JP2008056718A - 樹脂およびホスホネート−カーボネート共重合体樹脂の製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】
高屈折率、低分散（高いアッベ数）で更に成形性、耐熱性、耐衝撃性、色調などに優れた樹脂を提供する。
【解決手段】
少なくともカーボネート残基、ホスホン酸残基、２価フェノール残基から構成されており、ホスホン酸残基とカーボネート残基のモル分率が式（Ｉ）を満足し、ポリマー末端基の５０％以上が封止されていることを特徴とする樹脂。
１≧（ａ）／｛（ａ）＋（ｂ）｝≧０．０５ （Ｉ）
［式（Ｉ）中、（ａ）はホスホン酸残基のモル数、（ｂ）はカーボネート残基のモル数を示す。］
【選択図】 なし

Description

本発明は、高屈折率、低分散（高いアッベ数）で更に成形性、耐熱性、耐衝撃性、色調などに優れた熱可塑性樹脂に関する。

無色透明材料は、光学レンズ、機能性光学フィルムあるいはディスク基板など、その多様な用途に応じて種々の材料が適用されているが、近年、ヘルスケアやエレクトロニクスなどの急速な発展に伴い、材料自体に要求される機能・性能もますます精密かつ優れたものとなってきている。

光学用材料の代表的なヘルスケア用途として眼鏡レンズが挙げられるが、この眼鏡レンズについては薄型化、軽量化あるいはファッション性等の観点から活発な材料開発が行われており、現在では耐衝撃性と軽量性等の利点から、市場の９０％は樹脂レンズが占めるようになっている。

従来の眼鏡レンズ用樹脂は、ＣＲ３９、アクリルおよびウレタンの３つの樹脂に大別され、低分散と高屈折を目指して多くの樹脂が開発実用化されている。これらの樹脂はすべて熱硬化性であるため、光学レンズへの成形は注型重合方法が用いられるが、この方法は重合時間が長く、その後のアニーリングプロセスなど、製造コストが高いという問題点がある。一方、ポリカーボネートのような熱可塑性樹脂をレンズに適用すれば、成形性がよく、熱硬化性樹脂に比べ格段にレンズ製造コストを安くできるという利点があるが、屈折率が１．５８と低いため視力矯正眼鏡用途としての性能は不十分である。また、ポリカーボネート以上の屈折率を有する熱可塑性樹脂も数多く知られているが、高分散性および着色性等の問題があり、光学レンズ用途には適用するには問題があった。

本発明者らは、高屈折率でかつ低分散な熱可塑性樹脂を見出すべく鋭意検討した結果、５価のリン原子を有する構造、中でもホスホン酸構造をポリマーの主鎖に導入することによって、無色透明で高屈折であり、しかも低分散な熱可塑性樹脂が得られることを見いだしている（特許文献１参照）。

ポリホスホネート系ポリマーの一般的な製造方法としては、例えば、酸ハライドと２価のフェノールを有機溶剤中で反応させる溶液重合法（A. Conix, Ind. Eng. Chem., 51, 147 (1959)、特公昭３７−５５９９号公報）、酸ハライドと２価のフェノールを塩化マグネシウム等の触媒存在下で加熱する溶融重合法、２価の酸と２価のフェノールをジアリルカーボネートの存在下で加熱する溶融重合法（特公昭３８−２６２９９号公報）、水と相溶しない有機溶剤に溶解せしめた２価の酸ハライドとアルカリ水溶液に溶解せしめた２価のフェノールとを混合する界面重合法（W. M. Eareckson, J. Poly. Sci., XL 399 (1959)、および特公昭４０−１９５９号公報）等が挙げられる。

また、ポリホスホネート−カーボネート共重合体については、界面重縮合を用いた重合体が知られている（特許文献２と特許文献３参照）。これらは、いずれもホスホネートオリゴマーを生成させた後、ホスゲンなどでポリマー主鎖延長をはかったものである。しかしながら、本発明者らは、界面重縮合ではホスホネートの結合が切れやすく、それがためにカーボネートとホスホネートの比が正確に制御しにくかったり、分子量が向上しにくいという問題があることを確認している。実際、特許文献２記載の方法によれば、ホスホネートの含有量がカーボネートよりも多くなると、力学特性が不十分となることが示されている。また、カーボネート残基の原料としてホスゲンを用いており、環境的にも技術的に好ましい重合法とは言い難い。

また、公知方法により得られたホスホネート−カーボネートランダム共重合体は、末端封止率が悪く、長時間加熱溶融あるいは繰り返し加熱することによって、分子量低下したり、それにともない力学特性や光学特性が低下するというような樹脂の着色や熱安定性の問題がしばしば生じていた。従来の末端封止方法は、ポリマーを高分子量化させた後にモノフェノールを添加して末端を封止していたが、分子量化後の活性末端種は、クロロホルメート末端・フェノール末端・残留ホスゲンからなり、これらの当量に応じ、モノフェノールである末端封止剤の添加量を変える必要がありまた、酸塩化物末端量以上のモノフェノールである末端封止剤を添加するとクラッキング反応が起こり分子量低下が起こり、ロット間での差が大きく再現性が悪いという問題が生じており、優れた製造法の開発が望まれていた。
特開２００２−１６７４４０号公報 特開昭６１−２８５２２５号公報 特開昭６１−２３８８２６号公報

本発明者らは、上記の要求を満たすために鋭意検討を重ね、高屈折率、低分散（高いアッベ数）で更に成形性、耐熱性、耐衝撃性、色調などに優れた熱可塑性樹脂を見出し、本発明に至った。

本発明は、上記課題を解決するために以下の構成を有するものである。すなわち、
[１] 少なくともカーボネート残基、下記一般式（１）で示されるホスホン酸残基、下記一般式（２）で示される２価フェノール残基から構成されており、ホスホン酸残基とカーボネート残基のモル分率が式（Ｉ）を満足し、ポリマー末端基の５０％以上が封止されていることを特徴とする樹脂。

［一般式（１）において、Ｒ^１は有機基、Ｘは酸素、硫黄、セレンあるいは非共有電子対を表し、一般式（２）において、Ｒ^２１、Ｒ^２２は各々独立に水素原子、炭素数６〜２０の芳香族基およびニトロ基からなる群から選ばれた原子または官能基を表し、ｐ、ｑはｐ＋ｑ＝０〜８の整数、Ｙは単結合、エーテル基、チオエーテル基、アルキレン基、アルキリデン基、シクロアルキレン基、シクロアルキリデン基、フェニルアルキリデン基、カルボニル基、スルホン基、脂肪族ホスフィンオキシド基、芳香族ホスフィンオキシド基、アルキルシラン基、ジアルキルシラン基およびフルオレン基からなる群からから選ばれた官能基を表す。構造式（１）、（２）はさらに置換されても良い。］
１≧（ａ）／｛（ａ）＋（ｂ）｝≧０．０５ （Ｉ）
［式（Ｉ）中、（ａ）はホスホン酸残基のモル数、（ｂ）はカーボネート残基のモル数を示す。］
[２] ３ｍｍ厚みの成形品にしたときの黄色度（以下△ＹＩと記す）が１０以下であることを特徴とする[１]に記載の樹脂。
[３] 曲げ弾性率が５００ＭＰａ以上であり、かつ曲げ強さが２５ＭＰａ以上である[１]〜[２]のいずれかに記載の樹脂。
[４] 溶媒中で２価フェノールモノマーを塩基存在下でカーボネート残基の前駆体分子および／またはホスホン酸残基の前駆体分子を反応させるホスホネート−カーボネート共重合体樹脂の製造方法において、２価フェノール残基の反応率が０％以上９９％以下の段階でモノフェノールを添加する工程、カーボネート残基の前駆体分子および／またはホスホン酸残基の前駆体分子を作用させて高分子量化する工程、モノフェノールを添加する工程、分子量低下を確認する工程、、クロロホルメートを添加する工程を順におこなうことを特徴とする、数平均分子量が１００００以上である、ホスホネート−カーボネート共重合体樹脂の製造方法。
[５] 溶媒中で、２価フェノールのカーボネートポリマー若しくはオリゴマーを塩基存在下に２価フェノールモノマーと反応せしめる工程、その後、ホスホン酸誘導体を反応せしめる工程を含むことを特徴とする[４]に記載のホスホネート−カーボネート共重合体の製造方法。
[６] 前記ホスホン酸誘導体を反応せしめる工程時に、溶液中における２価フェノール単位の濃度を１．０ｍｏｌ／Ｌ以上に維持する[５]に記載のホスホネート−カーボネート共重合体樹脂の製造方法。
[７] [１]〜[３]のいずれかに記載の樹脂を含有してなる成型体。
[８] [７]に記載の成型体からなる光学レンズ。
[９] [１]〜[３]のいずれかに記載の樹脂を含有してなるフィルム。
[１０] [９]に記載のフィルムを構成材とする位相差フィルム。
である。

本発明によれば、無色透明で高屈折率、低分散（高いアッベ数）で更に成形性、耐熱性、耐衝撃性、色調などに優れた熱可塑性樹脂が得られる。汎用的な成形体あるいはフィルムの用途など各種分野に用いることができるほか、特にレンズあるいは光学用のフィルムなどにおいて、この樹脂を用いることにより優れた効果をより一層発揮するものである。

