JP4592004B2 - 位相差フィルムおよびその製造方法、ならびに該位相差フィルムを用いた画像表示装置 - Google Patents
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0.85<Re(480)/Re(590)<0.97 ・・・ (1)
1.02<Re(750)/Re(590)<1.20 ・・・ (2)
ここで、Re(480)、Re(590)およびRe(750)は、それぞれ、波長480nm、590nmおよび750nmにおける位相差フィルムの面内位相差である。
本発明の位相差フィルムは、nx>nz>nyの屈折率分布を有する。ここで、nxは位相差フィルムの遅相軸方向の屈折率であり、nyは位相差フィルムの進相軸方向の屈折率であり、nzは位相差フィルムの厚み方向の屈折率である。また、遅相軸は、フィルム面内の屈折率が最大になる方向をいい、進相軸は、面内で遅相軸に垂直な方向をいう。さらに、本発明の位相差フィルムのNz係数は、好ましくは0<Nz<1であり、さらに好ましくは0.2<Nz<0.8であり、特に好ましくは0.3<Nz<0.7であり、とりわけ好ましくは0.4<Nz<0.6であり、最も好ましくは約0.5である。Nz係数が0.5に近ければ近いほど、正面方向と斜め方向で位相差がほとんど変わらなくなる。なお、Nz係数は、Nz=(nx−nz)/(nx−ny)で表される。
0.85<Re(480)/Re(590)<0.97 ・・・ (1)
1.02<Re(750)/Re(590)<1.20 ・・・ (2)
ここで、Re(480)、Re(590)およびRe(750)は、それぞれ、波長480nm、590nmおよび750nmにおける位相差フィルムの面内位相差である。Re(480)/Re(590)は、さらに好ましくは0.88<Re(480)/Re(590)<0.97であり、最も好ましくは0.9<Re(480)/Re(590)<0.97である。Re(750)/Re(590)は、さらに好ましくは1.02<Re(750)/Re(590)<1.15であり、最も好ましくは1.03<Re(750)/Re(590)<1.10である。このような範囲を外れると、特定波長の光については満足な結果が得られるがそれ以外の波長の光については満足な結果が得られない場合がある。例えば、このような位相差フィルムをλ/4板として使用する場合、波長400〜750nmのうちの特定波長の直線偏光は完全な円偏光となるが、それ以外の波長では円偏光から大きくずれてしまう場合がある。
2.6≦X+Y≦3.0 ・・・(I)
0≦X≦2.5 ・・・(II)
中でも、セルロースアセテートプロピオネートが好ましく、特に1.9≦X≦2.5であり、0.1≦Y≦0.9であることが好ましい。アシル基で置換されていない部分は通常水酸基として存在している。
以下、本発明の位相差フィルムの製造方法の好ましい実施形態について説明する。この製造方法は、セルロースエステルを主成分とする高分子フィルムを(Tg+20℃)以上の温度で熱処理する工程と、該熱処理された高分子フィルムを厚み方向に配向処理を行う工程とを含む。まず、セルロースエステルを主成分とする高分子フィルムの形成方法について説明する。
原料のセルロースエステルをペレット状に成型し、熱風乾燥または真空乾燥した後、Tダイを用いてフィルム状に押出して、静電印加法等により冷却ドラムに密着させ、冷却固化させ、未延伸フィルムを得る。セルロースエステルの溶融温度は、好ましくは200〜280℃である。冷却ドラムの温度は、好ましくは90〜150℃である。
