JP2004029126A

JP2004029126A - 帯電防止性反射防止フィルム

Info

Publication number: JP2004029126A
Application number: JP2002181475A
Authority: JP
Inventors: Kengo Okamura; 岡村　賢吾; Toshikazu Iijima; 飯島　俊和
Original assignee: Toyo Metallizing Co Ltd
Current assignee: Toyo Metallizing Co Ltd
Priority date: 2002-06-21
Filing date: 2002-06-21
Publication date: 2004-01-29

Abstract

【課題】従来持ち合わせていた反射防止フィルム性能を維持したまま、帯電防止機能を有する帯電防止性反射防止フィルムを提供する。
【解決手段】プラスチックフィルムの少なくとも片面に、酸化インジウムと酸化スズの混合物からなり、その混合比がそれぞれ６５重量％以下及び６０重量％以上からなり、かつ表面抵抗値が１０^５Ω／□以上の導電層を含む反射防止膜層を有する帯電防止性反射防止フィルム。
【選択図】　図１

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、フィールドエミッションディスプレイ（ＦＥＤ）やテレビ・コンピューターのブラウン管（ＣＲＴ）などの画像表示装置などの全面に装着され、外光などからの光が表示画面に反射し、表示画面が見にくくなることを防止し、なおかつフィルムに帯電する静電気を防止する帯電防止性反射防止フィルムに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
一般的に、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、フィールドエミッションディスプレイ（ＦＥＤ）やテレビ・コンピューターのブラウン管（ＣＲＴ）などの画像表示画面は、ガラスやプラスティック板である場合が多く、従来は、そのガラス面やプラスティック板等の基材に、直接反射防止機能を付与してきた。しかしながら、近年の画像表示画面のフラット化に伴い、当該基材に反射防止機能を有するプラスティックフィルム（反射防止膜層）を貼ることができるようになった。
【０００３】
また、コンピューター用のディスプレイなどの画像表示装置では、作業者と表示装置からの距離が近いこともあり、表示装置から発せられるＶＬＦ帯（２〜４００ｋＨｚ）およびＥＬＦ帯（５〜２０００Ｈｚ）の電磁波の人体への影響が問題視されつつある。このような漏洩電磁波に対し、ヨーロッパを中心にＴＣＯ規格が設けられている。かかる課題に対応するため、反射防止膜層内に導電層を設け表示装置のアースに落とすことにより、電磁波の人体への影響を防止する策がとられている。この導電層は、表面抵抗値を１０^３Ω／□以下とする必要があるため、一般的には、酸化インジウムと酸化スズの混合物（以下ＩＴＯという）が使用され、かつその導電性を得るためには、酸化スズの混合比が５〜３０重量％の範囲である必要があった。
【０００４】
しかしながら、上記導電層による電磁波シールド効果を満足するためには、アースする必要があり、この方法として特開平８−２８７８５０号公報に示されるような超音波はんだを使用して、導電層にはんだを浸透させる方法が必要となる。そのため、表示装置製造行程内に超音波はんだ装置および工程が必要となり、コストアップにつながっている。しかし、民生用テレビなど作業者と表示装置からの距離が遠い表示装置、また液晶ディスプレイなど漏洩電磁波の影響があまりないものについては、電磁波シールド機能に関する規格は特に設けられていない。このため、反射防止膜内の導電層を帯電防止レベルの１０^５Ω／□以上を満たすものでよく、フィルムに帯電した静電気は反射防止フィルムの表面に導電テープなど簡略なものを使用するだけで防止することができ、コストダウンに寄与する。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
