JP2004191716A - 光射出面上に回折光学膜を有する発光素子とその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】発光素子(LD)はその光射出面上に形成された回折光学膜(DF)を含み、この回折光学膜は透光性DLC(ダイアモンド状炭素)層を含み、このDLC層は相対的に高屈折率の局所的領域と相対的に低屈折率の局所的領域を含む屈折率変調型回折格子を含んでいる。
【選択図】 図1
Description
【発明の属する技術分野】
本発明は光射出面上に回折光学膜を有する発光素子とその製造方法に関し、より具体的には、波長合分岐、パワー合分岐、偏光合分岐、波長板、または光アイソレータの機能を有する回折光学膜を光射出面上に有する発光素子とその製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
周知のように、光の回折を生じさせる回折光学素子は、種々の用途に利用され得る。たとえば、光通信分野で使用される波長合分波器、光カプラ、光アイソレータなどは、回折光学素子を利用して作製することができる。
【0003】
一般に、回折光学素子は、透光性基板上に回折格子層を形成することによって作製される。その回折格子層の構造的相違に基づいて、回折光学素子は屈折率変調型とレリーフ型とに大別される。
【0004】
図13は、屈折率変調型回折光学素子の一例を模式的な断面図で示している。なお、本願の図面において、幅や厚さのような寸法関係は図面の明瞭化と簡略化のために適宜に変更されており、実際の寸法関係を反映してはいない。この屈折率変調型回折光学素子は、透光性基板11上に形成された回折格子層12aを含んでおり、この回折格子層12aには屈折率変調構造が形成されている。すなわち、回折格子層12aにおいては、相対的に小さな屈折率n1を有する局所的領域と相対的に大きな屈折率n2を有する局所的領域とが周期的に交互に形成されている。そして、低屈折率n1の領域を通過した光と高屈折率n2の領域を通過した光との間で生じる位相差に起因して回折現象が生じ得る。
【0005】
屈折率変調構造を有する回折格子層12aは、たとえばエネルギビーム照射を受けることによって屈折率が増大する材料を用いて形成することができる。たとえば、Geがドープされた石英ガラスは、紫外線照射によってその屈折率が増大することが知られている。また、石英ガラスにX線を照射することによってもその屈折率が増大することが知られている。すなわち、透光性基板11上に屈折率n1の石英系ガラス層を堆積し、そのガラス層にエネルギビームを周期的パターンで照射して局所的に屈折率をn2に高めることによって、図13に示されているような回折格子層12aを形成することができる。
【0006】
図14は、レリーフ型回折光学素子の一例を模式的な断面図で示している。このレリーフ型回折光学素子は、透光性基板11上に形成された回折格子層12bを含んでおり、この回折格子層12bにはレリーフ構造が形成されている。すなわち、回折格子層12bにおいては、相対的に大きな厚さを有する局所的領域と相対的に小さな厚さを有する局所的領域とが周期的に交互に形成されている。そして、大きな厚さの領域を通過した光と小さな厚さの領域を通過した光との間で生じる位相差に起因して回折現象が生じ得る。
【0007】
レリーフ構造を有する回折格子層12bは、たとえば、透光性基板11上に石英系ガラス層を堆積し、フォトリソグラフィとエッチングを利用してそのガラス層を加工することによって形成され得る。
【0008】
図15は、屈折率変調型回折光学素子のもう1つの例を模式的な断面図で示している。図15の屈折率変調型回折光学素子は図13のものに類似しているが、図15中の回折格子層12c内には互いに異なる3レベルの屈折率n1、n2、n3を有する局所的領域が周期的に配列されている。このように、回折格子層12c内において3レベルの屈折率n1、n2、n3を有する局所的領域は、たとえば、基板11上に屈折率n1の石英系ガラス層を堆積して、そのガラス層に対して2通りの異なるエネルギレベルのエネルギビームを照射することによって形成され得る。
