JP2003531934A - N−ピロリル置換窒素ドナーを含む触媒 - Google Patents

N−ピロリル置換窒素ドナーを含む触媒

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ウィリアム スミス,トーマス
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Abstract

(57)【要約】 オレフィンの重合またはオリゴマー化に有用な触媒組成物が開示される。この触媒組成物の一部は、N−ピロリル置換窒素ドナーを含む。また、この触媒組成物を用いたオレフィンの重合またはオリゴマー化方法も開示される。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】発明の分野 本発明は一般的に、オレフィンの重合またはオリゴマー化に有用な触媒組成物
、及び該触媒組成物を用いる方法に関する。これらの触媒組成物の一部は、N−
ピロリル置換窒素ドナーを含んでなる。
【0002】発明の背景 オレフィンポリマーは、ワイヤ及びケーブル用の外装からフィルムにいたる種
々の製品に使用されている。オレフィンポリマーは、例えば、射出もしくは圧縮
成形用に、押出フィルムまたはシート材料に、紙、例えば、写真印画紙(又は写
真紙)(photographic paper)及びデジタル記録紙上への押
出コーティングなどとして使用されている。触媒の改良は、重合プロセスのより
優れた制御を可能にし、従って、バルク材の性質に影響を与える。明度、強度、
耐蝕性、透過性、光学的性質などに関するプラスチックの物理的性質を、特定の
用途に合わせて調節するための取り組みが、ますます盛んになっている。鎖長、
ポリマー分枝及び官能基は、ポリマーの物理的性質に重要な影響を与える。従っ
て、より効率の良い、より良く制御されたオレフィンの重合を可能にする、触媒
によるオレフィン重合法を手に入れようと、新しい触媒が絶えず探し求められて
いる。
【0003】 従来のポリオレフィンは、均一液相、気相及びスラリー重合を含む種々の重合
技術によって調製される。線状及び線状低密度ポリエチレンならびにポリ−α−
オレフィン、例えば、ポリプロピレンの製造には、ある種の遷移金属触媒、例え
ば、チタン化合物を基材とする触媒(例えば、TiClまたはTiCl)が
有機アルミニウム助触媒と組み合わせて使用される。これらのいわゆる「チーグ
ラー・ナッタ触媒」は酸素に非常に感受性であり、無極性及び極性モノマーの共
重合には役立たない。チーグラー・ナッタ触媒の初期の発見の後、最近は、オレ
フィン重合用の初期の均一遷移金属(第4族〜第6族)触媒の開発及び研究に大
きな関心が示されている。最初は不均一チーグラー・ナッタ触媒のメカニズムの
モデルと考えられたこれらの明確な触媒への商業的注目は、ますます増えている
。第4族〜第6族のシングルサイト・オレフィン重合触媒反応における近年の進
歩は以下の通りである。
【0004】 以下の文献は、特許文献1及び特許文献2に記載されたような、オレフィン重
合用モノシクロペンタジエニルアミドチタン錯体の使用を記載している。非特許
文献1は、ジルコニウムの非架橋置換インデニル錯体を基材とする振動触媒の使
用を開示している。三井化学株式会社は、オレフィン重合用触媒として第4族〜
第6族遷移金属上の窒素/酸素キレート配位子を使用することを開示している(
特許文献3)。非特許文献2は、Ti及びZrのキレートジアミド錯体によるオ
レフィンのリビング重合を記載している。非特許文献3及び非特許文献4もまた
、Ti及びZrのキレートジアミド錯体を含む触媒を記載している。特許文献4
及び特許文献5、特許文献6及び特許文献7、特許文献8及び特許文献9は、オ
レフィン重合に第4族〜第6族イミド触媒を使用することを記載している。特許
文献10は、オレフィン重合触媒として二座配位子を組み込んでいる新規カチオ
ン性第13族錯体を使用することを開示している。
【0005】 オレフィン重合用の第8族〜第10族触媒の近年の進歩は以下の通りである。
【0006】 特許文献11は、選択された二座燐含有配位子を含むパラジウム及びニッケル
触媒を用いたオレフィンの重合を記載している。
【0007】 特許文献12、特許文献13、特許文献14及び特許文献15は、Ni(II
)に配位したアニオン性燐、酸素ドナーを用いた、エチレンのポリエチレンへの
転化を記載している。重合反応は25〜100℃で行われ、重量平均分子量が8
K〜350Kである線状ポリエチレンが限られた収率で得られた。さらに、Kl
abundeは、エチレンと官能基含有モノマーとのコポリマーの調製を記載し
ている。
【0008】 非特許文献5は、Ni(II)に配位したホスフィン/カルボキシレートドナ
ーを用いたエチレンのオリゴマー化を開示しており、この触媒は限られた触媒活
性を示した(0.14〜1.83 TO/s)。オリゴマー化は、60〜95℃
及びエチレン10〜80バールにおいてトルエン中で実施され、α−オレフィン
が得られた。
【0009】 特許文献16及び特許文献17は、Ni(II)に配位したホスフィン、スル
ホネートドナーを用いたエチレンのオリゴマー化を記載している。これらの錯体
は、ホスフィン、カルボキシレート類似体の場合に報告された触媒活性よりも約
15倍高い触媒活性を示す。
【0010】 非特許文献6及び非特許文献7は、アミノビス(イミノ)ホスホランニッケル
触媒による、エチレンの重合及びα−オレフィンのオリゴマー化を開示している
【0011】 非特許文献8は、エチレン重合用のニッケルアリルホスフィン錯体を記載して
いる。
【0012】 非特許文献9及び特許文献18は、エチレンを重合させて高分子量の線状ポリ
エチレンを生成するのに使用される一連のビス(イリド)ニッケル錯体を記載し
ている。
【0013】 特許文献19;特許文献20;特許文献21;特許文献22;特許文献23;
及び特許文献24は、ジイミン及びビスオキサゾリン配位子を含むカチオン性ニ
ッケル、パラジウム、鉄及びコバルト錯体を用いたオレフィンの重合を開示して
いる。この文献はまた、エチレン、非環式オレフィン及び/または選択された環
状オレフィンならびに場合によっては選択された不飽和酸またはエステル、例え
ば、アクリル酸またはアクリル酸アルキルの重合により、オレフィンホモポリマ
ーまたはコポリマーを生成することを記載している。非特許文献10は、カチオ
ン性α−ジイミン基材ニッケル及びパラジウム錯体を用いた、エチレン、プロピ
レン及び1−ヘキセンのようなオレフィンの重合を記載している。これらの触媒
は、エチレンを重合して高分子量分枝ポリエチレンにすると記載されている。エ
チレンの重合の他に、Pd錯体は、オレフィン及びアクリル酸メチルの重合及び
共重合のための触媒として作用する。
【0014】 特許文献25は、種々の中性N、O、PまたはSドナー配位子をニッケル(0
)化合物及び酸と組み合わせて使用するオレフィンの重合を開示している。
【0015】 Eastman Chemical Companyは最近、一連の特許出願
(特許文献26、特許文献27、特許文献28及び特許文献29)中に、オレフ
ィン重合用のいくつかの新しい第8族〜第10族遷移金属触媒を記載した。エポ
キシブテン及びそれらの誘導体から誘導されるいくつかの新しいポリマー組成物
も記載されている。
【0016】 特許文献30、特許文献31、特許文献32及び特許文献33は、空気及び水
の存在下においてエチレンを含むオレフィンの重合にPdα−ジイミン触媒を使
用することを記載している。
【0017】 特許文献34は、アミノビス(イミノ)ホスホランニッケル触媒を用いたα−
オレフィン重合及び得られるポリ(α−オレフィン)の組成物を記載している。
【0018】 最近、特許文献35、特許文献36及び特許文献37は、シリカ担持α−ジイ
ミンニッケル触媒を用いたエチレンの重合を記載している。
【0019】 特許文献38は、ニッケルα−ジイミン触媒をそれらのスラリーループプロセ
スにおいてエチレンの重合に使用することを開示している。
【0020】 オレフィン重合用の中性ニッケル触媒が特許文献39、特許文献40、特許文
献41及び特許文献42に記載されている。
【0021】 エチレンの重合及びオリゴマー化用の、ピリジンビス(イミン)が配位された
高活性鉄及びコバルト触媒は、特許文献43、特許文献44、特許文献45によ
って別々に文献記載された。
【0022】 また最近、特許文献46及び特許文献47は、オレフィン重合に第4族遷移金
属触媒との混合α−ジイミン触媒を使用することを記載している。その他の最近
の開発は特許文献48及び特許文献49、特許文献50、特許文献51、特許文
献52、特許文献53、特許文献54及び特許文献55によって記載されている
【0023】 非チーグラー・ナッタ触媒反応のこれらの進歩にもかかわらず、新しい遷移金
属触媒、特に、より熱安定性であって、新しいポリマー微細構造を可能にし、ま
たは官能基に対してより耐性のある遷移金属触媒が依然として必要とされている
。さらに、このような触媒を用いる新しいオレフィン重合方法、及びその結果得
られる新規ポリマーも必要とされている。
【0024】
【特許文献1】 J.M.Canich,EP 420,436(1991)
【特許文献2】 Stevensら,EP416,815(1991)
【特許文献3】 EP874,005(1998)
【特許文献4】 DSM(WO 94/14854)
【特許文献5】 DSM(EP 0 532 098 A1)
【特許文献6】 BP(EP 0 641 804 A2)
【特許文献7】 BP(EP 0 816 384 A2)
【特許文献8】 Chevron(WO 94/11410)
【特許文献9】 Exxon(WO 94/01471)
【特許文献10】 Jordanら,WO 98/40421
【特許文献11】 ヨーロッパ特許出願第381,495号
【特許文献12】 U.Klabunde,米国特許第4,906,754号
【特許文献13】 U.Klabunde,第4,716,205号
【特許文献14】 U.Klabunde,第5,030,606号
【特許文献15】 U.Klabunde,第5,175,326号
【特許文献16】 R.E.Murray,米国特許第4,689,437号
【特許文献17】 R.E.Murray,米国特許第4,716,138号
【特許文献18】 K.A.O.Starzewskiら,米国特許第4,691,03 6号
【特許文献19】 L.K.Johnsonら,WO 96/23010
【特許文献20】 L.K.Johnsonら,米国特許第5,866,663号
【特許文献21】 L.K.Johnsonら,米国特許第5,886,224号
【特許文献22】 L.K.Johnsonら,米国特許第5,891,963号
【特許文献23】 L.K.Johnsonら,米国特許第5,880,323号
【特許文献24】 L.K.Johnsonら,米国特許第5,880,241号
【特許文献25】 WO 97/02298
【特許文献26】 WO 98/40374
【特許文献27】 WO 98/37110
【特許文献28】 WO 98/47933
【特許文献29】 WO 98/40420
【特許文献30】 Brownら,WO 97/17380
【特許文献31】 Brownら,WO 97/48777
【特許文献32】 Brownら,WO 97/48739
【特許文献33】 Brownら,WO 97/48740
【特許文献34】 Finkら,米国特許第4,724,273号
【特許文献35】 Vaughanら,WO 97/48736
【特許文献36】 Dentonら,WO 97/48742
【特許文献37】 Sugimuraら,WO 97/38024
【特許文献38】 Phillips,EP 884,331
【特許文献39】 WO 98/30610
【特許文献40】 WO 98/30609
【特許文献41】 WO 98/42665
【特許文献42】 WO 98/42664
【特許文献43】 the University of North Carolin a−Chapel Hill(WO 99/02472)
【特許文献44】 DuPont(WO 98/27124)
【特許文献45】 BP Chemical and Imperial Colleg e(WO 99/12981)
【特許文献46】 Canichら,WO 97/48735
【特許文献47】 Mecking,DE 19707236 A1
【特許文献48】 Sugimuraら(特開平8−84344号公報)
【特許文献49】 Sugimuraら(特開平8−84343号公報)
【特許文献50】 Yorisueら(特開平8−70332号公報)
【特許文献51】 McLainら(WO 98/03559)
【特許文献52】 Weinbergら(WO 98/03521)
【特許文献53】 Wangら(WO 99/09078)
【特許文献54】 Coughlin(WO 99/10391)
【特許文献55】 Matsunagaら(WO 97/48737)
【0025】
【非特許文献1】 Waymouthら,Science,1995,267,217
【非特許文献2】 McConvilleら,J.Am.Chem.Soc.,1996 ,118,10008〜10009
【非特許文献3】 Schrockら,J.Am.Chem.Soc.,1997,11 9,3830
【非特許文献4】 J.Am.Chem.Soc.,1999,121,5797
【非特許文献5】 M.Peuckertら,Organomet.1983,2(5) ,594
【非特許文献6】 W.Keimら,Angew.Chem.Int.Ed.Eng., 1981,20,116
【非特許文献7】 V.M.Mohringら,Angew.Chem.Int.Ed. Eng.,1985,24,1001
【非特許文献8】 Wilke,Angew.Chem.Int.Ed.Engl.,1 988,27,185
【非特許文献9】 K.A.O.Starzewskiら,,Angew.Chem.I nt.Ed.Engl.,1987,26,63
【非特許文献10】 L.K.Johnsonら,J.Am.Chem.Soc.,199 5,117,6414
【0026】発明の要旨 窒素ドナー配位子を含む多数の遷移金属錯体が、オレフィン重合用の触媒とし
て有用であることがわかっている。これらの触媒の多くの重要な特色は、配位窒
素上に置換アリール基を使用することによる立体障害の導入である。このような
フラグメントに関連する立体的嵩高性は、早すぎる連鎖移動を抑える傾向があり
、場合によっては、分解に関して触媒を安定化させ、触媒活性を増大させ、ポリ
マーの微細構造を改良する役割を果たし、あるいは別の点で有益な効果を有する
ことができる。
【0027】 本発明者らは、1−ピロリルまたは置換1−ピロリル置換N−ドナー配位子を
含む触媒が、非常に効果的で、用途の広い新しいオレフィン重合触媒であること
を見い出した。実際に、本発明者らは、このようなフラグメントの使用は、図式
Iに示されるように、既存のポリオレフィン触媒のアリール置換窒素ドナーが1
−ピロリル置換窒素ドナーで置き換えられた、新しいポリオレフィン触媒設計原
理であることを発見した。図式Iにおいて、MはSc、第4族〜第10族遷移金
属、AlまたはGaであり;R3a−iはそれぞれ独立して、H、ヒドロカルビ
ル、置換ヒドロカルビル、ヘテロ原子結合ヒドロカルビル、ヘテロ原子結合置換
ヒドロカルビル、フルオロアルキル、シリル、ボリル、フルオロ、クロロ、ブロ
モ、シアノまたはニトロであり、R3a−iのうち任意の2つは架橋基によって
結合されることができる。 図式I
【0028】
【化24】