本発明者らは、無色透明で高屈折率、低分散（高いアッベ数）で更に成形性、耐熱性、耐衝撃性、色調などに優れた熱可塑性樹脂を見出すべく鋭意検討した結果、モノフェノールや、さらにそのクロロホルメイトで末端封止をおこない、末端基の５０％以上を封止することによって、無色透明で高屈折、低分散で、さらに樹脂に熱を加えても分子量低下しない、耐熱性に優れた熱可塑性樹脂が得られることを見いだした。

本発明の樹脂は、その分子鎖の末端基の５０％以上が末端封止剤により封止されているのが必要である。末端基の６０％以上が封止されているのがより好ましく、末端基の７０％以上が封止されているのが更に好ましい。すべての末端基が封止されていることが最も好ましい。樹脂の末端基を封止することにより成形性がより優れると共に、耐加熱黄変性もより優れた樹脂が得られる。

末端封止率を求めるにあたっては、樹脂に存在している水酸基量を測定し、下記式（ＩＩ）により末端封止率を求めることができる。水酸基量は、酢酸酸性下で四塩化チタンにより発色させ、４８０ｎｍの波長の吸光度を測定することにより定量することもできるし、^１Ｈ−ＮＭＲにより末端基の特性シグナルの積分値より求めるのが精度・簡便さの点で好ましい。

末端封止率（％）＝[{（Ａ）−（Ｂ）}／Ａ]×１００ （ＩＩ）
［式（ＩＩ）中、（Ａ）は分子鎖末端基総数（これは通常、ポリマー分子の数の２倍に等しい）を表し、（Ｂ）は水酸基末端の数を示す］
具体的には、以下に述べる方法で封止を行うものである。求核試薬であるモノフェノールのみで末端封止をおこなうことも可能だが、高分子量化後の活性末端種は、クロロホルメート末端・フェノール末端・残留ホスゲンからなり、これらの当量に応じ、末端封止剤であるモノフェノールの添加量を変える必要があり、酸塩化物末端量以上のモノフェノールを添加すると、クラッキング反応が起こり分子量低下が起こってしまい、またロット間での差が大きく再現性が悪いという課題がある。

そこで再現性の良い末端封止方法としては、最初に求核試薬であるモノフェノールを添加しておき、過剰に添加しても分子量低下をおこさない求電子試薬であるそのクロロホルメート体を最後に添加することが好ましい。

さらに、求核試薬であるモノフェノールと求電子試薬であるそのクロロホルメート体の２種類の末端封止剤を３段階にわけて添加し末端封止方法をおこなうことで、耐熱性に優れた熱可塑性樹脂が得られることを見いだした。

末端封止剤の添加方法は、例えば、溶媒中で、２価フェノールモノマーをトリエチルアミンなどの塩基存在下でカーボネート残基の前駆体分子および／またはホスホン酸残基の前駆体分子を反応させるホスホネート−カーボネート共重合体樹脂の製造方法において、２価フェノール残基の反応率が０％以上９９％以下の段階で、好ましくは約９５％すなわち数平均分子量が約6000程度のとき、すなわち末端構造がＯＨ末端になっている状態で、１回目の末端封止剤であるモノフェノールを添加し、モノフェノールによるクラッキング反応、すなわちエステル交換反応により末端封止剤構造を導入した後、カーボネート残基の前駆体分子、例えば、ホスゲン、トリホスゲンおよびまたはホスホン酸残基の前駆体分子であるホスホン酸誘導体を作用させて高分子量化した後、２回目の末端封止剤のモノフェノールを、好ましくは過剰に、添加することにより、末端封止反応および主鎖切断反応を起こさせ、好ましくは末端構造をすべてＯＨ末端にし、ＧＰＣで分子量低下を確認した後、最後に過剰に添加しても主鎖切断反応を起こさないクロロホルメートを、好ましくはポリマーの末端量よりも過剰に、添加することで、好ましくはすべての末端を、封止するものである。ここで、過剰のクロロホルメートは、精製工程で完全に除去する事により、加熱溶融しても分子量低下しない非常に耐熱分解性に優れた樹脂を再現性良く合成することができる。

また、１回目の末端封止剤を添加するタイミングは末端構造がＯＨ末端になっている状態、すなわち２価フェノール残基の反応率が０％以上９９％の段階だが、高分子量化を容易に行うには、５０％以上９９％以下が好ましく、更に好ましくは９０％以上９９％以下である。
ここで、２価フェノール残基の反応率が０％とは、原料として末端封止剤であるモノフェノールを導入することをさす。

末端封止剤としては、一官能物質として、フェノール、クレゾール、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール等の一価フェノール類、安息香酸クロライド、メタンスルホニルクロライド、フェニルクロロホルメート等の一価酸クロライド類が挙げられるが、^１Ｈ−ＮＭＲによりメトキシ基の特性シグナルの積分値より求めることができるｐ−メトキシフェノールとｐ−メトキシフェノールクロロホルメートが特に好ましい。

本発明において式（Ｉ）はホスホン酸残基の共重合分率を表す式であり、すなわち、（ａ）は下記一般式（１）に示すホスホン酸残基のモル数であり、（ｂ）はカーボネート残基のモル数を示す。一般式（１）で示されるホスホン酸残基のモル分率が０．０５未満である場合には、ポリマーの高屈折性が発現せず、本発明の効果が得られ難い。さらに、ホスホン酸残基のモル分率である
〔（ａ）／｛（ａ）＋（ｂ）｝〕の値は０．２５以上の範囲にあることが好ましく、より好ましくは０．４以上、さらに好ましくは０．６以上である。

また、本発明の樹脂は、高アッベ数化のために、ビシクロアルキル構造を有するホスホン酸残基を含むことが好ましい。光学物質の光の分散の度合いを表す指標としては一般にアッベ数が用いられ、次式（ＩＩＩ）によって算出される。すなわちその数値が大きいほど低分散であることを示している。

アッベ数（νｄ）＝（ｎｄ−１）／（ｎｆ−ｎｃ） （ＩＩＩ）
［式（ＩＩＩ）中、ｎｄ：ｄ線（波長５８７．６ｎｍ）屈折率、ｎｆ：ｆ線（波長４８６．１ｎｍ）屈折率、ｎｃ：ｃ（波長６５６．３ｎｍ）線屈折率を示す］
通常アッベ数と屈折率は負の相関関係があり、それぞれの特性をともに向上させるのは容易ではない。本発明の樹脂は、従来のポリカーボネート以上の高屈折率を維持しつつ高いアッベ数を有した樹脂であり、例えば眼鏡レンズ用途に用いる樹脂においてはアッベ数は３０以上であることが好ましく、より好ましくは３１以上である。

ビシクロアルキル構造を有するホスホン酸残基において、かかるビシクロアルキル構造とリン原子の結合については、空間にＳＰ^３炭素をより多く含有させるために、ビシクロアルキル骨格に直接リン原子が結合していることが最も好ましいが、メチレン基あるいはエチレン基などのアルキレン基を間に介して結合していてもよい。ポリマー構造を疎水性にするという観点から、さらに好適なビシクロアルキル基を有するホスホン酸残基は、下記一般式（３）に示す構造のホスホン酸残基である。

一般式（３）中、ｌ、ｍ、ｎは、それぞれ独立に１〜４の整数を表す。この範囲にあることにより、単位空間あたりにＳＰ^３炭素を多く含有させることができる。ｌ、ｍ、ｎは、より好ましくは１〜３の整数である。また、Ｘ^１は、酸素原子、硫黄原子、セレン原子および非共有電子対からなる群から選ばれた原子または電子対を表す。また、一般式（３）は、さらに置換されていても良い。

ビシクロアルキル構造上におけるリン原子との結合位置は任意であり、橋頭あるいは橋どちらであってもよい。置換基Ｒ^３は炭素数１〜２０の脂肪族炭化水素基およびハロゲン原子からなる群から選ばれた官能基または原子であり、またｒは０〜４の整数である。ｒが２以上の整数である場合、同一原子ビシクロアルキル構造上に、異なる置換基Ｒ^５を２種以上含んでもよい。また、熱可塑性樹脂中に、ｌ、ｍ、ｎ、Ｒ^３あるいはＸ^１の異なるホスホン酸残基を２種以上含んでもよい。

かかるビシクロアルキル基の好適な構造を例示すると、ビシクロ［２，２，１］−１−ヘプチル（１−ノルボルニル）、ビシクロ［２，２，１］−２−ヘプチル（２−ノルボルニル）、ビシクロ［２，２，１］−７−ヘプチル（７−ノルボルニル）、ビシクロ［２，２，２］−１−オクチル、ビシクロ［２，２，２］−２−オクチル、ビシクロ［３，２，１］−２−オクチル、およびビシクロ［３，２，２］−１−ノニル、ビシクロ［４，２，２］−２−デカニル等が挙げられる。これらは１種類でも、複数種含まれていてもよい。

