JP2004527908A - キャパシタを備える集積回路パッケージ - Google Patents

キャパシタを備える集積回路パッケージ Download PDF

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Abstract

装置は、第1の表面と第1の表面に露出された導電性接点とを有するパッケージを含んでいる。キャパシタは、パッケージの内部にある。キャパシタは、キャパシタの第1の表面に露出された第1導電性接点を有している。第1導電性接点は、キャパシタの第1の表面の幅に及んでいる第1部分を有している。キャパシタの第1の表面は、パッケージの第1の表面に略平行である。導電性経路は、キャパシタの第1導電性接点の第1部分をパッケージの第1の表面に隣接した第1導電性接点に接続する。

Description

【技術分野】
【0001】
本発明は、キャパシタを備える集積回路パッケージに関する。
【背景技術】
【0002】
デカップリングキャパシタは、例えば、電源の誘導性及び容量性の寄生成分によってコンピュータ回路内に発生されるノイズを取り除くために使用される。また、デカップリングキャパシタは、電源システムの過渡現象、例えば、プロセッサがシャットダウン又は起動される時に発生する電圧のオーバーシュートや減衰を抑制するために使用されてもよい。
【0003】
また、デカップリングキャパシタは、大電流量を要求する回路本体(ダイ:die)の一部に局在化されたダイの「ホットスポット」に追加電流を供給するために使用される。
【0004】
電源システムの過渡現象に対するデカップリングキャパシタのレスポンスタイムは、デカップリングキャパシタとダイとの間のインピーダンス(例えば、インダクタンス及び抵抗)によって制約を受ける。
【0005】
デカップリングキャパシタは、ダイがマウントされているパッケージに表面実装されることが可能である。工業上の動向は、装置の大きさを縮小し、パッケージ密度を増大する傾向にある。従って、キャパシタを表面実装するために利用できるパッケージの総面積はますます小さくなっている。
【発明を実施するための最良の形態】
【0006】
図1に示すように、パッケージ32は、第1の側面38と第2の側面40とを有している。ダイ30は、パッケージ32の第1の側面38上にマウントされている。ダイ30は、集積回路の能動素子及び受動素子の両方が組み立て可能なシリコン又は他の半導体の回路基板を含んでいる。ダイ30は、パッケージ32内のバイアス36により支持されているとともに、電気的接点として働くダイバンプ(die bump)34によりパッケージ32内のバイアス36に電気的に接続されている。他の電気的接続としては、例えばワイヤがダイバンプ34の代わりに使用されてもよい。バイアス36は、パッケージ32を通過し、ダイバンプ34をパッケージ32の内部のキャパシタ10上の接点12に電気的に接続している。
【0007】
例えば、キャパシタ10は、低抵抗、低インダクタンスである多層セラミックチップ(Multi-Layer Ceramic Chip:MLCC)キャパシタとすることが可能である。MLCCキャパシタの内部構成は、一般的に、互いに絶縁された多数の導電性の層を含んでいる。いずれの層も、一般的に、キャパシタ10上の所与の極性を有する接点12のすべてに接続されている。隣接する導電性の層は、一般的に、反対の極性の接点に接続されている。
【0008】
キャパシタ10は、キャパシタの幾何学的なサイズ、形及び重さを決定する工業規格フォームファクタ(industry standard form factor)を備えていてもよい。他のタイプのキャパシタが用いられてもよい。
【0009】
ホール群は、一般的に、パッケージ32の材料にあけられた穴である。ホール群の壁面は、金属でメッキされ、バイアス36を形成するために非導電性のエポキシ樹脂で満たされていてもよい。あるいは、ホール群は、バイアス36を形成するために導電性の材料で完全に満たされていてもよい。バイアス36は、パッケージ32から電流を流す導電性の経路を提供する。
【0010】