【0029】 この方策は、アリール置換窒素ドナー配位子を組み込んでいる、これまで報告
された本質的に全てのオレフィン重合及びオリゴマー化触媒に当てはまるものと
期待されている。従って、米国特許第5,866,663号;第5,886,2
24号;第5,891,963号;第5,880,323号;第5,880,2
41号;、ならびにWO 96/23010、WO 99/10391、WO
99/05189、WO 98/56832、WO 98/03559、WO
98/47934、WO 97/02298、WO 98/30609、WO
98/42665、WO 98/42664、WO 98/47933、WO
98/40420、WO 98/40374、EP 420,436(1991
)、EP 416,815(1991)、Science,1995,267,
217、EP 874,005(1998)、J.Am.Chem.Soc.,
1996,118,10008−10009、WO 94/14854、EP
0 532 098 A1、EP 0 641 804 A2、EP 0 81
6 384 A2、WO 94/11410、WO 94/01471、WO
98/40421、及びChem.Commun.,1998,313に報告さ
れた、1個またはそれ以上のアリール置換窒素ドナーフラグメントが1個または
それ以上のN−ピロル−1−イルまたは置換N−ピロル−1−イル窒素ドナーフ
ラグメントで置き換えられた触媒は全て、本発明の範囲内であると考えられる。
ここで言及した米国特許は全て、参照することによって本明細書中に取り入れる
。また、本発明のポリオレフィン重合及びオリゴマー化触媒組成物の調製におい
て中間体として使用できる、以下のセット1〜17に示したいくつかの配位子も
提供される。
【0030】 ピロル−1−イルまたは置換ピロル−1−イル基で置換されたN−ドナーを含
む触媒類が好ましいが、他の型の−NR2a2b基[式中、R2a及びR2b はそれぞれ独立して、H、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、シリル、ボリ
ルまたはフェロセニルであり、R2a及びR2bは結合して環を形成することが
できる]で置換されたN−ドナー配位子もまた、オレフィン重合触媒を構成する
のに有用であると考えられる。環状−NR2a2b基の例を図式Xに示す。図
式Xにおいて、R3a−dは前に定義した通りであり、2,6−ジアルキル−4
−オキソ−4H−ピリジン−1−イル、2,5−ジアルキル−1−イミダゾリル
及び2,6−ジメチル−3−メトキシカルボニル−4−オキソ−4H−ピリジン
−1−イル基を含む。 図式X
【0031】
【化25】
【0032】 −NR2a2b基の窒素の電子特性が1−ピロリル窒素の電子特性と類似し
ている環状−NR2a2b基が特に有用であると考えられる。環状−PR4a4b基[式中、R4a及びR4bはそれぞれ独立して、ヒドロカルビル、置換
ヒドロカルビル、ヘテロ原子結合ヒドロカルビルまたはヘテロ原子結合置換ヒド
ロカルビルであり、R4a及びR4bは架橋基によって結合されることができる
]、特に1−ホスホリルまたは置換1−ホスホリル基で置換されたN−ドナーを
含む触媒も同様に、オレフィン重合触媒を構成するのに有用であると考えられる
【0033】発明の詳細な説明 従って、第1の側面において、本発明は、単座、二座、三座または四座配位子
が配位した金属錯体を含んでなる、オレフィンの重合またはオリゴマー化用触媒
組成物に関する。この触媒において、配位子のドナー原子の少なくとも1つは1
−ピロリルまたは置換1−ピロリル基で置換された窒素原子であり;該配位子の
残りのドナー原子はC、N、P、As、O、S及びSeからなる群から選ばれ;
この金属錯体の金属はSc、Ta、Ti、Zr、Hf、V、Nb、Cr、Mo、
W、Mn、Re、Fe、Ru、Os、Co、Rh、Ir、Ni、Cu、Pd、P
t、Al及びGaからなる群から選ばれる。
【0034】 この第1の側面において好ましい触媒組成物は、二座または三座配位子を含む
ものである。このような触媒組成物の多数の例をここに含める。
【0035】 第2の側面において、本発明は、1種またはそれ以上のオレフィンを第1の側
面の触媒組成物と接触させることを含んでなる、オレフィンの重合またはオリゴ
マー化方法に関する。約20〜約160℃の重合反応温度が好ましく、約60〜
約100℃の温度が特に好ましい。エチレン、プロピレン、1−ブテン、1−ヘ
キセン及び1−オクテンが好ましいオレフィンモノマーである。主要なまたは最
も多数を占めるオレフィンモノマーとしてエチレンを用いる場合には、約1〜約
100atmの圧力が好ましい。
【0036】 第3の側面において、本発明は、金属がCo、Fe、Ni及びPdから選ばれ
且つ配位子が中性二座配位子である第1の側面の触媒組成物を含んでなる、オレ
フィンの重合またはオリゴマー化用触媒組成物に関する。
【0037】 第3の側面の第1の好ましい実施態様は、金属錯体が(i)式XIaの化合物
または(ii)Ni(1,5−シクロオクタジエン)、B(C、1
種またはそれ以上のオレフィンと前記中性二座配位子との反応生成物である触媒
組成物である:
【0038】
【化26】
【0039】 [式中、 Mは、Fe、Co、NiまたはPdであり; D、D及びGは合わさって中性二座配位子を構成し; D及びDは、架橋基Gによって結合された単座ドナーであり、D及びD の少なくとも一方は、1−ピロリルまたは置換1−ピロリル基で置換された窒
素原子によって金属Mに配位し; Tは、H、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、またはオレフィンを挿入で
きる他の基であり; Lはオレフィンまたはオレフィンと置き換わることができる中性ドナー基であ
り、さらに、TとLとは合わさって、π−アリルまたはπ−ベンジル基を形成で
き; Xは、弱配位性アニオンである]。
【0040】 この第3の側面の第2の好ましい実施態様は、金属錯体が式XIbと第2の化
合物Yとの反応生成物である触媒組成物である:
【0041】
【化27】
【0042】 [式中、 Mは、Fe、Co、NiまたはPdであり; D、D及びGは合わさって中性二座配位子を構成し; D及びDは、架橋基Gによって結合された単座ドナーであり、D及びD の少なくとも一方は、1−ピロリルまたは置換1−ピロリル基で置換された窒
素原子によって金属Mに配位し; Q及びWはそれぞれ独立して、フルオロ、クロロ、ブロモもしくはヨード、ヒ
ドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ヘテロ原子結合ヒドロカルビル、ヘテロ原
子結合置換ヒドロカルビル、または合わさってサルフェートであり、あるいは合
わさってπ−アリル、π−ベンジルまたはアセチルアセトネート基を形成でき、
この場合には弱配位性対アニオンXも存在し; Yは、QまたはWを引き抜いて弱配位性アニオンを形成できる中性ルイス
酸、対イオンが弱配位性アニオンであるカチオン性ルイス酸、または共役塩基が
弱配位性アニオンであるブレンステッド酸である]。
【0043】 この第3の側面の第3のよりこの好ましい実施態様は、式XIaまたはXIb
中の金属MがNiであり且つ中性二座配位子がセット1から選ばれる、第1また
は第2の実施態様の触媒組成物である: セット1
【0044】
【化28】
【0045】
【化29】
【0046】
【化30】
【0047】
【化31】
【0048】 [式中、 R2x,yはそれぞれ独立して、H、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、
へトロ原子結合ヒドロカルビル、ヘテロ原子結合置換ヒドロカルビル、シリル、
ボリルまたはフェロセニルであり;さらに、R2x及びR2yは架橋基によって
結合されることができ; R3a−hはそれぞれ独立して、H、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、
ヘテロ原子結合ヒドロカルビル、ヘテロ原子結合置換ヒドロカルビル、フルオロ
アルキル、シリル、ボリル、フルオロ、クロロ、ブロモ、シアノまたはニトロで
あり、さらにR3a−hのうち任意の2つは架橋基によって結合されることがで
きる]。
【0049】 第4の好ましい実施態様においては、第3の側面の触媒組成物が固体担体に担
持(又は結合)(attach)される。金属がニッケルであり且つ固体担体が
シリカである触媒組成物が、特に好ましい第5の実施態様である。
【0050】 第4の側面において、本発明は、1種またはそれ以上のオレフィンを第3の側
面の触媒組成物と接触させることを含んでなる、オレフィンの重合またはオリゴ
マー化方法に関する。
【0051】 この第4の側面の第1の好ましい実施態様は、線状α−オレフィンが得られる
方法である。
【0052】 この第4の側面の第2の好ましい実施態様は、ポリオレフィンワックスが得ら
れる方法である。
【0053】 第5の側面において、本発明は、1種またはそれ以上のオレフィンを第3の側
面の第4または第5の実施態様の触媒組成物と接触させることを含んでなるオレ
フィンの重合方法に関する。第5の側面の第1の好ましい実施態様は、金属がN
iであり、固体担体がシリカであり且つ触媒が気相、流動床、オレフィン重合反
応器またはそれらの入り口流におけるアルキルアルミニウムでの処理によって活
性化される方法である。この第5の側面の第2のより好ましい実施態様は、アル
キルアルミニウムがトリメチルアルミニウムである方法である。
【0054】 第5の側面の第1の好ましい実施態様として記載した、触媒現場活性化(in
situ catalyst activation)プロトコルは、プロセ
スの特筆すべき画期的発見である。触媒の現場活性化により、反応器中で活性化
される不活性または不活性化触媒を気相反応器に添加することが可能になり、別
の部位が活性化されると触媒活性が増加する。この方法は、より簡便な触媒操作
と気相法の改良された制御及び安定性を可能にする。
【0055】 第6の側面において、本発明はセット2から選ばれた化合物に関する: セット2
【0056】
【化32】
【0057】
【化33】
【0058】
【化34】
【0059】
【化35】
【0060】 [式中、 R2x,yはそれぞれ独立して、H、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、
へトロ原子結合ヒドロカルビル、ヘテロ原子結合置換ヒドロカルビル、シリル、
ボリルまたはフェロセニルであり;さらに、R2x及びR2yは架橋基によって
結合されることができ; R3a−hはそれぞれ独立して、H、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、
ヘテロ原子結合ヒドロカルビル、ヘテロ原子結合置換ヒドロカルビル、フルオロ
アルキル、シリル、ボリル、フルオロ、クロロ、ブロモ、シアノまたはニトロで
あり、さらにR3a−hのうち任意の2つは架橋基によって結合されることがで
きる]。
【0061】 第7の側面において、本発明は、(i)セット3もしくはそれらの互変異性体
から選ばれた中性二座配位子のカチオン性第8族〜第10族遷移金属錯体と弱配
位性アニオンX、または(ii)Ni(1,5−シクロオクタジエン)、B
(C、1種もしくはそれ以上のオレフィンとセット3から選ばれた中
性二座配位子との反応生成物を含んでなる、オレフィンの重合またはオリゴマー
化用触媒組成物に関する: セット3
【0062】
【化36】
【0063】
【化37】
【0064】
【化38】
【0065】
【化39】
【0066】
【化40】
【0067】
【化41】
【0068】
【化42】
【0069】
【化43】
【0070】
【化44】
【0071】
【化45】
【0072】
【化46】
【0073】
【化47】
【0074】
【化48】
【0075】
【化49】
【0076】
【化50】
【0077】
【化51】
【0078】
【化52】
【0079】 [式中、 R2a−f,x−zはそれぞれ独立して、H、ヒドロカルビル、置換ヒドロカ
ルビル、ヘテロ原子結合ヒドロカルビル、またはヘテロ原子結合置換ヒドロカル
ビルであり;R2a−fはシリル、ボリルまたはフェロセニルであることもでき
;さらに、R2a−dのうち任意の2つ、またはR2x及びR2yは架橋基によ
って結合されることができ; R3a−jはそれぞれ独立して、H、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、
ヘテロ原子結合ヒドロカルビル、ヘテロ原子結合置換ヒドロカルビル、フルオロ
アルキル、シリル、ボリル、フルオロ、クロロ、ブロモ、シアノまたはニトロで
あり;さらに、R3a−jのうち任意の2つは架橋基によって結合されることが
でき; R4a及びR4bはそれぞれ独立して、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル
、ヘテロ原子結合ヒドロカルビルまたはヘテロ原子結合置換ヒドロカルビルであ
り;さらに、R4a及びR4bは架橋基によって結合されることができ; Gは、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ヘテロ原子結合ヒドロカルビ
ルまたはヘテロ原子結合置換ヒドロカルビルであり; G、C及びNは合わさって5員または6員複素環を構成し; Gは、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ヘテロ原子結合ヒドロカルビ
ルまたはヘテロ原子結合置換ヒドロカルビルであり; G、V、N及びNは合わさって5員または6員複素環を構成し; VはCR3j、NまたはPR4a4bであり; Eは、O、S、SeまたはNR2eであり; E及びEは、O、SまたはNR2eであり; Qは、C−R3j、PR4a4b、S(E)(NR2e2f)または
S(E)(E2e)であるが、 但し、配位子は、本発明の第3の側面の第3の実施態様において記載した式a
15を有するものではない]。
【0080】 第8の側面において、本発明は、1種またはそれ以上のオレフィンを第7の側
面の触媒組成物と接触させることを含んでなる、オレフィンの重合またはオリゴ
マー化方法に関する。約20〜約160℃の重合反応温度が好ましく、約60〜
約100℃の温度がより好ましい。エチレン、プロピレン、1−ブテン、1−ヘ
キセン及び1−オクテンが好ましいオレフィンモノマーである。主要なまたは最
も多数を占めるオレフィンモノマーとしてエチレンを用いる場合には、約1〜約
100atmの圧力が好ましい。
【0081】 第9の側面において、本発明はセット4から選ばれる配位子に関する: セット4
【0082】
【化53】
【0083】
【化54】
【0084】
【化55】
【0085】
【化56】
【0086】
【化57】
【0087】
【化58】
【0088】
【化59】
【0089】
【化60】
【0090】
【化61】
【0091】
【化62】
【0092】 [式中、 R2a−f,x−zはそれぞれ独立して、H、ヒドロカルビル、置換ヒドロカ
ルビル、ヘテロ原子結合ヒドロカルビル、またはヘテロ原子結合置換ヒドロカル
ビルであり;R2a−fはシリル、ボリルまたはフェロセニルであることもでき
;さらに、R2a−dのうち任意の2つ、またはR2x及びR2yは架橋基によ
って結合されることができ; R3a−jはそれぞれ独立して、H、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、
ヘテロ原子結合ヒドロカルビル、ヘテロ原子結合置換ヒドロカルビル、フルオロ
