JP2004269844A - 熱可塑性樹脂および成形体 - Google Patents

Abstract

【課題】
光弾性係数の極めて小さい、高屈折率を有する熱可塑性樹脂を提供する。この熱可塑性樹脂は光学用途に好適で、レンズあるいはフィルムやシート等の各種分野に用いることができる。
【解決手段】
下記構造式（１）
【化１】

で示される繰り返し単位と、下記構造式（２）
【化２】

で示される繰り返し単位と、下記構造式（３）
【化３】

で示される繰り返し単位を含み、前記構造式（１）の繰り返し単位と前記構造式（３）の繰り返し単位のモル分率が、次式（４）
（ａ)／[（ａ）＋（ｂ）]≧０．０５ 式（４）
（式中、（ａ）は前記構造式（１）の繰り返し単位のモル数、（ｂ）は前記構造式（３）の繰り返し単位のモル数をそれぞれ表す。）
を満足し、かつ光弾性係数Ｋ（Ｐa^-1）が３×１０^-13≦Ｋ≦７．０×１０^-11 であることを満足する熱可塑性樹脂。
【選択図】 なし

Description

本発明は、透明でかつ光学特性に優れた光学用に好適な熱可塑性樹脂と成形体に関するものである。

ガラスや樹脂等の無色透明材料の主要な用途として光学レンズやフィルムがあるが、その中で眼鏡用レンズについては、薄型化、軽量化あるいはファッション性等の観点から活発な材料開発が行われており、現在では耐衝撃性と軽量性等の利点から、市場の９０％は樹脂レンズが占めるようになっている。

一方、熱可塑性光学用樹脂の代表的なものとしてポリカーボネート樹脂が知られており、このポリカーボネート樹脂はその無色透明性や耐衝撃性を生かしてディスク用基板等に用いられている。このポリカーボネート樹脂をレンズに適用する場合、ポリカーボネート樹脂は熱可塑性であるため成形性がよく、熱硬化性樹脂に比べて格段にレンズ製造コストを安くできるという利点がある。しかしながら、この樹脂は、光弾性係数が高いために、成形したレンズをめがねフレームに装着すると、レンズのフレ-ム付近部には応力がかかるため、光学歪みが発生しやすい等の問題があった。

現在、光学特性（高屈折率、低分散）を向上させるために、ホスホン酸残基を主鎖中に有する熱可塑性樹脂の研究が精力的に行われている（特許文献１参照。）。しかしながら、本発明者らが同特許文献に準処し樹脂を試作し評価したところ、ポリホスホネートはポリカーボネート樹脂と比較すると、光学特性（高屈折率、低分散）は大きく向上したものの、光弾性係数は大きく改善されていないことが判明した。

また、光学用途フィルムはＩＴ化の進展に伴い、偏光板や位相差板等の情報表示装置部材に使用され、この光学用途のフィルム、シートにもポリカーボネート樹脂が広く用いられ、中でも位相差フィルム、樹脂基板は液晶表示装置部材の色調を左右する重要な構成部材である。 しかしながら、ポリカーボネート樹脂の位相差フィルムでは、表示画面の色調特性を決定する波長依存性が不十分である。

位相差フィルムは、液晶表示装置、有機電界発光表示装置などに用いられ、色調などの問題を解決するために用いられる。一般には、ポリカーボネート、ポリビニルアルコール、ポリスルホン、ポリエーテルスルホンおよびアモルファスポリオレフィンなどが用いられている。位相差フィルムの一種である１／４波長板は、円偏光を直線偏光に、直線偏光を円偏光に変換する機能を有している。

上記の偏光板反射型液晶表示や反射防止フィルム用途においては、可視光全領域である３８０ｎｍ〜７８０ｎｍにおいて位相差がλ／４(ｎｍ)となることが理想的特性である。

一方、上記のような、現在一般的に用いられている位相差フィルムの構成材料については、短波長ほど位相差が大きく、長波長ほど位相差が小さくなる傾向で、すなわち理想的特性とは全く逆の特性を有してる。つまり、高分子フィルム単層で光の波長３８０ｎｍ〜７８０ｎｍの間において、理想的な１／４波長位相差特性を得ることは困難であり、種々の工夫が試みられてきた。

例えば、１／４波長板と１／２波長板を適当な角度で貼り合わせて用いる例（特許文献２参照）、アッベ数が異なる２枚のフィルムを積層するといった技術で逆分散特性を得られる提案（特許文献３参照）がされている。しかしながら、上記した理想的な１／４波長板となるフィルムを得るためには、フィルムを２枚以上用いなくては逆分散特性が得られず、フィルム貼り合わせ工程等によるコスト増、光学特性の悪化等の問題がある。

また、フィルムや樹脂基板用シートの加工工程や他のフィルムとの貼り合わせの張力、樹脂基板を装置に組み込んだ際に生じる応力がかかる場合、フィルムやシートの光学特性が変化し表示画面の色調悪化等の問題があった。

無色透明樹脂材料からなる光学用途フィルムはＩＴ化の進展に伴い、偏光板や位相差板（位相差フィルム）等の情報表示装置部材に使用されている。この光学用途のフィルム等のシート状物には、ポリカーボネート樹脂が広く用いられ、中でも位相差フィルム、樹脂基板は液晶表示装置部材の色調を左右する重要な構成部材である。しかしながら、ポリカーボネート樹脂の位相差フィルムでは、表示画面の色調特性を決定する波長依存性が不十分である。

位相差フィルムは、液晶表示装置や有機電界発光表示装置などに用いられ、色調などの問題を解決するために用いられる。その材料としては、一般には、ポリカーボネート、ポリビニルアルコール、ポリスルホン、ポリエーテルスルホンおよびアモルファスポリオレフィンなどが用いられている。位相差フィルムの一種である１／４波長板は、円偏光を直線偏光に、直線偏光を円偏光に変換する機能を有している。

上記の偏光板反射型液晶表示や反射防止フィルム用途においては、可視光全領域である３８０ｎｍ〜７８０ｎｍにおいて位相差がλ／４(ｎｍ)となることが理想的特性である。

一方、上記のような、現在一般的に用いられている位相差フィルムの構成材料については、短波長ほど位相差が大きく、長波長ほど位相差が小さくなる傾向で、すなわち理想的特性とは全く逆の特性を有してる。つまり、高分子フィルム単層で光の波長３８０ｎｍ〜７８０ｎｍの間において、理想的な１／４波長位相差特性を得ることは困難であり、種々の工夫が試みられてきた。
特開２００２−１６７４４０号公報 特開平１０−６８８１６号公報 特開平２−２８５３０４号公報

そこで本発明は、上記した問題を解決し光学特性に優れ、任意の応力下でも光学特性の変化が極めて少ない（低光弾性係数）光学用に好適な熱可塑性樹脂、およびその熱可塑性樹脂からなるレンズやフィルム等のシート状物等の成形体を提供することを目的とするものである。さらに、本発明は、上記した問題を解決し、光学歪みの極めて小さい位相差フィルム得ること、また、高分子フィルム単層で光の波長３８０ｎｍ〜７８０ｎｍの間において、理想的な１／４波長位相差特性を得られ、かつ光学特性に優れ、任意の応力下でも光学特性の変化が極めて少ない（低光弾性係数）光学用に好適な熱可塑性樹脂、およびその熱可塑性樹脂からなるレンズやフィルム等のシート状物等の成形体を提供することを目的とするものである。

本発明は、上記課題を解決するために以下の構成を有するものである。すなわち根本発明の熱可塑性樹脂は、下記構造式（１）

（式中、Ｒは炭素数１〜２０の炭化水素基、Ｘは酸素、硫黄あるいはセレンを表し、ＲあるいはＸの異なるホスホン酸残基をともに含んでもよい。）で示される繰り返し単位と、下記構造式（２）

（式中、Ｒ'は各々独立に水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜２０の脂肪族炭化水素基、炭素数１〜２０の芳香族炭化水素基およびニトロ基からなる群から選ばれ、ｐとｑはｐ＋ｑ＝０〜８の整数であり、Ｙは単結合、酸素原子、硫黄原子、アルキレン基、アルキリデン基、シクロアルキレン基、シクロアルキリデン基、ハロ置換アルキレン基、ハロ置換アルキリデン基、フェニルアルキリデン基、カルボニル基、脂肪族ホスフィンオキシド基、芳香族ホスフィンオキシド基、アルキルシラン基、ジアルキルシラン基、フルオレン基からなる群から選ばれる。）で示される繰り返し単位と、下記構造式（３）

で示される繰り返し単位を含み、前記構造式（１）の繰り返し単位と前記構造式（３）の繰り返し単位のモル分率が、次式（４）
（ａ)／[（ａ）＋（ｂ）]≧０．０５ 式（４）
かつ光弾性係数Ｋ（Ｐa^-1）が３×１０^-13≦Ｋ≦７．０×１０^-11 であることを満足する熱可塑性樹脂である。

本発明の熱可塑性樹脂においては、上記の熱可塑性樹脂を１軸配向させて得られた単層状態のシート状物の４５０ｎｍおよび５５０ｎｍおよび６５０ｎｍの光線における位相差（レタデーション値）が、下記式（５）および下記式（６）を満足するものであることが好ましい。

Ｒ(４５０ｎｍ)／Ｒ(５５０ｎｍ)≦１ （５）
Ｒ(６５０ｎｍ)／Ｒ(５５０ｎｍ)≧１ （６）
[式中、Ｒ(４５０ｎｍ)、Ｒ(５５０ｎｍ)およびＲ(６５０ｎｍ)は、それぞれ光の波長が４５０ｎｍ、５５０ｎｍおよび６５０ｎｍにおける面内位相差である。］
また、本発明の熱可塑性樹脂の好ましい態様の一つは、上記の繰り返し単位に加えて、さらに下記構造式（７）

（式中、Ｒ”は各々独立に水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜２０の脂肪族炭化水素基、炭素数１〜２０の芳香族炭化水素基およびニトロ基からなる群から選ばれ、ｎとｍはｎ＋ｍ＝０〜８の整数を表す。）で示される繰り返し単位を含むことである。その際、光弾性係数Ｋ（Ｐa^-1）は３×１０^-13≦Ｋ≦４．５×１０^-11 であることが好ましい。

また、本発明の熱可塑性樹脂の好ましい態様の一つは、前記構造式（７）で示される繰り返し単位が、下記構造式（８）または／および下記構造式（９）

（両式中、Ｒ”は各々独立に水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜２０の脂肪族炭化水素基、炭素数１〜２０の芳香族炭化水素基およびニトロ基からなる群から選ばれ、ｎとｍはｎ＋ｍ＝０〜８の整数を表す。）で示される繰り返し単位であることである。

さらに本発明の熱可塑性樹脂では、次の好ましい態様を有している。
(1) 前記構造式（１）で示されるホスホン酸残基において、該ホスホン酸残基の代わりに、一部ホスホナイト残基により構成され、その置換比率が５０％以下であること。
(2) 熱可塑性樹脂のガラス転移点温度が１００℃以上でかつ２５０℃以下であること。
(3) 熱可塑性樹脂のｄ線屈折率が１．５９以上１．７０以下であり、かつアッベ数が２０以上４０以下であること。
(4) 熱可塑性樹脂の数平均分子量が１０,０００以上５００,０００以下であること。

また、本発明の熱可塑性樹脂はそれを、例えば、膜厚が１０μｍ以上３ｍｍ以下のシート状物のような成形体にすることができ、また、波長５８９ｎｍにおける位相差が０ｎｍ以上２,０００ｎｍ以下の成形体に成形することができる。成形体は光学用品として好適である。

