)の1-[シアノ(4-メトキシフェニル)メチル]シクロヘキサノールを250mlのアンモニアおよびエタノールの混合液に、2:8 (v/v)の混合比にて添加し、 ついで2.8g の5%アルミナ上ロジウムを水素化反応を起すために添加した。触媒を濾過し、エタノールで洗浄し、濾液を減圧下に濃縮し、オイル形態の化合物を得、これを100mlのトルエンで希釈し、次いで pH 2へと酸性化した。濾過後、標的化合物としての収量9 gの白色固体、1-[2-アミノ-1-(4-メトキシフェニル)エチル]シクロヘキサノールを得た(収率 57%)。
【0043】
融点: 168 〜 172 ℃
マススペクトル 分析: 分子量 250 [M+ C.I.M.S.による]
1H NMR 分析 (DMSO-d6): δ 7.85 (3H, s, NH3+), 3.75(3H, s, O-CH3), 3.20 (3H, m, CHCH2), 1.35 (10H, m, 脂肪族 シクロヘキシル)
【0044】
前記のごとく、本発明により、式Iにより示されるシクロヘキサノール誘導体、1-[シアノ4-メトキシフェニル]メチル]シクロヘキサノールなどの産業規模の大量生産のための安全かつ比較的単純な方法が提供される。本発明は、比較的安価な、環境にやさしく、有機溶媒を用いない少量の非-金属塩基を使用し、高度に純粋な1-[シアノ4-メトキシフェニル] メチル]シクロヘキサノールが高収率で得られる。
Claims (11)
- 式 I:
式 IIの化合物を式 IIIの化合物;
により表される非-有機金属塩基性触媒の存在下、反応溶媒の存在または不在下に反応させることを含み、およびR9がアルキルの場合、アルキル基をアルキル化により導入する方法。 - 式 IIの化合物がp-メトキシ-フェニルアセトニトリルである、請求項1記載の方法。
- 式 IIIの化合物がシクロヘキサノンである、請求項1記載の方法。
- 非-有機金属塩基性触媒が、1つまたはそれ以上の式 (IV) または (V)のアミジンまたはグアニジンから選択される触媒の混合物である、請求項1〜3のいずれか1項記載の方法。
- 塩基性触媒が、均一系触媒またはポリマー担持体に固定されている、請求項1〜4のいずれか1項記載の方法。
- 非-有機金属塩基が、1,8-ジアザビシクロ[5,4,0]アンデク−7-エン (DBU)、1,5-ジアザビシクロ[4,3,0]ノン-5-エン (DBN)、1,5,7-トリアザビシクロ[4,4,0]デク-5-エン (TBD)、7-メチル-1,5,7-トリアザビシクロ[4,4,0]デク-5-エン (MTBD)、テトラメチルグアニジン (TMG)およびN'-ブチル-N",N"-ジシクロヘキシルグアニジンから成る群から選択される、請求項1〜5のいずれか1項記載の方法。
- 用いられる非-有機金属塩基の量が、式IIの化合物の1当量に対して約0.005〜約0.5当量の範囲内である、請求項1〜6のいずれか1項記載の方法。
- 溶媒を用いない、請求項1〜7のいずれか1項記載の方法。
- 反応温度が約-20 〜 80℃の範囲内である、請求項1〜8のいずれか1項記載の方法。
- 反応温度が約10 〜30 ℃の範囲内である、請求項9記載の方法。
- 式 II および IIIの化合物および塩基性触媒を1 : 1 〜 1.5 : 0.005 〜 0.5の当量比にて用いる、請求項1〜10のいずれか1項記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020010035889A KR20030000217A (ko) | 2001-06-22 | 2001-06-22 | 시클로헥사놀 유도체의 제조방법 |
PCT/US2002/019753 WO2003000652A1 (en) | 2001-06-22 | 2002-06-21 | Process for preparation of cyclohexanol derivatives |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2004531577A true JP2004531577A (ja) | 2004-10-14 |
Family
ID=36604137
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003507059A Ceased JP2004531577A (ja) | 2001-06-22 | 2002-06-21 | シクロヘキサノール誘導体の調製法 |
Country Status (21)
Country | Link |
---|---|
EP (1) | EP1397344A1 (ja) |
JP (1) | JP2004531577A (ja) |
KR (2) | KR20030000217A (ja) |
CN (1) | CN1267410C (ja) |
AR (1) | AR034609A1 (ja) |
BR (1) | BR0210542A (ja) |
CA (1) | CA2450914A1 (ja) |
CO (1) | CO5540339A2 (ja) |
EA (1) | EA007486B1 (ja) |
EC (1) | ECSP034920A (ja) |
HU (1) | HUP0400867A3 (ja) |
IL (1) | IL159448A0 (ja) |
MX (1) | MXPA03011401A (ja) |
NO (1) | NO20035586D0 (ja) |
NZ (1) | NZ530594A (ja) |
PL (1) | PL366613A1 (ja) |
SG (1) | SG156520A1 (ja) |
TW (1) | TWI250973B (ja) |
UA (1) | UA78511C2 (ja) |
WO (1) | WO2003000652A1 (ja) |
ZA (1) | ZA200400451B (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008545807A (ja) * | 2006-07-26 | 2008-12-18 | テバ ファーマシューティカル インダストリーズ リミティド | O−デスメチルベンラファキシンの合成方法 |
JP2008546850A (ja) * | 2006-07-26 | 2008-12-25 | テバ ファーマシューティカル インダストリーズ リミティド | O−デスメチルベンラファキシンの合成方法 |
Families Citing this family (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100651353B1 (ko) * | 2002-02-01 | 2006-11-28 | 에스케이 주식회사 | 고수율로 벤라팩신 중간체를 연속적으로 제조하는 방법 |
WO2005049560A2 (en) * | 2003-09-29 | 2005-06-02 | Sun Pharmaceutical Industries Limited | Process for the preparation of anti-depressant compound |
