JP2004107274A - 耐熱性シランカップリング剤、およびそれらの化合物の製造方法 - Google Patents

耐熱性シランカップリング剤、およびそれらの化合物の製造方法 Download PDF

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Abstract

【課題】300℃以上の雰囲気に2時間以上暴露しても接触角の低下が見られないほどの耐熱性を有するシランカップリング剤を提供する。
【解決手段】下記一般式(1)
【化1】
Figure 2004107274

で表され、式中Rは水素、又はF(CF)mのペルフルオロアルキル鎖であり、mは1〜12の正数であるビフェニルアルキル鎖を有する耐熱性シランカップリング剤、特に、
下記一般式(2)
【化2】
Figure 2004107274

で表され、式中nは1〜12の正数、好ましくは4〜8の正数であるペルフルオロアルキル鎖、およびビフェニルアルキル鎖を有する耐熱性および防汚性シランカップリング剤、およびこれらの耐熱性シランカップリング剤の製造方法。

Description

【0001】
【発明が属する技術分野】
本発明は、ビフェニルアルキル鎖を有する耐熱性シランカップリング剤、並びにペルフルオロアルキル鎖およびビフェニルアルキル鎖を有する耐熱性および防汚性シランカップリング剤、さらにそれらシランカップリング剤の製造方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
従来より、各種のシランカップリング剤が知られている。
例えば、特開平9−315923号に見られるような、歯表面と反応するNCO基を有するフルオロアルキル含有シランカップリング剤がある。この具体例としては、例えば、一般式 C2n+1−(X)−SiR −m(NCO)
[式中、Xは(CHまたはC(CH、wは1〜4の整数、Rはアルキル基、nは1〜20の整数、mは1〜3の整数を示す]で示されるフルオロアルキル基含有シランカップリング剤である。
また、特開平10−265242号には、 ゾル−ゲル法により形成され、かつSiOを主成分とする酸化物膜に、フルオロアルキル鎖を持つシランカップリング剤を主成分とするゾルをコーティングする技術が記載され、シランカップリング剤はフルオロアルキルシランであると記載されている。
さらに、特開2000−342602号には、表面に凸凹を形成した基材にフルオロアルキル鎖や長鎖アルキル鎖などを有するシランカップリング剤を固定化した汚濁物質付着抑制材について記載されている。
【0003】
しかし、従来のシランカップリング剤では、耐熱性が不足しており、高温で使用できる耐熱性シランカップリング剤が待望されていた。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであり、その目的は耐熱性の良好な、特に300℃以上の温度においても、これら化合物による改質表面接触角の低下が見られない等の優れた物性を有する耐熱性シランカップリング剤を提供することにある。また、耐熱性および耐汚性を有するシランカップリング剤を提供することにある。
【0005】
【課題を解決するための手段】
本発明は、下記一般式(1)
【化10】
Figure 2004107274
で表され、式中Rは水素、又はF(CFのペルフルオロアルキル鎖であり、mは1〜12の正数であるビフェニルアルキル鎖を有するシランカップリング剤が優れた耐熱性を有することを見いだした。
【0006】
また、下記一般式(2)
【化11】
Figure 2004107274
で表され、式中nは1〜12の正数、好ましくは4〜8の正数であるペルフルオロアルキル鎖、およびビフェニルアルキル鎖を有するシランカップリング剤が優れた耐熱性および防汚性を有することを見いだした。
【0007】
【発明の実施の形態】
本発明は、下記一般式(3)
【化12】
Figure 2004107274
で表され、式中Rは水素、又はF(CFのペルフルオロアルキル鎖であり、mは1〜12の正数である4−ビニルビフェニルを下記式(4)
HSi(OCH      (4)
のトリメトキシシランと極性溶媒中で、塩化白金酸触媒を用いて反応させて、
下記一般式(1)
【化13】
Figure 2004107274
