JP2004528591A - イメージングによる製造におけるレジストレーション制御のための方法および装置 - Google Patents

Abstract

基板の下層パターンの所定の基準ターゲットの実際の位置と公称位置との間の偏位を決定し、下層パターンに対する上層パターンのミスレジストレーションを低減するために、決定された偏位を利用して、上層パターンの画像データをイメージングするために使用される走査制御データを修正することにより、基板の下層パターンの上に上層パターンをイメージングする方法および装置。好ましくは、基準ターゲットは、上層パターンにおける接続部位に対して精密に位置合せされた下層パターンにおける所定の接続部位である。基準の特徴は、それらのレジストレーション許容差に従って異なる加重を割り当てられ、偏位は、それぞれの基準の特徴に割り当てられた加重により変化するしきい値に従って決定されることができる。

Description

【０００１】
発明の分野および背景
本発明は、イメージングを使用する様々な製造方法におけるレジストレーション制御に関する。これは電子部品（ＥＬＣ）、フラットパネルディスプレイ（ＦＰＤ）、ＰＣＢ上／内の様々な導電および非導電パターンまたはホール、はんだ付け、めっき、エッチング、またはプラズマエッチング用のマスク、もしくはホールプラグ硬化を含むが、それらに限定されない。本発明は、レーザダイレクトイメージング（ＬＤＩ）プロセスに従って多層ＰＣＢを製造するのに特に有用であり、したがって以下では特にこのプロセスに関して説明する。
【０００２】
多層ＰＣＢ（ＰＷＢまたは配線基板という場合がある）は電子システムで幅広く使用されている。そのようなＰＣＢは２０あるいは３０もの多数の層を含むことができ、各層がそれ自体の導電パターン層を有し、様々な層はピン、ポスト、めっきスルーホール（ＰＴＨ）、パッド等の層間接続によって電気的に接続される。導電パターンの層間レジストレーションは極めて重要であり、導電パターンの寸法が小さくなるにつれて、かつ生産性を改善するためにパネルのサイズが大きくなるにつれて、ますます問題になってきている。
【０００３】
ＰＣＢを製造するための従来のフォトツールプロセスでは、各層はフォトレジスト層上のフォトツール膜を介してイメージングされる。導電パターンの寸法許容差が厳密になるにつれて、フォトツールが許容差を厳密にしなければならないだけでなく、これらの許容差はフォトツールの寿命期間中維持されなければならない。しかし、プラスチック型のフォトツールは、温度および／または湿度の変化により寸法が変化する傾向があり、ガラス板型のフォトツールは高価であり、かつ取扱いが難しい。
【０００４】
その結果、レーザダイレクトイメージング（ＬＤＩ）に基づくイメージングプロセスがますます使用される。ＬＤＩプロセスでは、導電パターンはレーザによってフォトレジスト上に直接イメージングされる。各導電パターンは、レーザ露光ヘッドと基板との間の相対移動を制御する走査制御データに従ってフォトレジスト上に適用される、例えばＣＡＭファイルからの画像データによって定義される。しかし、位置および寸法精度、ならびにフォトレジスト上の画像配置の反復性が重要になる。
【０００５】
したがって、様々な層のパターンの精密なレジストレーションのためにフィデューシャル（すなわち基準）を使用することが一般的である。様々な層の位置精度を達成するために、そのようなフィデューシャルの実際の位置と公称位置との間の偏位が決定され、位置およびスケーリング因子を算出するために使用され、それらが今度は画像データの位置を補正するために使用される。精度を達成するための公知の技法の例は、米国特許第５，８９４，３５０号、第５，５０６，７９３号、第５，５４８，３７２号、第５，４０３，６８４号、第５，３８１，００４号、第５，２００，８００号、第５，６８２，２４３号、および第５，９８０，０８８号、ならびにＧｕｅｎｔｈｅｒ Ｅｎｎｅ等による「Ｌａｓｅｒ Ｄｉｒｅｃｔ Ｉｍａｇｉｎｇ ｆｏｒ Ｐｒｅｃｉｓｅ Ｐｏｓｉｔｉｏｎｉｎｇ ｏｆ Ｃｉｒｃｕｉｔｒｙ ｗｉｔｈ ＨＤＩ／ＭｉｃｒｏＶｉａｓ ａｎｄ ＳＢＵ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓ」と題する論文（ＴＰＣＳ ２０００ Ｆｏｒｕｍ Ｐｒｏｃｅｅｄｉｎｇｓ， Ｎｏｖｅｍｂｅｒ ２３−２５ ２０００， ｐｐ３７７−３８４）に記載されている。しかし、そのような補正係数を生成して、各層の各画像データの位置を補正するために使用する場合、要求されるデータベースおよび処理時間はどちらも極めて大きくなる。