キャパシタ10は、示すように、2つの側面の各々に4つの接点12を持ち、合計で8つの接点を有することが可能である。各接点12は、(図2Aを参照。)キャパシタ10の2つの側面20、24の一方のすべてに及んでいる。また、接点12は、キャパシタ10の上表面14と底表面16とに部分的に及んでいる。
【0011】
側表面20、24に広がっている各接点12の部分15は、ダイバンプ34の隣の第1のパッケージ側面38とパッケージバンプ(Package bumps)42の隣の第2のパッケージ側面40とに平行である。パッケージバンプ42は、電源Vss及びVccへの接続点として働く電気的な接点である。他の導電性接続としては、例えば、ワイヤがパッケージバンプ42に換えて使用されてもよい。
【0012】
キャパシタ10の側表面20、24の一方に及んでいる各接点12の部分15の表面積は、キャパシタ10の上表面14又は底表面16のいずれかに広がっている接点12の部分13、17の表面積よりも大きくすることができる。よって、多数のバイアス36は、キャパシタ10の側表面20、24に広がる各接点12の部分15で終端することが可能である。多数のバイアス36は、図3に関する部分でより詳細を述べるように、各ダイバンプ34とキャパシタ10上の各接点12と各パッケージバンプ42との間で、低インピーダンス接続を形成するように平行に接続されることが可能である。
【0013】
図示された例は、相補型金属酸化膜半導体(CMOS)への適用に使用されているが、他の電圧及び電圧の組み合わせが使用されてもよい。例えば、ゲート ターンオフ ロジック(Gate Turnoff Logic:GTL)への適用では、Vss及びグランドがパッケージバンプ42にて接続される。
【0014】
図1に図示したパッケージ32は、コア層44、4つのビルドアップ層(buildup layers)46、2つの導電面48及びアンダーフィル(underfill)50を含んでいる。パッケージの内部の異なる層及び部品の設計および配置は変更することができる。例えば、パッケージ32はコア層44を1つ以上含んでいてもよい。コア層44は、一般的に、前もって形成され、補強されたエポキシ樹脂材料であるが、他の材料を含んでいてもよい。
【0015】
パッケージ32は、より多い又はより少ないビルドアップ層46を含んでいてもよい。ビルドアップ層46は、コア層44の材料に類似の材料で形成される。ビルドアップ層46は、一般的に、前もって形成されることはないが、前もって形成されたコア層44の上にエポキシ樹脂を流すことによって形成される。
【0016】
パッケージは、1つ以上の金属導電性面48を含んでいる。キャパシタ10を取り囲むアンダーフィル50は、エポキシ樹脂をベースとした材料であり、亀裂に対して耐性がある。
【0017】
図2A及び図2Bは、上述したようにパッケージ32内に備え得るキャパシタの例を図示している。キャパシタ10Aは、規格フォームファクタを備え、8個の互い違いの極性接点12を有している。「互い違いの極性」という文言は、各接点12の極性が、隣接した接点12の極性と相違しているということを意味する。例えば、1つの接点は5ボルトの電源に接続され、隣接した接点はグランドに接続されていてもよい。
【0018】
図2Bに示すように、キャパシタ10Bは、14個の互い違いの極性接点12を含んでいる。この例では、エンドキャップ26及び28もまた、接点として機能する。
【0019】
キャパシタは、より多い又はより少ない接点12を有していてもよく、接点12間において、相対的に異なる間隔を有していてもよい。単一のキャパシタ上で隣接する接点12は、一般的に異なる極性を持ち、接点12は、一般的にキャパシタの反対の側面に配置される。キャパシタの躯体11は、一般的にセラミックで形成されているが、他の材料で作られてもよい。
【0020】
図3に示すように、接点12の各々は、3本のバイアス36と接続されている。3本のバイアス36の各セットは、単一の接点12で一端を開始し、単一のダイバンプ34又は単一のパッケージバンプ42のいずれかで終端する。一般的に、1つ以上のバイアス36は、キャパシタ10上の各接点12と各ダイバンプ34又は各パッケージバンプ42との間で平行に接続されている。