【0009】
多(マルチ)レベルの屈折率の局所的領域を含む回折格子によれば、単純な2(バイナリ)レベルの屈折率の領域を含む回折格子の場合に比べて、回折効率が向上し得る。ここで、回折効率とは、入射光のエネルギに対する回折光エネルギの総和の比率を意味する。すなわち、回折光を利用する観点からは、回折効率の大きい方が好ましい。
【0010】
図16は、レリーフ型回折光学素子のもう1つの例を模式的な断面図で示している。図16レリーフ型回折光学素子は図14のものに類似しているが、図16中の回折格子層12d内には互いに異なる3レベルの厚さを有する局所的領域が周期的に配列されている。このように、回折格子層12d内において3レベルの厚さを有する局所的領域は、たとえば、基板11上に石英系ガラス層を堆積して、そのガラス層に対してフォトリソグラフィとエッチングによる加工を2回繰り返すことによって形成され得る。このように多レベルの厚さを有する局所的領域を含む回折格子によっても、単純な2レベルの厚さを含む回折格子の場合に比べて、回折効率が向上し得る。
【0011】
なお、図13と図15においては回折格子層中の屈折率がステップ状に変化させられた屈折率変調型回折格子が示されたが、屈折率が連続的に変化させられた屈折率変調型回折格子も形成可能である。その場合には、屈折率を高めるために照射されるエネルギビームのエネルギ量を連続的に変化させればよい。
【0012】
図17は、光通信分野における回折光学素子の利用の一例を模式的に示してる。この図において、光ファイバF1、F2の端面にはそれぞれコリメータC1、C2が接合されている。連続波長の光ビームを射出し得る半導体レーザ素子LDの光射出面から射出された光ビームLは、回折光学素子DEによって、例えば波長λ1の光ビームと波長λ2の光ビームとに分割され得る。これは、光の回折角が波長λに依存して異なるからである。そして、λ1の波長を有する光ビームをコリメータC1から光ファイバF1内に入力し、λ2の波長を有する光ビームをコリメータC2から光ファイバF2内に入力することが可能である。すなわち、この場合には、回折光学素子DEの波長分岐機能が利用されている。
【0013】
もちろん、図17に示されているような回折光学素子DEにおいては、波長λ1の光ビームと波長λ2の光ビームとを逆方向に入射させれば、単一の光ビームLに合体させることも可能である。すなわち、図17における回折光学素子DEは波長合分岐機能を発揮し得る。そして、このような波長合分岐機能を有する回折光学素子は、波長分割多重(WDM)光通信において重要な役割を果たし得る。
【0014】
【発明が解決しようとする課題】
上述のような屈折率変調型回折光学素子は原理的には作製可能であるが、実用的な屈折率変調型回折光学素子を得ることは困難である。なぜならば、たとえば石英系ガラスにエネルギビームを照射することによって得られる屈折率変化量はせいぜい0.002程度であって、効果的な回折格子層を形成することが困難だからである。
【0015】
したがって、現在では、たとえば特許文献1の特開昭61−213802号公報や非特許文献1のApplied Optics, Vol.41, 2002, pp.3558-3566に述べられているように、回折光学素子としてレリーフ型が利用されるのが一般的である。しかし、レリーフ型回折光学素子の作製に必要なフォトリソグラフィやエッチングはかなり複雑な加工工程であり、相当の時間と手間を要する。また、そのエッチング深さを精度よく制御することが容易でない。さらに、レリーフ型回折光学素子においては、その表面に微細な凹凸が形成されているので、埃や汚れが付着しやすいという問題もある。
【0016】
