JP2004221404A - 配線基板及びその製造方法、半導体装置及び電子モジュール並びに電子機器 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】配線基板の製造方法は、ランド30を有する配線20が形成された基板10に、ランド30の少なくとも中央部を露出させる開口42を有するレジスト40を、開口42の端部45の第1の部分44が基板10の上に配置され、開口42の端部45の第2の部分46がランド30の上に配置されるように形成した状態で、ランド30に対してメッキ処理を行うことを含む。
【選択図】 図1
Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、配線基板及びその製造方法、半導体装置及び電子モジュール並びに電子機器に関する。
【0002】
【発明の背景】
配線を保護すること等を目的として、配線基板に開口を有するレジストを形成することは従来から行われている技術である。そして、レジストの開口及び配線のランドの形状を調整することよって、より信頼性の高い配線基板を製造することが可能となる。
【0003】
本発明の目的は、信頼性の高い配線基板及びその製造方法、半導体装置及び電子モジュール並びに電子機器を提供することにある。
【0004】
【課題を解決するための手段】
(1)本発明に係る配線基板の製造方法は、ランドを有する配線が設けられた基板に、前記ランドの少なくとも中央部を露出させる開口を有するレジストを、前記開口の端部の第1の部分が前記基板の上に配置され、前記開口の端部の第2の部分が前記ランドの上に配置されるように形成した状態で、前記ランドに対してメッキ処理を行うことを含む。本発明によれば、レジストの開口の端部の少なくとも一部は基板の上に配置される。そして、レジストと基板との密着性が高いため、レジストの開口の端部の少なくとも一部に、基板との密着性が高い部分を形成することができる。そのため、レジストと基板、あるいは、レジストとランドとの間に不純物が入り込むことを防止することができ、信頼性の高い回路基板を製造することができる。
(2)本発明に係る配線基板の製造方法は、凹部を有する外形をなすランドを有する配線が形成された基板に、前記ランドの少なくとも中央部を露出させる開口を有するレジストを、前記ランドに外接する最も小さな矩形を基準として、前記矩形の各辺を覆い、前記ランドの前記凹部の一部が前記開口から露出するように形成することを含む。本発明によれば、ランドに外接する最も小さな矩形の各辺がレジストによって覆われるため、ランドの頂点のそれぞれがレジストによって覆われる。そのため、ランドが基板からはがれにくい、信頼性の高い回路基板を製造することができる。
(3)本発明に係る配線基板の製造方法は、ランドを有する配線が形成されてなる基板に、前記ランドの周縁部の一部及び中央部を露出する開口を有するレジストを、前記ランドの前記レジストに覆われた第1の辺の長さの合計が前記開口から露出した第2の辺の長さの合計よりも大きくなるように形成することを含む。
本発明によれば、ランドの外周のうちレジストに覆われた辺の長さの合計は、レジストに覆われていない辺の長さの合計よりも大きくなっている。そのため、ランドにハンダを形成する場合等に、ハンダがランドから流れ出すことを防止することが可能な、信頼性の高い配線基板を製造することができる。
(4)この配線基板の製造方法において、
前記ランドは凹部を有する外形をなし、
前記凹部の一部が前記開口から露出するように、前記レジストを形成してもよい。
(5)この配線基板の製造方法において、
前記レジストを形成した状態で、前記ランドに対してメッキ処理を行うことをさらに含んでもよい。
(6)本発明に係る配線基板は、上記配線基板の製造方法によって製造されてなる。
(7)本発明に係る配線基板は、基板と、
前記基板に形成された、凹部を有する外形をなすランドを有する配線と、
開口を有し、前記開口によって前記ランドの周縁部の一部及び中央部が露出するように前記配線を覆うレジストと、
を有し、
前記レジストは、前記ランドに外接する最も小さな矩形を基準として、前記矩形の各辺を覆い、前記ランドの前記凹部の一部を前記開口から露出するように形成されてなる。本発明によれば、ランドに外接する最も小さな矩形の各辺がレジストによって覆われるため、ランドの頂点のそれぞれがレジストによって覆われる。そのため、ランドが基板からはがれにくい、信頼性の高い回路基板を提供することができる。
(8)本発明に係る配線基板は、基板と、
