JPH0499743A - 高品質テトラブロモビスフェノールaの製法 - Google Patents
高品質テトラブロモビスフェノールaの製法Info
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- JPH0499743A JPH0499743A JP21702790A JP21702790A JPH0499743A JP H0499743 A JPH0499743 A JP H0499743A JP 21702790 A JP21702790 A JP 21702790A JP 21702790 A JP21702790 A JP 21702790A JP H0499743 A JPH0499743 A JP H0499743A
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 14
- VEORPZCZECFIRK-UHFFFAOYSA-N 3,3',5,5'-tetrabromobisphenol A Chemical compound C=1C(Br)=C(O)C(Br)=CC=1C(C)(C)C1=CC(Br)=C(O)C(Br)=C1 VEORPZCZECFIRK-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 5
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 44
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 43
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 38
- 239000007810 chemical reaction solvent Substances 0.000 claims abstract description 15
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 13
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 12
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 claims abstract description 10
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 16
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 24
- GZUXJHMPEANEGY-UHFFFAOYSA-N bromomethane Chemical compound BrC GZUXJHMPEANEGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 18
- 229940102396 methyl bromide Drugs 0.000 abstract description 9
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 abstract description 8
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 abstract description 8
- RNFJDJUURJAICM-UHFFFAOYSA-N 2,2,4,4,6,6-hexaphenoxy-1,3,5-triaza-2$l^{5},4$l^{5},6$l^{5}-triphosphacyclohexa-1,3,5-triene Chemical compound N=1P(OC=2C=CC=CC=2)(OC=2C=CC=CC=2)=NP(OC=2C=CC=CC=2)(OC=2C=CC=CC=2)=NP=1(OC=1C=CC=CC=1)OC1=CC=CC=C1 RNFJDJUURJAICM-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 5
- 239000012776 electronic material Substances 0.000 abstract description 5
- 239000003063 flame retardant Substances 0.000 abstract description 5
- 238000000746 purification Methods 0.000 abstract description 5
- 229920005989 resin Polymers 0.000 abstract description 4
- 239000011347 resin Substances 0.000 abstract description 4
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 abstract description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 abstract description 3
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 abstract 1
- 239000002305 electric material Substances 0.000 abstract 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 abstract 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 27
