JP2004523117A - 光学装置のヒートシンク上への取り付け - Google Patents
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Abstract
【選択図】図1
Description
【0001】
本発明は光学装置に関し、特に、限定するものではないが、レーザ、変調器、増幅器、スイッチング構造物及び似たもののような半導体光学活性又は光電子の装置のパッケージ化又は取り付けに関する。
【背景技術】
【0002】
活性領域を含む半導体装置において、活性領域を通過する電流は非放射性の再結合を介して熱を発生する。熱を放散するために、装置は典型的にはヒートシンクにくっ付けられ、又は結合される。典型的には、この装置は、ヒートシンクに密着する活性領域を配置することによって冷却を改善するように、接合部側を下げて動作される。装置の冷却を容易にするため、装置の両端(両切開面(ファセット))はヒートシンク上に突き出る。この配置は不利益を有し、熱は、伝導通路の欠乏により両切開面で蓄積し、性能の減退及び潜在的に破滅的な光学的鏡損傷(COMD)に帰着する両切開面での吸収増加を引き起こす。逆に、仮にヒートシンクが装置よりも長く作られるならば、ヒートシンクの縁部は放出光の幾ばくかをさえぎるであろう。又仮に装置をヒートシンクに結合するために用いられるハンダが典型的にたまたま装置の出力端で“固まる”と、このことはまた放出光を邪魔する。
【0003】
これらの不利益を克服しようと努めて用いられる従来の配置では、活性領域がヒートシンクの両側に対し鋭角で配置される装置が用いられる。それから、装置は、それの活性長さに実効的に同じ長さであるヒートシンク上に置かれる。この配置では、両切開面での熱放散を減少させる。不幸にも、この配置は高い製造上の公差を必要とし、他の光学構成部分、例えば光ファイバーへの結合を制限し、平行に配置された2つ又はそれ以上の活性領域を有する装置のためには使用できない。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
前述の1つ以上の不利益を除去するか又は軽減する半導体光学活性装置を提供することが、本発明の少なくとも1つの局面の少なくとも1つの実施形態の目的である。
【課題を解決するための手段】
【0005】
本発明の第1の側面によれば、活性領域及び該活性領域の1つ以上の端に与えられる光学受動領域を有する装置本体と、ヒートシンクとを備え、
装置本体及びヒートシンクは、活性領域の一端に隣接する少なくとも1つの光学受動領域の第1の端がヒートシンクの領域内に与えられ、少なくとも1つの光学受動領域の第2の端がヒートシンクの領域外に与えられるように、互いに熱的関係に維持されることを特徴とする光学活性装置が与えられる。
【0006】
活性領域は光学的にかつ電気的に活性な領域を有してもよい。
【0007】
最も好ましい形態では、活性領域は半導体装置であり、半導体装置は、好ましくは、600乃至1300nmの波長範囲で実質的に動作するガリウム-砒素(GaAs)又は1200乃至1700nmの波長範囲で実質的に動作するインジウム-燐(InP)などのIII―V族の半導体材料系で作られる。例えば、材料はAlGaAs又はInGaAsPであってもよい。
【0008】
装置本体は、レーザダイオードなどのレーザ装置、光変調器、光増幅器、光スイッチ又はその似たものから選択されてもよい。
【0009】
好ましくは、光学受動領域又はその1つは装置本体の出力にある。
【0010】
本発明に係る半導体レーザ装置を有する光学活性装置は、ヒートシンクの端・縁・側を越えて延伸する1つの光学受動領域を有してもよく、本発明に係る光増幅器は、ヒートシンクの対向する端・縁・側を越えてそれぞれが延伸する2つの光学受動領域を有してもよい。
【0011】
