JP2004331494A - 水素化ホウ素のフッ素化プロセス - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 水素化ホウ素塩を直接フッ素化し、化学式Ma[RbZcBdHeFy]k、の化合物を製造するための液相プロセスにおいて、該水素化ホウ素塩がフッ素化された水素化ホウ素塩を形成するための条件下でフッ素と接触し、
水と無水HFの間の酸度を有する反応媒体の存在下で該水素化ホウ素塩をフッ素化することを含んで成る、液相プロセスの改良された方法を提供する。
【選択図】 なし
Description
例えばyが10〜12である水素化ホウ素アニオンの高レベルのフッ素化を達成できること;
優れた収率及び反応効率を達成できること;
キャリヤー中への反応体の高充填を達成できること;及び
副生成物の形成による収率の損失を最小限に抑えることができること
を含む。
HB12H12 - + HB12H12 - → HB24H22 3- + H+ + H2 (1)
[無水HF中でのK2B12H12のフッ素化]
対照標準を与えるために、K2B12H12約300mg(1.4mmol)を無水HF30mL中に溶解し(1%充填)、該溶液を25℃で2時間放置した。水素を排気した後、該溶液を−30℃まで冷却し、該溶液に20%F2/N2を通気してフッ素化した。約8mmolのフッ素を添加した後、スパージャーを完全に塞いでフッ素の添加を停止した。真空下で溶媒を除去し、粗生成物の19F NMR分析によって、B12F2H10 2-、B12F3H9 3-、B12F11H2-、及びB12F12 2-のアニオン、並びに少量のBF4 -の混合物が示された。完全なフッ素化は、この例示的な先行技術の手順では達成されなかった。
[無水HF中でのCs2B12H12のフッ素化]
K2B12H12の代わりにCs2B12H12を使用したこと以外は、例1の手順に従った。生成物のフッ素NMRスペクトルによって、B12H10F2 2-、B12H9F3 3-(HFのみとの反応による生成物)、及びB12HF11 2-、並びにB12F12 2-の存在が示された。中程度の数のフッ素原子を有する誘導体はほとんどなかった。
[無水HF及びBF3を用いたK2B12H12のフッ素化]
F2スパージャーのプラギングを克服するために、BF3を添加して反応媒体の酸度を高くした。HF10ml中K2B12H121g(4.5mmol)のスラリーに、約10mmolのBF3を20℃で添加した。BF3は、溶液上の反応器ヘッドスペースにいくつかに分割して添加した。なぜなら、BF3は最初直ちに溶解するが、それに応じて水素が発生し、結局はBF3の添加量が制限されることが観測されたからである。水素を排気してからでしか、更なるBF3の添加を行うことができなかった。反応完了時に、無色の固体生成物を残して揮発性物質を除去した。19F NMRによって、主なドデカボレートのクラスターアニオンとしてB12F4H8 2-が示された。
K2B12H12 + (2+x)HF + 2BF3 → H2B12H12-xFx +
xH2 + 2KBF4 (2)
[無水HF中でのLi2B12H12のフッ素化(3%充填)]
リチウムのドデカボレート塩を3%充填で用いたこと以外は、例1の手順に従った。Li2B12H12約1.0g(6.4mmol)を無水HF30mL中に溶解し、該溶液を25℃で2時間放置した。水素を排気した後、該溶液を−30℃まで冷却し、該溶液に20%F2/N2を通気してフッ素化した。最初は無色の溶液が、急に濃青色(恐らくラジカルアニオンの形成を示す)に変化するまでフッ素を添加した(約65mmol)。HFを乾燥するまで排気して無色の固体が残った。粗生成物の19F NMR分析によって、少量のBF4 -とともに、主としてB12F12 2-及びB24F22 4-が8.3/1のモル比で示された。
[無水HF中でのLi2B12H12のフッ素化(30%充填)]
比較例4の手順に従って、フッ素化プロセスにおけるより高充填の反応体の効果を明らかにした。Li2B12H12、5.0g(32mmol)を無水HF15ml中に溶解し、該溶液を25℃で2時間放置した。水素を排気した後、該溶液を−30℃まで冷却し、該溶液に20%F2/N2を通気してフッ素化した。非常に急速に固体が溶液中に形成し始めた。150mmolのフッ素を添加した後、多量の無色固体が形成し、フッ素バブラーが塞がり始めた。合計210mmolのフッ素を添加した後、溶媒を除去して処理の難しい白色固体が残り、それはB12のクラスターアニオンとは異なり水に不溶性であった。この固体のIRスペクトルによって、その化合物は、B−H−B(又はB−O−B)架橋の部分的にフッ素化されたクラスターアニオンのオリゴマー混合物であることが示される。
[無水HF中でのフッ素を用いた(H2O)nB12H12のフッ素化(2%充填)]