【０００６】
本発明の一般的な目的は、多層ＰＣＢの層間のレジストレーション制御の別の方法を提供することである。他の目的は、ミスレジストレーションを低減するために、下層導電パターンの上に上層導電パターンをイメージングする方法を提供することである。本発明のさらなる目的は、ＬＤＩ（レーザダイレクトイメージング）によりＰＣＢを作製する改善された方法を提供し、高度のレジストレーション制御の達成を可能にすることである。
【０００７】
発明の簡単な記述
本発明の一局面によれば、基板の下層パターンの上に上層パターンをイメージングする方法を提供する。各パターンは、走査制御データに従って公称（すなわち理論的または所望の）位置に適用される画像データによって定義される。該方法は、基板の下層導電パターンの所定の基準ターゲットの実際の位置と公称位置との間の偏位を決定するステップと、下層導電パターンに対する上層導電パターンのミスレジストレーションを低減するために、決定された偏位を利用して、上層導電パターンの画像データをイメージングするために使用される走査制御データを修正するステップとを含む。
【０００８】
以下でさらに詳細に説明するように、かかる方法は、決定された偏位を利用して、画像データファイルではなくむしろ走査制御データを修正するので、過度のデータベースまたは処理時間を必要とすることなく、各導体パターン層をその前の導電層に対して位置合せすることを可能にする。
【０００９】
説明した好適な実施形態におけるさらなる特徴によれば、基準ターゲットは、下層導電パターンにおける所定の特徴であり、好ましくは所定の接続部位である。したがって、従来技術の特性のように、２つ、３つ、または４つのフィデューシャルをレジストレーションのための基準ターゲットとして使用する代わりに、当該新規方法は、より多数の基準ターゲットを使用することを可能にし、それによって全体のレジストレーションプロセスを改善する。また、電気接続は層を通して接続部位で行われるので、接続部位をレジストレーションのための基準ターゲットとして選択することにより、層間電気接続が行われ、かつプロセスによって許容されるミスレジストレーションのレベルが増大する重要な位置での正確なレジストレーションが確実になる。
【００１０】
所定の基準ターゲットの実際の位置と公称（すなわち理論的または所望の）位置との間の偏位を決定するために使用される下層導電パターンは通常、すぐ下の層のものであるが、より離れた層のものとすることもでき、特にその層から、適用される上層導電パターンへの電気接続が行われる場合、そうである。
【００１１】
説明した好適な実施形態のさらなる特徴によれば、基準ターゲットとして選択された所定の特徴は、それらのレジストレーション許容差に従って異なる加重を割り当てることができ、偏位は、それぞれの基準ターゲットに割り当てられた加重により変化するしきい値に従って決定することができる。この特徴は、プロセスによって許容されるミスレジストレーションのレベルをも増加する。
【００１２】
説明した好適な実施形態のさらなる特徴によれば、各々の導電パターンは、所定の基準ターゲットを有する大域的領域、および各々所定の基準ターゲットを有する１または複数の局所的領域を含む。下層導電パターンの大域的領域内の基準ターゲットは、下層導電パターンに対して上層導電パターンの局所的領域をイメージングするために使用される。下層導電パターンの局所的領域内の基準ターゲットの決定された偏位は、走査制御データを修正して、下層導電パターンに対する上層導電パターンのイメージングされる局所的領域のミスレジストレーションを低減するために使用される。
【００１３】
本発明の他の局面によれば、相互に重なりかつ相互に対して精密に配置される導電パターンを含む複数の層を有するＰＣＢを作製する方法を提供する。該方法は、各導電パターンが走査制御データに従って公称位置に適用される画像データによって定義されるＬＤＩプロセスによって各層を適用するステップと、基板の各導電パターンの所定の基準ターゲットの実際の位置と公称位置との間の偏位を、上層導電パターンがその上に適用される前に決定するステップと、それぞれの下層導電パターンに対する各上層導電パターンのミスレジストレーションを低減するために、決定された偏位を利用して、各上層導電パターンの画像データをイメージングするために使用される走査制御データを修正するステップとを含む。
【００１４】