アルキル、シリル、ボリル、フルオロ、クロロ、ブロモ、シアノまたはニトロで
あり;さらに、R3a−jのうち任意の2つは架橋基によって結合されることが
でき; R4a及びR4bはそれぞれ独立して、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル
、ヘテロ原子結合ヒドロカルビルまたはヘテロ原子結合置換ヒドロカルビルであ
り;さらに、R4a及びR4bは架橋基によって結合されることができ; Gは、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ヘテロ原子結合ヒドロカルビ
ルまたはヘテロ原子結合置換ヒドロカルビルであり; G、C及びNは合わさって5員または6員複素環を構成し; Gは、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ヘテロ原子結合ヒドロカルビ
ルまたはヘテロ原子結合置換ヒドロカルビルであり; G、V、N及びNは合わさって5員または6員複素環を構成し; VはCR3j、NまたはPR4a4bであり; Eは、O、S、SeまたはNR2eであり; E及びEは、O、SまたはNR2eであり; Qは、C−R3j、PR4a4b、S(E)(NR2e2f)または
S(E)(E2e)であるが、 但し、配位子は、(i)第6の側面において前述した式a15を有するもので
はなく、(ii)配位子が式b7を有し、EがOであり、R3a−dがHであ
り且つR2xがHである場合には、ピロル−1−イル基はカルバゾル−9−イル
、3−フェニルインデン−1−イルまたは未置換ピロル−1−イル以外であり、
しかも(iii)配位子が式a55を有する場合には、それはカルバゾル−9−
イル−キノリン−2−イルメチレンアミン以外である」。
【0093】 第10の側面において、本発明は、金属がCo、Ni及びPdから選ばれ且つ
配位子モノアニオン性二座配位子である第1の側面の触媒組成物を含んでなる、
オレフィンの重合またはオリゴマー化用触媒組成物に関する。この第10の側面
において好ましい触媒組成物は、金属がニッケルであるものであり、より好まし
いのは金属錯体が式XIIを有する触媒組成物である:
【0094】
【化63】
【0095】 [式中、 Mはニッケルであり、 D、D及びGは合わさってモノアニオン性二座配位子を構成し; D及びDは、架橋基Gによって結合された単座ドナーであり、D及びD の少なくとも一方は、1−ピロリルまたは置換1−ピロリル基で置換された窒
素原子によって金属Mに配位し; Tは、H、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、またはオレフィンを挿入で
きる他の基であり; Lは、オレフィン、またはオレフィンと置き換わることができる中性ドナー基
であり;さらに、T及びLは合わさってπ−アリルまたはπ−ベンジル基を形成
できる]。
【0096】 この第10の側面においてさらに好ましい触媒組成物は、モノアニオン性二座
配位子がセット5またはそれらの互変異性体から選ばれるものである: セット5
【0097】
【化64】
【0098】
【化65】
【0099】
【化66】
【0100】
【化67】
【0101】
【化68】
【0102】 [式中、 R2x−zはそれぞれ独立して、H、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、
ヘテロ原子結合ヒドロカルビル、またはヘテロ原子結合置換ヒドロカルビルであ
り; R3a−jはそれぞれ独立して、H、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、
ヘテロ原子結合ヒドロカルビル、ヘテロ原子結合置換ヒドロカルビル、フルオロ
アルキル、シリル、ボリル、フルオロ、クロロ、ブロモ、シアノまたはニトロで
あり;さらに、R3a−jのうち任意の2つは架橋基によって結合されることが
でき; R4a及びR4bはそれぞれ独立して、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル
、ヘテロ原子結合ヒドロカルビルまたはヘテロ原子結合置換ヒドロカルビルであ
り;さらに、R4a及びR4bは架橋基によって結合されることができ; E及びEは、O、SまたはNR2xであり; Qは、C−R3j、PR4a4b、S(E)(NR2y2z)またはS
(E)(E2x)である]。
【0103】 第10の側面においては、金属錯体が固体担体に担持された触媒組成物も好ま
しく、シリカが特に好ましい担体である。
【0104】 第11の側面において、本発明は、1種またはそれ以上のオレフィンを第10
の側面の触媒組成物と接触させることを含んでなる、オレフィンの重合またはオ
リゴマー化方法に関する。約20〜約160℃の重合反応温度が好ましく、約6
0〜約100℃の温度がより好ましい。エチレン、プロピレン、1−ブテン、1
−ヘキセン、1−オクテン、ノルボルネン及び置換ノルボルネンが好ましいオレ
フィンモノマーである。主要なまたは最も多数を占めるオレフィンモノマーとし
てエチレンを用いる場合には、約1〜約100atmの圧力が好ましい。
【0105】 第12の側面において、本発明は、金属がMn、Fe、Ru及びCoからなる
群から選ばれ且つ配位子が中性三座配位子である第1の側面の触媒組成物を含ん
でなる、オレフィンの重合またはオリゴマー化用触媒組成物に関する。この第1
2の側面において好ましい触媒組成物は、金属がFe及びCoであるものであり
、より好ましいのは式XIIIの化合物を含んでなる触媒組成物である:
【0106】
【化69】
【0107】 [式中、 Mは、CoまたはFeであり; D1−3は、架橋基によって結合されて、合わさって中性三座配位子を構成す
る単座ドナーであり、D、D及びDの少なくとも1つは、1−ピロリまた
は置換1−ピロリル基で置換された窒素原子によって金属Mに配位子し; Tは、H、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、またはオレフィンを挿入で
きる他の基であり; Lはオレフィン、またはオレフィンと置き換わることができる中性ドナー基で
あり;さらに、TとLは合わさってπ−アリルまたはπ−ベンジル基を形成でき
; Xは、弱配位性アニオンである]。 この第12の側面においてさらに好ましい触媒組成物は、中性三座配位子がセ
ット6またはそれらの互変異性体から選ばれるものである: セット6
【0108】
【化70】
【0109】
【化71】
【0110】
【化72】
【0111】
【化73】
【0112】
【化74】
【0113】
【化75】
【0114】
【化76】
【0115】
【化77】
【0116】
【化78】
【0117】
【化79】
【0118】
【化80】
【0119】
【化81】
【0120】
【化82】
【0121】 [式中、 R2c,x−zはそれぞれ独立して、H、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビ
ル、ヘテロ原子結合ヒドロカルビル、またはヘテロ原子結合置換ヒドロカルビル
であり;さらに、式h6の配位子において、R2x及びR2yは架橋基によって
結合されることができ; R3a−mはそれぞれ独立して、H、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、
ヘテロ原子結合ヒドロカルビル、ヘテロ原子結合置換ヒドロカルビル、フルオロ
アルキル、シリル、ボリル、フルオロ、クロロ、ブロモ、シアノまたはニトロで
あり;さらに、R3a−mのうち任意の2つは架橋基によって結合されることが
でき; R4a−dはそれぞれ独立して、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ヘテ
ロ原子結合ヒドロカルビルまたはヘテロ原子結合置換ヒドロカルビルであり;さ
らに、R4a−zのうち任意の2つは1つまたはそれ以上の架橋基によって結合
されることができ; Gは、ヒドロカルビルまたは置換ヒドロカルビルであり; E及びEは、O、SまたはSeであり; Eは、O、SまたはSeである]。
【0122】 第12の側面においては、金属錯体が固体担体に担持された触媒組成物も好ま
しく、シリカが特に好ましい担体である。
【0123】 第13の側面において、本発明はまた、1種またはそれ以上のオレフィンを第
12の側面の触媒組成物と接触させることを含んでなる、オレフィンの重合また
はオリゴマー化方法に関する。約20〜約160℃の重合反応温度が好ましく、
約60〜約100℃の温度がより好ましい。エチレン、プロピレン、1−ブテン
、1−ヘキセン及び1−オクテンが好ましいオレフィンモノマーである。エチレ
ンを用いる場合には、約1〜約100atmの圧力が好ましい。非担持触媒を用
いて線状α−オレフィンまたはポリオレフィンワックスを製造する実施態様も好
ましい。
【0124】 第14の側面において、本発明は、配位子のドナー原子の少なくとも1つが1
−ピロリルまたは置換1−ピロリル基で置換された窒素原子であり、該配位子の
残りのドナー原子がC、N、P、As、O、S及びSeからなる群から選ばれる
、ジアニオン性二座配位子のTi、ZrまたはHf錯体を含んでなる、オレフィ
ン重合用触媒組成物に関する。第14の側面において好ましい触媒組成物は、金
属錯体が式XIVの化合物であるものである:
【0125】
【化83】
【0126】 [式中、 Mは、ZrまたはTiであり; D、D及びGは合わさってジアニオン性二座配位子を構成し; D及びDは、架橋基Gによって結合される単座ドナーであり、D及びD の少なくとも一方は、1−ピロリルまたは置換1−ピロリル基で置換された窒
素原子によって金属Mに配位し; Tは、H、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、またはオレフィンを挿入で
きる他の基であり; Xは、弱配位性アニオンである]。
【0127】 第14の側面においてより好ましい触媒組成物は、ジアニオン性二座配位子が
セット7またはそれらの互変異性体から選ばれるものである: セット7
【0128】
【化84】
【0129】
【化85】
【0130】 [式中、 R3a−hはそれぞれ独立して、H、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、
ヘテロ原子結合ヒドロカルビル、ヘテロ原子結合置換ヒドロカルビル、フルオロ
アルキル、シリル、ボリル、フルオロ、クロロ、ブロモ、シアノまたはニトロで
あり、さらにR3a−hのうち任意の2つは架橋基によって結合されることがで
き; Gは、二価架橋ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ヘテロ原子結合ヒド
ロカルビルまたはヘテロ原子結合置換ヒドロカルビルである]。
【0131】 第14の側面において、固体担体に結合した触媒組成物も好ましい。
【0132】 第15の側面において、本発明は、1種またはそれ以上のオレフィンを第14
の側面の触媒組成物及び場合によってはアルミニウムまたは硼素を中心とするル
イス酸と接触させることを含んでなるオレフィン重合方法に関する。アルミニウ
ムまたは硼素を中心とするルイス酸の例としては、MAO、B(C
トリイソブチルアルミニウム改質MAO、及びB(C12が挙げられる
。約20〜約160℃の重合反応温度が好ましく、約60〜約100℃の温度が
より好ましい。エチレン、プロピレン、1−ブテン、1−ヘキセン及び1−オク
テンが好ましいオレフィンモノマーである。エチレンを用いる場合には、約1〜
約100atmの圧力が好ましい。
【0133】 第16の側面において、本発明は、配位子のドナー原子の少なくとも1つが、
1−ピロリルまたは置換1−ピロリルで置換された窒素原子であり、且つ該配位
子の残りのドナー原子がC、N、P、As、O、S及びSeからなる群から選ば
れる、モノアニオン性二座配位子のTi、ZrまたはHf錯体を含んでなるオレ
フィン重合用触媒組成物に関する。
【0134】 この第16の側面において好ましい触媒組成物は、場合によってはさらに第2
の化合物Yを含み且つ金属錯体が式XVの化合物であるものである:
【0135】
【化86】
【0136】 [式中、 Mは、Ti、ZrまたはHfであり; m及びnは整数であるが;ただし、MがTiであり且つmが1である場合には
nは2または3であり;MがTiであり且つmが2である場合にはnは1または
2であり;MがZrであり且つmが1である場合にはnは3であり;MがZrで
あり且つmが2である場合にはnは2であり;MがHfである場合にはmは2で
あり且つnは2であり; R3a−iはそれぞれ独立して、H、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、
ヘテロ原子結合ヒドロカルビル、ヘテロ原子結合置換ヒドロカルビル、シリル、
ボリル、フルオロ、クロロ、ブロモまたはニトロであるが、ただし、R3eは、
ハロゲンまたはニトロ以外であり;さらに、同一または異なるN−ピロル−1−
イルイミノフェノキシド配位子上のR3a−iのうちの任意の2つは架橋基によ
って結合されることができ; Zは、H、ハロゲン、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ヘテロ原子結合
ヒドロカルビル、ヘテロ原子結合置換ヒドロカルビル、シリル、アリル、ベンジ
ル、アルコキシ、カルボキシレート、アミド、ニトロまたはトリフルオロメタン
スルホニルであり;各Zは同一であっても異なってもよく、複数のZが合わさっ
てサルフェート、オキサレートまたは別の二価の基を形成することもでき; Yは、Zを引き抜いて弱配位性アニオンを形成できる中性ルイス酸、対イオ
ンが弱配位性アニオンであるカチオン性ルイス酸、及び共役塩基が弱配位性アニ
オンであるブレンステッド酸からなる群から選ばれ;且つ nが2または3である場合には、金属錯体は、Ti、ZrまたはHfを中心と
するカチオンを含み且つ基Zの1つが弱配位性アニオンである塩であることが
できる]
【0137】 第16の側面においてさらに好ましい触媒組成物は、モノアニオン性二座配位
子がセット8またはそれらの互変異性体から選ばれるものである: セット8
【0138】
【化87】
【0139】
【化88】
【0140】 [式中、 R2xは、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ヘテロ原子結合ヒドロカル
ビル、またはヘテロ原子結合置換ヒドロカルビルであり; R3a−d,f−iはそれぞれ独立して、H、ヒドロカルビル、置換ヒドロカ
ルビル、ヘテロ原子結合ヒドロカルビル、ヘテロ原子結合置換ヒドロカルビル、
フルオロアルキル、シリル、ボリル、フルオロ、クロロ、ブロモ、シアノまたは
ニトロであり、さらにR3a−d,f−iのうち任意の2つは架橋基によって結
合されることができる]。
【0141】 この第16の側面においては、固体担体に担持された触媒組成物も好ましく、
シリカが特に好ましい固体担体である。
【0142】 第17の側面において、本発明は、1種またはそれ以上のオレフィンを第17
の側面の触媒組成物及び場合によっては第2の化合物Yと接触させることを含ん
でなるオレフィン重合方法に関する。Yは、(i)Ti、ZrまたはHf錯体と
反応して、弱配位性アニオンを含む塩を形成できる中性ルイス酸、(ii)対イ
オンが弱配位性アニオンであるカチオン性ルイス酸、及び(iii)共役塩基が
弱配位性アニオンであるブレンステッド酸からなる群から選ばれる。約20〜約
160℃の重合反応温度が好ましく、約60〜約100℃の温度がより好ましい
