JP2020535116A - 環状カーボネートの製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
の環状カーボネートまたはそれらの混合物の製造方法であって、
a) 式II
のプロパルギルアルコールを二酸化炭素と、少なくとも1つの遷移金属触媒TMC1の存在下で反応させる工程段階を含み、前記遷移金属触媒が、lUPACによる元素周期律表の第10、11および12族の金属から選択される、好ましくはCu、AgおよびAuから選択される遷移金属、より好ましくはAgと、
式IIIの化合物および式IVの化合物、好ましくは式IIIの化合物
DはP、AsまたはSb、好ましくはPまたはAs、特にPであり、
R2は、1〜40個の炭素原子、好ましくは2〜40個の炭素原子を有し、好ましくは少なくとも1つの環式環を含む有機基であり、より好ましくは式IIIにおいてR2はC3〜C40−シクロアルキル基、C2〜C40−ヘテロシクロアルキル基、C6〜C40−アリール基、C2〜C40−複素環式芳香族基、C3〜C40−シクロアルコキシ基、C2〜C40−ヘテロシクロアルコキシ基、C6〜C40−アリールオキシ基またはC2〜C40−ヘタリールオキシ基、特にC6〜C40−アリール基またはC2〜C40−複素環式芳香族基であり、
R3、R4は、同一または異なり、且つ各々1〜40個の炭素原子を有する有機基であり、且つ
R5は、1〜40個の炭素原子を有する有機基であるか、またはR2と同一であり、且つ
Zは、−CR7=CR8−、−CR7=N−、−CR7R9−CR8R10−および−CR7R9−CR8R10−CR11R12−から選択される二価の橋かけ基であり、ここでR7、R8、R9、R10、R11およびR12は互いに独立して水素またはR5として定義されるとおりであるか、または2つの隣接する基R7およびR8、および/またはR10およびR11は、それらをつなぐ原子と共に単環または多環の、置換または非置換の、脂肪族または芳香族の環系を形成し、前記環系は4〜40個の炭素原子を有し且つ元素のSi、Ge、N、P、OおよびSからなる群から選択される少なくとも1つのヘテロ原子も含むことができる]
からなる配位子の群から選択される少なくとも1つのかさ高い配位子
とを含む、前記方法によって解決される。
DがPであり、
R2がC3〜C40−シクロアルキル基、C2〜C40−ヘテロシクロアルキル基、C6〜C40−アリール基またはC2〜C40−複素環式芳香族基、好ましくはC6〜C40−アリール基またはC2〜C40−複素環式芳香族基であり、ここでR2は、PまたはNに対する2つのオルト位の少なくとも1つにおいて基R6で置換されており、前記基R6は1〜40個の炭素原子を有する有機基、ハロゲン、特にClまたはBr、ヒドロキシ、SO3Hまたはニトロであるか、またはR6はメタ位においてR2を置換している隣接する基と共に、それらをつなぐ原子と共に、単環または多環の、置換または非置換の、脂肪族または芳香族の環系を形成し、前記環系は4〜40個の炭素原子を有し且つ元素のSi、Ge、N、P、OおよびS、好ましくはNおよびOからなる群から選択される少なくとも1つのヘテロ原子も含むことができ、
R3、R4、R5およびZは上記で定義されたとおりである、
ことを特徴とする。
本願の文脈において使用される「1〜40個の炭素原子を有する有機基」との用語は、例えばC1〜C40−アルキル基、C1〜C10−フルオロアルキル基、C1〜C12−アルコキシ基、置換されたC3〜C20−複素環式基、C6〜C40−アリール基、C2〜C40−複素環式芳香族基、C6〜C10−フルオロアリール基、C6〜C10−アリールオキシ基、3〜24個の炭素原子を有するシリル基、C2〜C20−アルケニル基、C2〜C20−アルキニル基、C7〜C40−アリールアルキル基またはC8〜C40−アリールアルケニル基に関する。有機基は、各々、有機化合物から誘導される。従って、有機化合物のメタノールは原則として、1つの炭素原子を有する3つの異なる有機基、つまりメチル(H3C−)、メトキシ(H3C−O−)およびヒドロキシメチル(HOC(H2)−)をもたらす。従って、「1〜40個の炭素原子を有する有機基」との用語は、アルコキシ基以外に、例えばジアルキルアミノ基、モノアルキルアミノ基またはアルキルチオ基も含む。