次に、上記B−1項の手順で得られたセルロースエステルフィルムを熱処理する。所定の条件で熱処理を行うことにより、フィルムの厚み方向の屈折率nzが大きくなる。具体的には、熱処理を行うことにより、熱処理前は3.5〜4.5程度であるNz係数が、好ましくは1<Nz<1.5、さらに好ましくは1<Nz<1.4、最も好ましくは1<Nz<1.3となる。その結果、後述のB−3項に記載の厚み方向の配向処理工程で、nx>nz>ny(すなわち、0<Nz<1)のフィルムが実現され得る。このように、あらかじめNzを1付近まで小さくする処理を行った後、厚み方向の配向処理を行うことにより、従来は決して実現できなかった逆分散特性とnx>nz>nyの屈折率分布との両立が可能となる。これは、本発明の大きな成果の1つである。
次に、上記熱処理したセルロースエスエルフィルムに、厚み方向の配向処理を行う。1<Nz<1.5程度のNz係数を有するフィルムに厚み方向の配向処理を行うことにより、nx>nz>ny(すなわち、0<Nz<1)を満足するフィルムが得られる。厚み方向の配向処理は、代表的には、セルロースエステルフィルムの片面または両面に収縮性フィルムを貼り付けて積層体を形成する工程と、該積層体を加熱延伸する工程とを含む。
図1(a)および(b)は、本発明の好ましい実施形態による偏光板の概略断面図である。偏光板30は、偏光子31と、偏光子31の片側(液晶セル側)に接着剤層(図示せず)を介して貼り付けられた位相差フィルム32とを有する。位相差フィルム32は、上記の本発明の位相差フィルムである。例えば、位相差フィルム32として、本発明の位相差フィルムをλ/4板として使用する場合には、偏光板30は円偏光板として用いられる。この場合、上記のように本発明の位相差フィルムは逆分散性を有するので、円偏光板30は、非常に広い波長域において直線偏光を円偏光に(または円偏光を直線偏光に)良好に変換し得る。また例えば、位相差フィルム32として、本発明の位相差フィルムをλ/2板として使用する場合には、偏光板30は偏光の向きを90°回転させる機能を有する。
D−1.液晶パネル
図2は、本発明の好ましい実施形態による液晶パネルの概略断面図である。液晶パネル100は、液晶セル20と、液晶セル20の少なくとも一方の側(図示例では両側)に配された位相差フィルム40、40’と、位相差フィルム40、40’の外側に配された偏光板30、30’とを備える。偏光板30、30’は、代表的には、その偏光子の偏光軸が互いに直交するようにして配置されている。液晶セル20は、一対のガラス基板21、21’と、該基板間に配された表示媒体としての液晶層22とを有する。一方の基板(アクティブマトリクス基板)21には、液晶の電気光学特性を制御するスイッチング素子(代表的にはTFT)と、このアクティブ素子にゲート信号を与える走査線およびソース信号を与える信号線とが設けられている(いずれも図示せず)。他方のガラス基板(カラーフィルター基板)21’には、カラーフィルター(図示せず)が設けられる。なお、カラーフィルターは、アクティブマトリクス基板21に設けてもよい。基板21、21’の間隔(セルギャップ)は、スペーサー(図示せず)によって制御されている。基板21、21’の液晶層22と接する側には、例えばポリイミドからなる配向膜(図示せず)が設けられている。
Symmetric Aligned Microcell)モードが挙げられる。以下、代表例として、IPSモードおよびVAモードについて説明する。
本発明は、液晶表示装置のみならず、エレクトロルミネッセンス(EL)ディスプレイ、プラズマディスプレイ(PD)、電界放出ディスプレイ(FED:Field Emission Display)のような自発光型表示装置にも適用され得る。ここでは、一例として有機エレクトロルミネッセンス(EL)表示装置について説明する。
試料フィルムの屈折率nx、nyおよびnzを、自動複屈折測定装置(王子計測機器株式会社製,自動複屈折計KOBRA21−ADH)により測定波長を変化させて計測し、それぞれの測定波長における面内位相差Re、厚み方向位相差Rthおよび波長分散性を算出した。さらに、Nz係数をRth/Reから算出した。測定温度は23℃であった。
(2)フィルムの平均屈折率の測定
アタゴ製の商品名「アッベ屈折率計」を用いて測定した。