で表され、式中Rは水素、又はF(CFのペルフルオロアルキル鎖であり、mは1〜12の正数であるビフェニルアルキル鎖を有する耐熱性シランカップリング剤を製造する方法である。
【0008】
また、下記式(5)
【化14】
Figure 2004107274
の4−アセチル−4’−ブロモビフェニルを下記式(6)
F(CFI        (6)
で表され、式中nは1〜12の正数、好ましくは4〜8の正数であるペルフルオロアルキルヨージドと極性溶媒中で、銅ブロンズ粉触媒を用いて反応させて、
下記一般式(7)
【化15】
Figure 2004107274
の4−アセチル−4’−ペルフルオロアルキルビフェニルを合成する第1の工程、次いで、 下記式(8)
CHOH            (8)
のメタノールと極性溶媒中で、NaBH触媒を用いて反応させて、
下記一般式(9)
【化16】
Figure 2004107274
の4−ヒドロキシエチル−4’−ペルフルオロアルキルビフェニルを合成する第2の工程、次いで、
有機溶媒中で、三臭化リン触媒を用いて加熱することにより、
下記一般式(10)
【化17】
Figure 2004107274
の4−ペルフルオロアルキル−4’−ビニルビフェニルを合成する第3の工程、次いで、 下記式(4)
HSi(OCH      (4)
のトリメトキシシランと極性溶媒中で、塩化白金酸触媒を用いて反応させて、
下記一般式(2)
【化18】
Figure 2004107274
2−(4’−ペルフルオロアルキルビフェニル)エチルトリメトキシシランを合成する第4の工程からなることを特徴とする
ペルフルオロアルキル鎖およびビフェニルアルキル鎖を有する、耐熱性および防汚性シランカップリング剤の製造方法である。
【0009】
以下、実施例により本発明を更に詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例により限定されるものではない。
【実施例1】
「式(CCHCHSi(OCH[2P2S3M]
【化19】
Figure 2004107274
の合成」
還流冷却器と滴下漏斗を装備したナスフラスコ中に、窒素下で4−ビニルビフェニル1.00g(5.55mmol)、溶媒としてベンゼン2ml、触媒として0.1M−HPtCl/テトラヒドロフラン(以下、THFと略す。)溶液0.2mlを採取した。トリメトキシシラン0.73g(5.97mmol)を滴下し、滴下終了後50℃で50時間加熱撹拌を行った。放冷後、過剰のトリメトキシシランおよび溶媒を減圧留去し、残留物を減圧蒸留して留出物を得た。
得られた留出物についてH−NMRのスペクトルにより分析を行った。
NMRのスペクトルを図1に示す。
得られた留出物は、H−NMRのスペクトルにより、2P2S3Mであると同定した。
収量    1.43g
収率    85%
沸点    110−113℃/11Pa
性状は、無色透明液体であった。
【0010】
【実施例2】
「式F(CF(CCOCH [4F2PK]
【化20】
Figure 2004107274
の合成 」
ペルフルオロブチルヨージド(ダイキンファインケミカル製)27.3g(78.8mmol)、4−アセチル−4’−ブロモビフェニル15.0g(54.6mmol)、銅ブロンズ粉(アルドリッチケミカル製)19.0g(298mmol)および溶媒としてジメチルスルホキシド(以下、DMSOという。)110mmlを、還流冷却器を装備したナスフラスコに窒素下で採取し、110℃で24時間加熱撹拌した。撹拌終了後、室温まで冷却し、過剰の銅ブロンズ粉を濾別した。濾液に水200ml を加え、室温で撹拌後、析出物をさらに吸引濾過した。濾液をジエチルエーテルで抽出し、エーテル層を水洗後、溶媒を減圧留去し、残留物を減圧蒸留して留出物を得た。
得られた留出物についてH−NMR、FT−IR、Massの各スペクトルにより分析を行った。
NMR、IR、Massの各スペクトルを図2、図3、図4に示す。
得られた留出物は、H−NMR、FT−IR、Massの各スペクトルにより、4F2PKであると同定した。
収量    20.2g
収率    89 %
沸点    123−125 ℃/11Pa
性状は白色固体であった。
【0011】
「式F(CF(CCH(OH)CH[4F2PA]
【化21】
Figure 2004107274
の合成」
