JP2003279733A - 位相差フィルム及び位相差板 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 （修正有） 【課題】 高Ｒ値（Ｒ（４００ｎｍ）／Ｒ（５５０ｎ
ｍ））を持つ、位相差フィルムを得る。 【解決手段】 式（１）で示される繰り返し単位、式
（２）で示される繰り返し単位、式（３）を部分構造と
して有する繰り返し単位、および、式（４）で示される
繰り返し単位からなる樹脂を用いてなる位相差フィル
ム。 ［式（１）中Ｒは炭素数１〜２０の脂肪族炭化水素基ま
たは芳香族炭化水素基、Ｘは酸素、硫黄あるいはセレン
を表し、ＲあるいはＸの異なるホスホン酸残基をともに
含んでもよい。式（２）中Ｒ’は各々独立に水素原子、
ハロゲン原子、炭素数１〜２０の脂肪族炭化水素基、炭
素数１〜２０の芳香族炭化水素基、ニトロ基からなる群
から選ばれ、Ｙは単結合、酸素原子、硫黄原子、アルキ
レン基、アルキリデン基等からなる群から選ばれる。式
（３）中Ｒ”は各々独立に水素原子、ハロゲン原子、炭
素数１〜２０の脂肪族炭化水素基、炭素数１〜２０の芳
香族炭化水素基、ニトロ基からなる群から選ばれる。］

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、液晶表示装置等に
用いられる位相差フィルムに関するものである。

【０００２】

【従来の技術】液晶表示デバイスの分野で使用される光
学フィルムとして、レターデーション値の比（Ｒ値）を
液晶セルの構成（セルギャップ）に応じて好ましい値に
するために、現在ポリビニルアルコール、ポリカーボネ
ート、ポリアリレート等が用いられているが、Ｒの値を
充分コントロールできないのが現実である。とくにＳＴ
Ｎ液晶表示装置の表示品位を向上させるために位相差フ
ィルムが用いられている。

【０００３】近年、ＳＴＮ、ＴＦＴ液晶表示装置の表示
品位を向上させるために、ＳＴＮ液晶表示装置の応答性
を向上させる検討がなされているが、現在主に用いられ
ているポリカーボネートの位相差フィルムのレターデー
ション値の比（Ｒ）ではＲが1.15程度であるため、高速
応答に対する表示品位が不充分であり、Ｒの値のより大
きなものが望まれている。これらの課題を克服する方法
として、２枚のフィルムを重ねて用いる方法（特開平３
−１３９１７号公報、特開平３−１３９１６号公報な
ど）が提案されている。しかし、前記の方法では、コス
トアップになること、また２枚のフィルムの重ね合わせ
の角度調整および接着などのプロセスなどが困難である
こと、さらに充分なＲの値がえられないことなどの問題
がある。

【０００４】本発明の目的は、前記の従来の問題を解決
するためになされたものであり、同一面内で充分なレタ
ーデーション値の比を有する位相差フィルムを提供する
ことにある。

【０００５】特開平６−１７９４２３号公報で、波長分
散の大きい位相差フィルムについての記載があるが、本
研究者らは、該フィルムはスルホン基等を有しているも
のもあり、延伸前から少し着色があることを確認した。
また、延伸温度が高すぎることから加工性が悪く、さら
にフィルムの延伸温度が高いため、延伸後のフィルムは
着色がさらに悪化するなどの課題を確認している。また
Ｒ値（Ｒ(４００ｎｍ)／Ｒ(５５０ｎｍ)）が最大で１．
３１であり、波長依存性もまだ十分でない。

【０００６】本発明は、上記課題を解決するため、従来
品よりも位相差フィルムのＲ値（Ｒ(４００ｎｍ)／Ｒ
(５５０ｎｍ)）が大きく、かつ延伸温度の低い、無色透
明な位相差フィルムの提供することである。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】本発明者らは、前記問
題を解決するために鋭意研究を重ねた結果、特定の組成
のポリマーを用いることにより、１枚で特定の波長にお
けるレターデーション値の比であるＲの値を一定の範囲
でコントロールできる位相差フィルムを見出し、本発明
を完成するにいたった。すなわち、本発明は、ポリホス
ホネートを含むものからの位相差フィルムであって、４
００ｎｍにおけるレターデーション値Ｒｅ（４００ｎ
ｍ）と５５０ｎｍにおけるレターデーション値Ｒ（５５
０ｎｍ） の比であるＲ値（Ｒ（４００ｎｍ） ／Ｒ（５
５０ｎｍ） ）が１．２０〜２．００であることを特徴
とする位相差フィルムに関する。近年、液晶表示装置の
表示品位向上のため液晶セルの高速応答化の検討が行わ
れている。しかしながら、高速応答化された液晶セルは
大きな波長依存性をもつため、前記したような、ポリビ
ニルアルコール、ポリカーボネート、ポリアリレート等
の位相差板では、表示品位が不十分であるなどの問題が
あった。特開平６−１７９４２３号公報で、波長分散の
大きい位相差フィルムについての記載があるが、本研究
者らは、該フィルムはスルホン基等を有してものもあ
り、延伸前から少し着色があることを確認した。また、
延伸温度が高すぎることから加工性が悪く、さらにフィ
ルムの延伸温度が高いため、延伸後のフィルムは着色が
さらに悪化するなどの課題を確認している。Ｒ値（Ｒ
(４００ｎｍ)／Ｒ(５５０ｎｍ)）が最大で１．３１であ
り、波長依存性もまだ十分でない。

【０００８】本発明は、上記課題を解決するため、従来
品よりも位相差フィルムのＲ値（Ｒ(４００ｎｍ)／Ｒ
(５５０ｎｍ)）が大きく、かつ延伸温度の低い、無色透
明な位相差フィルムの提供することである。

【０００９】

【課題を解決するための手段】式（１）で示される繰り
返し単位、式（２）で示される繰り返し単位、式（３）
を部分構造として有する繰り返し単位、および、式
（４）で示される繰り返し単位からなる樹脂を用いてな
る位相差フィルムであって、式（１）の繰り返し単位と
式（４）の繰り返し単位のモル分率が式（５）を満足し
たポリホスホネートを含むものからなる位相差フィルム
であり、４００ｎｍおよび５５０ｎｍおよび７００ｎｍ
の光線における位相差（レタデーション値）が式（６）
及び（７）を満足することを特徴とする位相差フィル
ム。

【００１０】 １．２０＜Ｒ(４００ｎｍ)／Ｒ(５５０ｎｍ)＜２．００ （６） ０．６０＜Ｒ(７００ｎｍ)／Ｒ(５５０ｎｍ)＜０．９５ （７） [式中、Ｒ(４００ｎｍ)、Ｒ(５５０ｎｍ)、Ｒ(７００ｎ
ｍ)は、それぞれ光の波長が４００ｎｍ、５５０ｎｍ、
７００ｎｍにおける面内位相差であり、以下このように
呼ぶ。］

【００１１】

【化７】

【００１２】

【化８】

【００１３】

【化９】

【００１４】

【化１０】

【００１５】［式（１）中Ｒは炭素数１〜２０の脂肪族
炭化水素基または芳香族炭化水素基、Ｘは酸素、硫黄あ
るいはセレンを表し、ＲあるいはＸの異なるホスホン酸
残基をともに含んでもよい。式（２）中Ｒ’は各々独立
に水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜２０の脂肪族炭
化水素基、炭素数１〜２０の芳香族炭化水素基、ニトロ
基からなる群から選ばれ、ｐ、ｑはｐ＋ｑ＝０〜８の整
数。Ｙは単結合、酸素原子、硫黄原子、アルキレン基、
アルキリデン基、シクロアルキレン基、シクロアルキリ
デン基、ハロ置換アルキレン基、ハロ置換アルキリデン
基、フェニルアルキリデン基、カルボニル基、スルホン
基、脂肪族ホスフィンオキシド基、芳香族ホスフィンオ
キシド基、アルキルシラン基、ジアルキルシラン基、フ
ルオレン基からなる群から選ばれる。式（３）中Ｒ”は
各々独立に水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜２０の
脂肪族炭化水素基、炭素数１〜２０の芳香族炭化水素
基、ニトロ基からなる群から選ばれ、ｍ、ｎはｍ＋ｎ＝
０〜８の整数。] １≧（ａ）／｛（ａ）＋（ｂ）｝≧０．０５ （５） ［式（５）中、（ａ）は式（１）の繰り返し単位のモル
数、（ｂ）は式（４）の繰り返し単位のモル数。］