他方、例えば図17に示されているような光分波回路においては、支持ベース(図示せず)上において半導体レーザLDと光ファイバF1、F2に関して約数mm径の回折光学素子DEを調芯して配置固定しなければならない。すなわち、従来の回折光学素子は半導体レーザや光ファイバとは別個の光学部品であり、取り扱いの手間が掛かると共に、光回路の小型化を困難にさせている。
【0017】
以上のような先行技術における状況に鑑み、本発明は、実用的で小さな回折光学膜を光射出面上に有する発光素子を効率的に低コストで提供することを目的としている。
【0018】
【特許文献1】
特開昭61−213802号公報
【0019】
【非特許文献1】
Applied Optics, Vol.41, 2002, pp.3558-3566
【0020】
【課題を解決するための手段】
本発明によれば、発光素子はその光射出面上に形成された回折光学膜を含み、この回折光学膜は透光性DLC(ダイアモンドライクカーボン:ダイアモンド状炭素)層を含み、このDLC層は相対的に高屈折率の局所的領域と相対的に低屈折率の局所的領域を含む回折格子を含んでいることを特徴としている。
【0021】
そのような回折光学膜は、複数の波長を含む1つの光ビームを波長に依存して複数の光ビームに分割することができ、かつ異なる波長を有する複数の光ビームを単一の光ビームに合体させことができる波長合分岐の機能を有し得る。
【0022】
また、そのような回折光学膜は、単一波長の光ビームを複数の光ビームに分割することができ、かつ単一波長の複数の光ビームを単一の光ビームに合体させことができるパワー合分岐の機能を有し得る。
【0023】
さらに、そのような回折光学膜は、単一波長の光ビームに含まれるTE波とTM波を分離しかつ合体させることができる偏光合分岐の機能を有し得る。さらに、そのような回折光学膜は、単一波長の光ビームに含まれるTE波またはTM波に対して波長板の機能を有し得る。
【0024】
さらに、上述の偏光分岐の機能を有する回折格子を含む第1のDLC層と波長板の機能を有する回折格子を含む第2のDLC層とを組合せて光アイソレータの機能を生じさせることも可能である。そのような光アイソレータの機能を有する回折光学膜の厚さが20μm以下の場合、コリメータや集光レンズを要することなくその回折光学膜を介して光ファイバ端面を発光素子の光射出部に当接接続することが可能である。なぜならば、20μm以下の小さな距離における光の発散はわずかだからである。なお、光アイソレータの機能を有する回折光学膜において、第1のDLC層と第2のDLC層との間に透光性の中間層が挿入されてもよい。
【0025】
さらに、そのような回折光学膜は、0.8μm〜2.0μmの範囲内の波長を含む光に対して作用し得る回折格子を含み得る。
【0026】
上述のような本発明による発光素子を製造するための方法においては、DLC層に所定のパターンでエネルギビームを照射して屈折率を高めることによって、回折格子に含まれる高屈折率領域を形成することができる。
【0027】
光アイソレータの機能を生じさせるための第1のDLC層と第2のDLC層との間に透光性の中間層が挿入される場合には、発光素子の光射出面上に第1のDLC層を堆積し、その第1のDLC層に第1の所定のパターンでエネルギビームを照射して高屈折率領域を形成し、透光性中間層と第2のDLC層を順次堆積し、その第2のDLC層に第2の所定のパターンでエネルギビームを照射して高屈折率領域を形成し、透光性中間層は第2の所定のパターンでエネルギビームを第2のDLC層に照射するときにそのエネルギビームが第1のDLC層に影響を及ぼすことを防止するように作用し得る。
【0028】
屈折率を高めるためのエネルギビームは、X線、電子線、およびイオンビームから選択され得る。また、DLC層は、プラズマCVD法によって堆積され得る。
【0029】
【発明の実施の形態】
図1は、本発明による発光素子の一例を模式的に図解している。この発光素子LDにおいては、その光射出面上に透光性DLC(ダイアモンド状炭素)層を含む回折光学膜DFが形成されている。そのDLC層は、イオンビームのようなエネルギビーム照射によって局所的に屈折率が高められて形成された屈折率変調型回折格子を含んでいる。したがって、発光素子LDから射出される光ビームは、回折光学膜DFによって回折され、その回折角に依存して例えば複数の光ビームL1、L2、L3などに分離される。