ビシクロアルキル構造上の置換基Ｒ^３は、力学特性や熱特性を制御すべく、光学特性を損なわない程度に導入されていてもよいが、単位空間あたりにＳＰ^３炭素をより多く含有させるという観点から、置換基Ｒ^３としてはメチル基、エチル基およびハロゲン基などコンパクトな構造が好ましい。また、その置換基ｒも同様の観点から、４以下が好ましく、より好ましくは２以下である。

また、本発明の樹脂から得られる幅１０ｍｍ、長さ２５ｍｍ、厚さ３ｍｍの板状の成形体の黄色度は、好ましくは１０以下であり、より好ましくは５以下である。

なお、黄色度は以下に定義される。試料をデジタルカラーコンピューター（スガ試験機（株）社製：ＳＭ−７ＣＨ）を用いて透過法により３刺激値（Ｘ、Ｙ、Ｚ）を求めた。黄色度（△ＹI）は、試料を装着して（Ｘ、Ｙ、Ｚ）を求め、下記式（ＩＶ）によりＹI値（ＹI_２）を求めた後、試料を外した状態で同様にＸ、Ｙ、Ｚを求め、同様にリファレンス値ＹI_１を求め、下記式（Ｖ）より算出した。

ＹI＝１００×（１．２８Ｘ−１．０６Ｚ）／Ｙ 式（ＩＶ）
Ｘ、Ｙ、Ｚ：標準光Ｃにおける試料の三刺激値
△ＹI＝ＹI₂−ＹI₁ 式（Ｖ）
△ＹI：黄色度、ＹI₁：リファレンス値、ＹI₂：試料の測定値
さらに本発明の樹脂は、数平均分子量は、数平均分子量が１００００以上であることから、成形品の機械的強度も満足いくものになる。数平均分子量が１００００未満では力学特性的に不十分なものになる。

また、本発明樹脂の曲げ弾性率は、５００ＭＰａ以上かつ曲げ強さが２５ＭＰａ以上であることが、成形品の扱い易さという観点から望ましい。樹脂は、高い柔軟性と非破砕性を有することが好ましく、具体的には曲げ弾性率は、５００ＭＰａ以上かつ曲げ強さが２５ＭＰａ以上であることが好ましい。上限については特に制限はないが、曲げ弾性率は、１０００００ＭＰａ以下かつ曲げ強さが１００００ＭＰａ以下であることが樹脂のその他の特性とのバランスをとるという観点から好ましい。

また、本発明者らは、本発明樹脂を含有するガット、プレートあるいはフィルム状成型体は、優れた難燃性をも具備していることを見出した。

さらに本発明者らは、本発明樹脂を光学異方体に成型した場合、位相差フィルム（別称として、位相差板、λ/４板、あるいは円偏光板）用途において、優れた複屈折／波長分散特性を示すことを見出した。一般的な樹脂の光学異方体、例えば一軸延伸したフィルムに光を透過させた場合、その光の波長が短いほど複屈折率が大きくなり、その度合いは波長の短い領域ほど大きいという傾向がある。位相差フィルム用途においては、複屈折率と波長の関係に関して次の条件を満たすものが光学的に理想であるといえる。すなわち、
（イ）百ミクロン以下のフィルムにおいて十分な大きさの複屈折率を有すること、
（ロ）このとき複屈折率の波長による変化が一定、すなわち複屈折率と波長の関係が比例関係（一次の関係）であること、
である。

これらの条件を満たし、複屈折／波長分散特性の異なる２種の光学異方フィルムを組み合わせることによって理想的な位相差フィルムを作成することができる。本発明者らは、本発明樹脂を製膜して得られたフィルムを延伸することによって光学異方体とした場合、従来の樹脂に比べ複屈折と波長の関係がより一次の関係に近くなること、またこの本発明の延伸フィルムと従来のポリアルカン系樹脂の光学異方フィルムとを組み合わせることにより、優れた波長分散特性を有する位相差フィルムが得られることを見出した。さらに重合体の分子量についてはそれが高いことがフィルムの力学特性に関してだけでなく光学的な特性においても重要である。すなわち、ポリマーの分子量が高いほど、一軸延伸時のポリマー主鎖の配向が強く複屈折率が大きくなり、従ってより薄いフィルムで機能発現できるようになる。本発明者らは、本発明樹脂を当該用途に適用する際、従来より更なる薄膜化が達成できることを見出した。

上記一般式（１）で表される化合物のリン原子上の置換基Ｒ^１の具体例としては、フェニル、ハロ置換フェニル、メトキシフェニル、エトキシフェニル、エチル、イソプロピル、シクロヘキシル、ビニル、アリル、ベンジル、アミノアルキル、ヒドロキシアルキル、ハロ置換アルキル、アルキルサルファイド基等が挙げられる。このようなホスホン酸残基を構成するホスホン酸を具体的に例示すると、メチルホスホン酸、エチルホスホン酸、ｎ−プロピルホスホン酸、イソプロピルホスホン酸、ｎ−ブチルホスホン酸、イソブチルホスホン酸、ｔ−ブチルホスホン酸、ｎ−ペンチルホスホン酸、ネオペンチルホスホン酸、シクロヘキシルホスホン酸、ベンジルホスホン酸、クロロメチルホスホン酸、ジクロロメチルホスホン酸、ブロモメチルホスホン酸、ジブロモメチルホスホン酸、２−クロロエチルホスホン酸、１，２−ジクロロエチルホスホン酸、２−ブロモエチルホスホン酸、１，２−ジブロモエチルホスホン酸、３−クロロプロピルホスホン酸、２，３−ジクロロプロピルホスホン酸３−ブロモプロピルホスホン酸、２，３−ジブロモプロピルホスホン酸、２−クロロー１−メチルエチルホスホン酸、１，２−ジクロロー１−メチルエチルホスホン酸、２−ブロモー１−メチルエチルホスホン酸、１，２−ジブロモー１−メチルエチルホスホン酸、４−クロロブチルホスホン酸、３，４−ジクロロブチルホスホン酸、４−ブロモブチルホスホン酸、３，４−ジブロモブチルホスホン酸、３−クロロー１−メチルプロピルホスホン酸、２，３−ジクロロ−１−メチルプロピルホスホン酸、３−ブロモ−１メチルプロピルホスホン酸、２，３−ジブロモ−１−メチルホスホン酸、１−クロロメチルプロピルホスホン酸、１−クロロー１−クロロメチルプロピルホスホン酸、１−ブロモメチルプロピルホスホン酸、１−ブロモ−１−ブロモメチルプロピルホスホン酸、５−クロロペンチルホスホン酸、４，５−ジクロロペンチルホスホン酸、５−ブロモペンチルホスホン酸、４，５−ジブロモペンチルホスホン酸、１−ヒドロキシメチルホスホン酸、２−ヒドロキシエチルホスホン酸、３−ヒドロキシプロピルホスホン酸、４−ヒドロキシブチルホスホン酸、５−ヒドロキシペンチルホスホン酸、１−アミノメチルホスホン酸、２−アミノエチルホスホン酸、３−アミノプロピルホスホン酸、４−アミノブチルホスホン酸、５−アミノペンチルホスホン酸、メチルチオメチルホスホン酸、メチルチオエチルホスホン酸、メチルチオプロピルホスホン酸、メチルチオブチルホスホン酸、エチルチオメチルホスホン酸、エチルチオエチルホスホン酸、エチルチオプロピルホスホン酸、プロピルチオメチルホスホン酸、プロピルチオエチルホスホン酸、ブチルチオメチルホスホン酸、フェニルホスホン酸、４−クロロフェニルホスホン酸、３，４−ジクロロフェニルホスホン酸、３，５−ジクロロフェニルホスホン酸、４−ブロモフェニルホスホン酸、３，４−ブロモフェニルホスホン酸、３，５−ブロモフェニルホスホン酸、４−メトキシフェニルホスホン酸、３，４−ジメトキシフェニルホスホン酸、１−ナフチルホスホン酸、２−ナフチルホスホン酸、５，６，７，８−テトラヒドロ−２−ナフチルホスホン酸、５，６，７，８−テトラヒドロ−１−ナフチルホスホン酸、ベンジルホスホン酸、４−ブロモフェニルメチルホスホン酸、３，４−ジブロモフェニルメチルホスホン酸、３，５−ジブロモフェニルメチルホスホン酸、２−フェニルエチルホスホン酸、２−（４−ブロモフェニル）エチルホスホン酸、２−（３，４−ジブロモフェニル）エチルホスホン酸、２−（３，５−ジブロモフェニル）エチルホスホン酸、３−フェニルプロピルホスホン酸、３−（４−ブロモフェニル）プロピルホスホン酸、３−（３，４−ジブロモフェニル）プロピルホスホン酸、３−（３，５−ジブロモフェニル）プロピルホスホン酸、４−フェニルブチルホスホン酸、４−（４−ブロモフェニル）ブチルホスホン酸、４−（３，４−ジブロモフェニル）ブチルホスホン酸、４−（３，５−ジブロモフェニル）ブチルホスホン酸、２−ピリジルホスホン酸、３−ピリジルホスホン酸、４−ピリジルホスホン酸、１−ピロリジノメチルホスホン酸、１−ピロリジノエチルホスホン酸、１−ピロリジノプロピルホスホン酸、１−ピロリジノブチルホスホン酸、ピロール−１−ホスホン酸、ピロール−２−ホスホン酸、ピロール−３−ホスホン酸、チオフェン−２−ホスホン酸、チオフェン−３−ホスホン酸、ジチアン−２−ホスホン酸、トリチアン−２−ホスホン酸、フラン−２−ホスホン酸、フラン−３−ホスホン酸、ビニルホスホン酸、アリルホスホン酸などが挙げられ、またこれらのリン原子に２重結合で結合している酸素原子が硫黄原子に置換されたチオホスホン酸も同様に挙げられる。これらは１種類でも、複数種含まれていてもよい。また、これらホスホン酸はその酸塩化物、エステル、アミドなどのホスホン酸誘導体であってもよい。