4F2PK 5.40g(13.0mmol)、NaBH 0.47g(12.4mmol) および溶媒としてTHF 50mlを還流冷却器と等圧滴下漏斗を装備したナスフラスコに採取し、CHOH 50mlを氷冷下で撹拌させながら滴下した。その後室温となるまで撹拌し、さらに2時間加熱還流した。
CHOHを減圧留去し,得られた白色固体をジエチルエーテルに溶解した。
この溶液に水を加え、ジエチルエーテルにより抽出し、エーテル層を水洗後、カラム分離し、生成物を得た。なお、展開液はジクロロメタンを用いた。
得られた生成物について H−NMR、FT−IRの各スペクトルおよびMassにより分析を行った。
NMR、IR、Massの各スペクトルを図5、図6、図7に示す。
得られた生成物は、H−NMR、FT−IR、Massの各スペクトルにより、4F2PAであると同定した。
収量    5.13g
収率    95%
性状は白色固体であった。
【0012】
「式F(CF(CCH=CH[4F2PV]
【化22】
Figure 2004107274
の合成 」
4F2PA 2.04g(4.90mmol)、溶媒としてジエチルエーテル5mlを還流冷却器と等圧滴下漏斗を装備したナスフラスコに窒素下で採取し、三臭化リン0.9g(3.32mmol) を氷冷下で滴下し、反応終了後、反応溶液を氷水に加え、ジエチルエーテルで抽出した。抽出したエーテル層を水洗後、溶媒を減圧留去し、減圧蒸留した。
得られた留出物について H−NMR、FT−IRの各スペクトルおよびMassにより分析を行った。
NMR、IR、Massの各スペクトルを図8、図9、図10に示す。
得られた留出物は、H−NMR、FT−IR、Massの各スペクトルにより、4F2PVであると同定した。
収量    1.58g
収率    81 %
沸点    120−123 ℃/11Pa
性状は白色固体であった。
【0013】
「式F(CF(CCHCHSi(OCH[4F2P2S3M]
【化23】
Figure 2004107274
の合成」
還流冷却器と滴下漏斗を装備したナスフラスコ中に、窒素下で4F2PV 2.30g(5.77mmol)、溶媒としてベンゼン5ml、触媒として0.1M−HPtCl/TFH溶液0.2mlを採取した。トリメトキシシラン0.91g(7.45mmol)を滴下し、滴下終了後50 ℃で50時間加熱撹拌を行った。放冷後、過剰のトリメトキシシランおよび溶媒を減圧留去し、残留物を減圧蒸留して留出物を得た。
得られた留出物について H−NMR、FT−IRの各スペクトルおよびMassにより分析を行った。
NMR、IR、Massの各スペクトルを図11、図12、図13に示す。
得られた留出物は、H−NMR、FT−IR、Massの各スペクトルにより、4F2P2S3Mであると同定した。
収量    0.60g
収率    20%
沸点    120−123℃/11PA
性状は無色透明液体であった。
【0014】
【実施例3】
「式F(CF(CCOCH[6F2PK]
【化24】
Figure 2004107274
の合成 」
ペルフルオロヘキシルヨージド31.6g(70.8mmol)、4−アセチル−4’−ブロモビフェニル16.2g(58.7mmol)、銅ブロンズ粉31.0g(487mmol) および溶媒としてDMSO 110mlを、還流冷却器を装備したナスフラスコに窒素下で採取し、110 ℃で24時間加熱撹拌した。撹拌終了後、室温まで冷却し、過剰の銅ブロンズ粉を濾別した。濾液に水200mlを加え、室温で撹拌後、析出物をさらに吸引濾過した。濾液をジエチルエーテルにより抽出し、エーテル層を水洗後、溶媒を減圧留去し、残留物を減圧蒸留して留出物を得た。
得られた留出物について H−NMR、FT−IRの各スペクトルおよびMassにより分析を行った。
NMR、IR、Massの各スペクトルを図14、図15、図16に示す。
得られた留出物は、H−NMR、FT−IR、Massの各スペクトルにより、6F2PKであると同定した。
収量    28.1g
収率    93%
沸点    140−142℃/11PA
性状は白色固体であった。
【0015】
「式F(CF(CCH(OH)CH[6F2PA]
【化25】
Figure 2004107274
の合成 」
6F2PK 5.35g(10.4mmol)、NaBH 0.42g(11.1mmol)および溶媒としてTHF 50mlを還流冷却器と等圧滴下漏斗を装備したナスフラスコに採取し、CHOH 40mlを氷冷下で撹拌させながら滴下した。その後室温となるまで撹拌し、さらに2時間加熱還流した。