。エチレン、プロピレン、1−ブテン、1−ヘキセン及び1−オクテンが好まし
いオレフィンモノマーである。エチレンを用いる場合には、約1〜約100at
mの圧力が好ましい。
【0143】 第18の側面において、本発明は、配位子のドナー原子の少なくとも1つが、
1−ピロリルまたは置換1−ピロリル基で置換された窒素原子であり且つ該配位
子の残りのドナー原子がC、N、P、As、O、S及びSeからなる群から選ば
れる、ジアニオン性単座配位子のCr、MoまたはW錯体を含んでなる、オレフ
ィン重合用触媒組成物に関する。この第18の側面において好ましい触媒組成物
は、場合によってはさらに第2の化合物Yを含み且つ金属錯体が式XVIの化合
物であるものである:
【0144】
【化89】
【0145】 [式中、 Mは、Cr、MoまたはWであり; D及びDは、架橋基によって結合されて、合わさってテトラアニオン性二
座配位子を構成できるジアニオン性単座配位子であり; Z1a及びZ1bはそれぞれ独立して、H、ハロゲン、ヒドロカルビル、置換
ヒドロカルビル、ヘテロ原子結合ヒドロカルビル、ヘテロ原子結合置換ヒドロカ
ルビル、シリル、アリル、ベンジル、アルコキシ、カルボキシレート、アミド、
ニトロもしくはトリフルオロメタンスルホニルであるか、または合わさってサル
フェート、オキサレートもしくは別の二価の基を形成でき; Yは、(Z1aまたは(Z1bを引き抜いて弱配位性アニオンを形成
できる中性ルイス酸、対イオンが弱配位性アニオンであるカチオン性ルイス酸、
及び共役塩基が弱配位性アニオンであるブレンステッド酸からなる群から選ばれ
;且つ 金属錯体は、Cr、MoまたはWを中心とするカチオンを含み且つ基(Z1aまたは(Z1bの1つが弱配位性アニオンである塩であることができる
]。
【0146】 第18の側面においてさらに好ましい触媒組成物は、金属がCrであり且つジ
アニオン性単座配位子がセット9またはそれらの互変異性体から選ばれるもので
ある: セット9
【0147】
【化90】
【0148】 [式中、 R3a−dはそれぞれ独立して、H、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、
ヘテロ原子結合ヒドロカルビル、ヘテロ原子結合置換ヒドロカルビル、フルオロ
アルキル、シリル、ボリル、フルオロ、クロロ、ブロモ、シアノまたはニトロで
あり、さらにR3a−dのうち任意の2つは架橋基によって結合されることがで
きる]。
【0149】 この第18の側面においては、固体担体に担持された触媒組成物も好ましく、
シリカが特に好ましい固体担体である。
【0150】 第19の側面において、本発明はまた、1種またはそれ以上のオレフィンを第
18の側面の触媒組成物及び場合によっては第2の化合物Yと接触させることを
含んでなる、オレフィン重合方法に関する。Yは、(i)Cr、MoまたはW錯
体と反応して、弱配位性アニオンを含む塩を形成できる中性ルイス酸、(ii)
対イオンが弱配位性アニオンであるカチオン性ルイス酸、及び(iii)共役塩
基が弱配位性アニオンであるブレンステッド酸からなる群から選ばれる。約20
〜約160℃の重合反応温度が好ましく、約60〜約100℃の温度がより好ま
しい。エチレン、プロピレン、1−ブテン、1−ヘキセン及び1−オクテンが好
ましいオレフィンモノマーである。エチレンを用いる場合には、約1〜約100
atmの圧力が好ましい。
【0151】 第20の側面において、本発明は、配位子のドナー原子の少なくとも1つが、
1−ピロリルまたは置換1−ピロリル基で置換された窒素原子であり且つ該配位
子の残りのドナー原子がC、N、P、As、O、S及びSeからなる群から選ば
れる、ジアニオン性単座配位子のV、NbまたはTa錯体を含んでなるオレフィ
ン重合用触媒組成物に関する。
【0152】 第20の側面において好ましい触媒組成物は、場合によってはさらに第2の化
合物Yを含み且つ金属錯体が式XVIIの化合物であるものである:
【0153】
【化91】
【0154】 [式中、 Mは、V、NbまたはTaであり; R3a−dはそれぞれ独立して、H、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、
ヘテロ原子結合ヒドロカルビル、ヘテロ原子結合置換ヒドロカルビル、シリル、
ボリル、フルオロ、クロロ、ブロモまたはニトロであり、さらにR3a−dのう
ち任意の2つは架橋基によって結合されることができ; T1bは、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ヘテロ原子結合ヒドロカル
ビル、ヘテロ原子結合置換ヒドロカルビル、シクロペンタジエニル、置換シクロ
ペンタジエニル、N(ヒドロカルビル)、O(ヒドロカルビル)またはハロゲ
ン化物であり; Z1a及びZ1bはそれぞれ独立して、H、ハロゲン、ヒドロカルビル、置換
ヒドロカルビル、ヘテロ原子結合ヒドロカルビル、ヘテロ原子結合置換ヒドロカ
ルビル、シリル、アリル、ベンジル、アルコキシ、カルボキシレート、アミド、
ニトロもしくはトリフルオロメタンスルホニルであるか、または合わさってサル
フェート、オキサレートもしくは別の二価の基を形成でき; Yは、(Z1aまたは(Z1bを引き抜いて弱配位性アニオンを形成
できる中性ルイス酸、対イオンが弱配位性アニオンであるカチオン性ルイス酸、
及び共役塩基が弱配位性アニオンであるブレンステッド酸からなる群から選ばれ
;且つ 金属錯体は、V、NbまたはTaを中心とするカチオンを含み且つ基(Z1aまたは(Z1bの1つが弱配位性アニオンである塩であることができる
]。
【0155】 この第20の側面においてより好ましい触媒組成物は、ジアニオン性単座配位
子がセット10またはそれらの互変異性体から選ばれ且つT1bがN(ヒドロカ
ルビル)基であるものである: セット10
【0156】
【化92】
【0157】 [式中、 R3a−dはそれぞれ独立して、H、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、
ヘテロ原子結合ヒドロカルビル、ヘテロ原子結合置換ヒドロカルビル、フルオロ
アルキル、シリル、ボリル、フルオロ、クロロ、ブロモ、シアノまたはニトロで
あり、さらにR3a−dのうち任意の2つは架橋基によって結合されることがで
きる]。
【0158】 この第20の側面においてさらに好ましい触媒組成物は、金属がVであり且つ
金属錯体が固体担体に担持されているものである。
【0159】 第21の側面において、本発明は、1種またはそれ以上のオレフィンと第20
の側面の触媒組成物及び場合によってはさらに第2の化合物Yを接触させること
を含んでなる、オレフィン重合方法に関する。Yは、(i)V、NbまたはTa
錯体と反応して、弱配位性アニオンを含む塩を形成できる中性ルイス酸、(ii
)対イオンが弱配位性アニオンであるカチオン性ルイス酸、及び(iii)共役
塩基が弱配位性アニオンであるブレンステッド酸からなる群から選ばれる。
【0160】 第22の側面において、本発明は、(i)モノアニオン性またはジアニオン性
窒素ドナー配位子のカチオン性Ti、ZrまたはHf錯体(該窒素ドナーは、1
−ピロリルまたは置換1−ピロリル基で置換され且つ架橋基によってシクロペン
タジエニル、ホスファシクロペンタジエニル、ペンタジエニル、6−オキサシク
ロヘキサジエニルまたはボラタアリール基に結合され、これがまた該金属に配位
される)及び場合によっては(ii)アルミニウムまたは硼素を中心とするルイ
ス酸を含んでなるオレフィンの重合用触媒組成物に関する。この第22の側面に
おいて好ましい触媒組成物は、モノアニオン性またはジアニオン性窒素ドナー配
位子がセット11またはそれらの互変異性体から選ばれるものである: セット11
【0161】
【化93】
【0162】
【化94】
【0163】
【化95】
【0164】 [式中、 R2aは、H、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ヘテロ原子結合ヒドロ
カルビル、ヘテロ原子結合置換ヒドロカルビル、シリル、ボリルまたはフェロセ
ニルであり; R3a−hはそれぞれ独立して、H、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、
ヘテロ原子結合ヒドロカルビル、ヘテロ原子結合置換ヒドロカルビル、フルオロ
アルキル、シリル、ボリル、フルオロ、クロロ、ブロモ、シアノまたはニトロで
あり、さらにR3a−hのうち任意の2つは架橋基によって結合されることがで
き; R4aは、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ヘテロ原子結合ヒドロカル
ビルまたはヘテロ原子結合置換ヒドロカルビルであり; Gは、二価の架橋ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、シリル、ヘテロ原子
結合ヒドロカルビル、またはヘテロ原子結合置換ヒドロカルビルである]。
【0165】 この第22の側面においては、金属錯体が固体担体に担持されたものも好まし
い触媒組成物である。
【0166】 第23の側面において、本発明はまた、1種またはそれ以上のオレフィンを第
22の側面の触媒組成物と接触させることを含んでなる、オレフィンの重合方法
に関する。約20〜約160℃の重合反応温度が好ましく、約60〜約100℃
の温度がより好ましい。エチレン、プロピレン、1−ブテン、1−ヘキセン及び
1−オクテンが好ましいオレフィンモノマーである。エチレンを用いる場合には
、約1〜約100atmの圧力が好ましい。
【0167】 「発明の背景」の部分に記載した、ポリオレフィン触媒反応の前記進歩にも関
わらず、新規なポリオレフィン微細構造を生成するか官能性コモノマーを組み込
むことができるだけでなく、既存の生産用反応器中で使用できる充分な熱安定性
を有し且つこのような条件下で水素に対して適当な反応を示し、従って、触媒生
産性を許容できないほど減少させることなく、分子量を制御できる新規触媒が依
然として必要とされている。これは、二座N,N−ドナー配位子を含むニッケル
触媒について特に当てはまる。この触媒は一般には、60℃において極めて短い
寿命(t1/2約2〜4分)を示し、一般に水素によって非常に大きく阻害され
るので、代表的な市販の線状低密度ポリエチレン(LLDPE)の分子量まで分
子量を低下できる量の水素を添加すると、高温における触媒生産性は役に立たな
いほど低くなる。これらの触媒の構造上の共通の特徴は、芳香環または複素環式
芳香環によって置換された窒素ドナーを含み、配位窒素への結合点に対してオル
ト位の置換基がアルキル基である(錯体XXIによって例示されている)ことで
ある。
【0168】 我々は、錯体XXIIによって例示されるように、オルト置換基がアリールで
あると、熱安定性及び水素の存在下における触媒生産性が劇的に改善されること
を発見した。オルト−アルキル基がオルト−アリール基と置き換わると、約1ま
たはそれ以上のオーダーの生産性の改善が観察される。
【0169】
【化96】
【0170】 錯体XXIに関する触媒失活の半減期は60℃、エチレン200psigにお
いて約2〜4分であるのに対し、錯体XXIIに関する触媒失活の半減期はエチ
レン200psigにおいて少なくとも約32分であり、エチレン1気圧の場合
でさえ、60℃で16時間後にもまだ、検知し得る活性が観察される。
【0171】 理論によって拘束するつもりはないが、本発明者らは、安定性の改善は、触媒
化学におけるアゴスティック・アリール中間体の可逆的形成によると考える[構
造XIII参照(式中、Rpは生長するポリマー鎖を表し、Xは弱配位性アニ
オンであり、アゴスティック・フェニル基とニッケル中心との相互作用について
は特異的結合形態は意味しない)]。
【0172】
【化97】
【0173】 従って、触媒反応はもはや、もっぱら二座である配位子を含むのではなく、配
座数が可変の配位子を含み、それによって、さらなる電子密度を供与する(且つ
ことによるとニッケルからのπ−電子密度を受容する)配位子の能力が、低配位
中間体(例えば、3配位カチオン性水素化ニッケル種)を安定化させると考えら
れる。この低配位中間体は、そうでなければ、急速に分解して触媒として不活性
な種になるであろう。オルト−アルキル基が存在する場合には、急速なシクロメ
タレーションが起こって、永久に失活されるか、または再活性化が非常に遅くて
商業的ポリオレフィン生産にははるかに魅力のない種を生成すると考えられる。
この代表的型の失活反応については、Brookhartらによって論じられて
いる(J.Am.Chem.Soc.,117,6414,1995)。
【0174】 オルト位の全てではなく一部がブロモ基で置換された配位子もまた、熱安定性
及び水素に対する安定性の向上した触媒を生じる。その一方、本発明の触媒中の
4個のオルト置換基の1つでもアルキルであれば、残りがアリールであっても、
不良な熱安定性が観察される(u2、R7a−c=Ph;R7d=Meまたはシ
クロプロピル;R2x,y=Me)。同様に、オルト位の4つが全てブロモであ
る場合にも(u4,R7a−d=Br;R2x,y=合わさってOCHCH O)、不良な熱安定性が観察される。理論によって拘束するつもりはないが、本
発明者らは、オルト位がアルキル以外の基で置換された触媒は、芳香環または複
素環式芳香環の1つのオルト位の少なくとも1つがアリールまたはヘテロアリー
ル基であるならば、熱安定性及び水素に対する安定性が向上していると考える。
【0175】 従って、プロ触媒は、例えば、二座のN,N−、N,O−またはN,P−ドナ
ー配位子を含むことができるが、別の結合相互作用を可逆的に形成することによ
って、重合条件下で触媒中間体の安定化を助けることができることがこれらのオ
ルト−アリール置換配位子の新しい特徴である。
【0176】 従って、第24の側面において、本発明は、1種またはそれ以上のオレフィン
を第8族〜第10族遷移金属錯体を含む触媒組成物と接触させることを含んでな
るオレフィンの重合またはオリゴマー化方法に関し、該触媒組成物は改良された
熱安定性を示し、該金属錯体は芳香環または複素環式芳香環で独立して置換され
た1個または2個の窒素ドナー原子を含む二座配位子または配位座数が可変であ
る配位子を含み、該環のオルト位は、Hまたはアルキル以外の基で置換されてい
るが、但し、該芳香環または複素環式芳香環の少なくとも1つのオルト位の少な
くとも1つはアリールまたはヘテロアリール基で置換されている。
【0177】 本明細書中で使用する「Hまたはアルキル以外の基」の例としては、アリール
、ヘテロアリール、ブロモ、フルオロアルキル及びシアノがある。
【0178】 第25の側面において、本発明はまた、1種またはそれ以上のオレフィンを、
第8族〜第10族遷移金属錯体を含む触媒組成物と接触させることを含んでなる
オレフィンの重合またはオリゴマー化方法に関し、該触媒組成物は、連鎖移動を
行うのに有効な量の水素の存在下で改良された安定性を示し、該金属錯体は、芳
香環または複素環式芳香環で独立して置換された1個または2個の窒素ドナー原
子を含む二座配位子または配位座数が可変である配位子を含み、該環のオルト位
は、Hまたはアルキル以外の基で置換されているが、但し、該芳香環または複素
環式芳香環の少なくとも1つのオルト位の少なくとも1つはアリールまたはヘテ
ロアリール基で置換されている。
【0179】 本発明の第26の側面において、本発明はまた、1種またはそれ以上のオレフ
ィンを、第8族〜第10族遷移金属錯体を含む触媒組成物と接触させることを含
んでなるオレフィンの重合またはオリゴマー化方法に関し、該触媒組成物は、改