【0030】
(実施形態1)
図2から図4は、本発明の実施形態1における屈折率変調型回折光学膜の作製方法の一例を図解する模式的な断面図である。
【0031】
図2に示されているように、屈折率1.44を有しかつ5mm×5mmの主面を有するSiO2基板1上に、DLC層2がプラズマCVDによって2μmの厚さに堆積された。
【0032】
図3においては、DLC層2上に、リフトオフ法によって金マスク3が形成された。この金マスク3においては、幅0.5μmで長さ5mmの金ストライプが0.5μmの間隔を隔てて繰り返し配列されていた。すなわち、この金マスク3は、ライン・アンド・スペースのパターンを有していた。その後、金マスク3の開口部を介して、800keVの加速電圧の下でHeイオンビーム4が5×1017/cm2のドース量でDLC層2に直交する方向に注入された。
【0033】
その結果、DLC層2のうちでHeイオンが注入されなかった領域は1.55の屈折率を有していたが、Heイオンが注入された領域2aの屈折率は2.05に高められていた。このようなDLC層における屈折率変化は石英系ガラスにおいて得られる屈折率変化に比べてはるかに大きいものであり、十分に回折効率の大きな回折格子層の形成が可能となる。
【0034】
図4において、金マスク3がエッチングによって除去され、屈折率変調型回折光学膜DFが得られた。なお、この回折光学膜DFにおける回折格子層2は、屈折率1.55と2.05との2種類の領域を含んでおり、いわゆるバイナリ・レベルの回折格子層である。
【0035】
図5は、得られた屈折率変調型回折光学膜DFを波長合分岐器として使用する場合における波長分岐作用を模式的な断面図で図解している。この断面図において、黒い断面領域は相対的に高い屈折率の領域を表わし、白い断面領域は相対的に低い屈折率の領域を表わしている。図5に表わされているように、たとえば複数の波長λ1、λ2、λ3、λ4を含む単一の光ビームを回折光学膜DFに入射させれば、その回折光学膜を通過する光の回折角は波長に依存して互いに異なる。その結果、複数波長を含む単一の入射光ビームが、波長ごとに進行方向の異なる複数の回折光ビームに分離され得るのである。
【0036】
もちろん、図5中の矢印で示された入射光ビームと回折光ビームとの向きを逆にすれば、図5の回折光学膜DFが合波器として利用され得ることが明らかであろう。なお、回折光学膜が波長分岐器として使用される場合、光ビームは、一般に回折光学膜の表面の法線に対して0〜70度程度の範囲内の適切な角度で入射させられる。ただし、この角度範囲は高屈折領域がDLC層面に直交する方向に形成されている場合に関するものであり、たとえばイオンビームをDLC層面に対して斜め方向に照射して高屈折領域がDLC層面に傾斜して形成されている場合には、その傾斜角を考慮して光ビームの入射角が調整される。
【0037】
本実施形態1において、イオンビームの斜め照射によって幅0.5μmの金ストライプが0.5μmの間隔で繰り返し配列されたライン・アンド・スペースのパターンを有する回折光学膜DFが、図1に示されているように、ASE(増幅自然放出)レーザ素子LDの光射出面上に形成された。なお、ASEレーザ素子は、連続的な波長を含むレーザ光を射出し得るレーザ素子である。
【0038】
図6は、そのようなASEレーザ素子LDの光射出面上形成された回折光学膜DFにおける波長分岐結果の一例を模式的に示すグラフである。このグラフの横軸は回折光の波長(nm)を表し、縦軸は回折光の強度を任意単位で表わしている。この場合において、ASEレーザ素子LDから回折光学膜DFを介して射出された光ビームとして、図6に示されているように、1.5μmから1.6μmの間で20nm間隔で分布した波長を有する5本の回折光ビームが得られ、それら5本の回折光ビームはほぼ等しい強度を有していた。そして、このときの回折効率は約99%であり、十分に優れた波長分岐特性が得られた。