【００１６】

【発明の実施の形態】本発明の位相差フィルムは、以下
の構成を有するものである。

【００１７】本発明者らは、前記問題を解決するために
鋭意研究を重ねた結果、特定の組成のポリマーを用いる
ことにより、１枚で特定の波長におけるレターデーショ
ン値の比であるＲ値を一定の範囲でコントロールできる
位相差フィルムを見出し、本発明を完成するにいたっ
た。すなわち、本発明は、ポリホスホネートを含むもの
からの位相差フィルムであって、４００ｎｍにおけるレ
ターデーション値Ｒ（４００ｎｍ）と５５０ｎｍにおけ
るレターデーション値Ｒ（５５０ｎｍ） の比であるＲ
（Ｒ（４００ｎｍ） ／Ｒ（５５０ｎｍ）、以後Ｒ値と
呼ぶ ）が１．２０〜２．００であることを特徴とする
位相差フィルムに関するものである。

【００１８】本発明は、式（１）で示される繰り返し単
位、式（２）で示される繰り返し単位、式（３）を部分
構造として有する繰り返し単位、および、式（４）で示
される繰り返し単位からなる樹脂を用いてなる位相差フ
ィルムであって、式（１）の繰り返し単位と式（４）の
繰り返し単位のモル分率が式（５）を満足した樹脂から
なる位相差フィルムからなり、式（３）で示したフルオ
レン骨格を部分構造にもつ繰り返し単位と式（２）で示
した繰り返し単位の配合比によって、Ｒ値を１．２〜
２．０の範囲でコントロールすることができる。なお、
式（２）繰り返し単位と式（３）を部分構造にもつ繰り
返し単位の比については式（８）の範囲を用いて、Ｒ値
をコントロールする事が可能であり、Ｒ値が式（６）か
つ式（７）を満足した位相差フィルムを得た。

【００１９】本発明の位相差フィルムは正の複屈折率異
方性を持つものに、負の複屈折率依存性のものを含有さ
せることによって、式（１１）かつ式（１２）、好まし
くは式（６）かつ（７）を、最も好ましくは式（１３）
かつ式（１４）の特性を得ることができる。なお、正の
複屈折率異方性をもつものは、フィルム延伸方向と面内
屈折率楕円体の長軸方向が同一方向であるのに対し、負
の複屈折率異方性をもつものは、フィルム延伸方向と面
内屈折率楕円体の長軸方向が直交方向になる。

【００２０】 １．２０＜Ｒ(４００ｎｍ)／Ｒ(５５０ｎｍ)＜２．００ （１１） ０．７５＜Ｒ(７００ｎｍ)／Ｒ(５５０ｎｍ)＜０．９５ （１２） １．２０＜Ｒ(４００ｎｍ)／Ｒ(５５０ｎｍ)＜１．５０ （ ６） ０．７５＜Ｒ(７００ｎｍ)／Ｒ(５５０ｎｍ)＜０．９２ （ ７） １．３１＜Ｒ(４００ｎｍ)／Ｒ(５５０ｎｍ)＜１．５０ （１３） ０．７５＜Ｒ(７００ｎｍ)／Ｒ(５５０ｎｍ)＜０．９２ （１４） 本発明によれば、高Ｒ値特性を有する高分子配向フィル
ムからなる位相差フィルムは、構成される部分構造が
（Ａ）または（Ｂ）の条件を満たす高分子配向フィルム
によって得られるものである。

【００２１】（Ａ） （１）正の屈折率異方性を有する高分子のモノマー単位
（以下、正モノマー単位という。）と負の屈折率異方性
を有する高分子のモノマー単位（負モノマー単位とい
う。）とを含む高分子から構成されるフィルムであっ
て、（２）正のモノマー単位に基づく高分子のＲ（４０
０ｎｍ）／Ｒ（５５０ｎｍ）は、負モノマー単位に基づ
く高分子のＲ（４００ｎｍ）／Ｒ（５５０ｎｍ）よりも
小さく、かつ（３）負の屈折率異方性を有する、高分子
配向フィルム。

【００２２】（Ｂ） （１）正の屈折率異方性を有する高分子を形成するモノ
マー単位（以下正モノマー単位という。）と負の屈折率
異方性を有する高分子を形成するモノマー単位（以下、
第２のモノマー単位という。）とを含む高分子から構成
されるフィルムであって、（２）正モノマー単位に基づ
く高分子のＲ（４００ｎｍ）／Ｒ（５５０ｎｍ）は、負
モノマー単位に基づく高分子のＲ（４００ｎｍ）／Ｒ
（５５０ｎｍ）よりも大きく、かつ（３）正の屈折率異
方性を有する、高分子配向フィルム。

【００２３】上記（Ａ）（Ｂ）の条件を満たす態様の例
として、下記条件（Ｃ）（Ｄ）を満たすものがある。

【００２４】（Ｃ） （１）正の屈折率異方性を有する高分子と負の屈折率異
方性を有する高分子とからなるブレンド高分子及び／又
は正の屈折率異方性を有する高分子のモノマー単位と負
の屈折率異方性を有する高分子のモノマー単位とからな
る共重合体から構成されるフィルムであって、（２）該
正の屈折率異方性を有する高分子のＲ（４００ｎｍ）／
Ｒ（５５０ｎｍ）は該負の屈折率異方性を有する高分子
のＲ（４００ｎｍ）／Ｒ（５５０ｎｍ）よりも小さく、
かつ（３）負の屈折率異方性を有する、高分子配向フィ
ルム。

【００２５】（Ｄ） （１）正の屈折率異方性を有する高分子と負の屈折率異
方性を有する高分子とからなるブレンド高分子及び／又
は正の屈折率異方性を有する高分子のモノマー単位と負
の屈折率異方性を有する高分子のモノマー単位とからな
る共重合体から構成されるフィルムであって、（２）該
正の屈折率異方性を有する高分子のＲ（４００ｎｍ）／
Ｒ（５５０ｎｍ）は該負の屈折率異方性を有する高分子
のＲ（４００ｎｍ）／Ｒ（５５０ｎｍ）よりも大きく、
かつ（３）正の屈折率異方性を有する、高分子配向フィ
ルム。

【００２６】ここで、正又は負の屈折率異方性を有する
高分子とは、正又は負の屈折率異方性を有する高分子配
向フィルムを与える高分子をいう。

【００２７】本発明のフィルムは、前記式（１）〜
（４）の繰り返し単位からなる、位相差フィルムを構成
する部分構造が、（Ａ）〜（Ｄ）のいずれかの条件を満
たす高分子配向フィルムによって得られるものである。
また、限定されるものではないが、負モノマー系である
式（３）を部分構造に有する繰り返し単位と正モノマー
系である式（２）の配合比によって、フィルムの屈折率
異方性を正または負とすることができ、かつ位相差特性
も、式（１１）及び式（１２）、更に好ましくは式
（６）及び式（７）を満足し、最も好ましくは式（１
３）及び（１４）を満足することができる。

【００２８】式（１）で示される繰り返し単位、式
（２）で示される繰り返し単位、式（３）を部分構造と
して有する繰り返し単位、および、式（４）で示される
繰り返し単位からなる樹脂を用いてなる位相差フィルム
であって、式（１）の繰り返し単位と式（４）の繰り返
し単位のモル分率が式（５）を満足したポリホスホネー
トを含むものからなる樹脂（Ｅ）と異種樹脂（Ｆ）から
なるブレンド高分子でも、本発明を適用することができ
る。

【００２９】すなわち、ブレンド高分子は上記条件の
（Ｃ）または（Ｄ）のいずれかの条件を満足すれば、樹
脂（Ｅ）には何種類の樹脂（Ｆ）をブレンドすることが
できるが、式（３）を部分構造として有する繰り返し単
位重量％がブレンド高分子中で１〜４０重量％で用いら
れ、好ましくは１〜３０重量％未満であることが好まし
く、最も好ましくは１〜２５重量％であり、位相差特性
も、式（１１）かつ式（１２）、更に好ましくは式
（６）かつ式（７）を満足し、最も好ましくは式（１
３）かつ（１４）を満足することができる。

【００３０】本発明におけるフィルムのブレンド高分子
とは既知の樹脂を用いることが可能で、樹脂（Ｆ）が、
正の複屈折率の場合、ポリカーボネート、ポリアリレー
ト、ポリビニルアルコール、ポリスルホン、ポリエーテ
ルスルホン、アモルファスポリオレフィン、ポリメチル
メタクリレートが用いられ、また負の複屈折率の場合は
ポリスチレン、フルオレン構造を有する樹脂、例えば、
フルオレン構造を有したポリカーボネートやフルオレン
構造を有したポリアリレート等が好ましく用いることが
できる。

【００３１】さらに好ましくは、本発明の樹脂との相溶
性が良い、ポリカーボネート、ポリアリレートや式
（３）のフルオレン構造を有するポリカーボネート等の
ブレンドが最も好ましく、また、本発明フィルム樹脂と
のブレンド比でＲ値がコントロールすることができる。

【００３２】また高分子ブレンドにするには、樹脂
（Ｅ）と樹脂（Ｆ）等の相溶性が重要であり、相溶性が
良好な場合は問題ないが、あまり良好でない場合、ブレ
ンド高分子のフィルムは無色、かつ高透過率なフィルム
にならない場合がある。このように相溶性が良好でない
場合は、モノマー段階で共重合体した方が無色、高透過
率のフィルムが得られる。