HF中H2B12H12・6H2O2wt%溶液を、約−15℃でN2中20%F2を用いてフッ素化し、非常に少量の他のアニオン(副生成物)とともにB12F12 2-を得た。粗反応混合物の19F NMRスペクトルに基づいて、アニオンのモル比は、B12F12 2-(1)、B24F22 4-(0.01)、B12F11(OH)2-(0.05)、及びBF4 -(0.36)であった。二量体の化学式はその19F NMRスペクトルに基づいて仮定されており、5:5:1比の3つのフッ素シグナルがあった。テトラブチルアンモニウム塩の負イオンエレクトロスプレースペクトルにおいて、イオン[(Bu4N)3B24F22]-のm/zavと同じm/zav=1403のシグナルが存在する。BF4 -/B12F12 2-のモル比を0.36にするには、B12H12 2-の約3mol%を反応中に分解しなければならない。こうして、上記反応におけるB12F12 2-の収率は90%に近かった。
[無水HF中でのフッ素を用いた(H2O)nB12H12のフッ素化(15%充填)]
比較例6の手順に従って、より高充填の反応体の効果を明らかにした。固体H2B12H12・nH2O(20.8g)を、300mlのParr反応器においてHF120mlを用いて−40℃で処理した。混合物を35℃に加温して、1時間この温度で、次いで60℃で40分間加熱した。発生した水素は真空下で除去した。混合物を−25℃まで冷却し、20%フッ素/窒素の混合ガスを該反応混合物に200ml/分で通した。反応温度を−10℃まで上昇させ、流量を1時間のうちに300ml/分まで上昇させて、この速度で維持した。通過したフッ素の合計量は2400mlであり、それはアニオン当たり約12当量のフッ素に相当する。粗生成物の19F NMR分析によって、B12F12 2-及びB24F22 2-が1/0.12モル比の主生成物として示される。すべての揮発性物質を真空下で除去し、反応生成物を水150mlに溶解してトリエチルアミン(16g)を添加した。形成した白色沈殿を濾過によって収集した。その固体をアセトンに再び溶解して、少量の不溶性材料を濾過によって除去した。アセトンを真空下で除去し、残留固体を水で洗浄して真空下で乾燥させ、[Et3NH]2[B12F12]26.6gを生成した(H2B12H12・nH2O(n=6)に基づいて55%収率、又はn=8に基づいて63%収率)。
[無水HF中でのフッ素を用いたBaB12H12のフッ素化(20%充填)]
バリウム塩を充填したこと及び代わりに用いたこと以外は、例7に記載した方法と同様にして無水BaB12H12のフッ素化を実施した。バリウム塩約40〜45gとHF120〜160mlをバッチごとに用いた。混合物を約80℃で2時間加熱し、続いて水素を除去してフッ素を添加した。フッ素は−30℃で混合物中に通した。フッ素スパージャーは、フッ素化の終了近くに固体で塞がり始めた。HFをスパージャーに凝縮させることでスパージャーを洗浄することができ、それにより、該固体はHFにかなり可溶性であり、恐らくBaB12H12-nFnであることが示された。
[無水HF中での(TEAH)2B12H12のフッ素化]
この例では、フッ素化の間中トリエチルアンモニウムドデカボレート塩の高い溶解性が示され、純粋HFのように強い酸において高含量の不純物が形成した。(TEAH)2B12H122.22g上に約10mLの無水HFを凝縮させた。室温まで加温すると、水素の発生が観測された。H2の発生が終わると、少量のクリーム色の固体が淡黄色の溶液中に残った。固体生成物を残してHFを排気した。数mgの生成物が19F NMRによって分析され、それぞれ約5%の(TEAH)2B12H10F2と、部分的にフッ素化された二量体生成物B24F6H16 -4であると考えられるものとともに、主として(TEAH)2B12H9F3であることが示された。
[フッ化ナトリウムで緩衝化された無水HF中での(TEAH)2B12H12のフッ素化]
この例は、HFの酸度がフッ化物の緩衝剤で低下されるという条件で、例9で示した非常に可溶性の塩が、無水HF中でのわずかな二量体形成で以って高充填でフッ素化できるということを実証している。(TEAH)2B12H122.17gとフッ化ナトリウム1.5gとの混合物上に約8mLの無水HFを凝縮させた。室温まで加温した際、非常に少量の水素発生しか観測されず、クリーム色の懸濁が観測された。固体生成物を残してHFを排気した。数mgの生成物を19F NMRによって分析し、フッ素化が全く行われていなかったことが示され、無水HFの酸度がかなり低下していたことを確認した。
[ギ酸中でのフッ素を用いたK2B12H12のフッ素化(15%充填、O2添加)]