好ましくは、半導体装置は一体構造であってもよい。好ましくは、半導体装置は基板の上に成長するし、さもなければ形成されてもよい。更に好ましくは、半導体装置は第1の(又は下方)光クラッド・荷電キャリア閉じ込め層と第2の(又は上方)光クラッド・荷電キャリア閉じ込め層との間に挟まれる活性コア層を有する。“上方”及び“下方”は参照を容易にするためにここで用いられ、層の如何なる特定の好ましい配置を含蓄しない。実際に、使用では、装置は逆の配置を採用されてもよい。
【0012】
半導体装置は少なくとも第2の光クラッド層内に形成される峰部(又は肋骨部)を含み、使用中、半導体装置における光モードを平行方向で閉じ込めるように、峰部は光導波路として働く。
【0013】
好ましくは、活性コア層は光学活性領域として形作られる量子井戸(QW)構造を有する又はを含むであろうレーザ光放出材料からなり、光学活性領域は峰部によって閉じ込められる。
【0014】
それぞれの又は少なくとも1つの光学受動領域は光学活性領域と同じように平行方向へ延伸してもよい。
【0015】
好ましくは、光学受動領域はコア層内に第1の組成上無秩序な材料を含んでもよい。
【0016】
変更例では、光学活性領域はコア層内の第2の組成上無秩序な材料を有する平行方向領域と平行方向で境を接してもよい。
【0017】
有利なように、第1及び第2の組成上無秩序な材料は実質的には同じである。好ましくは、第1の組成上無秩序な材料は量子井戸混合(QWI)技術によって形成されてもよい。QWI技術で、活性コア層内での量子井戸の量子井戸閉じ込めを消し去ってもよい。
【0018】
より好ましくは、量子井戸混合は実質的に不純物無しであってもよい。QWI領域は“青色へシフト”されてもよく、それは典型的には少なくとも20乃至30meVであり、おそらくおよそ100meVであり、又はより大きな違いが、電流を注入(ポンプ)された光学活性領域の禁制帯幅とQWI光学受動領域の禁制帯幅との間に存在する。光学受動領域はより大きな禁制帯幅エネルギーを有し、また、それ故に光学活性領域よりも小さな吸収作用を有してもよい。
【0019】
つまり、光学活性領域が電気的に駆動されると、光学受動領域は熱放散を装置本体の端に限定する。減少した熱放散により、ヒートシンクの両端に渡って装置本体の端を位置付けすることができる。このことは、装置の入力又は出力ビームを妨げないようにし、他の光学装置、例えば光ファイバーケーブルへ又はから結合するために、構造の両端で入力又は出力ビームへはっきりとアクセスする。
【0020】
典型的には、受動領域は長さにおいておよそ10乃至100μmであってもよい。
【0021】
好ましくは、装置は、また、少なくとも第2のクラッド層及び第2のクラッド層の上方表面並びに第1のクラッド層の(下方)表面、又はより好ましくは、基板の下方面の一部に接触する電気的接触材料のそれぞれの層を有する。接触材料の1つは峰部の上方表面上に与えられる。
【0022】
好ましくは、ヒートシンクは大きな熱伝導の材料から作られ、少なくとも部分的に銅、ダイヤモンド、シリコン、窒化アルミニウム又はその似たものを有する。
【0023】
好ましくは、また、ヒートシンクは接触材料の1つに寄せてハンダ接触又は熱的同等物で置かれる。
【0024】
好ましくは、第2のクラッド層は、第1のクラッド層よりもヒートシンクに接近するように向けられる。この構成は“接合部側下がり”と名付けられ、できるだけ活性領域をヒートシンクに接近させるようにすることにより、改善された効率になる冷却構成が与えられる。
【0025】
本発明の第2の側面によれば、
(a)活性領域及び該活性領域の1つ以上の端に与えられる光学受動領域を有する装置本体を製造する工程と、
(b)ヒートシンク及び装置本体を、活性領域の一端に隣接する光学受動領域の少なくとも1つの第1の端がヒートシンクの領域内に与えられ、少なくとも1つの光学受動領域の第2の端がヒートシンクの領域外に与えられるように、互いに熱的関係で位置付ける工程と、を有する光学活性装置を形成する方法が与えられる。