【００３３】またブレンド方法も特に限定されないが、
有機溶剤中に何種類の樹脂を溶解させて、樹脂を得る溶
液ブレンド法や何種類の樹脂を溶融させてブレンドする
溶融ブレンド法が好ましく用いられる。

【００３４】負の屈折率異方性を有する負モノマ−に
は、前記式（３）に記載のフルオレン骨格を部分構造に
有する構造が用いられ、さらには物質の安定性、製膜性
が良好であるフルオレンビスフェノール（ＦＢＰ、式
（９）記載）やビスクレゾールフルオレン（ＢＣＦ、式
（１０）記載）の共重合体またはブレンド高分子が最も
好ましく用いられる。

【００３５】本発明における、式（１１）及び式（１
２）、式（６）及び（７）、式（１３）及び式（１４）
のようなの特性を持つ、本発明の共重合体からなるフィ
ルムのフルオレン骨格成分量は、ビスフェノール成分中
の２０〜９０モル％が用いることができるが、更に、位
相差特性を考慮すると３０〜８０モル％の範囲が最も好
ましく用いられる。また、最適なビスフェノール成分中
のフルオレン骨格成分含有量は、式（５）で表すホスホ
ン酸残基（式１記載）とカーボネート残基（式４記載）
のモル分率によって異なる。以下に限定されるものでは
ないが例を挙げると、ホスホン酸残基７５モル％、カー
ボネート残基２５モル％の場合、フルオレン骨格成分含
有量はビスフェノール成分中３０〜８０モル％が好まし
く用いられ、式（６）及び式（７）を満たし、かつ大き
な波長分散特性が得られる。

【００３６】また式（５）で示されるホスホン酸残基の
モル分率が７５モル％以上になると、ビスフェノール成
分中のフルオレン骨格成分を少なく／多くすることで式
（６）及び式（７）を満たし、かつ大きな波長分散特性
が得られる。また反対に、式（５）で示されるホスホン
酸残基のモル分率が７５モル％未満の場合はフルオレン
骨格成分を多く／少なく含有させることで、式（６）及
び式（７）を満足し、かつ大きな波長分散特性が得られ
る。

【００３７】本発明の位相差フィルムは、波長依存性の
大きいフルオレン骨格成分を有していることから発現し
ており、フルオレン骨格成分含有量が２０モル％未満の
時は、大きな波長依存性が発現しない。また、フルオレ
ン骨格成分含有量が９１モル％以上の時も、複屈折率異
方性が負になるだけで、大きな波長依存性は発現しな
い。

【００３８】なお、高Ｒ値（Ｒ（４００ｎｍ）／Ｒ（５
５０ｎｍ））の位相差フィルムのＴｇは高くなる傾向に
あり、分子構造によっては２５０℃以上を示す。そのた
め、係るフィルムの延伸時には２５０℃付近ないしそれ
以上の温度に加熱する必要があり、熱劣化等による物性
低下や樹脂が着色するなどの問題が生じる。ただし、デ
ィスプレイ用の位相差フィルムにおいては、ある程度耐
熱性が必要でありＴｇ１００℃以上、より好ましくは１
２０℃以上必要である。

【００３９】本発明樹脂は、Ｔｇを１２０℃〜２４０℃
の範囲でコントロールできるが、用途に応じて、１３０
〜２２０℃の範囲が好ましく用いられ、最も好ましくは
１７０〜２０５℃で用いられる。

【００４０】本発明の位相差フィルムは従来以上に理想
特性に近づいた良好な位相差特性を有する１／４波長板
や、１／２波長板を得ることができる。

【００４１】本発明の位相差フィルムは透明であること
が好ましく、ヘーズ値３％以下、全光線透過率は８０％
以上であることが好ましい。また本発明の位相差フィル
ムは無色であることが好ましく、黄色度（ΔＹＩ）で
２．０以下であることが好ましく、さらには０．５以下
であることが最も好ましい。なお本発明で述べている全
光線透過率、ヘーズ値（曇価）とは、日本工業規格ＪＩ
Ｓ Ｋ７１０５に準じたものである。

【００４２】式（１）で表される化合物のリン原子上の
置換基Ｒの具体例としては、フェニル、ハロ置換フェニ
ル、メトキシフェニル、エトキシフェニル、エチル、イ
ソプロピル、シクロヘキシル、ビニル、アリル、ベンジ
ル、アミノアルキル、ヒドロキシアルキル、ハロ置換ア
ルキル、アルキルサルファイド基等が挙げられる。また
これら式（１）で表されるホスホン酸残基を構成するホ
スホン酸を具体的に例示すると、メチルホスホン酸、エ
チルホスホン酸、ｎ−プロピルホスホン酸、イソプロピ
ルホスホン酸、ｎ−ブチルホスホン酸、イソブチルホス
ホン酸、ｔ―ブチルホスホン酸、ｎ−ペンチルホスホン
酸、ネオペンチルホスホン酸、シクロヘキシルホスホン
酸、ベンジルホスホン酸、クロロメチルホスホン酸、ジ
クロロメチルホスホン酸、ブロモメチルホスホン酸、ジ
ブロモメチルホスホン酸、２−クロロエチルホスホン
酸、１、２−ジクロロエチルホスホン酸、２―ブロモエ
チルホスホン酸、１、２−ジブロモエチルホスホン酸、
３−クロロプロピルホスホン酸、２、３−ジクロロプロ
ピルホスホン酸３−ブロモプロピルホスホン酸、２、３
−ジブロモプロピルホスホン酸、２−クロロー１−メチ
ルエチルホスホン酸、１、２−ジクロロー１−メチルエ
チルホスホン酸、２−ブロモー１−メチルエチルホスホ
ン酸、１、２−ジブロモー１−メチルエチルホスホン
酸、４−クロロブチルホスホン酸、３、４−ジクロロブ
チルホスホン酸、４−ブロモブチルホスホン酸、３、４
−ジブロモブチルホスホン酸、３−クロロー１―メチル
プロピルホスホン酸、２、３−ジクロロ−１−メチルプ
ロピルホスホン酸、３−ブロモ−１メチルプロピルホス
ホン酸、２、３−ジブロモ−１−メチルホスホン酸、１
−クロロメチルプロピルホスホン酸、１−クロロー１−
クロロメチルプロピルホスホン酸、１−ブロモメチルプ
ロピルホスホン酸、１−ブロモ−１−ブロモメチルプロ
ピルホスホン酸、５−クロロペンチルホスホン酸、４、
５−ジクロロペンチルホスホン酸、５−ブロモペンチル
ホスホン酸、４、５−ジブロモペンチルホスホン酸、１
−ヒドロキシメチルホスホン酸、２−ヒドロキシエチル
ホスホン酸、３−ヒドロキシプロピルホスホン酸、４−
ヒドロキシブチルホスホン酸、５−ヒドロキシペンチル
ホスホン酸、１−アミノメチルホスホン酸、２−アミノ
エチルホスホン酸、３−アミノプロピルホスホン酸、４
−アミノブチルホスホン酸、５−アミノペンチルホスホ
ン酸、メチルチオメチルホスホン酸、メチルチオエチル
ホスホン酸、メチルチオプロピルホスホン酸、メチルチ
オブチルホスホン酸、エチルチオメチルホスホン酸、エ
チルチオエチルホスホン酸、エチルチオプロピルホスホ
ン酸、プロピルチオメチルホスホン酸、プロピルチオエ
チルホスホン酸、ブチルチオメチルホスホン酸、フェニ
ルホスホン酸、４−クロロフェニルホスホン酸、３、４
−ジクロロフェニルホスホン酸、３、５−ジクロロフェ
ニルホスホン酸、４−ブロモフェニルホスホン酸、３、
４−ブロモフェニルホスホン酸、３、５−ブロモフェニ
ルホスホン酸、４−メトキシフェニルホスホン酸、３、
４−ジメトキシフェニルホスホン酸、１―ナフチルホス
ホン酸、２―ナフチルホスホン酸、ベンジルホスホン
酸、４−ブロモフェニルメチルホスホン酸、３、４−ジ
ブロモフェニルメチルホスホン酸、３、５−ジブロモフ
ェニルメチルホスホン酸、２−フェニルエチルホスホン
酸、２−(４−ブロモフェニル)エチルホスホン酸、２−
(３、４−ジブロモフェニル)エチルホスホン酸、２−
(３、５−ジブロモフェニル)エチルホスホン酸、３−フ
ェニルプロピルホスホン酸、３−(４−ブロモフェニル)
プロピルホスホン酸、３−(３、４−ジブロモフェニル)
プロピルホスホン酸、３−(３、５−ジブロモフェニル)
プロピルホスホン酸、４−フェニルブチルホスホン酸、
４−(４−ブロモフェニル)ブチルホスホン酸、４−
(３、４−ジブロモフェニル)ブチルホスホン酸、４−
(３、５−ジブロモフェニル)ブチルホスホン酸、２―ピ
リジルホスホン酸、３−ピリジルホスホン酸、４−ピリ
ジルホスホン酸、１−ピロリジノメチルホスホン酸、１
―ピロリジノエチルホスホン酸、１−ピロリジノプロピ
ルホスホン酸、１−ピロリジノブチルホスホン酸、ピロ
ール−１−ホスホン酸、ピロール−２―ホスホン酸、ピ
ロール−３−ホスホン酸、チオフェン−２―ホスホン
酸、チオフェン−３―ホスホン酸、ジチアン−２―ホス
ホン酸、トリチアン−２―ホスホン酸、フラン−２―ホ
スホン酸、フラン−３―ホスホン酸、ビニルホスホン
酸、アリルホスホン酸などが挙げられ、またこれらのリ
ン原子に２重結合で結合している酸素原子が硫黄原子に
置換されたチオホスホン酸も同様に挙げられる。これら
は１種類でも、複数種併用することもできる。