CHOHを減圧留去し、得られた白色固体をジエチルエーテルに溶解した。
この溶液に水を加え、ジエチルエーテルにより抽出し、エーテル層を水洗後、カラム分離し、生成物を得た。なお、展開液はジクロロメタンを用いた。
得られた生成物について H−NMR、FT−IRの各スペクトルおよびMassにより分析を行った。
NMR、IR、Massの各スペクトルを図17、図18、図19に示す。
得られた生成物は、H−NMR、FT−IR、Massの各スペクトルにより、6F2PAであると同定した。
収量    5.26g
収率    98%
性状は白色固体であった。
【0016】
「式F(CF(CCH=CH[6F2PV]
【化26】
Figure 2004107274
の合成 」
6F2PA 28.9g(55.9mmol)、溶媒としてジエチルエーテル40mlを還流冷却器と等圧滴下漏斗を装備したナスフラスコに窒素下で採取し、三臭化リン7.58g(28.0mmol)を氷冷下で滴下し、反応終了後、反応溶液を氷水に加え、ジエチルエーテルで抽出した。抽出したエーテル層を水洗後、溶媒を減圧留去し、減圧蒸留した。
得られた留出物について H−NMR、FT−IRの各スペクトルおよびMassにより分析を行った。
NMR、IR、Massの各スペクトルを図20、図21、図22に示す。
得られた留出物は、H−NMR、FT−IR、Massの各スペクトルにより、6F2PVであると同定した。
収量    20.9g
収率    75%
沸点    126−128℃/10Pa
性状は白色固体であった。
【0017】
「式F(CF(CCHCHSi(OCH[6F2P2S3M]
【化27】
Figure 2004107274
の合成」
還流冷却器と滴下漏斗を装備したナスフラスコ中に、窒素下で6F2PV 1.04g(2.09mmol)、溶媒としてベンゼン8ml、触媒として0.1M−HPtCl/THF溶液0.2mlを採取した。トリメトキシシラン0.5ml(4.09mmol)を滴下し、滴下終了後50℃で50時間加熱撹拌を行った。放冷後、過剰のトリメトキシシランおよび溶媒を減圧留去し、残留物を減圧蒸留して留出物を得た。
得られた留出物についてH−NMR、FT−IRの各スペクトルおよびMassにより分析を行った。
NMR、IR、Massの各スペクトルを図23、図24、図25に示す。
得られた留出物は、H−NMR、FT−IR、Massの各スペクトルにより、6F2P2S3Mであると同定した。
収量    0.78g
収率    60%
沸点    126−128℃/10Pa
性状は無色透明液体であった。
【0018】
【実施例4】
「式F(CF(CCOCH[8F2PK]
【化28】
Figure 2004107274
の合成」
ペルフルオロオクチルヨージド74.1g(136mmol)、4−アセチル−4’−ブロモビフェニル25.0g(102mmol)、銅ブロンズ粉37.7g(593mmol)および溶媒としてDMSO 110mlを、還流冷却器を装備したナスフラスコに窒素下で採取し、110℃で24時間加熱撹拌した。
撹拌終了後、室温まで冷却し、過剰の銅ブロンズ粉を濾別した。濾液に水200mlを加え、室温で撹拌後、析出物をさらに吸引濾過した。濾液をジエチルエーテルにより抽出し、エーテル層を水洗後、溶媒を減圧留去し、残留物を減圧蒸留して留出物を得た。
得られた留出物についてH−NMR、FT−IRの各スペクトルおよびMassにより分析を行った。
NMR、IR、Massの各スペクトルを図26、図27、図28に示す。
得られた留出物は、H−NMR、FT−IR、Massの各スペクトルにより、8F2PKであると同定した。
収量    47.0g
収率    84%
沸点    156−158℃/20Pa
性状は白色固体であった。
【0019】
「式F(CF(CCH(OH)CH[8F2PA]
【化29】
Figure 2004107274
の合成」
8F2PK 14.3g(10.4mmol)、NaBH 0.88g(11.1mmol)および溶媒としてTHF 70mlを還流冷却器と等圧滴下漏斗を装備したナスフラスコに採取し、CHOH 70mlを氷冷下で撹拌させながら滴下した。その後室温となるまで撹拌し、さらに2時間加熱還流した。
CHOHを減圧留去し,得られた白色固体をジエチルエーテルに溶解した。