またこれらホスホン酸残基については、それぞれ対応する３価のリン官能基であるホスホナイト残基に一部置き換えてもよい。これにより樹脂の耐酸化性を付与することができる。ホスホン酸残基をホスホナイト残基に一部置き換えた場合、式（Ｉ）における、〔（ａ）／｛（ａ）＋（ｂ）｝〕のなかの（ａ）にその置換されたホスホナイト残基を含むものとするが、光学特性等の特性安定性を考慮すると、その置換比率は５０％以下が好ましく、より好ましくは２５％以下、さらに好ましくは１０％以下である。

また、下記一般式（２）で表される２価フェノール残基を構成する２価フェノールを具体的に例示すると、

２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−４−メチルペンタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘプタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロオクタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロデカン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロドデカン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−２−エチルヘキサン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−２−メチルプロパン、１，１−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、ビスフェノールフローレン、１，１−ビス（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−２−メチルプロパン、４，４’−〔１，４−フェニレン−ビス（２−プロピリデン）〕−ビス（２−メチルフェノール）、１，１−ビス（３−フェニル−４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−３−メチル−ブタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロペンタン、１，１−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）シクロペンタン、１，１−ビス（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、テルペンジフェノール、１，１−ビス（３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、１，１−ビス（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−２−メチルプロパン、１，１−ビス（３−シクロヘキシル−４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−３，３，５−トリメチル−シクロヘキサン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−３，３，５，５−テトラメチル−シクロヘキサン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−３，３，４−トリメチル−シクロヘキサン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−３，３−ジメチル−５−エチル−シクロヘキサン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−３，３，５−トリメチル−シクロペンタン、１，１−ビス（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）−３，３，５−トリメチル−シクロヘキサン、１，１−ビス（３，５−ジフェニル−４−ヒドロキシフェニル）−３，３，５−トリメチル−シクロヘキサン、１，１−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）−３，３，５−トリメチル−シクロヘキサン、１，１−ビス（３−フェニル−４−ヒドロキシフェニル）−３，３，５−トリメチル−シクロヘキサン、１，１−ビス（３，５−ジクロロ−４−ヒドロキシフェニル）−３，３，５−トリメチル−シクロヘキサン、９，９−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フルオレン、９，９−ビス（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）フルオレン、１，１−ビス（３，５−ジブロモ−４−ヒドロキシフェニル）−３，３，５−トリメチル−シクロヘキサン等が挙げられ、これらは１種類でも、複数種含まれていてもよい。これら２価フェノールは得られるポリマーの性能に応じて用いることができる。

これら２価フェノールの中でも光学特性および力学特性的には、一般式（２）で示されるＹが分岐鎖含有アルキリデン基、シクロアルキリデン基、分岐鎖含有シクロアルキリデン基が特に好適であり、特に好ましくは１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−４−メチルシクロヘキサン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−４−イソプロピルシクロヘキサン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−４−メチルペンタンである。

また、本発明のポリマーは得られるポリマーの性能に応じて３価フェノールを共重合することができる。

上記一般式（４）で表される３価フェノール残基を構成する３価フェノールを具体的に例示すると、次のものが挙げられる。４，４′−［１−（４−（１−（４−ヒドロキシフェニル）−１−メチルエチル）−フェニル）−エチリデン］ビスフェノール、４，４′−［１−（４−（１−（４−ヒドロキシフェニル）−１−メチル）−フェニル）−メチリデン］ビスフェノール、４，４′−［１−（４−（１−（４−ヒドロキシフェニル）−１−エチル）−フェニル）−メチリデン］ビスフェノール、４，４′−［１−（４−（１−（４−ヒドロキシフェニル）−１−メチルエチル）−フェニル）−メチリデン］ビスフェノール、４，４′−［１−（４−（１−（４−ヒドロキシフェニル）−１−メチルプロピル）−フェニル）−エチリデン］ビスフェノール、４，４′−［１−（４−（１−（４−ヒドロキシフェニル）−１−エチルエチル）−フェニル）−エチリデン］ビスフェノール、４，４′−［１−（４−（１−（４−ヒドロキシフェニル）−１−エチルプロピル）−フェニル）−エチリデン］ビスフェノール、４，４′−［１−（４−（１−（４−ヒドロキシフェニル）−１−プロピルプロピル）−フェニル）−エチリデン］ビスフェノール、４，４′−［１−（４−（１−（４−ヒドロキシフェニル）−１−メチルブチル）−フェニル）−エチリデン］ビスフェノール、４，４′−［１−（４−（１−（４−ヒドロキシフェニル）−１−メチルペンチル）−フェニル）−エチリデン］ビスフェノール、４，４′−［１−（４−（１−（４−ヒドロキシフェニル）−１−メチルヘキシル）−フェニル）−エチリデン］ビスフェノール、４，４′−［１−（４−（１−（４−ヒドロキシフェニル）−１−メチルヘプチル）−フェニル）−エチリデン］ビスフェノール、４，４′−［１−（４−（１−（４−ヒドロキシフェニル）−１−メチルエチル）−フェニル）−プロピリデン］ビスフェノール、４，４′−［１−（４−（１−（４−ヒドロキシフェニル）−１−メチルエチル）−フェニル）−ブチリデン］ビスフェノール、４，４′−［１−（４−（１−（４−ヒドロキシフェニル）−１−メチルエチル）−フェニル）−ペンチリデン］ビスフェノール、４，４′−［１−（４−（１−（４−ヒドロキシフェニル）−１−メチルエチル）−フェニル）−ヘキシリデン］ビスフェノール、４，４′−［１−（４−（１−（４−ヒドロキシフェニル）−１−メチルエチル）−フェニル）−へプチリデン］ビスフェノール、４，４′−［１−（４−（１−（４−ヒドロキシフェニル）−１−フェニルエチル）−フェニル）−エチリデン］ビスフェノール、４，４′−［１−（４−（１−（４−ヒドロキシフェニル）−１，１−ジフェニルメチル）−フェニル）−エチリデン］ビスフェノール、４，４′−［１−（４−（１−（４−ヒドロキシフェニル）−１−ナフチルエチル）−フェニル）−エチリデン］ビスフェノール、４，４′−［１−（４−（１−（４−ヒドロキシフェニル）−１，１−ジナフチルメチル）−フェニル）−エチリデン］ビスフェノール、４，４′−［１−（４−（１−（４−ヒドロキシフェニル）−１−トリフロロメチルエチル）−フェニル）−エチリデン］ビスフェノール、４，４′−［１−（４−（１−（４−ヒドロキシフェニル）−１，１−ジトリフロロメチルメチル）−フェニル）−エチリデン］ビスフェノール、４，４′−［１−（４−（１−（４−ヒドロキシフェニル）−１−メチルエチル）−フェニル）−エチリデン］−３−メチルビスフェノール、４，４′−［１−（４−（１−（４−ヒドロキシフェニル）−１−メチルエチル）−フェニル）−エチリデン］−３，５−ジメチルビスフェノール、４，４′−［１−（４−（１−（４−ヒドロキシフェニル）−１−メチルエチル）−フェニル）−エチリデン］−３−（１−メチルエチル）ビスフェノール、４，４′−［１−（４−（１−（４−ヒドロキシフェニル）−１−メチルエチル）−フェニル）−エチリデン］−３，５−ジ（１−メチルエチル）ビスフェノール、４，４′−［１−（４−（１−（４−ヒドロキシフェニル）−１−メチルエチル）−フェニル）−エチリデン］−３−シクロヘキシルビスフェノール、４，４′−［１−（４−（１−（４−ヒドロキシフェニル）−１−メチルエチル）−フェニル）−エチリデン］−３，５−ジシクロヘキシルビスフェノール、４，４′−［１−（４−（１−（４−ヒドロキシフェニル）−１−メチルエチル）−フェニル）−エチリデン］−３−フェニルビスフェノール、４，４′−［１−（４−（１−（４−ヒドロキシフェニル）−１−メチルエチル）−フェニル）−エチリデン］−３，５−ジフェニルビスフェノール、４，４′−［１−（４−（１−（４−ヒドロキシフェニル）−１−メチルエチル）−フェニル）−エチリデン］−３−ナフチルビスフェノール、４，４′−［１−（４−（１−（４−ヒドロキシフェニル）−１−メチルエチル）−フェニル）−エチリデン］−３，５−ジナフチルビスフェノール、４，４′−［１−（４−（１−（４−ヒドロキシフェニル）−１−メチルエチル）−フェニル）−エチリデン］−３−フロロビスフェノール、４，４′−［１−（４−（１−（４−ヒドロキシフェニル）−１−メチルエチル）−フェニル）−エチリデン］−３，５−ジフロロビスフェノール、４，４′−［１−（４−（１−（４−ヒドロキシフェニル）−１−メチルエチル）−フェニル）−エチリデン］−３−ブロモビスフェノール、４，４′−［（１−（４−（１−（４−ヒドロキシフェニル）−１−メチルエチル）−フェニル）−エチリデン］−３，５−ジブロモビスフェノール、４，４′−［１−（４−（１−（４−ヒドロキシフェニル）−１−メチルエチル）−フェニル）−エチリデン］−３−クロロビスフェノール、４，４′−［１−（４−（１−（４−ヒドロキシフェニル）−１−メチルエチル）−フェニル）−エチリデン］−３，５−ジクロロビスフェノール等が挙げられる。上記の３価フェノール誘導体の中でも、特に４，４′−［１−（４−（１−（４−ヒドロキシフェニル）−１−メチルエチル）−フェニル）−エチリデン］ビスフェノールは、その製造が容易であって良好な水溶性を有し、ホスホネートカーボネート共重合体のインタラクションを容易に制御できるからより好ましい。