【0021】
所定の接点12と所定のダイバンプ34又はパッケージバンプ42との間でこの方法により接続され得るバイアス36の最大数は、各バイアス36の大きさと、接点12の見かけの表面積と、所定のダイバンプ34又はパッケージバンプ42の見かけの表面積とに依存する。「見かけの表面積」の文言は、ひとつ以上のバイアス36が終端するその点において、バイアス36と略垂直で、かつバイアス36の経路内における接点12の部分、ダイバンプ34、又はパッケージバンプ42の表面積をいう。図1及び図3の配置は、接点12に対し比較的大きい見かけの表面積を提供する。従って、より多くのバイアス36が各接点12で終端され得る。
【0022】
図4に示されるように、パッケージ32Aは、並んで配置された多数のキャパシタ10K、10L・・・10Zを含んでいる。任意の数のキャパシタ10K、10L・・・10Zが、示されるように配置され得る。破線で示されたダイ30は、パッケージ32A上にマウントされている。
【0023】
キャパシタ10K、10L・・・10Zの各々の接点12は、アンダーフィル50の材料及び/又はコア層44の材料によって隣接するキャパシタの接点12から電気的に絶縁されることが可能である。あるいは、キャパシタ10K、10Lに対して示されるように、金属細片52が、隣接するキャパシタの接点12を電気的に接続するためにコア層44の材料及びアンダーフィル50上に直接形成されていてもよい。類似の接続が、キャパシタ10K及び10Lの反対の面で形成されることも可能である。その方法によれば、隣接するキャパシタ10K及び10Lは並列に接続されることができる。
【0024】
追加のバイアス36は、金属細片52上で直接終端されていてもよい。これによって、接点12にバイアス36を接続するために利用可能な見かけの表面積を更に増やすことができる。
【0025】
図4のパッケージの配置は、多数のキャパシタを所定の大きさのパッケージ32A中にはめ込む方法で、キャパシタ10K、10L・・・10Zを整列させる。そして、所定のパッケージの大きさに対して比較的大きいキャパシタンスが得られる。
【0026】
図5に示すように、他に取り得る代替可能な実施形態では、横列60A、60B・・・60K及び縦列70A・・・70Bに配置されたキャパシタ10を含むこともできる。
【0027】
パッケージ32は、次のような1つ以上の有利な点を与える。すなわち、電源接続部分とダイ又は他の種々の電気的負荷部分との間において高キャパシタンス、低インダクタンス及び低抵抗を提供し、また、電源システム過渡現象に対し改善された電源システムのレスポンスを提供する。
【0028】
改善された電源システムの安定性及び電源全体としてより高い保全性が達成され得る。また、このパッケージは、比較的小さなスペースで大きなキャパシタンス値を提供する。より小さい部品が製造され得るので、結果として、より有効なスペース利用が可能となる。
【0029】
パッケージ32は、キャパシタとダイとの間に比較的低い等価直列インダクタンス(Equivalent Series Inductance:ESL)と比較的低い等価直列レジスタンス(Equivalent Series Resistance:ESR)の導電性経路を提供することができる。加えて、所定のキャパシタンスを提供するために必要な材料の量がより少量でよいため、キャパシタンスの単位ユニット当たりのコストを下げることができる。
【0030】
更に、パッケージ32が工業規格に合わされ、容易に利用可能な部品に組み入れられるため、パッケージ32を製造することが比較的容易になる。
他の実施態様も、開示する特許請求の範囲内において実現可能である。
【図面の簡単な説明】
【0031】
【図1】キャパシタを備えるパッケージにマウントされたダイの横断面図である。
【図2A】キャパシタの斜視図である。
【図2B】キャパシタの斜視図である。
【図3】パッケージ内のキャパシタの斜視図である。
【図4】多数のキャパシタを含むパッケージの断面見取図である。
【図5】多数のキャパシタを含むパッケージの断面見取図である。