この溶液に水を加え、ジエチルエーテルにより抽出し、エーテル層を水洗後、カラム分離し、生成物を得た。なお、展開液はジクロロメタンを用いた。
得られた生成物についてH−NMR、FT−IRの各スペクトルおよびMassにより分析を行った。
NMR、IR、Massの各スペクトルを図29、図30、図31に示す。
得られた生成物は、H−NMR、FT−IR、Massの各スペクトルにより、8F2PAであると同定した。
収量    12.6g
収率    88%
性状は白色固体であった。
【0020】
「式F(CF(CCH=CH[8F2PV]
【化30】
Figure 2004107274
の合成 」
8F2PA 12.6g(20.5mmol)、溶媒としてジエチルエーテル30mlを還流冷却器と等圧滴下漏斗を装備したナスフラスコに窒素下で採取し、三臭化リン2.77g(10.2mmol)を氷冷下で滴下し、反応終了後、反応溶液を氷水に加え、ジエチルエーテルで抽出した。抽出したエーテル層を水洗後、溶媒を減圧留去し、減圧蒸留した。
得られた留出物についてH−NMR、FT−IRの各スペクトルおよびMassにより分析を行った。
NMR、IR、Massの各スペクトルを図32、図33、図34に示す。
得られた留出物は、H−NMR、FT−IR、Massの各スペクトルにより、8F2PVであると同定した。
収量    7.34g
収率    60%
沸点    130−133℃/13Pa
性状は白色固体であった。
【0021】
「式F(CF(CCHCHSi(OCH[8F2P2S3M]
【化31】
Figure 2004107274
の合成」
還流冷却器と滴下漏斗を装備したナスフラスコ中に、窒素下で8F2PV 1.26g(2.11mmol)、溶媒としてベンゼン10ml、触媒として0.1M−HPtCl/THF溶液0.2mlを採取した。トリメトキシシラン0.26g(2.13mmol)を滴下し、滴下終了後50℃で50時間加熱撹拌を行った。放冷後、過剰のトリメトキシシランおよび溶媒を減圧留去し、残留物を減圧蒸留して留出物を得た。
得られた留出物についてH−NMR、FT−IRの各スペクトルおよびMassにより分析を行った。
NMR、IR、Massの各スペクトルを図35、図36、図37に示す。
得られた留出物は、H−NMR、FT−IR、Massの各スペクトルにより、8F2P2S3Mであると同定した。
収量    0.76g
収率    50%
沸点    130−133℃/ 10Pa
性状は無色透明液体であった。
【0022】
【試験例】
「物性の測定」
基質として、ガラスを用いて物性の測定を行った。
(ガラスの洗浄)
スライドガラス(マツナミ製S−7214)を1N水酸化カリウム水溶液(pH>9)に2時間浸した後に取り出し,蒸留水で十分に洗浄した。その後、スライドガラスを空気中で風乾した。洗浄済みガラスは、直ちに次の表面改質に用いた。
(改質溶液の調製)
式 2P2S3M のビフェニルアルキル鎖を有するシランカップリング剤、
および下記一般式のペルフルオロアルキル鎖を有するシランカップリング剤
nF2P2S3M    [n=4、6、8]
をtert−COCH(ダイキンファインケミカル製HFE−7100)溶媒に濃度15mmol/lになるように調製してガラスの表面改質に用いた。
(ガラスの表面改質)
200ml広口受器に前記の方法で洗浄済みのスライドガラスを入れ、窒素置換を行った。これに対して、前記で調製した改質溶液を広口受器に加え、改質溶液中にスライドガラスを完全に浸し、2時間、加熱還流を行った。冷却後、取り出したガラスを改質溶媒次いで蒸留水で洗浄した。
その後、ガラス表面に結合したシランカップリング剤の残り2つのメトキシ基を、隣同士のメトキシ基や他のメトキシ基と縮合反応させて、2次元ないし3次元の網状のシロキサン結合を形成するシロキサンネットワークを構築する目的でオーブン中100℃ で30分間加熱処理を行った。
加熱処理後は、デシケーター中で室温まで冷却し、改質ガラスに対する水の接触角を測定した。
接触角の測定は、協和界面化学製CA−X型接触角測定装置を使用し、0.9μlの水滴を水平なガラス板上に滴下して接触角を測定する液滴法を用いた。
調製した式2P2S3Mの改質溶液による初期接触角は、90±1°であった。また、調製した式nF2P2S3M改質溶液による初期接触角を表1に示す。
Figure 2004107274
【0023】