また、ジヒドロキシベンゼンを本発明の効果が損なわれない範囲で用いることができ、これらジヒドロキシベンゼンとしては、レゾルシノール、ハイドロキノン、１，２−ジヒドロキシベンゼン等が挙げられ、これらは１種類でも、複数種含まれていてもよい。

また、本発明のポリマーは必ずしも直鎖状である必要はなく、得られるポリマーの性能に応じて多価フェノールを共重合することができる。このような多価フェノールを具体的に例示すると、トリス（４−ヒドロキシフェニル）メタン、４，４’−〔１−〔４−〔１−（４−ヒドロキシフェニル）−１−メチルエチル〕フェニル〕エチリデン〕ビスフェノール、２，３，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、４−〔ビス（４−ヒドロキシフェニル）メチル〕−２−メトキシフェノール、トリス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）メタン、４−〔ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）メチル〕−２−メトキシフェノール、４−〔ビス（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）メチル〕−２−メトキシフェノール、１，１，１−トリス（４−ヒドロキシフェニル）エタン、１，１，１−トリス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）エタン、１，１，１−トリス（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）エタン、トリス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）メタン、トリス（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）メタン、２，６−ビス〔（２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）メチル〕−４−メチルフェノール、４−〔ビス（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）メチル〕−１，２−ジヒドロキシベンゼン、２−〔ビス（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−シクロヘキシルフェニル）メチル〕−フェノール、４−〔ビス（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−シクロヘキシルフェニル）メチル〕−１，２−ジヒドロキシベンゼン、４−メチルフェニル−１，２，３−トリヒドロキシベンゼン、４−〔（４−ヒドロキシフェニル）メチル〕−１，２，３−トリヒドロキシベンゼン、４−〔１−（４−ヒドロキシフェニル）−１−メチル−エチル〕−１，３−ジヒドロキシベンゼン、４−〔（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）メチル〕−１，２，３−トリヒドロキシベンゼン、１，４−ビス〔１−ビス（３，４−ジヒドロキシフェニル）−１−メチル−エチル〕ベンゼン、１，４−ビス〔１−ビス（２，３，４−トリヒドロキシフェニル）−１−メチル−エチル〕ベンゼン、２，４−ビス〔（４−ヒドロキシフェニル）メチル〕−１，３−ジヒドロキシベンゼン、２−〔ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェイル）メチル〕フェノール、４−〔ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェイル）メチル〕フェノール、２−〔ビス（２−メチル−４−ヒドロキシフェイル）メチル〕フェノール、４−〔ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）メチル〕−１，２−ジヒドロキシベンゼン、４−〔ビス（４−ヒドロキシフェニル）メチル〕−２−エトキシフェノール、２−〔ビス（２，３−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）メチル〕フェノール、４−〔ビス（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）メチル〕フェノール、３−〔ビス（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）メチル〕フェノール、２−〔ビス（２−ヒドロキシ−３，６−ジメチルフェニル）メチル〕フェノール、４−〔ビス（２−ヒドロキシ−３，６−ジメチルフェニル）メチル〕フェノール、４−〔ビス（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）メチル〕−２−メトキシフェノール、３，６−〔ビス（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）メチル〕−１，２−ジヒドロキシベンゼン、４，６−〔ビス（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）メチル〕−１，２，３−トリヒドロキシベンゼン、２−〔ビス（２，３，６−トリメチル−４−ヒドロキシフェニル）メチル〕フェノール、２−〔ビス（２，３，５−トリメチル−４−ヒドロキシフェニル）メチル〕フェノール、３−〔ビス（２，３，５−トリメチル−４−ヒドロキシフェニル）メチル〕フェノール、４−〔ビス（２，３，５−トリメチル−４−ヒドロキシフェニル）メチル〕フェノール、４−〔ビス（２，３，５−トリメチル−４−ヒドロキシフェニル）メチル〕−１，２−ジヒドロキシベンゼン、３−〔ビス（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−シクロヘキシルフェニル）メチル〕フェノール、４−〔ビス（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−シクロヘキシルフェニル）メチル〕フェノール、４−〔ビス（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−シクロヘキシルフェニル）メチル〕−２−メトキシフェノール、２，４，６−〔トリス（４−ヒドロキシフェニルメチル）−１，３−ジヒドロキシベンゼン、１，１，２，２−テトラ（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）エタン、１，１，２，２−テトラ（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）エタン、１，４−〔〔ビス（４−ヒドロキシフェニル）メチル〕〕ベンゼン、１，４−ジ〔ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）メチル〕ベンゼン、１，４−ジ〔ビス（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）メチル〕ベンゼン、４−〔１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エチル〕アニリン、（２，４−ジヒドロキシフェニル）（４−ヒドロキシフェニル）ケトン、２−〔ビス（４−ヒドロキシフェニル）メチル〕フェノール、１，３，３−トリ（４−ヒドロキシフェニル）ブタン等が挙げられ、これらは１種類でも、複数種含まれていてもよい。

本発明樹脂の製造方法としては、酸ハロゲン化物と２価のフェノールを有機溶剤中で反応させる溶液重合法（例えば、特公昭３７−５５９９号公報参照。）や、酸ハロゲン化物と２価のフェノールを塩化マグネシウム等の触媒存在下で加熱する溶融重合法、２価の酸と２価のフェノールをジアリルカーボネートの存在下で加熱する溶融重合法（例えば、特公昭３８−２６２９９号公報参照。）、および水と相溶しない有機溶剤に溶解せしめた２価の酸ハロゲン化物とアルカリ水溶液に溶解せしめた２価のフェノールとを混合する界面重合法（例えば、特公昭４０−１９５９号公報参照。）等が挙げられるが、特に溶液重合法が好適に採用される。

溶液重合法について一例を説明すると、ホスホン酸残基の前駆体分子であるホスホン酸誘導体と、２価フェノールをトリエチルアミンなどの塩基存在下混合して反応させ、続いてカーボネート残基の前駆体分子、例えば、ホスゲン、トリホスゲンなどを添加して縮合重合することによって、本発明の樹脂を得ることができる。ホスホン酸誘導体、カーボネート誘導体としては、それらのハロゲン化物、酸無水物およびエステル等が用いられるが、その種類や２価フェノールに作用させる順序は特に限定されない。

本発明のポリマーには、その特性を損なわない範囲で、ヒンダードフェノール系、ヒンダードアミン系、チオエーテル系、燐系の各種抗酸化剤を添加することができる。
また、他のポリマーが含まれたものであっても良く、このようなポリマーの例として、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ＡＢＳ樹脂、ポリメタクリル酸メチル、ポリトリフルオロエチレン、ポリテトラフルオロエチレン、ポリアセタール、ポリフェニレンオキシド、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリアミド、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリエーテルイミド、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、パラオキシベンゾイル系ポリエステル、ポリアリーレート、ポリスルフィド等が挙げられる。

また、本発明のポリマーは、有機溶媒に対して高い溶解性を有しており、このような溶媒としては、塩化メチレン、クロロホルム、１，１，２，２−テトラクロロエタン、１，２−ジクロロエタン、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、トルエン、キシレン、γ−ブチロラクトン、ベンジルアルコール、イソホロン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、ヘキサフルオロイソプロパノール等が挙げられる。さらに、本発明のポリマーは非晶性であるが、非晶性であるかどうかは公知の方法、例えば示差走差熱量分析（ＤＳＣ）や動的粘弾性測定等により融点が存在しているかどうかを確認すればよい。

本発明に係る樹脂の例えばレンズなどの成形体を得る方法については、公知の方法が採用でき、特に限定されないが、例えば、射出成型法、プレス成型法、圧縮成型法、トランスファ成型法、積層成型法、押し出し成型法などがあげられる。 またフィルム状に成型する場合には、溶液製膜法、溶融押し出し製膜法などが挙げられ、特に溶液製膜が好適に採用される。溶液製膜法においては前記有機溶媒を適宜用いることができるが、好ましくはハロゲン含有溶媒であり、特に好ましくは塩化メチレンである。