Claims (30)

  1. 第1の表面と前記第1の表面に露出された第1外部導電性接点とを有するパッケージと、
    前記パッケージの内部にあるキャパシタであって、前記キャパシタは前記キャパシタの第1の表面に露出された第1導電性接点を有し、前記第1導電性接点の第1部分は前記キャパシタの前記第1の表面の幅に及んでおり、前記キャパシタの前記第1の表面は前記パッケージの前記第1の表面に略平行であるキャパシタと、
    前記キャパシタの前記第1導電性接点の前記第1部分を前記第1外部導電性接点に接続する第1導電性経路とを備える装置。
  2. 請求項1の前記装置は、前記キャパシタの前記第1導電性接点の前記第1部分を前記第1外部導電性接点に平行に接続する複数の第1導電性経路を備える装置。
  3. 請求項1の前記装置は、前記キャパシタの前記第1導電性接点の前記第1部分を前記パッケージの前記第1の表面に略平行な前記パッケージの第2の表面に露出された第1外部導電性接点に接続する第2導電性経路を備える装置。
  4. 請求項1の前記装置は、前記キャパシタの前記第1導電性接点の前記第1部分を前記パッケージの前記第1の表面に略平行な前記パッケージの第2の表面に露出された第1外部導電性接点に平行に接続する複数の第2導電性経路を備える装置。
  5. 請求項1の前記装置は、前記キャパシタの第2の表面に及んでいる第2導電性接点の第1部分を前記パッケージの前記第1の表面に露出された第2外部導電性接点に接続する第2導電性経路を備え、前記キャパシタの前記第2の表面は前記パッケージの前記第1の表面に略平行である装置。
  6. 請求項1の前記装置は、前記キャパシタの第2の表面に及んでいる第2導電性接点の第1部分を前記パッケージの前記第1の表面に露出された第2外部導電性接点に平行に接続する複数の第2導電性経路を備え、前記キャパシタの前記第2の表面は前記パッケージの前記第1の表面に略平行である装置。
  7. 請求項1の前記装置は、前記キャパシタの第2の表面に及んでいる第2導電性接点の第1部分を前記パッケージの前記第1の表面に略平行な前記パッケージの第2の表面に露出された第2外部導電性接点に接続する第2導電性経路を備え、前記キャパシタの前記第2の表面は前記キャパシタの前記第1の表面の反対の位置にある装置。
  8. 請求項1の前記装置は、前記キャパシタの第2の表面に及んでいる第2導電性接点の第1部分を前記パッケージの前記第1の表面に略平行な前記パッケージの第2の表面に露出された第2外部導電性接点に平行に接続する複数の第2導電性経路を備え、前記キャパシタの前記第2の表面は前記キャパシタの前記第1の表面の反対の位置にある装置。
  9. 請求項1の装置において、前記キャパシタは、前記キャパシタの前記第1及び第2の表面に略垂直な第3及び第4の表面を備え、前記キャパシタの各接点は前記キャパシタの前記第3の表面の少なくとも一部に広がる第2部分と前記キャパシタの前記第4の表面の少なくとも一部に広がる第3部分とを有する装置。
  10. 請求項9の装置において、前記キャパシタの各接点の前記第2及び第3部分は、各々、前記接点の前記第1部分の表面積より小さい表面積を有する装置。
  11. 請求項1の装置において、前記キャパシタは工業規格フォームファクタを有する装置。
  12. 請求項1の装置おいて、前記キャパシタは多層セラミックチップキャパシタを備える装置。
  13. 第1の表面を有するパッケージと、
    前記パッケージの前記第1の表面に隣接した第1導電性ダイ接点を有するダイと、
    前記パッケージの内部に設けられたキャパシタであって、前記キャパシタは前記キャパシタの第1の表面に露出された第1導電性接点を有し、前記第1導電性接点の第1部分は前記キャパシタの前記第1の表面の幅に及んでおり、前記キャパシタの前記第1の表面は前記パッケージの前記第1の表面に略平行であるキャパシタと、
    前記キャパシタの前記第1導電性接点の前記第1部分を前記第1導電性ダイ接点に接続する第1導電性経路とを備える装置。
  14. 請求項13の前記装置は、前記キャパシタの前記第1導電性接点の前記第1部分を前記第1導電性ダイ接点に平行に接続する複数の第1導電性経路を備える装置。
  15. 請求項13の前記装置は、前記キャパシタの前記第1導電性接点の前記第1部分を電源に接続する第2導電性経路を備える装置。
  16. 請求項13の前記装置は、前記キャパシタの前記第1導電性接点の前記第1部分を電源に平行に接続する複数の第2導電性経路を備える装置。