この例においては、(純粋HFよりも)より弱酸の反応媒体、即ちギ酸を用いた。この例においては、ギ酸10ml中にK2B12H12・CH3OH1.8g(7.2mmol)を含有する無色のスラリーを0〜10℃でフッ素化した。合計108mmolのF2(25%過剰)を10%F2/10%O2/80%N2として添加した。フッ素化するうちに、反応媒体の平均ハメット酸度が−2〜−4に及び、すべての固体が完全に溶解して、フッ素化が完了した時には無色の均一な溶液が残った。19F NMRによる粗生成物溶液の分析によって、主としてB12F11H2-(35%)及びB12F12 2-(60%)、並びにモノヒドロキシ不純物B12F11OH約5%が示された。二量体不純物は全く観測されなかった。上記のトリエチルアンモニウム塩を介した生成物の単離によって、不純物を除去し、上記のフッ素化されたボレートクラスター生成物を80%収率で得た。
[ギ酸中でのフッ素を用いたK2B12H12のフッ素化(30%充填;O2添加)]
充填量を2倍にしたこと以外は、例11の手順に従った。例11で記載したように、H0=−2〜−4の平均ハメット酸度で以って、ギ酸6ml中にK2B12H12・CH3OH2.96g(11.8mmol)を含有する無色のスラリーを0〜20℃でフッ素化した。所望のF2(142mmol)100%を10%F2/10%O2/80%N2の混合ガスとして添加した。無色の溶液が残った。30℃での更なるフッ素化(3%)によって、溶液から固体が沈殿した。溶媒を一晩かけて排気し、5.1gの無色の砕けやすい固体5.1gが残った。19F NMRによるこの粗生成物の分析によって、主としてB12F10H2 2-(60%)、B12F11H2-(35%)、及びB12F12 2-(5%)が示された。この固体の半分を取り出し、ギ酸3.8g及びHF3g中に再び溶解した。新たに29mmolのF2を添加し、先と同様に溶媒を排気した。ライトピンクの固体(2.7g)が残った。19F NMRによるこの粗生成物の分析によって、主としてB12F11H2-(35%)及びB12F12 2-(60%)が示された。2%未満のヒドロキシ置換化合物が観測された。
[ギ酸中でのフッ素を用いたK2B12H12のフッ素化(20%充填;O2添加なし)]
充填量以外は例12の手順に従った。ギ酸8ml中にK2B12H12・CH3OH2.00g(8mmol)を含有する無色のスラリーを、10%F2/90%N2のガス混合物を用いて0〜20℃でフッ素化した。合計116mmolのF2を添加した(22%過剰)。溶媒を一晩かけて排気した。19F NMRによるこの粗生成物の分析では、例11及び例12でO2が存在した場合よりも相当に低い転化を示した。主化学種はB12FyH(12-y) 2-(式中x=8〜10)であった。
[酢酸中でのフッ素を用いたK2B12H12のフッ素化(15%充填、O2添加)]
氷酢酸10g中K2B12H12・CH3OH2.01gのスラリーを、10%F2/10%O2/80%N2を用いて20℃でフッ素化した。合計116mmolのF2を添加した(22%過剰)。スラリーはフッ素化を通して無色のままであり、その粘度は減少したが、固体の完全な溶解は観測されなかった。フッ素化の完了時に、生成物スラリーは、酸化剤についてネガティブヨウ化物試験(ヨウ素滴定)を行った。次いで溶媒を排気し、粗生成物を水中に溶解した。溶液のpHを5にするのに十分なトリエチルアミンとともに、塩酸トリエチルアンモニウム(240mmol)を添加した。生成物を濾過し、水で洗浄して乾燥させた。フルオロボレート塩3.2g(65%収率)を単離した。19F NMR分析によって、B12F10H2 2-(7%)、B12F11H2-(18%)、及びB12F12 2-(75%)が示され、ヒドロキシ置換不純物は微量しかなかった。
[酢酸中でのフッ素を用いたK2B12H12のフッ素化(15%充填、O2添加なし)]
氷酢酸10g中K2B12H12・CH3OH2.01gのスラリーを、10%F2/90%N2を用いて20℃でフッ素化した。合計116mmolのF2を添加した(22%過剰)。スラリーはフッ素化を通して無色のままであり、その粘度は減少したが、固体の完全な溶解は観測されなかった。フッ素化の完了時に、生成物スラリーは、酸化剤についてネガティブヨウ化物試験を行った。次いで溶媒を排気し、粗生成物を水中に溶解した。溶液のpHを5にするのに十分なトリエチルアミンとともに、塩酸トリエチルアンモニウム(240mmol)を添加した。生成物を濾過し、水で洗浄して乾燥させた。フルオロボレート塩2.8g(62%収率)を単離した。19F NMR分析によって、B12F10H2 2-(15%)、B12F11H2-(26%)、及びB12F12 2-(59%)が示され、ヒドロキシ置換不純物は微量しかなかった。
[ギ酸/HF中でのフッ素を用いたK2B12H12のフッ素化(15%充填)]