前記基板に形成された、ランドを有する配線と、
開口を有し、前記開口によって前記ランドの周縁部の一部及び中央部が露出するように前記配線を覆うレジストと、を有し、
前記レジストは、前記ランドの前記レジストに覆われた第1の辺の長さの合計が前記開口から露出した第2の辺の長さの合計よりも大きくなるように形成されてなる。本発明によれば、ランドの外周のうちレジストに覆われた辺の長さの合計は、レジストに覆われていない辺の長さの合計よりも大きくなっている。そのため、ランドにハンダを形成する場合等に、ハンダがランドから流れ出すことを防止することが可能な、信頼性の高い配線基板を提供することができる。
(9)この配線基板において、
前記ランドは凹部を有する外形をなし、
前記凹部の一部は前記開口から露出してもよい。
(10)本発明に係る半導体装置は、上記配線基板を有する。
(11)本発明に係る電子モジュールは、上記半導体装置を有する。
(12)本発明に係る電子機器は、上記電子モジュールを有する。
【0005】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態について図面を参照して説明する。ただし、本発明は、以下の実施の形態に限定されるものではない。なお、図1は、本発明を適用した実施の形態に係る配線基板の一部拡大図であり、図2は、図1のII−II線断面図である。
【0006】
(配線基板)
本実施の形態に係る配線基板は、基板10を有する。基板10の材料は特に限定されるものではなく、有機系(例えばエポキシ基板)、無機系(例えばセラミック基板、ガラス基板)、又は、それらの複合構造(例えばガラスエポキシ基板)からなるものであってもよい。基板10は、ポリエステル基板やポリイミド基板などのフレキシブル基板であってもよい。基板10は、COF(Chip On Film)用の基板やTAB(Tape Automated Bonding)用の基板であってもよい。また、基板10の形状や厚みについても、特に限定されるものではない。
【0007】
配線基板は、複数の配線20を有する。配線20は、基板10の一方の面に形成されてもよく、あるいは両方の面に形成されてもよい。配線20とは、少なくとも2点の電気的な接続を図る部分を指し、独立して形成された複数の配線20を配線パターンと称してもよい。配線20は、単一層で構成されていてもよく、複数の層で構成されていてもよい。
【0008】
配線20は、ランド(パッド)30及びランド30に接続するライン22からなる。ランド30は、電子素子との電気的な接続を図るための端子であり、ライン22は、ランド30に電気信号を供給するための導電線である。ランド30は、表面実装用の端子であってもよく、貫通穴を有する挿入実装用の端子であってもよい。また、図1に示すように、ランド30は凸部33と凹部34とを有する外形をなしてもよい。
【0009】
配線基板は、開口42が形成されたレジスト40を有する。レジスト40は、開口42によってランド30の周縁部の一部及び中央部が露出するように配線20を覆っていてもよい。また、レジスト40は、ランド30に外接する最も小さな矩形32を基準として、矩形32の各辺を覆い、ランド30の凹部34の一部を開口42から露出するように形成されていてもよい。一般的に、複数の辺によって外周が形成されてなるランドは、その頂点が基板から剥離しやすい。しかし、本実施の形態に係る配線基板は、ランド30に外接する最も小さな矩形32の各辺がレジスト40によって覆われるため、凸部33がレジスト40に覆われ、ランド30の頂点のそれぞれがレジスト40によって覆われることになる。そのため、ランド30が基板10からはがれにくい、信頼性の高い回路基板を提供することができる。なお、レジスト40は、絶縁性を有する材料(例えば樹脂)で形成されてもよい。また、凹部34は矩形32の角部を避けて形成されてもよい。
【0010】
レジスト40は、ランド30のレジスト40に覆われた第1の辺36の長さの合計が、開口42から露出した第2の辺38の長さの合計よりも大きくなるように、形成されていてもよい。言い換えると、ランド30の外周のうち、開口42から露出した辺(第2の辺38)の長さの合計が、レジスト40に覆われた辺(第1の辺36)の長さの合計よりも小さくなるように、レジスト40が形成されてもよい。レジスト40が凸部33と凹部34とを有する外形をなす場合、凸部33の一部がレジスト40に覆われ、凹部34の一部が開口42から露出するように、レジスト40が形成されてもよい。ランドの外周を形成する辺のうちレジストの開口から露出する辺の長さが長い配線基板では、その露出する辺からランドの外へハンダが流れ出すことがあった。しかし、本実施の形態に係る配線基板においては、開口42から露出する第2の辺38の長さの合計が、レジスト40に覆われた第1の辺36の長さの合計よりも短くなっている。そのため、その後の工程でランド30に形成されるハンダが、ランド30の外(詳しくは、開口42から露出した基板10の上)に流れ出しにくくなる。そのため、設計通りにハンダを形成することが可能な、信頼性の高い配線基板を提供することができる。