本発明によれば、高屈折率、高アッベ数で耐衝撃性に優れ低い光弾性係数を有する熱可塑性樹脂が得られる。この熱可塑性樹脂は光学用途に好適で、レンズあるいはフィルムやシート等の各種分野に用いることができる。

本発明の熱可塑性樹脂は、基本的に、３つの繰り返し単位、すなわち、上記構造式（１）で示されるホスホン酸残基、上記構造式（２）で示される２価フェノール残基および上記構造式（３）で示されるカーボネート残基を含むものであり、本発明では効果を妨げない範囲で、その他の繰り返し単位を含むことも許容する。

一般に位相差フィルムは、高分子フィルムを１軸以上に延伸したフィルムであり、ある任意の配向方向とその直交方向に屈折率差を生じさせたフィルムである。位相差とは、膜厚ｄとフィルムの配向方向とその直交方向との屈折率差（Δｎ：複屈折率）との積であるΔｎ・ｄとして定義される。本発明において配向とは、高分子分子鎖が特定の方向に並ぶ傾向を言い、通常光の波長５５０ｎｍで位相差が０．１ｎｍ以上であることを言う。高分子配向フィルムの面内における配向方向の屈折率がその直交方向の屈折率より大きい場合を光学的異方性が正といい、反対に配向方向の屈折率がその直交方向の屈折率より小さい場合はを光学的異方性が負という。位相差は絶対値であらわすこともあるが、光学異方性が負の場合には位相差は負の値を有している。本発明では特にことわりのない限りは絶対値で説明する。

本発明では、上記式（５）、（６）に記載する特性を満足するような光の波長が長いほど位相差が大きくなる特性を逆分散特性と呼ばれている。このような逆分散特性をもつ位相差フィルムを得るためには、フィルムを構成する樹脂自体の光学異方性が正と負の境界線付近になるような分子構造設計が必要で、このような特性を得るためには、モノマー自体の光学異方性が小さいものを用いて重合するか、またはモノマーの光学異方性が正のものと負のものを複数種併用してすることで、逆分散特性を得ることが可能となる。また、光学異方性が正のポリマーと負のポリマーをブレンドして逆分散特性を得ることも可能である。工業的には、光学異方性の異なる複数種のモノマーから重合してなる樹脂、または光学異方性が正のポリマーと負のポリマーをブレンドして逆分散特性を得る方法が好ましく使用される。

Ｒ(４５０ｎｍ)／Ｒ(５５０ｎｍ)≦１ （５）
Ｒ(６５０ｎｍ)／Ｒ(５５０ｎｍ)≧１ （６）
[以下、式中それぞれ光の波長が４５０ｎｍ、５５０ｎｍ、６５０ｎｍにおける面内位相差をそれぞれＲ(４５０ｎｍ)、Ｒ(５５０ｎｍ)、Ｒ(６５０ｎｍ)と呼ぶ。]
また、本発明では、上記構造式（７）のようなフルオレン骨格を持つモノマーは負の光学異方性を持つものが多く、このような骨格を持つモノマーであるを用いる場合は下記のような構成になる。すなわち、本発明の熱可塑性樹脂は、基本的に、４つの繰り返し単位、すなわち、(a)フルオレン骨格、(b)ホスホン酸残基、(c)２価フェノール残基および(d)カーボネート残基を含むものであり、本発明では効果を妨げない範囲で、その他の繰り返し単位を含むことも許容する。

本発明者らは、任意の応力下でも光学特性変化の極めて少ない熱可塑性樹脂を見いだすべく鋭意検討した結果、光弾性係数の低減化には熱可塑性樹脂の分子鎖が配向しても、前記の構造式（７）に示すようなフルオレン構造を配合させることによって熱可塑性樹脂自体の複屈折率を抑制し、光弾性係数を大きく低減できることを見いだした。

熱可塑性樹脂の複屈折率を抑制するには、分子鎖が配向した状態の配向方向と直交方向の屈折率を近似させることである。通常の熱可塑性樹脂は、１本の主鎖から直接側鎖が装飾される形を取るため、それを配向した場合は主鎖方向が配向方向の屈折率であり、側鎖方向が直交方向屈折率と見ることができる。熱可塑性樹脂を配向させると、一般的にはポリカーボネート樹脂に代表されるように、相対的には主鎖方向が高屈折率となり、側鎖方向が低屈折率になることが殆どである（光学的異方性が正）。しかしながら、一部の熱可塑性樹脂ではポリスチレンのように側鎖にベンゼン環をもつものの場合、それを配向させると側鎖方向の屈折率が高くなる（光学的異方性が負）ものもある。そこで、光学的異方性が正のもの光学的異方性が負のものを混合して相溶することによって、配向したときの主鎖方向と側鎖方向の屈折率を同一、または近似させることが可能で、複屈折率を極めて小さくすることができる。ただし、樹脂同士の相溶性や他の特性が大きく異なる等の問題がある場合は用いることはできない。

単一系の熱可塑性樹脂で上記のような効果を得るには、光学的異方性が正の場合は側鎖方向に屈折率を向上させる置換基を修飾させることであったが、従来の熱可塑性樹脂では、修飾の種類は限定され側鎖方向の屈折率を主鎖方向並にすることは不可能であった。そこで、５価のリン原子を有する構造、中でもホスホン酸構造をポリマーの主鎖に導入することによって、側鎖方向の屈折率を向上させ無色透明な光弾性係数を改善した熱可塑性樹脂が得られることを見いだした。

前記の式（４）中、（ａ）は前記構造式（１）に示す繰り返し単位（ホスホン酸残基）のモル数であり、（ｂ）は前記構造式（３）に示す繰り返し単位（カーボネート残基）のモル数をそれぞれ表す。構造式（１）で示されるホスホン酸残基のモル分率が０．０５未満である場合、良好な光弾性特性が発現せず効果が得られ難い。以上のことからホスホン酸残基のモル分率が〔（ａ）／｛（ａ）＋（ｂ）｝〕≧０．０５の範囲にあることが重要である。前記構造式（１）で示されるホスホン酸残基のリン原子上に、置換基Ｒを修飾させることによって、側鎖方向の屈折率を向上させることが可能で、これにより複屈折率を抑制し、光弾性係数を改善することができるが、まだ十分な結果ではなかった。

本発明では、更に側鎖方向の屈折率を向上させるため前記構造式（１）だけでなく、側鎖方向にベンゼン環２つを配向することができる前記構造式（７）に示されるフルオレン骨格を有する成分のモノマーと組み合わせて用いる。フルオレン骨格は、負の屈折率異方性（ポリマー側鎖方向に高屈折率）を有する高分子化合物のモノマー単位として用いられ、分子鎖が配向した状態時の配向方向と直交方向の屈折率を近似させることが可能である。フルオレン骨格を有する分子構造は特に限定されるものではないが、例を挙げると、９,９・ビス（４・ヒドロキシ・３・メチルフェニル）フルオレン、フルオレンビスフェノール、９,９・ビス（４・ヒドロキシ３，５ジメチルフェニル）フルオレン、９,９・ビス（４・ヒドロキシ・３・メチルフェニル）フルオレン、９,９・ビス（４・ヒドロキシ・３・メチルフェニル）フルオレン、４，４'−（９Ｈ−フルオレン−９−イリデン）ビスフェノール、４，４'−（９Ｈ−フルオレン−９−イリデン）ビス［２−メチルフェノール］、４，４'−（９Ｈ−フルオレン−９−イリデン）ビス［４−メチルフェノール］、４，４'−（９Ｈ−フルオレン−９−イリデン）ビス［２，５−ジメチルフェノール］、４，４'−（９Ｈ−フルオレン−９−イリデン）ビス［２，６−ジメチルフェノール］、４，４'−（９Ｈ−フルオレン−９−イリデン）ビス［２−シクロヘキシルフェノール］、４，４'−（９Ｈ−フルオレン−９−イリデン）ビス［２−シクロヘキシル−５−メチルフェノール］、４，４'−（９Ｈ−フルオレン−９−イリデン）ビス［２−フルオロフェノール］、４，４'−（９Ｈ−フルオレン−９−イリデン）ビス［４−フルオロフェノール］、４，４'−（９Ｈ−フルオレン−９−イリデン）ビス［２−フェニルフェノール］、４，４'−（９Ｈ−フルオレン−９−イリデン）ビス［４−フェニルフェノール］、４，４'−ジヒドロキシテトラフェニルメタンおよび２，２’−ジヒドロキシ−９，９’−スピロビフルオレン等が挙げられ、中でも請求項２記載のフルオレンビスフェノール（ＦＢＰ、構造式（８）に対応）やビスクレゾールフルオレン（ＢＣＦ、構造式（９）に対応）を含む共重合体または高分子化合物ブレンドが最も好ましく用いられる。これらの成分の配合比は、好ましくは１〜９９モル％で用いられ、より好ましくは５〜９０モル％、さらには２０〜８０モル％で最も好ましく用いられる。

なお、光学物質の光の分散の度合いを表す指標としては、一般にアッベ数が用いられ、これは次式（１０）によって算出される。

アッベ数（νｄ）=(ｎｄ−１)/(ｎｆ−ｎｃ) 式（１０）
ｎｄ:ｄ線屈折率（波長５８７．６ｎｍ）
ｎｆ:ｆ線屈折率（波長４８６．１ｎｍ）
ｎｃ:ｃ線屈折率（波長６５６．３ｎｍ）
すなわち、その数値が大きいほど低分散であることを示している。

前記構造式（１）で示されるホスホン酸残基のリン原子上の置換基Ｒの具体例としては、フェニル、ハロ置換フェニル、メトキシフェニル、エトキシフェニル、エチル、イソプロピル、シクロヘキシル、ビニル、アリル、ベンジル、アミノアルキル、ヒドロキシアルキル、ハロ置換アルキルおよびアルキルサルファイド基等が挙げられる。

