JP4336235B2 - 光学部品用樹脂組成物およびその用途 - Google Patents
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Description
すなわち、本発明は、一般式(1)で表される繰り返し構造単位を含有し、かつゲルパーミエーションクロマトグラフィーによって測定した標準ポリスチレン換算での重量平均分子量が30000〜150000であるポリヒドロキシエーテル重合体を含有してなる光学部品用樹脂組成物に関する。
該置換基R2およびR3として、メチル基は特に好ましい。
一般式(1)におけるmおよびnとして、整数0は特に好ましい。
9,9−ビス(4’−ヒドロキシフェニル)フルオレン、
9,9−ビス(4’−ヒドロキシ−3’−メチルフェニル)フルオレン、
9,9−ビス(4’−ヒドロキシ−3’−メトキシフェニル)フルオレン、
9,9−ビス(4’−ヒドロキシ−3’−フェニルフェニル)フルオレン、
9,9−ビス(4’−ヒドロキシ−2’−ブロモフェニル)フルオレン、
9,9−ビス(4’−ヒドロキシ−2’−クロロフェニル)フルオレンなどが挙げられるが、本発明はこれらに限定されるものではない。
本発明に係るポリヒドロキシエーテル重合体を、前記の方法に従い重合して製造する際に、分子量を調節する目的で末端封止剤の存在下に重合を行うことは好ましいことである。
メタンチオール、エタンチオール、ブタンチオール、オクタンチオール、シクロヘキサンチオール、フェニルメタンチオール、ベンゼンチオールなどの1価の脂肪族または芳香族チオール化合物;
酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、カプロン酸、ヘプタン酸、カプリル酸、シクロヘキサンカルボン酸、フェニル酢酸、フェノキシ酢酸、安息香酸、4-メチル安息香酸、3-メチル安息香酸、2-メチル安息香酸、4-クロロ安息香酸、3-クロロ安息香酸、2-クロロ安息香酸、1−ナフトエ酸、2−ナフトエ酸などの1価の脂肪族カルボン酸または芳香族カルボン酸などが挙げられるが、これらに限定されるものではない。
トリノニルホスファイト、トリデシルホスファイト、トリス(トリデシル)ホスファイト、トリオクタデシルホスファイト、トリステアリルホスファイト、トリス(2−クロロエチル)ホスファイト、トリス(2,3−ジクロロプロピルホスファイト)、トリシクロヘキシルホスファイト、トリフェニルホスファイト、トリス(メチルフェニル)ホスファイト、トリス(エチルフェニル)ホスファイト、トリス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)ホスファイト、トリス(ノニルフェニル)ホスファイト、フェニル−ジデシルホスファイト、ジフェニル−イソオクチルホスファイト、ジフェニル−2−エチルヘキシルホスファイト、ジフェニル−デシルホスファイト、ジフェニル−トリデシルホスファイト、ビス(トリデシル)−ペンタエリスチリル−ジホスファイト、ジステアリル−ペンタエリスチリル−ジホスファイト、ジフェニル−ペンタエリスチリル−ジホスファイト、ビス(ノニルフェニル)−ペンタエリスチリル−ジホスファイト、ビス(2,4−ジ−tert−ブチルフェニル)−ペンタエリスチリル−ジホスファイト、ビス(2,6−ジ−tert−ブチル−4−メチルフェニル)−ペンタエリスチリル−ジホスファイト、テトラフェニル−ジプロピレングリコール−ジホスファイト、テトラ(トリデシル)−4,4’−イソプロピリデンジフェニル−ジホスファイト、テトラ(2,4−ジ−tert−ブチルフェニル)−4,4’−ジフェニルホスファイト、テトラフェニルテトラ(トリデシル)ペンタエリスチリルテトラホスファイト、トリラウリルトリチオホスファイトなどの亜リン酸類;
トリメチルホスフェート、トリエチルホスフェート、トリブチルホスフェート、トリフェニルホスフェート、ジフェニルモノオルソキセニルホスフェート、ジブチルホスフェート、ジオクチルホスフェート、ジイソプロピルホスフェートなどのリン酸類;
テトラキス(2,4−ジ−tert−ブチルフェニル)−4,4−ジフェニレンホスホナイトなどの亜ホスホン酸類;
ベンゼンホスホン酸ジメチル、ベンゼンホスホン酸ジエチル、ベンゼンホスホン酸ジイソプロピルなどのホスホン酸類などのリン原子含有化合物;
オクタデシル−3−(3,5−ジ−tert−ブチル−5−メチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート、トリエチレングリコール−ビス[3−(3−tert−ブチル−5−メチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、1,6−ヘキサンジオール−ビス[3−(3,5−ジ−tert−ブチル−5−メチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、ペンタエリスリトール−テトラキス[3−(3,5−ジ−tert−ブチル−5−メチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、