ギ酸10g及びHF4g中、乾燥したK2B12H122.16g(9.81mmol)のスラリーを10%F2/10%O2/80%N2を用いて0℃でフッ素化した。合計141mmolのF2を添加した(20%過剰)。フッ素化するうちに、すべての固体が完全に溶解した。フッ素化の完了時に、生成物溶液は、酸化剤についてネガティブヨウ化物試験を行った。次いで溶媒を排気し、粗生成物を水中に溶解した。溶液のpHを5にするのに十分なトリエチルアミンとともに、塩酸トリエチルアンモニウム(20mmol)を添加した。生成物を濾過し、水で洗浄して乾燥させた。フルオロボレート塩3.8g(78%収率)を単離した。19F NMR分析によって、B12F11H2-(25%)及びB12F12 2-(75%)が示され、ヒドロキシ置換不純物は微量しかなかった。
[0.5M H2SO4中でのフッ素を用いたK2B12H12のフッ素化(15%充填;O2添加)]
0.5M H2SO4水溶液9ml中K2B12H12・CH3OH1.99g(7.9mmol)の溶液を、10%F2/10%O2/80%N2を用いて0℃でフッ素化した。合計116mmolのF2を添加し(22%過剰)、フッ素化するうちに、溶液は無色から黄色、オレンジブラウンに変化した。フッ素化中の反応媒体のハメット酸度H0は約−4であった。フッ素化の完了時に、生成物溶液は、酸化剤についてネガティブヨウ化物試験を行い、次いで、トリエチルアミンを用いてpH5に中和した。無色の固体生成物を濾過して洗浄した。乾燥後3.4gの生成物を単離し、該生成物は、19F NMR分析によって44%のB12F10H2 2-、46%のB12F11H2-、及び10%のB12F12 2-と特徴づけられた。単離収率は78%であった。
[水中30%K2B12H12のフッ素化]
濃縮溶液(水中30%K2B12H12)を1mol当量のフッ素を用いて0℃でフッ素化したこと以外は、例12の手順に従った。フッ素化によって、ポリフッ素化されたB12F10H2 2-及びB12F11H2-アニオンの驚くほど高い収率(78%収率)と、過フッ素化されたB12F12 2-への幾分低い(10%)転化が得られた。興味深いことには、非常に低い10%未満のヒドロキシ置換が観測された。より重要には、二量体のクラスターアニオンB24F22-yHy 4-の形成による収率の損失が全くなかった。水中でのフッ素化においては、酸性溶液がHFの同時生成により生成する(20〜30%のHF水溶液がフッ素化の完了近くで存在している)と考えられる。この反応媒体は、無水HFよりも相当に低い酸度であるが、依然として高度なフッ素化を可能にし、かつ生成物の溶解性を維持するのに十分な酸性である(フッ素化の間にH0が約−2のハメット酸度に達する)。さらには、水溶液の酸度が高いほど、H2O2及びHOFを与えるフッ素の水との反応性が低くなる。これら2つの副生成物は、フッ素化中にヒドロキシ置換ボレートの副生成物、B12F11OH2-が形成することに関係しているようである。
[水中30%K2B12H12のフッ素化]
上記の結果に基づいて、K2B12H12のフッ素化を50%のHF水溶液中で実施した。これにより、1当量のフッ素で以って著しくより高いレベルのフッ素化が得られ、高収率のB12F11H2-及びB12F12 2-アニオンが得られ、それでもなお少量のヒドロキシ置換しかなく、二量体の形成は全くなかった。
[水中でのフッ素を用いたK2B12H12のフッ素化(20%充填;O2添加、HCO3 -添加)]
水25mL中にK2B12H12・CH3OH2.0g(8.0mmol)、NaHCO37.8g(93mmol)を含有する水溶液を、116molの10%F2/10%O2/80%N2を用いて0℃〜20℃でフッ素化した。ハメット酸度は、フッ素化を通して0よりも大きいままであった。溶液はフッ素化するうちに淡黄色になった。
Claims (20)
- 水素化ホウ素塩を直接フッ素化し、化学式Ma[RbZcBdHeFy]k、式中、Mが1〜4価のカチオン、Rがハロゲン又はアルキル基、ZがC、Si、Ge、Sn、Pb、N、P、As、Sb及びBi、Bがホウ素、Hが水素、aが1又は2、bが0〜7の整数、cが0〜1の整数、dが5〜12の整数、eが0〜9の整数、yが3〜12の整数であり、a及びkは、それぞれの値がMの価数で決まる1〜3の整数であり、即ち、整数aとMの価数を掛けると、整数(k)の2倍に等しい化合物を製造するための液相プロセスにおいて、該水素化ホウ素塩がフッ素化された水素化ホウ素塩を形成するための条件下でフッ素と接触し、
水と無水HFの間の酸度を有する反応媒体の存在下で該水素化ホウ素塩をフッ素化することを含んで成る、液相プロセスの改良された方法 - 前記b及びcが0である、請求項1に記載の方法。
- 前記反応媒体が、−11よりも大きく0よりも小さいハメット酸度H0を有する、請求項2に記載の方法。
- 前記aが1又は2の整数である、請求項3に記載の方法。
- 前記Mが、80以下の原子番号を有するI−A、II−A、I−B、及びII−B族である、請求項4に記載の方法。