- 238000000034 method Methods 0.000 description 24
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 7
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-N Hydrogen bromide Chemical compound Br CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 6
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000047 product Substances 0.000 description 4
- SQGYOTSLMSWVJD-UHFFFAOYSA-N silver(1+) nitrate Chemical compound [Ag+].[O-]N(=O)=O SQGYOTSLMSWVJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000032683 aging Effects 0.000 description 3
- 238000005893 bromination reaction Methods 0.000 description 3
- -1 bromine ions Chemical class 0.000 description 3
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 3
- 229910000042 hydrogen bromide Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 3
- BMYNFMYTOJXKLE-UHFFFAOYSA-N 3-azaniumyl-2-hydroxypropanoate Chemical compound NCC(O)C(O)=O BMYNFMYTOJXKLE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N Hydrazine Chemical compound NN OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001347 alkyl bromides Chemical class 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 2
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 2
- 238000003918 potentiometric titration Methods 0.000 description 2
- 239000000565 sealant Substances 0.000 description 2
- 238000007086 side reaction Methods 0.000 description 2
- 229910001961 silver nitrate Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 229920000122 acrylonitrile butadiene styrene Polymers 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 1
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005233 alkylalcohol group Chemical group 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 230000031709 bromination Effects 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 150000008282 halocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 238000004128 high performance liquid chromatography Methods 0.000 description 1
- XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N hydrogen iodide Chemical compound I XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940071870 hydroiodic acid Drugs 0.000 description 1
- CUILPNURFADTPE-UHFFFAOYSA-N hypobromous acid Chemical compound BrO CUILPNURFADTPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004255 ion exchange chromatography Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 239000002574 poison Substances 0.000 description 1
- 231100000614 poison Toxicity 0.000 description 1