【0026】
好ましくは、工程(a)は、
(i)第1の光クラッド・荷電キャリア閉じ込め層と、随意に量子井戸(QW)構造が形成される光学及び・又は電気的活性層を有する活性層と、第2の光クラッド・荷電キャリア閉じ込め層とを順に形成し、
(ii)光学受動領域を活性層に形成し、
(iii)光学受動領域の少なくとも1つ及び活性層を閉じ込めるために、第2のクラッド層の少なくとも一部から峰部を形成する、
ことを有する。
工程(i)は、分子ビームエピタクシ(MBE)又は有機金属化学気相成長法(MOCVD)のような知られた成長技術によって実施されてもよい。
【0027】
好ましくは、工程(ii)で、受動領域は、該受動領域で空隙を生成し、又は他の場合には、イオンを受動領域内に打ち込む又は拡散し、成長したとき量子井戸構造より大きな禁制帯幅を有し(レーザ光放出材料からなってもよい)光学活性層の組成上無秩序な領域を作るために、更にアニールすることを有する量子井戸混合(QWI)技術によって形成されてもよい。
【0028】
好ましくは、工程(iii)は知られたエッチング技術によって達成されてもよい。
【0029】
好ましくは、ヒートシンクは第2のクラッド層に隣接する面に固定される。それ故、この実施の形態では、ヒートシンクは“接合部側下がり”構成で峰部の上方表面に取り付けられる。
【0030】
好ましくは、第1のクラッド層は基板の上に形成されてもよい。変更例では、ヒートシンクは基板の表面に取り付けられてもよい。
【0031】
好ましくは、工程(ii)は不純物無しの空隙を生成することによって実施されてもよく、更に好ましくは、量子井戸混合を達成するために損傷誘起技術を用いてもよい。そのような技術を好ましく実行するため、本方法は、
ダイオードスパッター装置の使用によって実質的にアルゴン雰囲気で、シリカ(SiO2)などの誘電体層を半導体レーザ装置材料の表面の少なくとも一部分上に、少なくとも誘電体層に隣接する材料の一部分に点構造欠陥をもたらすように、堆積する工程と、
プラズマ強化化学気相成長法(PECVD)のような非スパッタリング技術によって、更なる誘電体層をその材料の表面の少なくとも他の部分上に随意に堆積する工程と、
その材料をアニールし、それによってガリウムをその材料から誘電体層へ移す工程と、
を含んでもよい。そのような技術は、本出願人による“光学装置を製造する方法及び関連する改良”と題する出願係属中に開示されている。この出願は本願と同じ出願日を有し、その内容は本願に包含される。
【0032】
好ましくは、本方法は、第1及び第2の電気的接触層を第1のクラッド層の表面に、より好ましくは、基板の外側表面及び峰部の外側表面にあてがう工程を含んでもよい。
【0033】
本発明の更なる実施形態では、工程(ii)は、
第1に、第1の領域を選択し、第1の組成上無秩序な材料をその領域で形成する工程と、
第2に、第2の領域を選択し、第2の組成上無秩序な材料をその領域で形成する工程とを有する。第1及び第2の組成上無秩序な材料は、装置本体の第1及び第2の端で第1及び第2の受動領域を与えてもよい。
【0034】
変更例では、本方法は、好ましくは工程(ii)で、活性層と平行方向に境を接する組成上無秩序な材料の領域を形成することを含んでもよい。これらの領域は峰部が装置の光モードを閉じ込めるのを助ける。
【発明を実施するための最良の形態】
【0035】
次に、本発明に係る実施形態が、例示としてのみによって、添付図面を参照して説明される。
【0036】
図1及び図2を参照して、本発明の第1の実施形態にしたがって、全体的に10で示される光学活性装置が描かれている。装置10は、装置本体12から構成され、本実施形態では、装置本体12は光学活性な又は光利得領域14を定める半導体材料から製造され、領域14はそれの第1及び第2の端部16及び18で境をそれぞれ光学受動領域20及び22で限られる。受動領域20及び22の外側端部24及び26は装置10の両端部又は両切開面(ファセット)23及び24を定める。