本発明のさらなる局面によれば、基板を保持するための保持器と、基板上に相互に重なる関係に少なくとも２つの導電パターンをイメージングするためのイメージング装置であって、各導電パターンが走査制御データに従って基板の公称位置に適用される画像データによって定義されるイメージング装置と、それぞれの導電パターンのための走査制御データに従って基板とイメージング装置との間の相対移動をもたらすための走査手段と、基板の下層導電パターンの所定の基準ターゲットの実際の位置を、上層導電パターンがその上に適用される前に感知するためのセンサと、基板の下層導電パターンの所定の基準ターゲットの実際の位置と公称位置との間の偏位を決定し、かつ下層導電パターンに対する上層導電パターンのミスレジストレーションを低減するために、決定された偏位を利用して、上層導電パターンの画像データをイメージングするために使用される走査制御データを修正するようにプログラムされた制御装置とを備える、基板に導電パターンをイメージングするための装置を提供する。
【００１５】
本発明のさらなる特徴および利点は、以下の説明から明らかとなる。
【００１６】
図面の簡単な説明
ここで本発明を単なる例として添付図面を参照しながら説明する。
図１は、ＰＣＢの２つの重なる層およびそれらのそれぞれの導電パターンにおける接続部位に可能な様々なミスレジストレーションの誇張例を概略的に示す。
図２は、ＰＣＢを製造するための本発明の方法で使用することのできる装置の一形態を示す図である。
図３は、図２の装置を使用する電子システムを示すブロック図である。
図４は、図２および図３の装置を使用する場合のデータの流れを示すブロック図である。
図５は、図２の装置を通常使用する従来の走査ラスタを示す図である。
図６は、決定された補正係数を利用して、本発明に従って走査ラスタを修正してミスレジストレーションを低減する様式を示す図である。
図７は、所定の基準ターゲットを有する大域的領域および同じく所定の基準ターゲットを有する幾つかの局所的領域を有する大きいパネルに対しても本発明の方法を使用することのできる様式を示す図である。
図８は、本発明に従って下層導電パターンに対するミスレジストレーションを低減するように上層導電パターンをイメージングする１つの様式を示すフローチャートである。
【００１７】
好ましい実施形態の記述
まず図１を参照して、この図は多層ＰＣＢ２の２層だけ、すなわち下層４および上層６を示す。下層４には、複数の接続部位１１、１２、１３、および１４をそれぞれ含む、破線１０で概略的に示された導電または非導電パターンが形成される。その上に形成される上層６もまた、複数の接続部位２１、２２、２３、２４、および２５をそれぞれ有する、実線２０で概略的に示された導電パターンを含む。
【００１８】
図１に示すように、下層導電パターン１０の接続部位１２は、上層パターン２０の接続部位２２と完全に位置合せされているので、概略的に２８に示したような導電ピンを、接続部位１２、２２を貫通して形成された穴に通して、２つの導電パターン１０、２０間の電気接続をこれらの接続部位で達成することができる。図１は、２つの導電パターンの接続がピン２８によって達成される場合を示すが、接続は他の手段、例えばめっきスルーホール（ＰＴＨ）によって、またはパッドによっても達成できることは理解される。
【００１９】
上層パターン２０の接続部位２３は、下層パターン１０の接続部位１３と完全には位置合せされていないが、その接続部位に充分に重なるので、一方で中心に置かれたピンまたはＰＴＨは他方で互いに接触する。したがって、２つの接続部位１３、２３は、プロセスによって許容されるミスレジストレーションの例を示す。
【００２０】
２つの導電パターンの接続部位１４および２４は、一方を通過するピンまたはＰＴＨが他方との電気接触を行わないので、プロセスによって許容されないミスレジストレーションの例を示す。したがって、そのようなミスレジストレーションは結果的に不良ＰＣＢを生じる。同じことは、ミスレジストレーションがさらに大きい接続部位１１および２１に対しても当てはまる。
【００２１】
以下でさらに詳細に説明するように、本発明の方法は、接続部位１４、２４および１１、２１によって示されるようなミスレジストレーションを回避するように下層パターン１０の上に上層パターン２０を「合わせ」、かつ補正される上層導電パターンのイメージングされたファイルの各データ要素の位置を修正する必要の無い様式でそれを行うように意図される。
【００２２】
図２は、新規方法を実施するために使用することのできる装置の一形態を示す。図示した装置は、装置の長手軸、例えばＸ軸に沿って伸長する長手方向案内溝３３を有する台３２が形成された花こう岩基台３１を含む。該装置はさらに、ＰＣＢを作成するために使用される基板またはパネルを保持するためのチャック３４を含む。チャック３４はその下面に、Ｘ軸に沿った長手方向の移動のために、チャックの移動およびそれによりそこに保持されたパネルの移動を案内するために、案内溝３３内で移動可能な１対の平行なリブ３５が形成される。