また、これら構造式（１）で示されるホスホン酸残基を構成するホスホン酸を具体的に例示すると、メチルホスホン酸、エチルホスホン酸、ｎ−プロピルホスホン酸、イソプロピルホスホン酸、ｎ−ブチルホスホン酸、イソブチルホスホン酸、ｔ―ブチルホスホン酸、ｎ−ペンチルホスホン酸、ネオペンチルホスホン酸、シクロヘキシルホスホン酸、ベンジルホスホン酸、クロロメチルホスホン酸、ジクロロメチルホスホン酸、ブロモメチルホスホン酸、ジブロモメチルホスホン酸、２−クロロエチルホスホン酸、１、２−ジクロロエチルホスホン酸、２―ブロモエチルホスホン酸、１、２−ジブロモエチルホスホン酸、３−クロロプロピルホスホン酸、２、３−ジクロロプロピルホスホン酸３−ブロモプロピルホスホン酸、２、３−ジブロモプロピルホスホン酸、２−クロロー１−メチルエチルホスホン酸、１、２−ジクロロー１−メチルエチルホスホン酸、２−ブロモー１−メチルエチルホスホン酸、１、２−ジブロモー１−メチルエチルホスホン酸、４−クロロブチルホスホン酸、３、４−ジクロロブチルホスホン酸、４−ブロモブチルホスホン酸、３、４−ジブロモブチルホスホン酸、３−クロロー１―メチルプロピルホスホン酸、２、３−ジクロロ−１−メチルプロピルホスホン酸、３−ブロモ−１メチルプロピルホスホン酸、２、３−ジブロモ−１−メチルホスホン酸、１−クロロメチルプロピルホスホン酸、１−クロロー１−クロロメチルプロピルホスホン酸、１−ブロモメチルプロピルホスホン酸、１−ブロモ−１−ブロモメチルプロピルホスホン酸、５−クロロペンチルホスホン酸、４、５−ジクロロペンチルホスホン酸、５−ブロモペンチルホスホン酸、４、５−ジブロモペンチルホスホン酸、１−ヒドロキシメチルホスホン酸、２−ヒドロキシエチルホスホン酸、３−ヒドロキシプロピルホスホン酸、４−ヒドロキシブチルホスホン酸、５−ヒドロキシペンチルホスホン酸、１−アミノメチルホスホン酸、２−アミノエチルホスホン酸、３−アミノプロピルホスホン酸、４−アミノブチルホスホン酸、５−アミノペンチルホスホン酸、メチルチオメチルホスホン酸、メチルチオエチルホスホン酸、メチルチオプロピルホスホン酸、メチルチオブチルホスホン酸、エチルチオメチルホスホン酸、エチルチオエチルホスホン酸、エチルチオプロピルホスホン酸、プロピルチオメチルホスホン酸、プロピルチオエチルホスホン酸、ブチルチオメチルホスホン酸、フェニルホスホン酸、４−クロロフェニルホスホン酸、３、４−ジクロロフェニルホスホン酸、３、５−ジクロロフェニルホスホン酸、４−ブロモフェニルホスホン酸、３、４−ブロモフェニルホスホン酸、３、５−ブロモフェニルホスホン酸、４−メトキシフェニルホスホン酸、３、４−ジメトキシフェニルホスホン酸、１―ナフチルホスホン酸、２―ナフチルホスホン酸、ベンジルホスホン酸、４−ブロモフェニルメチルホスホン酸、３、４−ジブロモフェニルメチルホスホン酸、ノルボルニルホスホン酸、ノルボルニルチオホスホン酸、３、５−ジブロモフェニルメチルホスホン酸、２−フェニルエチルホスホン酸、２−(４−ブロモフェニル)エチルホスホン酸、２−(３、４−ジブロモフェニル)エチルホスホン酸、２−(３、５−ジブロモフェニル)エチルホスホン酸、３−フェニルプロピルホスホン酸、３−(４−ブロモフェニル)プロピルホスホン酸、３−(３、４−ジブロモフェニル)プロピルホスホン酸、３−(３、５−ジブロモフェニル)プロピルホスホン酸、４−フェニルブチルホスホン酸、４−(４−ブロモフェニル)ブチルホスホン酸、４−(３、４−ジブロモフェニル)ブチルホスホン酸、４−(３、５−ジブロモフェニル)ブチルホスホン酸、２―ピリジルホスホン酸、３−ピリジルホスホン酸、４−ピリジルホスホン酸、１−ピロリジノメチルホスホン酸、１―ピロリジノエチルホスホン酸、１−ピロリジノプロピルホスホン酸、１−ピロリジノブチルホスホン酸、ピロール−１−ホスホン酸、ピロール−２―ホスホン酸、ピロール−３−ホスホン酸、チオフェン−２―ホスホン酸、チオフェン−３―ホスホン酸、ジチアン−２―ホスホン酸、トリチアン−２―ホスホン酸、フラン−２―ホスホン酸、フラン−３―ホスホン酸、ビニルホスホン酸およびアリルホスホン酸などが挙げられ、また、これらのリン原子に２重結合で結合している酸素原子が硫黄原子に置換されたチオホスホン酸も同様に挙げられる。これらは１種類でも、複数種併用することもできる。

また、これらホスホン酸は、その酸塩化物、エステルおよびアミドなどのホスホン酸誘導体であってもよい。またこれらホスホン酸残基については、それぞれ対応する３価のリン官能基であるホスホナイト残基に一部置き換えてもよい。これにより樹脂の耐酸化性を付与することができるが、光学特性等の特性安定性を考慮すると、その置換比率は０％以上５０％以下が好ましく、より好ましくは０以上２５％以下、さらに好ましくは０％以上１０％以下である。

また、前記構造式（２）で示される２価フェノール残基を構成する２価フェノールを具体的に例示すると、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）メタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エタン、１，１−ビス（４−メチル−２−ヒドロキシフェニル）メタン、１，１−ビス（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）メタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−４−メチルペンタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘプタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロオクタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１−フェニルエタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−２−エチルヘキサン、２，２−ビス（３−フェニル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、１，１−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）メタン、４，４'−ビフェノール、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ブタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−２−メチルプロパン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１−フェニルメタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）オクタン、１，１−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、２，２−ビス（３−アリル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３−イソプロピル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３−ｓｅｃブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、ビスフェノールフローレン、１，１−ビス（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−２−メチルプロパン、４，４'−〔１，４−フェニレン−ビス（２−プロピリデン）〕−ビス（２−メチルフェノール）、１，１−ビス（３−フェニル−４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、４，４'−ジヒドロキシフェニルエーテル、１，１−ビス（２−ヒドロキシフェニル）メタン、２，４'−メチレンビスフェノール、１，１−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）メタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン、１，１−ビス（２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）エタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−３−メチル−ブタン、１，１−ビス（２−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル）メタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロペンタン、１，１−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）シクロペンタン、３，３−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ペンタン、３，３−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）ペンタン、３，３−ビス（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）ペンタン、２，２−ビス（２−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ノナン、１，１−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）−１−フェニルエタン、１，１−ビス（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）デカン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）デカン、１，１−ビス（２−ヒドロキシ−３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチルフェニル）メタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ジフェニルメタン、テルペンジフェノール、１，１−ビス（３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、１，１−ビス（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−２−メチルプロパン、２，２−ビス（３−シクロヘキシル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、１，１−ビス（３，５−ジｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）メタン、１，１−ビス（３，５−ジｓｅｃブチル−４−ヒドロキシフェニル）メタン、１，１−ビス（３−シクロヘキシル−４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、１，１−ビス（２−ヒドロキシ−３，５−ジｔｅｒｔ−ブチルフェニル）エタン、１，１−ビス（３−ノニル−４−ヒドロキシフェニル）メタン、２，２−ビス（３，５−ジｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、１，１−ビス（２−ヒドロキシ−３，５−ジｔｅｒｔ−ブチル−６−メチルフェニル）メタン、１，１−ビス（３−フェニル−４−ヒドロキシフェニル）−１−フェニルエタン、４，４−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ペンタン酸、ビス（４−ヒドロキシフェニル）酢酸ブチルエステル、１，１−ビス（３−フルオロ−４−ヒドロキシフェニル）メタン、１，１−ビス（２−ヒドロキシ−５−フルオロフェニル）メタン、２，２−ビス（４ーヒドロキシフェニル）−１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロプロパン、２，２−ビス（３−フルオロ−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、１，１−ビス（３−フルオロ−４−ヒドロキシフェニル）−１−フェニルメタン、１，１−ビス（３−フルオロ−４−ヒドロキシフェニル）−１−（ｐ−フルオロフェニル）メタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１−（ｐ−フルオロフェニル）メタン、２，２−ビス（３−クロロ−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロパン、２，２−ビス（３，５−ジクロロ−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３−クロロ−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、１，１−ビス（３，５−ジブロモ−４−ヒドロキシフェニル）メタン、２，２−ビス（３，５−ジブロモ−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３−ニトロ−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、３，３'−ジメチル−４，４'−ビフェノール、３，３'，５，５'−テトラメチル−４，４'−ビフェノール、３，３'，５，５'−テトラｔｅｒｔ−ブチル−４，４'−ビフェノール、ビス（４−ヒドロキシフェニル）ケトン、３，３'−ジフルオロ−４，４'−ビフェノール、３，３'，５，５'−テトラフルオロ−４，４'−ビフェノール、ビス（４−ヒドロキシフェニル）ジメチルシラン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルホン、ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）スルホン、ビス（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）スルホン、ビス（３，５−ジブロモ−４−ヒドロキシフェニル）スルホン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）チオエーテル、ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）エーテル、ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）チオエーテル、ビス（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）エーテル、ビス（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）チオエーテル、１，１−ビス（２，３，５−トリメチル−４−ヒドロキシフェニル）−１−フェニルメタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ドデカン、２，２−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）ドデカン、２，２−ビス（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）ドデカン、１，１−ビス（３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）−１−フェニルエタン、１，１−ビス（３，５−ジｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）−１−フェニルエタン、１，１−ビス（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−シクロヘキシルフェニル）−２−メチルプロパン、１，１−ビス（２−ヒドロキシ−３，５−ジｔｅｒｔ−ブチルフェニル）エタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン酸メチルエステル、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン酸エチルエステル、イサチンビスフェノール、イサチンビスクレゾール、２，２'，３，３'，５，５'−ヘキサメチル−４，４'−ビフェノール、ビス（２−ヒドロキシフェニル）メタン、２，４'−メチレンビスフェノール、１，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エタン、２−（４−ヒドロキシフェニル）−２−（２−ヒドロキシフェニル）プロパン、ビス（２−ヒドロキシ−３−アリルフェニル）メタン、１，１−ビス（２−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル）−２−メチルプロパン、１，１−ビス（２−ヒドロキシ−５−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）エタン、ビス（２−ヒドロキシ−５−フェニルフェニル）メタン、１，１−ビス（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ブタン、ビス（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−シクロヘキシルフェニル）メタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ペンタデカン、２，２−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）ペンタデカン、２，２−ビス（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）ペンタデカン、１，２−ビス（３，５−ジｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）エタン、ビス（２−ヒドロキシ−３，５−ジｔｅｒｔ−ブチルフェニル）メタン、２，２−ビス（３−スチリル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１−（ｐ−ニトロフェニル）エタン、ビス（３，５−ジフルオロ−４−ヒドロキシフェニル）メタン、ビス（３，５−ジフルオロ−４−ヒドロキシフェニル）−１−フェニルメタン、ビス（３，５−ジフルオロ−４−ヒドロキシフェニル）ジフェニルメタン、ビス（３−フルオロ−４−ヒドロキシフェニル）ジフェニルメタン、２，２−ビス（３−クロロ−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、３，３'，５，５'−テトラｔｅｒｔ−ブチル−２，２'−ビフェノール、２，２'−ジアリル−４，４'−ビフェノール、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−３，３，５−トリメチル−シクロヘキサン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−３，３，５，５−テトラメチル−シクロヘキサン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−３，３，４−トリメチル−シクロヘキサン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−３，３−ジメチル−５−エチル−シクロヘキサン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−３，３，５−トリメチル−シクロペンタン、１，１−ビス（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）−３，３，５−トリメチル−シクロヘキサン、１，１−ビス（３，５−ジフェニル−４−ヒドロキシフェニル）−３，３，５−トリメチル−シクロヘキサン、１，１−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）−３，３，５−トリメチル−シクロヘキサン、１，１−ビス（３−フェニル−４−ヒドロキシフェニル）−３，３，５−トリメチル−シクロヘキサン、１，１−ビス（３，５−ジクロロ−４−ヒドロキシフェニル）−３，３，５−トリメチル−シクロヘキサン、９，９−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フルオレン、９、９−ビス（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）フルオレン、１，１−ビス（３，５−ジブロモ−４−ヒドロキシフェニル）−３，３，５−トリメチル−シクロヘキサンおよびα、α−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１，４−ジイソプロピルベンゼン、フェノールフタレイン、フェノールレッド、フェノールフタリン、１，１ビス（４ヒドロキシフェニル−３，３，５トリメチルシクロヘキサン）、４，４'−ジヒドロキシテトラフェニルメタン等が挙げられる。これらは１種類でも、複数種併用することもできる。これらは限定されるものではないが、複数種用いる方が、波長依存性の選択範囲が広がり、他にも式（５）、（６）を満足するような逆分散特性が得られやすく好ましく用いられる。この構造式（２）で示される２価フェノール残基を有する化合物の配合比は任意に選択することができるが、構造式（７）を併用するような場合は（１００−構造式（７）のモル％）％で用いられる。