【００４３】また、これらホスホン酸はその酸塩化物、
エステル、アミドなどのホスホン酸誘導体であってもよ
い。

【００４４】これらホスホン酸残基については、それぞ
れ対応する３価のリン官能基であるホスホナイト残基に
一部置き換えてもよい。これにより樹脂の耐酸化性を付
与することができるが、光学特性等の特性安定性を考慮
すると、その置換比率は５０モル％以下が好ましく、よ
り好ましくは２５モル％以下、さらに好ましくは１０モ
ル％以下である。

【００４５】また、式（２）で表される２価フェノール
残基を構成する２価フェノールを具体的に例示すると、
１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）メタン、１，
１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エタン、１，１−
ビス（４−メチル−２−ヒドロキシフェニル）メタン、
１，１−ビス（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェ
ニル）メタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニ
ル）−４−メチルペンタン、１，１−ビス（４−ヒドロ
キシフェニル）シクロヘキサン、１，１−ビス（４−ヒ
ドロキシフェニル）シクロヘプタン、１，１−ビス（４
−ヒドロキシフェニル）シクロオクタン、２，２−ビス
（４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス
（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、
２，２−ビス（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェ
ニル）プロパン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニ
ル）−１−フェニルエタン、１，１−ビス（４−ヒドロ
キシフェニル）−２−エチルヘキサン、２，２−ビス
（３−フェニル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、
１，１−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）
メタン、４，４'−ビフェノール、２，２−ビス（４−
ヒドロキシフェニル）ブタン、１，１−ビス（４−ヒド
ロキシフェニル）−２−メチルプロパン、１，１−ビス
（４−ヒドロキシフェニル）−１−フェニルメタン、
２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）オクタン、
１，１−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）
シクロヘキサン、２，２−ビス（３−アリル−４−ヒド
ロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３−イソプ
ロピル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−
ビス（３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニ
ル）プロパン、２，２−ビス（３−ｓｅｃブチル−４−
ヒドロキシフェニル）プロパン、ビスフェノールフロー
レン、１，１−ビス（２−メチル−４−ヒドロキシ−５
−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−２−メチルプロパン、
４，４'−〔１，４−フェニレン−ビス（２−プロピリ
デン）〕−ビス（２−メチルフェノール）、１，１−ビ
ス（３−フェニル−４−ヒドロキシフェニル）シクロヘ
キサン、４，４'−ジヒドロキシフェニルエーテル、
１，１−ビス（２−ヒドロキシフェニル）メタン、２，
４'−メチレンビスフェノール、１，１−ビス（３−メ
チル−４−ヒドロキシフェニル）メタン、１，１−ビス
（４−ヒドロキシフェニル）プロパン、１，１−ビス
（２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）エタン、１，
１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−３−メチル−ブ
タン、１，１−ビス（２−ヒドロキシ−３，５−ジメチ
ルフェニル）メタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフ
ェニル）シクロペンタン、１，１−ビス（３−メチル−
４−ヒドロキシフェニル）シクロペンタン、３，３−ビ
ス（４−ヒドロキシフェニル）ペンタン、３，３−ビス
（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）ペンタン、
３，３−ビス（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェ
ニル）ペンタン、２，２−ビス（２−ヒドロキシ−３，
５−ジメチルフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−
ヒドロキシフェニル）ノナン、１，１−ビス（３−メチ
ル−４−ヒドロキシフェニル）−１−フェニルエタン、
１，１−ビス（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェ
ニル）シクロヘキサン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ
フェニル）デカン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェ
ニル）デカン、１，１−ビス（２−ヒドロキシ−３−ｔ
ｅｒｔ−ブチル−５−メチルフェニル）メタン、１，１
−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ジフェニルメタン、
テルペンジフェノール、１，１−ビス（３−ｔｅｒｔ−
ブチル−４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、
１，１−ビス（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−ｔｅ
ｒｔ−ブチルフェニル）−２−メチルプロパン、２，２
−ビス（３−シクロヘキシル−４−ヒドロキシフェニ
ル）プロパン、１，１−ビス（３，５−ジｔｅｒｔ−ブ
チル−４−ヒドロキシフェニル）メタン、１，１−ビス
（３，５−ジｓｅｃブチル−４−ヒドロキシフェニル）
メタン、１，１−ビス（３−シクロヘキシル−４−ヒド
ロキシフェニル）シクロヘキサン、１，１−ビス（２−
ヒドロキシ−３，５−ジｔｅｒｔ−ブチルフェニル）エ
タン、１，１−ビス（３−ノニル−４−ヒドロキシフェ
ニル）メタン、２，２−ビス（３，５−ジｔｅｒｔ−ブ
チル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、１，１−ビ
ス（２−ヒドロキシ−３，５−ジｔｅｒｔ−ブチル−６
−メチルフェニル）メタン、１，１−ビス（３−フェニ
ル−４−ヒドロキシフェニル）−１−フェニルエタン、
４，４−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ペンタン酸、
ビス（４−ヒドロキシフェニル）酢酸ブチルエステル、
１，１−ビス（３−フルオロ−４−ヒドロキシフェニ
ル）メタン、１，１−ビス（２−ヒドロキシ−５−フル
オロフェニル）メタン、２，２−ビス（４ーヒドロキシ
フェニル）−１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロ
プロパン、２，２−ビス（３−フルオロ−４−ヒドロキ
シフェニル）プロパン、１，１−ビス（３−フルオロ−
４−ヒドロキシフェニル）−１−フェニルメタン、１，
１−ビス（３−フルオロ−４−ヒドロキシフェニル）−
１−（ｐ−フルオロフェニル）メタン、１，１−ビス
（４−ヒドロキシフェニル）−１−（ｐ−フルオロフェ
ニル）メタン、２，２−ビス（３−クロロ−４−ヒドロ
キシ−５−メチルフェニル）プロパン、２，２−ビス
（３，５−ジクロロ−４−ヒドロキシフェニル）プロパ
ン、２，２−ビス（３−クロロ−４−ヒドロキシフェニ
ル）プロパン、１，１−ビス（３，５−ジブロモ−４−
ヒドロキシフェニル）メタン、２，２−ビス（３，５−
ジブロモ−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２
−ビス（３−ニトロ−４−ヒドロキシフェニル）プロパ
ン、３，３'−ジメチル−４，４'−ビフェノール、３，
３'，５，５'−テトラメチル−４，４'−ビフェノー
ル、３，３'，５，５'−テトラｔｅｒｔ−ブチル−４，
４'−ビフェノール、ビス（４−ヒドロキシフェニル）
ケトン、３，３'−ジフルオロ−４，４'−ビフェノー
ル、３，３'，５，５'−テトラフルオロ−４，４'−ビ
フェノール、ビス（４−ヒドロキシフェニル）ジメチル
シラン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルホン、ビ
ス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）スルホン、
ビス（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）ス
ルホン、ビス（３，５−ジブロモ−４−ヒドロキシフェ
ニル）スルホン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）チオ
エーテル、ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニ
ル）エーテル、ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェ
ニル）チオエーテル、ビス（３，５−ジメチル−４−ヒ
ドロキシフェニル）エーテル、ビス（３，５−ジメチル
−４−ヒドロキシフェニル）チオエーテル、１，１−ビ
ス（２，３，５−トリメチル−４−ヒドロキシフェニ
ル）−１−フェニルメタン、２，２−ビス（４−ヒドロ
キシフェニル）ドデカン、２，２−ビス（３−メチル−
４−ヒドロキシフェニル）ドデカン、２，２−ビス
（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）ドデカ
ン、１，１−ビス（３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロ
キシフェニル）−１−フェニルエタン、１，１−ビス
（３，５−ジｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニ
ル）−１−フェニルエタン、１，１−ビス（２−メチル
−４−ヒドロキシ−５−シクロヘキシルフェニル）−２
−メチルプロパン、１，１−ビス（２−ヒドロキシ−
３，５−ジｔｅｒｔ−ブチルフェニル）エタン、２，２
−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン酸メチルエ
ステル、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロ
パン酸エチルエステル、イサチンビスフェノール、イサ
チンビスクレゾール、２，２'，３，３'，５，５'−ヘ
キサメチル−４，４'−ビフェノール、ビス（２−ヒド
ロキシフェニル）メタン、２，４'−メチレンビスフェ
ノール、１，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エタ
ン、２−（４−ヒドロキシフェニル）−２−（２−ヒド
ロキシフェニル）プロパン、ビス（２−ヒドロキシ−３
−アリルフェニル）メタン、１，１−ビス（２−ヒドロ
キシ−３，５−ジメチルフェニル）−２−メチルプロパ
ン、１，１−ビス（２−ヒドロキシ−５−ｔｅｒｔ−ブ
チルフェニル）エタン、ビス（２−ヒドロキシ−５−フ
ェニルフェニル）メタン、１，１−ビス（２−メチル−
４−ヒドロキシ−５−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ブタ
ン、ビス（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−シクロヘ
キシルフェニル）メタン、２，２−ビス（４−ヒドロキ
シフェニル）ペンタデカン、２，２−ビス（３−メチル
−４−ヒドロキシフェニル）ペンタデカン、２，２−ビ
ス（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）ペン
タデカン、１，２−ビス（３，５−ジｔｅｒｔ−ブチル
−４−ヒドロキシフェニル）エタン、ビス（２−ヒドロ
キシ−３，５−ジｔｅｒｔ−ブチルフェニル）メタン、
２，２−ビス（３−スチリル−４−ヒドロキシフェニ
ル）プロパン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニ
ル）−１−（ｐ−ニトロフェニル）エタン、ビス（３，
５−ジフルオロ−４−ヒドロキシフェニル）メタン、ビ
ス（３，５−ジフルオロ−４−ヒドロキシフェニル）−
１−フェニルメタン、ビス（３，５−ジフルオロ−４−
ヒドロキシフェニル）ジフェニルメタン、ビス（３−フ
ルオロ−４−ヒドロキシフェニル）ジフェニルメタン、
２，２−ビス（３−クロロ−４−ヒドロキシフェニル）
プロパン、３，３'，５，５'−テトラｔｅｒｔ−ブチル
−２，２'−ビフェノール、２，２'−ジアリル−４，
４'−ビフェノール、１，１−ビス（４−ヒドロキシフ
ェニル）−３，３，５−トリメチル−シクロヘキサン、
１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−３，３，
５，５−テトラメチル−シクロヘキサン、１，１−ビス
（４−ヒドロキシフェニル）−３，３，４−トリメチル
−シクロヘキサン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェ
ニル）−３，３−ジメチル−５−エチル−シクロヘキサ
ン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−３，
３，５−トリメチル−シクロペンタン、１，１−ビス
（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）−３，
３，５−トリメチル−シクロヘキサン、１，１−ビス
（３，５−ジフェニル−４−ヒドロキシフェニル）−
３，３，５−トリメチル−シクロヘキサン、１，１−ビ
ス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）−３，３，
５−トリメチル−シクロヘキサン、１，１−ビス（３−
フェニル−４−ヒドロキシフェニル）−３，３，５−ト
リメチル−シクロヘキサン、１，１−ビス（３，５−ジ
クロロ−４−ヒドロキシフェニル）−３，３，５−トリ
メチル−シクロヘキサン、９，９−ビス（４−ヒドロキ
シフェニル）フルオレン、９、９−ビス（３，５−ジメ
チル−４−ヒドロキシフェニル）フルオレン、１，１−
ビス（３，５−ジブロモ−４−ヒドロキシフェニル）−
３，３，５−トリメチル−シクロヘキサン、α、α−ビ
ス（４−ヒドロキシフェニル）−１，４−ジイソプロピ
ルベンゼン等が挙げられ、これらは１種類でも、複数種
併用することもできる。これら２価フェノールは得られ
るポリマーの性能に応じて用いることができる。また、
これら２価フェノールはフルオレン骨格を有する成分の
モノマーと組合せて用いてもよい。