によって示されるプロトン化された形態の式IVの化合物を、塩基と共に使用することによって現場で製造されることを特徴とする。
DはP、AsまたはSb、好ましくはPまたはAs、特にPであり、
R2は、1〜40個の炭素原子、好ましくは2〜40個の炭素原子を有し、好ましくは少なくとも1つの環式環を含む有機基であり、
より好ましくは、R2は、C3〜C40−シクロアルキル基、C2〜C40−ヘテロシクロアルキル基、C6〜C40−アリール基、C2〜C40−複素環式芳香族基、C3〜C40−シクロアルコキシ基、C2〜C40−ヘテロシクロアルコキシ基、C6〜C40−アリールオキシ基、C2〜C40−ヘタリールオキシ基であり、
さらにより好ましくは、R2は、C3〜C40−シクロアルキル基、C2〜C40−ヘテロシクロアルキル基、C6〜C40−アリール基またはC2〜C40−複素環式芳香族基、好ましくはC6〜C40−アリール基またはC2〜C40−複素環式芳香族基であり、ここでR2は、Dに対する2つのオルト位の少なくとも1つにおいて基R6で置換されており、前記基R6は1〜40個の炭素原子を有する有機基、好ましくはC6〜C40−アリール基、C1〜C10−アルコキシ基またはC2〜C12−ジアルキルアミノ基であるか、またはR6はメタ位におけるR2を置換している隣接する基と共に、それらをつなぐ原子と共に、単環または多環の、置換または非置換の、脂肪族または芳香族の環系を形成し、前記環系は4〜40個の炭素原子を有し且つ元素のSi、Ge、N、P、OおよびS、好ましくはN、OおよびSからなる群から選択される少なくとも1つのヘテロ原子も含むことができ、且つ
R3、R4は、同一または異なり、好ましくは同一であり、且つ各々1〜40個の炭素原子を有する有機基、好ましくはC3〜C20−環式または非環式アルキル、特にtert−ブチルまたはシクロヘキシル、またはC6〜C14−アリール、特にフェニルである。
R2は、1〜40個の炭素原子、好ましくは2〜40個の炭素原子を有し、好ましくは少なくとも1つの環式環を含む有機基であり、より好ましくは、R2は、C6〜C40−アリール基またはC2〜C40−複素環式芳香族基であり、好ましくは、ここでR2は、Nに対して2つのオルト位の少なくとも1つにおいて基R6で置換されており、前記基R6は1〜40個の炭素原子を有する有機基、好ましくはC1〜C10−アルキル基、特にイソプロピルであり、
R5は、1〜40個の炭素原子を有する有機基であるか、またはR2と同一であり、好ましくは、R5はR2と同一であり、且つ
Zは、−CR7=CR8−、−CR7=N−、−CR7R9−CR8R10−および−CR7R9−CR8R10−CR11R12−、好ましくは−CR7=CR8−および−CR7R9−CR8R10−から選択される二価の橋かけ基であり、ここでR7、R8、R9、R10、R11およびR12は互いに独立して水素またはR5として定義されるとおり、好ましくはHであるか、または2つの隣接する基R7およびR8、および/またはR10およびR11は、それらをつなぐ原子と共に単環または多環の、置換または非置換の、脂肪族または芳香族の、4〜40個の炭素原子を有する環系を形成し、且つ元素のSi、Ge、N、P、OおよびSからなる群から選択される少なくとも1つのヘテロ原子も含むことができる。
DはPであり、
R2は、C6〜C40−アリール基またはC2〜C40−複素環式芳香族基であり、ここでR2は、Dに対する2つのオルト位の少なくとも1つにおいて基R6で置換されており、前記基R6はC6〜C40−アリール基、C1〜C10−アルコキシ基、特にメトキシ、エトキシ、イソプロポキシまたはシクロヘキシルオキシ、またはC2〜C12−ジアルキルアミノ基、特にジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ジイソプロピルアミノ、N−モルホリニルまたはN−ピペリジルであるか、またはR6はメタ位においてR2を置換している隣接する基と共に、それらをつなぐ原子と共に、単環または多環の、置換または非置換の、脂肪族または芳香族の環系を形成し、前記環系は4〜40個の炭素原子を有し且つ元素のSi、Ge、N、P、OおよびS、好ましくはN、OおよびSからなる群から選択される少なくとも1つのヘテロ原子も含むことができ、且つ