これら２価フェノールは得られる熱可塑性樹脂（ポリマー）の性能に応じて用いることができる。前記構造式（２）中、ｐとｑは、ｐ＋ｑ＝０〜８の整数である。

また、ジヒドロキシベンゼンを本発明の効果が損なわれない範囲で用いることができ、これらジヒドロキシベンゼンとしては、レゾルシノール、ハイドロキノンおよび１，２−ジヒドロキシベンゼン等が挙げられ、これらは１種類でも、複数種併用することもできる。

また、本発明で用いられる熱可塑性樹脂（ポリマー）は必ずしも直鎖状である必要はなく、得られるポリマーの性能に応じて多価フェノールを共重合することができる。このような多価フェノールを具体的に例示すると、トリス（４−ヒドロキシフェニル）メタン、４，４'−〔１−〔４−〔１−（４−ヒドロキシフェニル）−１−メチルエチル〕フェニル〕エチリデン〕ビスフェノール、２，３，４，４'−テトラヒドロキシベンゾフェノン、４−〔ビス（４−ヒドロキシフェニル）メチル〕−２−メトキシフェノール、トリス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）メタン、４−〔ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）メチル〕−２−メトキシフェノール、４−〔ビス（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）メチル〕−２−メトキシフェノール、１，１，１−トリス（４−ヒドロキシフェニル）エタン、１，１，１−トリス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）エタン、１，１，１−トリス（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）エタン、トリス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）メタン、トリス（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）メタン、２，６−ビス〔（２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）メチル〕−４−メチルフェノール、４−〔ビス（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）メチル〕−１，２−ジヒドロキシベンゼン、２−〔ビス（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−シクロヘキシルフェニル）メチル〕−フェノール、４−〔ビス（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−シクロヘキシルフェニル）メチル〕−１，２−ジヒドロキシベンゼン、４−メチルフェニル−１，２，３−トリヒドロキシベンゼン、４−〔（４−ヒドロキシフェニル）メチル〕−１，２，３−トリヒドロキシベンゼン、４−〔１−（４−ヒドロキシフェニル）−１−メチル−エチル〕−１，３−ジヒドロキシベンゼン、４−〔（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）メチル〕−１，２，３−トリヒドロキシベンゼン、１，４−ビス〔１−ビス（３，４−ジヒドロキシフェニル）−１−メチル−エチル〕ベンゼン、１，４−ビス〔１−ビス（２，３，４−トリヒドロキシフェニル）−１−メチル−エチル〕ベンゼン、２，４−ビス〔（４−ヒドロキシフェニル）メチル〕−１，３−ジヒドロキシベンゼン、２−〔ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェイル）メチル〕フェノール、４−〔ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェイル）メチル〕フェノール、２−〔ビス（２−メチル−４−ヒドロキシフェイル）メチル〕フェノール、４−〔ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）メチル〕−１，２−ジヒドロキシベンゼン、４−〔ビス（４−ヒドロキシフェニル）メチル〕−２−エトキシフェノール、２−〔ビス（２，３−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）メチル〕フェノール、４−〔ビス（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）メチル〕フェノール、３−〔ビス（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）メチル〕フェノール、２−〔ビス（２−ヒドロキシ−３，６−ジメチルフェニル）メチル〕フェノール、４−〔ビス（２−ヒドロキシ−３，６−ジメチルフェニル）メチル〕フェノール、４−〔ビス（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）メチル〕−２−メトキシフェノール、３，６−〔ビス（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）メチル〕−１，２−ジヒドロキシベンゼン、４，６−〔ビス（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）メチル〕−１，２，３−トリヒドロキシベンゼン、２−〔ビス（２，３，６−トリメチル−４−ヒドロキシフェニル）メチル〕フェノール、２−〔ビス（２，３，５−トリメチル−４−ヒドロキシフェニル）メチル〕フェノール、３−〔ビス（２，３，５−トリメチル−４−ヒドロキシフェニル）メチル〕フェノール、４−〔ビス（２，３，５−トリメチル−４−ヒドロキシフェニル）メチル〕フェノール、４−〔ビス（２，３，５−トリメチル−４−ヒドロキシフェニル）メチル〕−１，２−ジヒドロキシベンゼン、３−〔ビス（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−シクロヘキシルフェニル）メチル〕フェノール、４−〔ビス（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−シクロヘキシルフェニル）メチル〕フェノール、４−〔ビス（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−シクロヘキシルフェニル）メチル〕−２−メトキシフェノール、２，４，６−〔トリス（４−ヒドロキシフェニルメチル）−１，３−ジヒドロキシベンゼン、１，１，２，２−テトラ（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）エタン、１，１，２，２−テトラ（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）エタン、１，４−〔〔ビス（４−ヒドロキシフェニル）メチル〕〕ベンゼン、１，４−ジ〔ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）メチル〕ベンゼン、１，４−ジ〔ビス（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）メチル〕ベンゼン、４−〔１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エチル〕アニリン、（２，４−ジヒドロキシフェニル）（４−ヒドロキシフェニル）ケトン、２−〔ビス（４−ヒドロキシフェニル）メチル〕フェノールおよび１，３，３−トリ（４−ヒドロキシフェニル）ブタン等が挙げられる。これらは１種類でも、複数種併用することもできる。これらは限定されるものではないが、複数種用いる方が、逆分散特性が得られやすく好ましく用いられる。この構造式（２）で示される２価フェノール残基を有する化合物の配合比は任意に選択することができるが、構造式（７）を併用するような場合は１００−（構造式（７）のモル％）％で用いられる。

また、前記構造式（３）で示されるカーボネート残基とは、炭酸エステル、炭酸ハライドなどを原料として得られる構造単位であり、例えば、ジフェニルカーボネート、ジトリールカーボネート、ビス（クロロフェニル）カーボネート、ｍ−クレジルカーボネート、ジナフチルカーボネート、ビス（ジフェニル）カーボネート、ジエチルカーボネート、ジメチルカーボネート、ジブチルカーボネート、ジシクロヘキシルカーボネート、ジシクロヘキシルカーボネートなどの炭酸エステル、ホスゲンおよびトリホスゲンなどの炭酸ハライドが挙げられる。

本発明の熱可塑性樹脂の前記構造式（１）、（２）、（３）の繰り返し単位については、［構造式（２）］のモル数に対する［構造式（１）＋構造式（３）］のモル数の比が０．９５以上１．０５以下の関係であることが最も好ましい。

また構造式（７）のようなフルオレン骨格を持つモノマーを用いる場合の繰り返し単位について下記すると、本発明の熱可塑性樹脂の前記構造式（１）、（２）、（３）、（７）の繰り返し単位については、［構造式（７）＋構造式（２）］のモル数に対する［構造式（１）＋構造式（３）］のモル数の比が０．９５以上１．０５以下の関係であることが最も好ましい。

次に、本発明の熱可塑性樹脂（ポリマー）の製造方法について説明する。本発明の熱可塑性樹脂の製造方法としては、酸ハライドと２価のフェノールを有機溶剤中で反応させる溶液重合法（Ａ．Ｃｏｎｉｘ Ｉｎｄ．Ｅｎｇ．ｏｈｅｍ．５１ １４７ １９５９年、特公昭３７−５５９９号公報参照。）、酸ハライドと２価のフェノールを塩化マグネシウム等の触媒存在下で加熱する溶融重合法、２価の酸と２価のフェノールをジアリルカーボネートの存在下で加熱する溶融重合法（特公昭３８−２６２９９号公報参照。）、水と相溶しない有機溶剤に溶解せしめた２価の酸ハライドとアルカリ水溶液に溶解せしめた２価のフェノールとを混合する界面重合法（Ｗ．Ｍ．ＥＡＲＥＣＫＳＯＮ Ｊ．Ｐｏｌｙ．Ｓｃｉ．ＸＬ３９９ １９５９年、特公昭４０−１９５９号公報参照。）等が挙げられるが、本発明では、特に溶液重合法が好適に採用される。

溶液重合法について一例を説明すると、ホスホン酸残基の前駆体分子であるホスホン酸誘導体と、２価フェノールをトリエチルアミンなどの塩基存在下混合して反応させ、続いてカーボネート残基の前駆体分子、例えば、トリホスゲンなどを添加して縮合重合することによって、本発明の熱可塑性樹脂を得ることができる。ホスホン酸誘導体あるいはカーボネート誘導体としては、それらのハロゲン化物、酸無水物およびエステル等を用いることができるが特に限定されない。

本発明の熱可塑性樹脂（ポリマー）の分子量を調節する方法としては、重合時に一官能の物質（分子量調節剤）を添加して行うことができる。ここで言う分子量調節剤として用いられる一官能物質としては、フェノール、クレゾール、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール等の一価フェノール類、安息香酸クロライド、メタンスルホニルクロライドおよびフェニルクロロホルメート等の一価酸クロライド類が挙げられる。

本発明の熱可塑性樹脂には、その特性を損なわない範囲で、ヒンダードフェノール系、ヒンダードアミン系、チオエーテル系および燐系の各種抗酸化剤や、市販ポリカーボネートに用いられている紫外線吸収剤、塩基不活剤、ブルーイング剤等の顔料、離型剤等を添加し樹脂組成物とすることができる。また、本発明の熱可塑性樹脂には、その特性を損なわない範囲で、他の樹脂成分等を添加し樹脂組成物とすることができる。

また、本発明の熱可塑性樹脂は、有機溶媒に対して高い溶解性を有しており、このような溶媒としては、塩化メチレン、クロロホルム、１，１，２，２−テトラクロロエタン、１，２−ジクロロエタン、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、トルエン、キシレン、γ−ブチロラクトン、ベンジルアルコール、イソホロン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼンおよびヘキサフルオロイソプロパノール等が挙げられる。

さらに、本発明の熱可塑性樹脂は非晶性であり、非晶性であるかどうかは、公知の方法、例えば、示差走差熱量分析（ＤＳＣ）や動的粘弾性測定等により融点が存在しているかどうかを確認することができる。

本発明の熱可塑性樹脂は、光弾性係数Ｋ（Ｐａ^-1）が３×１０^-13≦Ｋ≦７．０×１０^-11を満足することが重要である。本発明で述べる光弾性係数とは、絶対値を表し、光弾性係数Ｋ（Ｐａ^-1）が−３×１０^-13≦Ｋ≦−７．０×１０^-11、となる熱可塑性樹脂も本発明に含まれる。光弾性係数Ｋが、Ｋ＞７．０×１０^-11の場合、レンズ用途ではめがねレンズをフレームに取り付けるときや、レンズ側面を研磨（コバ研磨）するときなどに一定の応力がかかり、めがねレンズ製品になったときには、レンズに光学歪みが常時残留し光学特性が劣悪なめがねになるという問題がある。また、位相差フィルム用途では、液晶表示装置等に加工するときに強い張力がかかったり、製品化後、一定の張力下で長期間保存されると、光学歪み等の光学特性が変化し情報表示色調が悪化するなどの問題があり、またシート用途では、樹脂基板を装置に組み込み製品化するときに、樹脂基板に応力がかかると同様に光学歪みによる情報表示色調が悪化するという問題がある。

反対に、光弾性係数Ｋが、Ｋ＜３×１０^-13の場合、レンズ用途には全く問題がないが、位相差フィルム用途ではフィルムに位相差を与えようと一軸延伸しても、分子鎖の配向が十分に得られず、必要な位相差を得られない問題がある。このように分子鎖配向によって位相差を得られない場合は、フィルム膜厚を厚くする手段しかなく好ましいものではない。