【0037】
ヒートシンク28は、装置本体12と熱的に関係し、利得領域14の両端部16及び18で受動領域20および22の内側両端部16及び18がヒートシンク28の領域又は範囲“A”内に与えられ、第2の端部24及び26が、図1の向きで見えるように、領域28の外側に与えられるように配置される。
【0038】
この配置では、ヒートシンク28上に突き出る受動領域20及び22が与えられる。そのような配置は、光増幅器のような光学活性装置10のために用いられてもよく、アクセスがそれの入出力端で要求される。つまり、受動領域20及び22は、装置10の光学活性領域の対向端部24及び26を越えて延びる装置10の入出力導波路として考慮されてもよい。
【0039】
さて、見えるように、ラインX−Xに沿った断面での図1の装置10を示す図2を参照して、装置10aは一体構造であり、基板30上で成長する。装置本体12は、層構造であり、基板30と、その上で分子ビームエピタクシ(MBE)又は分子有機化学気相成長法(MOCVD)などの知られた技術によって成長させられるのだが、第1の光クラッド・荷電キャリア閉じ込め層36と、半導体レーザ光放出材料などを有する活性・ガイド層32と、第2の光クラッド・荷電キャリア閉じ込め層34と、有益に半導体接触層40とから構成される。
【0040】
装置本体12は、ふさわしいエッチング技術によって第2のクラッド層34内に形成される導波路38を含む。峰部38は光学活性領域14及び光学受動領域20及び22(図示せず)内に光ビームを閉じ込める。峰部38は装置10及び10aの端部24及び26間で延伸する。
【0041】
峰部38の外に面する表面上及び基板30下方には、装置10を電気的に駆動するために用いられる電気的接触層41および42がそれぞれ置かれる。
【0042】
本実施形態の好ましい形態では、活性層32は活性層32に埋め込まれた量子井戸構造54を備え、峰部38の閉じ込めにより、利得領域14は活性層32に置かれる。
【0043】
本実施形態の変形例では、利得領域14は、利得領域14の量子井戸構造54内に光ビームを閉じ込めることを狙う量子井戸混合(QWI)領域50及び52と平行方向で境を接している。
【0044】
図1に再び戻り、活性層32内の受動領域24及び26は、より大きな禁制帯幅(バンド・ギャップ)のエネルギー及びそれ故に活性層32内の利得領域14の量子井戸構造よりも小さな(光)吸収を与える量子井戸混合領域を備える。このことにより、活性領域14が電流を注入されると、装置10の冷却を与えるヒートシンク28の領域への熱接触で熱放散が活性領域14の両端16及び18で与えられ、一方、受動領域20及び22はヒートシンク28上に突き出て、より少ない熱を放散する。受動領域20及び22の両端24及び26はヒートシンク28から如何なる邪魔をも受けず、つまり、例えば他の光学装置への入出力結合のため装置10の両端24及び26へのはっきりしたアクセスを与える。図2に示されるように、装置10は“接合部側下げ”構成で配置され、それで利得領域14は可能な限りヒートシンク28に密接する。使用中、ヒートシンク28は最も下方であり、(逆さにされた)装置本体12は最も上方であろうことは理解されるであろう。
【0045】
装置10では、ヒートシンク28と利得領域14との間の距離は、典型的にはおよそ2乃至5μmになりそうである。
【0046】
ヒートシンク28はよい熱的特性を有する材料から選ばれる。本実施形態では、ヒートシンク28は実質的に銅を有する。しかしながら、ダイヤモンド、シリコン及び窒化アルミニウムなどの他の材料もまた適当である。ヒートシンク28は接触層41にハンダ付けされ、さもなければ接着される。