良された熱安定性を示すか、連鎖移動を行うのに有効な量の水素の存在下で改良
された安定性を示すか、その両方であり、該金属錯体は、芳香環または複素環式
芳香環で独立して置換された1個または2個の窒素ドナー原子を含む二座配位子
または配位座数が可変である配位子を含み、該芳香環または複素環式芳香環の少
なくとも1つのオルト位の少なくとも1つは、オレフィン重合反応条件下で該第
8族〜第10族遷移金属に対して可逆的にアゴスティック結合を形成できるアリ
ールまたはヘテロアリール基で置換されている。
【0180】 第27の側面において、本発明はまた、1種またはそれ以上のオレフィンを、
第8族〜第10族遷移金属錯体を含む触媒組成物と接触させることを含んでなる
オレフィンの重合またはオリゴマー化方法に関し、該触媒組成物は、改良された
熱安定性を示すか、連鎖移動を行うのに有効な量の水素の存在下で改良された安
定性を示すか、その両方であり、該組成物は、芳香環または複素環式芳香環で独
立して置換された1個または2個の窒素ドナー原子を含む二座配位子または配位
座数が可変である配位子を含み、該環のオルト位は、Hまたはアルキル以外の基
で置換されているが、但し、該芳香環または複素環式芳香環の少なくとも1つの
オルト位の少なくとも1つはアリールまたはヘテロアリール基で置換されている
【0181】 第28の側面においては、第24、第25、第26または第27の側面の芳香
環または複素環式芳香環のオルト位がアリールまたはヘテロアリール基で置換さ
れている。
【0182】 第24、第25、第26、第27または第28の側面の第1の好ましい実施態
様において、熱分解半減期は、60℃、エチレン200psigにおいて溶解し
た状態で10分より長く、この触媒の平均見掛け触媒活性はC 100,
000モル/モル触媒/時よりも大きい。これらの側面の第2の、より好ましい
実施態様において、熱分解半減期は20分より長く、この触媒の平均見掛け触媒
活性はC 1,000,000モル/モル触媒/時より大きい。これらの
側面の第3の、より好ましい実施態様において、この触媒の熱分解半減期は30
分より長い。これらの側面の第1、第2及び第3の実施態様の特に好ましい第4
の実施態様において、第8族〜第10族金属はNiである。これらの側面の第5
の好ましい実施態様において、プロセス温度は約60〜約150℃、より好まし
くは約100〜約150℃である。これらの側面の第6の、より好ましい実施態
様において、二座配位子または配位座数が可変である配位子はセット12から選
ばれる: セット12
【0183】
【化98】
【0184】 [式中、 R6a及びR6bはそれぞれ独立して芳香環または複素環式芳香環であり、該
環のオルト位は、Hまたはアルキル以外の基で置換されるが、但し、該芳香環ま
たは複素環式芳香環の少なくとも1つのオルト位の少なくとも1つがアリールま
たはヘテロアリール基で置換され; R2x及びR2yはそれぞれ独立して、H、ヒドロカルビル、置換ヒドロカル
ビル、ヘテロ原子結合ヒドロカルビルまたはヘテロ原子結合置換ヒドロカルビル
であり、架橋基によって結合されることができる]。
【0185】 第24,第25,第26,第27または第28の側面の第7の、特に好ましい
実施態様において、第8族〜第10族遷移金属はニッケルであり、二座または配
位座数が可変の配位子はセット13から選ばれる: セット13
【0186】
【化99】
【0187】 [式中、 R7a−dは、Hまたはアルキル以外の基であるが、ただし、R7a−dの少
なくとも1つはアリールまたはヘテロアリール基であり; R2x及びR2yはそれぞれ独立して、H、ヒドロカルビル、置換ヒドロカル
ビル、ヘテロ原子結合ヒドロカルビル、またはヘテロ原子結合置換ヒドロカルビ
ルであり、架橋基によって結合されることができ; R3a−fはそれぞれ独立して、H、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、
ヘテロ原子結合ヒドロカルビル、ヘテロ原子結合置換ヒドロカルビル、フルオロ
アルキル、シリル、ボリル、フルオロ、クロロ、ブロモ、シアノまたはニトロで
あり、さらにR3a−fのうち任意の2つは架橋基によって結合されることがで
きる]。
【0188】 第24、第25、第26、第27または第28の側面の第8の、特に好ましい
実施態様において、組成物は固体担体に担持されており、シリカが特に好ましい
固体担体であり、約60〜約100℃の反応温度がこの実施例においては好まし
い。
【0189】 気相オレフィン重合反応の場合には、場合によっては、触媒を不活性型として
オレフィン重合反応器に装入し、その後に活性化できれば有利であることがある
。触媒を完全に活性化された形態で装入する場合には、担持触媒粒子の過熱に関
連する問題が時として生じ、担持触媒粒子は最初は単位容積当たりの発熱速度が
非常に速い。過熱は、触媒の失活、ポリマー粒子の過度の凝集、またはその両方
を招く可能性がある。さらに、好ましくない静電荷挙動が観察される場合があり
、それが新たに装入された粒子を反応器壁に移動させ、有害なシート形成現象を
起こす。従って、本発明の別の目的は、気相オレフィン重合反応器自体の中で触
媒を活性化する方法を記載することにある。
【0190】 従って、第29の側面において、本発明はまた、1種またはそれ以上のオレフ
ィンモノマーを、固体担体に結合したシングルサイト触媒と接触させることを含
んでなるオレフィン重合方法に関し、該触媒は、カチオン性第4族〜第11族遷
移金属錯体及び弱配位性対アニオンを含み、該触媒は、不活性型で気相オレフィ
ン重合反応器に装入され、不活性型は後で、第2の化合物Yとの反応によって
活性化されて、該反応器中で該触媒を形成する。
【0191】 この第29の側面において好ましい第4族〜第11族遷移金属としては、Ti
、Zr、Hf、Ni、Co及びFeが挙げられる。この側面において好ましい第
2の化合物Yにはトリアルキルアルミニウムまたはジアルキル亜鉛化合物があ
り、トリメチルアルミニウムが特に好ましい。より好ましい実施態様において、
前記触媒の不活性型はセット14から選ばれ、前記弱配位性対アニオンは、該触
媒の不活性型とYとの反応によって形成されるか、あるいはB(C 、B(3,5−ビス(トリフルオロメチル)フェニル) 、[(C B−(イミダゾール)−B(C、BF 及び[(C B−CN−B(Cからなる群から選ばれ;Yはトリメチルア
ルミニウムである: セット14
【0192】
【化100】
【0193】
【化101】
【0194】
【化102】
【0195】
【化103】
【0196】 [式中、 R2a,b,x,yはそれぞれ独立して、H、ヒドロカルビル、置換ヒドロカ
ルビル、ヘテロ原子結合ヒドロカルビル、ヘテロ原子結合置換ヒドロカルビル、
シリル、ボリルまたはフェロセニルであり;さらに、R2a,b,x,yのうち
任意の2つは架橋基によって結合されることができ; R3a−mはそれぞれ独立して、H、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、
ヘテロ原子結合ヒドロカルビル、ヘテロ原子結合置換ヒドロカルビル、フルオロ
アルキル、シリル、ボリル、フロオロ、クロロ、ブロモ、シアノまたはニトロで
あり;さらに、R3a−mのうち任意の2つは架橋基によって結合されることが
でき; Aはハロゲン化物基またはYと反応して活性オレフィン重合触媒を発生で
きるモノアニオン基であるが、但し、Yの不存在下においては、Aは、シン
グルサイト触媒の不活性型が該活性オレフィン重合触媒よりもオレフィン重合の
触媒として少なくとも10倍活性が低くなるようなものであり; A及びAはそれぞれ独立して、ヒドロカルビル、ハロゲン化物、O(ヒド
ロカルビル)またはO(置換ヒドロカルビル)であるが、但し、A及びA
少なくとも一方は、Yによって引き抜かれて弱配位性対アニオンを形成でき、
且つ他方はオレフィンを挿入して、ポリマーの連鎖生長を開始できるか、次に連
鎖生長を開始できるY上の基と交換されることができ; G及びGは、二価の架橋ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、シリル、ヘ
テロ原子結合ヒドロカルビル、またはヘテロ原子結合置換ヒドロカルビルであり
; Xは弱配位性アニオンである]。
【0197】 第30の側面において、本発明はまた、第24、第25、第26、第27また
は第28の側面の触媒を、固体担体に担持された不活性型として気相オレフィン
重合反応器に装入し、該触媒を後で第2の化合物Yによって該反応器中で活性
化させる方法に関する。この第30の側面の第1の好ましい実施態様において、
二座配位子または配位座数が可変の配位子はセット15から選ばれる: セット15
【0198】
【化104】
【0199】 [式中、 R6a及びR6bはそれぞれ独立して、芳香環または複素環式芳香環であり、
1つまたはそれ以上の該環のオルト位は、Hまたはアルキル以外の基で置換され
ているが、ただし、該芳香環または複素環式芳香環の少なくとも1つのオルト位
の少なくとも1つはアリールまたはヘテロアリール基によって置換されており; R2x及びR2yはそれぞれ独立して、H、ヒドロカルビル、置換ヒドロカル
ビル、ヘテロ原子結合ヒドロカルビルまたはヘテロ原子結合置換ヒドロカルビル
であり、架橋基によって結合されることができる]。
【0200】 第30の側面の第2の、より好ましい実施態様において、(i)第8族〜第1
0族遷移金属はニッケルであり、(ii)弱配位性対アニオンは、該触媒の不活
性型と揮発性の第2の化合物Yとの反応によって形成されるか、またはB(C 、B(3,5−ビス(トリフルオロメチル)フェニル) 、[(
B−(イミダゾール)−B(C、BF 及び[(
B−CN−B(Cからなる群から選ばれ;(iii
)Yはトリメチルアルミニウムであり;且つ(iv)二座配位子または配位座
数が可変の配位子はセット16から選ばれる: セット16
【0201】
【化105】
【0202】 [式中、 R7a−dは、Hまたはアルキル以外の基であるが、ただし、R7a−dの少
なくとも1つはアリールまたはヘテロアリール基であり; R2x及びR2yはそれぞれ独立して、H、ヒドロカルビル、置換ヒドロカル
ビル、ヘテロ原子結合ヒドロカルビル、またはヘテロ原子結合置換ヒドロカルビ
ルであり、架橋基によって結合されることができ; R3a−fはそれぞれ独立して、H、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、
ヘテロ原子結合ヒドロカルビル、ヘテロ原子結合置換ヒドロカルビル、フルオロ
アルキル、シリル、ボリル、フルオロ、クロロ、ブロモ、シアノまたはニトロで
あり、さらにR3a−fのうち任意の2つは架橋基によって結合されることがで
きる]。
【0203】 第31の側面において、本発明はまた、第24、第25、第26、第27また
は第28の側面の触媒の芳香環または複素環式芳香環がセット17から選ばれる
方法に関する: セット17
【0204】
【化106】
【0205】
【化107】
【0206】 [式中、R7a,bは、Hまたはアルキル以外の基であるが、但し、R7a,b の少なくとも一方はアリールまたはヘテロアリール基であり; R3a−kはそれぞれ独立して、H、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、
ヘテロ原子結合ヒドロカルビル、ヘテロ原子結合置換ヒドロカルビル、フルオロ
アルキル、シリル、ボリル、フルオロ、クロロ、ブロモ、シアノまたはニトロで
あり、さらに、R3a−kのうち任意の2つは架橋基によって結合されることが
でき; EはO、S、SeまたはNR3bである]。
【0207】 この開示において、周期表の元素及びよく省略される基を示すのに通常用いら
れる記号は、特に断らない限り通常の意味を有する。従って、N,O、S、P及
びSiはそれぞれ、窒素、酸素、硫黄、燐及び珪素を表し、Me、Et、Pr、 Pr、Bu、Bu及びPhはそれぞれ、メチル、エチル、プロピル、iso
−プロピル、ブチル、tert−ブチル及びフェニルを表す。 「1−ピロリルまたは置換1−ピロリル」基は、下記式IIの基を意味する:
【0208】
【化108】
【0209】 [式中、R3a−dはそれぞれ独立して、H、ヒドロカルビル、置換ヒドロカル
ビル、ヘテロ原子結合ヒドロカルビル、ヘテロ原子結合置換ヒドロカルビル、フ
ルオロアルキル、シリル、ボリル、フルオロ、クロロ、ブロモ、シアノまたはニ
トロであり;さらに、R3a−dのうち任意の2つまたはそれ以上は、1つ又は
それ以上の架橋基によって結合されて、カルバゾル−9−イル及びインドル−1
−イルを含む二環または多環系を形成できる]。
【0210】 「ヒドロカルビル」基は、炭素原子及び水素原子のみを含む一価または二価の
直鎖、分枝または環式基を意味する。一価ヒドロカルビルの例としては以下のも
のが挙げられる:C〜C20アルキル;C〜C20アルキル、C〜C
クロアルキル及びアリールから選ばれた1個またはそれ以上の基で置換されたC 〜C20アルキル;C〜Cシクロアルキル;C〜C20アルキル、C 〜Cシクロアルキル及びアリールから選ばれた1個またはそれ以上の基で置換
されたC〜Cシクロアルキル;C〜C14アリール;ならびにC〜C アルキル、C〜Cシクロアルキル及びアリールから選ばれた1個またはそ
れ以上の基で置換されたC〜C14アリール。二価(架橋)ヒドロカルビルの
例としては、−CH−、−CHCH−、−CHCHCH−及び1,
2−フェニレンが挙げられる。
【0211】 用語「アリール」は、置換されたまたは未置換の芳香族炭素環式モノラジカル
を意味し、置換基はハロ、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ヘテロ原子結
合ヒドロカルビル、ヘテロ原子結合置換ヒドロカルビル、ニトロ、シアノ、フル
オロアルキル、スルホニルなどである。例としては以下ものが挙げられる:フェ
ニル、ナフチル、アントラセニル、フェナントラセニル、2,6−ジフェニルフ
ェニル、3,5−ジメチルフェニル、4−ニトロフェニル、3−ニトロフェニル
、4−メトキシフェニル、4−ジメチルアミノフェニルなど。
【0212】 「複素環」は、炭素原子の1つまたはそれ以上が、O、N、S、P、Se、A
s、Si、B等からなる群から選ばれた原子で置き換えられた炭素環を意味する
【0213】 「複素環式芳香環」は、芳香族複素環を意味し;例としては、ピロール、フラ
ン、チオフェン、インデン、イミダゾール、オキサゾール、イソキサゾール、カ
ルバゾール、チアゾール、ピリミジン、ピリジン、ピリダジン、ピラジン、ベン
ゾチオフェンなどが挙げられる。
【0214】 「ヘテロアリール」は、芳香族である複素環式モノラジカルを意味し;例とし
ては、1−ピロリル、2−ピロリル、3−ピロリル、フリル、チエニル、インデ
ニル、イミダゾリル、オキサゾリル、イソキサゾリル、カルバゾリル、チアゾリ
ル、ピリミジニル、ピリジル、ピリダジニル、ピラジニル、ベンゾチエニルなど
ならびにそれらの置換誘導体が挙げられる。
【0215】 「シリル」基は、SiR基を意味し、Siは珪素であり、Rはヒドロカルビ
ルもしくは置換ヒドロカルビルまたはSi(SiRの場合のように、シリ
ルである。
【0216】 「ボリル」基は、BRまたはB(OR)基を意味し、Rはヒドロカルビル
または置換ヒドロカルビルである。
【0217】 「ヘテロ原子」は、炭素または水素以外の原子を意味する。好ましいヘテロ原
子としては、酸素、窒素、燐、硫黄、セレン、砒素、塩素、臭素、珪素及びフッ
素が挙げられる。
【0218】 「置換ヒドロカルビル」は、1個またはそれ以上のヘテロ原子で置換された一