反射防止フィルムに要求される性能は、次のとおりである。
（１）可視光線領域における反射防止膜の反射率が１％になる短波長と長波長の比（バンド幅）が、１．４０以上あること。
（２）反射防止膜が膜密着性、耐擦傷性に優れること。
（３）表面に傷が付きにくい。具体的に表面の鉛筆硬度が２Ｈ以上。望ましくはマジックインキ、コーヒー、口紅、ガラスクリーナーなどの生活用品に対しても汚れにくいこと。
（４）前記反射防止フィルム性能が温度（−１０〜５０℃）、湿度（１０〜９５％ＲＨ）の環境変化に伴う長期使用状態においても変化しないこと。
【０００６】
本発明の目的は、高屈折率導電層として一般的なＩＴＯを使用し、従来持ち合わせていた反射防止フィルム性能を維持したまま、表面抵抗値を漏洩電磁波シールド効果を付加させるために１０^３Ω／□以下に押さえていたものを帯電防止機能のみを持たせるための１０^５Ω／□以上とした帯電防止性反射防止フィルムを提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
上記の本発明の目的は、次の（１）〜（５）の発明によって達成される。
（１）プラスチックフィルムの少なくとも片面に、酸化インジウムと酸化スズの混合物からなり、それらの混合比がそれぞれ６５重量％以下及び３５重量％以上からなり、かつ表面抵抗値が１０^５Ω／□以上の導電層を含む反射防止膜層を有することを特徴とする帯電防止性反射防止フィルム。
（２）反射防止膜層が、高屈折率の導電層と低屈折率層からなることを特徴とする上記（１）記載の帯電防止性反射防止フィルム。
（３）反射防止膜層が、エレクトロンビーム加熱法による真空蒸着法またはスパッタリング法により成膜されている上記（１）または（２）記載の帯電防止性反射防止フィルム。
（４）反射防止膜層が、エレクトロンビーム加熱法による真空蒸着法またはスパッタリング法により成膜されている上記（１）〜（３）のいずれかに記載の帯電防止性反射防止フィルム。
（５）反射防止膜層の上に、純水接触角が９０ｄｅｇ以上である撥水防汚層が設けられている上記（１）〜（４）のいずれかに記載の帯電防止性反射防止フィルム。
【０００８】
【発明の実施の形態】
本発明の帯電防止性反射防止フィルムは、プラスチックフィルムの少なくとも片面に、酸化インジウムと酸化スズの混合物からなり、それらの混合比がそれぞれ６５重量％以下及び３５重量％以上からなり、かつ表面抵抗値が１０^５Ω／□以上の導電層を含む反射防止膜層を有することを特徴とする帯電防止性反射防止フィルムである。
【０００９】
本発明で用いられるプラスチックフィルムとしては、可視光線を通過することができる透明性があり、その表面に、後述する図１に示すようなハードコート層と反射防止膜層を蒸着などの方法により成膜し、またディスプレイの全面に接着する工程に耐えられる熱的、機械的、形態的安定製のあるものであれば差し支えない。具体的には、厚さが好ましくは５０〜２５０μｍ、より好ましくは１８８μｍ程度の、ポリオレフィン系樹脂、ポリメタクリル酸系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、トリアセテート系樹脂などからなるフィルムが挙げられる。その中でも、熱的、機械的、形態的安定性の面と経済性のバランスの面から、ポリエステル系樹脂、その中でもポリエチレンテレフタレートを主体とする樹脂からなるフィルムが好ましく用いられる。
【００１０】