本発明の具体的実施態様を以下に実施例をもって述べるが、本発明はこれに限定されるものではない。樹脂の評価は以下の方法により行った。

〔分子量〕
樹脂の０．２重量％クロロホルム溶液を、ＧＰＣ（ゲル・パーミエーション・クロマトグラフィー）〔東ソー（株）製、ＧＰＣ８０２０〕により測定し、数平均分子量（Ｍn）を求めた。尚、分子量は、標準ポリスチレン換算の値として求める。

〔曲げ弾性率と曲げ強さ〕
ロボットテンシロン（オリエンテック社製：ＲＴＭ１００）を使用し、幅１０ｍｍ、長さ２５ｍｍ、厚さ３ｍｍとなるように作製した樹脂成形体の曲げ弾性率と曲げ強さを測定した。測定条件は、温度２３℃、相対湿度５０％ＲＨである。

〔核磁気共鳴スペクトル（ＮＭＲ）の測定〕
カーボネートオリゴマーの重合度は重水素化クロロホルムにて核磁気共鳴装置（日本電子株式会社：EX270型）を用い、末端を示すスペクトルとポリマーユニットを示すスペクトルの積分比からその平均値を算出した。

末端封止率は、末端を示す特性シグナルの積分値より水酸基末端の数を測定し、前期式（ＩＩ）から末端封止率を求めた。

〔ポリマー中の水酸基量〕
(1)２５ミリリットルメスフラスコに試料０．１ｇを精秤し、約５ミリリットルの塩化メチレンに溶解させた。

(2)さらに、四塩化チタン溶液１０ミリリットルと酢酸溶液４ミリリットルを加え、塩化メチレンで２５ミリリットルに定容した。

(3)４８０ｎｍ（光路長１０ｎｍ）で吸光度を島津製作所社製のＵＶ−２４０で測定した。

(4)同様にして１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサンを用いて検量線を作成し、試料液の吸光度からＯＨ基量を算出した。なお、上記の四塩化チタン溶液は、四塩化チタン２．２３ミリリットルを秤りとり酢酸１．０ミリリットルを加え、塩化メチレンで１００ミリリットルに希釈したものであり、酢酸溶液は酢酸５ミリリットルを塩化メチレン１００ミリリットルに希釈したものである。

〔熱分解度の評価〕
樹脂１ｇを試験管に封入し、アルゴン雰囲気下（５０ｍｌ／ｍｉｎ）、３００℃のＧＬＡＳＳ ＴＵＢＥ ＯＶＥＮ（ＳＩＢＡＴＡ ＧＴＯ−３５０ＲＤ）で３０分加熱した後の数平均分子量を上記方法で測定したものをＭｎ２とし、加熱前の数平均分子量Ｍｎ１とＭｎ２との差をＭｎ１で除した値を求め熱分解度とした。熱分解度が０．０６未満のものを優、０．０６以上０．０８未満のものを良、０．０８以上０．１未満のものを可、０．１以上のものを不良とした。

〔光学特性〕
樹脂成型品をサンドペーパー、バフにて互いに直行する２面を鏡面仕上げになるように研磨し、屈折計（カルニュー光学工業（株）製：ＫＰＲ−２）にて評価を行い、ｄ線（波長：５８７．６ｎｍ）屈折率（ｎｄ）、式（８）より求められるアッベ数（νｄ）を測定した。

〔リタデーションの測定〕
本発明の樹脂を製膜ならびに一軸延伸したもののリタデーションは大塚電子製RETS−1100（セルギャップ測定装置）を用いて測定した。

［１］熱可塑性樹脂の合成
実施例１
〔カーボネートオリゴマー原料の調製：溶融法〕
ガラス製ナスフラスコ（１Ｌ）に１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン（０．６７ｍｏｌ：１８０ｇ）と炭酸ジフェニル（１２０ｇ）、ナトリウムフェノラート（１ｇ）を秤りとった。窒素パージ後、２２０℃まで加熱し、内容物の融解させ、２２０℃のまま１時間かけて減圧し約６０ｍｍＨｇとした。さらに約０．４ｍｍＨｇまで減圧し、そのまま２時間加熱した。冷却後、窒素パージしオリゴマーをＤＰＣ転化率で９３％で得た。得られたカーボネートオリゴマーはＮＭＲにより、平均でビスフェノール/カーボネート＝４/３のオリゴマーであった。

〔重合〕
窒素雰囲気下、塩化メチレン（３０ｍｌ）中に、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン(１６．９ｇ：６３ｍｍｏｌ)、４，４′−［１−（４−（１−（４−ヒドロキシフェニル）−１−メチルエチル）−フェニル）−エチリデン］ビスフェノール（０．０４ｇ：０．０９ｍｍｏｌ）およびトリエチルアミン(１７．３ｍｌ：１２４．９ｍｍｏｌ)を混合し、２０℃で攪拌した。この溶液に氷浴下で濃度０．５８１ｍｏｌ／ｌであるトリホスゲンの塩化メチレン溶液（９ｍｌ）を１０分かけて滴下し、滴下終了後２０℃で６０分間攪拌した。

この溶液に氷冷下ノルボルニルホスホン酸ジクロライド（１ｍｌ：６．３ｍｍｏｌ）の塩化メチレン２ｍｌ溶液を５分間かけて滴下し２０℃で３時間攪拌し、この溶液にフェニルホスホン酸ジクロライド(２．２ｍｌ：１５．８ｍｍｏｌ)の塩化メチレン４ｍｌ溶液を１０分間かけて滴下し２０℃で１時間攪拌し、続いてこの溶液に氷浴下で濃度０．５８１ｍｏｌ／ｌであるトリホスゲンの塩化メチレン溶液（１２．７ｍｌ）を２０分かけて滴下し、滴下終了後２０℃で６０分間攪拌し、１回目の末端封止剤であるｐ−メトキシフェノール（０．０４７ｇ：０．３８ｍｍｏｌ)の塩化メチレン溶液（５ｍｌ）を加え２０℃で６０分間攪拌した。この時点での２価フェノールの反応率は９５％で、数平均分子量は約６０００であった。

その後反応溶液に０．１ＮＨＣｌ水溶液および蒸留水を注ぎ、水溶液層のｐＨを６．５付近にして有機層を脱塩洗浄し分離した。

この溶液にハイドロサルファイトが溶解しているアルカリ金属化合物である苛性ソーダ水溶液を添加し、続いてこの溶液に濃度０．５８１ｍｏｌ／ｌであるトリホスゲンの塩化メチレン溶液（３．０ｍｌ）を２０分かけて滴下し、滴下終了後２０℃で６０分間攪拌し、２回目の末端封止剤であるｐ−メトキシフェノール（０．０４７ｇ：０．３８ｍｍｏｌ)の塩化メチレン溶液（５ｍｌ）を加え２０℃で３時間攪拌した後、ＧＰＣで分子量低下を確認し、３回目の末端封止剤であるｐ−メトキシフェノールクロロホルメート（０．２８ｇ１．５２ｍｍｏｌ) 加え２０℃で１時間攪拌した。

その後反応溶液に塩化メチレン５０ｍｌを注入し、０．１ＮＨＣｌ水溶液および蒸留水を注ぎ、水溶液層のｐＨを６．５付近にして有機層を脱塩洗浄し分離した。その後分離した有機層を０．５μｍのメンブレンフィルターで濾過し、エタノール２０００ｍｌに投入して再沈しポリマーを濾取した後、１００℃で２０時間乾燥して目的の樹脂粉末を合計収率９０％で得た。得られた樹脂粉末の分子量、末端封止率、熱分解度を前記のごとく評価した。

実施例２
窒素雰囲気下、塩化メチレン（３０ｍｌ）中に１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン(１６．９ｇ：６３ｍｍｏｌ)、４，４′−［１−（４−（１−（４−ヒドロキシフェニル）−１−メチルエチル）−フェニル）−エチリデン］ビスフェノール（０．０４ｇ：０．０９ｍｍｏｌ）およびトリエチルアミン(１７．３ｍｌ：１２４．９ｍｍｏｌ)を混合し、２０℃で攪拌した。この溶液に氷冷下ノルボルニルホスホン酸ジクロライド（１ｍｌ：６．３ｍｍｏｌ）の塩化メチレン２ｍｌ溶液を５分間かけて滴下し２０℃で３時間攪拌し、この溶液にフェニルホスホン酸ジクロライド(２．２ｍｌ：１５．８ｍｍｏｌ)の塩化メチレン４ｍｌ溶液を１０分間かけて滴下し２０℃で１時間攪拌し、続いてこの溶液に氷浴下で濃度０．５８１ｍｏｌ／ｌであるトリホスゲンの塩化メチレン溶液（１２．７ｍｌ）を２０分かけて滴下し、滴下終了後２０℃で６０分間攪拌し、１回目の末端封止剤であるｐ−メトキシフェノール（０．０４７ｇ：０．３８ｍｍｏｌ)の塩化メチレン溶液（５ｍｌ）を加え２０℃で６０分間攪拌した。この時点での２価フェノールの反応率は９５％で、数平均分子量は約６０００であった。