【0047】
QW(量子井戸)混合領域は、図1及び図2で示される活性層32において、受動領域20及び22である。峰部38は利得領域14及び受動領域20及び22の上方に形成される。
【0048】
図2に再び戻り、GaAs又はInPなどのIII―V族の半導体材料で作られる本発明の実施形態にしたがって光学活性装置10の製造のための方法が述べられる。
【0049】
その方法は基板層30を与えることで始まる。基板は、本実施形態では、ガリウム-砒素(GaAs)であり、n型に強くドープされている。第1のクラッド層36は基板層30上に成長する。第1のクラッド層36は、アルミニウム-ガリウム-砒素(AlGaAs)から成り、第1の濃度でn型にドープされている。例えば、およそ3.0乃至3.5の屈折率を有する第1のクラッド層36は、典型的には3μm厚みにある。半導体光学活性層32が第1のクラッド層36上に成長する。活性層32もまたAlGaAsを有する。層32は実質的には真性である。例えば、およそ3.0乃至3.5の屈折率を有する活性層32は、典型的には、数100nm厚みになるまで成長する。活性層32内で、量子井戸(QW)構造54が与えられる。QW構造54は典型的には層32の中央に埋め込まれる。
【0050】
第2のクラッド層34が活性層32上に成長する。第2のクラッド層34は第1の濃度に似たドーピング濃度でp型である。第2のクラッド層34もまた、第1のクラッド層36と似た厚み、組成及び屈折率を有するAlGaAsから作られる。つまり、量子井戸(QW)構造54はn型の第1のクラッド層36とp型の第2のクラッド層34との間に挟まれる。活性層32はクラッド層34及び36よりも低いアルミニウム含有量である。活性層32はクラッド層34及び36よりも大きな屈折率を有する。
【0051】
次いで、選択されたQWIマスクが、少なくとも峰部38が定められるであろう装置10の一部分上にわたって置かれるが、マスクされない(形成されるべき受動領域20及び22と一致する)部分が残される。量子井戸構造内に量子井戸混合(QWI)を作るために好ましく用いられる技術は空隙を用いる損傷誘起技術である。しかしながら、量子井戸構造54とQW混合受動領域20及び22間の禁制帯幅での違いを達成する如何なる他の量子井戸混合技術もこの発明内で使われ得る。損傷誘起技術は、ダイオードスパッター装置の使用によって実質的にアルゴン雰囲気で、シリカ(SiO2)などの誘電体層を半導体レーザ装置材料の表面の少なくとも一部分上に、少なくとも誘電体層に隣接する材料の一部分に点構造欠陥をもたらすように、堆積し、
プラズマ強化化学気相成長法(PECVD)のような非スパッタリング技術によって、更なる誘電体層をその材料の表面の少なくとも他の部分上に随意に堆積し、
その材料をアニールし、それによってガリウムをその材料から誘電体層へ移す、ことが必要である。
【0052】
一旦、装置本体12がアニールされると、峰部38のいずれかの側での定められるべき第2のクラッド層34の部分が、一旦ふさわしいエッチングマスク峰部38を定める領域に渡って置かれると、知られたエッチング技術によって、エッチングで取り除かれる。
【0053】
図2から分かるように、装置本体12の成長時に、最後の層40が第2のクラッド層34上で成長し、最後の層40は強くp型にドープされたGaAs層40になる。最後の層40は装置本体12のための上方接触部として働く。
【0054】
接触金属化部41及び42は、知られたリソグラフィー技術によって、装置本体12の電気的駆動を許すように、峰部38上及び基板30上に形成される。最後に、装置本体12はヒートシンク28に固定される。
【0055】
つまり、図2の断面図で示される装置本体12は一体構造の半導体活性装置である。装置10の活性領域14は活性層32内にあり、上方の峰部38によって量子井戸構造で閉じ込められる。
【0056】