- CASUWPDYGGAUQV-UHFFFAOYSA-M potassium;methanol;hydroxide Chemical compound [OH-].[K+].OC CASUWPDYGGAUQV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000001953 recrystallisation Methods 0.000 description 1
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 1
- 230000005070 ripening Effects 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 231100000167 toxic agent Toxicity 0.000 description 1
- 239000003440 toxic substance Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野コ
本発明は、加水分解性臭素含量を低減し、色相を改善し
た高品質テトラブロモビスフェノールA(以下、TBA
と略記する。)の製法に関するものである。
た高品質テトラブロモビスフェノールA(以下、TBA
と略記する。)の製法に関するものである。
TBAは、エポキシ樹脂及びABS樹脂等の難燃剤とし
て有用な化合物である。
て有用な化合物である。
[従来の技術]
TBAは通常、低級アルキルアルコール、ハロゲン化炭
化水素等の有機溶剤を用いて、ビスフェノールA(以下
、BPAと略記する。)と臭素との反応により製造され
る。特に、不純物の生成が比較的少ないことから、工業
的には反応溶媒としてメタノールが選ばれる。しかし、
上記のような従来法で製造されたTBA結晶は、通常、
約100〜2000ppmの加水分解性臭素を含有して
いる。
化水素等の有機溶剤を用いて、ビスフェノールA(以下
、BPAと略記する。)と臭素との反応により製造され
る。特に、不純物の生成が比較的少ないことから、工業
的には反応溶媒としてメタノールが選ばれる。しかし、
上記のような従来法で製造されたTBA結晶は、通常、
約100〜2000ppmの加水分解性臭素を含有して
いる。
TEAは、反応型難燃剤としてエポキシ樹脂組成物に多
量に使用されており、T B A tit独またはTB
Aを骨格とするエポキシ樹脂の形で配合されている。と
ころが、これらエポキシ樹脂用途では、TBA中に含ま
れる加水分解性臭素が樹脂の硬化反応や硬化後の樹脂特
性に悪影響を及ぼすため問題となる。
量に使用されており、T B A tit独またはTB
Aを骨格とするエポキシ樹脂の形で配合されている。と
ころが、これらエポキシ樹脂用途では、TBA中に含ま
れる加水分解性臭素が樹脂の硬化反応や硬化後の樹脂特
性に悪影響を及ぼすため問題となる。
特に、積層板、封止剤等の電気・電子材料用途のエポキ
シ樹脂では、この存在が極めて重要な問題となる。すな
わち、加水分解性臭素含量の多いTEAを電気・電子材
料用途エポキシ樹脂に使用した場合、吸湿等により臭素
分が臭素イオンとして遊離してしまい、これが金属腐蝕
等を引き起こし、材料の信頼性低下の原因となる。更に
、TBA中の加水分解性臭素は、エポキシ樹脂の硬化反
応に於いて触媒毒として作用するため、硬化速度低下の
原因となる。
シ樹脂では、この存在が極めて重要な問題となる。すな
わち、加水分解性臭素含量の多いTEAを電気・電子材
料用途エポキシ樹脂に使用した場合、吸湿等により臭素
分が臭素イオンとして遊離してしまい、これが金属腐蝕
等を引き起こし、材料の信頼性低下の原因となる。更に
、TBA中の加水分解性臭素は、エポキシ樹脂の硬化反
応に於いて触媒毒として作用するため、硬化速度低下の
原因となる。
従って、これらの用途に使用するTEAは、加水分解性
臭素含量低減のため、再結晶等による精製が必要である
。特開昭64−3139号では、特に有効な精製方法と
して、芳香族炭化水素に加熱溶解させたTBAをアルカ
リ金属水溶液と接触させ処理する方法が提案されている
。
臭素含量低減のため、再結晶等による精製が必要である
。特開昭64−3139号では、特に有効な精製方法と
して、芳香族炭化水素に加熱溶解させたTBAをアルカ
リ金属水溶液と接触させ処理する方法が提案されている
。
しかしながら、この精製方法を実施しても、得られるT
BAは50〜100ppm#′j、度の加水分解性臭素
を含有しており、電気・電子材料用途には必ずしも満足
できるものではなかった。更に、この方法は、特別の精
製工程を必要とすることから、工業的に繁雑であり、非
経済的であった。
BAは50〜100ppm#′j、度の加水分解性臭素
を含有しており、電気・電子材料用途には必ずしも満足
できるものではなかった。更に、この方法は、特別の精
製工程を必要とすることから、工業的に繁雑であり、非
経済的であった。
一方、本発明者らは、TBAを製造する方法に於いて、
反応溶媒として5〜15重葺%の水を含有するメタノー
ルを用いると加水分解性臭素含量を低減したTBAが得
られることを見出し、先に出願した(特願平1−328
168号)。
反応溶媒として5〜15重葺%の水を含有するメタノー
ルを用いると加水分解性臭素含量を低減したTBAが得
られることを見出し、先に出願した(特願平1−328
168号)。
該方法は工業的に簡便であることから、加水分解性臭素
含量の低減法として有効であるが、得られるTBAが若
干着色するため、商品1TBAの製法としては、まだ満
足できるものではなかった。
含量の低減法として有効であるが、得られるTBAが若
干着色するため、商品1TBAの製法としては、まだ満
足できるものではなかった。
すなわち、反応溶媒に水が含まれる場合、反応式−1に
示すような反応により、系中に次亜臭素酸が生成するた
め、反応系では、臭素化反応とともに酸化反応が併発し