(改質ガラスの耐熱性試験)
200ml広口受器に前記の方法で洗浄済みのスライドガラスを入れ、窒素置換を行った。前記で調製した改質溶液により、2時間、ガラスの改質を行った。
その後、シロキサンネットワークを構築する目的でオーブン中100℃で30分間加熱処理を行った。加熱処理後はデシケーター中で室温まで冷却し、改質ガラスに対する水の接触角を測定した。
次に、この改質ガラスを、所定温度(200、250、300、350℃)のオーブン中で所定時間(0.5、1.0、1.5、2.9時間)加熱処理した。
加熱処理後はデシケーター中で室温まで冷却し、改質ガラスに対する水の接触角を測定した。
接触角の測定は、前記と同様の方法で行った。
調製した各改質溶液について、それぞれの接触角を表2〜5に示す。
Figure 2004107274
Figure 2004107274
上記表のデータを各改質溶液についてグラフに表示すると、それぞれ図38、図39、図40、および図41のようになる。
【0024】
(改質ガラスの耐酸性試験)
200ml広口受器に前記の方法で洗浄済みのスライドガラスを入れ、窒素置換を行った。前記で調製した改質溶液により、2時間、ガラスの改質を行った。
その後、シロキサンネットワークを構築する目的でオーブン中100℃で30分間加熱処理を行った。
加熱処理後は、デシケーター中で室温まで冷却し、改質ガラスに対する水の接触角を測定した。
次に、この改質ガラスを濃塩酸中に完全に浸し、2時間加熱還流した。その後蒸留水で十分に洗浄し、室温で乾燥したのち、改質ガラスに対する水の接触角を測定し、改質ガラスの耐酸性について調べた。
接触角の測定は前記と同様の方法で行った。
調製した各改質溶液について、それぞれの接触角を表6に示す。
Figure 2004107274
上記表のデータを各改質溶液についてグラフに表示すると、それぞれ図42のようになる。
【0025】
(改質ガラスの耐酸化性試験)
200ml広口受器に前記の方法で洗浄済みのスライドガラスを入れ、窒素置換を行った。前記で調製した改質溶液により、2時間、ガラスの改質を行った。
その後、シロキサンネットワークを構築する目的でオーブン中100℃で30分間加熱処理を行った。
加熱処理後は、デシケーター中で室温まで冷却し、改質ガラスに対する水の接触角を測定した。
次に、この改質ガラスを濃硝酸中に完全に浸し、2時間加熱還流した。その後蒸留水で十分に洗浄し、室温で乾燥した後、改質ガラスに対する水の接触角を測定し、改質ガラスの耐酸化性について調べた。
接触角の測定は前記と同様の方法で行った。
調製した改質溶液について、それぞれの接触角を表7に示す。
Figure 2004107274
上記表のデータを各改質溶液についてグラフに表示すると、それぞれ図43のようになる。
【0026】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明の製造方法により得られたビフェニルアルキル鎖を有するシランカップリング剤は、300℃以上の雰囲気に2時間以上暴露しても、これら化合物による改質表面接触角の低下が見られないほどの優れた耐熱性を有するものであり、格別の効果と有用性を有する。
また、ペルフルオロアルキル鎖およびビフェニルアルキル鎖を有するシランカップリング剤は、耐熱性および防汚性を有するものであり、格別の効果と有用性を有する。そのために、電子レンジ内でも使用可能な防汚性のガラス容器などの表面改質剤として使用できる。
また、いずれのシランカップリング剤も、基質や粉体の表面に使用でき、それらの表面を改質できるものである。
さらに、融点が300℃以上の耐熱性プラスチックに対するカップリング剤として格別の効果と有用性を有するものである。
【図面の簡単な説明】
【図1】2P2S3MのNMRである。
【図2】4F2PKのNMRである。
【図3】4F2PKのIRである。
【図4】4F2PKのMassである。
【図5】4F2PAのNMRである。
【図6】4F2PAのIRである。
【図7】4F2PAのMassである。
【図8】4F2PVのNMRである。
【図9】4F2PVのIRである。
【図10】4F2PVのMassである。
【図11】4F2P2S3MのNMRである。
【図12】4F2P2S3MのIRである。
【図13】4F2P2S3MのMassである。
【図14】6F2PKのNMRである。
【図15】6F2PKのIRである。