この光弾性係数Ｋは、更に好ましくは３×１０^-13≦Ｋ≦４．５×１０^-11 である。ただし、光学用途に用いることから、光学歪みの要求が厳しいレンズ、光学用フィルム、光学用シートの場合は２×１０^-13≦Ｋ≦３×１０^-11 を満足することが最も好ましい。

光弾性係数Ｋとは、膜厚ｄ（ｎｍ）のフィルムに張力Ｔ（Ｐａ）を加えたときに生じる位相差Ｒｅ（ｎｍ）とすると、次式で定義される。
Ｋ＝Ｒｅ／（ｄ×Ｔ）
光弾性係数Ｋの測定は、フィルムに１ｋｇ／ｍｍ²（９．８１×１０⁶Ｐａ）の張力を加えた状態で、回転偏光子と回転検光子を備えた位相差測定装置を用いて行う。光源は、ナトリウム光源（５８９ｎｍ）を用いる。

一般にレンズは、光学歪みの極めて少ないことが必須とされており、高分子化合物が完全無配向状態であることが必要とされる。位相差とは、ある膜厚ｄのレンズが光が透過したときに、レンズの応力方向と直交方向に屈折率差（Δn：複屈折率）が生じると光の伝播速度が異なるので、位相差は複屈折率と樹脂厚の積であるΔn・ｄであることは知られている。また、光弾性係数Ｋとは、ある一定の応力下で生じる位相差を指し、光弾性係数が小さいほど大きな応力下でもレンズの位相差（光学歪み）を極めて小さくすることができる。フィルム等と比較し、レンズの場合は厚みが絶対的に大きく、フィルム以上に位相差が大きくなりやすい傾向にある。そこで光弾性係数の低い、本発明の熱可塑性樹脂を用い、成形することで光学歪みの極めて小さいめがねレンズ成形体、および光学用シートや光学用フィルム（シート状物）を得ることができる。

本発明の熱可塑性樹脂は、ｄ線屈折率が１．５９以上１．７０以下でありかつアッベ数が２０以上４０以下であることで、レンズに用いることができ、中でも、めがねレンズに用いたときには、めがねレンズの薄肉化、すなわち軽量化することができる。さらなる軽量化と優れた光学特性を得るためにはｄ線屈折率が１．６０以上１．７０以下でかつアッベ数が２６以上４０以下であることが好ましく、最も好ましくはｄ線屈折率が１．６０以上１．７０以上でアッベ数が２９以上４０以下であり、このような熱可塑性樹脂からなるレンズは、極めてレンズコバ厚の薄い、極めて軽量で光学特性に優れたレンズである。

本発明の熱可塑性樹脂の数平均分子量は、１０,０００以上５００,０００以下の範囲であると、成形体にしたときの靭性、つまりレンズの耐衝撃性、フィルムやシートの靭性が十分得られ、成形体の生産性が向上することから好ましく用いられる。

一般にレンズの耐衝撃性は、米国ＦＤＡの落球試験（１６．３ｇの球を高さ１２７ｃｍから落下しても破断しないこと）に合格することが必要で、数平均分子量が１０,０００未満では、この落球試験に合格することは極めて困難であり、また数平均分子量１０,０００未満の樹脂組成物からなるフィルムやシート成形体は靭性不十分で脆弱である。反対に、数平均分子量が５００,０００を超えるような熱可塑性樹脂は重合が困難であり、重合生産性が低下したり、成形性が悪化する等の問題がある。そのため、数平均分子量はより好ましくは３０,０００以上４００,０００以下であり、更に好ましくは４０,０００以上３００,０００以下で用いられる。

本発明の熱可塑性樹脂のガラス転移点温度は、フィルム製膜時の溶媒乾燥温度、レンズやシート成形後の蒸着、ハードコート処理温度を加味すると１００℃以上であることが好ましく、さらに好ましくは１２０℃、最も好ましくは１４０以上である。また上限は特に限定されるものではないが、樹脂の成形温度や樹脂の高温劣化を考慮すると２５０℃以下であることが好ましい。

本発明の熱可塑性樹脂から成形される、レンズまたはフィルムやシート等のシート状物等の成形体は、光学用途で用いられることから、片面の表面粗さ（Ｒａ）が５ｎｍ以下であることが好ましく、それでも光線の乱反射等で像の曇り、ゆがみが発生することから、更に好ましくはＲａが３ｎｍ以下、めがねレンズ用途では一層の表面平滑性が要求されることから、最も好ましくは１ｎｍ以下である。また、本発明の熱可塑性樹脂を光学用途に用いる場合には、透明であることが必須であり、厚さ３ｍｍに成形したときの全光光線透過率は８０％以上のものが好ましく用いられ、位相差板やめがねレンズ用途の場合は、より高い透明性が必要であることから全光光線透過率は８５％以上のものがさらに好ましく用いられ、最も好ましくは８７％以上である。

本発明の熱可塑性樹脂の成形加工方法は特に限定されるものではなく、既知の成形方法を用いることができる。レンズ用途の場合は、その中でも光学歪みを小さく量産できることから圧縮成型、射出成形および射出圧縮成型が好ましく用いられる。

また、本発明の熱可塑性樹脂を成形することによって得られるシート状物は、情報表示装置部材に好ましく用いることが可能で、これらの成形加工方法としては、既知である様々な溶液製膜法や溶融製膜法を用いることができる。

本発明では、重合反応で得られた樹脂溶液をこのまま溶液製膜しても構わないが、樹脂溶液を貧溶媒中に投入するなどの方法で単離後、洗浄と乾燥を経て、粉末およびペレットとし、そのまま溶融製膜あるいは溶媒に溶解させて溶液製膜してフィルム等のシート状物を得ても差し支えない。ただし、光学用途で使用する場合には、物理的欠点をなくすために、濾過や洗浄をした樹脂溶液を用いることが好ましい。

溶液製膜の例を挙げると、乾式法、乾湿式法、湿式法および半乾半湿式法などにより溶液製膜されるがこれに限定されるものではない。次に、溶液製膜時の使用溶液例を挙げる。

使用する溶媒は、熱可塑性樹脂を溶解するものであれば特に限定されないが、塩化メチレン、２塩化エタン、クロロホルム、テトラヒドロフラン、トルエン、ジクロロベンゼン、ジメチルアセトアミド、ジメチルホルムアミド、γ−ブチロラクトンおよび１メチル２ピロリドンなどが挙げられる。更に、光学用途に用いるため、溶液中の異物除去で低欠点性を得るべく、溶液濾過することが好ましく用いられる。濾過精度は、５,０００ｎｍ以下を好ましく用いることができるが、光学用途であることから１,０００ｎｍ以下が更に好ましく、６００ｎｍ以下が更に好ましく用いられる。濾過精度とは、あるものを濾過したときに９０％の確率でフィルターの捕捉される濾過物の大きさとして定義されている。

より品位の良好なシート状物を得るためにろ過後の樹脂溶液は脱泡をおこなうことが好ましい。脱泡方法は減圧または遠心脱泡が挙げられるが、溶剤の揮発を防ぐために樹脂溶液温度を１５℃以下に保ち可能な限り短時間でおこなうことが好ましい。

流延する基材の材質はガラス板または有機シランカップリング剤で表面処理されたガラス板、平滑な金属板、硬質ゴム板、フッ素系樹脂板等を用いることが出来、ドラム状、板状、エンドレスベルトなど種々の形態が採用しうる。乾燥後のシート状物の均質性の観点から、鏡面研磨加工された金属製のエンドレスベルトを用ることが好ましい。

本発明の位相差フィルムにおける樹脂溶液の膜厚制御にはフィルムアプリケーター、ドクターブレードでの掃け引き、ロールコーターによる塗り付け、押し出しダイによる溶液の押し出し、スプレーによる吹き付け、ノズルから溶液を流す方法が挙げられる。フィルムの厚みおよび幅の均一性、物理的および光学的欠点の発生が少ないこと等から押出ダイによる溶液の押出が好ましい。

流延後の樹脂溶液の乾燥は自然乾燥、強制乾燥のいずれでも可能であるが、強制乾燥の方が好ましい。強制乾燥法としては常圧乾燥法と減圧乾燥法があるが、樹脂溶液に使用される溶剤の沸点で適宜使い分けることができる。どちらの方法にせよ、乾燥速度が重要であり、急激な乾燥は溶剤の揮発にともなう膜表面の結露による膜の白化、膜面の凹凸（ユズ肌）、膜面の発泡等の欠点を生じる原因となる。また、加熱延伸中の膜面の発泡、白化、配向不良は膜中の残存溶剤による影響であり、乾燥不足に起因している。乾燥時は膜の表面乾燥速度と膜内部の乾燥速度がほぼ等しくなるようにすることが望ましい。

本発明は上記基材上にて乾燥後、乾燥されたシート状物を剥離する。この剥離されたシート状物中に含まれる溶剤の含有量は該シート状物重量の１〜１５重量％とすることが好ましい。より好ましいのは該シート状物重量の１〜１０重量％である。溶剤の含有量が１重量％未満だとフィルムの剛性が高いためにフィルムの乾燥収縮によるカール、基材からの自然剥離、剥離時の破損、延伸時の破損等取扱い性不良の原因となる。また、溶剤の含有量が１５重量％を超えるとフィルムの柔軟性による表面の傷つき、剥離不良、加熱延伸中の膜面の発泡、白化、配向不良の原因となる。

本発明のフィルムやシート等のシート状物の膜厚は、１０μｍ以上３ｍｍ以下であることが好ましいが、情報表示装置部材の一層の軽量化という観点からすると１０μｍ以上１ｍｍ以下に薄肉化した方が更に好ましく、更にはシート状物の靭性さえ確保できれば、１０μｍ以上５００μｍ以下であることが最も好ましい。

位相差フィルムとは高分子配向フィルムであり、これは無配向フィルムを１軸以上に延伸したフィルムで、ある任意の配向方向と直交方向に屈折率差を生じさせたフィルムである。位相差とは、ある膜厚ｄのフィルムに光が透過したときにフィルムの配向方向と直交方向に屈折率差（Δn：複屈折率）が生じると光の伝播速度が異なるので、位相差は複屈折率とフィルム膜厚の積であるΔn・ｄであることは知られている。本発明でシート状物として得られる高分子配向フィルムの配向とは、高分子分子鎖が主として特定の方向に並んだ状態を指しており、ここで述べる配向とは光の波長５８９ｎｍで位相差を指す。

位相差Δn・ｄは高分子配向フィルムの膜厚が同一であれば複屈折Δnに比例するため位相差波長依存性と複屈折波長依存性は同一で表すことができる。高分子配向フィルムの面内における配向方向の屈折率がそれに垂直方向の屈折率より大きい場合を光学的異方性が正といい、反対に配向方向の屈折率がそれに垂直方向の屈折率より小さい場合はを光学的異方性が負という。ここでの高分子配向フィルムの配向方向とは、例えば、公知の位相差フィルム製造条件であるガラス転移点温度Ｔｇ付近（Ｔｇ±２０℃）の条件で１軸延伸した場合にはその延伸方向であり、２軸以上の延伸の場合には最も配向が高くなる様に延伸した方向を指す。