さて図3を参照して、本発明の第2の実施形態にしたがって、全体的に10aで示される光学活性装置が示されている。装置10aは第1の実施形態の半導体装置10との類似を有し、したがって、似た部品は同じ命名法を与えられるものの、接尾辞 “a”が添付される。
【0057】
装置10aは活性領域14aを有する装置本体部12を備え、活性領域14aは一端18a上で光学受動領域22aと境を接し、第1の端25aを有する。利得領域14aの他の端16a及び受動領域22aの第2の端26aは装置10aの両端を定める。
【0058】
ヒートシンク28aは、装置本体12と熱的に関係し、利得領域14aの両端部16a及び18aがヒートシンク28aの範囲A内に与えられ、受動領域22aの第2の端部26aがヒートシンク28aの範囲Aの外側にあるように、配置される。
【0059】
この実施形態では、ヒートシンク28上に“突き出る”受動領域22aが与えられる。そのような配置は、半導体レーザダイオードのような光学活性装置のために用いられてもよく、装置10aの出力は端26aで光学活性装置に与えられる。
【0060】
装置10aの層構造は、図1及び図2を参照して第1の実施形態のために以前に述べられたようになっている。受動領域26は、より大きな禁制帯幅を与える量子井戸混合(QWI)領域であり、それ故に、利得領域14aのQW構造よりも小さな(光)吸収を与える。
【0061】
この配置は、利得領域14aの両端部16a及び18aがヒートシンク28aとのよい熱的接触で与えられ、一方、例えばファイバー又は他の装置への出力結合のため、装置10aの出力端26aにはっきりとアクセスすることにおいて、利点を有する。
【0062】
装置10aは、装置10のために以前に述べられた方法に似た又は同じである方法によって製造されてもよい。
【0063】
変更が、本発明の範囲から逸脱することなく以前に述べられた実施形態になされてもよいことは、本技術に熟練した者たちによって理解できるであろう。
【0064】
本発明の原理的利点は、ヒートシンク上に突き出る光学装置の端(両端)で受動領域を提供することによって、装置の両切開面での加熱に関係する問題が、領域が活性で無いとき改善される、ということが理解されるであろう。本発明の更なる利点は、装置への結合が、入出力ビームが妨げられなくかつヒートシンクによって影響されないことを確実にするところの突き出る受動領域/導波路によって、より容易になされることである。
【0065】
変更において、埋め込まれたヘテロ構造の導波路がリッジ導波路よりもむしろ使用されることも理解されるであろう。さらに、大きな光学空洞(LOC)、非共鳴反射光導波路(ARROW),広域光導波路(WOW)又はその似たもののような他の導波路が使用され得る。
【図面の簡単な説明】
【0066】
【図1】本発明の第1の実施例による光学活性装置の断面図である。
【図2】図1の光学活性装置のX−X’線に沿った断面図である。
【図3】本発明の第2の実施例による光学活性装置の断面図である。
Claims (36)
- 活性領域及び該活性領域の1つ以上の端に与えられる光学受動領域を有する装置本体と、ヒートシンクとを備え、
前記装置本体及び前記ヒートシンクは、前記活性領域の一端に隣接する少なくとも1つの前記光学受動領域の第1の端が前記ヒートシンクの領域内に与えられ、少なくとも1つの前記光学受動領域の第2の端が前記ヒートシンクの領域外に与えられるように、互いに熱的関係に維持されることを特徴とする光学活性装置。 - 前記活性領域は光学的にかつ電気的に活性な領域を有することを特徴とする請求項1に記載の光学活性装置。
- 前記活性領域はIII―Y族の半導体材料系で作られる半導体装置であることを特徴とする請求項1又は2に記載の光学活性装置。