この溶液に氷冷下トリエチルアミン(１ｍｌ：７．６ｍｏｌ)を加え、続いてこの溶液に氷浴下で濃度０．５８１ｍｏｌ／ｌであるトリホスゲンの塩化メチレン溶液（１．８ｍｌ）を２０分かけて滴下し、滴下終了後２０℃で６０分間攪拌し、２回目の末端封止剤であるｐ−メトキシフェノール（０．０４７ｇ：０．３８ｍｍｏｌ)の塩化メチレン溶液（５ｍｌ）を加え２０℃で３時間攪拌した後、ＧＰＣで分子量低下を確認し、３回目の末端封止剤であるｐ−メトキシフェノールクロロホルメート（０．２８ｇ１．５２ｍｍｏｌ) 加え２０℃で１時間攪拌した。その後、実施例１と同様の方法で後処理し、ポリマーを収率９２％で得、成形して評価した。

実施例３
第１の重合として窒素雰囲気下、塩化メチレン（３０ｍｌ）中に１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン(１６．９ｇ：６３ｍｍｏｌ)、４，４′−［１−（４−（１−（４−ヒドロキシフェニル）−１−メチルエチル）−フェニル）−エチリデン］ビスフェノール（０．０４ｇ：０．０９ｍｍｏｌ）、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサンカーボネートオリゴマー（４量体）（９ｇ）およびトリエチルアミン(１８．９ｍｌ：１３６．３ｍｍｏｌ)を混合し、２０℃で攪拌した。この溶液に氷冷下ノルボルニルホスホン酸ジクロライド（３ｍｌ：１８．９ｍｍｏｌ）の塩化メチレン６ｍｌ溶液を５分間かけて滴下し２０℃で３時間攪拌し、この溶液にフェニルホスホン酸ジクロライド(６．６ｍｌ：４７．３ｍｍｏｌ)の塩化メチレン１３ｍｌ溶液を１０分間かけて滴下し２０℃で６０分間攪拌し、１回目の末端封止剤であるｐ−メトキシフェノール（０．０４７ｇ：０．３８ｍｍｏｌ)の塩化メチレン溶液（５ｍｌ）を加え２０℃で６０分間攪拌した。この時点での２価フェノールの反応率は９５％で、数平均分子量は約６０００であった。

この溶液に氷冷下トリエチルアミン(１．２ｍｌ：８．７ｍｍｏｌ)を加え、続いてこの溶液に２０℃でフェニルホスホン酸ジクロライド(０．６ｍｌ：４．６ｍｍｏｌ)を２０分かけて滴下し、滴下終了後２０℃で６０分間攪拌し、２回目の末端封止剤であるｐ−メトキシフェノール（０．０４７ｇ：０．３８ｍｍｏｌ)の塩化メチレン溶液（５ｍｌ）を加え２０℃で３時間攪拌した後、ＧＰＣで分子量低下を確認し、３回目の末端封止剤であるｐ−メトキシフェノールクロロホルメート（０．２８ｇ１．５２ｍｍｏｌ) 加え２０℃で１時間攪拌した。その後、実施例１と同様の方法で後処理し、ポリマーを収率９２％で得、成形して評価した。

実施例４
フェニルホスホン酸ジクロライドの代わりにフェニルチオホスホン酸ジクロライドを用いた以外は実施例１と同様に重合しポリマーが合計収率９４％で得られた。得られた樹脂を実施例１と同様に評価した。

実施例５
ノルボルニルホスホン酸ジクロライドの代わりにノルボルニルチオホスホン酸ジクロライドを用いた以外は実施例１と同様に重合しポリマーが合計収率９３％で得られた。得られた樹脂を実施例１と同様に評価した。

実施例６
実施例１で得られた樹脂から、溶液キャスティング法（塩化メチレン溶液）によって、幅２００ｍｍ、厚さ２５μｍの位相差フィルムを作成した。該フィルムを延伸温度１６５℃、延伸速度１００ｍｍ／ｍｉｎにて１．３倍に延伸した。延伸後のフィルム厚みは１８μｍであった。

上記条件によって得られた位相差フィルムは、波長５５０ｎｍにおけるリタデーションが１４３．６ｎｍ、波長４５０ｎｍのそれは１５７．３ｎｍ、波長６５０ｎｍのそれは１３５．７ｎｍを示した。

比較例１
窒素雰囲気下、塩化メチレン（３０ｍｌ）中に１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン(１６．９ｇ：６３ｍｍｏｌ)、４，４′−［１−（４−（１−（４−ヒドロキシフェニル）−１−メチルエチル）−フェニル）−エチリデン］ビスフェノール（０．０４ｇ：０．０９ｍｍｏｌ）およびトリエチルアミン(１８．４ｍｌ：１３２．５ｍｍｏｌ)を混合し、２０℃で攪拌した。この溶液に氷冷下ノルボルニルホスホン酸ジクロライド（１ｍｌ：６．３ｍｍｏｌ）の塩化メチレン２ｍｌ溶液を５分間かけて滴下し２０℃で３時間攪拌し、この溶液にフェニルホスホン酸ジクロライド(２．２ｍｌ：１５．８ｍｍｏｌ)の塩化メチレン４ｍｌ溶液を１０分間かけて滴下し２０℃で１時間攪拌し、続いてこの溶液に氷浴下で濃度０．５８１ｍｏｌ／ｌであるトリホスゲンの塩化メチレン溶液（１２．７ｍｌ）を２０分かけて滴下し、滴下終了後２０℃で６０分間攪拌した。この溶液に氷浴下で濃度０．５８１ｍｏｌ／ｌであるトリホスゲンの塩化メチレン溶液（１．８ｍｌ）を２０分かけて滴下し、滴下終了後２０℃で６０分間攪拌した。その後、実施例１と同様の方法で後処理し、ポリマーを収率９２％で得、成形して評価した。

比較例２
窒素雰囲気下、塩化メチレン（３０ｍｌ）中に１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン(１６．９ｇ：６３ｍｍｏｌ)、４，４′−［１−（４−（１−（４−ヒドロキシフェニル）−１−メチルエチル）−フェニル）−エチリデン］ビスフェノール（０．０４ｇ：０．０９ｍｍｏｌ）、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサンカーボネートオリゴマー（４量体）（９ｇ）およびトリエチルアミン(１８．９ｍｌ：１３６．３ｍｍｏｌ)を混合し、２０℃で攪拌した。この溶液に氷冷下ノルボルニルホスホン酸ジクロライド（３ｍｌ：１８．９ｍｍｏｌ）の塩化メチレン６ｍｌ溶液を５分間かけて滴下し２０℃で３時間攪拌し、この溶液にフェニルホスホン酸ジクロライド(６．６ｍｌ：４７．３ｍｍｏｌ)の塩化メチレン１３ｍｌ溶液を１０分間かけて滴下し２０℃で６０分間攪拌した。２価フェノールおよび／または２価アルコールの反応率は９５％であった。この時点での数平均分子量は約６０００であった。

この溶液に氷冷下トリエチルアミン(１．２ｍｌ：８．７ｍｍｏｌ)を加え、続いてこの溶液に２０℃でフェニルホスホン酸ジクロライド(０．６ｍｌ：４．６ｍｍｏｌ)を２０分かけて滴下し、滴下終了後２０℃で６０分間攪拌した。その後、実施例１と同様の方法で後処理し、ポリマーを収率９２％で得、成形して評価した。

比較例３
窒素雰囲気下、塩化メチレン（３０ｍｌ）中に、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン(１６．９ｇ：６３ｍｍｏｌ)、４，４′−［１−（４−（１−（４−ヒドロキシフェニル）−１−メチルエチル）−フェニル）−エチリデン］ビスフェノール（０．０４ｇ：０．０９ｍｍｏｌ）およびトリエチルアミン(１７．３ｍｌ：１２４．９ｍｍｏｌ)を混合し、２０℃で攪拌した。この溶液に氷浴下で濃度０．５８１ｍｏｌ／ｌであるトリホスゲンの塩化メチレン溶液（９ｍｌ）を１０分かけて滴下し、滴下終了後２０℃で６０分間攪拌した。

この溶液に氷冷下ノルボルニルホスホン酸ジクロライド（１ｍｌ：６．３ｍｍｏｌ）の塩化メチレン２ｍｌ溶液を５分間かけて滴下し２０℃で３時間攪拌し、この溶液にフェニルホスホン酸ジクロライド(２．２ｍｌ：１５．８ｍｍｏｌ)の塩化メチレン４ｍｌ溶液を１０分間かけて滴下し２０℃で１時間攪拌し、続いてこの溶液に氷浴下で濃度０．５８１ｍｏｌ／ｌであるトリホスゲンの塩化メチレン溶液（１２．７ｍｌ）を２０分かけて滴下し、滴下終了後２０℃で６０分間攪拌した。

