JP2004109421A - ドライフィルムフォトレジスト用フィルム - Google Patents

Abstract

【課題】レジストの高解像度を達成すると共に、しわ、バタツキなどの走行性の不良を起こさない易滑性を付与したドライフィルムフォトレジスト用フィルムを提供すること。
【解決手段】波長３６５ｎｍにおける光線透過率が５％以上７５％未満であるドライフィルムフォトレジスト用フィルム。
【選択図】　なし

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、ドライフィルムフォトレジスト（以下、ＤＦＲと略記することがある。）用フィルムに関するものであり、さらに詳しくは、ＤＦＲの支持体として用いられ、透明性、易滑性及び剥離性に優れ、ファインパターン回路形成性に優れたＤＦＲ用フィルムに関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、ＩＴ産業機器の小型／軽量化さらには高性能化／低コスト化に伴い、回路形成技術においても、より高密度化、高解像度が求められるようになってきた。ドライフィルムフォトレジストは、この回路形成技術に用いられるものであり、その役割期待が非常に大きい。
【０００３】
一般にＤＦＲは、感光層（レジスト）が支持体としてのポリエステルフィルムと保護フィルムである低密度ポリエチレンフィルムに挟まれたサンドイッチ構造をしている。ここで感光層は、現像時に光反応層のみが溶剤に溶解するネガ型レジストであることが多い。以下に一般的な操作を記載する。すなわち、保護フィルムを剥離しながら、導電性基板にポリエステルフィルムが貼り合わされた状態でレジストをラミネートし、次に導体回路を焼き付けたレチクルをポリエステルフィルム上に置き、その上からレジストに紫外線（例えば、波長３６５ｎｍにピークを有するＩ線）を照射する。その後、レチクル及びポリエステルフィルムを剥離し、溶剤によって光未反応レジスト層を除去する。さらに、酸などでエッチングを行うと露出した導電性基板が溶解し、レジストが光反応して除去されなかった部分の導電性基板はそのまま残ることになる。その後、残ったレジスト層を除去すれば、基板上に導体回路が形成される事となる。従って、支持体としてのポリエステルフィルムは、レチクルからの３６５ｎｍ近傍の紫外線を邪魔することなく、正確にレジストに照射させなければならない。すなわち、ポリエステルフィルムの要求特性としては、紫外線３６５ｎｍにおける光の透過性が良く、ヘイズ値が低いことである。
【０００４】
しかしながら、ポリエステルフィルムには。通常、走行性、巻き特性を付与する易滑材としての粒子がフィルム内部に存在するため露光工程である紫外線照射の際、粒子による光散乱を引き起こしてしまうためにレジストの解像度を低下させてしまうという問題が生じている。
【０００５】
従来より、この相反する易滑性及び高解像度化を両立するフィルム粒子設計が提案されてきたので、以下に説明する。
【０００６】
少なくとも片側の最表層に平均粒径が０．０１〜３．０μｍの粒子を含有する二軸配向積層ポリエステルフィルムであって、当該最表層表面のＲａが０．００５μｍ以上、Ｒｔが１．５μｍ未満であり、かつフィルムへーズが１．５％以下であることを特徴とするフォトレジスト用積層ポリエステルフィルムが提案されている（例えば特許文献１参照）。
【０００７】
また、平均粒径が０．０１〜０．１μｍの一次粒子の凝集体であって、細孔容積が０．５〜２．０ｍｌ／ｇ　、平均粒径が０．１〜５μｍの多孔質シリカ粒子を０．０１〜０．１重量％含有し、該多孔質シリカのうち、５０μｍ以上の大きさの粗大凝集粒子の個数が１０個／ｍ^２以下であることを特徴とするフォトレジスト用ポリエステルフィルムが提案されている（例えば特許文献２参照）。
【０００８】