- 前記III―V族の半導体材料系は、600乃至1300nmの波長範囲で実質的に動作するガリウム-砒素(GaAs)を基本とする系及び1200乃至1700nmの波長範囲で実質的に動作するインジウム-燐(InP)を基本とする系から選ばれることを特徴とする請求項3に記載の光学活性装置。
- 前記装置本体は、レーザ装置、光変調器、光増幅器及び光スイッチから選択される1つであることを特徴とする請求項1〜4のいずれか一項に記載の光学活性装置。
- 前記光学受動領域又はその1つは前記装置本体の出力にあることを特徴とする請求項1〜5のいずれか一項に記載の光学活性装置。
- 前記光学活性装置は半導体レーザ装置であり、1つの光学受動領域は前記ヒートシンクの縁を越えて延伸することを特徴とする請求項1〜6のいずれか一項に記載の光学活性装置。
- 前記光学活性装置は光増幅器であり、2つの光学受動領域が与えられ、それぞれの光学受動領域は前記ヒートシンクの対向縁を越えて延伸することを特徴とする請求項1〜7のいずれか一項に記載の光学活性装置。
- 前記半導体装置は基板の上に成長する一体構造であることを特徴とする請求項3〜8のいずれか一項に記載の光学活性装置。
- 前記半導体装置は第1の光クラッド層と第2の光クラッド層との間に挟まれる活性コア層を有することを特徴とする請求項3〜9のいずれか一項に記載の光学活性装置。
- 前記半導体装置は少なくとも前記第2の光クラッド層内に形成される峰部を含み、使用中、前記半導体装置における光モードを平行方向で閉じ込めるように、前記峰部は光導波路として働くことを特徴とする請求項10に記載の光学活性装置。
- 前記活性コア層は前記光学活性領域として形作られる量子井戸(QW)構造を有する又は含むレーザ光放出材料を有し、前記光学活性領域は前記峰部によって閉じ込められることを特徴とする請求項11に記載の光学活性装置。
- それぞれの又は少なくとも1つの光学受動領域は前記光学活性領域と同じように平行方向へ延伸することを特徴とする請求項1〜12のいずれか一項に記載の光学活性装置。
- 前記光学受動領域は前記コア層内に第1の組成上無秩序な材料を含むことを特徴とする請求項10〜13のいずれか一項に記載の光学活性装置。
- 前記光学活性領域は前記コア層内の第2の組成上無秩序な材料を有する平行方向領域と平行方向で境を接することを特徴とする請求項14に記載の光学活性装置。
- 前記第1及び第2の組成上無秩序な材料は実質的には同じであることを特徴とする請求項15に記載の光学活性装置。
- 前記第1の組成上無秩序な材料は量子井戸混合(QWI)技術によって形成されることを特徴とする請求項14〜16のいずれか一項に記載の光学活性装置。
- 前記受動領域は長さにおいておよそ10乃至100μmであることを特徴とする請求項1〜17のいずれか一項に記載の光学活性装置。
- 前記装置は、また、少なくとも前記第2のクラッド層の上方表面及び前記基板の対向面の一部に接触する電気的接触材料のそれぞれの層を備えることを特徴とする請求項10〜18のいずれか一項に記載の光学活性装置。
- 前記接触材料の1つは前記峰部の表面上に与えられることを特徴とする請求項19に記載の光学活性装置。
- 前記ヒートシンクは大きな熱伝導の材料から作られることを特徴とする請求項1〜20のいずれか一項に記載の光学活性装置。
- 前記大きな熱伝導の材料は少なくとも部分的に銅、ダイヤモンド、シリコン又は窒化アルミニウムを有することを特徴とする請求項21に記載の光学活性装置。
- 前記ヒートシンクは接触材料の1つに寄せてハンダ接触で置かれることを特徴とする請求項19〜22のいずれか一項に記載の光学活性装置。
- 前記第2のクラッド層は、前記第1のクラッド層よりも前記ヒートシンクに接近するように向けられることを特徴とする請求項10〜23のいずれか一項に記載の光学活性装置。
- (a)活性領域及び該活性領域の1つ以上の端に与えられる光学受動領域を有する装置本体を製造する工程と、