【0039】
なお、実施形態1においてはライン状の1次元的回折格子パターンが用いられているので、複数の回折光ビームは入射光ビームを含む1つの平面に沿って存在する。しかし、次に述べる実施形態2におけるように2次元的回折格子パターンを用いることによって、複数の回折光ビームの直交断面を2次元的に分布させ得ることは言うまでもない。
【0040】
(実施形態2)
図7は、実施形態2における回折光学膜の2次元的回折格子パターンを模式的な平面図で表わしている。実施形態2における回折光学膜も、実施形態1の場合と同様の工程で作製することができる。すなわち、図7において、黒色の領域はDLC層のうちでHeイオンビームが照射されて屈折率が高められた領域を表わし、白色の領域はHeイオンビームが照射されなかった領域を表わしている。黒色のパターンは、4μm×4μmの最小セルの組合せで形成されており、132μmの周期性を有している。すなわち、図7の回折格子パターンにおいて、最小線幅は4μmである。
【0041】
図8は、実施形態2における屈折率変調型回折光学膜を光カプラ(パワー分岐装置)として使用する場合のパワー分岐作用を模式的な断面図で図解している。すなわち、単一波長の光ビームを回折光学膜DFに入射させれば、その回折光学膜を通過する光の回折角は回折次数に依存して互いに異なる。その結果、単一波長の入射光ビームが、複数の回折光ビームに分離され得るのである。
【0042】
図9は、図7の光カプラによって図8のようにパワー分岐された複数の回折光ビームに直交する面内におけるビーム分布を示す平面図である。すなわち、パワーPを有する入射光ビームは、それぞれP/16のパワーを有する16本の回折光ビームに分岐され得る。
【0043】
本実施形態2において、図7に示されているような回折格子パターンを有する回折光学膜DFが、1.55μmの波長の光を射出するDFB(分布帰還型)レーザ素子の光射出面上に形成された(図1参照)。なお、DFBレーザ素子は、半値幅の非常に狭い単波長のレーザ光を射出し得るものである。この場合、そのDFBレーザ素子LDから回折光学膜DFを介して射出された光ビームとして、図9に示されているように4回対称に分布した16分岐の回折光ビームが得られた。
【0044】
なお、図9に示されているような複数の回折光ビームの分布パターンを実現し得る図7の回折格子パターンは、周知のようにフーリエ変換を利用して求めることができる。
【0045】
(実施形態3)
実施形態3においては、偏光合分岐の機能を有する回折光学膜を含む発光素子が作製された。この実施形態3においても、実施形態1の場合と同様の工程で、ライン・アンド・スペースのパターンを有するDLCの回折格子層が形成された。ただし、実施形態3においては、幅0.4μmの高屈折率領域が0.4μmの間隔を隔てて繰り返し配列させられた。
【0046】
図10は、実施形態3における屈折率変調型回折光学膜DFを偏光合分岐器として使用する場合の偏光分岐作用を模式的な断面図で図解している。すなわち、TE成分とTM成分とを含むTEM波を実施形態3における回折光学膜DFに入射させれば、TE波とTM波とはその偏光の相違に依存して互いに異なる回折角で回折される。たとえば、図10に示されているように、0次回折光としてTE波が得られ、−1次回折光としてTM波が得られる。こうして、TE波とTM波との分岐が可能になる。
【0047】
実施形態3において、イオンビームの斜め照射によって幅0.4μmの高屈折率領域が0.4μmの間隔を隔てて繰り返し配列させられた回折格子パターンを有する回折光学膜DFが、1.55μmの波長の光を射出するDFBレーザ素子LDの光射出面上に形成された(図1参照)。この場合、そのDFBレーザ素子LDから回折光学膜DFを介して射出された光ビームとして、TE波ビームとTM波ビームとに分岐することができた。
【0048】
(実施形態4)