- 前記カチオンMが、リチウム、ナトリウム、カリウム、ルビジウム、セシウム、ベリリウム、マグネシウム、カルシウム、ストロンチウム、及びバリウムから成る群より選択されたアルカリ及びアルカリ土類金属である、請求項5に記載の方法。
- 10〜40vol%のフッ素濃度が直接フッ素化で用いられる、請求項4に記載の方法。
- 前記dが10及び12から成る群より選択された整数である、請求項7に記載の方法。
- 前記カチオンMが、リチウム、カリウム、バリウム、及びセシウムから成る群より選択された、請求項8に記載の方法。
- 前記カチオンMが、H3O+、RNH3 +、R2NH2 +1、R3NH+、R4N+、R3S+及びR4P+から成る群より選択された、請求項4に記載の方法。
- 前記カチオンMがRNH3 +であり、Rがメチル又はエチルである、請求項10に記載の方法。
- 前記反応媒体がギ酸から構成された、請求項4に記載の方法。
- 前記反応媒体が、アルカリ金属フッ化物又はギ酸で緩衝化された無水フッ化水素から構成された、請求項7に記載の方法。
- 水素化ホウ素塩を直接フッ素化して、フッ素化された水素化ホウ素化合物MaB12H(12-y)Fyを製造するためのプロセスにおいて、yが少なくとも10であり、
−11よりも大きく0よりも小さいハメット酸度H0を有する反応媒体中で該水素化ホウ素塩をフッ素化することを含んで成る、フッ素化された水素化ホウ素化合物を製造するための改良された方法。 - 前記カチオンが、H3O+、リチウム、カリウム、バリウム、セシウム、及びRNH3 +から成る群より選択された、請求項14に記載の方法。
- 前記反応媒体のハメット酸度が−2〜−6である、請求項15に記載の方法。
- 前記反応媒体が、ギ酸、酢酸、硫酸、トリフリック酸、及びトリフルオロ酢酸から成る群より選択される酸から構成された、請求項14に記載の方法。
- 10〜40vol%のフッ素濃度が直接フッ素化で用いられる、請求項15に記載の方法。
- 前記反応媒体が、ギ酸、又はフッ化カリウム若しくはフッ化ナトリウムから成る群より選択されるフッ化物から構成された、請求項16に記載の方法。
- 前記反応媒体が、アルカリ金属フッ化物又は水で緩衝化された無水フッ化水素から構成された、請求項16に記載の方法。
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US10/427,341 US6781005B1 (en) | 2003-05-01 | 2003-05-01 | Process for the fluorination of boron hydrides |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2004331494A true JP2004331494A (ja) | 2004-11-25 |
JP4002254B2 JP4002254B2 (ja) | 2007-10-31 |
Family
ID=32869269
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004133402A Expired - Fee Related JP4002254B2 (ja) | 2003-05-01 | 2004-04-28 | 水素化ホウ素のフッ素化プロセス |
Country Status (9)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6781005B1 (ja) |
EP (1) | EP1473276B1 (ja) |
JP (1) | JP4002254B2 (ja) |
KR (1) | KR100582879B1 (ja) |
CN (1) | CN1266029C (ja) |
BR (1) | BRPI0401485A (ja) |
CA (1) | CA2465198C (ja) |
MX (1) | MXPA04003916A (ja) |
TW (1) | TWI341841B (ja) |
Families Citing this family (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7311993B2 (en) * | 2003-09-04 | 2007-12-25 | Air Products And Chemicals, Inc. | Polyfluorinated boron cluster anions for lithium electrolytes |
CA2479589C (en) * | 2003-09-04 | 2011-05-24 | Air Products And Chemicals, Inc. | Polyfluorinated boron cluster anions for lithium electrolytes |