【００２３】
図示した装置はさらに、花こう岩基台３１に支持され、台３２およびチャック３４を横方向に横切って伸長するブリッジ３６を含む。ブリッジ３６の上部に装着部材３７が固定され、チャック３４およびチャックに支持されるパネル（図示せず）上に露光ヘッド３９ａ、３９ｂのそれぞれを各々支持する２つのスライド３８ａ、３８ｂを装着する。各々の露光ヘッド３９ａ、３９ｂは、Ｙ軸方向、すなわちチャック３４およびそれによって支持されるパネルを横切る方向、およびＺ軸に沿っても、すなわちチャックおよびそれによって支持されるパネルに対して進退する方向にも移動可能である。
【００２４】
図３は、露光ヘッド３９ａ、３９ｂの各々の構造を概略的に示す。こうして、図３に示し、そこに３９で示す露光ヘッドはレーザの線形配列４０を含み、チャック３４に支持されたＰＣＢに印刷される画像の個別に制御される画素を画定する。
【００２５】
露光ヘッド３９には電子カメラ４１が、それと一緒に移動するように固定されている。カメラ４１は、比較的小型のカメラに高解像度を与えるために、パネルＰＣＢの表面の比較的小さい部分だけをカバーする視野を有する。カメラは、カメラの視野の基準点が露光ヘッドの基準点に対して、かつそれによって、レーザ書込みビームを発生するレーザ４０の基準点に対して既知の位置になるように、露光ヘッドに固定される。カメラ４１は、パネル上の特徴を速写してその上の基準ターゲットを感知する感知装置として使用される。以下でさらに詳細に説明するように、カメラ４１は、機械の露光ヘッド座標に関してパネルＰＣＢ上の特定の基準ターゲットの実際の位置を感知するために使用され、それぞれの画像ファイルに規定されたそれらの公称位置に対するこれらの基準ターゲットの実際の位置の偏位を決定することを可能にする。
【００２６】
露光ヘッド３９はさらに自動焦点装置４２を支持する。この装置は、レーザ４０からの印刷レーザビームがパネルの外面に焦点を維持するために、当業界でよく知られた手段によって露光ヘッドとパネルＰＣＢの外面との間の距離を測定する。自動焦点装置４２はまた、パネルＰＣＢの厚さの変化を補償するようにレーザ４０を連続的に制御するためにも使用することができる。
【００２７】
図３にさらに示すように、電気システムは２つの主処理装置、すなわちイメージャの外部のワークステーションに配置されたワークステーション（ＷＳ）処理装置５０、およびイメージャに配置された画像処理装置５１を含む。２つの処理装置は二方向経路５２を介して相互に通信する。
【００２８】
ＷＳ処理装置５０は主制御装置である。それは画像ファイル５３およびユーザインタフェース５４から入力を受け取り、露光ヘッド３９によって支持されたレーザ４０およびカメラ４１をこれらの入力に従って制御する。ＷＳ処理装置５０内のフレームグラバ５５は、線路５６を介して受け取ったカメラ４１からの映像信号フレームを捕獲し、それをグラフィックファイルに変換する。
【００２９】
以下でさらに詳細に説明するように、ＷＳ処理装置５０は、捕獲したフレーム内の特定の特徴を基準ターゲットとして識別する。それはまた、画像ファイル５３に規定された公称（すなわち理論的または所望の）位置に対するそのような基準ターゲットの実際の位置の偏位をも決定し、実際の位置を公称位置に合わせるための補正係数を算出する。しかし、これらの補正係数を上層導電パターンのための画像ファイル５３から導出されたデータに適用する代わりに、これらの補正係数は、下層導電パターンに対する上層導電パターンのミスレジストレーションを低減するために、上層導電パターンの画像データをイメージングするために使用される走査制御データを修正するのに利用される。
【００３０】
画像処理装置５１は、ＷＳ処理装置５０からデータを受け取るデータバッファ５７を含む。ＷＳ処理装置５０は、画像ファイル５３をビットマップファイルに変換し、それは専用経路５８を介して画像処理装置５１のデータバッファ５７に送られる。後者の処理装置は経路５９を介してデータを露光ヘッド３９に送り、レーザ４０を制御する。
【００３１】
図４は、ＷＳワークステーション処理装置５０、画像処理装置５１、および露光ヘッド３９の間のデータの流れを示す。図４に詳細に示すように、ワークステーションＷＳの動作はＷＳ処理装置５０内のＬＤＩ（レーザダイレクトイメージング）ソフトウェアによって管理され、露光ヘッド３９によって支持されたレーザ４０の動作は、露光ヘッドからのフィードバックをも受け取る画像処理装置５１によって管理される。