【００４６】また、ジヒドロキシベンゼンを本発明の効
果が損なわれない範囲で用いることができ、これらジヒ
ドロキシベンゼンとしては、レゾルシノール、ハイドロ
キノン、１，２−ジヒドロキシベンゼン等が挙げられ、
これらは１種類でも、複数種併用することもできる。

【００４７】また、式（４）の繰り返し単位であるカー
ボネート残基とは、炭酸エステル、炭酸ハライドなどを
原料として得られる構造単位であり、例えばジフェニル
カーボネート、ジトリールカーボネート、ビス（クロロ
フェニル）カーボネート、ｍ−クレジルカーボネート、
ジナフチルカーボネート、ビス（ジフェニル）カーボネ
ート、ジエチルカーボネート、ジメチルカーボネート、
ジブチルカーボネート、ジシクロヘキシルカーボネー
ト、ジシクロヘキシルカーボネートなどの炭酸エステ
ル、ホスゲン、トリホスゲンなどの炭酸ハライドが挙げ
られる。

【００４８】また、本発明の位相差板に用いる高分子配
向フィルムは必ずしも直鎖状である必要はなく、得られ
るポリマーの性能に応じて多価フェノールを共重合する
ことができる。このような多価フェノールを具体的に例
示すると、トリス（４−ヒドロキシフェニル）メタン、
４，４'−〔１−〔４−〔１−（４−ヒドロキシフェニ
ル）−１−メチルエチル〕フェニル〕エチリデン〕ビス
フェノール、２，３，４，４'−テトラヒドロキシベン
ゾフェノン、４−〔ビス（４−ヒドロキシフェニル）メ
チル〕−２−メトキシフェノール、トリス（３−メチル
−４−ヒドロキシフェニル）メタン、４−〔ビス（３−
メチル−４−ヒドロキシフェニル）メチル〕−２−メト
キシフェノール、４−〔ビス（３，５−ジメチル−４−
ヒドロキシフェニル）メチル〕−２−メトキシフェノー
ル、１，１，１−トリス（４−ヒドロキシフェニル）エ
タン、１，１，１−トリス（３−メチル−４−ヒドロキ
シフェニル）エタン、１，１，１−トリス（３，５−ジ
メチル−４−ヒドロキシフェニル）エタン、トリス（３
−メチル−４−ヒドロキシフェニル）メタン、トリス
（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）メタ
ン、２，６−ビス〔（２−ヒドロキシ−５−メチルフェ
ニル）メチル〕−４−メチルフェノール、４−〔ビス
（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）メチ
ル〕−１，２−ジヒドロキシベンゼン、２−〔ビス（２
−メチル−４−ヒドロキシ−５−シクロヘキシルフェニ
ル）メチル〕−フェノール、４−〔ビス（２−メチル−
４−ヒドロキシ−５−シクロヘキシルフェニル）メチ
ル〕−１，２−ジヒドロキシベンゼン、４−メチルフェ
ニル−１，２，３−トリヒドロキシベンゼン、４−
〔（４−ヒドロキシフェニル）メチル〕−１，２，３−
トリヒドロキシベンゼン、４−〔１−（４−ヒドロキシ
フェニル）−１−メチル−エチル〕−１，３−ジヒドロ
キシベンゼン、４−〔（３，５−ジメチル−４−ヒドロ
キシフェニル）メチル〕−１，２，３−トリヒドロキシ
ベンゼン、１，４−ビス〔１−ビス（３，４−ジヒドロ
キシフェニル）−１−メチル−エチル〕ベンゼン、１，
４−ビス〔１−ビス（２，３，４−トリヒドロキシフェ
ニル）−１−メチル−エチル〕ベンゼン、２，４−ビス
〔（４−ヒドロキシフェニル）メチル〕−１，３−ジヒ
ドロキシベンゼン、２−〔ビス（３−メチル−４−ヒド
ロキシフェイル）メチル〕フェノール、４−〔ビス（３
−メチル−４−ヒドロキシフェイル）メチル〕フェノー
ル、２−〔ビス（２−メチル−４−ヒドロキシフェイ
ル）メチル〕フェノール、４−〔ビス（３−メチル−４
−ヒドロキシフェニル）メチル〕−１，２−ジヒドロキ
シベンゼン、４−〔ビス（４−ヒドロキシフェニル）メ
チル〕−２−エトキシフェノール、２−〔ビス（２，３
−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）メチル〕フェノ
ール、４−〔ビス（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシ
フェニル）メチル〕フェノール、３−〔ビス（３，５−
ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）メチル〕フェノー
ル、２−〔ビス（２−ヒドロキシ−３，６−ジメチルフ
ェニル）メチル〕フェノール、４−〔ビス（２−ヒドロ
キシ−３，６−ジメチルフェニル）メチル〕フェノー
ル、４−〔ビス（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフ
ェニル）メチル〕−２−メトキシフェノール、３，６−
〔ビス（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）
メチル〕−１，２−ジヒドロキシベンゼン、４，６−
〔ビス（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）
メチル〕−１，２，３−トリヒドロキシベンゼン、２−
〔ビス（２，３，６−トリメチル−４−ヒドロキシフェ
ニル）メチル〕フェノール、２−〔ビス（２，３，５−
トリメチル−４−ヒドロキシフェニル）メチル〕フェノ
ール、３−〔ビス（２，３，５−トリメチル−４−ヒド
ロキシフェニル）メチル〕フェノール、４−〔ビス
（２，３，５−トリメチル−４−ヒドロキシフェニル）
メチル〕フェノール、４−〔ビス（２，３，５−トリメ
チル−４−ヒドロキシフェニル）メチル〕−１，２−ジ
ヒドロキシベンゼン、３−〔ビス（２−メチル−４−ヒ
ドロキシ−５−シクロヘキシルフェニル）メチル〕フェ
ノール、４−〔ビス（２−メチル−４−ヒドロキシ−５
−シクロヘキシルフェニル）メチル〕フェノール、４−
〔ビス（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−シクロヘキ
シルフェニル）メチル〕−２−メトキシフェノール、
２，４，６−〔トリス（４−ヒドロキシフェニルメチ
ル）−１，３−ジヒドロキシベンゼン、１，１，２，２
−テトラ（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）エタ
ン、１，１，２，２−テトラ（３，５−ジメチル−４−
ヒドロキシフェニル）エタン、１，４−〔〔ビス（４−
ヒドロキシフェニル）メチル〕〕ベンゼン、１，４−ジ
〔ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）メチ
ル〕ベンゼン、１，４−ジ〔ビス（３，５−ジメチル−
４−ヒドロキシフェニル）メチル〕ベンゼン、４−
〔１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エチル〕ア
ニリン、（２，４−ジヒドロキシフェニル）（４−ヒド
ロキシフェニル）ケトン、２−〔ビス（４−ヒドロキシ
フェニル）メチル〕フェノール、１，３，３−トリ（４
−ヒドロキシフェニル）ブタン等が挙げられ、これらは
１種類でも、複数種併用することもできる。