R3、R4は、同一または異なり、好ましくは同一であり、且つ各々1〜40個の炭素原子を有する有機基、好ましくはC3〜C20−環式または非環式アルキル、特にtert−ブチル、アダマンチルまたはシクロヘキシル、またはC6〜C14−アリール、特にフェニルである。
・ 脂肪族炭化水素、例えばペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタンまたはシクロヘキサン、
・ 芳香族炭化水素、例えばベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、メシチレンまたはベンゾトリフルオリド、
・ ハロゲン化炭化水素、例えばジクロロメタン、
・ アミド、例えばジメチルホルムアミド、ジエチルホルムアミド、N−メチルピロリドン、N−エチルピロリドンまたはジメチルアセトアミド、
・ ウレア、例えばテトラメチルウレア、N,N−ジメチルイミダゾリノン(DMI)およびN,N−ジメチルプロピレンウレア(DMPU)、
・ ニトリル、例えばアセトニトリルまたはプロピオニトリル、
・ スルホキシド、例えばジメチルスルホキシド、
・ スルホン、例えばスルホラン、
・ エステル、例えば酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸t−ブチル、
・ カーボネート、例えばジエチルカーボネート、エチレンカーボネートおよびプロピレンカーボネート、および
・ エーテル、例えばジオキサン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジブチルエーテル、メチルt−ブチルエーテル、ジイソプロピルエーテルまたはジエチレングリコールジメチルエーテル
である。
R1は−CH2OR13であり、ここでR13は水素、SiH3または1〜40個の炭素原子を有する有機基、好ましくは水素、SiR14aR14bR14c、C(O)R15またはC(O)OR16、より好ましくは水素、C(O)R15またはC(O)OR16であり、
ここで、
R14aR14bR14cは同一または異なり、且つ各々独立して水素または1〜40個の炭素原子を有する有機基、好ましくはC1〜C6−アルキルまたはC6〜C14−アリール、より好ましくはメチル、エチル、i−プロピル、tert−ブチルまたはフェニルであり、
R15は水素、または1〜40個の炭素原子を有する有機基、好ましくは水素、C1〜C6−アルキルまたはC6〜C14−アリール、より好ましくは水素、メチル、エチル、−プロピルまたはフェニルであり、且つ
R16は1〜40個の炭素原子を有する有機基、好ましくはC1〜C6−アルキルまたはC6〜C14−アリール、より好ましくはメチル、エチル、−プロピルまたはフェニルである。
全ての化学物質および溶剤はSigma−AldrichまたはABCRから購入され、さらなる精製を行わずに使用された。
標準的な手順A
反応のスクリーニングを、ChemSpeed Accelerator SLT 106ハイスループットロボットシシテムにおいて実施した。アルコール1(1mmol)、[M]−触媒(0.05mmol)および配位子(0.05mmol)を有機溶剤(2mL)中で、CO2(20bar)を用いて加圧し、室温で12時間攪拌した。CO2の過圧を解放した後、アニソール(1mmol)およびCDCl3(1mL)を反応混合物に添加し、且つ5分間攪拌した。生じる混合物を、1H NMRによって分析して収率を測定した。
Teflonで被覆された攪拌棒を備えたFisher−Porter管に、アルコール(5mmol)、[M]−触媒(0.25mmol)、および配位子(0.25mmol)および溶剤(5mL)を装入した。反応混合物を、CO2(8bar)を用いて加圧し、且つ室温で16時間攪拌した。次にCO2の過圧を注意深く解放し、溶剤が蒸発した。生じる粗製混合物をクーゲルロール(0.5mbar、100℃)によって蒸留した。相応の環状カーボネート生成物が純粋に得られた。
IPrAgOAcは、文献の手順: D.V.Partyka, T.J.Robilotto, J.B.Updegraff III, M.Zeller, A.D.Hunter, T.G.Gray, Organometallics 2009, 28, 795〜801に従って製造された。
ブト−2−イノール誘導体のカルボキシル化環化のための一般的な手順