なお、本発明での位相差は絶対値であり、光学異方性が負の場合には位相差が負であるが、本発明では特にことわりのない限りは正負の符号は無視するものとする。

本発明の熱可塑性樹脂からなるフィルム等のシート状物は、透明性が求められる分野では、どのような用途にも適用できる。特に、偏光板、位相差板、反射防止板および基板等の情報表示装置部材、光ディスク（ＣＤやＤＶＤ等）の基板、保護板等の記録部材の構成部材に用いることができ、また、表面性と内部構造の均一性に優れ、光弾性係数の極めて小さいことから、ある一定の応力下でも光学特性変化の極めて小さい成形体を得ることができる。

これらのフィルム等のシート状物の位相差は、波長５８９ｎｍにおいて、好ましくは０ｎｍ〜２,０００ｎｍの範囲である。位相差がこのような範囲にあると光学歪みを小さく用いることができる。位相差は、０ｎｍ〜１,０００ｎｍの範囲であることがさらに光学歪みを小さくできることから好ましく、最も好ましくは０ｎｍ〜５００ｎｍである。なお、位相差板の位相差フィルム等に用いる場合は、故意に位相差を発現しなければならないので２０ｎｍ〜１０００ｎｍの範囲で使用することが好ましい。

本発明の位相差フィルムは、位相差フィルムの位相差を延伸温度、延伸倍率等の調整によって、波長依存性が理想に近い良好な１／４波長板や１／２波長板を構成する事もできる。なお、１／４波長板の場合は８０ｎｍ≦Ｒ(５５０ｎｍ)≦１８０ｎｍであることが好ましく、より好ましくは１００ｎｍ≦Ｒ(５５０ｎｍ)≦１６０ｎｍである。また１／２波長板の場合は２２０ｎｍ≦Ｒ(５５０ｎｍ)≦３２０ｎｍであることが好ましく、より好ましくは２５０ｎｍ≦Ｒ(５５０ｎｍ)≦３００ｎｍである。また、本発明の位相差板、円偏光板は反射型液晶表示装置や有機電界発光表示装置などに用いることが可能である。

また本発明の位相差フィルムを以下の構成にすることで円偏光板、楕円偏光板を得ることができる。波長５５０ｎｍで１００ｎｍ≦Ｒ(５５０ｎｍ)≦１６０ｎｍの位相差を持つ本発明の位相差フィルムを粘着層、接着層を介して、位相差フィルムの面内屈折率楕円体の長軸方向と偏光フィルムを偏光軸４５°の積層角度にて貼り合わせて円偏光板とすることができる。得られた円偏光板は偏光板側から光を入射させると広帯域波長で円偏光化することができる。また、位相差フィルムの位相差を１／３波長や１／５波長にしたり、積層角度を任意の角度にすることで楕円偏光板を得ることもできる。なお、円偏光板、楕円偏光板の構成はこれに限定されるものではなく、多層構造の位相差フィルムを構成することが可能で、本発明の熱可塑性樹脂からなる位相差フィルムとポリカーボネートフィルムやシクロオレフィンフィルムとの積層からなる位相差板、円偏光板、楕円偏光板を構成することも可能である。

本発明の熱可塑性樹脂からなる成形体は、単独でも優れた光学特性を示すが、２層以上の積層体として用いた場合にも、積層時にかかる応力にも、光弾性係数が極めて小さいことから優れた光学特性を発揮することができる。

本発明の具体的実施態様を以下に実施例をもって説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。

（実施例１）
窒素雰囲気下、塩化メチレン(４０ｍｌ)中に、１，１ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン(６０ｍｍｏｌ)、９,９−ビス−（４−ヒドロキフェニル）フルオレン(２０ｍｍｏｌ)およびトリエチルアミン(１６８ｍｍｏｌ)を混合し、氷冷下攪拌した。得られた溶液に、フェニルホスホン酸ジクロライド(６０ｍｍｏｌ)の塩化メチレン(１０ｍｌ)溶液を１５分間かけて滴下し、滴下終了後室温で６０分間攪拌した。その後、濃度０.５８４ｍｏｌ／ｌであるトリホスゲンの塩化メチレン溶液(１１.４１ｍｌ)を１５分かけて滴下し、滴下終了後６０分間攪拌した。その後、反応溶液を濾過精度1μｍの濾過で異物を除去し、０．１Ｎ塩酸水溶液８０ｍｌと純水３００ｍｌの混合液で数回洗浄し分離した。その後、分離した有機層をエタノール２,０００ｍｌに投入して再沈し、ポリマーを濾取した後、（１）エタノール１,０００ｍｌ、（２）水／エタノール＝１／１混合溶液１０００ｍｌ、次いで（３）水１,０００ｍｌの順で生成したポリマーを洗浄し、乾燥して目的の樹脂粉末を収率９０％で得た。得られた樹脂粉末について、ＤＳＣ（セイコー電子工業（株）製：ＳＳＣ５２００）にてガラス転移点温度を測定した。また、得られた樹脂粉末を下記に示す方法でフィルム化し、位相差、光弾性係数を測定した。

すなわち、溶液キャスト製膜の場合は、クロロホルムに溶解させ、ポリマー固形分濃度１０ｗｔ％のドープ溶液を作製した。このドープ溶液をガラス板上に製膜し、乾燥させることによって、キャストフィルムを得た。得られたフィルムを幅１０ｍｍ、長さ７０ｍｍのサンプルを切り出し厚み計（ミツトヨ（株）製；ABSデジマチックインジケータ、ダイヤルゲージスタンド）にて膜厚を測定後、未延伸状態フィルムのナトリウムＤ線（５８９ｎｍ）位相差を測定した。位相差の測定にはセルギャップ検査装置(大塚電子（株）製：ＲＥＴＳ−１１００）を用いた。次に両端を１０ｍｍずつチャックで固定して、チャック間距離を５０ｍｍのサンプルにフィルム断面積に１ｋｇｆ／ｍｍ²（９．８１×１０⁶Pa）相当の張力をかけた。この状態で、ナトリウムＤ線（５８９ｎｍ）の位相差から、Ｋ＝Γ／（ｄ×Ｔ）にあてはめて光弾性係数Ｋを算出した。さらに得られたキャストフィルムから２０ｍｍ×５０ｍｍを切り出し、両端１５ｍｍをつかみ部にして、チャック間距離を２０ｍｍとなるように延伸治具に取り付けた。この延伸治具ごと、延伸温度１６４℃となるよう１６４℃のオーブンに１５分放置した後、チャック間距離４０ｍｍとなるように延伸した。延伸後のフィルムの位相差測定はセルギャップ検査装置(大塚電子（株）製：ＲＥＴＳ−１１００）を用い、４５０ｎｍ（Ｒ（４５０ｎｍ））、５５０ｎｍ（Ｒ（５５０ｎｍ））、６５０ｎｍ（Ｒ（６５０ｎｍ））の位相差を測定した。

数平均分子量は、樹脂の０．２ｗｔ％クロロホルム溶液を、ＧＰＣ（ゲル・パーミエーション・クロマトグラフィー）（東ソー（株）製、ＧＰＣ８０２０）を用いて測定し、数平均分子量を求めた。なお、測定値は標準ポリスチレン換算の値である。

また別に、得られた樹脂粉末を、下記に示す方法で成形し評価した。すなわち、プレス成形の場合は、得られた樹脂粉末を樹脂のガラス転移点温度＋１００℃に加熱した金型に投入した。金型はφ３０ｍｍの円盤状のプレートが成形可能なもの用いた。金型を閉じ、圧力２ｔにて加圧後、金型を冷却した。金型を分割することによってφ３０ｍｍ、厚さ３ｍｍの円盤状の樹脂プレートを得た。得られた樹脂成形サンプルを、サンドペーパーでバフ研磨した。互いに直行する２面を研磨し、それらが鏡面仕上げになるように研磨した。

研磨した樹脂サンプルを屈折計（カルニュー光学工業（株）製：ＫＰＲ−２）にて評価を行い、ｄ線屈折率(ｎｄ)、および前記の式（１０）より求められるアッベ数(νｄ)を測定した。

（実施例２）
窒素雰囲気下、塩化メチレン(４０ｍｌ)中に、１，１ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン(４８ｍｍｏｌ)、９,９−ビス−（４−ヒドロキフェニル）フルオレン(３２ｍｍｏｌ)およびトリエチルアミン(１６８ｍｍｏｌ)を混合し、氷冷下攪拌した。得られた溶液に、フェニルホスホン酸ジクロライド(６０ｍｍｏｌ)の塩化メチレン(１０ｍｌ)溶液を１５分間かけて滴下し、滴下終了後室温で６０分間攪拌した。その後、濃度０.５８４ｍｏｌ／ｌであるトリホスゲンの塩化メチレン溶液(１１.４１ｍｌ)を１５分かけて滴下し、滴下終了後６０分間攪拌した。その後、実施例１と同様に処理（収率８９％）し、つづいて、延伸温度を１８２℃で行ったこと以外は、実施例１と同様の方法で評価した。

（実施例３）
窒素雰囲気下、塩化メチレン(４０ｍｌ)中に、１，１ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン(３６ｍｍｏｌ)、９,９−ビス−（４−ヒドロキフェニル）フルオレン(４４ｍｍｏｌ)およびトリエチルアミン(１６８ｍｍｏｌ)を混合し、氷冷下攪拌した。得られた溶液に、フェニルホスホン酸ジクロライド(６０ｍｍｏｌ)の塩化メチレン(１０ｍｌ)溶液を１５分間かけて滴下し、滴下終了後室温で６０分間攪拌した。その後、濃度０.５８４ｍｏｌ／ｌであるトリホスゲンの塩化メチレン溶液(１１.４１ｍｌ)を１５分かけて滴下し、滴下終了後６０分間攪拌した。その後、実施例１と同様に処理（収率８７％）し、つづいて、延伸温度を１９１℃で行ったこと以外は、実施例１と同様の方法で評価した。

（実施例４）
窒素雰囲気下、塩化メチレン(４０ｍｌ)中に、メチルベンジリデンビスフェノール(４４ｍｍｏｌ)、９,９−ビス−（４−ヒドロキフェニル）フルオレン(３６ｍｍｏｌ)およびトリエチルアミン(１６８ｍｍｏｌ)を混合し、氷冷下攪拌した。得られた溶液に、フェニルホスホン酸ジクロライド(６０ｍｍｏｌ)の塩化メチレン(１０ｍｌ)溶液を１５分間かけて滴下し、滴下終了後室温で６０分間攪拌した。その後、濃度０.５８４ｍｏｌ／ｌであるトリホスゲンの塩化メチレン溶液(１１.４１ｍｌ)を１５分かけて滴下し、滴下終了後６０分間攪拌した。その後、実施例１と同様に処理（収率９１％）し、つづいて、延伸温度を１８８℃で行ったこと以外は、実施例１と同様の方法で評価した。

（実施例５）
窒素雰囲気下、塩化メチレン(４０ｍｌ)中に、メチルベンジリデンビスフェノール(５６ｍｍｏｌ)、９,９−ビス−（４−ヒドロキフェニル）フルオレン(２４ｍｍｏｌ)およびトリエチルアミン(１６８ｍｍｏｌ)を混合し、氷冷下攪拌した。得られた溶液に、フェニルホスホン酸ジクロライド(６０ｍｍｏｌ)の塩化メチレン(１０ｍｌ)溶液を１５分間かけて滴下し、滴下終了後室温で６０分間攪拌した。その後、濃度０.５８４ｍｏｌ／ｌであるトリホスゲンの塩化メチレン溶液(１１.４１ｍｌ)を１５分かけて滴下し、滴下終了後６０分間攪拌した。その後、実施例１と同様に処理（収率８９％）し、つづいて、延伸温度を１７８℃で行ったこと以外は、実施例１と同様の方法で評価した。