US7785740B2 (en) * | 2004-04-09 | 2010-08-31 | Air Products And Chemicals, Inc. | Overcharge protection for electrochemical cells |
US7419623B2 (en) | 2004-08-03 | 2008-09-02 | Air Products And Chemicals, Inc. | Proton conducting mediums for electrochemical devices and electrochemical devices comprising the same |
US7465517B2 (en) * | 2004-08-23 | 2008-12-16 | Air Products And Chemicals, Inc. | High purity lithium polyhalogenated boron cluster salts useful in lithium batteries |
US7981388B2 (en) * | 2004-08-23 | 2011-07-19 | Air Products And Chemicals, Inc. | Process for the purification of lithium salts |
US20060216612A1 (en) * | 2005-01-11 | 2006-09-28 | Krishnakumar Jambunathan | Electrolytes, cells and methods of forming passivation layers |
US20080026297A1 (en) * | 2005-01-11 | 2008-01-31 | Air Products And Chemicals, Inc. | Electrolytes, cells and methods of forming passivaton layers |
US20060204843A1 (en) * | 2005-03-10 | 2006-09-14 | Ivanov Sergei V | Polyfluorinated boron cluster anions for lithium electrolytes |
US7429671B2 (en) * | 2006-12-06 | 2008-09-30 | Air Products And Chemicals, Inc. | Process for the fluorination of boron hydrides |
WO2013115889A2 (en) | 2011-11-18 | 2013-08-08 | The Curators Of The University Of Missouri | Process and device for the production of polyhedral boranes |
CN112961655A (zh) * | 2021-02-28 | 2021-06-15 | 天津大学 | 一种制冷剂 |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3551120A (en) | 1962-12-21 | 1970-12-29 | Du Pont | Substituted dodecaborates |
US6448447B1 (en) | 1997-04-03 | 2002-09-10 | Colorado State University Research Foundation | Fluoroborate salts comprising a reactive cation and uses thereof |
WO1998043983A1 (en) | 1997-04-03 | 1998-10-08 | Colorado State University Research Foundation | Polyhalogenated monoheteroborane anion compositions |
-
2003
- 2003-05-01 US US10/427,341 patent/US6781005B1/en not_active Expired - Fee Related
-
2004
- 2004-04-26 CA CA2465198A patent/CA2465198C/en not_active Expired - Fee Related
- 2004-04-26 MX MXPA04003916A patent/MXPA04003916A/es active IP Right Grant