本発明では、反射防止膜層における導電層の表面抵抗値を１０^５Ω／□以上とする。本発明で、反射防止膜層における導電層の表面抵抗値を１０^５Ω／□以上とする手段として、ＩＴＯを使用する。ＩＴＯは可視光線を通過することができ、また導電性能が高いため、漏洩電磁波シールド効果を持った反射防止膜作製の際は有効な材料であることは公知のことである。導電層の表面抵抗値を１０^５Ω／□以上とする手段として他の種類の高屈折率材料を使用することは容易に考えられるが、本発明では、酸化インジウムと酸化スズの混合比を変えることにより、表面抵抗値を１０^５Ω／□以上、好ましくは、１０^５〜１０^８Ω／□とする。
【００１１】
そのため、本発明においては、酸化インジウムと酸化スズの混合物の混合比がそれぞれ６５重量％以下及び３５重量％以上であることが必要であるが、好ましくは３０〜４０重量％及び６０〜７０重量％である。
【００１２】
本発明において、導電層の表面抵抗値を１０^５Ω／□以上とすることの利点として、一般に使用されているＩＴＯ（酸化スズを混合比で５〜３０重量％）と屈折率が大きく変わらず、ほぼ２．０であることから、成膜条件を大きく変更することなく成膜できることが挙げられる。
【００１３】
また、表面抵抗値の点から導電層の厚みは薄いほど好ましいが、反射率の点から対象とする波長に対して、光学的理論から要求される厚み近辺でなければならない。ただし、この値は必ずしも一つの値ではなく、設計膜構成（反射防止膜層数や使用する低屈折率層の屈折率など）により変化するものである。
【００１４】
この導電層は、一般に使用されているポリエチレンテレフタレートの屈折率１．６より大きい屈折率２．０を持つため、高屈折率層と呼び、また屈折率１．６より低い屈折率を低屈折率層と呼ぶ。ポリエチレンテレフタレート上にこの高屈折率層と低屈折率層を交互に積層することにより反射防止層を形成する。
【００１５】
本発明の反射防止膜層は、上記の高屈折率の導電層を含むものであり、該導電層と低屈折率層からなることが好ましい。
【００１６】
低屈折率層を構成する成分としては、酸化マグネシウム（屈折率ｎ＝１．６）、二酸化珪素（ｎ＝１．４）、フッ化マグネシウム（ｎ＝１．４）、フッ化カルシウム（ｎ＝１．３〜１．４）、フッ化セリウム（ｎ＝１．６）、フッ化アルミニウム（ｎ＝１．３）、酸化アルミニウム（ｎ＝１．６）などが挙げられる。しかしながら、反射防止膜層の最表層膜としては、二酸化珪素を使用することが好ましい。これは、二酸化珪素（以下ＳｉＯ_２と省略）以外の材料の場合には十分な表面硬度が得られない場合があるためである。このため、反射防止膜層の最表層膜としての膜厚は１００ｎｍ以上設けることが好ましい。　また、本発明の帯電防止性反射防止フィルムにおいては、基材のプラスチックフィルムと反射防止膜層の間に、厚さ１μｍ〜１５μｍの耐擦傷性を有しその鉛筆硬度が２Ｈ以上であるハードコート層を設けることが好ましい。
【００１７】
ハードコート層は、本発明の帯電防止性反射防止フィルムをディスプレイ表面に貼り合わせた状態で、本来、目的として使用しない物品との接触（例として、鉛筆、シャープペンシルの先、爪など）や表面を拭いて洗浄しようとする際の、摩擦による傷の発生を押さえるものである。表面硬度の表現方法は種々あるが、通常鉛筆硬度が便利に使われ、本発明では少なくとも２Ｈ以上の硬度であることが好ましい。
【００１８】
本発明の各種酸化物で構成される反射防止膜層はそれ自体十分硬いものであるが、典型例である４層全体でも厚さが約０．５μｍ以下であり、このような厚さの反射防止膜層の下に、基材である一般に硬度の低いプラスティック層が存在する場合、上記にある種々の傷発生原因に対してはほとんど効果がない。傷発生防止の効果を発揮するために、かなりの厚みを必要とするハードコート層を反射防止膜層の外側（上側）に設けることは、反射防止の原理からは不可能である。したがって、ハードコート層を基材であるプラスチックフィルムと反射防止膜層の間に設けることになる。このハードコート層の厚みは傷の付きにくい表面硬度を発揮するために最小限の厚みとして一般的には２μｍ以上必要であり、また厚すぎるとフィルム全体の柔軟性をなくしたり、光学特性の点からも障害の原因となりやすいため、１５μｍ以下が望ましい。