PE20050954A1 (es) * | 2003-10-02 | 2005-12-20 | Wyeth Corp | Proceso para la preparacion de compuestos de 1-[ciano(fenil)metil]-ciclohexanol |
WO2007000294A1 (en) * | 2005-06-29 | 2007-01-04 | Wyeth | Process for the preparation of 1-[cyano (4-hydroxyphenyl)methyl]cyclohexanol compounds |
MX2007016179A (es) | 2006-04-17 | 2008-03-11 | Teva Pharma | Formas cristalinas de o-desmetilvenlafaxina. |
KR101409554B1 (ko) | 2010-03-29 | 2014-06-19 | 플리바 흐르바츠카 디.오.오. | O-데스메틸벤라팍신 푸마레이트의 결정형 |
BR112016021706A2 (pt) * | 2014-03-28 | 2018-07-10 | Cummins Filtration Ip Inc | aditivos de óleo sem cinzas e uso dos mesmos como reforçadores de tbn. |
PL3737726T3 (pl) | 2018-01-10 | 2024-04-22 | Huntsman International Llc | Formulacje zawierające poliuretan o funkcjonalności izocyjanianu |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4535186A (en) * | 1983-04-19 | 1985-08-13 | American Home Products Corporation | 2-Phenyl-2-(1-hydroxycycloalkyl or 1-hydroxycycloalk-2-enyl)ethylamine derivatives |
GB8902209D0 (en) * | 1989-02-01 | 1989-03-22 | Wyeth John And Brother Limited | Preparation of cyclohexanol derivatives and novel thioamide intermediates |
TWI228118B (en) * | 2000-08-30 | 2005-02-21 | Ciba Sc Holding Ag | Process for the preparation of substituted phenylacetonitriles |
-
2001
- 2001-06-22 KR KR1020010035889A patent/KR20030000217A/ko not_active Application Discontinuation
-
2002
- 2002-06-21 UA UA2004010467A patent/UA78511C2/uk unknown
- 2002-06-21 MX MXPA03011401A patent/MXPA03011401A/es not_active Application Discontinuation
- 2002-06-21 AR ARP020102341A patent/AR034609A1/es unknown
- 2002-06-21 TW TW091113830A patent/TWI250973B/zh not_active IP Right Cessation
- 2002-06-21 IL IL15944802A patent/IL159448A0/xx unknown
- 2002-06-21 BR BR0210542-0A patent/BR0210542A/pt not_active IP Right Cessation
- 2002-06-21 NZ NZ530594A patent/NZ530594A/en not_active IP Right Cessation
- 2002-06-21 WO PCT/US2002/019753 patent/WO2003000652A1/en active Application Filing
- 2002-06-21 HU HU0400867A patent/HUP0400867A3/hu unknown
- 2002-06-21 CA CA002450914A patent/CA2450914A1/en not_active Abandoned
- 2002-06-21 EA EA200400069A patent/EA007486B1/ru not_active IP Right Cessation
- 2002-06-21 JP JP2003507059A patent/JP2004531577A/ja not_active Ceased
- 2002-06-21 EP EP02744526A patent/EP1397344A1/en not_active Withdrawn
- 2002-06-21 KR KR1020037016739A patent/KR100874835B1/ko not_active IP Right Cessation
- 2002-06-21 PL PL02366613A patent/PL366613A1/xx not_active Application Discontinuation
- 2002-06-21 CN CNB028124669A patent/CN1267410C/zh not_active Expired - Fee Related
- 2002-06-21 SG SG200508264-9A patent/SG156520A1/en unknown
-
2003
- 2003-12-15 NO NO20035586A patent/NO20035586D0/no not_active Application Discontinuation
- 2003-12-22 CO CO03111625A patent/CO5540339A2/es not_active Application Discontinuation
- 2003-12-22 EC EC2003004920A patent/ECSP034920A/es unknown
-
2004
- 2004-01-21 ZA ZA2004/00451A patent/ZA200400451B/en unknown
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008545807A (ja) * | 2006-07-26 | 2008-12-18 | テバ ファーマシューティカル インダストリーズ リミティド | O−デスメチルベンラファキシンの合成方法 |
JP2008546850A (ja) * | 2006-07-26 | 2008-12-25 | テバ ファーマシューティカル インダストリーズ リミティド | O−デスメチルベンラファキシンの合成方法 |