【0011】
なお、配線20には金属皮膜50が形成されていてもよい(図3参照)。金属皮膜50は、ランド30の開口42から露出した部分にのみ形成されていてもよい。金属皮膜50は金によって形成されてもよい。
【0012】
図3には、上述した配線基板に半導体チップ1が搭載された半導体装置100を示す。また、図4は、半導体装置100を有する電子モジュール1000を示す図である。なお、電子モジュール1000は、半導体装置100と基板200とを有する。基板200は例えばガラス基板であってもよい。基板200は、電気光学パネル(液晶パネル、エレクトロルミネセンスパネル等)の一部であってもよい。電子モジュールを有する電子機器として、図5にはノート型パーソナルコンピュータ2000が示され、図6には携帯電話3000が示されている。
【0013】
(配線基板の製造方法)
以下、本発明を適用した実施の形態に係る配線基板の製造方法について説明する。
【0014】
はじめに、基板10にランド30を有する配線20を形成する。配線20は、例えば、銅箔等の金属箔を図示しない接着剤を介して基板10に貼り付けて、フォトリソグラフィを適用した後にエッチングして形成してもよい。この場合、3層基板が構成される。あるいは、接着剤なしで配線20を形成して2層基板を構成してもよい。例えばスパッタリングによって、配線20を形成してもよい。あるいは、無電解メッキで配線20を形成するアディティブ法を適用してもよい。
なお、ランド30が凸部33と凹部34とを有する外形をなすように、配線20を形成してもよい。
【0015】
次に、基板10に、ランド30の少なくとも中央部を露出させる開口42を有するレジスト40を形成する。レジスト40は、既に公知となっているいずれの方法(例えば、スクリーン印刷法など)で形成してもよい。レジスト40は、開口42の端部45の第1の部分44が基板10の上に配置され、端部45の第2の部分46がランド30の上に配置されるように形成してもよい。すなわち、開口42の端部45が、基板10の上に配置される第1の部分44とランド30の上に配置される第2の部分46とを有するように、レジスト40を形成してもよい。この場合、第1の部分44は基板10に接触し、第2の部分46はランド30に接触する(図2参照)。なお、ランド30が凸部33と凹部34とを有する外形をなしてもよく、この場合、凸部33の一部がレジスト40に覆われ、凹部34の一部が開口42から露出するように、レジスト40を形成してもよい。
【0016】
なお、レジスト40を、開口42によってランド30の周縁部の一部及び中央部32が露出するように形成してもよい。このとき、ランド30は、凹部34を有する外形をなしていてもよい。この場合、ランド30に外接する最も小さな矩形32を基準として、矩形32の各辺を覆い、ランド30の凹部34の一部を開口42から露出するように、レジスト40を形成してもよい。
【0017】
また、レジスト40を、ランド30のレジスト40に覆われた第1の辺36の長さの合計が、開口42から露出した第2の辺38の長さの合計よりも大きくなるように形成してもよい。このとき、ランド30は凸部33と凹部34とを有する外形をなしていてもよく、レジスト40を、凸部33の一部がレジスト40に覆われ、凹部34の一部が開口42から露出するように形成してもよい。
【0018】
次に、基板10にレジスト40が形成された状態で、ランド30に対してメッキ処理を行う。詳しくは、ランド30のレジスト40から露出した部分に金属皮膜50を形成する(図3参照)。金属皮膜50は、例えば金で形成してもよい。
メッキ処理は、電解メッキによって行ってもよい。先に説明したとおり、本実施の形態ではレジスト40は、開口42の端部45が基板10の上に配置される第1の部分44とランド30の上に配置される第2の部分46とを有するように形成されている。基板10とレジスト40とは密着性が高いため、レジスト40の開口42の端部45の少なくとも一部は、基板10と密着性の高い部分(第1の部分44)となる。そのため、レジスト40と基板10、あるいはレジスト40とランド30との間に不純物が入り込みにくくなる。メッキ処理工程について述べると、レジスト40と基板10あるいはレジスト40とランド30との間にメッキ液が浸透することを防止することができる。そのため、信頼性の高い配線基板を製造することができる。