、製品が若干着色する等の問題があった。
示すような反応により、系中に次亜臭素酸が生成するた
め、反応系では、臭素化反応とともに酸化反応が併発し
、製品が若干着色する等の問題があった。
Br2+H20;:うHBr+HBr0(反応式−1)
[発明が解決しようとする課題]
本発明の目的は、従来の方法では満足されなかった加水
分解性臭素含量を低減し、色相を改善した高品質TBA
を製造する方法を提出することにある。加えて、従来製
造工程上繁雑で、経済的に問題があった製造方法に於い
て、経済的に有利な、かつ従来のプロセスを簡略化した
工業的方法を提供することにある。
分解性臭素含量を低減し、色相を改善した高品質TBA
を製造する方法を提出することにある。加えて、従来製
造工程上繁雑で、経済的に問題があった製造方法に於い
て、経済的に有利な、かつ従来のプロセスを簡略化した
工業的方法を提供することにある。
本発明に於いて言う加水分解性臭素とは、TBAを水酸
化カリウム−メタノール溶液に溶解させた後、15分間
加熱還流した時に脱離する臭素イオン量をTBAの重量
比で表したものである。
化カリウム−メタノール溶液に溶解させた後、15分間
加熱還流した時に脱離する臭素イオン量をTBAの重量
比で表したものである。
尚、この臭素イオン量の定量は、硝酸銀水溶液による電
位差滴定法やイオンクロマトグラフィー等で実施できる
。
位差滴定法やイオンクロマトグラフィー等で実施できる
。
[課題を解決するための手段]
本発明者らは、上記の事情に鑑み、加水分解性臭素含量
を低減し、色相を改善した高品質TBAを工業的に製造
すべく鋭意検討を行った結果、BPAを臭素により臭素
化する方法に於いて、反応溶媒としてハロゲン化水素酸
及びアルコールとの混合溶媒を用いることにより、加水
分解性臭素含量を低減し、色相を改善した高品質TBA
が得られることを見出した。
を低減し、色相を改善した高品質TBAを工業的に製造
すべく鋭意検討を行った結果、BPAを臭素により臭素
化する方法に於いて、反応溶媒としてハロゲン化水素酸
及びアルコールとの混合溶媒を用いることにより、加水
分解性臭素含量を低減し、色相を改善した高品質TBA
が得られることを見出した。
加えて本発明の方法では、反応溶媒にメタノールを単独
で用いた場合と比較して、副生ずる臭化メチル量を大幅
に低減できることをも見出し、本発明を完成させるに至
った。
で用いた場合と比較して、副生ずる臭化メチル量を大幅
に低減できることをも見出し、本発明を完成させるに至
った。
臭化メチルは、反応式−2で示されるとおり、BPA臭
素化反応で生成する臭化水素と溶媒のメタノールとの反
応により副生する極めて毒性の強い物質である。従って
、その発生量の低減化は、作業環境上及び安全上極めて
有用である。
素化反応で生成する臭化水素と溶媒のメタノールとの反
応により副生する極めて毒性の強い物質である。従って
、その発生量の低減化は、作業環境上及び安全上極めて
有用である。
M e OH+ HB r−一→M e B r +
H20+ (反応式−2) [作用コ TBAを製造する方法に於いて、反応溶媒としてハロゲ
ン化水素酸及びアルコールとの混合溶媒を用いることに
より、加水分解性臭素含量を低減し、色相を改善した高
品質TBAの製造が可能となる。更に、本発明の方法で
は、副生ずる臭化メチル葺を大幅に低減できる。
H20+ (反応式−2) [作用コ TBAを製造する方法に於いて、反応溶媒としてハロゲ
ン化水素酸及びアルコールとの混合溶媒を用いることに
より、加水分解性臭素含量を低減し、色相を改善した高
品質TBAの製造が可能となる。更に、本発明の方法で
は、副生ずる臭化メチル葺を大幅に低減できる。
加水分解性臭素は、BPA中の不純物及び/又はTBA
の側鎖アルキル基が臭素化された比較的弱い炭素−臭素
結合を持つアルキルブロマイド類から生ずると考えられ
る。従って、その生成には臭素ラジカルが関与している
と考えられる。
の側鎖アルキル基が臭素化された比較的弱い炭素−臭素
結合を持つアルキルブロマイド類から生ずると考えられ
る。従って、その生成には臭素ラジカルが関与している
と考えられる。
反応溶媒としてハロゲン化水素酸及びアルコールとの混
合溶媒を用いた場合に加水分解性臭素が低減される理由
は必ずしも明確ではないが、ハロゲン化水素酸の添加が
臭素ラジカルの発生を抑制し、その結果、加水分解性臭
素の原因となるアルキルブロマイド類の生成が抑制され
るためと考えられる。
合溶媒を用いた場合に加水分解性臭素が低減される理由
は必ずしも明確ではないが、ハロゲン化水素酸の添加が
臭素ラジカルの発生を抑制し、その結果、加水分解性臭
素の原因となるアルキルブロマイド類の生成が抑制され
るためと考えられる。
一方、本発明の方法に於いて、色相の改善されたTBA
が得られる理由としては、ハロゲン化水素酸の添加が反
応系での酸化反応を抑制し、その結果、製品着色が抑制
されるためと考えられる。
が得られる理由としては、ハロゲン化水素酸の添加が反
応系での酸化反応を抑制し、その結果、製品着色が抑制
されるためと考えられる。
すなわち、ハロゲン化水素酸の添加により、前記した反
応式−1の平衡は原系に偏るため、反応系での酸化反応
が抑制されると考えられる。
応式−1の平衡は原系に偏るため、反応系での酸化反応
が抑制されると考えられる。
更に、本発明の方法に於いて、副生ずる臭化メチル量が
大幅に低減できる理由としては、添加するハロゲン化水
素酸中に含まれる水分の効果によるものと考えられる。
大幅に低減できる理由としては、添加するハロゲン化水
素酸中に含まれる水分の効果によるものと考えられる。
すなわち、ハロゲン化水素酸を添加した場合、反応系中
の水分量が増加するため、反応式−2の平衡は原系に偏
り、臭化メチルの副生は抑制されると考えられる。