(b)ヒートシンク及び前記装置本体を、前記活性領域の一端に隣接する前記光学受動領域の少なくとも1つの第1の端が前記ヒートシンクの領域内に与えられ、少なくとも1つの前記光学受動領域の第2の端が前記ヒートシンクの領域外に与えられるように、互いに熱的関係で位置付ける工程と、
を有することを特徴とする光学活性装置を形成する方法。 - 前記工程(a)は、
(i)第1の光クラッド・荷電キャリア閉じ込め層と、随意に量子井戸(QW)構造が形成される光学及び・又は電気的活性層を有する活性層と、第2の光クラッド・荷電キャリア閉じ込め層とを順に形成し、
(ii)光学受動領域を前記活性層に形成し、
(iii)前記光学受動領域の少なくとも1つ及び前記活性層を閉じ込めるために、前記第2のクラッド層の少なくとも一部から峰部を形成する、
ことを有することを特徴とする請求項25に記載の光学活性装置を形成する方法。 - 前記工程(i)は、分子ビームエピタクシ(MBE)及び有機金属化学気相成長法(MOCVD)から選択される成長技術によって実施されることを特徴とする請求項26に記載の光学活性装置を形成する方法。
- 前記工程(ii)で、前記受動領域は、該受動領域で空隙を生成し、成長したとき前記量子井戸構造より大きな禁制帯幅を有する前記光学活性層の組成上無秩序な領域を作るために、更にアニールすることを有する量子井戸混合(QWI)技術によって形成されることを特徴とする請求項26又は27に記載の光学活性装置を形成する方法。
- 前記工程(iii)はエッチングによって達成されることを特徴とする請求項26〜28のいずれか一項に記載の光学活性装置を形成する方法。
- 前記ヒートシンクは前記第2のクラッド層に隣接する面に固定されることを特徴とする請求項26〜29のいずれか一項に記載の光学活性装置を形成する方法。
- 前記方法の前記工程(ii)は、
ダイオードスパッター装置の使用によって実質的にアルゴン雰囲気で、シリカ(SiO2)などの誘電体層を前記半導体レーザ装置材料の表面の少なくとも一部分上に、少なくとも誘電体層に隣接するその材料の一部分に点構造欠陥をもたらすように、堆積する工程と、
プラズマ強化化学気相成長法(PECVD)のような非スパッタリング技術によって、更なる誘電体層をその材料の表面の少なくとも他の部分上に随意に堆積する工程と、
その材料をアニールし、それによってイオン又は原子をその材料から誘電体層へ移す工程と、
を含むことを特徴とする請求項26〜30のいずれか一項に記載の光学活性装置を形成する方法。 - 前記方法は、第1及び第2の電気的接触層を前記基板の表面及び前記峰部の対向面にあてがう工程を含むことを特徴とする請求項26〜31のいずれか一項に記載の光学活性装置を形成する方法。
- 前記工程(ii)は、
第1に、第1の領域を選択し、第1の組成上無秩序な材料をその領域で形成し、
第2に、第2の領域を選択し、第2の組成上無秩序な材料をその領域で形成し、
第1及び第2の組成上無秩序な材料は、前記装置本体の第1及び第2の端で第1及び第2の受動領域を与えることを特徴とする請求項26〜32のいずれか一項に記載の光学活性装置を形成する方法。 - 前記方法は前記活性層と平行方向に境を接する組成上無秩序な材料の領域を形成することを含むことを特徴とする請求項25〜33のいずれか一項に記載の光学活性装置を形成する方法。
- 添付図面を参照して記述されたような光学装置を製造する方法。
- 添付図面を参照して記述されたような光学装置。
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US5327444A (en) * | 1989-04-20 | 1994-07-05 | Massachusetts Institute Of Technology | Solid state waveguide lasers |
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