【００４９】また、本発明に用いる高分子配向フィルム
を構成する樹脂においては、式（５）を満足することが
必要である。

【００５０】 １≧（ａ）/[（ａ）＋（ｂ）]≧０．０５ （５） 本発明の位相差板に用いられる高分子配向フィルムを構
成する樹脂の製造方法としては、酸ハライドと２価のフ
ェノールを有機溶剤中で反応させる溶液重合法（Ａ．Ｃ
ｏｎｉｘ Ｉｎｄ．Ｅｎｇ．ｃｈｅｍ．，５１， １４
７， １９５９年、特公昭３７−５５９９号公報）、酸
ハライドと２価のフェノールを塩化マグネシウム等の触
媒存在下で加熱する溶融重合法、２価の酸と２価のフェ
ノールをジアリルカーボネートの存在下で加熱する溶融
重合法（特公昭３８−２６２９９号公報）、水と相溶し
ない有機溶剤に溶解せしめた２価の酸ハライドとアルカ
リ水溶液に溶解せしめた２価のフェノールとを混合する
界面重合法（Ｗ．Ｍ．ＥＡＲＥＣＫＳＯＮ Ｊ．Ｐｏｌ
ｙ．Ｓｃｉ．，ＸＬ３９９， １９５９年、特公昭４０
−１９５９号公報）等が挙げられるが、特に溶液重合法
が好適に採用される。溶液重合法について一例を説明す
ると、ホスホン酸残基の前駆体分子であるホスホン酸誘
導体と、２価フェノールをトリエチルアミンなどの塩基
存在下混合して反応させ、続いてカーボネート残基の前
駆体分子、たとえばトリホスゲンなどを添加して縮合重
合することによって本発明の樹脂を得ることができる。
ホスホン酸誘導体あるいはカーボネート誘導体としては
それらのハロゲン化物、酸無水物、エステル等が用いら
れるが特に限定されない。

【００５１】本発明の位相差板に用いられる高分子配向
フィルムに用いる樹脂の分子量を調節する方法として
は、重合時に一官能の物質を添加して行うことができ
る。ここで言う分子量調節剤として用いられる一官能物
質としては、フェノール、クレゾール、ｐ−ｔｅｒｔ−
ブチルフェノール等の一価フェノール類、安息香酸クロ
ライド、メタンスルホニルクロライド、フェニルクロロ
ホルメート等の一価酸クロライド類が挙げられる。

【００５２】本発明の位相差板に用いられる高分子配向
フィルムに用いる樹脂は、その特性を損なわない範囲
で、ヒンダードフェノール系、ヒンダードアミン系、チ
オエーテル系、燐系の各種抗酸化剤を添加することがで
きる。更にフェニルサリチル酸、２−ヒドロキシベンゾ
フェノン、トリフェニルホスホネートなどの紫外線吸収
剤や、ブルーイング剤、酸化防止剤等を添加しても良
い。

【００５３】本発明の位相差板に用いられる高分子配向
フィルムの樹脂は、有機溶媒に対して高い溶解性を有し
ており、このような溶媒としては、塩化メチレン、クロ
ロホルム、１，１，２，２−テトラクロロエタン、１，
２−ジクロロエタン、テトラヒドロフラン、１，４−ジ
オキサン、トルエン、キシレン、γ−ブチロラクトン、
ベンジルアルコール、イソホロン、クロロベンゼン、ジ
クロロベンゼン、ヘキサフルオロイソプロパノール等が
挙げられる。さらに、本発明のポリマーは非晶性であ
り、非晶性であるかどうかは、公知の方法例えば示差走
差熱量分析（ＤＳＣ）や動的粘弾性測定等により融点が
存在しているかどうかを確認すればよい。従って、溶液
製膜法が好適に採用しうる。

【００５４】一般に高分子配向フィルムとは無配向の高
分子フィルムを１軸以上に延伸したフィルムであり、あ
る任意の配向方向とその直交方向に屈折率差を生じさせ
たフィルムである。位相差とは、膜厚ｄとフィルムの配
向方向とその直交方向との屈折率差（Δｎ：複屈折率）
との積であるΔｎ・ｄとして定義される。本発明におい
て配向とは、高分子分子鎖が特定の方向に並ぶ傾向を言
い、通常光の波長５５０ｎｍで位相差が１５ｎｍ以上で
あることを言う。高分子配向フィルムの面内における配
向方向の屈折率がその直交方向の屈折率より大きい場合
を光学的異方性が正といい、反対に配向方向の屈折率が
その直交方向の屈折率より小さい場合はを光学的異方性
が負という。位相差は絶対値であらわすこともあるが、
光学異方性が負の場合には位相差は負の値を有してい
る。本発明では特にことわりのない限りは絶対値で説明
する。

【００５５】一般に位相差板とは１枚の高分子配向フィ
ルムからなるものと２枚以上の積層体からなる位相差フ
ィルムからなるものとがあるが、本発明の位相差フィル
ムはどちらにでも用いることができる。本発明の位相差
フィルムと波長依存性の異なる下記したような高分子配
向フィルムと積層させることによって測定波長が短いほ
ど位相差が小さくなる理想的な特性を得ることができ
る。具体的にはポリスチレン、ポリアリレート、シクロ
オレフィン、ポリカーボネート、ポリビニルアルコー
ル、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、アモルファ
スポリオレフィン等が挙げらる。

【００５６】一般に高分子配向フィルムとは無配向の高
分子フィルムを１軸以上に延伸したフィルムであり、あ
る任意の配向方向とその直交方向に屈折率差を生じさせ
たフィルムである。位相差とは、膜厚ｄとフィルムの配
向方向とその直交方向との屈折率差（Δｎ：複屈折率）
との積であるΔｎ・ｄ（レタデーション値）として定義
される。本発明の位相差フィルムはＲ値（Ｒ（４００ｎ
ｍ）／Ｒ（５５０ｎｍ））が大きいことから、アモルフ
ァスオレフィンフィルムやポリビニルアルコールフィル
ム等の異種樹脂と積層させるような位相差板の場合、本
発明の位相差フィルムのΔｎ・ｄが低くても、１／４波
長特性が得られるので、該フィルムと積層される異種樹
脂フィルム等のΔｎ・ｄも低くすることができる。その
結果、膜厚ｄを薄くする事も可能であり、または延伸倍
率を下げ、Δｎを小さくしても１／４波長位相差特性を
得ることができる。これらの優れる点は、Δｎを下げる
ため、配向度（延伸度）を弱めて、配向ムラを改善した
り、または膜厚ｄを下げて薄膜化する事も可能になる。
また分子構造によっては、主鎖に高屈折率成分を含有さ
せることが可能である。このような樹脂は僅かな配向で
も複屈折しやすく位相差が発現しやすい傾向があるた
め、更に配向度（延伸度）を下げることができる。