実施形態4においては、波長板の機能を有する回折光学膜DFが、波長1.55μmの光を射出するDFBレーザ素子LDの光射出面上に形成された(図1参照)。この実施形態4における回折光学膜においても、実施形態1の場合と同様の工程で、ライン・アンド・スペースのパターンを有するDLCの回折格子層が形成された。ただし、実施形態4においては、幅0.2μmの高屈折率領域が0.2μmの間隔を隔てて繰り返し配列させられた。
【0049】
DFBレーザ素子から射出されるレーザ光は通常は直線偏光であるが、本実施形態4におけるように光射出面上に回折光学膜DF形成されたDFBレーザ素子から射出された光は、波長1.55μmの円偏光に変換されていた。すなわち、実施形態4における回折光学膜DFは1/4波長板として機能し、偏光変換作用を生じている。
【0050】
(実施形態5)
図11の模式的な斜視図は、実施形態5の発光素子に応用され得る回折光学素子の光アイソレータとしての機能を模式的に図解している。この回折光学素子においては、石英ガラス基板31の第1主面上に第1のDLC膜32が形成され、第2主面上に第2のDLC膜33が形成されている。そして、第1のDLC膜32には、実施例3と同様な回折格子が形成され、第2のDLC膜33には実施例4と同様な回折格子が形成されている。
【0051】
波長1.55μmのレーザビーム34を図11の回折光学素子に入射させれば、偏光分岐器として作用する第1の回折格子層32と1/4波長板として作用する第2の回折光学層33を通過した光35は、或る物体に反射されて戻ってきても、光アイソレータとして協働する1/4波長板33と偏光分岐器32を通過して戻ることができない。
【0052】
実施形態5において、図12の模式図に示されているように、DFBレーザ素子LDの光射出面上に光アイソレータの機能を有する回折光学膜DFが形成された。その回折光学膜においては、レーザ素子LDの光射出面上に第1のDLC層D1が形成され、この第1のDLC層D1には実施形態3と同様な偏光分岐機能を有する回折格子が形成された。その後、第1のDLC層D1上に、SiO2の中間層Mと第2のDLC層D2が順次形成された。なお、SiO2の中間層Mは、CVD方やEB(電子ビーム)蒸着法によって形成され得る。そして、第2のDLC層D2には実施形態4と同様な1/4波長板の機能を有する回折格子が形成された。このとき、中間層Mは、第2のDLC層D2にイオンビームが照射されるときに、そのイオンビームが第1のDLC層D1に入射することを確実に防止し得る。
【0053】
なお、図12において、回折光学膜DFは20μm以下の全厚を有している。このように回折光学膜DFが20μm以下の厚さを有する場合、光ファイバFの端面は、コリメータレンズや集光レンズを必要とすることなく、その回折光学膜を介して発光素子LDの光射出領域に当接させ得る。なぜならば、20μm以下の小さな距離では、光ビームの発散の影響を考慮する必要がないからである。
【0054】
参考のために、図18は、光通信において用いられる従来のアイソレータを模式的に示している。この図において、発光素子LDから射出された光ビームは、コリメータレンズCL1によって平行光にされる。その平行光は、アイソレータILに含まれる第1の偏光子P1、ファラデー回転子FR、および第2の偏光子P2を通過した後に、集光レンズCL2を介して光ファイバF内に導入される。
【0055】
図12と図18との比較から明らかなように、実施形態5においては、従来に比べて非常にコンパクトに、光アイソレータを介して光ファイバを発光素子LDに当接接続することができる。
【0056】
図12に示されているように、発光素子LDから回折光学膜DFを介して波長1.55μmの光ビームが光ファイバF内に導入された。この場合に、偏光分岐器として作用する第1の回折格子層D1と1/4波長板として作用する第2の回折光学層D2を通過した光L0は、光ファイバF内に導入された後に或る界面などで反射されて戻り光Lbとして戻ってきても、光アイソレータとして協働する1/4波長板D2と偏光分岐器D1を通過して発光素子F内に戻ることができなかった。このとき、第1の回折格子層D1への戻り光の通過光強度に対する入射光強度の比率である消光比として、40dB以上の値が得られた。