（実施例６）
窒素雰囲気下、塩化メチレン(４０ｍｌ)中に、メチルベンジリデンビスフェノール(５２ｍｍｏｌ)、９,９−ビス−（４−ヒドロキフェニル）フルオレン(２８ｍｍｏｌ)およびトリエチルアミン(１６８ｍｍｏｌ)を混合し、氷冷下攪拌した。得られた溶液に、フェニルホスホン酸ジクロライド(６０ｍｍｏｌ)の塩化メチレン(１０ｍｌ)溶液を１５分間かけて滴下し、滴下終了後室温で６０分間攪拌した。その後、濃度０.５８４ｍｏｌ／ｌであるトリホスゲンの塩化メチレン溶液(１１.４１ｍｌ)を１５分かけて滴下し、滴下終了後６０分間攪拌した。その後、実施例１と同様に処理（収率９１％）し、つづいて、延伸温度を１９４℃で行ったこと以外は、実施例１と同様の方法で評価した。

（実施例７）
窒素雰囲気下、塩化メチレン(４０ｍｌ)中に、メチルベンジリデンビスフェノール(５４ｍｍｏｌ)、９,９−ビス−（４−ヒドロキフェニル）フルオレン(２６ｍｍｏｌ)およびトリエチルアミン(１６８ｍｍｏｌ)を混合し、氷冷下攪拌した。得られた溶液にフェニルホスホン酸ジクロライド(６０ｍｍｏｌ)の塩化メチレン(１０ｍｌ)溶液を１５分間かけて滴下し、滴下終了後室温で６０分間攪拌した。その後、濃度０.５８４ｍｏｌ／ｌであるトリホスゲンの塩化メチレン溶液(１１.４１ｍｌ)を１５分かけて滴下し、滴下終了後６０分間攪拌した。その後、実施例１と同様に処理（収率８９％）し、つづいて、延伸温度を１９２℃で行ったこと以外は、実施例１と同様の方法で評価した。

（実施例８）
窒素雰囲気下、塩化メチレン(４０ｍｌ)中に、α、α−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１，４−ジイソプロピルベンゼン(３２ｍｍｏｌ)、９,９−ビス−（４−ヒドロキフェニル）フルオレン(４８ｍｍｏｌ)およびトリエチルアミン(１６８ｍｍｏｌ)を混合し、氷冷下攪拌した。得られた溶液にフェニルホスホン酸ジクロライド(７２ｍｍｏｌ)の塩化メチレン(１０ｍｌ)溶液を１５分間かけて滴下し、滴下終了後室温で６０分間攪拌した。その後、濃度０.５９０ｍｏｌ／ｌであるトリホスゲンの塩化メチレン溶液(４．５２ｍｌ)を１５分かけて滴下し、滴下終了後６０分間攪拌した。その後、実施例１と同様に処理（収率８９％）し、つづいて、延伸温度を１９８℃で行ったこと以外は、実施例１と同様の方法で評価した。

（実施例９）
窒素雰囲気下、塩化メチレン(４０ｍｌ)中に、α、α−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１，４−ジイソプロピルベンゼン(２６．４ｍｍｏｌ)、９,９−ビス−（４−ヒドロキフェニル）フルオレン(５３．６ｍｍｏｌ)およびトリエチルアミン(１６８ｍｍｏｌ)を混合し、氷冷下攪拌した。得られた溶液にフェニルホスホン酸ジクロライド(７２ｍｍｏｌ)の塩化メチレン(１０ｍｌ)溶液を１５分間かけて滴下し、滴下終了後室温で６０分間攪拌した。その後、濃度０.５９０ｍｏｌ／ｌであるトリホスゲンの塩化メチレン溶液(４．５２ｍｌ)を１５分かけて滴下し、滴下終了後６０分間攪拌した。その後、実施例１と同様に処理（収率８９％）し、つづいて、延伸温度を２０５℃で行ったこと以外は、実施例１と同様の方法で評価した。

（実施例１０）
窒素雰囲気下、塩化メチレン(４０ｍｌ)中に、α、α−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１，４−ジイソプロピルベンゼン(２８ｍｍｏｌ)、９,９−ビス−（４−ヒドロキフェニル）フルオレン(５２ｍｍｏｌ)およびトリエチルアミン(１６８ｍｍｏｌ)を混合し、氷冷下攪拌した。得られた溶液にフェニルホスホン酸ジクロライド(６０ｍｍｏｌ)の塩化メチレン(１０ｍｌ)溶液を１５分間かけて滴下し、滴下終了後室温で６０分間攪拌した。その後、濃度０.５９０ｍｏｌ／ｌであるトリホスゲンの塩化メチレン溶液(１１．３ｍｌ)を１５分かけて滴下し、滴下終了後６０分間攪拌した。その後、実施例１と同様に処理（収率８７％）し、つづいて、延伸温度を１９８℃で行ったこと以外は、同様の方法で評価した。

（実施例１１）
窒素雰囲気下、塩化メチレン(４０ｍｌ)中に、α、α−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１，４−ジイソプロピルベンゼン(２５．６ｍｍｏｌ)、９,９−ビス−（４−ヒドロキフェニル）フルオレン(５４．４ｍｍｏｌ)およびトリエチルアミン(１６８ｍｍｏｌ)を混合し、氷冷下攪拌した。得られた溶液にフェニルホスホン酸ジクロライド(６０ｍｍｏｌ)の塩化メチレン(１０ｍｌ)溶液を１５分間かけて滴下し、滴下終了後室温で６０分間攪拌した。その後、濃度０.５９０ｍｏｌ／ｌであるトリホスゲンの塩化メチレン溶液(１１．３ｍｌ)を１５分かけて滴下し、滴下終了後６０分間攪拌した。その後、実施例１と同様に処理（収率８５％）し、つづいて、延伸温度を２００℃で行ったこと以外は、実施例１と同様の方法で評価した。

（実施例１２）
窒素雰囲気下、塩化メチレン(４０ｍｌ)中に、α、α−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１，４−ジイソプロピルベンゼン(３２ｍｍｏｌ)、９,９−ビス−（４−ヒドロキフェニル）フルオレン(４８ｍｍｏｌ)およびトリエチルアミン(１６８ｍｍｏｌ)を混合し、氷冷下攪拌した。得られた溶液にフェニルホスホン酸ジクロライド(６０ｍｍｏｌ)の塩化メチレン(１０ｍｌ)溶液を１５分間かけて滴下し、滴下終了後室温で６０分間攪拌した。その後、濃度０.５９０ｍｏｌ／ｌであるトリホスゲンの塩化メチレン溶液(１１．３ｍｌ)を１５分かけて滴下し、滴下終了後６０分間攪拌した。その後、実施例１と同様に処理（収率８５％）し、つづいて、延伸温度を１９２℃で行ったこと以外は、実施例１と同様の方法で評価した。

（実施例１３）
窒素雰囲気下、塩化メチレン(４０ｍｌ)中に、α、α−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１，４−ジイソプロピルベンゼン(２０ｍｍｏｌ)、９,９−ビス−（４−ヒドロキフェニル）フルオレン(６０ｍｍｏｌ)およびトリエチルアミン(１６８ｍｍｏｌ)を混合し、氷冷下攪拌した。得られた溶液にエチルルホスホン酸ジクロライド(６０ｍｍｏｌ)の塩化メチレン(１０ｍｌ)溶液を１５分間かけて滴下し、滴下終了後室温で６０分間攪拌した。その後、濃度０.５９０ｍｏｌ／ｌであるトリホスゲンの塩化メチレン溶液(１１．３ｍｌ)を１５分かけて滴下し、滴下終了後６０分間攪拌した。その後、実施例１と同様に処理（収率８５％）し、つづいて、延伸温度を２０５℃で行ったこと以外は、実施例１と同様の方法で評価した。

（実施例１４）
窒素雰囲気下、塩化メチレン(４０ｍｌ)中に、α、α−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１，４−ジイソプロピルベンゼン(２１．６ｍｍｏｌ)、９,９−ビス−（４−ヒドロキフェニル）フルオレン(５８．４ｍｍｏｌ)およびトリエチルアミン(１６８ｍｍｏｌ)を混合し、氷冷下攪拌した。得られた溶液にエチルルホスホン酸ジクロライド(６０ｍｍｏｌ)の塩化メチレン(１０ｍｌ)溶液を１５分間かけて滴下し、滴下終了後室温で６０分間攪拌した。その後、濃度０.５９０ｍｏｌ／ｌであるトリホスゲンの塩化メチレン溶液(１１．３ｍｌ)を１５分かけて滴下し、滴下終了後６０分間攪拌した。その後、実施例１と同様に処理（収率８５％）し、つづいて、延伸温度を２０５℃で行ったこと以外は、実施例１と同様の方法で評価した。

（実施例１５）
窒素雰囲気下、塩化メチレン(４０ｍｌ)中に、α、α−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１，４−ジイソプロピルベンゼン(２４ｍｍｏｌ)、９,９−ビス−（４−ヒドロキフェニル）フルオレン(５６ｍｍｏｌ)およびトリエチルアミン(１６８ｍｍｏｌ)を混合し、氷冷下攪拌した。得られた溶液にフェニルホスホン酸ジクロライド(８ｍｍｏｌ)の塩化メチレン(１０ｍｌ)溶液を１５分間かけて滴下し、滴下終了後室温で６０分間攪拌した。その後、濃度０.５９０ｍｏｌ／ｌであるトリホスゲンの塩化メチレン溶液(４０．７ｍｌ)を１５分かけて滴下し、滴下終了後６０分間攪拌した。その後、実施例１と同様に処理（収率８６％）し、つづいて、延伸温度を２４０℃で行ったこと以外は、実施例１と同様の方法で評価した。

（実施例１６）
窒素雰囲気下、塩化メチレン(４０ｍｌ)中に、メチルベンジリデンビスフェノール(４３．２ｍｍｏｌ)、９,９−ビス−（４−ヒドロキフェニル）フルオレン(３６．８ｍｍｏｌ)およびトリエチルアミン(１６８ｍｍｏｌ)を混合し、氷冷下攪拌した。得られた溶液にフェニルホスホン酸ジクロライド(４０ｍｍｏｌ)の塩化メチレン(１０ｍｌ)溶液を１５分間かけて滴下し、滴下終了後室温で６０分間攪拌した。その後、濃度０.５９０ｍｏｌ／ｌであるトリホスゲンの塩化メチレン溶液(２２．６ｍｌ)を１５分かけて滴下し、滴下終了後６０分間攪拌した。その後、実施例１と同様に処理（収率８９％）し、つづいて、延伸温度を２２０℃で行ったこと以外は、実施例１と同様の方法で評価した。

（実施例１７）
窒素雰囲気下、塩化メチレン(４０ｍｌ)中に、α、α−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１，４−ジイソプロピルベンゼン(２４ｍｍｏｌ)、構造式（９）に記載のビスクレゾールフルオレン（大阪ガス（株）社製）フルオレン(５６ｍｍｏｌ)およびトリエチルアミン(１６８ｍｍｏｌ)を混合し、氷冷下攪拌した。得られた溶液にフェニルホスホン酸ジクロライド(６０ｍｍｏｌ)の塩化メチレン(１０ｍｌ)溶液を１５分間かけて滴下し、滴下終了後室温で６０分間攪拌した。その後、濃度０.５９０ｍｏｌ／ｌであるトリホスゲンの塩化メチレン溶液(１１．３ｍｌ)を１５分かけて滴下し、滴下終了後６０分間攪拌した。その後、実施例１と同様に処理（収率８９％）し、つづいて、延伸温度を２０５℃で行ったこと以外は、実施例１と同様の方法で評価した。