【００５７】近年、位相差板を工業的に製造する際に
は、２枚のフィルムを直交に積層し、光学主軸を直交さ
せることが行われている。だが、本発明の負の複屈折率
異方性を持つ位相差フィルムは、正の複屈折率をもつフ
ィルムと積層させる時、巻回しているフィルムロールか
ら連続的に積層しても、光学的主軸（屈折率楕円体の長
軸方向）は直交方向なため、工程削減、コストダウンす
ることもできる。本発明では特にことわりのない限りは
絶対値で説明する。

【００５８】本発明の位相差フィルムは透明であること
が好ましく、ヘーズ値３％以下、全光線透過率は８０％
以上であることが好ましい。

【００５９】本発明の位相差フィルムの製造方法として
公知の溶融押出法、溶液キャスト法等が用いられるが、
膜厚ムラ、配向状態の観点から溶液キャスト法が好まし
く用いられる。また延伸方法も公知の延伸方法が採用し
得、一軸ないし多軸の延伸が採用しうるが、縦１軸延伸
であることが好ましい。延伸性向上の目的で、公知の可
塑剤であるフタル酸ジブチル、フタル酸ジメチル、フタ
ル酸ジエチルなどのフタル酸エステル、トリブチルホス
ホネートなどのリン酸エステル、脂肪族２塩基エステ
ル、グリセリン誘導体、ポリエチレングリコールなどの
グリコール誘導体が含有されてもよい。また、可塑剤等
は位相差特性にも少なからず影響を与えるためポリマー
固形分比１０重量％以下であることが好ましく、より好
ましくは５重量％以下であることが最も好ましい。

【００６０】延伸時には、フィルム製膜時に用いた有機
溶剤を残留させたまま延伸してもよい。なおこの時の溶
剤残存率は１〜２０重量％範囲であることが好ましい。
位相差フィルムの膜厚は特に限定されるものではないが
１μｍ〜５００μｍであることが好ましい。なお本発明
は位相差フィルムと表現しているが、シート等も含む意
味で用いている。

【００６１】本発明の位相差板は、構成される複数枚の
位相差フィルムの位相差、及び波長依存性を調整するこ
とによって、波長依存性が理想に近い良好な１／４波長
板や１／２波長板を構成する事もできる。なお、１／４
波長板の場合は８０ｎｍ≦Ｒ(５５０ｎｍ)≦１８０ｎｍ
であることが好ましく、より好ましくは１００ｎｍ≦Ｒ
(５５０ｎｍ)≦１６０ｎｍである。また１／２波長板の
場合は２２０ｎｍ≦Ｒ(５５０ｎｍ)≦３２０ｎｍである
ことが好ましく、より好ましくは２５０ｎｍ≦Ｒ(５５
０ｎｍ)≦３００ｎｍである。また、本発明の位相差
板、円偏光板は反射型液晶表示装置や有機電界表示装置
などに用いることが可能である。

【００６２】また本発明の位相差フィルムを以下の構成
にすることで位相差板、円偏光板、楕円偏光板を得るこ
とができる。ここに例を挙げると波長５５０ｎｍで２１
２．５ｎｍの位相差を持つシクロオレフィン配向フィル
ムと波長５５０ｎｍで７５ｎｍの位相差を持つＲ値が
１．５である本発明の位相差フィルムを粘着層、接着層
を介して光学的主軸（屈折率楕円体の長軸方向）を直交
に積層させたものを位相差板（１／４波長板）とする。
このように得られた位相差板の面内屈折率楕円体の長軸
方向に対して、４５度方向に偏光軸を持つように偏光フ
ィルムを積層した位相差板を円偏光板と呼ぶ。得られた
円偏光板は偏光板側から光を入射させると広帯域で円偏
光化することができる。また、位相差板の位相差を１／
３波長や１／５波長にしたり、積層角度を任意の角度に
することで楕円偏光板を得ることもできる。なお、円偏
光板、楕円偏光板の構成はこれに限定されるものではな
い。

【００６３】

【実施例】本発明の具体的実施態様を以下に実施例をも
って述べるが、本発明はこれに限定されるものではな
い。

【００６４】実施例１ 窒素雰囲気下、塩化メチレン(４０ｍｌ)中にメチルベン
ジリデンビスフェノール(４４ｍｍｏｌ)、９,９−ビス
−（４−ヒドロキフェニル）フルオレン(３６ｍｍｏｌ)
およびトリエチルアミン(１６８ｍｍｏｌ)を混合し、氷
冷下攪拌した。(８０ｍｍｏｌ)、およびトリエチルアミ
ン(１６８ｍｍｏｌ)を混合し、氷冷下攪拌した。この溶
液にフェニルホスホン酸ジクロライド(６０ｍｍｏｌ)の
塩化メチレン(１０ｍｌ)溶液を１５分間かけて滴下し、
滴下終了後室温で６０分間攪拌した。その後、濃度０.
５８４もｍｏｌ／ｌであるトリホスゲンの塩化メチレン
溶液(１１.４１ｍｌ)を１５分かけて滴下し、滴下終了
後６０分間攪拌した。その後、反応溶液をエタノール２
０００ｍｌに投入して再沈し、ポリマーを濾取した後、
(１)エタノール１０００ｍｌ(２)水／エタノール＝１／
１混合溶液１０００ｍｌ(３)水１０００ｍｌの順で生成
したポリマーを洗浄、乾燥して目的の樹脂粉末を収率９
０%で得た。

【００６５】得られた樹脂粉末をＤＳＣ（セイコー電子
工業（株）製：ＳＳＣ５２００）にてガラス転移温度を
測定した。また、得られた樹脂粉末は下記に示す方法で
高分子配向フィルム化し位相差特性評価した。すなわち
溶液キャスト製膜の場合は、塩化メチレンに溶解させ、
ポリマー固形分濃度１５ｗｔ％のドープ溶液を作製し
た。このドープ溶液をガラス板上に製膜、乾燥させるこ
とによってキャストフィルムを得た。得られたキャスト
フィルムを温度２００℃で２．０倍に幅方向自由１軸延
伸し、位相差フィルムを得た。延伸時のフィルム幅と延
伸方向の延伸前の長さの比は１：１とした。得られたフ
ィルムの位相差測定はセルギャップ検査装置(大塚電子
（株）製：ＲＥＴＳ−１１００）を用いて、各光の波長
の位相差を測定した。屈折率異方性の確認は、レタデー
ションが８０〜２００ｎｍ以下の場合、直交に積層され
た２枚の偏光板の間に得られたフィルムの延伸軸を４５
°方向に積層させ、その上にあらかじめ屈折率異方性が
正だとわかっている位相差５０ｎｍのポリカーボネート
製の位相差フィルムを４５°にて積層させて光を透過さ
せる。その光が明るくなったら得られたフィルムは屈折
率異方性は正であり、暗ければその得られたフィルムは
屈折率異方性は負である。反対に、ポリカーボネートに
代わってあらかじめ屈折率異方性が負だとわかっている
ポリスチレン製の位相差フィルムを４５°方向に積層さ
せて光を透過させた場合は、その光が明るくなったら得
られたフィルムは屈折率異方性は負であり暗くなれば、
その得られたフィルムは屈折率異方性は正である。

【００６６】実施例２ 窒素雰囲気下、塩化メチレン(４０ｍｌ)中にメチルベン
ジリデンビスフェノール(３０．４ｍｍｏｌ)、９,９−
ビス−（４−ヒドロキフェニル）フルオレン(４９．６
ｍｍｏｌ)およびトリエチルアミン(１６８ｍｍｏｌ)を
混合し、氷冷下攪拌した。この溶液にフェニルホスホン
酸ジクロライド(６０ｍｍｏｌ)の塩化メチレン(１０ｍ
ｌ)溶液を１５分間かけて滴下し、滴下終了後室温で６
０分間攪拌した。その後、濃度０.５８４mol/lであるト
リホスゲンの塩化メチレン溶液(１１.４１ｍｌ)を１５
分かけて滴下し、滴下終了後６０分間攪拌した。その
後、反応溶液をエタノール２０００ｍｌに投入して再沈
し、ポリマーを濾取した後、(１)エタノール１０００ｍ
ｌ(２)水／エタノール＝１／１混合溶液１０００ｍｌ
(３)水１０００ｍｌの順で生成したポリマーを洗浄、乾
燥して目的の樹脂粉末を収率８８%で得た。つづいて延
伸温度を２１０℃、延伸倍率を１．７倍にした以外は、
実施例１と同様の方法で配向フィルム化して評価した。