【0057】
なお、以上の実施形態ではDLC膜の屈折率を高めるためにHeイオン照射を利用する例について説明されたが、DLC膜の屈折率を高めるためには、他の種類のイオン照射、X線照射、電子線照射などをも利用することができる。また、上述の実施形態では1.5μmから1.6μmまでの波長範囲内の入射光に関して説明されたが、本発明においては、光通信分野において利用される可能性のある0.8μm〜2.0μmの範囲内のどのような波長を有する光に対しても使用し得る回折光学膜を有する発光素子を作製することができる。
【0058】
さらに、上述の実施形態ではバイナリレベルの回折格子層を含む回折光学膜を有する発光素子について説明されたが、DLC層中にマルチレベルや連続変調型の回折格子をも形成し得ることは言うまでもない。その場合には、たとえばエネルギレベルまたは/およびドース量を変化させたエネルギビームをDLC層に照射すればよい。
【0059】
さらに、上述の実施形態ではDFBレーザ素子とASEレーザ素子が例示されたが、本発明は例えばファブリ・ペロー型などの他の型式のレーザ素子にも適用し得ることは言うまでもない。また、本発明は、レーザ素子に限られず、発光ダイオードのような他の発光素子にも適用しうることも言うまでもない。
【0060】
【発明の効果】
以上のように、本発明によれば、実用的な屈折率変調型回折光学膜を光射出面上に有する発光素子を効率的に低コストで提供することができる。また、DLC層を利用することによって実現可能になった屈折率変調型回折光学膜においては、レリーフ型回折光学素子のように表面に微細な凹凸が存在しないので、その表面が汚染されにくくかつ汚染されてもその浄化が容易である。さらに、DLC層は高い耐磨耗を有するので、本発明の発光素子の光射出面上に形成された回折光学膜はその表面が破損されにくい観点からも好ましい。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明において光射出面上に回折光学膜を有する発光素子を示す模式図である。
【図2】本発明における回折光学膜の作製法の一例の過程を図解する模式的な断面図である。
【図3】本発明における回折光学膜の作製法の一例の過程を図解する模式的な断面図である。
【図4】本発明における回折光学膜の作製法の一例の過程を図解する模式的な断面図である。
【図5】本発明における波長合分岐器の波長分岐作用を図解する模式的な断面図である。
【図6】本発明における波長合分岐器によって分岐された光の波長と強度分布との関係の一例を示すグラフである。
【図7】本発明における光パワー分岐器における回折格子パターンの一例を示す模式的な平面図である。
【図8】本発明における光パワー分岐器におけるパワー分岐作用を図解する模式的な断面図である。
【図9】図7の光パワー分岐器によってパワー分岐された複数の回折ビームに直交する面内におけるビーム分布を示す平面図である。
【図10】本発明における偏光分岐器における偏光分岐作用を図解する模式的な断面図である。
【図11】本発明において光アイソレータとして作用し得る回折光学膜の機能を図解する模式的な斜視図である。
【図12】本発明による光アイソレータを端部に有する発光素子を図解する模式図である。
【図13】従来の屈折率変調型回折光学素子の一例を示す模式的な断面図である。
【図14】従来のレリーフ型回折光学素子の一例を示す模式的な断面図である。
【図15】従来の屈折率変調型回折光学素子のもう1つの例を示す模式的な断面図である。
【図16】従来のレリーフ型回折光学素子のもう1つの例を示す模式的な断面図である。
【図17】光通信における従来の波長分岐回路を示す模式図である。
【図18】光通信において用いられる従来のアイソレータを示す模式図である。
【符号の説明】