価、二価または三価のヒドロカルビルを意味する。一価の置換ヒドロカルビルの
例としては以下のものが挙げられる:2,6−ジメチル−4−メトキシフェニル
、2,6−ジイソプロピル−4−メトキシフェニル、4−シアノ−2,6−ジメ
チルフェニル、2,6−ジメチル−4−ニトロフェニル、2,6−ジフルオロフ
ェニル、2,6−ジブロモフェニル、2,6−ジクロロフェニル、4−メトキシ
カルボニル−2,6−ジメチルフェニル、2−tert−ブチル−6−クロロフ
ェニル、2,6−ジメチル−4−フェニルスルホニルフェニル、2,6−ジメチ
ル−4−トリフルオロメチルフェニル、2,6−ジメチル−4−トリメチルアン
モニウムフェニル(弱配位性アニオンによって結合されている)、2,6−ジメ
チル−4−ヒドロキシフェニル、9−ヒドロキシアンスル−10−イル、2−ク
ロロナフト−1−イル、4−メトキシフェニル、4−ニトロフェニル、9−ニト
ロアンスル−10−イル、−CHOCH、シアノ、トリフルオロメチル及び
フルオロアルキル。二価(架橋)置換ヒドロカルビルとしては以下のものが挙げ
られる:4−メトキシ−1,2−フェニレン、1−メトキシメチル−1,2−エ
タンジイル、1,2−ビス(ベンジルオキシメチル)−1,2−エタンジイル及
び1−(4−メトキシフェニル)−1,2−エタンジイル。
【0219】 「ヘテロ原子結合ヒドロカルビル」は、E10(ヒドロカルビル)、E20
(ヒドロカルビル)またはE20(ヒドロカルビル)の型の基を意味し、E は第16族から選ばれた原子であり、E20は第15族から選ばれた原子であ
る。
【0220】 「ヘテロ原子結合置換ヒドロカルビル」は、E10(置換ヒドロカルビル)、
20H(置換ヒドロカルビル)またはE20(置換ヒドロカルビル)の型の
基を意味し、E10は第16族から選ばれた原子であり、E20は第15族から
選ばれた原子である。
【0221】 本明細書中で使用する用語「フルオロアルキル」は、1個またはそれ以上のフ
ッ素原子で置換されたC〜C20アルキル基を意味する。
【0222】 「オレフィン」は式R1aCH=CHR1bの化合物を意味し、R1a及びR1b は独立して、H、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、フルオロアルキル
、シリル、O(ヒドロカルビル)、またはO(置換ヒドロカルビル)であること
ができ、R1a及びR1bは結合して環式オレフィンを形成できるが、但し、全
ての場合において、置換基R1a及びR1bは触媒と適合性である。ほとんどの
第4族〜第7族触媒については、これは一般に、オレフィンが良好なルイス塩基
ドナーを含んではならないことを意味する。これは、良好なルイス塩基ドナーは
触媒反応をひどく阻害する傾向があるためである。このような触媒に好ましいオ
レフィンは、エチレン、プロピレン、ブテン、ヘキセン、オクテン、シクロペン
テン、ノルボルネン及びスチレンなどである。
【0223】 第8族〜第10族触媒については、オレフィン上のルイス塩基置換基は、たい
ていの場合、触媒反応速度を低下させる傾向があるが、それでもなお、これらの
オレフィンの一部のものではホモ重合または共重合の有効速度が達成されること
ができる。このような触媒に好ましいオレフィンは、エチレン、プロピレン、ブ
テン、ヘキセン、オクテン及びフルオロアルキル置換オレフィンなどであるが、
パラジウム及び官能基に対してより耐性のあるニッケル触媒の一部のものについ
ては、ノルボルネン、置換ノルボルネン(例えば、5位がハロゲン化物、シロキ
シ、シラン、ハロ炭素、エステル、アセチル、アルコールまたはアミノ基で置換
されたノルボルネン)、シクロペンテン、エチルウンデセノエート、アクリレー
ト、ビニルエチレンカーボネート、4−ビニル−2,2−ジメチル−1,3−ジ
オキソラン及び酢酸ビニルも含むことができる。
【0224】 場合によっては、第8族〜第10族触媒は、追加のオレフィン性またはアセチ
レン性官能基を含むオレフィンによって阻害されるおそれがある。これは、触媒
が「チェーン・ランニング」を起こしやすい場合に特に起こりやすい。オレフィ
ンモノマーが別の不飽和を含む場合には比較的反応性でないπ−アリル性中間体
が形成され得るので、チェーン・ランニングで触媒は挿入の間でポリマー鎖をあ
ちこち移動する可能性がある。このような効果は、ケースバイケースの原則で測
定するのが最も良いが、エチレンホモ重合において所定の触媒で観察される分枝
の数を知ることによってある程度は予測でき;エチレンに関して比較的高レベル
の分枝を生じる傾向のあるそれらの触媒は、同一条件下で短鎖ジエンコモノマー
を使用する場合にはより遅い速度を示す傾向があるであろう。他の要因が一定に
保たれる場合には、長鎖のジエンは短鎖のジエンよりも抑制性でない傾向がある
。これは、π−アリルを形成するには触媒がより遠くに移動しなければならず、
別の挿入が最初に起こるためである。
【0225】 同様な問題は、挿入及びチェーン・ランニングによって、ルイス塩基エステル
官能基が触媒上の配位座を占める比較的安定な分子内キレート構造を形成し得る
不飽和エステルにもついても言える。このような場合、他の因子が全て一定に保
たれるならば、アクリル酸メチルのような短鎖不飽和エステルは、ウンデセン酸
エチルのような長鎖エステルより抑制性である傾向がある。
【0226】 本明細書中で使用する用語「α−オレフィン」は炭素数3〜40の1−アルケ
ンである。
【0227】 「π−アリル」基は、金属中心にη結合した3個のsp炭素原子を有する
モノアニオン性基である。3個のsp炭素原子のいずれも、ヒドロカルビル、
置換ヒドロカルビル、ヘテロ原子結合ヒドロカルビル、ヘテロ原子結合置換ヒド
ロカルビルまたはO−シリル基で置換されることができる。π−アリルの例には
以下のものがある:
【0228】
【化109】
【0229】 用語「π−ベンジル基」は、sp炭素原子の2つが芳香環の一部であるπ−
アリル基を意味する。π−ベンジル基の例としては以下のものが挙げられる:
【0230】
【化110】
【0231】 「架橋基」は、架橋基としての要件を満たす適当な価数を有し且つ所望の触媒
反応と適合できる、2個またはそれ以上の基を結合する原子または基を意味する
。適当な例としては、二価または三価のヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、
ヘテロ原子結合ヒドロカルビル、ヘテロ原子結合置換ヒドロカルビル、置換珪素
(IV)、硼素(III)、N(III)、P(III)及びP(V)、−C(
O)−、−SO−、−C(S)−、−B(OMe)−、−C(O)C(O)−
、O、S及びSeが挙げられる。場合によっては、「架橋基によって結合される
」と述べられている基は、互いに直接に結合し、この場合には、用語「架橋基」
はその結合を指すものとする。「所望の触媒反応と適合できる」とは、架橋基が
所望の触媒反応を妨害しないか、触媒活性または選択性を有効に改良する役割を
果たすことを意味する。
【0232】 用語「弱配位性アニオン」は当業界では良く知られており、一般に、アニオン
の負電荷の非局在化が可能な大きい嵩高いアニオンを意味する。このような非局
在化の重要性はある程度は、カチオン性活性種を含む遷移金属の性質により、第
4族〜第6族の遷移金属は、場合によってはBF 対アニオンと共に活性触媒
を生成できる第8族〜第10族遷移金属を基材とする多くの触媒よりも、B(C のような配位性アニオンを必要としない。弱配位性アニオンは、そ
の全てが嵩高いとみなされるとは限らない。弱配位性アニオンの例としては以下
のものが挙げられるが、これらに限定されない:B(C 、PF 、BF 、SbF 、(Ph)[式中、Ph=フェニル]、及びAr{式中、Ar=テトラキス[3,5−ビス(トリフロオロメチル)
フェニル]−ボレート}。このようなアニオンの弱配位性は周知であり、文献に
記載されている(S.Straussら,Chem.Rev.,1993,93
,927)。
【0233】 用語「アゴスチック」は当業者には知られており、一般に、C−H結合と配位
不飽和な遷移金属との間の弱い結合相互作用を示すのに用いる。本明細書中では
、「アゴスチック」は、本発明の第24及びそれ以降の側面に記載した配位子の
オルト−アリールまたはオルト−ヘテロアリール基のいずれかまたは全てと、該
配位子が配位される配位不飽和な第8族〜第10族遷移金属中心との間の弱い結
合相互作用を表すのに用いる。「弱い結合相互作用」とは、例えば、オレフィン
モノマーの結合及び挿入を妨げないようにオレフィン重合反応条件下で可逆的に
形成される充分に弱い結合を意味する。
【0234】 用語「オルト」は、本明細書中において、第24及びそれ以降の側面の配位子
との関連で、配位窒素への前記芳香環または複素環式芳香環の結合点の隣の位置
を示すのに用いる。1−結合6員環について言えば、それは2−位及び6−位を
意味する。1−結合5員環について言えば、それは2−位及び5−位を意味する
。1−結合縮合芳香環または複素環式芳香環の場合には、置換できる第1の位置
を意味し;例えば、1−ナフチルについて言えば、これらは2−位及び8−位で
あろうし;9−アントラセニルについて言えば、これらは1−及び8−位であろ
う。
【0235】 用語「配位座数が可変である」とは、本明細書中において、そうでない場合に
は2座である配位子との関連で、配位子とそれが配位する第8族〜第10族遷移
金属中心との間の第3の結合相互作用の可逆的形成を示すのに用いる。
【0236】 略語「acac」はアセチルアセトネートを意味する。一般に、親構造中の1
個またはそれ以上の水素がヒドロカルビル、置換ヒドロカルビルまたはフルオロ
アルキルで置き換えられた、置換アセチルアセトネートは、「acac」の代わ
りに使用できる。例えば、ミネラルスピリットへの(配位子)Ni(acac)
BF塩の溶解性を改良するのに重要であるいくつかの場合にはヒドロカルビル
置換アセチルアセトネートが好ましいことがある。
【0237】 「熱分解半減期」とは、実質的に物質移動が限定されない条件下で測定された
、触媒がその活性を半分失うのに必要な時間を意味する。
【0238】 「実質的に物質移動が限定されない条件」とは、モノマーまたはコモノマーと
して気体エチレンを用いて溶解した状態でエチレン重合反応を行う場合に、液相
へのエチレンの溶解速度が触媒回路のターンオーバー制限工程である可能性があ
ることが多く、そのために、見掛け触媒活性が、改良された物質移動条件下で観
察されるよりも低いという事実を意味する。物質移動の限界は一般に、エチレン
分圧の増加、気相と液相との撹拌・混合の改良または触媒担持量の減少によって
、重合反応速度が反応器への触媒の装入量に一次依存(first order
dependence)を示す点まで軽減され、その結果、反応は、実質的に
物質移動が限定されないと見なすことができる。
【0239】 「見掛け触媒活性」とは、物質移動限界の影響を考えない、消費されるモノマ
ーのモル数/モル(触媒)/単位時間を意味する。
【0240】 「触媒組成物が改良された熱安定性を示す」とは、本発明の第24、第25、
第26、第27及び第28の側面に記載された、本発明の触媒の新規なオルト−
アリール置換型を含まない、その他の点では構造上同一の触媒組成物に関して実
質的に物質移動が限定されない条件下で観察されるよりも少なくとも2倍、好ま
しくは5倍、最も好ましくは10倍長い熱分解半減期を有する触媒組成物のこと
を言う。
【0241】 「連鎖移動を行うのに有効な量の水素」は、水素がオレフィン重合触媒と反応
して、生長するポリマー鎖を開裂し且つ新しい鎖を開始する水素の能力を示す。
たいていの場合、これは、生長するポリマー鎖の金属−炭素結合の水素添加分解
によって、金属水素化物触媒中間体を形成することを含むと考えられ、この中間
体が次にオレフィンモノマーと反応して新しい鎖を開始できる。本発明との関連
では、有効量は、水素の不存在下で行われる、その他の点では同様な反応を基準
として、ポリマーの数平均分子量及び重量平均分子量を共に少なくとも10%低
下させる水素の量とみなす。この関連において、「その他の点では同様な」とは
、触媒、触媒担持量、溶媒、溶媒容量、撹拌、エチレン圧、コモノマー濃度、反
応時間及び他のプロセス関連パラメーターが、妥当な比較が行える程度に充分に
同様であることを意味する。
【0242】 一般に、前記の、本発明の新規なオルト−アリール置換型を含まない触媒は、
連鎖移動を行うのに有効な量の水素の存在下では、水素を用いない、その他の点
では同様な条件下よりも生産性がはるかに低い。この影響を数値化するために、
以下の用語を定義する。
【0243】 生産性Pは、一定の時間にわたって製造される、触媒モルあたりのポリマーの
グラム数と定義する。生産性Phydrogen(P水素)は、連鎖移動を行う
のに有効な量の水素の存在下で、同じ期間行った他の点では同様な反応において
生成されたポリマーのg数/モル(触媒)と定義する。本発明の組成物の新規な
オルト−アリール置換型を含まない触媒組成物は一般に、実質的に物質移動が限
定されない条件下においてPhydrogen/Pの比が0.05またはそれ以
下である。
【0244】 「連鎖移動を行うのに有効な量の水素の存在下で改良された安定性」とは、実
質的に物質移動が限定されない条件下においてPhydrogen/Pの比が少
なくとも0.1であることを意味する。本発明の好ましい触媒は、実質的に物質
移動が限定されない条件下においてPhydrogen/Pの比が0.2または
それ以上である。本発明の特に好ましい触媒は、実質的に物質移動が限定されな
い条件下においてはPhydrogen/Pの比が0.5またはそれ以上である
【0245】 「1種またはそれ以上のオレフィン」とは、1種またはそれ以上の化学的に異
なるオレフィンモノマー供給原料、例えば、エチレンとプロピレンを使用するこ
とを意味する。
【0246】 用語「シングルサイト触媒」は、一般的な定義の通りに使用し、好ましくは、
溶解され且つ活性化されて、1種またはそれ以上のオレフィンモノマーと反応し
て狭い分子量分布を有する(代表的にはM/M<4であることを特徴とする
)ポリマーを形成できる単一活性種を形成できるオレフィン重合触媒を意味する
。このような触媒の多くの例は、本願明細書中に示す:その他の具体例は以下の
文献に示されている:EP420,436(1991);EP416,815(
1991);Science,1995,267,217;EP874,005
(1998);J.Am.Chem.Soc.,1996,118,10008
;J.Am.Chem.Soc.,1997,119,3830;J.Am.C
hem.Soc.,1999,121,5797;WO 94/14854,E
P 0 532 098 A1;EP 0 641 804 A2,EP 0
816 384 A2;WO 94/11410;WO 94/01471;W
O 96/23010;US5,866,663,US5,886,224,U
S5,891,963,US5,880,323,US5,880,241,J
.Am.Chem.Soc.,1995,117,6414;WO 97/02
298;WO 98/40374,WO 98/37110,WO 98/47
933,WO 98/40420;WO 97/17380,WO 97/48
777,WO 97/48739,WO 97/48740;WO 99/02
472;WO 98/27124;WO 99/12981;WO98/306
10,WO 98/30609,WO 98/42665,WO 98/426
64;米国特許第4,564,647号,第4,752,597号,第5,10
6,804号,第5,132,380号,第5,227,440号,第5,29