（実施例１８）
窒素雰囲気下、塩化メチレン(４０ｍｌ)中に、α、α−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１，４−ジイソプロピルベンゼン(３２ｍｍｏｌ)、構造式（９）に記載のビスクレゾールフルオレン（大阪ガス（株）社製）フルオレン(４８ｍｍｏｌ)およびトリエチルアミン(１６８ｍｍｏｌ)を混合し、氷冷下攪拌した。得られた溶液にフェニルホスホン酸ジクロライド(６０ｍｍｏｌ)の塩化メチレン(１０ｍｌ)溶液を１５分間かけて滴下し、滴下終了後室温で６０分間攪拌した。その後、濃度０.５９０ｍｏｌ／ｌであるトリホスゲンの塩化メチレン溶液(１１．３ｍｌ)を１５分かけて滴下し、滴下終了後６０分間攪拌した。その後、実施例１と同様に処理（収率８９％）し、つづいて、延伸温度を２００℃で行ったこと以外は、実施例１と同様の方法で評価した。

（実施例１９）
窒素雰囲気下、塩化メチレン(４０ｍｌ)中に、α、α−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１，４−ジイソプロピルベンゼン(２４ｍｍｏｌ)、フェノールフタレイン(５６ｍｍｏｌ)およびトリエチルアミン(１６８ｍｍｏｌ)を混合し、氷冷下攪拌した。得られた溶液にフェニルホスホン酸ジクロライド(６０ｍｍｏｌ)の塩化メチレン(１０ｍｌ)溶液を１５分間かけて滴下し、滴下終了後室温で６０分間攪拌した。その後、濃度０.５９０ｍｏｌ／ｌであるトリホスゲンの塩化メチレン溶液(１１．３ｍｌ)を１５分かけて滴下し、滴下終了後６０分間攪拌した。その後、実施例１と同様に処理（収率８９％）し、つづいて、延伸温度を２１０℃で行ったこと以外は、実施例１と同様の方法で評価した。

（実施例２０）
窒素雰囲気下、塩化メチレン(４０ｍｌ)中に、α、α−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１，４−ジイソプロピルベンゼン(３２ｍｍｏｌ)、フェノールフタレイン(４８ｍｍｏｌ)およびトリエチルアミン(１６８ｍｍｏｌ)を混合し、氷冷下攪拌した。得られた溶液にフェニルホスホン酸ジクロライド(６０ｍｍｏｌ)の塩化メチレン(１０ｍｌ)溶液を１５分間かけて滴下し、滴下終了後室温で６０分間攪拌した。その後、濃度０.５９０ｍｏｌ／ｌであるトリホスゲンの塩化メチレン溶液(１１．３ｍｌ)を１５分かけて滴下し、滴下終了後６０分間攪拌した。その後、実施例１と同様に処理（収率９０％）し、つづいて、延伸温度を２０３℃で行ったこと以外は、実施例１と同様の方法で評価した。

（実施例２１）
窒素雰囲気下、塩化メチレン(４０ｍｌ)中に、１，１ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン(８０ｍｍｏｌ)、およびトリエチルアミン(１６８ｍｍｏｌ)を混合し、氷冷下攪拌した。得られた溶液に、フェニルホスホン酸ジクロライド(６０ｍｍｏｌ)の塩化メチレン(１０ｍｌ)溶液を１５分間かけて滴下し、滴下終了後室温で６０分間攪拌した。その後、濃度０.５８４ｍｏｌ／ｌであるトリホスゲンの塩化メチレン溶液(１１.４１ｍｌ)を１５分かけて滴下し、滴下終了後６０分間攪拌した。その後、実施例１と同様に処理（収率９０％）し、つづいて延伸温度を１５０℃で行ったこと以外は、実施例１と同様の方法で評価した。

（実施例２２）
窒素雰囲気下、塩化メチレン(４０ｍｌ)中に、メチルベンジリデンビスフェノール(８０ｍｍｏｌ)、トリエチルアミン(１６８ｍｍｏｌ)を混合し、氷冷下攪拌した。得られた溶液に、フェニルホスホン酸ジクロライド(６０ｍｍｏｌ)の塩化メチレン(１０ｍｌ)溶液を１５分間かけて滴下し、滴下終了後室温で６０分間攪拌した。その後、濃度０.５８４ｍｏｌ／ｌであるトリホスゲンの塩化メチレン溶液(１１.４１ｍｌ)を１５分かけて滴下し、滴下終了後６０分間攪拌した。その後、実施例１と同様に処理（収率８８％）し、つづいて延伸温度を１７０℃で行ったこと以外は、実施例１と同様の方法で評価した。

（比較例１）
窒素雰囲気下、塩化メチレン(４０ｍｌ)中に、ビスフェノールＡ(８０ｍｍｏｌ)、トリエチルアミン(１６８ｍｍｏｌ)を混合し、氷冷下攪拌した。得られた溶液に、濃度０.５９０ｍｏｌ／ｌであるトリホスゲンの塩化メチレン溶液(４４．２ｍｌ)を１５分かけて滴下し、滴下終了後１８０分間攪拌した。その後、実施例１と同様に処理（収率９２％）し、つづいて延伸温度を１４０℃、延伸後チャック間距離を３０ｍｍで行ったこと以外は、実施例１と同様の方法で評価した。

（比較例２）
市販のポリアリレート樹脂（ユニチカ（株）製：Ｕポリマー、Ｕ−１００）を塩化メチレンに溶解させ、ポリマー固形分濃度７ｗｔ％のドープ溶液を作製した。このドープ溶液をガラス板上に製膜し、乾燥させることによって、キャストフィルムを得た。このフィルムを延伸温度を１９５℃、延伸後チャック間距離を３０ｍｍで行ったこと以外は、実施例１と同様の方法で評価した。

上記実施例１〜２２と比較例１〜２の方法で作成した樹脂の評価結果を表１と表２に示す。

上記比較例１〜２の結果から、従来の熱可塑性樹脂は、高屈折率だが光弾性係数が大きく、レンズ、光学用フィルムあるいは光学用シートなどの用途に用いるには到底不十分である。これに対して本発明の樹脂は高屈折率かつ光弾性係数が低いという有用な光学特性を有していることがわかる。さらに、位相差比が式（５）、（６）を満足し、逆分散特性を得ることが可能となり、これらの熱可塑性樹脂からなる単層フィルムだけで、良好な光学特性を持つ位相差フィルムを得ることができる。

本発明は、上記した問題を解決し光学特性に優れ、任意の応力下でも光学特性の変化が極めて少ない（低光弾性係数）ため光学用に好適な熱可塑性樹脂、及びその熱可塑性樹脂からなるレンズやフィルム等のシート状物等の成形体を提供することが可能となった。そのため光学レンズなどカメラ付き携帯電話、デジタルカメラ部品などにも有用に用いることができる。 さらに、本発明は、上記した問題を解決し、光学歪みの極めて小さい位相差フィルム得ることが可能で、本発明の熱可塑性樹脂からなる高分子フィルムは光の波長３８０ｎｍ〜７８０ｎｍの間において、理想的な１／４波長位相差特性を得られ、任意の応力下でも光学特性の変化が極めて少ない（低光弾性係数）ものである。この位相差フィ
ルムを用いた、モバイル用途ディスプレイ（反射型ＬＣＤ、半透過型ＬＣＤ等）の画質は最高レベルを誇るため今後も有用に活用される。

Claims (13)

1. 下記構造式（１）
   

   

   （式中、Ｒは炭素数１〜２０の炭化水素基、Ｘは酸素、硫黄あるいはセレンを表し、ＲあるいはＸの異なるホスホン酸残基をともに含んでもよい。）で示される繰り返し単位と、下記構造式（２）
   

   

   （式中、Ｒ'は各々独立に水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜２０の脂肪族炭化水素基、炭素数１〜２０の芳香族炭化水素基およびニトロ基からなる群から選ばれ、ｐとｑはｐ＋ｑ＝０〜８の整数であり、Ｙは単結合、酸素原子、硫黄原子、アルキレン基、アルキリデン基、シクロアルキレン基、シクロアルキリデン基、ハロ置換アルキレン基、ハロ置換アルキリデン基、フェニルアルキリデン基、カルボニル基、脂肪族ホスフィンオキシド基、芳香族ホスフィンオキシド基、アルキルシラン基、ジアルキルシラン基、フルオレン基からなる群から選ばれる。）で示される繰り返し単位と、下記構造式（３）
   

   

   で示される繰り返し単位を含み、前記構造式（１）の繰り返し単位と前記構造式（３）の繰り返し単位のモル分率が、次式（４）
   （ａ)／[（ａ）＋（ｂ）]≧０．０５ 式（４）
   を満足し、かつ光弾性係数Ｋ（Ｐa^-1）が３×１０^-13≦Ｋ≦７．０×１０^-11 であることを満足する熱可塑性樹脂。
2. １軸配向させて得られた単層状態のシート状物の４５０ｎｍおよび５５０ｎｍおよび６５０ｎｍの光線における位相差（レタデーション値）が、下記式（５）および下記式（６）を満足する請求項１記載の熱可塑性樹脂。
   Ｒ(４５０ｎｍ)／Ｒ(５５０ｎｍ)≦１ （５）
   Ｒ(６５０ｎｍ)／Ｒ(５５０ｎｍ)≧１ （６）
   [式中、Ｒ(４５０ｎｍ)、Ｒ(５５０ｎｍ)およびＲ(６５０ｎｍ)は、それぞれ光の波長が４５０ｎｍ、５５０ｎｍおよび６５０ｎｍにおける面内位相差である。］
3. さらに下記構造式（７）
   

   

   （式中、Ｒ”は各々独立に水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜２０の脂肪族炭化水素基、炭素数１〜２０の芳香族炭化水素基およびニトロ基からなる群から選ばれ、ｎとｍはｎ＋ｍ＝０〜８の整数を表す。）で示される繰り返し単位を含む請求項１または２記載の熱可塑性樹脂。
4. 光弾性係数Ｋ（Ｐa^-1）が３×１０^-13≦Ｋ≦４．５×１０^-11 である請求項３記載の熱可塑性樹脂。
5. 構造式（７）で示される繰り返し単位が、下記構造式（８）または／および下記構造式（９）
   

   

   

   （両式中、Ｒ”は各々独立に水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜２０の脂肪族炭化水素基、炭素数１〜２０の芳香族炭化水素基およびニトロ基からなる群から選ばれ、ｎとｍはｎ＋ｍ＝０〜８の整数を表す。）で示される繰り返し単位であることを特徴とする請求項３または４載の熱可塑性樹脂。
6. 構造式（１）で示されるホスホン酸残基において、該ホスホン酸残基の代わりに、一部ホスホナイト残基により構成され、その置換比率が５０％以下であることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の熱可塑性樹脂。
7. ガラス転移点温度が１００℃以上でかつ２５０℃以下であることを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載の熱可塑性樹脂。
8. ｄ線屈折率が１．５９以上１．７０以下であり、かつアッベ数が２０以上４０以下であることを特徴とする請求項１〜７のいずれかに記載の熱可塑性樹脂。
9. 数平均分子量が１０,０００以上５００,０００以下であることを特徴とする請求項１〜８のいずれかに記載の熱可塑性樹脂。
10. 請求項１〜９のいずれかに記載の熱可塑性樹脂からなる成形体。
11. 膜厚が１０μｍ以上３ｍｍ以下のシート状物である請求項１０記載の成形体。
12. 波長５８９ｎｍにおける位相差が０ｎｍ以上２,０００ｎｍ以下である請求項１０または１１記載の成形体。
13. 請求項１〜９のいずれかに記載の熱可塑性樹脂からなる光学用品。