また、厚み１０μｍ以上のフィルム支持体にフォトレジスト感光層を積層した感光性積層体であって、該フィルム支持体が、平均粒径０．０１〜０．１μｍの一次粒子の凝集体である多孔質シリカ粒子を含有するが、フィルム中での５０μｍ以上の大きさの粗大凝集粒子の個数が１０個／ｍ^２以下であり、厚み２５μｍにおけるフィルムヘーズが５％以下である二軸延伸ポリエステルフィルムであることを特徴とする感光性積層体も提案されている（例えば特許文献３参照）。
【０００９】
さらに、互いに平均粒径の異なる２種以上の不活性粒子を含むポリエステル組成物からなる厚み１．０〜３０．０μｍの二軸配向ポリエステルフィルムであって、該不活性粒子は、それぞれＡｌ，Ｓｉ，Ｃａ及びＭｇから選ばれた少なくとも１種以上の元素を含み、該不活性粒子の少なくとも１種は、１次粒径が凝集して形成される凝集粒子であり、該フィルム表面の中心線平均粗さ（ＳＲａ）及び１０点平均粗さ（ＳＲｚ）がそれぞれ、１０〜８０ｎｍ、７００〜１５００ｎｍであり、フィルムーフィルム間のエア抜け速度が、２０〜１２０ｍｍＨｇ／ｈｒであり、かつ１／２インチ幅にスリットしたフィルムロール巻き取り速度が２５０ｍ／ｍｉｎの時の側面ずれ幅が０〜５００μｍであることを特徴とするフォトレジスト用二軸配向ポリエステルフィルムも提案されている（例えば特許文献４参照）。
【００１０】
最近では、厚みが１２μｍ以上２５μｍ以下の二軸配向ポリエステルフィルムの片面または両面に易滑層を設けた積層フィルムであって、該積層フィルムのへーズ値が１％以下、かつ３６５ｎｍの光線透過率が８６％以上であることを特徴とするドライフィルムレジスト用ポリエステルフィルムが提案されている（例えば特許文献５参照）。
【００１１】
しかしながら、これらの提案においても、近年の高解像度化と易滑性の相反する関係を両立することは難しく、現像後のレジストのパターニングに窪み、剥がれ、削れなどの欠陥を有し、さらに走行性においても、しわ、バタツキ、空気の噛み込みなどの問題が生じているため、高解像度化への品質向上、生産性向上の要求が続いているのが現状である。
【００１２】
【特許文献１】
特開平７−３３３８５３号公報（第１−２頁）
【００１３】
【特許文献２】
特開平１０−４６０１２号公報（第１−２頁）
【００１４】
【特許文献３】
特開平１０−１２８９３０号公報（第１−２頁）
【００１５】
【特許文献４】
特開２０００−２７５８６０号公報（第１−２頁）
【００１６】
【特許文献５】
特開２００２−６２６６１号公報（第１−２頁）
【００１７】
【発明が解決しようとする課題】
かかる事情下に鑑み、本発明は、レジストの高解像度を達成すると共に、しわ、バタツキなどの走行性の不良を起こさない易滑性を付与したドライフィルムフォトレジスト用フィルムを提供することを目的とする。
【００１８】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、上記課題を解決すべく鋭意検討した結果、解像度を低下させる主因である波長３６５ｎｍにおけるヘイズ値を粒子の添加量及び粒径などを調整することによって減少させるのではなく、該波長の光線透過率を減少させることによって該ヘイズ値を減少させられることを見出したのである。この発見によって、本発明者らは、本発明を完成するに至った。
【００１９】
すなわち、本発明は、波長３６５ｎｍにおける光線透過率が５％以上７５％未満であるドライフィルムフォトレジスト用フィルムをその骨子とする。
【００２０】
【本発明の実施の形態】
以下、本発明について、更に詳細に説明をする。
【００２１】
本発明のフィルムの主原料としては樹脂が使用される。ここで、用いられる樹脂は、一般に光学用途に用いられる透明性ポリマーまたは多少着色した透明性ポリマーであっても良い。例えば、ポリメタクリル酸メチル、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリスチレン、芳香族や脂肪族のポリアミドやポリエステル、ポリイミドなどである。
【００２２】
特に、汎用的で熱機械特性に優れたポリエステルを主成分とするフィルムであることが好ましい。ポリエステルとは、芳香族ジカルボン酸または脂肪族ジカルボン酸とジオールを主たる構成成分とする単量体からの重合により得られるポリエステルである。ここで、主たるとは、５０モル％以上であることを言う。
【００２３】
芳香族ジカルボン酸としては、例えば、テレフタル酸、イソフタル酸、フタル酸、１，４−ナフタレンジカルボン酸、１，５−ナフタレンジカルボン酸、２，６−ナフタレンジカルボン酸、４，４′−ジフェニルジカルボン酸、４，４′−ジフェニルエーテルジカルボン酸、４，４′−ジフェニルスルホンジカルボン酸等を挙げることができる。また、脂肪族ジカルボン酸としては、例えば、アジピン酸、スベリン酸、セバシン酸、ドデカンジオン酸等を挙げることができる。中でも好ましくはテレフタル酸とイソフタル酸を挙げることができる。これらの酸成分は１種のみ用いてもよく、２種以上併用してもよく、さらには、ヒドロキシ安息香酸等のオキシ酸等を一部共重合してもよい。
【００２４】
また、ジオール成分としては、例えば、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、１，３−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、１，３−ブタンジオール、１，４−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、１，２−シクロヘキサンジメタノール、１，３−シクロヘキサンジメタノール、１，４−シクロヘキサンジメタノール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ポリアルキレングリコール、２，２−ビス（４−ヒドロキシエトキシフェニル）プロパン等を挙げることができる。中でもエチレングリコールが好ましく用いられる。これらのジオール成分は１種のみ用いてもよく、２種以上併用してもよい。
【００２５】
本発明において、ポリエステルとして、好ましくは、ポリエチレンテレフタレート、エチレンテレフタレートとエチレンイソフタレートとの共重合体、ポリエチレンンナフタレート及びその共重合体、ポリブチレンテレフタレート及びその共重合体、ポリブチレンナフタレート及びその共重合体、さらにはポリヘキサメチレンテレフタレート及びその共重合体、ポリヘキサメチレンナフタレート及びその共重合体等を挙げることができ、特にポリエチレンテレフタレートが好ましい。これらのポリエステルは単独ポリマとして使用しても良いし、本発明効果を損なわない範囲で、共重合やブレンド体で使用しても良い。
【００２６】
本発明のフィルムの主原料として使用する樹脂は、公知の製造方法で製造することができる。
【００２７】
したがって、本発明で好ましく使用されるポリエステルは、従来から知られている方法で製造することができる。例えば、酸成分をジオール成分と直接エステル化反応させた後、この反応の生成物を減圧下で加熱して余剰のジオール成分を除去しつつ重縮合させることによって製造する方法や、酸成分としてジアルキルエステルを用い、これとジオール成分とでエステル交換反応させた後、上記と同様に重縮合させることによって製造する方法等がある。この際、必要に応じて、反応触媒として従来公知のアルカリ金属、アルカリ土類金属、マンガン、コバルト、亜鉛、アンチモン、ゲルマニウム、チタン化合物等を用いることもできる。
【００２８】
ポリエステルには、必要に応じて各種添加剤を添加しても良い。例えば、滑材としては、有機、無機滑材を用いることができる。その形状としては、凝集粒子、真球状粒子、数珠状粒子、コンペイト状粒子、鱗片状粒子などの形状粒子を使うことができる。また、その材質としては、無機系としては、酸化珪素、炭酸カルシウム、酸化チタン、アルミナ、ジルコニア、珪酸アルミニウム、マイカ、クレー、タルク等を、有機系としては、ポリイミド系樹脂、オレフィンあるいは変性オレフィン系樹脂、架橋ないし無架橋ポリスチレン系樹脂、架橋ないし無架橋アクリル樹脂、フッ素系樹脂、シリコン系樹脂等の樹脂、また有機滑材としてステアリン酸アミド、オレイン酸アミド、フマール酸アミドなどの各種アミド化合物を挙げることができる。
【００２９】
本発明のドライフィルムフォトレジスト用フィルムは、波長３６５ｎｍにおける光線透過率が５％以上７５％未満であることが必要である。波長３６５ｎｍにおける光線透過率が、５％未満であると、光量不足によるレジストの光未反応箇所が、現像時に溶解するため、レジストの欠陥である窪み、剥がれ、削れ等の問題が生じやすい。また、７５％以上であると、紫外線領域の吸収効果が十分に発揮されないためヘイズ値を減少させることができない。より好ましくは、波長３６５ｎｍにおける光線透過率が１０％以上７５％未満であることである。
【００３０】
波長３６５ｎｍにおける光線透過率を５％以上７５％未満に制御する方法は特に限定されないが、例えば、以下に記載する方法が好ましく使用される。
【００３１】
本発明のフィルムは、波長３６５ｎｍにおいて光吸収特性を有する成分を含むことが好ましい。波長３６５ｎｍにおいて光吸収特性を有する成分とは、例えば、紫外線吸収剤がある。耐候剤や蛍光増白剤などと呼ばれることもある。紫外線吸収剤は、有機と無機とに大別されるが、後者に相当するＴｉＯ_２やＺｎＯの微粉末は主に紫外線散乱剤に分別されるので、ここでの紫外線吸収剤は特に有機系を意味する。
【００３２】
本発明において好ましく使用される紫外線吸収剤について、さらに説明する。紫外線吸収剤は化合物構造から、パラアミノ安息香酸系、桂皮酸系、ベンゾフェノン系、サリチル酸系などに分けられる。また、吸収波長帯によりＵＶ−Ａ吸収剤とＵＶ−Ｂ吸収剤（２８０〜３２０ｎｍ）があるが、上市されている紫外線吸収剤は、ほとんどがＵＶ−Ｂ吸収剤である。
【００３３】
本発明に使用できるＵＶ−Ａ吸収剤としては、ベンゾフェノン誘導体，ジベンゾイルメタン誘導体、ヒダントイン誘導体などがある。
【００３４】
波長３６５ｎｍにおいて光吸収特性を有する成分の具体例としては、例えば、（ＰＡＢＡ系）パラアミノ安息香酸、パラアミノ安息香酸グリシル、パラジメチルアミノ安息香酸イソアミル、２−エチルヘキシル−４−ジメチルアミノ安息香酸、パラアミノ安息香酸エチル　（桂皮酸系）パラメトキシ桂皮酸２−エトキシエチル、パラメトキシ桂皮酸エチルヘキシル、桂皮酸ジイソプロピルエチル、桂皮酸ジイソプロピルメチル、ジパラメトキシ桂皮酸オクタン酸グリセリル、メトキシ桂皮酸イソプロピル、メトキシ桂皮酸パライソプロピル−Ｄ，Ｌ−桂皮酸イソプロピルエステル混合物、パラメトキシ桂皮酸カリウム　　（サルチル酸系）サリチル酸ジプロピレングリコールサリチル酸、サリチル酸２−エチルヘキシル、サリチル酸３，３，５−トリメチル−シクロヘキシルなどを挙げることができる。
【００３５】
本発明において、波長３６５ｎｍにおいて光吸収特性を有する成分がベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系及びトリアジン系であることが好ましい。
【００３６】
ベンゾフェノン系としては、例えば、４−メトキシ−２−ヒドロキシベンゾフェノン、４−メトキシ−２−ヒドロキシベンゾフェノン−５−スルホン酸、４−メトキシ−２−ヒドロキシベンゾフェノン−５−スルホン酸（トリハイドレイト）、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、４，４’−ジメトキシ２，２’−ジヒドロキシベンゾフェノン、４，４’−ジメトキシ−２，２’−ジヒドロキシ−５，５’−ジスルホン酸ベンゾフェノンジナトリウム、２，２’−４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、ヒドロキシメトキシベンゾフェノンスルホン酸ナトリウム　、オクタベンゾン、　２−ヒドロキシ−４−ｍ−オクトキシ−ベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ｎ−オクトキシベンゾフェノン　などが挙げられる。
【００３７】
また、ベンゾトリアゾール系としては、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−ｐ−クレゾール、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−６−ビス（１−メチル−１−フェニルエチル）フェノール、２−［５−クロロ（２Ｈ）−ベンゾトリアゾール−２−イル］−４−メチル−６−（ｔｅｒｔ−ブチル）フェノール、２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−６−（５−クロロベンゾトリアゾール−２−イル）フェノール、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４，６−ｔｅｒｔ−ペンチルフェノール、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェノール、２，２’−メチレンビス［６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェノール］、２（２’−ヒドロキシ−３’−ｔｅｒｔ−ブチル−５’−メチルフェニル）５クロロベンゾトリアゾール　、　２（２’−ヒドロキシ−３’５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−フェニル）５クロロベンゾトリアゾール　、２（２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール　、２−（２−ヒドロキシ−５−オクチルフェニル）−ベンゾトリアゾ−ルなどが挙げられる。
【００３８】
さらに、トリアジン系としては、２−（４，６−ジフェニル−１，３，５−トリアジン−２−イル）−５−［（ヘキシル）オキシ］−フェノール、２−［４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン−２−イル］−５−（オクチルオキシ）フェノ−ル、１，６−ヘキサンジアミン，Ｎ，Ｎ’−ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）、ポリマーズモルホリン−２，４，６−トリクロロ−１，３，５−トリアジンなどが挙げられるが、これらに限定されない。上記した成分は、２種以上を混合して使用することもできる。
【００３９】
波長３６５ｎｍにおいて光吸収特性を有する成分は、本発明のフィルムを構成する樹脂に含有させて用いられる。含有させる形態は特に限定されず、例えば、樹脂中に分散させても良いし、表面近傍に高濃度で付着させるなどの方法を採用しても良い。好ましくはポリエステル中に分散させて使用される。
【００４０】
本発明のフィルムは、単層でも積層構造でもあっても良いが、フィルム表面の粒子の突起を制御する観点から、２層以上の積層構造であるのが好ましい。さらに、積層構造の場合、レジストに貼り合わせる面は平滑な面であることが好ましく、またその反対側の面は易滑性の機能を有する面であることが好ましいため、コスト面から考えて２層構造がより好ましい。
【００４１】
本発明のフィルムの厚みは、支持体としてのフィルムの強さの観点から、厚みが５以上２５μｍ以下であることが好ましい。
【００４２】
本発明のドライフィルムフォトレジスト用フィルムの製造方法は特に限定されず、例えば、溶融ポリマーを押出機に供給して、Ｔ型口金等を用いてシート状に溶融押出し、その後、キャスティングドラム上で冷却固化して未延伸フィルムとし、この未延伸フィルムを樹脂組成物のガラス転移点（Ｔｇ）以上の温度で延伸する方法などで得ることができる。この際の延伸の方法は、公知の如く長手方向に延伸した後に幅方向に延伸する方法、幅方向に延伸した後に長手方向に延伸する方法で行えばよく、長手方向の延伸、幅方向の延伸を複数回組み合わせて行なってもよい。本発明によれば、延伸温度及び延伸倍率はいくらであっても良いが、通常のポリエステルフィルムの場合、延伸温度は８０℃以上１３０℃以下であり、延伸倍率は２倍以上５倍以下が好ましい。次いで、この延伸されたフィルムを熱処理する。この熱処理は、延伸温度より高く、融点より低い温度で行うのが一般的である。通常のポリエステルの場合、１３０℃ないし２３０℃の範囲で行うのことが好ましい。この際、フィルムの熱寸法安定性を付与するために弛緩熱処理を施すことも好ましい。
【００４３】
本発明のフィルムは、ドライフィルムフォトレジスト用フィルムとして用いられる。
【００４４】
本発明において、フィルムの特性は以下の方法で測定した。
【００４５】
（１）平均粒径
粒子を含有したフィルムの断面を走査型電子顕微鏡ＳＥＭ（日立製作所製Ｓ−２１００Ａ）を用いて、倍率２０００〜１００００倍で観察した。観察箇所を変えて粒子個数１００個以上について粒径を測定し、その平均値を平均粒径とした。
【００４６】
（２）粒子濃度
ポリエステルを溶解し粒子は溶解させない溶媒を選択し、粒子をポリエステルから遠心分離し、粒子の全体重量にたいする比率（重量％）をもって粒子濃度とした。
【００４７】
（３）易滑性（静止摩擦係数μｓ、動摩擦係数μｄ）
フィルム同士の摩擦係数は、ＡＳＴＭ−Ｄ−１８９４−６３に準じ、静摩擦係数μｓ、動摩擦係数μｄを新東科学（株）製表面性測定機ＨＥＩＤＯＮ−１４ＤＲを用いて、サンプル移動速度２００ｍｍ／ｍｉｎ、荷重２００ｇ、接触面積６３．５ｍｍ×６３．５ｍｍの条件で測定し、アナライジングレコーダＴＹＰＥ：ＨＥＩＤＯＮ３６５５Ｅ−９９で記録し評価し、以下の基準により易滑性を判定した。○と△が合格であり、×が不合格である。
○：μｄ＝０．７未満
△：μｄ＝０．７以上〜１．０未満
×：μｄ＝１．０以上。
【００４８】
（４）可視光における光線透過率及びヘイズ
フィルム幅方向の中央部から、長手４．０×幅３．５ｃｍの寸法に切り出したものをサンプルとし、光線透過率及びヘイズは、ヘイズメータ（スガ試験機製ＨＧＭ−２ＤＰ（Ｃ光用））を用いて測定した。
【００４９】
（５）波長３６５ｎｍにおける光線透過率及びヘイズ
上記と同様のサンプルを日立製作所（株）製の分光光度計Ｕ−３４１０を用いて、波長３６５ｎｍにおける光線透過率及びヘイズを測定した。だだし、ヘイズ（Ｈ_{３６５ｎｍ}）は、分光光度計の受光部のユニットを積分球を用いた全光線透過率（Ｔ_１）と用いない直線透過率（Ｔ_２）とを測定し、その差を全光線透過率で除することにより求めた。以下の式（１）にその求め方を示す。
Ｈ_{３６５ｎｍ}＝（Ｔ_１−Ｔ_２）／Ｔ_１　×１００　　　・・・式（１）。
【００５０】
（６）レジスト解像度の目視検査
ポリエステルフィルムによるレジストの解像度の目視評価方法は、以下のような手順で行った。
１．片面鏡面研磨した６インチＳｉウエハー上に、東京応化製のネガレジストＰＭＥＲ　Ｎ−ＨＣ６００を塗布し、大型スピナーで回転させることによって厚み１０μｍのレジストを得た。
２．窒素循環の通風オーブンを用いて７０℃の温度条件で、約２０分間の前熱処理を行った。
３．ポリエステルフィルムをゴム製のローラーを用いて、レジスト上面にラミネートし、その上にクロム金属でパターニングされたレチクルを挟んだ状態でＩ線ステッパーを用いて露光を行った。
４．レジストからフィルムを剥離し、現像液Ｎ−Ａ５が入った容器にレジストを入れ約１分間の現像を行った。その後、現像液から取り出し、水で約１分間の洗浄を行った。