6,565号,第5,324,800号,第5,331,071号,第5,33
2,706号,第5,350,723号,第5,399,635号,第5,46
6,766号,第5,468,702号,第5,474,962号,第5,57
8,537号及び第5,863,853号。これらの特許の全内容を参照するこ
とによって本願明細書中に取り入れる。
【0247】 用語「不活性型」は、活性オレフィン重合触媒の前駆体として働き且つ第2の
化合物Yによって活性化されるまでは触媒活性を持たないか、あるいは活性の
ある生成物よりも少なくとも10倍は活性が低い遷移金属錯体を意味するのに用
いる。
【0248】 化合物Yは、前記触媒の不活性型と反応して活性オレフィン触媒組成物を生
成でき、且つまた、気相オレフィン重合反応器の条件下で該触媒の不活性型を活
性化させるの有効な揮発性を有する化合物である。例としては、トリメチルアル
ミニウム、ジメチル亜鉛、MeEt3−nAl(n=0〜3)、ジエチル亜鉛
及びEtAlClが挙げられる。 「オレフィンを挿入できる」は、R1aCH=CHR1b型のオレフィンモノマ
ーを挿入してM−CHR1a−CHR1b−Z型の一部分を形成できる、遷移金
属Mに結合した基Zのことを言い、このM−CHR1a−CHR1b−Z型は次
にさらにオレフィン挿入されて、ポリマー鎖を形成できる。式中、R1a及びR1b は独立して、H、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、フルオロアルキル
、シリル、O(ヒドロカルビル)またはO(置換ヒドロカルビル)であることが
でき、R1a及びR1bは結合されて、環状オレフィンを形成できるが、全ての
場合において、置換基R1a及びR1bは所望の触媒反応と適合でき;以下によ
り詳細に論じるように、別の基が遷移金属Mに結合して、実際の触媒を構成する
であろう。
【0249】 「揮発性の第2の化合物Y上の基と交換され得る」は、オレフィンを挿入で
きない基の代わりに、オレフィンを挿入できる基を遷移金属に移動させるいくつ
かの活性化剤の能力のことを言う。
【0250】 用語「ボラタアリール」は、式XXXのモノアニオン性複素環式基を意味する
【0251】
【化111】
【0252】 [式中、 R3a−eはそれぞれ独立して、H、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、
ヘテロ原子結合ヒドロカルビル、ヘテロ原子結合置換ヒドロカルビル、フルオロ
アルキル、シリル、ボリル、フルオロ、クロロ、ブロモ、シアノまたはニトロで
あり;さらに、R3a−eのうち任意の2つは架橋基によって結合されることが
でき; R4aは、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ヘテロ原子結合ヒドロカル
ビルまたはヘテロ原子結合置換ヒドロカルビルであり; R3a−eの任意の1つまたはR4aは、二価架橋基としての役割を果たして
、ボラタアリールを配位子の残りに結合させることができる]。
【0253】 一般に、本発明の触媒は充分な立体障害を有することができ、重合度(DP)
が10またはそれ以上の鎖が得られる程度に連鎖生長反応に関する連鎖移動が遅
い。例えば、[(配位子)Fe(T1a)(L)]型の触媒を含む触媒系
の場合には、触媒系はエチレンと反応して低分子量ポリマーを形成する。前記式
中、T1aは水素原子、ヒドロカルビル、またはオレフィンを挿入できる他の基
であり、Lはオレフィンまたはオレフィンと置き換わることができる中性ドナー
基であり、Xは弱配位性アニオンであり、配位子は式h17の化合物である。
しかし、嵩高い置換基を含まない配位子を一般に含むこれらの触媒のより立体障
害の少ない型、例えば、h19に由来するものも、二量体化またはオリゴマー化
触媒として使用できる。
【0254】 遅い連鎖移動を生じ且つそれによってポリマーを形成するのに必要な活性触媒
サイトにおける立体障害度は、多数の因子によって決まり、それは多くの場合、
実験によって求めるのが最も良い。これらの因子には、触媒の正確な構造、重合
されるモノマーの種類、触媒が溶解状態にあるか固体担体に結合しているかとい
うこと、ならびに温度及び圧力がある。ポリマーとは本明細書中では、重合度、
DPが約10またはそれ以上に相当するものと定義し;オリゴマーは、DPが2
〜約10に相当するものと定義する。
【0255】 種々のプロトコルを用いて、種々の窒素、燐、酸素及び硫黄ドナー配位子の遷
移金属錯体を含んでなる活性な重合触媒を生成できる。例としては、(i)第4
族メタロセンジクロリドとMAOとの反応、(ii)第4族メタロセンジメチル
錯体とN,N−ジエチルアニリニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボ
レートとの反応、(iii)三座N−ドナー配位子の第8族または第9族金属二
ハロゲン化物錯体とアルキルアルミニウム試薬との反応、(iv)三座N−ドナ
ー配位子の第8族または第9族金属ジアルキル錯体とMAOまたはHB(3,5
−ビス(トリフルオロメチル)フェニル)との反応、(v)(MeN)
rと2当量のN−ピロル−1−イルサリチルイミンとの反応、それに続く、この
反応の生成物の、MeSiCl、次いでトリイソブチルアルミニウム改質メチ
ルアルミノキサンによる処理;ならびに(iv)二座N−ドナー配位子のニッケ
ルまたはパラジウム二ハロゲン化物錯体とアルキルアルミニウム試薬との反応。
ここに記載した別の方法には、(三座N−ドナー配位子)M(acac)B(C塩とアルキルアルミニウム試薬との反応[MはFe(II)またはC
o(II)である]、及び(二座N−ドナー配位子)Ni(acac)X塩とア
ルキルアルミニウム試薬との反応[Xは弱配位性アニオン、例えば、B(C 、BF 、PF 、SbF 及びOS(O)CF である]
がある。弱配位性対アニオンを有するカチオン性[(配位子)M(π−アリル)
錯体[式中、Mは第10族遷移金属である]はまた、活性重合触媒の形成に
、オレフィンモノマーへの暴露及び場合によっては高温(40〜100℃)もし
くはルイス酸の添加またはその両者のみを必要とする適当な触媒前駆体であるこ
とが多い。
【0256】 より一般的には、種々の(配位子)M(Z1a)(Z1b)錯体[式中、「
配位子」は本発明の化合物を意味し、金属Mに配位した(ligated)窒素
が1−ピロリルまたは置換1−ピロリル基で置換された少なくとも1個の窒素ド
ナーを含み;nは1または2であり、;Mは第4族〜第10族遷移金属であり;
1a及びZ1bは一価の基であるか、合わさって二価の基を形成できる]は、
助触媒または活性化剤の役割をする、総称して化合物Yと呼ばれる1個またはそ
れ以上の化合物と反応して、[(配位子)M(T1a)(L)]型の活
性触媒[式中、nは1または2であり、T1aは水素原子またはヒドロカルビル
であり、Lはオレフィンまたはオレフィンと置き換わることができる中性ドナー
基であり、Mは第4族〜第10族遷移金属であり、Xは弱配位性アニオンであ
る]を生成できる。Z1a及びZ1bが共にハロゲン化物である場合には、化合
物Yの例としては、メチルアルミノキサン(ここでは、MAO)、ならびに他の
アルミニウムセスキオキシド、RAl、RAlCl及びRAlCl[式中
、Rはアルキルであり、複数の基Rは同一であっても異なってもよい]が挙げら
れる。Z1a及びZ1bが共にアルキルである場合には、化合物Yの例としては
、MAOならびに他のアルミニウムセスキオキシド、RAl、RAlCl及
びRAlCl[式中、Rはアルキルであり、複数の基Rは同一であっても異な
ってもよい]、B(C、R Sn[BF][式中、Rはヒドロ
カルビルまたは置換ヒドロカルビルであり、複数のRは同一でも異なってもよ
い]、H{式中、Xは弱配位性アニオン、例えば、テトラキス[3,5
−ビス(トリフルオロメチル)フェニル]ボレートである}、ならびにルイス酸
性またはブレンステッド酸性金属酸化物、例えば、モンモリロナイトクレイが挙
げられる。場合によっては、例えば、Z1a及びZ1bが共にハロゲン化物また
はカルボキシレートである場合、活性触媒を生成するためには、金属ヒドロカル
ビルによる逐次処理、それに続くルイス酸との反応が必要である。金属ヒドロカ
ルビルの例としては、MAO、他のアルミニウムセスキオキシド、RAl、R AlCl及びRAlCl[式中、Rはアルキルであり、複数の基Rは同一で
あっても異なってもよい]、グリニャール試薬、有機リチウム試薬及びジオルガ
ノ亜鉛試薬が挙げられる。ルイス酸の例としては、MAO、他のアルミニウムセ
スキオキシド、RAl、RAlCl及びRAlCl[式中、Rはアルキル
であり、複数の基Rは同一であっても異なってもよい]、B(C、R Sn[BF][式中、Rはヒドロカルビルまたは置換ヒドロカルビルで
あり、複数のRは同一でも異なってもよい]、及びルイス酸性金属酸化物が挙
げられる。
【0257】 用語「アルキルアルミニウム」は、本発明の金属錯体と反応して、活性オレフ
ィン重合触媒を生成できる、Al(III)に結合した少なくとも1個のアルキ
ル基を含む化合物を示すのに用いる。一般に、これはアルミニウムからの1個ま
たはそれ以上のアルキル基を、金属錯体プロ触媒上のモノアニオン性原子または
基と交換することを含むであろう。場合によっては、水素化物はアルミニウムア
ルキルのβ−炭素から前記金属錯体へ直接移動させることができる。カチオン性
活性触媒を生成するには、これに続いて、金属錯体から第2のモノアニオン性原
子または基を引き抜くことが必要な場合もある。プロ触媒がすでにカチオン性金
属錯体である場合には、アルキルアルミニウムの役割は単に、アルミニウムから
のアルキルまたは水素化物を、金属錯体に結合したモノアニオン性基、例えば、
アセチルアセトネートと交換することであろう。カチオン性π−アリルまたはπ
−ベンジルプロ触媒の場合には、アルキルアルミニウム試薬は、場合によっては
、単にルイス酸として作用して、π−アリルまたはπ−ベンジルのσ−アリルま
たはσ−ベンジル結合様式への転化を促進し、それによってオレフィンモノマー
の結合及び挿入を容易にすることであろう。カチオン性プロ触媒をアルキルアル
ミニウム活性化剤または助触媒と共に使用する場合には、出発対アニオン(例え
ば、BF )はアルキルアルミニウム試薬と反応して新しい対アニオン(また
はいくつかの異なる対アニオンの混合物)を生成できることも認められるはずで
ある。アルキルアルミニウム試薬の例としては、MAO、他のアルミニウムセス
キオキシド、MeAl、EtAlCl、EtAlCl、RAl、R
lCl及びRAlCl[式中、Rはアルキルであり、複数の基Rは同一であっ
ても異なってもよい]などが挙げられる。
【0258】 前記説明は、活性触媒の生成にはしばしば、多くの方法があること、また、場
合によっては、活性種の構造が充分には解明されていないことを説明しようとす
るものである。しかし、この開示の目的は、本発明の配位子を適当な金属前駆体
及び場合によっては助触媒と反応させて、活性なオレフィン重合触媒を生成でき
る種々の方法があることを教示することにある。理論によって拘束するつもりは
ないが、本発明者らはまた、活性触媒が一般には、触媒活性のある金属、本発明
の1個またはそれ以上の配位子、生長するポリマー鎖(または新しい鎖を開始で
きる水素化物)、及び挿入前にエチレンが配位できるかまたは少なくとも近くに
接近できる、該鎖の金属−アルキル結合に隣接した金属上のサイトを含むと考え
る。活性触媒に特有の構造が示されている場合には、本発明の配位子を含む活性
触媒が、それらの活性種の詳細な構造に関係なく、ここに開示された触媒活性化
反応の反応生成物として形成されることを教示し、主張することが本発明の目的
であることを理解すべきである。
【0259】 活性触媒は場合によっては、所定の金属の2つまたはそれ以上の酸化状態から
生成され得る。例えば、本発明は、MAOまたは他のアルキルアルミニウム助触
媒を用いたオレフィン重合の実施にCo(III)及びCo(II)の2つの触
媒前駆体を使用することを記載している。一部の例では、活性触媒の酸化状態は
はっきりとは立証されないので、同一金属が異なる酸化状態を有する活性触媒を
生じることができるかどうか、または重合条件下で異なる酸化状態の前駆体が全
て、同一酸化状態の触媒を生じるかどうかはわかっていない。後者は、例えば、
Co(III)触媒前駆体を反応条件下でCo(II)化合物に還元することに
よって起こるであろう。所定の金属の酸化状態が1つだけに特定される場合には
、従って、本発明の配位子によって錯化された同一金属の他の酸化状態は触媒前
駆体または活性触媒として働くことができることを理解すべきである。前記配位
子の酸化状態の異なる錯体を使用する場合には、電荷を釣り合わせるために酸化
レベルの変化に伴って補助配位子または対アニオンの適当な変化が当然起こるは
ずである。複数の酸化状態の前駆体が特に生じそうな例としては、Ti(III
)/Ti(IV)、Fe(III)/Fe(II)及びCo(III)/Co(
II)が挙げられるがこれらに限定されない。
【0260】 本発明の触媒は回分法及び連続法で、溶解した状態でまたはスラリーもしくは
気相法で使用できる。
【0261】 場合によっては、触媒を固体担体に担持させるのが有利である。有用な固体担
体としては以下のものが挙げられる:無機酸化物、例えば、タルク、シリカ、チ
タニア、シリカ/クロミア、シリカ/クロミア/チタニア、シリカ/アルミナ、
ジルコニア、燐酸アルミニウムゲル、シラン化シリカ、シリカヒドロゲル、シリ
カキセロゲル、シリカエーロゲル、モンモリロナイトクレイ及びシリカコゲル、
ならびに有機担体材料、例えば、ポリスチレン及び官能基化ポリスチレン。[例
えば、S.B.Roscoeら,”Polyolefin Spheres f
rom Metallocenes Supported on Non−In
teracting Polystyrene”,1998,Science, 280 ,270−273(1998)参照]。
【0262】 従って、好ましい実施態様において、本発明の触媒は、化合物Yで前処理され
た固体担体に担持されている(「固体担体に担持されている」とは、表面に吸着
されているかまたは表面に共有結合している表面上の成分と対になったイオンを
意味する)。より一般的には、化合物Yと固体担体とは任意の順序で担持させる
ことができ、任意の数の化合物Yを使用できる。さらに、こうして形成された担
持触媒は追加量のYで処理されることができる。別の実施態様において、本発明
の化合物は、本発明の化合物は、アルキルアルミニウム化合物Y、例えば、MA
O、EtAl、BuAl、EtAlClまたはMeAlで前処理され
たシリカに結合している。
【0263】 このような担持触媒は、実質的に不活性な溶媒(「実質的に不活性な溶媒」と
は、触媒調製条件下で非反応性であるか、反応性であっても触媒活性もしくは選
択性を改良するように有効に作用する溶媒を意味する)中で遷移金属化合物を、
担持触媒を生成するの充分な時間、MAO処理シリカと接触させることによって
調製する。実質的に不活性な溶媒の例は、トルエン、o−ジフルオロベンゼン、
ミネラルスピリット、ヘキサン、CHCl及びCHClなどである。
【0264】 別の好ましい実施態様において、本発明の触媒は不活性雰囲気下で溶解した状
態で活性化し、次いで、シリル化剤で前処理して表面シラノールをトリアルキル
シリル基で置き換えたシリカ担体上に吸着させる。このようにしてシリカを前処
理する方法は、当業者には知られており、例えば、シリカをヘキサメチルジシラ
ザンと共に加熱し、次いで真空下で揮発分を除去することによって行うことがで