  17. 請求項13の前記装置は、前記キャパシタの前記第1導電性接点の前記第1部分を前記パッケージの前記第1の表面に略平行な前記パッケージの第2の表面に露出された第1外部導電性接点に接続する第2導電性経路を備える装置。
  18. 請求項13の前記装置は、前記キャパシタの第2の表面の幅に及んでいる第2導電性接点の第1部分を前記パッケージの前記第1の表面に露出された前記ダイの第2導電性接点に接続する第2導電性経路を備え、前記キャパシタの前記第2の表面は前記パッケージの前記第1の表面に略平行である装置。
  19. 請求項13の前記装置は、前記キャパシタの第2の表面の幅に及んでいる第2導電性接点の第1部分を前記パッケージの前記第1の表面に露出された前記ダイの第2導電性接点に平行に接続する複数の第2導電性経路を備え、前記キャパシタの前記第2の表面は前記パッケージの前記第1の表面に略平行である装置。
  20. 請求項13の前記装置は、前記キャパシタの第2の表面の幅に及んでいる第2導電性接点の第1部分を電源に接続する第2導電性経路を備え、前記キャパシタの前記第2の表面は前記パッケージの前記第1の表面に略平行である装置。
  21. 請求項13の前記装置は、前記キャパシタの第2の表面の幅に及んでいる第2導電性接点の第1部分を電源に平行に接続する複数の第2導電性経路を備え、前記キャパシタの前記第2の表面は前記パッケージの前記第1の表面に略平行である装置。
  22. 請求項13の前記装置は、前記キャパシタの第2の表面の幅に及んでいる第2導電性接点の第1部分を前記パッケージの前記第1の表面に略平行な前記パッケージの第2の表面に露出された第2外部導電性接点に接続する第2導電性経路を備える装置。
  23. 請求項13の装置において、前記キャパシタは、前記キャパシタの前記第1及び第2の表面に略垂直な第3及び第4の表面を備え、前記キャパシタの各接点は前記キャパシタの前記第3の表面の少なくとも一部に広がる第2部分と前記キャパシタの前記第4の表面の少なくとも一部に広がる第3部分とを有する装置。
  24. 請求項23の装置において、前記キャパシタの各接点の前記第2及び第3部分は、各々、前記接点の前記第1部分の表面積より小さい表面積を有する装置。
  25. 請求項13の装置において、前記キャパシタの前記第1及び第2導電性接点は、異なる電圧に接続される装置。
  26. 請求項13の前記装置は、前記キャパシタの前記第1の表面に複数の導電性接点を備えるとともに前記キャパシタの前記第2の表面に複数の導電性接点を備え、
    前記複数の接点のいくつかは第1の電圧に接続され、前記複数の接点のいくつかは第2の電圧に接続される装置。
  27. 第1の表面を有するパッケージと、
    前記パッケージの前記第1の表面に露出された複数の導電性接点を有するダイと、
    前記パッケージの内部に並んで配置された複数のキャパシタであって、各キャパシタは、前記キャパシタの第1の表面に露出された第1導電性接点と前記キャパシタの第2の反対の表面に露出された第2導電性接点とを有し、各キャパシタの各導電性接点は、前記キャパシタの前記第1又は第2の表面の幅に及んでいる第1部分を各々有し、各キャパシタの前記第1及び第2の表面は、前記パッケージの前記第1の表面に略平行である複数のキャパシタと、
    各キャパシタの前記第1導電性接点の前記第1部分を前記ダイ上の前記導電性接点の少なくとも1つに接続する第1導電性経路とを備える装置。
  28. 請求項27の前記装置は、各キャパシタの前記第1導電性接点の前記第1部分を電源に接続する第2導電性経路を備える装置。
  29. 請求項27の前記装置は、各キャパシタの前記第2導電性接点の前記第1部分を前記ダイの前記導電性接点の少なくとも1つに接続する第2導電性経路を備える装置。
  30. 請求項27の前記装置は、各キャパシタの前記第2導電性接点の前記第1部分を電源に接続する第2導電性経路を備える装置。
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012134432A (ja) * 2010-12-24 2012-07-12 Dainippon Printing Co Ltd 部品内蔵配線板
JP2012204831A (ja) * 2011-03-23 2012-10-22 Ibiden Co Ltd 電子部品内蔵配線板及びその製造方法
JP2017107891A (ja) * 2015-12-07 2017-06-15 株式会社村田製作所 積層コンデンサの実装構造
JP2018006778A (ja) * 2014-05-07 2018-01-11 クアルコム,インコーポレイテッド 構成可能/制御可能等価直列抵抗を有する埋込みパッケージ基板キャパシタ

Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7339263B2 (en) * 2004-06-28 2008-03-04 Intel Corporation Integrated circuit packages, systems, and methods
DE102006048583B3 (de) * 2006-10-13 2008-01-31 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Bauelement mit mehreren Kontaktflächen und ein Kontaktierungsverfahren
US7545623B2 (en) * 2006-11-27 2009-06-09 Kemet Electronics Corporation Interposer decoupling array having reduced electrical shorts
KR100771146B1 (ko) * 2006-11-30 2007-10-29 한국과학기술원 단층 커패시터를 이용하는 시스템 인 패키지
US8222964B2 (en) * 2008-06-30 2012-07-17 Intel Corporation System, method and apparatus employing crystal oscillator
JP2010212595A (ja) 2009-03-12 2010-09-24 Murata Mfg Co Ltd パッケージ基板
US8288657B2 (en) * 2009-10-12 2012-10-16 International Business Machines Corporation Noise coupling reduction and impedance discontinuity control in high-speed ceramic modules
KR20110139983A (ko) * 2010-06-24 2011-12-30 삼성전자주식회사 반도체 패키지
KR20120034386A (ko) * 2010-10-01 2012-04-12 삼성전자주식회사 매립 디커플링 커패시터를 포함하는 회로 기판 및 이를 포함하는 반도체 패키지
US9263186B2 (en) * 2013-03-05 2016-02-16 Qualcomm Incorporated DC/ AC dual function Power Delivery Network (PDN) decoupling capacitor
KR101514518B1 (ko) * 2013-05-24 2015-04-22 삼성전기주식회사 전자부품 내장 인쇄회로기판 및 그 제조방법