【００６７】実施例３ 窒素雰囲気下、塩化メチレン(４０ｍｌ)中に１，１ビス
（４-ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン(３６ｍｍｏ
ｌ)、９,９−ビス−（４−ヒドロキフェニル）フルオレ
ン(４４ｍｍｏｌ)およびトリエチルアミン(１６８ｍｍ
ｏｌ)を混合し、氷冷下攪拌した。この溶液にフェニル
ホスホン酸ジクロライド(６０ｍｍｏｌ)の塩化メチレン
(１０ｍｌ)溶液を１５分間かけて滴下し、滴下終了後室
温で６０分間攪拌した。その後、濃度０.５８４ｍｏｌ
／ｌであるトリホスゲンの塩化メチレン溶液(１１.４１
ｍｌ)を１５分かけて滴下し、滴下終了後６０分間攪拌
した。その後、反応溶液をエタノール２０００ｍｌに投
入して再沈し、ポリマーを濾取した後、(１)エタノール
１０００ｍｌ(２)水／エタノール＝１／１混合溶液１０
００ｍｌ(３)水１０００ｍｌの順で生成したポリマーを
洗浄、乾燥して目的の樹脂粉末を収率８５%で得た。つ
づいて延伸温度を２００℃、延伸倍率を２．０倍にした
以外は、実施例１と同様の方法で配向フィルム化して評
価した。

【００６８】実施例４ 窒素雰囲気下、塩化メチレン(４０ｍｌ)中にビスフェノ
ールＡ(２４ｍｍｏｌ)、９,９−ビス−（４−ヒドロキ
フェニル）フルオレン(５６ｍｍｏｌ)およびトリエチル
アミン(１６８ｍｍｏｌ)を混合し、氷冷下攪拌した。こ
の溶液にフェニルホスホン酸ジクロライド(６０ｍｍｏ
ｌ)の塩化メチレン(１０ｍｌ)溶液を１５分間かけて滴
下し、滴下終了後室温で６０分間攪拌した。その後、濃
度０.５８４ｍｏｌ／ｌであるトリホスゲンの塩化メチ
レン溶液(１１.４１ｍｌ)を１５分かけて滴下し、滴下
終了後６０分間攪拌した。その後、反応溶液をエタノー
ル２０００ｍｌに投入して再沈し、ポリマーを濾取した
後、(１)エタノール１０００ｍｌ(２)水／エタノール＝
１／１混合溶液１０００ｍｌ(３)水１０００ｍｌの順で
生成したポリマーを洗浄、乾燥して目的の樹脂粉末を収
率８５%で得た。つづいて延伸温度を２１５℃、延伸倍
率を１．７倍にした以外は、実施例１と同様の方法で配
向フィルム化して評価した。

【００６９】比較例１ 市販されているポリカーボネート："タフロンＡ２２０
０"（出光石油化学（株）製）を用いて、延伸温度を１
５０℃、延伸倍率を１．４倍にした以外は、実施例１と
同様の方法で配向フィルム化して評価した。

【００７０】比較例２ 市販されているポリアリレート："Ｕポリマー"（ユニチ
カ（株）製）を用いて、延伸温度を１９５℃、延伸倍率
を１．１倍にした以外は、実施例１と同様の方法で配向
フィルム化して評価した。実施例１〜４と比較例１〜２
の方法で作成した配向フィルムの評価結果を行った。結
果を表１に示す。

【００７１】

【表１】

【００７２】

【発明の効果】本発明により高Ｒ値（Ｒ（４００ｎｍ）
／Ｒ（５５０ｎｍ））を持つ、優れた位相差特性を有し
た位相差フィルムが提供でき、この位相差フィルムと偏
光板を組み合わせた円偏光板等にして、さらに高速応答
性の液晶セルを用いる液晶表示分野等にも使用できる。
この位相差フィルムは各種分野に用いることができる。

フロントページの続き Ｆターム(参考） 2H049 BA06 BB44 BB50 BC03 BC09 2H091 FA11X FA11Z FB02 FD10 FD24 LA03 LA16 LA17 LA20 LA30 4J029 AA09 AB01 AB07 AD10 AE04 BB08 BB11 BD01 BH02 DB02 DB11 DC02 HA01 HC01 HC05 JC54 JC57 KE05

Claims (8)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】式（１）で示される繰り返し単位、式
   （２）で示される繰り返し単位、式（３）を部分構造と
   して有する繰り返し単位、および、式（４）で示される
   繰り返し単位からなる樹脂を用いてなる位相差フィルム
   であって、式（１）の繰り返し単位と式（４）の繰り返
   し単位のモル分率が式（５）を満足したポリホスホネー
   トを含むものからなる位相差フィルムであり、４００ｎ
   ｍおよび５５０ｎｍおよび７００ｎｍの光線における位
   相差（レタデーション値）が式（６）及び（７）を満足
   することを特徴とする位相差フィルム。 １．２０＜Ｒ(４００ｎｍ)／Ｒ(５５０ｎｍ)＜２．００ （６） ０．６０＜Ｒ(７００ｎｍ)／Ｒ(５５０ｎｍ)＜０．９５ （７） [式中、Ｒ(４００ｎｍ)、Ｒ(５５０ｎｍ)、Ｒ(７００ｎ
   ｍ)は、それぞれ光の波長が４００ｎｍ、５５０ｎｍ、
   ７００ｎｍにおける面内位相差である。］ 【化１】 【化２】 【化３】 【化４】 ［式（１）中Ｒは炭素数１〜２０の脂肪族炭化水素基ま
   たは芳香族炭化水素基、Ｘは酸素、硫黄あるいはセレン
   を表し、ＲあるいはＸの異なるホスホン酸残基をともに
   含んでもよい。式（２）中Ｒ’は各々独立に水素原子、
   ハロゲン原子、炭素数１〜２０の脂肪族炭化水素基、炭
   素数１〜２０の芳香族炭化水素基、ニトロ基からなる群
   から選ばれ、ｐ、ｑはｐ＋ｑ＝０〜８の整数。Ｙは単結
   合、酸素原子、硫黄原子、アルキレン基、アルキリデン
   基、シクロアルキレン基、シクロアルキリデン基、ハロ
   置換アルキレン基、ハロ置換アルキリデン基、フェニル
   アルキリデン基、カルボニル基、スルホン基、脂肪族ホ
   スフィンオキシド基、芳香族ホスフィンオキシド基、ア
   ルキルシラン基、ジアルキルシラン基、フルオレン基か
   らなる群から選ばれる。式（３）中Ｒ”は各々独立に水
   素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜２０の脂肪族炭化水
   素基、炭素数１〜２０の芳香族炭化水素基、ニトロ基か
   らなる群から選ばれ、ｍ、ｎはｍ＋ｎ＝０〜８の整
   数。] １≧（ａ）／｛（ａ）＋（ｂ）｝≧０．０５ （５） ［式（５）中、（ａ）は式（１）の繰り返し単位のモル
   数、（ｂ）は式（４）の繰り返し単位のモル数。］
2. 【請求項２】 式（３）を部分構造として有する繰り返
   し単位のモル分率を（ｃ）、式（２）で示される繰り返
   し単位のモル分率を（ｄ）とした時、式（８）を満足す
   ることを特徴とする請求項１に記載の位相差フィルム。 ０．９０＞（ｃ）／｛（ｃ）＋（ｄ）｝≧０．２０ （８） ［式（８）中、（ｃ）は式（３）を部分構造として有す
   る繰り返し単位のモル数、（ｄ）は式（２）の繰り返し
   単位のモル数。］
3. 【請求項３】 式（１）で示される繰り返し単位、式
   （２）で示される繰り返し単位、式（３）を部分構造と
   して有する繰り返し単位、及び式（４）で示される繰り
   返し単位からなる樹脂（Ｅ）と該樹脂（Ｅ）とは異なる
   樹脂（Ｆ）からなるブレンド樹脂で構成される位相差フ
   ィルムであって、該フィルムの樹脂組成物において式
   （３）を部分構造として有する繰り返し単位が樹脂組成
   物中の３０重量％以下であり、かつ樹脂（Ｅ）が式
   （１）で示される単位と式（４）で示される繰り返し単
   位のモル分率が式（５）を満足することを特徴とする請
   求項１に記載の位相差フィルム。
4. 【請求項４】 請求項１〜３のいずれかに記載の位相差
   フィルムにおいて、式（３）を部分構造として有する繰
   り返し単位が、式（９）または／及び式（１０）に記載
   の繰り返し単位であることを特徴とする位相差フィル
   ム。 【化５】 【化６】 [式（９）、式（１０）中Ｒ”は各々独立に水素原子、
   ハロゲン原子、炭素数１〜２０の脂肪族炭化水素基、炭
   素数１〜２０の芳香族炭化水素基、ニトロ基からなる群
   から選ばれ、ｍ、ｎはｍ＋ｎ＝０〜８の整数。]
5. 【請求項５】 ホスホン酸残基の代わりに一部ホスホナ
   イト残基により構成され、その置換比率が５０％以下で
   あることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の
   位相差フィルム。
6. 【請求項６】 該フィルムのガラス転移温度が１３０℃
   以上かつ２２０℃以下であることを特徴とする請求項１
   〜５のいずれかに記載の位相差フィルム。
7. 【請求項７】 該請求項１〜６のいずれかに記載の位相
   差フィルムからなることを特徴とする位相差板。
8. 【請求項８】 請求項７に記載の位相差板からなること
   を特徴とする円偏光板。