【0019】
なお、本発明は、上述した実施の形態に限定されるものではなく、種々の変形が可能である。例えば、本発明は、実施の形態で説明した構成と実質的に同一の構成(例えば、機能、方法及び結果が同一の構成、あるいは目的及び効果が同一の構成)を含む。また、本発明は、実施の形態で説明した構成の本質的でない部分を置き換えた構成を含む。また、本発明は、実施の形態で説明した構成と同一の作用効果をそうする構成又は同一の目的を達成することができる構成を含む。
また、本発明は、実施の形態で説明した構成に公知技術を付加した構成を含む。
【図面の簡単な説明】
【図1】図1は、本発明を適用した実施の形態に係る配線基板を示す図である。
【図2】図2は、図1のII−II線断面図である。
【図3】図3は、本発明を適用した実施の形態に係る配線基板を有する半導体装置を示す図である。
【図4】図4は、本発明を適用した実施の形態に係る電子モジュールを示す図である。
【図5】図5は、本発明を適用した実施の形態に係る電子機器を示す図である。
【図6】図6は、本発明を適用した実施の形態に係る電子機器を示す図である。
【符号の説明】
10 基板、 20 配線、 30 ランド、 34 凹部、 36 第1の辺、 38 第2の辺、 40 レジスト、 42 開口、 44 第1の部分、 45 端部、 46 第2の部分
Claims (12)
- ランドを有する配線が設けられた基板に、前記ランドの少なくとも中央部を露出させる開口を有するレジストを、前記開口の端部の第1の部分が前記基板の上に配置され、前記開口の端部の第2の部分が前記ランドの上に配置されるように形成した状態で、前記ランドに対してメッキ処理を行うことを含む配線基板の製造方法。
- 凹部を有する外形をなすランドを有する配線が形成された基板に、前記ランドの少なくとも中央部を露出させる開口を有するレジストを、前記ランドに外接する最も小さな矩形を基準として、前記矩形の各辺を覆い、前記ランドの前記凹部の一部が前記開口から露出するように形成することを含む配線基板の製造方法。
- ランドを有する配線が形成されてなる基板に、前記ランドの周縁部の一部及び中央部を露出する開口を有するレジストを、前記ランドの前記レジストに覆われた第1の辺の長さの合計が前記開口から露出した第2の辺の長さの合計よりも大きくなるように形成することを含む配線基板の製造方法。
- 請求項1又は請求項3記載の配線基板の製造方法において、
前記ランドは凹部を有する外形をなし、
前記凹部の一部が前記開口から露出するように、前記レジストを形成する配線基板の製造方法。 - 請求項2、請求項3又は請求項3を引用した請求項4のいずれかに記載の配線基板の製造方法において、
前記レジストを形成した状態で、前記ランドに対してメッキ処理を行うことをさらに含む配線基板の製造方法。 - 請求項1から請求項5のいずれかの製造方法によって製造されてなる配線基板。
- 基板と、
前記基板に形成された、凹部を有する外形をなすランドを有する配線と、
開口を有し、前記開口によって前記ランドの周縁部の一部及び中央部が露出するように前記配線を覆うレジストと、を有し、
前記レジストは、前記ランドに外接する最も小さな矩形を基準として、前記矩形の各辺を覆い、前記ランドの前記凹部の一部を前記開口から露出するように形成されてなる配線基板。 - 基板と、
前記基板に形成された、ランドを有する配線と、
開口を有し、前記開口によって前記ランドの周縁部の一部及び中央部が露出するように前記配線を覆うレジストと、を有し、
前記レジストは、前記ランドの前記レジストに覆われた第1の辺の長さの合計が前記開口から露出した第2の辺の長さの合計よりも大きくなるように形成されてなる配線基板。 - 請求項8記載の配線基板において、
前記ランドは凹部を有する外形をなし、
前記凹部の一部は前記開口から露出してなる配線基板。 - 請求項6から請求項9のいずれかに記載の配線基板を有する半導体装置。
- 請求項10記載の半導体装置を有する電子モジュール。
- 請求項11記載の電子モジュールを有する電子機器。
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