その後反応溶液に０．１ＮＨＣｌ水溶液および蒸留水を注ぎ、水溶液層のｐＨを６．５付近にして有機層を脱塩洗浄し分離した。

この溶液にハイドロサルファイトが溶解しているアルカリ金属化合物である苛性ソーダ水溶液を添加し、続いてこの溶液に濃度０．５８１ｍｏｌ／ｌであるトリホスゲンの塩化メチレン溶液（３．０ｍｌ）を２０分かけて滴下し、滴下終了後２０℃で６０分間攪拌し、末端封止剤であるｐ−メトキシフェノール（０．０９４ｇ：０．７６ｍｍｏｌ)の塩化メチレン溶液（５ｍｌ）を加え２０℃で３時間攪拌した。その後、実施例１と同様の方法で後処理し、ポリマーを収率９２％で得、成形して評価した。

比較例４
窒素雰囲気下、塩化メチレン（３０ｍｌ）中に、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン(１６．９ｇ：６３ｍｍｏｌ)、４，４′−［１−（４−（１−（４−ヒドロキシフェニル）−１−メチルエチル）−フェニル）−エチリデン］ビスフェノール（０．０４ｇ：０．０９ｍｍｏｌ）およびトリエチルアミン(１７．３ｍｌ：１２４．９ｍｍｏｌ)を混合し、２０℃で攪拌した。この溶液に氷浴下で濃度０．５８１ｍｏｌ／ｌであるトリホスゲンの塩化メチレン溶液（９ｍｌ）を１０分かけて滴下し、滴下終了後２０℃で６０分間攪拌し、１回目の末端封止剤であるｐ−メトキシフェノール（０．０４７ｇ：０．３８ｍｍｏｌ)の塩化メチレン溶液（５ｍｌ）を加え２０℃で６０分間攪拌した。

この溶液に氷冷下ノルボルニルホスホン酸ジクロライド（１ｍｌ：６．３ｍｍｏｌ）の塩化メチレン２ｍｌ溶液を５分間かけて滴下し２０℃で３時間攪拌し、この溶液にフェニルホスホン酸ジクロライド(２．２ｍｌ：１５．８ｍｍｏｌ)の塩化メチレン４ｍｌ溶液を１０分間かけて滴下し２０℃で１時間攪拌し、続いてこの溶液に氷浴下で濃度０．５８１ｍｏｌ／ｌであるトリホスゲンの塩化メチレン溶液（１２．７ｍｌ）を２０分かけて滴下し、滴下終了後２０℃で６０分間攪拌した。

その後反応溶液に０．１ＮＨＣｌ水溶液および蒸留水を注ぎ、水溶液層のｐＨを６．５付近にして有機層を脱塩洗浄し分離した。

この溶液にハイドロサルファイトが溶解しているアルカリ金属化合物である苛性ソーダ水溶液を添加し、続いてこの溶液に濃度０．５８１ｍｏｌ／ｌであるトリホスゲンの塩化メチレン溶液（３．０ｍｌ）を２０分かけて滴下し、滴下終了後２０℃で６０分間攪拌し、末端封止剤であるｐ−メトキシフェノール（０．０９４ｇ：０．７６ｍｍｏｌ)の塩化メチレン溶液（５ｍｌ）を加え２０℃で３時間攪拌した。その後、実施例１と同様の方法で後処理し、ポリマーを収率９２％で得、成形して評価した。

比較例５
比較例１で得られた樹脂から、溶液キャスティング法（塩化メチレン溶液）によって、幅２００ｍｍ、厚さ２５μｍのフィルムを作成した。該フィルムを延伸温度１５０℃、延伸速度１８０ｍｍ／ｍｉｎにて１．３倍に延伸した。延伸後のフィルム厚みは１８μｍであった。

上記条件によって得られたフィルムは、波長５５０ｎｍにおけるリタデーションが４７．６ｎｍ、波長４５０ｎｍのそれは５１．９ｎｍ、波長６５０ｎｍのそれは４４．９ｎｍを示した。

実施例１〜５と比較例１〜４で作成した樹脂の評価結果を表１に示す。

［２］樹脂からなる板状成形体の作製
実施例１〜５、比較例１〜４については［１］で得られた熱可塑性樹脂粉末を射出成形法により、幅１０ｍｍ、長さ２５ｍｍ、厚さ３ｍｍの板状の透明樹脂成形体を作製し、黄色度、曲げ弾性率、曲げ強さを測定した。各実施例および比較例における測定値を、表１に示した。また本発明の樹脂からなる成形体は無色透明で高屈折率、低分散であることから、光学レンズとして用いることができる。

［３］樹脂からなる位相差フィルムの作製
実施例１記載の樹脂をさらに２５０℃に加熱溶融押し出しによりペレット化し、それを 溶液キャスティング法（塩化メチレン溶液）によって幅２００ｍｍ、厚さ２５μｍの位相差フィルムを作成した。該フィルムを延伸温度１６５℃、延伸速度１００ｍｍ／ｍｉｎにて１．３倍に延伸した。延伸後のフィルム厚みは１８μｍであった。

上記条件によって得られた位相差フィルムは、波長５５０ｎｍにおけるリタデーションが１４３．６ｎｍ、波長４５０ｎｍのそれは１５７．３ｎｍ、波長６５０ｎｍのそれは１３５．７ｎｍを示した。

比較例１および２から末端封止をおこなっていない樹脂は、末端基のほとんどがＯＨ末端のため、熱分解度や樹脂の黄色度が大きく、曲げ弾性率や曲げ強度も不十分であることがわかる。

また比較例３および４から、従来の末端封止方法で製造した樹脂は末端封止率が低いため、上記同様に色調、耐熱性、力学特性が不十分であることがわかる。
比べて本発明の樹脂は、末端封止率が高いため熱分解度や樹脂の黄色度が小さく、曲げ弾性率や曲げ強度も優れていることがわかる。また位相差フィルム用途としては本発明の樹脂が高い力学特性を維持しているが故に、一軸延伸時に強く配向し、より大きな複屈折率が生じ、位相差フィルムの薄膜化に有効であることがわかる。

無色透明で高屈折率、低分散（高いアッベ数）で更に成形性、耐熱性、耐衝撃性、色調などに優れた樹脂は、光学用樹脂またはフィルムとして利用される。

Claims (10)

1. 少なくともカーボネート残基、下記一般式（１）で示されるホスホン酸残基、下記一般式（２）で示される２価フェノール残基から構成されており、ホスホン酸残基とカーボネート残基のモル分率が式（Ｉ）を満足し、ポリマー末端基の５０％以上が封止されていることを特徴とする樹脂。
   

   

   

   ［一般式（１）において、Ｒ^１は有機基、Ｘは酸素、硫黄、セレンあるいは非共有電子対を表し、一般式（２）において、Ｒ^２１、Ｒ^２２は各々独立に水素原子、炭素数６〜２０の芳香族基およびニトロ基からなる群から選ばれた原子または官能基を表し、ｐ、ｑはｐ＋ｑ＝０〜８の整数、Ｙは単結合、エーテル基、チオエーテル基、アルキレン基、アルキリデン基、シクロアルキレン基、シクロアルキリデン基、フェニルアルキリデン基、カルボニル基、スルホン基、脂肪族ホスフィンオキシド基、芳香族ホスフィンオキシド基、アルキルシラン基、ジアルキルシラン基およびフルオレン基からなる群からから選ばれた官能基を表す。構造式（１）、（２）はさらに置換されても良い。］
   １≧（ａ）／｛（ａ）＋（ｂ）｝≧０．０５ （Ｉ）
   ［式（Ｉ）中、（ａ）はホスホン酸残基のモル数、（ｂ）はカーボネート残基のモル数を示す。］
2. ３ｍｍ厚みの成形品にしたときの黄色度（以下△ＹＩと記す）が１０以下である請求項１に記載の樹脂。
3. 曲げ弾性率が５００ＭＰａ以上であり、かつ曲げ強さが２５ＭＰａ以上である請求項１〜２のいずれかに記載の樹脂。
4. 溶媒中で２価フェノールモノマーを塩基存在下でカーボネート残基の前駆体分子および／またはホスホン酸残基の前駆体分子を反応させるホスホネート−カーボネート共重合体樹脂の製造方法において、２価フェノール残基の反応率が０％以上９９％以下の段階でモノフェノールを添加する工程、カーボネート残基の前駆体分子および／またはホスホン酸残基の前駆体分子を作用させて高分子量化する工程、モノフェノールを添加する工程、分子量低下を確認する工程、、クロロホルメートを添加する工程を順におこなうことを特徴とする、数平均分子量が１００００以上である、ホスホネート−カーボネート共重合体樹脂の製造方法。
5. 溶媒中で、２価フェノールのカーボネートポリマー若しくはオリゴマーを塩基存在下に２価フェノールモノマーと反応せしめる工程、その後、ホスホン酸誘導体を反応せしめる工程を含む請求項４記載のホスホネート−カーボネート共重合体樹脂の製造方法。
6. 前記ホスホン酸誘導体を反応せしめる工程時に、溶液中における２価フェノール単位の濃度を１．０ｍｏｌ／Ｌ以上に維持する請求項５記載のホスホネート−カーボネート共重合体樹脂の製造方法。
7. 請求項１〜３いずれかに記載の樹脂を含有してなる成型体。
8. 請求項７に記載の成型体からなる光学レンズ。
9. 請求項１〜３のいずれかに記載の樹脂を含有してなるフィルム。
10. 請求項９に記載のフィルムを構成材とする位相差フィルム。