【００１９】
ハードコート層の化学的組成としては、ポリオルガノシロキサン、シリカ、アルミナなどの無機系樹脂、あるいは有機アクリル系樹脂のいずれでもよい。
【００２０】
また、ハードコート層の成膜方法としては、真空蒸着方式あるいは、溶液の塗布・乾燥によるいわゆるウエットコーティング方式など、通常行われているいずれの方式も可能である。しかしながら、ハードコート層は上記のように一般には２μｍ以上の厚みを必要とするため、ウエットコーティング方式を用いて形成することが望ましい。その場合は、有機アクリル系樹脂が選択しやすく、メタクリル酸などのアクリル化合物と多官能グリコールとのエステル化合物を架橋させて成膜する方法が好ましい。
【００２１】
ハードコート層とプラスチックフィルムとの接着性および、プラスチックフィルムとディスプレイと貼り合わせるための粘着層との接着性を高めるために、２μｍ以下程度の薄いアンカーコート層を設けることも好ましく行われる。その場合、アンカーコート層は、例えばアクリル系樹脂あるいはポリエステル系樹脂を用いて、プラスティックフィルム製造時でのインライン方式あるいはオフライン方式により形成することができる。
【００２２】
また、ハードコート層と反射防止膜層との密着性を高めるために、０．０１μｍ程度の極めて薄いプライマー層を設けることも好ましく行われる。このプライマー層は反射防止膜性能に影響のない範囲で設計されるものであり、ハードコート層および反射防止膜層との密着性がよいものであればよく、ＳｉＯ_ｘなどに代表される無機物をエレクトロンビーム法による真空蒸着法（ＥＢ蒸着法）あるいはスパッタリング法などにより形成することが望ましい。
【００２３】
本発明においては、反射防止膜層の上に、さらに反射防止性能に影響のない範囲で通常、厚みが１ｎｍ〜２０ｎｍの範囲において、純水接触角が９０ｄｅｇ以上の撥水防汚層が設けられていることが好ましい。この目的は、本発明の帯電防止性反射防止フィルムをディスプレイ表面に貼り合わせた状態で、本来使用目的ではない様々な使用環境において、表面を汚れにくくかつ反射防止膜層を保護するためである。汚れの原因として、人体の汗、指紋、マジックインキ、コーヒーなどを想定して、撥水性、撥油性の被膜を設けることで目的は達成される。この撥水性、撥油性被膜の具体的な成膜方法としては、種々の方法があるが、例えば、特開平６−１２２７７６号公報に示されているようなフルオロアルキルシランなどの表面エネルギーの小さい化合物を反射防止膜層の最外層表面で化学結合によって高分子被膜化する方法が挙げられる。汚れ防止性能の尺度として、純水接触角を用いることが便利であり、純水接触角が９０ｄｅｇ以上あるときに、上記のような汚れ原因に対して効果があり、顕著な撥水効果が発揮できる。
【００２４】
次に、反射防止膜層の成膜について説明する。一般的な反射防止膜の原理と成膜方法についてはすでに公知であり、種々の目的に応じて多種多様の方法と実施例として紹介されている。基本的には基材であるプラスチックフィルムの、本発明の場合アンカーコート層やハードコート層を含めた基材フィルムの屈折率より大きい屈折率をもつ透明な化合物と小さい屈折率をもつ透明な化合物の層を、全体の反射率を極小に近い値にするように設計された光学的膜厚み（屈折率ｎと絶対厚みｄの積）で構成することからなる。しかしながら、使用される目的、許容される生産のための費用、生産のために採用できる成膜方法によって具体的な多層の構成内容が異なってくることがある。