【００３２】
前述のように、パネルＰＣＢ上にイメージングされる各導電パターンは、それぞれの画像ファイル５３から導出される画像データによって規定される。そのような画像データは、２つの直交軸に沿った露光ヘッドとＰＣＢとの間の相対移動を発生してＰＣＢの表面全体を走査させる走査制御データに従って、ＰＣＢのそれぞれの層の公称または所望の位置に適用される。
【００３３】
図５は、画像データを適用するために図２の装置によって使用される典型的な走査ラスタを示す。そのような走査ラスタは通常、Ｙ軸に沿ってＰＣＢを横切る方向に伸長しかつＸ軸に沿ってＰＣＢの長手方向に間隔をおいて配置される複数の平行な直線を描く。
【００３４】
従来技術のレジストレーションシステムでは、２つの層間のミスレジストレーションを補正するために、図５に６０で示した走査ラスタは修正されず、むしろ、所定の基準ターゲットの実際の位置と公称または所望の位置との間の感知された偏位によって決定された補正係数により、画像データ自体が修正される。
【００３５】
したがって、図５の点６１がそれぞれの画像ファイルによって規定されたようにに描画される点の公称位置を示し、かつ点６２がカメラ４１によって感知される点の実際の位置を示す場合、ＷＳ処理装置５０は適切な補正係数を算出するだけでなく、その補正を組み込むように画像ファイル５３をも修正するので、その後に画像ファイルによって生成されるビットマップは補正係数を含むようになる。
【００３６】
しかし、本発明の方法によれば、そのような補正係数は、画像ファイル５３内のデータを補正するためには使用されず、むしろ、走査制御データを修正して、下層導電パターンに対する上層導電パターンのミスレジストレーションを低減するために使用される。
【００３７】
こうして、図６は、下層導電パターン上に適用される上層導電パターンのミスレジストレーションを低減するために、本発明に従って修正された、一般的に７０で示した典型的な走査ラスタを示す。図７の横方向および長手方向走査線は平行な直線ではなく、それらは補正係数によって修正されているので、むしろ湾曲した線である。上述のように、これらの補正係数は下層導電パターンの所定の基準ターゲットの実際の位置と公称の所望の位置との間の偏位によって決定される。
【００３８】
こうして、図６に示すように、所定の補正係数に基づいて修正走査ラスタ７０が生成され、パネルＰＣＢの長手方向の移動中に、露光ヘッド３９の横方向移動を制御するために使用される。走査ラスタは、公称または所望の位置にあるときは同一走査線内にあるが、実際にはそれぞれの走査線から偏位していることが感知された、例えば７１、７２、７３で概略的に示すこれらの基準ターゲットが、修正走査線に含まれるように修正される。
【００３９】
また、広範囲の多くの適用分野で、レジストレーションを達成するために走査制御の技法を使用すると、例えば５×６、１０×１０、または１００×１００個のむしろ少数の点を走査するだけでよいが、画像データを操作することによるレジストレーションの達成は、より多量のデータの取扱いを含む。
【００４０】
算出すべき補正係数は、Ｘ軸およびＹ軸の位置偏位係数、Ｘ軸およびＹ軸のスケーリング因子、回転係数、およびＹ軸に沿った湾曲線を考慮するための実行時のヘッドまたはパネル保持チャックの回転を含む。
【００４１】
上述のように、補正係数を決定するための基準ターゲットとして使用される導電パターンの特徴は、両方の層を通過するピンまたはＰＴＨによって両方のパターンに電気接続を行うことを可能にするために、上層導電パターンの接続部位に対して精密に位置合せされる下層導電パターンの所定の接続部位である。そのような技法は、２つの導電パターンを位置合せするときに、多数の所定の接続部位を基準ターゲットとして使用することを可能にする。また、レジストレーション誤差に最も大きく感応する２つの導電パターンの位置で、最も精密なレジストレーションも確保される。
【００４２】
この技法の別の利点は、基準ターゲット、すなわち所定の接続部位に、精密レジストレーションに対するそれらの重要性に従って異なる加重を割り当てることができ、かつ、それにより、特定の偏位が補正を必要とするか否かを決定する際に、そのような加重に従って変化するしきい値を適用することができることである。
【００４３】
図７は、画像の連続性を喪失することなく、局所的レジストレーションにより大きいパネルをイメージングすることを可能にするという、記載のレジストレーション方法のさらなる利点を示す。したがって、図７は、大域的領域８１および複数の局所的領域８２〜８５を含む、一般的に８０で示される大きいパネルを示す。大域的領域８１は複数の所定の基準ターゲットのフィデューシャル８１ａを含み、局所的領域８２〜８５の各々もまた、８２ａ〜８５ａでそれぞれ示す複数の基準ターゲットまたはフィデューシャルを含む。