の水分量が増加するため、反応式−2の平衡は原系に偏
り、臭化メチルの副生は抑制されると考えられる。
本発明の要旨は、臭素により臭素化する方法に於いて、
反応溶媒としてハロゲン化水素酸及びアルコールとの混
合溶媒を用いることを特徴とする加水分解性臭素含量を
低減し、色相を改善した高品質TBAの製法にある。以
下その詳細について説明する。
反応溶媒としてハロゲン化水素酸及びアルコールとの混
合溶媒を用いることを特徴とする加水分解性臭素含量を
低減し、色相を改善した高品質TBAの製法にある。以
下その詳細について説明する。
本発明の方法に於いて使用される反応溶媒は、ハロゲン
化水素酸及びアルコールとの混合溶媒である。本発明の
方法に於いて言うハロゲン化水素酸とは、5重量%以上
の、濃度を有するフッ化水素酸、塩酸、臭化水素酸、ヨ
ウ化水素酸またはこれらの混合物であり、好ましくは塩
酸及び臭化水素酸である。5重量%未満の濃度のハロゲ
ン化水素酸を使用した場合は、生成するTBAがむ色す
るため好ましくない。また、本発明の方法に於いて言う
アルコールとは、炭素数1〜4のアルコールであり、好
ましくはメタノールである。
化水素酸及びアルコールとの混合溶媒である。本発明の
方法に於いて言うハロゲン化水素酸とは、5重量%以上
の、濃度を有するフッ化水素酸、塩酸、臭化水素酸、ヨ
ウ化水素酸またはこれらの混合物であり、好ましくは塩
酸及び臭化水素酸である。5重量%未満の濃度のハロゲ
ン化水素酸を使用した場合は、生成するTBAがむ色す
るため好ましくない。また、本発明の方法に於いて言う
アルコールとは、炭素数1〜4のアルコールであり、好
ましくはメタノールである。
更に、ハロゲン化水素酸及びアルコールの混合比は使用
するハロゲン化水素酸の濃度により異なるが、通常、混
合溶媒中の水の濃度が3〜20重量%となるように混合
することが好ましい。水の濃度が3重量%未満では、加
水分解性臭素の低減に効果がなく、20重量%を越える
と生成するTBAの純度が低下するため好ましくない。
するハロゲン化水素酸の濃度により異なるが、通常、混
合溶媒中の水の濃度が3〜20重量%となるように混合
することが好ましい。水の濃度が3重量%未満では、加
水分解性臭素の低減に効果がなく、20重量%を越える
と生成するTBAの純度が低下するため好ましくない。
尚、反応溶媒中のBPAの基質濃度は、格別の限定はな
いが、通常5〜30重量%程度で実施される。
いが、通常5〜30重量%程度で実施される。
本発明の方法において使用される臭素の使用量は、BP
Aに対して4.C)〜5.0 (mo l比)であり、
好ましくは4.1〜4.5である。
Aに対して4.C)〜5.0 (mo l比)であり、
好ましくは4.1〜4.5である。
4.0未満ではTBAの収率が低く、5.0を越えると
過剰臭素による副反応が起こりやすくなるため、好まし
くない。
過剰臭素による副反応が起こりやすくなるため、好まし
くない。
臭素は、通常015〜10時間かけて徐々に添加される
。臭素添加時の反応温度は約−10〜50℃であり、特
に好ましくは約0〜30’Cが選ばれる。−10℃未満
では反応速度が極端に遅くなり、50℃を越えるとTB
Aの分解等の副反応が起るため、好ましくない。
。臭素添加時の反応温度は約−10〜50℃であり、特
に好ましくは約0〜30’Cが選ばれる。−10℃未満
では反応速度が極端に遅くなり、50℃を越えるとTB
Aの分解等の副反応が起るため、好ましくない。
臭素添加終了後、反応を完結させるために、通常0.5
〜5時間程度の熟成を行う。熟成時の反応温度について
は格別の限定はないが、臭化メチルの副生を抑制するた
め、通常約0〜30”Cが選ばれる。
〜5時間程度の熟成を行う。熟成時の反応温度について
は格別の限定はないが、臭化メチルの副生を抑制するた
め、通常約0〜30”Cが選ばれる。
反応終了後、反応液に溶解するTBAを晶析させるため
、反応液に水を添加する。添加する水の量は、通常、反
応溶媒に対して約30〜100重量%である。30重量
%未満ではTBAの晶析量が少なく、100重量%を越
えるとTBAの純度が低下するため、好ましくない。
、反応液に水を添加する。添加する水の量は、通常、反
応溶媒に対して約30〜100重量%である。30重量
%未満ではTBAの晶析量が少なく、100重量%を越
えるとTBAの純度が低下するため、好ましくない。
本発明の方法では、TBA結晶を反応液がら濾過分離し
た後、水洗、乾燥して製品とする。
た後、水洗、乾燥して製品とする。
本発明の方法で得られるTBAは、仔かに2〜50pp
mの加水分解性臭素を含有し、色相を改善した高品質T
BAである。
mの加水分解性臭素を含有し、色相を改善した高品質T
BAである。
[発明の効果]
以上の説明から明らかなように本発明によれば、反応溶
媒としてハロゲン化水素酸及びアルコールとの混合溶媒
を用いることにより、従来法では得ることのできなかっ
た加水分解性臭素含量を低減し、色相を改善した高品質
TBAを製造することができる。
媒としてハロゲン化水素酸及びアルコールとの混合溶媒
を用いることにより、従来法では得ることのできなかっ
た加水分解性臭素含量を低減し、色相を改善した高品質
TBAを製造することができる。
従って、本発明の方法で得られるTBAは、特別の精製
工程を必要とせず、そのまま、積層板、封止剤等の電気
・電子材料用途の樹脂用難燃剤として使用できる。
工程を必要とせず、そのまま、積層板、封止剤等の電気
・電子材料用途の樹脂用難燃剤として使用できる。
更に、本発明の方法では、臭化メチルの発生が著しく抑
制されるため、反応後のメタノール及び臭化水素の回収
量が大幅に向上する。加えて、作業環境上、臭化メチル
に暴露される機会を少なくすることにより、安全性も著
しく向上する。
制されるため、反応後のメタノール及び臭化水素の回収
量が大幅に向上する。加えて、作業環境上、臭化メチル