【００２５】
図面に基づいて本発明の帯電防止性反射防止フィルムを説明する。図１は、本発明の帯電防止性反射防止フィルムの構成を例示する断面図である。図１において、ポリエチレンテレフタレート等からなるプラスチックフィルム１の上にハードコート層２をコーティングにより形成する。その上に帯電防止および反射防止膜層として、ＩＴＯからなる高屈折導電層３とＳｉＯ_２等からなる低屈折率層４を真空蒸着法にて交互に４層を積層する。そして最表層には、撥水防汚層５を形成する。
【００２６】
本発明の帯電防止性反射防止フィルムは、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、フィールドエミッションディスプレイ（ＦＥＤ）やテレビ・コンピューターのブラウン管（ＣＲＴ）などの画像表示装置などの全面に装着使用される。
【００２７】
【実施例】
以下、本発明の実施様態を実施例をもって説明するが、本発明はこれによって限定されるものではない。
【００２８】
実施例全体を通して共通的な製造条件と物性評価方法について説明する。
【００２９】
ベースフィルムであるプラスチックフィルムには、成膜時にオンラインで、非晶性ポリエステル樹脂を０．５〜０．８μｍの厚みを塗布した１８８μｍポリエチレンテレフタレート（以下ＰＥＴと省略）フィルムを用いた。ハードコート層は、ＰＥＴフィルムの片面に多官能アクリレート（エリスリトール系、ポリエステル系、ヒドロキシプロピル系の混合物）、表面平滑剤（ポリシロキサン）、光開始剤（フェニルケトン化合物）のトルエン、メチルエチルケトン混合溶媒の溶液を塗布し、乾燥後、ＵＶ照射により架橋反応を完結させることにより、鉛筆硬度３Ｈの厚み４μｍの層を形成させた。鉛筆硬度の測定は、東洋精機製作所製鉛筆硬度試験機を使用し、使用した鉛筆は鉛筆硬度試験用「三菱ユニ」であり、ＪＩＳＫ５４００に基づき荷重１ｋｇ、鉛筆先接触角４５度で実施した。
【００３０】
反射防止膜の形成は　すべて、図１に示すようなＰＥＴフィルムの上にハードコート層を形成した基板上にＩＴＯ（高屈折率導電層）、ＳｉＯ_２（低屈折率層）、ＩＴＯ（高屈折率導電層）、ＳｉＯ_２（低屈折率層）の順に４層すべてをエレクトロンビーム加熱を蒸発エネルギー源とする連続巻取式真空蒸着装置を用いて、また、部分的にＲＦイオンプレーティング方式併用で、各層の膜厚みを光学膜厚（ｎ×ｄ）をオンラインで計測制御しながら成膜した。各層の光学膜厚を下記に示す。
【００３１】

ＩＴＯおよびＳｉＯ_２成膜時における到達真空度を５．０×１０^−５Ｔｏｒｒに設定し、ＩＴＯの成膜時には酸素を導入し、酸素分圧を１．１×１０^−４Ｔｏｒｒ、高周波（１３．５６ＭＨｚ）１０ｋＷをかけたプラズマ雰囲気の条件下で成膜した。また、ＳｉＯ_２の成膜時には酸素分圧２．０×１０^−４Ｔｏｒｒの条件下で成膜した。
【００３２】
撥水防汚層の成膜は、ヘプタデカフロロ−１，１，２，２−１−トリメトキシシランを蒸気として、真空装置内に放電電極に１００Ｗの高周波プラズマを発生させた環境に導入し、４層からなる反射防止膜を成膜した上記フィルム表面上に５ｎｍの厚みに反応成膜させることによって行った。得られた撥水防汚層の純水接触角は協和界面科学製接触角計ＣＡ−Ｘを使用し、純水を反射防止フィルム表面に一滴滴下し接触角を測定した。測定結果は１０２〜１１０ｄｅｇの範囲であり、防汚層としての性能を満たしていることを確認した。
【００３３】
得られた反射防止フィルムの反射防止特性、すなわち反射率特性の測定は、島津製作所製ＵＶＰＣ−３１００を使用した。フィルムの裏面反射を打ち消すために、成膜した反射防止膜層の裏面側を黒色に塗って実施し、また、反射測定角は５度である。評価項目は、波長４５０ｎｍ〜６５０ｎｍにおける最大反射率および平均反射率、そして視感反射率すなわち可視光波長の中心波長である５５０ｎｍの反射率である。また、バンド幅の算出は、可視光線領域である３８０ｎｍ〜７８０ｎｍにおける反射率が１％になる短波長と長波長の比（長波長／短波長）から求めた。