JP4763788B2 (ja) * | 2006-07-26 | 2011-08-31 | テバ ファーマシューティカル インダストリーズ リミティド | O−デスメチルベンラファキシンの合成方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
UA78511C2 (en) | 2007-04-10 |
ECSP034920A (es) | 2004-02-26 |
CN1267410C (zh) | 2006-08-02 |
MXPA03011401A (es) | 2004-04-05 |
CO5540339A2 (es) | 2005-07-29 |
EA007486B1 (ru) | 2006-10-27 |
EP1397344A1 (en) | 2004-03-17 |
WO2003000652A8 (en) | 2004-05-21 |
ZA200400451B (en) | 2005-06-29 |
BR0210542A (pt) | 2004-06-22 |
HUP0400867A2 (hu) | 2004-08-30 |
PL366613A1 (en) | 2005-02-07 |
KR20030000217A (ko) | 2003-01-06 |
WO2003000652A1 (en) | 2003-01-03 |
CA2450914A1 (en) | 2003-01-03 |
KR100874835B1 (ko) | 2008-12-19 |
EA200400069A1 (ru) | 2004-06-24 |
SG156520A1 (en) | 2009-11-26 |
IL159448A0 (en) | 2004-06-01 |
NZ530594A (en) | 2006-06-30 |
CN1531524A (zh) | 2004-09-22 |
NO20035586L (no) | 2003-12-15 |
AR034609A1 (es) | 2004-03-03 |
HUP0400867A3 (en) | 2005-04-28 |
TWI250973B (en) | 2006-03-11 |
NO20035586D0 (no) | 2003-12-15 |
KR20040011548A (ko) | 2004-02-05 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2001515890A (ja) | (ヘテロ)芳香族ヒドロキシルアミンの製造方法 | |
CN110683969B (zh) | 一种脲类衍生物及其合成方法 | |
US20040106818A1 (en) | Process for the preparation of cyclohexanol derivatives | |
JP2004531577A (ja) | シクロヘキサノール誘導体の調製法 | |
JP4230220B2 (ja) | 置換フェニルアセトニトリルの製造方法 | |
JP6030752B2 (ja) | オキセタン−3−イルメタンアミンの製造方法 | |
CN108276356B (zh) | 3,5-二取代噻唑烷-2-硫酮类化合物制备方法 | |
US20040186310A1 (en) | Process for preparation of cyclohexanol derivatives | |
JP2020535116A (ja) | 環状カーボネートの製造方法 | |
CN1185202C (zh) | 酰化1,3-二羰基化合物的制备方法 | |
AU2002345776A1 (en) | Process for preparation of cycloalkanol (and cycloalkenol) derivatives | |
CN107522635B (zh) | 一类n-环丙基硝酮衍生物及其制备方法 | |
CA2054821C (en) | Process for the production of 3-aminocrotononitrile | |
KR100521062B1 (ko) | (3-알콕시페닐)마그네슘클로라이드의제조방법및당해클로라이드를사용한알콜제조방법 | |
US20040171863A1 (en) | Process for poducing beta-oxonitrile compound or alkali metal salt thereof | |
CN111018734B (zh) | 一种盐酸西那卡塞中间体的合成方法 | |
CN107540616B (zh) | 一种高对映选择性吡唑胺化合物的制备方法 | |
CN107540623B (zh) | 一种高对映选择性C-5位α-立体中心4-硝基异恶唑醇类化合物、其制备方法及应用 | |
CN102942464B (zh) | 化合物1-(2-卤苯基)-3-甲基-丁酮-1的合成方法 | |
CN114524751B (zh) | 一类芳基腈类化合物及其制备方法 | |
KR100701743B1 (ko) | 밤부테롤의 신규한 제조 방법 | |
WO2011072703A1 (en) | Process for the preparation of o-desmethyl-venlafaxine and salts thereof | |
CN110803993B (zh) | 一种普瑞巴林中间体2-羧乙基-3-硝基亚甲基-5-甲基己酸乙酯的合成方法 | |
CN114845987B (zh) | 用于合成双尾三胺的方法 | |
CN116891461A (zh) | 一种serd中间体的合成方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20050530 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20080311 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20080611 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20080618 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20080711 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20080826 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20081121 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20081201 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20081226 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20090303 |
|
A045 | Written measure of dismissal of application [lapsed due to lack of payment] |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A045 Effective date: 20090728 |