【００４４】
下層導電パターンの大域的領域８１における所望のまたは公称基準ターゲット８１ａに対する実際の基準ターゲット８１ａの上述の技法に従って決定された偏位は、下層導電パターンに対して上層導電パターンの局所的領域８２〜８５を位置決めするために使用することができ、下層導電パターンの実際の位置と所望の位置との間の基準ターゲット８２ａ〜８５ａの決定された偏位は、上層導電パターンの局所的領域をイメージングするために走査制御データを修正するのに使用することができる。
【００４５】
図８は、レジストレーション誤差を低減するために、上述の方法に従って下層導電パターンの上に上層導電パターンをイメージングする１つの様式を示すフローチャートである。
【００４６】
図８のフローチャートは、上層導電パターンの画像の適用に備えて、下層導電パターン層を有するパネルを図２の装置のチャック３４に受容させることから始まる（ブロック９０）。
【００４７】
システムは最初に、図７に８１ａで示すような大域的ターゲットを探索し、局所的ターゲット位置を算出する（ブロック９１）。
【００４８】
次いでシステムは、図７に８２ａ〜８５ａで示すような局所的ターゲットを走査し、カメラ（図３の４１）を介して、局所的ターゲットの実際の位置を感知する（ブロック９２）。同時にシステムは、局所的ターゲットの実際の位置を、下層導電パターンの画像ファイルから受け取ったそれらの所望の公称位置と比較し（ブロック９３）、実際の位置と所望の位置との間のレジストレーション誤差を低減するために必要な補正を決定する。必要な補正を決定するにあたり、システムは、各局所的ターゲットのしきい値として、そのターゲットによって許されるレジストレーション許容差に従って予め決定された、そのターゲットに割り当てられた加重を利用する（ブロック９４）。
【００４９】
ブロック９２に示すように、そのように生成された補正は、上層導電パターンの走査制御（ブロック９６）から受け取った上層導電パターンの走査制御を修正するために利用される（ブロック９５）。上層導電パターンは次いで、上層導電パターンの画像ファイル（ブロック９８）およびブロック９５からの修正された上層導電パターン走査制御に従ってイメージングされる（ブロック９７）。
【００５０】
上述のように、その位置がレジストレーション誤差を示すためおよびそれによって補正係数を決定するために使用される基準ターゲットは、好ましくは基準ターゲットとして選択された下層導電パターンの所定の特徴であり、さらに詳しくは、ピン、ＰＴＨ等による電気接続のために上層導電パターンの接続部位に対して精密に配置される下層導電パターンの所定の接続部位であることが好ましい。しかし、本発明の適用例によっては、例えば、基準ターゲットがレジストレーションに対するそれらの重要性に応じて加重される場合、またはそれらが局所的領域を配置するために大域的領域で使用される場合、それらはレジストレーション制御のためにパネルに一般的に適用されるフィデューシャルまたはマーキングとすることができる。
【００５１】
本発明を好適な実施形態に関して説明したが、これらは単に例として記載したものであって、本発明の多くの他の変形、変更、および適用を行うことができることが理解される。
【図面の簡単な説明】
【００５２】
【図１】ＰＣＢの２つの重なる層およびそれらのそれぞれの導電パターンにおける接続部位に可能な様々なミスレジストレーションの誇張例を概略的に示す図。
【図２】ＰＣＢを製造するための本発明の方法で使用することのできる装置の一形態を示す図。
【図３】図２の装置を使用する電子システムを示すブロック図。
【図４】図２および図３の装置を使用する場合のデータの流れを示すブロック図。
【図５】図２の装置を通常使用する従来の走査ラスタを示す図。
【図６】決定された補正係数を利用して、本発明に従って走査ラスタを修正してミスレジストレーションを低減する様式を示す図。
【図７】所定の基準ターゲットを有する大域的領域および同じく所定の基準ターゲットを有する幾つかの局所的領域を有する大きいパネルに対しても本発明の方法を使用することのできる様式を示す図。
【図８】本発明に従って下層導電パターンに対するミスレジストレーションを低減するように上層導電パターンをイメージングする１つの様式を示すフローチャート。

Claims (31)