【図16】6F2PKのMassである。
【図17】6F2PAのNMRである。
【図18】6F2PAのIRである。
【図19】6F2PAのMassである。
【図20】6F2PVのNMRである。
【図21】6F2PVのIRである。
【図22】6F2PVのMassである。
【図23】6F2P2S3MのNMRである。
【図24】6F2P2S3MのIRである。
【図25】6F2P2S3MのMassである。
【図26】8F2PKのNMRである。
【図27】8F2PKのIRである。
【図28】8F2PKのMassである。
【図29】8F2PAのNMRである。
【図30】8F2PAのIRである。
【図31】8F2PAのMassである。
【図32】8F2PVのNMRである。
【図33】8F2PVのIRである。
【図34】8F2PVのMassである。
【図35】8F2P2S3MのNMRである。
【図36】8F2P2S3MのIRである。
【図37】8F2P2S3MのMassである。
【図38】2P2S3Mの耐熱性を示すグラフである。
【図39】4F2P2S3Mの耐熱性を示すグラフである。
【図40】6F2P2S3Mの耐熱性を示すグラフである。
【図41】8F2P2S3Mの耐熱性を示すグラフである。
【図42】各改質溶液の耐酸性を示すグラフである。
【図43】各改質溶液の耐酸化性を示すグラフである。

Claims (4)

  1. 下記一般式(1)
    Figure 2004107274
    で表され、式中Rは水素、又はF(CFのペルフルオロアルキル鎖であり、mは1〜12の正数であるビフェニルアルキル鎖を有する耐熱性シランカップリング剤。
  2. 下記一般式(2)
    Figure 2004107274
    で表され、式中nは1〜12の正数、好ましくは4〜8の正数であるペルフルオロアルキル鎖、およびビフェニルアルキル鎖を有する耐熱性および防汚性シランカップリング剤。
  3. 下記一般式(3)
    Figure 2004107274
    で表され、式中Rは水素、又はF(CFのペルフルオロアルキル鎖であり、mは1〜12の正数である4−ビニルビフェニルを下記式(4)
    HSi(OCH      (4)
    のトリメトキシシランと極性溶媒中で、塩化白金酸触媒を用いて反応させて、
    下記一般式(1)
    Figure 2004107274
    で表され、式中Rは水素、又はF(CFのペルフルオロアルキル鎖であり、mは1〜12の正数であるビフェニルアルキル鎖を有する耐熱性シランカップリング剤の製造方法。
  4. 下記式(5)
    Figure 2004107274
    の4−アセチル−4’−ブロモビフェニルを下記式(6)
    F(CFI        (6)
    で表され、式中nは1〜12の正数、好ましくは4〜8の正数であるペルフルオロアルキルヨージドと極性溶媒中で、銅ブロンズ粉触媒を用いて反応させて、
    下記一般式(7)
    Figure 2004107274
    の4−アセチル−4’−ペルフルオロアルキルビフェニルを合成する第1の工程、次いで、 下記式(8)
    CHOH            (8)
    のメタノールと極性溶媒中で、NaBH触媒を用いて反応させて、
    下記一般式(9)
    Figure 2004107274
    の4−ヒドロキシエチル−4’−ペルフルオロアルキルビフェニルを合成する第2の工程、次いで、
    有機溶媒中で、三臭化リン触媒を用いて加熱することにより、
    下記一般式(10)
    Figure 2004107274
    の4−ペルフルオロアルキル−4’−ビニルビフェニルを合成する第3の工程、次いで、 下記式(4)
    HSi(OCH      (4)
    のトリメトキシシランと極性溶媒中で、塩化白金酸触媒を用いて反応させて、
    下記一般式(2)
    Figure 2004107274
    2−(4’−ペルフルオロアルキルビフェニル)エチルトリメトキシシランを合成する第4の工程からなることを特徴とする
    ペルフルオロアルキル鎖およびビフェニルアルキル鎖を有する、耐熱性および防汚性シランカップリング剤の製造方法。
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