鋼のオートクレーブに、アルキノール(5.0mmol)、AgOAc(1または2mol%)、DavePhos配位子(1または2mol%)および溶剤(10mL)を大気条件下で装入した。反応混合物を、CO2(20bar)を用いて加圧し、且つ室温で18時間攪拌した。次にCO2の過圧を注意深く解放し、溶剤が蒸発した。生じる粗製混合物をフラッシュカラムクロマトグラフィーによって精製した。
Claims (16)
- 式IaまたはIb
の環状カーボネートまたはそれらの混合物の製造方法であって、
a) 式II
のプロパルギルアルコールを二酸化炭素と、少なくとも1つの遷移金属触媒TMC1の存在下で反応させる工程段階を含み、前記遷移金属触媒は、
lUPACによる元素周期律表の第10、11および12族の金属から選択される遷移金属と、
式IIIの化合物および式IVの化合物
DはP、AsまたはSbであり、
R2は、1〜40個の炭素原子を有する有機基であり、
R3、R4は、同一または異なり、且つ各々1〜40個の炭素原子を有する有機基であり、且つ
R5は、1〜40個の炭素原子を有する有機基であるか、またはR2と同一であり、且つ
Zは、−CR7=CR8−、−CR7=N−、−CR7R9−CR8R10−および−CR7R9−CR8R10−CR11R12−から選択される二価の橋かけ基であり、ここでR7、R8、R9、R10、R11およびR12は互いに独立して水素またはR5として定義されるとおりであるか、または2つの隣接する基R7およびR8、および/またはR10およびR11は、それらをつなぐ原子と共に単環または多環の、置換または非置換の、脂肪族または芳香族の環系を形成し、前記環系は4〜40個の炭素原子を有し且つ元素のSi、Ge、N、P、OおよびSからなる群から選択される少なくとも1つのヘテロ原子も含むことができる]
からなる配位子の群から選択される少なくとも1つのかさ高い配位子
とを含む、前記方法。 - R1が水素、ヒドロキシメチル(−CH2OH)、アセトキシメチレン(−CH2OC(O)CH3)、ホルミルオキシメチレン(−CH2OC(O)H)または−CH2OC(O)OCH3である、請求項1に記載の方法。
- 前記遷移金属触媒TMC1の遷移金属がAgである、請求項1または2に記載の方法。
- 前記遷移金属化合物が、AgOAc、AgF、Ag2OおよびAg2CO3から選択される、請求項4に記載の方法。
- 前記かさ高い配位子が、式IIIの化合物である、請求項1から5までのいずれか1項に記載の方法。
- 遷移金属触媒TMC1の、かさ高い配位子対遷移金属のモル比が0.4〜1.2の範囲である、請求項1から7までのいずれか1項に記載の方法。
- 工程段階a)で使用される遷移金属触媒TMC1の量が、式IIのプロパルギルアルコールの量に対して、0.005〜5mol%の範囲である、請求項1から8までのいずれか1項に記載の方法。
- 工程段階a)を、1〜50barの範囲の圧力で実施する、請求項1から9までのいずれか1項に記載の方法。
- 工程段階a)を、0℃〜100℃の範囲の温度で実施する、請求項1から10までのいずれか1項に記載の方法。
- 工程段階a)を、脂肪族炭化水素、芳香族炭化水素、ハロゲン化炭化水素、アミド、ウレア、ニトリル、スルホキシド、スルホン、エステル、カーボネート、エーテル、アルコールおよびそれらの混合物から選択される溶剤の存在下で行う、請求項1から11までのいずれか1項に記載の方法。
- 式IaまたはIbの環状カーボネートまたはそれらの混合物が、工程段階a)の後に蒸留を介して遷移金属触媒TMC1から分離される、請求項1から12までのいずれか1項に記載の方法。
- 式IaまたはIbの環状カーボネートまたはそれらの混合物が蒸留を介して除去された後に、前記遷移金属触媒TMC1が反応段階a)にリサイクルされる、請求項1から13までのいずれか1項に記載の方法。
- 請求項1から14までのいずれか1項に記載の方法により製造される式IaまたはIbの環状カーボネートまたはそれらの混合物の、エポキシ樹脂の製造における反応性希釈剤としての、電気化学的貯蔵システムにおける電解質添加剤としての、または重合反応におけるモノマーとしての使用。
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