【００３４】
得られた反射防止フィルムの透過率特性の測定は、村上色彩製光線透過率計ＨＲ−１００を使用し、全光線透過率を測定した。なお、測定波長は３８０〜７６０ｎｍである。
【００３５】
得られた帯電防止性反射防止フィルムの膜密着力特性の評価は、ＪＩＳＫ５４００に基づくクロスカット法（碁盤目テープ法）を実施した。また使用したテープはニチバンＮＯ．４０５である。
【００３６】
得られた帯電防止性反射防止フィルムの耐擦傷性および耐エタノール性の評価は、テスター産業製学振型摩擦堅牢度試験機ＡＢ−３０１を使用して実施した。耐擦傷性評価では、スチールウール＃００００を使用し、これに２００ｇ／ｃｍ^２の荷重を加え１２０ｍｍのストロークで３０往復（１往復／２秒）反射防止フィルム表面を擦り、傷および膜剥がれの有無を確認した。また、耐エタノール性の評価では、摩擦堅牢度試験用綿布金巾３号を２枚重ね、メチルアルコールをしみこませた後、２ｋｇ／ｃｍ^２の荷重を加え１２０ｍｍのストロークで３０往復（１往復／２秒）反射防止フィルム表面を擦り、傷および膜剥がれの有無を確認した。
【００３７】
得られた帯電防止性反射防止フィルムの表面抵抗値の測定は、最表層に超音波はんだ（超音波はんだ発生機：旭硝子製サンボルダー／はんだ剤：旭硝子製セラソルザＷ１４３）を使用し、抵抗値測定用の電極を２点形成した。（２点間の距離：１０ｍｍ）その後テスターにより２極間の抵抗値を測定し、その値を表面抵抗値とした。
【００３８】
［実施例１］
１８８μｍＰＥＴフィルムの片面に、４μｍのハードコート層を設けたフィルム上に高屈折率層として酸化インジウムと酸化スズの混合比をそれぞれ３０重量％および７０重量％としたＩＴＯ膜を形成し、次に、低屈折率層としてＳｉＯ_２膜を交互に積層し、図１で示した４層構成の反射防止膜を成膜した。なお、成膜はいずれもエレクトロンビーム蒸着法で実施した。得られた反射防止特性、透過率特性、膜密着力特性、耐擦傷性、耐エタノール性、表面抵抗値、鉛筆硬度試験結果を表１に示す。
【００３９】
［実施例２］
酸化インジウムと酸化スズの混合比をそれぞれ４０重量％および６０重量％としたこと以外は、実施例１と同様に成膜を実施した。得られた反射防止特性、透過率特性、膜密着力特性、耐擦傷性、耐エタノール性、表面抵抗値、鉛筆硬度試験結果を表１に示す。
【００４０】
［比較例１］
酸化インジウムと酸化スズの混合比をそれぞれ７０重量％および３０重量％としたこと以外は、実施例１と同様に成膜を実施した。得られた反射防止特性、透過率特性、膜密着力特性、耐擦傷性、耐エタノール性、表面抵抗値、鉛筆硬度試験結果を表１に示す。
【００４１】
［比較例２］
酸化インジウムと酸化スズの混合比をそれぞれ９５重量％および５重量％としたこと以外は、実施例１と同様に成膜を実施した。得られた反射防止特性、透過率特性、膜密着力特性、耐擦傷性、耐エタノール性、表面抵抗値、鉛筆硬度試験結果を表１に示す。
【００４２】
【表１】

表１に示すように、ＩＴＯを電磁波シールド性をもたせた高屈折率導電層として成膜したもの〔比較例１および比較例２〕ついては表面抵抗値が１０^３Ω／□以下に押さえられているのに対し、酸化インジウムと酸化スズの混合比をそれぞれ６５重量％以下および３５重量％以上であるＩＴＯを高屈折率導電層として成膜したもの〔実施例１および実施例２〕については表面抵抗値が１０^５Ω／□以上になっており帯電防止レベルに達している。
【００４３】