に暴露される機会を少なくすることにより、安全性も著
しく向上する。
従って、本発明の方法を実施することにより、高品質T
BAを従来プロセスを簡略化して工業的に有利に製造す
ることができる。
BAを従来プロセスを簡略化して工業的に有利に製造す
ることができる。
[実施例]
以下に本発明の方法を実施例により具体的に説明するが
、本発明はこれら実施例のみに限定されるものではない
。
、本発明はこれら実施例のみに限定されるものではない
。
(実施例1)
温度計、攪拌翼及び冷却管を有する容量1000rIt
1の四ツロフラスコに、BPA54.8g (0,24
mo f)を仕込み、これにメタノール300g、36
重量%塩酸40.6gを加えて溶解した。
1の四ツロフラスコに、BPA54.8g (0,24
mo f)を仕込み、これにメタノール300g、36
重量%塩酸40.6gを加えて溶解した。
次に、反応液を25℃に保ちながら、臭素163.0g
(1,02mo I)を4時間かけて滴下し、更に、
同温で1時間熟成を行った。
(1,02mo I)を4時間かけて滴下し、更に、
同温で1時間熟成を行った。
熟成後、残存する過剰臭素をヒドラジン水溶液を加えて
還元した後、これに水250gを1時間かけて加え、溶
解するTBAを晶析させた。
還元した後、これに水250gを1時間かけて加え、溶
解するTBAを晶析させた。
続いて、析出した結晶を濾取し、水洗、乾燥して、12
7.1gのTBA白色結晶をiすた。
7.1gのTBA白色結晶をiすた。
単離されたTBA結晶を高速液体クロマトグラフィーで
分析したところ、結晶純度は98.7%であった。更に
、硝酸銀水溶液による電位差滴定を行ったところ、21
ppmの加水分解性臭素を含有していた。また、色差計
を用いて分析した結果、この単離結晶の色相は、ハンタ
ー白色度で95.9であった。
分析したところ、結晶純度は98.7%であった。更に
、硝酸銀水溶液による電位差滴定を行ったところ、21
ppmの加水分解性臭素を含有していた。また、色差計
を用いて分析した結果、この単離結晶の色相は、ハンタ
ー白色度で95.9であった。
反応条件を第1表に、得られた結果を第2表に示す。
(実施例2〜7)
実施例1に準じ、第1表に示した条件下で反応を行った
。結果を第2表に示す。
。結果を第2表に示す。
(比較例1〜4)
実施例]に準じ、第1表に示した条件下で反応を行った
。結果を第2表に示す。
。結果を第2表に示す。
Claims (1)
- ビスフェノールAを臭素により臭素化し、テトラブロモ
ビスフェノールAを製造する方法に於いて、反応溶媒と
してハロゲン化水素酸及びアルコールとの混合溶媒を用
いることを特徴とする高品質テトラブロモビスフェノー
ルAの製法。
Priority Applications (8)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP21702790A JP2897372B2 (ja) | 1990-08-20 | 1990-08-20 | 高品質テトラブロモビスフェノールaの製法 |
IL9920491A IL99204A (en) | 1990-08-20 | 1991-08-15 | Process for the production of tetrabromobisphenol |
US07/745,888 US5138103A (en) | 1990-08-20 | 1991-08-16 | Process for producing tetrabromobisphenol a |
EP91307632A EP0472395B1 (en) | 1990-08-20 | 1991-08-19 | Process for producing tetrabromobisphenol A. |
DE69128009T DE69128009T2 (de) | 1990-08-20 | 1991-08-19 | Verfahren zur Herstellung von Tetrabrombisphenol A |
DE69133291T DE69133291T2 (de) | 1990-08-20 | 1991-08-19 | Verfahren zur Herstellung von Tetrabrombisphenol-A |
EP97102263A EP0779262B1 (en) | 1990-08-20 | 1991-08-19 | Process for producing tetrabromobisphenol-A |
IL11175294A IL111752A0 (en) | 1990-08-20 | 1994-11-24 | Process for producing tetrabromobisphenol a of high quality |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP21702790A JP2897372B2 (ja) | 1990-08-20 | 1990-08-20 | 高品質テトラブロモビスフェノールaの製法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0499743A true JPH0499743A (ja) | 1992-03-31 |
JP2897372B2 JP2897372B2 (ja) | 1999-05-31 |
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ID=16697691