(3)フィルムのガラス転移温度(Tg)の測定
Seiko Instrument社製のExtra6000を用いて測定した。
熱処理温度を160℃(Tg+15℃)としたこと以外は実施例1と同様にして、位相差フィルムを作製した。得られた位相差フィルムを実施例1と同様の評価に供した。結果を上記表1に示す。
熱処理温度を150℃(Tg+5℃)としたこと以外は実施例1と同様にして、位相差フィルムを作製した。得られた位相差フィルムを実施例1と同様の評価に供した。結果を上記表1に示す。
熱処理を施さなかったこと以外は実施例1と同様にして、位相差フィルムを作製した。得られた位相差フィルムを実施例1と同様の評価に供した。結果を上記表1に示す。また、得られたフィルムは、幅方向に遅相軸を有していた。さらに、斜め方向から見たときの位相差を測定した。角度と位相差との関係を図5に示す。
実施例1のN−TACフィルムを長手方向に自由端一軸延伸し、位相差フィルムを作製した。延伸温度は150℃、延伸倍率は1.35倍であった。得られた位相差フィルムを実施例1と同様の評価に供した。結果を上記表1に示す。
22 液晶層
30、30’ 偏光板
40、40’ 位相差フィルム
100 液晶パネル
600 有機EL表示装置
610 透明基板
620 透明電極
630 有機発光層
631 正孔注入層
632 発光層
633 電子注入層
640 対向電極
650 画素
Claims (11)
- セルロースエステルを主成分とする高分子フィルムから形成され、nx>nz>nyの屈折率分布を有し、かつ、波長400〜750nmにおける面内位相差Reが長波長ほど大きい、位相差フィルムの製造方法であって、
該セルロースエステルを主成分とする高分子フィルムを、(Tg+20℃)以上の温度で熱処理する工程と、該熱処理された高分子フィルムを、厚み方向に配向処理を行う工程とを含む、位相差フィルムの製造方法:
ここで、Tgは該セルロースエステルを主成分とする高分子フィルムのガラス転移温度である。 - 前記熱処理され厚み方向の配向処理を行う前の高分子フィルムのNz係数が、1<Nz<1.5である、請求項1に記載の製造方法。
- 前記厚み方向の配向処理工程が、前記セルロースエステルを主成分とする高分子フィルムの片面または両面に収縮性フィルムを貼り付けて積層体を形成する工程と、該積層体を加熱延伸する工程とを含む、請求項1または2に記載の製造方法。
- 請求項1から3のいずれかに記載の製造方法により得られる、セルロースエステルを主成分とする高分子フィルムから形成され、nx>nz>nyの屈折率分布を有し、かつ、波長400〜750nmにおける面内位相差Reが長波長ほど大きい、位相差フィルム。
- 前記面内位相差Reが下記式(1)および(2)で表される関係を満足する、請求項4に記載の位相差フィルム:
0.85<Re(480)/Re(590)<0.97 ・・・ (1)
1.02<Re(750)/Re(590)<1.20 ・・・ (2)
ここで、Re(480)、Re(590)およびRe(750)は、それぞれ、波長480nm、590nmおよび750nmにおける位相差フィルムの面内位相差である。 - 波長590nmにおける面内位相差Re(590)が60〜305nmである、請求項4または5に記載の位相差フィルム。
- Nz係数が、0.2<Nz<0.8である、請求項4から6のいずれかに記載の位相差フィルム。
- 光弾性係数の絶対値が2.3×10−11m2/N以下である、請求項4から7のいずれかに記載の位相差フィルム。
- 厚みが90〜100μmである、請求項4から8のいずれかに記載の位相差フィルム。
- 請求項4から9のいずれかに記載の位相差フィルムと偏光子とを含む、偏光板。
- 請求項4から6のいずれかに記載の位相差フィルム、および/または、請求項10に記載の偏光板を含む、画像表示装置。
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