一方、表１に示すように反射防止特性、透過率特性、膜密着力特性、耐擦傷性および耐エタノール性については、ＩＴＯを電磁波シールド性を持たせた高屈折率導電層として成膜したもの〔比較例１および比較例２〕と酸化インジウムと酸化スズの混合比をそれぞれ６５重量％以下および３５重量％以上であるＩＴＯを高屈折率導電層として成膜したもの〔実施例１および実施例２〕と何ら変わらない物性を有していることがわかる。
【００４４】
また、このフィルムを反射防止膜／撥水防汚層を形成されている面が外側になるように、さらに屈折率がディスプレイのガラスとほぼ同一の多官能アクリル系接着剤を用いて３６インチ民生用テレビに装着した。このテレビのディスプレイ画面は実施例１・２および比較例１・２ともに室内照明などの写り込み（反射像）が極めて少なくテレビを鑑賞することができ、得られたフィルムが反射防止フィルムとしての機能を有効的に作用していることを確認した。
【００４５】
最後に、実施例１および実施例２に対して、温度（−１０〜５０℃）、湿度（１０〜９５％ＲＨ）及び直射日光などによる環境変化に伴う長期使用状態における反射防止特性、透過率特性、膜密着力特性、耐擦傷性、耐エタノール性および表面抵抗値の変化を確認した。試験方法は以下のとおりである。
【００４６】
試験１（耐湿試験）　温度５０℃、湿度９０％ＲＨ条件下に４８時間放置する。
試験２（熱衝撃試験）温度−４０℃と７１℃の雰囲気下に各々４時間放置する　　　　　　　　　　　サイクルを５サイクル繰り返す。
【００４７】
試験３（耐光性試験）１５０時間紫外線を照射する。
【００４８】
上記試験後における反射防止特性、透過率特性、膜密着力特性、耐擦傷性、耐エタノール性および表面抵抗値を評価したところ、表１に示すデータとほとんど変わらないものであった。これより、得られた環境変化に伴う長期使用においても帯電防止性反射防止フィルムとして機能することを確認した。
【００４９】
【発明の効果】
以上詳述したように、本発明による帯電防止性反射防止フィルムは、電磁波シールド性の影響の少ない画像表示装置においてこのフィルムを装着することによって、画面表示に入光する光の反射が極めて少なくなり、使用者の目の疲労を防止することができる。しかも表面に傷が付きにくく、さらに手の汗や生活用品による表面汚れが付きにくく、拭き取り易い特徴をもつ。また、本発明は電磁波シールド性を持ち合わせた反射防止フィルムの成膜方法に対し、混合比の異なったＩＴＯに変更するのみにより容易に帯電防止性反射防止フィルム作成することができる。よってこのフィルムは性能と製造のための費用のバランスのとれた製品であり、これを使うことによる産業面からの経済効果が大きい。
【図面の簡単な説明】
【図１】図１は、本発明の帯電防止性反射防止フィルムの構成を例示する断面図である。
【符号の説明】
１．　プラスチックフィルム
２．　ハードコート層
３．　高屈折導電層
４．　低屈折率層
５．　撥水防汚層

Claims

プラスチックフィルムの少なくとも片面に、酸化インジウムと酸化スズの混合物（以下ＩＴＯと省略）からなり、それらの混合比がそれぞれ６５重量％以下及び３５重量％以上からなり、かつ表面抵抗値が１０^５Ω／□以上の導電層を含む反射防止膜層を有することを特徴とする帯電防止性反射防止フィルム。
反射防止膜層が、高屈折率の導電層と低屈折率層からなることを特徴とする請求項１記載の帯電防止性反射防止フィルム。
反射防止膜層が、エレクトロンビーム加熱法による真空蒸着法またはスパッタリング法により成膜されている請求項１または２記載の帯電防止性反射防止フィルム。
プラスチックフィルムと反射防止膜層の間に、厚さ１μｍ〜１５μｍの耐擦傷性を有し、その鉛筆硬度が２Ｈ以上であるハードコート層が設けられている請求項１〜３のいずれかに記載の帯電防止性反射防止フィルム。
反射防止膜層の上に、純水接触角が９０ｄｅｇ以上である撥水防汚層が設けられている請求項１〜４のいずれかに記載の帯電防止性反射防止フィルム。