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63122295A (ja) * 1986-11-12 1988-05-26 株式会社村田製作所 電子部品内蔵多層セラミツク基板
JPH07169649A (ja) * 1993-12-16 1995-07-04 Tdk Corp 積層貫通型コンデンサアレイ
JPH1187918A (ja) * 1997-09-08 1999-03-30 Murata Mfg Co Ltd 多層セラミック基板およびその製造方法
JP2000124352A (ja) * 1998-10-21 2000-04-28 Hitachi Ltd 半導体集積回路装置およびその製造方法
JP2001007531A (ja) * 1999-06-18 2001-01-12 Ngk Spark Plug Co Ltd 配線基板の製造方法
JP2002076637A (ja) * 2000-08-29 2002-03-15 Matsushita Electric Ind Co Ltd チップ部品内蔵基板及びその製造方法

Family Cites Families (24)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB2197540B (en) * 1986-11-12 1991-04-17 Murata Manufacturing Co A circuit structure.
US5177670A (en) * 1991-02-08 1993-01-05 Hitachi, Ltd. Capacitor-carrying semiconductor module
US5410107A (en) * 1993-03-01 1995-04-25 The Board Of Trustees Of The University Of Arkansas Multichip module
US5556811A (en) 1993-12-21 1996-09-17 Intel Corporation Method of optimizing operating parameters of an integrated circuit package having a voltage regulator mounted thereon
US5745333A (en) * 1994-11-21 1998-04-28 International Business Machines Corporation Laminar stackable circuit board structure with capacitor
JPH097877A (ja) * 1995-04-18 1997-01-10 Rohm Co Ltd 多層セラミックチップ型コンデンサ及びその製造方法
JPH0992983A (ja) * 1995-07-17 1997-04-04 Sumitomo Kinzoku Electro Device:Kk セラミック多層基板の製造方法
US6031283A (en) 1996-09-09 2000-02-29 Intel Corporation Integrated circuit package
US5923086A (en) 1997-05-14 1999-07-13 Intel Corporation Apparatus for cooling a semiconductor die
US5880925A (en) * 1997-06-27 1999-03-09 Avx Corporation Surface mount multilayer capacitor
US6058004A (en) * 1997-09-08 2000-05-02 Delaware Capital Formation, Inc. Unitized discrete electronic component arrays
US6241838B1 (en) * 1997-09-08 2001-06-05 Murata Manufacturing Co., Ltd. Method of producing a multi-layer ceramic substrate
JP2926132B1 (ja) * 1998-01-23 1999-07-28 セイコーインスツルメンツ株式会社 集束イオンビームによる二次イオン像観察方法
US5939782A (en) * 1998-03-03 1999-08-17 Sun Microsystems, Inc. Package construction for integrated circuit chip with bypass capacitor
JPH11307687A (ja) * 1998-04-16 1999-11-05 Ibiden Co Ltd パッケージ基板
JP2000244130A (ja) * 1998-12-25 2000-09-08 Ngk Spark Plug Co Ltd 配線基板、コア基板及びその製造方法
JP2000277369A (ja) * 1999-03-29 2000-10-06 Taiyo Yuden Co Ltd 積層セラミック電子部品とその導電ペースト
JP4060491B2 (ja) * 1999-07-08 2008-03-12 イビデン株式会社 パッケージ基板
JP4423707B2 (ja) * 1999-07-22 2010-03-03 Tdk株式会社 積層セラミック電子部品の製造方法
CN101232776B (zh) * 1999-09-02 2011-04-20 揖斐电株式会社 印刷布线板
US6228682B1 (en) * 1999-12-21 2001-05-08 International Business Machines Corporation Multi-cavity substrate structure for discrete devices
US6801422B2 (en) * 1999-12-28 2004-10-05 Intel Corporation High performance capacitor
US6441459B1 (en) * 2000-01-28 2002-08-27 Tdk Corporation Multilayer electronic device and method for producing same
JP4332634B2 (ja) * 2000-10-06 2009-09-16 Tdk株式会社 積層型電子部品

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63122295A (ja) * 1986-11-12 1988-05-26 株式会社村田製作所 電子部品内蔵多層セラミツク基板
JPH07169649A (ja) * 1993-12-16 1995-07-04 Tdk Corp 積層貫通型コンデンサアレイ
JPH1187918A (ja) * 1997-09-08 1999-03-30 Murata Mfg Co Ltd 多層セラミック基板およびその製造方法
JP2000124352A (ja) * 1998-10-21 2000-04-28 Hitachi Ltd 半導体集積回路装置およびその製造方法
JP2001007531A (ja) * 1999-06-18 2001-01-12 Ngk Spark Plug Co Ltd 配線基板の製造方法
JP2002076637A (ja) * 2000-08-29 2002-03-15 Matsushita Electric Ind Co Ltd チップ部品内蔵基板及びその製造方法

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012134432A (ja) * 2010-12-24 2012-07-12 Dainippon Printing Co Ltd 部品内蔵配線板
JP2012204831A (ja) * 2011-03-23 2012-10-22 Ibiden Co Ltd 電子部品内蔵配線板及びその製造方法
US9113575B2 (en) 2011-03-23 2015-08-18 Ibiden Co., Ltd. Wiring board with built-in electronic component and method for manufacturing the same
JP2018006778A (ja) * 2014-05-07 2018-01-11 クアルコム,インコーポレイテッド 構成可能/制御可能等価直列抵抗を有する埋込みパッケージ基板キャパシタ
JP2017107891A (ja) * 2015-12-07 2017-06-15 株式会社村田製作所 積層コンデンサの実装構造

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