1. 基板の下層パターンの上に上層パターンをイメージングする方法であって、各パターンは、走査制御データに従って公称位置に適用される画像データによって定義される方法において、
   基板の下層パターンの所定の基準ターゲットの実際の位置と公称位置との間の偏位を決定するステップと、
   下層パターンに対する上層パターンのミスレジストレーションを低減するために、前記決定された偏位を利用して、上層パターンの画像データをイメージングするために使用される走査制御データを修正するステップと
   を含む方法。
2. 前記所定の基準ターゲットは、基準ターゲットとして選択された下層パターンにおける所定の特徴である請求項１の方法。
3. 前記所定の基準ターゲットは、上層パターンにおける接続部位に対して精密に位置合せされた下層パターンにおける所定の接続部位である請求項１の方法。
4. 前記所定の基準ターゲットは、それらのレジストレーション許容差に従って異なる加重を割り当てられ、前記偏位は、それぞれの基準ターゲットに割り当てられた加重により変化するしきい値に従って決定される請求項１の方法。
5. 各々の前記パターンは、所定の基準ターゲットを有する大域的領域、および所定の基準ターゲットを有する局所的領域を含み、下層パターンの大域的領域内の基準ターゲットは、下層パターンに対して上層パターンの局所的領域をイメージングするために使用され、下層パターンの局所的領域内の基準ターゲットの決定された偏位は、走査制御データを修正して、下層パターンに対する上層パターンのイメージングされる局所的領域のミスレジストレーションを低減するために使用される請求項１の方法。
6. 各々の前記パターンは、それぞれのパターンのための走査制御データに従って適用される画像データによりフォトレジスト層を直接イメージングすることによってイメージングされる請求項１の方法。
7. 前記走査制御データは、それぞれの画像データによりそれぞれのパターンをイメージングするために、２つの直交軸に沿った露光ヘッドと基板との間の相対移動を発生し、基板の表面を走査する請求項１の方法。
8. 前記基板が平らな保持器の上に取り付けられる請求項７の方法。
9. 前記露光ヘッドは１つ以上のレーザを含む請求項８の方法。
10. 前記平らな保持器の上の基板の表面を走査する前記走査制御データの制御下で、前記平らな保持器は長手軸方向に駆動され、かつ前記露光ヘッドは横方向に駆動される請求項８の方法。
11. 基板の下層パターンの上に上層パターンをイメージングする方法であって、各パターンは、走査制御データに従って公称位置に適用される画像データによって定義される方法において、
    前記下層パターンの複数の特徴を選択して基準ターゲットとして作用させるステップ、
    基板が保持器によって担持されている間、前記下層パターンの前記基準ターゲットの実際の位置を感知するステップ、
    下層パターンの基準ターゲットの公称位置に対して前記下層パターンの前記基準ターゲットの感知された実際の位置における偏位を決定し、
    前記偏位に従って上層パターンの前記走査制御データを修正して下層パターンに対して上層パターンのミスレジストレーションを低減するステップ
    を含む方法。
12. 前記基準ターゲットは、上層パターンにおける対応する接続部位に対して、精密に位置を調整され、かつ上記パターンにおける対応する接続部位に電気的に接続される下層パターンにおける接続部位である請求項１１の方法。
13. 前記基準ターゲットは、それらのレジストレーション許容差に従って異なる加重を割り当てられ、前記偏位は、それぞれの基準ターゲットに割り当てられた加重により変化するしきい値に従って決定される請求項１１の方法。
14. 各々の前記パターンは、所定の基準ターゲットを有する大域的領域、および所定の基準ターゲットを有する局所的領域を含み、下層パターンの大域的領域内の基準ターゲットは、下層パターンに対して上層パターンの局所的領域をイメージングするために使用され、下層パターンの局所的領域内の基準ターゲットの決定された偏位は、走査制御データを修正して、下層パターンに対する上層パターンの局所的領域のミスレジストレーションを低減するために使用される請求項１１の方法。
15. 各々の前記パターンは、それぞれのパターンのための走査制御データに従って適用される画像データによりフォトレジスト層を直接イメージングすることによってイメージングされる請求項１１の方法。
16. 前記走査制御データは、それぞれの画像データによりそれぞれのパターンをイメージングするために、２つの直交軸に沿った露光ヘッドと基板との間の相対移動を発生し、基板の表面を走査する請求項１１の方法。