- 2004-04-26 TW TW093111609A patent/TWI341841B/zh not_active IP Right Cessation
- 2004-04-26 BR BR0401485-5A patent/BRPI0401485A/pt not_active IP Right Cessation
- 2004-04-27 EP EP04010008.3A patent/EP1473276B1/en not_active Expired - Lifetime
- 2004-04-28 KR KR1020040029417A patent/KR100582879B1/ko not_active IP Right Cessation
- 2004-04-28 JP JP2004133402A patent/JP4002254B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2004-04-30 CN CNB2004100352543A patent/CN1266029C/zh not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN1550451A (zh) | 2004-12-01 |
CA2465198C (en) | 2011-03-22 |
CA2465198A1 (en) | 2004-11-01 |
BRPI0401485A (pt) | 2005-01-18 |
MXPA04003916A (es) | 2004-11-09 |
EP1473276B1 (en) | 2014-08-20 |
EP1473276A2 (en) | 2004-11-03 |
KR100582879B1 (ko) | 2006-05-25 |
CN1266029C (zh) | 2006-07-26 |
TW200427693A (en) | 2004-12-16 |
KR20040094620A (ko) | 2004-11-10 |
TWI341841B (en) | 2011-05-11 |
US6781005B1 (en) | 2004-08-24 |
EP1473276A3 (en) | 2013-01-30 |
JP4002254B2 (ja) | 2007-10-31 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20060703 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
A601 | Written request for extension of time |
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|
A602 | Written permission of extension of time |
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A521 | Request for written amendment filed |
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TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20070717 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20070816 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100824 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110824 Year of fee payment: 4 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110824 Year of fee payment: 4 |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110824 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130824 Year of fee payment: 6 |
|
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R350 | Written notification of registration of transfer |
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LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |