JP4285077B2 - ドライフィルムフォトレジスト用積層ポリエステルフィルム - Google Patents

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、ドライフィルムフォトレジスト（以下、ＤＦＲと略記することがある。）用積層ポリエステルフィルムに関するものであり、さらに詳しくは、ＤＦＲの支持体として用いられ、透明性及び易滑性に優れ、ファインパターン回路形成性に優れたＤＦＲ用積層ポリエステルフィルムに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
近年、ＩＴ産業機器の小型／軽量化さらには高性能化／低コスト化に伴い、回路形成技術においても、より高密度化、高解像度が求められるようになってきた。ドライフィルムフォトレジスト（ＤＦＲ）は、この回路形成技術に用いられるものであり、その役割期待は非常に大きい。
【０００３】
通常のＤＦＲは、感光層（レジスト層）が、支持体としてのポリエステルフィルムと保護フィルムである低密度ポリエチレンフィルムとの間に挟まれたサンドイッチ構造をしている。このＤＦＲを用いて導体回路を作製する際には、一般的に次のような操作が行われる。
【０００４】
すなわち、ＤＦＲから保護フィルムを剥離し、露出したレジスト層の表面と、基板上の導電性基材層の表面とが密着するように、基板・導電性基材層とラミネートし、基板・導電性基材層・レジスト層・ポリエステルフィルムの順で貼り合わされた状態とする。ここでの導電性基材層とは、例えば銅箔などである。次に導体回路パターンを焼き付けたレチクルを、ポリエステルフィルム上に置き、その上から、感光性樹脂を主成分としたレジスト層に紫外線（例えば、波長３６５ｎｍにピークを有するＩ線）を照射して、露光させる。その後、レチクル及びポリエステルフィルムを剥離した後、溶剤によってレジスト層中の未反応部分を溶解、除去する。次いで、酸などでエッチングを行い、導電性基材層中の露出した部分を溶解、除去する。この結果、レジスト層中の光反応部分とこの光反応部分に対応する導電性基材層部分はそのまま残ることになる。その後、残ったレジスト層を除去すれば、基板上に導体回路が形成される事となる。このような方法により導体回路が形成されるので、支持体としてのポリエステルフィルムには、３６５ｎｍ近傍の紫外線を邪魔することなく通過できることが要求され、この結果、レクチルに焼き付けられた回路パターンが正確にレジスト層上に反映される。すなわち、ポリエステルフィルムへの要求特性としては、紫外線３６５ｎｍにおける光の透過性が良く、かつヘイズ値が低いことが重要である。
【０００５】
しかしながら、ポリエステルフィルムには、通常、走行性や巻き特性を付与するために易滑材としての粒子を含有させているため、露光工程時の紫外線照射の際、粒子による光散乱が引き起こされ、レジストの解像度を低下させてしまうという問題が生じていた。
【０００６】
そこで、従来より、この相反する両特性、即ち易滑性及び高解像度化を両立するためのフィルム粒子設計が提案されてきた。例えば、以下のような提案がある。
【０００７】
少なくとも片側の最表層に平均粒径が０．０１〜３．０μｍの粒子を含有する二軸配向積層ポリエステルフィルムであって、当該最表層表面のＲａが０．００５５μｍ以上、Ｒｔが１．５μｍ未満であり、かつフィルムへーズが１．５％以下であることを特徴とするフォトレジスト用積層ポリエステルフィルムが提案されている（例えば、特許文献１参照）。
【０００８】
また、平均粒径が０．０１〜０．１μｍの一次粒子の凝集体であって、細孔容積が０．５〜２．０ｍｌ／ｇ、平均粒径が０．１〜５μｍの多孔質シリカ粒子を０．０１〜０．１重量％含有し、該多孔質シリカのうち、５０μｍ以上の大きさの粗大凝集粒子の個数が１０個／ｍ²以下であること特徴とするフォトレジスト用ポリエステルフィルムが提案されている（例えば、特許文献２参照）。
【０００９】
また、厚み１０μｍ以上のフィルム支持体にフォトレジスト感光層を積層した感光性積層体であって、該フィルム支持体が、平均粒径０．０１〜０．１μｍの一次粒子の凝集体である多孔質シリカ粒子を含有するが、フィルム中での５０μｍ以上の大きさの粗大凝集粒子の個数が１０個／ｍ²以下であり、厚み２５μｍにおけるフィルムヘーズが５％以下である二軸延伸ポリエステルフィルムであることを特徴とする感光性積層体も提案されている（例えば、特許文献３参照）。
【００１０】
さらに、互いに平均粒径の異なる２種以上の不活性粒子を含むポリエステル組成物からなる厚み１．０〜３０．０μｍの二軸配向ポリエステルフィルムであって、該不活性粒子は、それぞれＡｌ,Ｓｉ，Ｃａ及びＭｇから選ばれた少なくとも１種以上の元素を含み、該不活性粒子の少なくとも１種は、１次粒径が凝集して形成される凝集粒子であり、該フィルム表面の中心線平均粗さ(ＳＲａ)及び１０点平均粗さ(ＳＲｚ)がそれぞれ、１０〜８０ｎｍ、７００〜１５００ｎｍであり、フィルム−フィルム間のエア抜け速度が、２０〜１２０ｍｍＨｇ／ｈｒであり、かつ１／２インチ幅にスリットしたフィルムロール巻き取り速度が２５０ｍ／ｍｉｎの時の側面ずれ幅が０〜５００μｍであることを特徴とするフォトレジスト用二軸配向ポリエステルフィルムも提案されている（例えば、特許文献４参照）。
【００１１】
最近では、厚みが１２μｍ以上２５μｍ以下の二軸配向ポリエステルフィルムの片面または両面に易滑層を設けた積層フィルムであって、該積層フィルムのへーズ値が１％以下、かつ３６５ｎｍの光線透過率が８６％以上であることを特徴とするドライフィルムレジスト用ポリエステルフィルムが提案されている（例えば、特許文献５参照）。
【００１２】
また、積層フィルムの少なくとも一方の最表層が平均粒径０．８〜２．５μｍの粒子（Ｉ）を０．０１〜０．１ｗｔ％及び平均粒径０．０５〜０．２μｍの粒子を０．１〜０．８％を含有し、かつフィルム中の２０μ以上の大きさの粗大異物の数Ａが０≦Ａ≦１０（個/ｍ²）を満足することを特徴とするフォトレジスト用二軸配向積層ポリエステルフィルムが提案されている（例えば、特許文献６参照）。
【００１３】
【特許文献１】
特開平７−３３３８５３号公報（第１−２頁）
【特許文献２】
特開平１０−４６０１２号公報（第１−２頁）
【特許文献３】
特開平１０−１２８９３０号公報（第１−２頁）
【特許文献４】
特開２０００−２７５８６０号公報（第１−２頁）
【特許文献５】
特開２００２−６２６６１号公報（第１−２頁）
【特許文献６】
特開２００２−３４１５４６号公報（第１−２頁）
【００１４】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、前記した提案でも、近年における一層の高解像度化の要求を、良好な易滑性を低下させることなく達成することは難しく、現像後のレジストのパターニングに、窪み、剥がれ、削れなどの欠陥が生じ易く、さらに走行性においても、しわ、バタツキ、空気の噛み込みなどの問題が生じ易いものであり、依然として、高解像度化への品質向上、生産性向上の要求が続いているのが現状である。
【００１５】
かかる事情下に鑑み、本発明はレジストの高解像度を達成すると共に、しわ、バタツキなどの走行性の不良を起こさない易滑性を有するドライフィルムフォトレジスト用積層ポリエステルフィルムを提供することを目的とする。
【００１６】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、上記目的を達成すべく鋭意検討した結果、レジストの解像度の低下の主因は、波長３６５ｎｍの光における粒子及び粗大異物の光散乱及び回折現象であることを突き止め、これらを抑制するためには、従来の粒子の配置、濃度及び大きさを規定するばかりではなく、粒子として、比較的重量のある透明な粒子を選定して用いることが有効であり、これによって高解像度化と易滑性を両立したドライフィルムフォトレジスト用支持体としてのポリエステルフィルムとできることを見い出し、本発明を完成するに至った。
【００１７】
すなわち、本発明は、Ａ層とＢ層とからなる２層積層ポリエステルフィルムであって、厚みが３μｍ以下であるＡ層に、平均粒径が０．６〜２．０μｍ、比重が３．０〜５．０かつ屈折率が１．５５〜１．７５である不活性粒子Ｉが０．０１〜０．１wt.％、及び平均粒径が０．１〜０．３μｍである不活性粒子IIが０．０２〜０．５wt.％含有され、かつ、フィルム中に存在する１０μｍ以上の粗大異物の数が１０個/ｃｍ²未満であるドライフィルムフォトレジスト用積層ポリエステルフィルムである。また、このドライフィルムフォトレジスト用積層ポリエステルフィルムにおいて、Ａ層に隣接する厚み５〜２５μｍのＢ層に、平均粒径０．０１〜０．３μｍの粒子が０．１wt.％以下含有され、かつ、該Ｂ層の表面がレジスト層が積層される面であることが好ましい。
【００１８】
【発明の実施の形態】
以下、本発明について、更に詳細に説明をする。
【００１９】
本発明の積層ポリエステルフィルムに用いられるポリエステルとは、芳香族ジカルボン酸または脂肪族ジカルボン酸とジオールを主たる構成成分とする単量体からの重合により得られるポリエステルである。ここで、主たるとは、５０モル％以上であることを言う。
【００２０】
芳香族ジカルボン酸としては、例えば、テレフタル酸、イソフタル酸、フタル酸、1,4-ナフタレンジカルボン酸、1,5−ナフタレンジカルボン酸、2,6-ナフタレンジカルボン酸、4,4′-ジフェニルジカルボン酸、4,4′-ジフェニルエーテルジカルボン酸、4,4′-ジフェニルスルホンジカルボン酸等を挙げることができる。また、脂肪族ジカルボン酸としては、例えば、アジピン酸、スベリン酸、セバシン酸、ドデカンジオン酸等を挙げることができる。中でも好ましくはテレフタル酸とイソフタル酸を挙げることができる。これらの酸成分は１種のみ用いてもよく、２種以上併用してもよく、さらには、ヒドロキシ安息香酸等のオキシ酸等を一部共重合してもよい。
【００２１】
また、ジオール成分としては、例えば、エチレングリコール、1,2-プロパンジオール、1,3-プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、1,3-ブタンジオール、1,4-ブタンジオール、1,5-ペンタンジオール、1,6-ヘキサンジオール、1,2-シクロヘキサンジメタノール、1,3-シクロヘキサンジメタノール、1,4-シクロヘキサンジメタノール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ポリアルキレングリコール、2,2-ビス（4-ヒドロキシエトキシフェニル）プロパン等を挙げることができる。中でもエチレングリコールが好ましく用いられる。これらのジオール成分は１種のみ用いてもよく、２種以上併用してもよい。
【００２２】
本発明の積層ポリエステルフィルムに用いられるポリエステルとして、好ましくは、ポリエチレンテレフタレート、エチレンテレフタレートとエチレンイソフタレートとの共重合体、ポリエチレンナフタレート及びその共重合体、ポリブチレンテレフタレートおよびその共重合体、ポリブチレンナフタレートおよびその共重合体、さらにはポリヘキサメチレンテレフタレートおよびその共重合体、ポリヘキサメチレンナフタレートおよびその共重合体等を挙げることができ、特にポリエチレンテレフタレートが好ましい。
【００２３】
本発明に使用するポリエステルは、従来から知られている方法で製造することができる。例えば、酸成分をジオール成分と直接エステル化反応させた後、この反応の生成物を減圧下で加熱して余剰のジオール成分を除去しつつ重縮合させることによって製造する方法や、酸成分としてジアルキルエステルを用い、これとジオール成分とでエステル交換反応させた後、上記と同様に重縮合させることによって製造する方法等がある。この際、必要に応じて、反応触媒として従来公知のアルカリ金属、アルカリ土類金属、マンガン、コバルト、亜鉛、アンチモン、ゲルマニウム、チタン化合物等を用いることもできる。
【００２４】
本発明の積層ポリエステルフィルムは、易滑性と高解像度性という相反する２つの機能を満足させるため、Ａ層／Ｂ層の２層構造が必要である。易滑性の機能を有する最外層をＡ層とし、もう片方のドライフィルムレジストと貼り合わされる層をＢ層とする。
【００２５】
本発明の積層ポリエステルフィルムにおいては、易滑性の機能を有する凹凸表面を形成させるという観点から、平均粒径が異なる大小２種の不活性粒子Ｉ、IIを、厚み３μｍ以下のＡ層に含有させる事が必要である。Ａ層に十分な易滑性を付与する観点から、より好ましくは厚み２μｍ以下である。また、不活性粒子Ｉ、IIの平均粒径が、それぞれ０．６μｍ未満、０．１μｍ未満、及び／又は、含有量がそれぞれ０．０１wt.％未満、０．０２wt.％未満であると、易滑性を付与するための突起高さのバランス及び数を満足せず、また、平均粒径がそれぞれ、２μｍを超え、０．３μｍを超え、及び／又は、含有量がそれぞれ０．１wt.％を超え、０．５wt.％を超えると、ドライフィルムレジストの露光時に不活性粒子Ｉ、IIによる波長３６５nｍの光散乱及び回折現象が強く生じるため、アルカリ現像後のレジスト上に窪みやかぶりといった欠陥を数多く引き起こすという問題が生じる。この観点から、Ａ層には、平均粒径が０．６〜２．０μｍである不活性粒子Ｉを０．０１〜０．１wt.％含有させ、かつ平均粒径が０．１〜０．３μｍである不活性粒子IIを０．０２〜０．５wt.％含有させる事が必要である。より好ましくは、平均粒径が０．８〜１．４μｍである不活性粒子Ｉを０．０２〜０．０８wt.％含有させ、平均粒径が０．１〜０．２μｍである不活性粒子IIを０．０３〜０．３wt.％含有させる事である。
【００２６】
ポリエステル中に含有させる滑材としての不活性粒子としては、有機、無機滑材を用いることができる。その形状としては、凝集粒子、真球状粒子、数珠状粒子、コンペイト状粒子、鱗片状粒子などの粒子を使うことができる。また、その材質としては、無機系としては、例えば、酸化珪素、炭酸カルシウム、酸化チタン、酸化イットリウム、酸化セリウム、アルミナ、ジルコニア、珪酸アルミニウム、マイカ、クレー、タルク、硫酸バリウム等を、有機系としては、例えば、ポリイミド系樹脂、オレフィンあるいは変性オレフィン系樹脂、架橋ないし無架橋ポリスチレン系樹脂、架橋ないし無架橋アクリル樹脂、フッ素系樹脂、シリコン系樹脂等の樹脂、また有機滑材としてステアリン酸アミド、オレイン酸アミド、フマール酸アミドなどの各種アミド化合物を挙げることができる。
【００２７】
ただし、Ａ層に含有させる不活性粒子Ｉとして用いる場合においては、光散乱及び回折現象を抑制する観点から、その比重が３．０〜５．０かつ屈折率が１．５５〜１．７５であることが必要である。物質の性質は、構成元素とその構造により決定されるが、比較的重い物質ほど安定であり、透明性を更に高めるという観点から、粒子の比重は、３．５〜５．０、屈折率は、１．５７〜１．７０がより好ましい。ここでの安定とは、酸やアルカリに対して良好な耐食性を示すことを意味する。
【００２８】
ここでの比重とは、真比重すなわち、真密度と称せられるものを意味する。一般に、密度の値は体積の測り方によって異なる。例えば、中空粒子で中空部も体積に含めて測る場合は、実際の体積より大きな体積値となるために、密度の値は、真密度に比べ小さくなる。真密度は、比重びん法、ピクノメータ法及び浮力法などの液浸法によって、粒子の表面が完全にぬれ、粒子周辺部の空気が完全に追い出された状態で測定された値をいう。また、ここでの屈折率も、液浸法によって観測された値を意味する。すなわち、種々の屈折率の異なる液体を準備し、その液に粒子を浸して観測される方法のことである。
【００２９】
また、本発明の積層ポリエステルフィルムにおいて、窪みやかぶりなどのレジスト欠陥を引き起こすという問題を解消するためには、フィルム中に存在する１０μｍ以上の粗大異物の数が１０個/ｃｍ²未満であることも必要である。より好ましくは、５個未満である。また、高解像度Ｌ／Ｓ（Line and Space）＝１５／１５μｍ以下を目標とするならば、２個未満がさらに好ましい。
【００３０】
さらに、本発明の積層ポリエステルフィルムにおけるＢ層の厚みは、５〜２５μｍであることが好ましい。５μｍ未満であると支持体としての強度が小さくなるだけでなくレジスト層とＡ層との間の距離が近くなり過ぎるためレジスト層に欠陥を生じやすく、また、２５μｍを越えるとコスト高になるので好ましくない。またＢ層には、平均粒径０．０１〜０．３μｍの粒子が０．１wt.％以下含有され、このＢ層表面にレジスト層を積層させて用いられることが好ましい。レジスト層に欠陥のない高解像度化を達成するためには無粒子がより好ましいが、Ａ層との易滑性を向上させ、かつ、光の波長以下の粒径の粒子による光散乱を抑えるためには、平均粒径０．１〜０．２μｍの粒子が、０．０１〜０．０８wt.％含有されることがより好ましい。
【００３１】
本発明の積層ポリエステルフィルムは、ＤＦＲの高解像度化を達成させるためには、パターニング性に最も影響を与える光拡散性の指標である波長３６５ｎｍのヘイズが、３％以下であることが好ましい。解像度Ｌ／Ｓ（Line and Space）＝１５／１５μ以下を目標とするならば、好ましくはヘイズは２％以下である。
【００３２】
本発明の積層ポリエステルフィルムは、１５０℃、１０分間の熱処理条件に曝されたときのフィルム長手方向、巾方向ともに熱収縮率は、３％以下であることが好ましい。また、この熱収縮率条件は、ポリエステルフィルム上にレジストを塗布し、熱乾燥するドライフィルム作製工程時のポリエステルフィルムの熱収縮に起因して、しわが生じ、露光後のレジストの欠陥を誘発するという問題を抑制するためであり、より好ましくは２％以下である。
【００３３】
本発明の積層ポリエステルフィルムの製造方法は特に限定されず、例えば、２種の溶融ポリマーを押出機に供給して、Ｔ型口金等を用いてシート状に溶融共押出し、その後、キャスティングドラム上で冷却固化して未延伸フィルムとし、この未延伸フィルムを樹脂組成物のガラス転移点（Ｔｇ）以上の温度で延伸する方法などで得ることができる。この際の延伸の方法は、公知の如く、長手方向に延伸した後に幅方向に延伸する方法、幅方向に延伸した後に長手方向に延伸する方法で行えばよく、長手方向の延伸、幅方向の延伸を複数回組み合わせて行なってもよい。本発明の場合、延伸温度及び延伸倍率は特に限定されないが、通常のポリエステルフィルムの場合、延伸温度は８０℃以上１３０℃以下であり、延伸倍率は２倍以上５倍以下であることが好ましい。次いで、この延伸されたフィルムを熱処理する。この熱処理は、延伸温度より高く、融点より低い温度で行うのが一般的である。通常のポリエステルフィルムの場合、１３０℃ないし２３０℃の範囲で行うのが好ましい。この際、フィルムの熱寸法安定性を付与するために弛緩熱処理を施すことも好ましい。
【００３４】
このようにして得られる本発明の積層ポリエステルフィルムは、レジストの高細線化したパターンに支障をきたさない高解像度を有し、しかも易滑性を有するので、ドライフィルムフォトレジスト用フィルムに好適に用いられる。
【００３５】
本発明において、フィルムの特性は以下の方法で測定した。
【００３６】
（１） 不活性粒子の平均粒径（μｍ）
粒子を含有したフィルムから測定する場合には、フィルムの断面を走査型電子顕微鏡ＳＥＭ（日立製作所製Ｓ−２１００Ａ）を用いて、倍率２０００〜１００００倍で観察することによる。観察箇所を変えて粒子個数１００個以上について粒径を測定し、その平均値を平均粒径とする。
【００３７】
（２） Ａ層中、Ｂ層中の粒子濃度
不活性粒子とポリエステルとを所定の割合で重合時に混合し、もしくは、重合後に混練機を用いて混合した後、ペレタイズすることで粒子マスターチップを作製した。このマスターチップ中の粒子濃度は、全重量に対する粒子の比率（重量％：wt.％）により求めた。このマスターチップ等の混合割合から計算により、Ａ層中、Ｂ層中の粒子濃度を求めた。
【００３８】
もしくは、粒子を含有した組成物やフィルムから測定する場合には、ポリエステルを溶解し不活性粒子は溶解させない溶媒とポリエステル組成物とを混合した後、不活性粒子をポリエステルから遠心分離し、粒子重量を測定し、粒子の全体重量に対する比率（重量％）をもって粒子濃度とする。
【００３９】
（３）１０μｍ以上の粗大異物の数
ランダムに切出したフィルムサンプルの１ｃｍ²当りの領域中に存在する１０μｍ以上の粗大異物の数を、透過光で光学顕微鏡（オリンパス社製ＢＨ−２）を用いて、対物レンズ２０〜５０倍で観察することにより測定した。
【００４０】
（４）ヘイズメータによる光線透過率及びヘイズ
フィルム幅方向の中央部から、長手４．０×幅３．５ｃｍの寸法に切り出したものをサンプルとし、光線透過率及びヘイズを、ヘイズメータ(スガ試験機製ＨＧＭ−２ＤＰ(Ｃ光用))を用いて測定した。
【００４１】
（５）波長３６５ｎｍにおける光線透過率及びヘイズ
フィルム幅方向の中央部から、長手４．０×幅３．５ｃｍの寸法に切り出したものをサンプルとし、日立製作所製の分光光度計Ｕ−３４１０を用いて、特定波長である３６５ｎｍにおける受光器側に積分球を用いた場合の全光線透過率と、積分球を用いない場合の直線透過率を測定した。ヘイズは、これらの差を全光線透過率で除し、１００を乗じることにより求めた。
【００４２】
（６）熱収縮率
フィルム幅中央部からフィルム長手方向、幅方向からそれぞれ、１×１６ｃｍのサンプルを切り出し、約１０ｃｍ間隔の印を付けた後、ギアオーブン（ＴＡＢＡＩ社製ＧＨＰＳ−２２２）で１５０℃で１０分間の条件で熱処理した。その１０ｃｍ区間の長さを熱処理の前後でそれぞれ万能投影機（７７−７ニコン社製Ｅ０４）で正確に測長することにより、熱収縮率を求めた。フィルム長手方向（ＭＤ：Machine Direction）と幅方向（ＴＤ：Transverse Direction）とについて、それぞれ熱収縮率の値を測定した。
【００４３】
（７）Ａ層表面の易滑性（動摩擦係数μd）
フィルムのＡ層表面同士を重ねたサンプルについて摩擦係数を、ＡＳＴＭ−Ｄ−１８９４−６３に準じて測定した。即ち、動摩擦係数μdを新東科学（株）製表面性測定機ＨＥＩＤＯＮ−１４ＤＲを用いて、サンプル移動速度２００ｍｍ／ｍｉｎ、荷重２００ｇ、接触面積６３．５ｍｍ×６３．５ｍｍの条件で測定し、アナライジングレコーダＴＹＰＥ：ＨＥＩＤＯＮ３６５５Ｅ−９９で記録し評価し、以下の基準により易滑性を判定した。○と△が合格であり、×が不合格である。
○：μｄ＝０．７未満。
△：μｄ＝０．７以上〜１．０未満。
×：μｄ＝１．０以上。
【００４４】
（８）レジスト解像度の目視検査
ポリエステルフィルムによるレジストの解像度の目視評価方法は、以下のような手順で行った。
１．片面鏡面研磨した６インチＳｉウエハー上に、東京応化（株）製のネガレジスト“ＰＭＥＲ Ｎ−ＨＣ６００”を塗布し、大型スピナーで回転させることによって厚み７μｍのレジスト層を作製した。次いで、窒素循環の通風オーブンを用いて７０℃の温度条件で、約２０分間の前熱処理を行った。
２．ポリエステルフィルムのＢ層とレジスト層とが接触するように重ね、ゴム製のローラーを用いて、レジスト層上にポリエステルフィルムをラミネートし、その上に、クロム金属でパターニングされたレチクルを配置し、そのレクチル上からＩ線ステッパーを用いて露光を行った。
３．レジスト層からポリエステルフィルムを剥離した後、現像液Ｎ−Ａ５が入った容器にレジスト層を入れ約１分間の現像を行った。その後、現像液から取り出し、水で約１分間の洗浄を行った。
４．現像後に作成されたレジストパターンのＬ／Ｓ（μｍ）（Ｌｉｎｅ ａｎｄＳｐａｃｅ）の状態を走査型電子顕微鏡ＳＥＭ（日立製作所製Ｓ−２１００Ａ）を用いて約８００〜３０００倍率で観察した。レジストの解像度の評価は、以下の基準に従った。
○：Ｌ／Ｓ＝１５／１５μｍが明確に確認できる。
△：Ｌ／Ｓ＝１５／１５μｍは明確に確認できないが、Ｌ／Ｓ＝３０／３０μｍは明確に確認できる。
×：Ｌ／Ｓ＝３０／３０μｍが明確に確認できない。
【００４５】
【実施例】
以下、実施例により本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。
２軸混練機を用いて、外部粒子を添加していないポリエチレンテレフタレートのペレットに、外部添加剤である各種滑材用粒子を含有させ、粒子含有マスターペレットを作製した。各種作製された粒子含有マスターペレットの添加剤及びその含有量を以下に示す。
【００４６】
ペレット１： 平均粒径１．２μｍの硫酸バリウムを１重量％含有させたもの
ペレット２： 平均粒径０．３μｍの架橋ポリスチレンを２重量％含有させたもの
ペレット３： 平均粒径０．１７μｍのアルミナを２重量％含有させたもの
ペレット４： 平均粒径１．２μｍのアルミナを２重量％含有させたもの
ペレット５： 平均粒径１．２μｍの酸化マグネシウムを１重量％含有させたもの
ペレット６： 平均粒径１．１μｍの炭酸カルシウムを１重量％含有させたもの
ペレット７： 平均粒径１．２μｍの凝集シリカを２重量％含有させたもの
ペレット８： 平均粒径１．４μｍの珪酸アルミナを１重量％含有させたもの
ペレット９： 平均粒径０．４μｍの凝集シリカを１重量％含有させたもの
ペレット１０： 平均粒径１．０μｍの球状シリカを２重量％含有させたもの
【００４７】
［実施例１〜５］
Ａ層とＢ層が、それぞれ表１に記載した各種粒子濃度となるように、外部粒子を添加していないポリエチレンテレフタレートのペレットを用いて、粒子含有マスターペレット１〜５を希釈し、組合せて混合することによりペレットＡ、Ｂをそれぞれ準備し、これらを１８０℃で３時間乾燥した。ペレットＡは、押出機１に供給し、２８０℃で溶融した。さらに、もう１台の押出機２にペレットＢを供給し、２８０℃で溶融した。これらペレットＡ，Ｂを、それぞれ高精度濾過した後、１：９となる矩形積層部を備えた２層合流ブロックにて、Ａ層にペレットＡが、Ｂ層にペレットＢがくるように積層し、フィッシュテールの口金よりシート状にして押出した後、静電印加キャスト法を用いて２５℃のキャスティングドラムに巻きつけて冷却固化し、未延伸フィルムを作製した。
【００４８】
この未延伸フィルムを長手方向に１００℃で３．４倍に延伸し、次いで幅方向に１００℃の温度で３．１６倍に延伸した後に、２２０℃の熱処理温度で熱固定し、幅方向に３．８％の弛緩処理を施して、厚さ１６μｍの積層フィルムとした。Ａ層の積層厚みは２μｍ、Ｂ層の厚みは１４μｍであった。この積層フィルムの構成及び評価結果は、表１及び表２に示した通りであり、易滑性とレジスト解像度のいずれも良好な結果が得られた。
【００４９】
［比較例１〜４］
Ａ層とＢ層が、それぞれ表１に記載した各種粒子濃度となるように、外部粒子を添加していないポリエチレンテレフタレートのペレットを用いて、粒子含有マスターペレット２、６〜１０を希釈し、実施例と同様にしてペレットＡ、Ｂをそれぞれ準備し、これらを１８０℃で３時間乾燥した。ペレットＡは、押出機１に供給し、２８０℃で溶融した。さらに、もう１台の押出機２にペレットＢを供給し、２８０℃で溶融した。これらペレットＡ，Ｂを、それぞれ高精度濾過した後、１：９となる矩形積層部を備えた２層合流ブロックにて、最外層ＡにペレットＡが、Ｂ層にペレットＢがくるように積層し、フィッシュテールの口金よりシート状にして押出した後、静電印加キャスト法を用いて２５℃のキャスティングドラムに巻きつけて冷却固化し、未延伸フィルムを作製した。
【００５０】
この未延伸フィルムを長手方向に、１００℃で３．４倍に延伸し、次いで幅方向に１００℃の温度で３．１６倍に延伸した後に、２２０℃の熱処理温度で熱固定し、幅方向に３．８％の弛緩処理を施して、厚さ１６μｍの積層フィルムとした。Ａ層の積層厚みは２μｍ、Ｂ層の厚みは１４μｍであった。この積層フィルムの構成及び評価結果は、表１及び表２に示した通りであり、レジスト解像度において不満足なものであった。
【００５１】
[比較例５］
Ｂ層に、粒子添加をしていないポリエチレンテレフタレートのみを用いたこと以外は、比較例１と同様にして、厚さ１６μｍのフィルムを作製した。この積層フィルムの構成及び評価結果は、表１及び表２に示した通りであり、易滑性において不満足なものであった。
【００５２】
【表１】

【００５３】
【表２】

【００５４】
【発明の効果】
本発明によれば、レジストのパターン性に支障をきたさない高解像化を達成すると共に、バタツキなどの走行性の不良を起こさない易滑性を有するドライフィルムフォトレジスト用積層ポリエステルフィルムとすることができる。

Claims (4)

1. Ａ層とＢ層とからなる２層積層ポリエステルフィルムであって、厚みが３μｍ以下であるＡ層に、平均粒径が０．６〜２．０μｍ、比重が３．０〜５．０かつ屈折率が１．５５〜１．７５である不活性粒子Ｉが０．０１〜０．１wt.％、及び平均粒径が０．１〜０．３μｍである不活性粒子IIが０．０２〜０．５wt.％含有され、かつ、フィルム中に存在する１０μｍ以上の粗大異物の数が１０個/ｃｍ²未満であることを特徴とするドライフィルムフォトレジスト用積層ポリエステルフィルム。
2. Ａ層に隣接する厚み５〜２５μｍのＢ層に、平均粒径０．０１〜０．３μｍの粒子が０．１wt.％以下含有され、かつ、該Ｂ層の表面がレジスト層が積層される面であることを特徴とする請求項１に記載のドライフィルムフォトレジスト用積層ポリエステルフィルム。
3. 波長３６５ｎｍでのヘイズが３％以下であることを特徴とする請求項１〜２のいずれかに記載のドライフィルムフォトレジスト用積層ポリエステルフィルム。
4. １５０℃で１０分間熱処理したときのフィルム長手方向、巾方向ともに熱収縮率が３％以下であることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載のドライフィルムフォトレジスト用積層ポリエステルフィルム。