17. 前記基板は平らな保持器の上に取り付けられ、前記露光ヘッドはパターンをイメージングするための１つ以上のレーザおよび前記基準ターゲットの実際の位置を感知するためのカメラを含む請求項１６の方法。
18. 相互に重なりかつ相互に対して精密に配置される導電パターンを含む複数の層を有するＰＣＢを作製する方法であって、
    各導電パターンが走査制御データに従って公称位置に適用される画像データによって定義されるＬＤＩプロセスによって各層を適用するステップと、
    基板の各導電パターンの所定の基準ターゲットの実際の位置と公称位置との間の偏位を、上層導電パターンがその上に適用される前に決定するステップと、
    それぞれの下層導電パターンに対する各上層導電パターンのミスレジストレーションを低減するために、前記決定された偏位を利用して、各上層導電パターンの画像データをイメージングするために使用される走査制御データを修正するステップと
    を含む方法。
19. 前記所定の基準ターゲットは、基準ターゲットとして選択された下層導電パターンにおける所定の特徴である請求項１８の方法。
20. 前記所定の基準ターゲットは、上層導電パターンにおける接続部位に対して精密に位置合せされた下層導電パターンにおける所定の接続部位である請求項１８の方法。
21. 前記基準ターゲットは、それらのレジストレーション許容差に従って異なる加重を割り当てられ、前記偏位は、それぞれの基準ターゲットに割り当てられた加重により変化するしきい値に従って決定される請求項１８の方法。
22. 基板にパターンをイメージングするための装置であって、
    基板を保持するための保持器と、
    前記基板上に相互に重なる関係に少なくとも２つのパターンをイメージングするためのイメージング装置であって、各パターンが走査制御データに従って基板の公称位置に適用される画像データによって定義されるイメージング装置と、
    それぞれのパターンのための走査制御データに従って基板とイメージング装置との間の相対移動をもたらすための走査手段と、
    基板の下層パターンの所定の基準ターゲットの実際の位置を、上層パターンがその上に適用される前に感知するためのセンサと、
    基板の下層パターンの所定の基準ターゲットの実際の位置と公称位置との間の偏位を決定し、かつ下層パターンに対する上層パターンのミスレジストレーションを低減するために、前記決定された偏位を利用して、上層パターンの画像データをイメージングするために使用される走査制御データを修正するようにプログラムされた制御装置と
    を備える装置。
23. 前記所定の基準ターゲットは、基準ターゲットとして選択された下層パターンにおける所定の特徴である請求項２２の装置。
24. 前記所定の基準ターゲットは、上層パターンにおける接続部位に対して精密に位置合せされた下層パターンにおける所定の接続部位である請求項２２の装置。
25. 前記基準ターゲットは、それらのレジストレーション許容差に従って異なる加重を割り当てられ、前記制御装置は、それぞれの基準ターゲットに割り当てられた加重により変化するしきい値に従って前記偏位を決定する請求項２２の装置。
26. 各々の前記パターンは、所定の基準ターゲットを有する大域的領域、および所定の基準ターゲットを有する局所的領域を含み、前記制御装置は、下層パターンに対して上層パターンの局所的領域をイメージングするために下層パターンの大域的領域内の基準ターゲットを使用し、前記制御装置は、走査制御データを修正して、下層パターンに対する上層パターンのイメージングされる局所的領域のミスレジストレーションを低減するために下層パターンの局所的領域内の基準ターゲットの決定された偏位を使用する請求項２２の装置。
27. 前記イメージング装置は、それぞれのパターンのための走査制御データに従って適用されるそれぞれのパターンの画像データによりフォトレジスト層上に各々の前記パターンを直接イメージングする請求項２２の装置。
28. 前記走査手段は、それぞれの画像データによりそれぞれのパターンをイメージングするために、２つの直交軸に沿った露光ヘッドと基板との間の相対移動を発生し、基板の表面を走査する請求項２２の装置。
29. 前記基板の保持器は平らな保持器である請求項２８の装置。
30. 前記露光ヘッドは１つ以上のレーザを含む請求項２９の装置。
31. 前記平らな保持器の上の基板の表面を走査する前記走査制御データの制御下で、前記平らな保持器は長手軸方向に駆動され、かつ前記露光ヘッドは横方向に駆動される請求項２９の装置。

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