1 石英ガラス基板、2 DLC層、2a DLC層2中の高屈折率領域、3金マスク、4 Heイオンビーム、31 石英ガラス中間層、32 第1の回折格子層、33 第2の回折格子層、34 入射光、35出射光、LD 発光素子、DF 回折光学膜、D1 第1のDLC層、D2 第2のDLC層、M 石英ガラス中間層。
Claims (13)
- 光射出面上に回折光学膜を有する発光素子であって、
前記回折光学膜は透光性DLC層を含み、
このDLC層は相対的に高屈折率の局所的領域と相対的に低屈折率の局所的領域とを含む回折格子を含んでいることを特徴とする発光素子。 - 前記回折光学膜は、複数の波長を含む1つの光ビームを波長に依存して複数の光ビームに分割することができ、かつ異なる波長を有する複数の光ビームを単一の光ビームに合体させことができる波長合分岐の機能を有することを特徴とする請求項1に記載の発光素子。
- 前記回折光学膜は、単一波長の光ビームを複数の光ビームに分割することができ、かつ単一波長の複数の光ビームを単一の光ビームに合体させことができるパワー合分岐の機能を有することを特徴とする請求項1に記載の発光素子。
- 前記回折光学膜は、単一波長の光ビームに含まれるTE波とTM波を分離できかつ合体させることができる偏光合分岐の機能を有することを特徴とする請求項1に記載の発光素子。
- 前記回折光学膜は、単一波長の光ビームに含まれるTE波またはTM波に対して波長板の機能を有することを特徴とする請求項1に記載の発光素子。
- 光射出面上に回折光学膜を有する発光素子であって、
前記回折光学膜は前記光射出面上に順次積層された第1の透光性DLC層と第2の透光性DLC層を含み、
前記第1と第2のDLC層の各々は相対的に高屈折率の局所的領域と相対的に低屈折率の局所的領域とを含む回折格子を含んでおり、
前記第1のDLC層は単一波長の光ビームに含まれるTE波とTM波を偏光分離することができる偏光分岐の機能を有し、
前記第2のDLC層は単一波長の光ビームに含まれるTE波またはTM波に対して波長板の機能を有し、
前記第1と第2のDLC層は協働して光アイソレータの機能を有することを特徴とする発光素子。 - 前記回折光学膜は20μm以下の全厚を有していることを特徴とする請求項6に記載の発光素子。
- 前記第1のDLC層と前記第2のDLC層との間に透光性中間層が挿入されていることを特徴とする請求項6または7に記載の発光素子。
- 前記回折光学膜は0.8μm〜2.0μmの範囲内の波長を含む光に対して作用し得る前記回折格子を含んでいることを特徴とする請求項1から8のいずれかに記載の発光素子。
- 請求項1から9のいずれかに記載された発光素子を製造する方法あって、前記DLC層に所定のパターンでエネルギビームを照射して屈折率を高めることによって、前記回折格子に含まれる前記高屈折率領域を形成することを特徴とする発光素子の製造方法。
- 請求項8に記載された発光素子を製造する方法あって、
前記前記発光素子の光射出面上に前記第1のDLC層を堆積し、
その第1のDLC層に第1の所定のパターンでエネルギビームを照射して屈折率を高めることによって前記高屈折率領域を形成し、
前記透光性中間層と前記第2のDLC層を順次堆積し、
その第2のDLC層に第2の所定のパターンでエネルギビームを照射して屈折率を高めることによって前記高屈折率領域を形成し、
前記透光性中間層は前記第2の所定のパターンでエネルギビームを前記第2のDLC層に照射するときにそのエネルギビームが前記第1のDLC層に影響を及ぼすことを防止するように作用することを特徴とする発光素子の製造方法。 - 前記エネルギビームは、X線、電子線、およびイオンビームから選択されることを特徴とする請求項10または11に記載の発光素子の製造方法。
- 前記DLC層はプラズマCVD法によって堆積されることを特徴とする請求項10から12のいずれかに記載の発光素子の製造方法。
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