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP21702790A Expired - Fee Related JP2897372B2 (ja) | 1990-08-20 | 1990-08-20 | 高品質テトラブロモビスフェノールaの製法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2897372B2 (ja) |
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5527971A (en) * | 1995-04-24 | 1996-06-18 | Albemarle Corporation | Process for the preparation of tetrabromobisphenol-A |
US5847232A (en) * | 1995-03-06 | 1998-12-08 | Albemarle Corporation | Process for the preparation of tetrabromobisphenol-A |
US6002050A (en) * | 1995-03-06 | 1999-12-14 | Albemarle Corporation | Process for the preparation of tetrabromobisphenol-A |
US6084136A (en) * | 1995-03-06 | 2000-07-04 | Albmarle Corporation | Process for the preparation of tetrabromobisphenol-A |
US6084137A (en) * | 1995-03-06 | 2000-07-04 | Albemarle Corporation | Process for the preparation of tetrabromobisphenol-A |
US6147264A (en) * | 1999-04-08 | 2000-11-14 | Albemarle Corporation | Process for producing tetrabromobisphenol-A |
US6218584B1 (en) | 1995-03-06 | 2001-04-17 | Albemarle Corporation | Process for the preparation of tetrabromobisphenol-A |
US6235946B1 (en) | 1995-03-06 | 2001-05-22 | Albemarle Corporation | Process for the preparation of tetrabromobisphenol-A |
-
1990
- 1990-08-20 JP JP21702790A patent/JP2897372B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5847232A (en) * | 1995-03-06 | 1998-12-08 | Albemarle Corporation | Process for the preparation of tetrabromobisphenol-A |
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US6162953A (en) * | 1995-03-06 | 2000-12-19 | Albemarle Corporation | Process for the preparation of tetrabromobisphenol-A |
US6218584B1 (en) | 1995-03-06 | 2001-04-17 | Albemarle Corporation | Process for the preparation of tetrabromobisphenol-A |
US6235946B1 (en) | 1995-03-06 | 2001-05-22 | Albemarle Corporation | Process for the preparation of tetrabromobisphenol-A |
US6300527B1 (en) | 1995-03-06 | 2001-10-09 | Albemarle Corporation | Process for the preparation of tetrabromobisphenol-A |
US6313355B1 (en) | 1995-03-06 | 2001-11-06 | Thanikavelu Manimaran | Process for the preparation of tetrabromobisphenol-A |
US5527971A (en) * | 1995-04-24 | 1996-06-18 | Albemarle Corporation | Process for the preparation of tetrabromobisphenol-A |
US5723690A (en) * | 1995-04-24 | 1998-03-03 | Albemarle Corporation | Process for the preparation of tetrabromobisphenol-A |
US6147264A (en) * | 1999-04-08 | 2000-11-14 | Albemarle Corporation | Process for producing tetrabromobisphenol-A |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2897372B2 (ja) | 1999-05-31 |
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