５．現像後に作成されたレジストのＬ／Ｓ（μｍ）（Ｌｉｎｅ　ａｎｄ　Ｓｐａｃｅ）の様子を走査型電子顕微鏡ＳＥＭ（日立製作所製Ｓ−２１００Ａ）を用いて約８００〜３０００倍率で観察した。レジストの解像度の評価は、以下の基準に従った。○と△が合格であり、×が不合格である。
○：Ｌ／Ｓ＝１５／１５μｍが明確に確認できる。
△：Ｌ／Ｓ＝２０／２０μｍが明確に確認できる。
×：Ｌ／Ｓ＝２０／２０μｍが明確に確認できない。
【００５１】
【実施例】
以下、実施例により本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。まず、以下に挙げるペレットの準備を行った。
【００５２】
（参考例１）
公知の方法により平均粒径１．１μｍの炭酸カルシウムを１重量％含有させたポリエチレンテレフタレートのペレットをペレット１とした。
【００５３】
（参考例２）
イーストマン社製の蛍光増白剤イーストブライトＯＢ−１を５重量％含有させたポリエチレンテレフタレートのペレットをペレット２とした。
【００５４】
（参考例３）
旭電化工業社製の耐候剤であるベンゾフェノン系であるＬＡ−５１を３０重量％含有させたポリエチレンテレフタレートのペレットをペレット３とした。
【００５５】
（参考例４）
チバ・スペシャルティー・ケミカルズ社製の耐候剤であるトリアジン系の”ＴＩＮＵＶＩＮ”１５７７ＦＦを２０重量％、ベンゾトリアゾール系の”ＴＩＮＵＶＩＮ”３２６を２０重量％をそれぞれ含有させたポリエチレンテレフタレートのペレットを、それぞれペレット４、ペレット５とした。
【００５６】
（参考例５）
粒子添加をおこなっていないポリエチレンテレフタレートのペレットをペレット６とした。
【００５７】
［実施例１］
ペレット１に含まれる炭酸カルシウムの濃度が０．０５重量％、ペレット２に含まれる紫外線吸収剤の濃度が０．０１重量％となるように粒子添加をおこなっていないポリエチレンテレフタレートのペレット６を用いて希釈した後、１８０℃で３時間乾燥し、ベント式二軸混練押出機に供給し、２８０℃で溶融した。高精度濾過した後、フィッシュテール型の口金よりシート状にして押出した後、静電印加キャスト法を用意して３０℃のキャスティングドラムに巻き付けて冷却固化し、未延伸フィルムを作った。
【００５８】
この未延伸フィルムを長手方向に、８５．５℃で３．３倍に延伸し、次いで幅方向に１００℃の温度で３倍に延伸した後に２２０℃の熱処理温度で熱固定し、幅方向に４％の弛緩処理を施して、厚さ１６μｍのフィルムを得た。この評価結果は、表１に示した通りであり、易滑性と目視検査の関係において良好な結果が得られた。
【００５９】
［実施例２］
ペレット１に含まれる炭酸カルシウムの濃度が０．０５重量％、ペレット３に含まれる紫外線吸収剤の濃度が０．１重量％となるように粒子添加をおこなっていないポリエチレンテレフタレートのペレット６を用いて希釈した後は、実施例１と同様な操作を行い厚さ１６μｍのフィルムを得た。この評価結果は、表１に示した通りであり、易滑性と目視検査の関係において良好な結果が得られた。
【００６０】
［実施例３］
ペレット１に含まれる炭酸カルシウムの濃度が０．０５重量％、ペレット４に含まれる紫外線吸収剤の濃度が０．５重量％となるように粒子添加をおこなっていないポリエチレンテレフタレートのペレット６を用いて希釈した後は、実施例１と同様な操作を行い厚さ１６μｍのフィルムを得た。この評価結果は、表１に示した通りであり、易滑性と目視検査の関係において良好な結果が得られた。
【００６１】
［実施例４］
ペレット１に含まれる炭酸カルシウムの濃度が０．０５重量％、ペレット５に含まれる紫外線吸収剤の濃度が０．１重量％となるように粒子添加をおこなっていないポリエチレンテレフタレートのペレット６を用いて希釈した後は、実施例１と同様な操作を行い厚さ１６μｍのフィルムを得た。この評価結果は、表１に示した通りであり、易滑性と目視検査の関係において良好な結果が得られた。
【００６２】
［実施例５］
ペレット１に含まれる炭酸カルシウムの濃度が０．０５重量％、ペレット３に含まれる紫外線吸収剤の濃度が０．１重量％となるように、粒子添加をおこなっていないポリエチレンテレフタレートのペレット６を用いて希釈した後、１８０℃で３時間乾燥し、ベント式二軸混練押出機１に供給し、２８０℃で溶融した（ポリマＡ層）。さらに、もう一台の押出機２を用意し、粒子を添加をおこなっていないポリエチレンテレフタレートのペレット６を１８０℃で３時間乾燥し、押出機２に供給して２８０℃で溶融した（ポリマＢ層）。
【００６３】
この二つのポリマを、それぞれ高精度濾過した後、矩形積層部を備えた２層合流ブロックにて、基層部にポリマＢ層を、片面積層部にポリマＡ層がくるように積層し、フィッシュテール型の口金よりシート状にして押出した後、静電印加キャスト法を用意して３０℃のキャスティングドラムに巻き付けて冷却固化し、未延伸フィルムを作った。以下、実施例１と同様の操作を行い、厚さ１６μｍのフィルムを得た。ポリマＡ層の厚みは２μｍであった。この評価結果は、表１に示した通りであり、易滑性と目視検査の関係において良好な結果が得られた。
【００６４】
［比較例１］
実施例１において、紫外線吸収剤の添加を行わなずに、同様の操作で厚み１６μｍのポリエステルフィルムを得た。この評価結果は、表１に示した通りであり、易滑性と目視検査の関係において良好な結果が得られなかった。
【００６５】
［比較例２］
参考例２のペレット２の紫外線吸収剤濃度を３重量％とした以外は、実施例１と同様な操作で、厚み１６μｍのポリエステルフィルムを得た。この評価結果は、表１に示した通りであり、易滑性と目視検査の関係において良好な結果が得られなかった。
【００６６】
［比較例３］
参考例３のペレット３の紫外線吸収剤濃度を２．５重量％とした以外は、実施例２と同様な操作で、厚み１６μｍのポリエステルフィルムを得た。この評価結果は、表１に示した通りであり、易滑性と目視検査の関係において良好な結果が得られなかった。
【００６７】
［比較例４］
参考例４のペレット４の紫外線吸収剤濃度を２．５重量％とした以外は、実施例３と同様な操作で、厚み１６μｍのポリエステルフィルムを得た。この評価結果は、表１に示した通りであり、易滑性と目視検査の関係において良好な結果が得られなかった。
【００６８】
［比較例５］
参考例４のペレット５の紫外線吸収剤濃度を２．５重量％とする以外は、実施例４と同様な操作で、厚み１６μｍのポリエステルフィルムを得た。この評価結果は、表１に示した通りであり、易滑性と目視検査の関係において良好な結果が得られなかった。
【００６９】
【表１】

【００７０】
表１から、３６５ｎｍにおける光線透過率が５％以上７５％未満である実施例１〜５はレジスト解像度に優れており、一方、該範囲を外れる比較例１〜５は、レジスト解像度に劣っていた。
【００７１】
【発明の効果】
本発明によれば、３６５ｎｍにおける光拡散性を抑え、しわ、バタツキなどの走行性の不良を起こさないレジストの高解像化と易滑性を付与したドライフィルムフォトレジスト用フィルムを提供することができる。

Claims (4)

1. 波長３６５ｎｍにおける光線透過率が５％以上７５％未満であるドライフィルムフォトレジスト用フィルム。
2. ポリエチレンテレフタレートを主成分とすることを特徴とする請求項１に記載のドライフィルムフォトレジスト用フィルム。
3. 波長３６５ｎｍにおいて光吸収特性を有する成分を含むことを特徴とする請求項１または２に記載のドライフィルムフォトレジスト用フィルム。
4. ２層以上の積層構造を有していることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載のドライフィルムフォトレジスト用フィルム。