1,3,5−トリメチル−2,4,6−トリス(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)ベンゼン、N,N−ヘキサメチレンビス(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシ−ヒドロシンナマイド)、3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシベンジルホスホネートジエチルエステル、トリス(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)イソシアヌレートなどの公知のフェノール系化合物が例示されるが、これらに限定されるものではない。これらの酸化防止剤は、単独で用いてもよく、あるいは、2種類以上併用してもよい。
〔重量平均分子量の測定〕
ポリヒドロキシエーテル重合体の0.2重量%クロロホルム溶液を、GPC(ゲル・パーミエーション・クロマトグラフィー)〔昭和電工(株)製、System−11〕により測定し、重量平均分子量(Mw)を求めた。なお、測定値は標準ポリスチレンに換算した値である。
島津高化式フローテスター(CFT500A)を使用し、荷重100kgで直径0.1cm、長さ1cmのオリフィスを用いて測定した。
ポリヒドロキシエーテル重合体を250℃でプレス機によりプレス成形してシート状試験片(20mm×50mm、厚さ3mm)を作成し、プルフリッヒ屈折計を用いて20℃で屈折率(nd)およびアッベ数(νd)を求めた。
ポリヒドロキシエーテル重合体の厚さ5μmの薄膜をシリコンウエハー上に作成した。すなわち、該ポリヒドロキシエーテル重合体の1,1,1−トリクロロエタン溶液(20%濃度)をパーフルオロポリエチレン製フィルター(孔径0.45μm)で濾過した後、シリコンウエハー(直径5インチ)上に回転数2000rpm、5秒間の条件下でスピンコートした。その後、70℃で15分間乾燥して溶媒を留去させて、厚さ5μmの該重合体成形材料の薄膜を作成した。プリズムカプラ(メトリコン社製モデル2020)を使用して632nmレーザー光源で該薄膜のTEモード光およびTMモード光での屈折率を測定して、それらの差として複屈折率を求めた。
[製造例1]
[式(1−1)で表されるポリヒドロキシエーテル重合体の製造]
撹拌装置、還流冷却管、温度計を設けた内容量5リットルのフラスコに、9,9−ビス(4’−ヒドロキシフェニル)フルオレン350.41g(1.00モル)、エピクロロヒドリン 92.5g(1.00モル)、N,N−ジメチルイミダゾリジノン450gを秤取した。窒素雰囲気下、60℃で攪拌しながら該混合物に対して25%水酸化ナトリウム水溶液176.0g(NaOHとして1.10モル)を20分かけて滴下した。さらに80℃で4時間加熱して反応を続けた後、GPC分析を行ない重量平均分子量7.0×104であることを確認した上で、tert−ブチルフェノール 7.5g(0.05モル)を加えて60℃で2時間反応させた。その後、反応溶液を室温に冷却した後、反応溶液を水中に排出して析出した固形分を集めた。
[式(1−2)で表されるポリヒドロキシエーテル重合体の製造]
製造例1において、9,9−ビス(4’−ヒドロキシフェニル)フルオレンの代わりに、9,9−ビス(4’−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)フルオレンを使用する以外は、製造例1に記載の方法と同様にして行い、式(1−2)の繰り返し構造単位からなるポリヒドロキシエーテル重合体を得た。GPC分析の標準ポリスチレン換算で重量平均分子量 6.0×104(6.0万)であった。
屈折率(nd)1.640、アッベ数(νd)28.0であった。また該重合体の複屈折率はポリカーボネート樹脂と比較して低い値を示した。
(公知のポリメチルメタクリレート樹脂の物性測定)
既知であり市販品のポリメチルメタクリレート樹脂(一般光学用グレード)を用いて、上記方法に従って物性測定を行った。
(公知のポリカーボネート樹脂の物性測定)
既知であり市販品のポリカーボネート樹脂(汎用グレード;重量平均分子量5万)を用いて、上記方法に従って物性測定を行った。
上記方法で得られる本発明の光学部品は、射出成形によって高い生産性で製造され、透明性、光学特性に優れ(高屈折率、高アッベ数、低複屈折率)、かつ、熱的特性、機械的特性、耐薬品性などに優れており、これらの特性を考慮するとプラスチックレンズとしての使用が好ましい。特に、耐衝撃性、耐油性に優れていることから、視力矯正用眼鏡レンズとして好適に使用される。
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