きる。種々の前駆体及び手法を用いて活性化触媒を生成してから、前記吸着、例
えば、窒素下で、トルエン/ヘキサン混合物中において(配位子)Ni(aca
c)B(C錯体とEtAlClとの反応を行うことができる(「配
位子」は本発明の化合物を示す)。
【0265】 いくつかの場合には、平面四角形、三角両錘または他の配位構造を有する金属
錯体が本明細書中に図示されているが、限定された幾何学的形態を意味するもの
ではなことを理解されたい。
【0266】 重合は、溶液重合として、非溶媒スラリー型重合として、重合媒体として1種
もしくはそれ以上のオレフィンまたは他の溶媒を用いるスラリー重合として、あ
るいは気相中で行うことができる。この開示によって、当業者ならば、適当な触
媒担体及び公知の方法を用いて触媒を担持させることができることを理解できる
であろう。例えば、トルエン、炭化水素、塩化メチレンなどのような実質的に不
活性な溶媒を使用できる。プロピレン及び1−ブテンはスラリー型共重合に使用
するのに優れたモノマーであり、未使用のモノマーは蒸発分離させて、再利用で
きる。
【0267】 温度及びオレフィンの圧力は、ポリマーの構造、組成及び分子量にかなり影響
を与える。適当な重合温度は好ましくは約20〜約160℃、より好ましくは約
60〜約100℃である。
【0268】 本発明の触媒は、単独で、あるいは1種またはそれ以上の第3族〜第10族オ
レフィン重合またはオリゴマー化触媒と共に、溶液、スラリーまたは気相法で使
用できる。このような混合触媒系は、時として、ポリマー処理を促進できる二峰
性または多峰性の分子量または組成分布の生成、または最終製品の性質に有用で
ある。
【0269】 目的ポリマーの製造に充分な時間、反応が進行した後、通常の単離及び/また
は精製方法によって反応混合物からポリマーを回収できる。
【0270】 一般に、本発明のポリマーは、熱硬化性材料の成分として、エラストマーとし
て、包装材料、フィルム、ポリエステル及びポリオレフィン用の相溶化剤として
、粘着付与用組成物の成分として、ならびに接着剤の成分として有用である。
【0271】 高分子量の樹脂は、当業界でよく知られた従来の押出、射出成形、圧縮成形及
び真空成形技術を用いて容易に加工できる。それらから製造される有用な製品は
、フィルム、繊維、ボトル及び他の容器、シート材料、成形品などである。
【0272】 低分子量の樹脂は、例えば、合成ワックスとして有用であり、種々のワックス
・コーチングまたはエマルジョンの形態で使用できる。それらはまた、エチレン
/酢酸ビニルまたはエチレン/アクリル酸メチル型コポリマーとのブレンドの形
態で紙加工または接着剤用として特に有用である。
【0273】 必要ではないが、オレフィンまたはビニルモノマーに使用される代表的な添加
剤を、本発明の新規ホモポリマー及びコポリマーに使用することができる。代表
的な添加剤としては、顔料、着色剤、二酸化チタン、カーボンブラック、酸化防
止剤、安定剤、スリップ剤、難燃剤などが挙げられる。これらの添加剤及びポリ
マー系へのそれらの利用法はそれ自体公知である。
【0274】 本発明の配位子は、置換1−アミノピロールをジアルデヒドまたはジケトンと
縮合させて所望の配位子を生成する(図式II)、当業者に公知の方法によって
調製できる。不可欠な置換1−アミノピロールは、図式IIIに示される方法を
含む種々の方法のいずれかによって調製できる。 図式II
【0275】
【化112】
【0276】 反応条件。(a)CHCOCOCH(2.0当量),p−トルエンスルホン
酸(p−TsOH)(3重量%),60℃;(b)1−アミノ−2,5−ジメチ
ルピロール(1.1当量),トルエン,p−TsOH(3重量%),Dean
Starkトラップ,110℃;(c)トルエン,p−TsOH(3重量%),
Dean Starkトラップ,110℃。 図式III
【0277】
【化113】
【0278】 (注)反応条件:(a)NaH(1.2当量),RCOCHBr,トルエン
,75℃;(b)i.ヒドラジンカルボン酸2−トリメチルシラニル−エチルエ
ステル(TMSECNHNH),p−TsOH(3重量%),トルエン,De
an Starkトラップ,110℃,ii.TBAF(2当量),THF,2
3℃;(c)NaOH(5当量),i−PrOH,HO,60℃、;(d)N
aCl,DMSO,HO,160℃。
【0279】 本発明の他の特徴は、実施例に関する以下の説明において明らかになるであろ
う。これらの実施例は、本発明を説明するために記載したのであって、本発明を
限定することを目的としない。
【0280】 以下の実施例中に示した分子量のデータは、135℃において1,2,4−ト
リクロロベンゼン中で屈折率検出によって測定し、分子量分布の狭いポリ(スチ
レン)標準を用いてキャリブレートする。
【0281】実施例 例1 a32の調製
【0282】
【化114】
【0283】 50mLの丸底フラスコに、2,5−ジメチル−ピロル−1−イルアミン(40
0mg)、2,3−ブタンジオン(146mg)、エタノール(10mL)、及
び蟻酸1滴を装入した。混合物を22℃に16時間放置した。続いて撹拌すると
、生成物が結晶化し、真空濾過によってそれを単離し、冷エタノールで洗浄し、
乾燥させて、目的生成物100mgをブライトイエローの斜方形小板として得た
。濾液及び洗液を合して、濃縮し、残渣をフラッシュクロマトグラフィー(Si
,2.4容量%酢酸エチル(EtOAc)/ヘキサン)に供して、生成物を
さらに172mg得た。H NMR(CDCl,テトラメチルシラン(TM
S)を基準とする化学シフト(ppm)):2.075(12p,s);0.2
11(6p,s);5.912(4p,s)。電界脱離質量分析:m/z 27
0。
【0284】例2 a32のニッケル二臭化物錯体の調製 ドライボックス中、窒素下において、磁気撹拌棒を装着し且つセプタムキャップ
がついた50mLのフレームドライ(火炎乾燥)Schlenkフラスコに、a
32を92mg及び(1,2−ジメトキシエタン)ニッケル(II)二臭化物8
5mgを装入した。Schlenkラインにおいて、無水脱酸素化ジクロロメタ
ン6mLをシリンジによって添加し、混合物を窒素下で23℃において3.25
時間撹拌して、暗褐色の混合物を得た。この混合物を10mLの無水脱酸素化ヘ
キサンで希釈し、15分間撹拌して、生成物を沈殿させ、その後、上清を、先端
に濾紙のついたカニューレによって除去した。茶色の粉末状残渣を真空乾燥させ
て、a32のニッケル二臭化物錯体73.5mg(54%)を得た。
【0285】例3 MMAO(改質メチルアルモキサン;ヘプタン中イソ−ブチルアルミノキサン2 3%;Al 6.42%)の存在下におけるa32のニッケル二臭化物錯体を用 いたエチレンの重合 磁気撹拌棒を装着し且つセプタムキャップのついた250mLの丸底Schle
nkフラスコを排気して、エチレンを再充填し、次いで、無水脱酸素化トルエン
100mL及びトルエン中MMAO(Al 6.42%)4.0mLを装入し、
1atmのエチレン下で0℃において15分間撹拌した。無水脱酸素化ジクロロ
メタン3.5mL中のa32のニッケル二臭化物錯体3.5mgの混合物の2m
Lのアリコートを注入し、混合物を1atmのエチレン下で0℃において撹拌し
た。白色のポリエチレン沈殿物が数分以内に観察された。10分後、アセトン(
50mL)、メタノール(50mL)および6N HCl水溶液(100mL)
の添加によって、混合物を急冷した。分離した膨潤ポリエチレンを、真空濾過に
よって単離し、水、メタノール及びアセトンによって洗浄し、次いで減圧下で(
200mmHg)で80℃において16時間乾燥させて、白色ポリエチレン3.
95gを得た。H NMR: 分岐3.7個/炭素原子1000個;M=8
563。GPC: M=9,190;M/M=3.48。
【0286】例4 a37、ビス(1,5−シクロオクタジエン)ニッケル(0)及びB(C を用いたエチレン重合
【0287】
【化115】
【0288】 200mLの、セプタムキャップのついたSchlenkフラスコに、Ar雰囲
気下において、N,N’−ビス(2,5−ジメチルピロル−1−イル)オキサル
アミド(a37)12mg、トリス(ペンタフルオロフェニル)硼素109mg
及びビス(1,5−シクロオクタジエン)ニッケル(0) 7mgを装入した。
Schlenkラインにおいて、フラスコを排気し、エチレンを再充填した。室
温で急速に電磁撹拌しながら、無水脱酸素化トルエン100mLを添加した。ゴ
ールデン−イエローの溶液からポリエチレンが析出した。11分後、メタノール
の添加によって反応を急冷した。ポリマーを、真空濾過によって採取し、メタノ
ールで洗浄し、80℃において一晩、真空乾燥(200mmHg)して、0.1
4gを得た。H NMR: 分岐点8.6個/炭素原子1000個;M=1
7,106g/モル。
【0289】例5 a37、ビス(1,5−シクロオクタジエン)ニッケル(0)及びB(C を用いたエチレン重合 500mLの、セプタムキャップのついたSchlenkフラスコに、Ar雰囲
気下においてN,N’−ビス(2,5−ジメチルピロル−1−イル)オキサルア
ミド10mg、トリス(ペンタフルオロフェニル)硼素132mg及びビス(1
,5−シクロオクタジエン)ニッケル(0) 4.7mgを量り入れた。Sch
lenkラインにおいて、フラスコを排気し、次いでエチレン雰囲気にした。室
温で急速に電磁撹拌しながら、無水脱酸素化トルエン200mLを添加した。ゴ
ールデン−イエローの溶液からポリエチレンが析出した。70分後、メタノール
の添加によって反応を急冷した。ポリマーを、真空濾過によって採取し、メタノ
ールで洗浄し、80℃において一晩、真空乾燥(200mmHg)して、1.1
gを得た。H NMR: 分岐点5.8個/炭素原子1000個;GPC:
=24,400g/モル;M/M=8.3。
【0290】例6 a34、ビス(1,5−シクロオクタジエン)ニッケル(0)及びB(C を用いたエチレン重合
【0291】
【化116】
【0292】 20mLの、セプタムキャップのついたバイアルに、Ar雰囲気下において、化
合物a34 10mg、トリス(ペンタフルオロフェニル)硼素65mg及びビ
ス(1,5−シクロオクタジエン)ニッケル(0) 5mgを量り入れた。Sc
hlenkラインにおいて、バイアルをエチレン雰囲気にした。室温で急速に電
磁撹拌しながら、無水脱酸素化トルエン10mLを添加して、茶色の混合物を生
成した。20分後、メタノールの添加によって反応を急冷した。ポリマーを、真
空濾過によって採取し、メタノールで洗浄し、80℃において一晩、真空乾燥(
200mmHg)して、30mgを得た。H NMR: 分岐点27.5個/
炭素原子1000個;M=2319g/モル。GPC: M=1760g/
モル;M/M=5.03。
【0293】例7 a32、ビス(1,5−シクロオクタジエン)ニッケル(0)及びB(C を用いたエチレン重合 20mLの、セプタムキャップのついたバイアルに、Ar雰囲気下において、化
合物a32 10mg、トリス(ペンタフルオロフェニル)硼素65mg及びビ
ス(1,5−シクロオクタジエン)ニッケル(0) 4.2mgを量り入れた。
Schlenkラインにおいて、バイアルをエチレン雰囲気にした。室温で急速
に電磁撹拌しながら、無水脱酸素化トルエン10mLを添加して、茶色の混合物
を生成した。20分後、メタノールの添加によって反応を急冷した。ポリマーを
、真空濾過によって採取し、メタノールで洗浄し、80℃において一晩、真空乾
燥(200mmHg)して、847mgを得た。H NMR: 分岐点46.
8個/炭素原子1000個;M=2347g/モル。GPC: M=122
0g/モル;M/M=4.84。
【0294】例8 a32、ビス(1,5−シクロオクタジエン)ニッケル(0)及びB(C を用いた1−ヘキセンの重合 20mLの、セプタムキャップのついたバイアルに、Ar雰囲気下において、化
合物a32 6mg、トリス(ペンタフルオロフェニル)硼素24mg及びビス
(1,5−シクロオクタジエン)ニッケル(0) 3.6gを量り入れた。Sc
hlenkラインにおいて、バイアルを窒素雰囲気にした。室温で急速に電磁撹
拌しながら、無水1−ヘキセン10mLを添加して、茶色の混合物を生成した。
120分後、メタノールの添加によって反応を急冷した。油状ポリマーをメタノ
ールと共に撹拌し、次いでメタノールをデカントによって除去した。ポリマーを
80℃において一晩、真空乾燥(200mmHg)して、350mgを得た。 H NMR: 分岐点157.5個/炭素原子1000個;M=2220g/
モル。GPC: M=1480g/モル;M/M=2.22。
【0295】例9 a32、ビス(1,5−シクロオクタジエン)ニッケル(0)及びB(C を用いた1−ヘキセンの重合 20mLの、セプタムキャップのついたバイアルに、Ar雰囲気下において、化
合物a32 4.2mg、トリス(ペンタフルオロフェニル)硼素28mg及び
ビス(1,5−シクロオクタジエン)ニッケル(0) 2.2mgを量り入れた
。Schlenkラインにおいて、バイアルをエチレン雰囲気にした。室温で急
速に電磁撹拌しながら、無水トルエン10mLを添加して、茶色の混合物を生成
した。1−ヘキセン5mLを直ちに添加し、エチレン供給を窒素に代えた。12
0分後、メタノールの添加によって反応を急冷した。油状ポリマーをメタノール
と共に撹拌し、次いでメタノールをデカントによって除去した。ポリマーを一晩
、真空乾燥(200mmHg)して、2gを得た。H NMR: 分岐点14
2.9個/炭素原子1000個;M=1952g/モル。GPC: M=1
200g/モル;M/M=3.79。
【0296】例10 MMAO(ヘプタン中23%のイソ−ブチルアルミノキサンで改質されたメチル アルミノキサン;Al 6.42%)の存在下における、a32のニッケル二臭 化物錯体によるエチレンの重合 600mLのParr(登録商標)オートクレーブを最初に高真空下で約100
℃に加熱して、反応器を確実に乾燥させた。反応器を冷却し、アルゴンでパージ
した。アルゴン雰囲気下において、オートクレーブにトルエン150mLを装入
した。反応器を、エチレンで200psigまで加圧し、次いで周囲圧力まで解
放した(2回)。MMAO溶液を3mL添加した。撹拌しながら且つエチレン圧
を200psigに上昇させながら、a32のニッケル二臭化物錯体の原液(C
Cl 17.2mL中4.30mg)2.0mLを注入した。圧力を20
0psigに保持した。オートクレーブの温度を30℃に制御した。10分後、
メタノールの添加によって反応を急冷し、圧力を解放した。分離した膨潤ポリエ
チレンを、アセトンとHCl水溶液との混合物と共に撹拌した。ポリマーを、濾
過によって単離し、アセトンで洗浄し、一晩真空乾燥(200mmHg)して、
8.3gを得た。GPC: M=1370;M/M=18.88。
【0297】例11 a34の調製
【0298】
【化117】
【0299】 100mLの丸底フラスコに2,6−ジイソプロピルアニリン(10g)及び2
,3−ブタンジオン(4.87g)を装入した。6日後、揮発分を真空下で除去
して、琥珀色の油(13g)を得た。この油(5.13g)をメタノール(25
mL)、4−アミノモルホリン(1mL)及び蟻酸8滴で処理した。混合物を1
6時間22℃に放置した。混合物を濃縮し、残渣をフラッシュクロマトグラフィ
ー(SiO,8容量%のEtOAc/ヘキサン)に供して、a34をペールイ
エローの油(2.5g)として得た。これは、メタノールへの暴露時に結晶化し
た。電界脱離質量分析: m/z 329。
【0300】例12 a35の調製
【0301】
【化118】
【0302】 100mLの丸底フラスコにメタノール(20mL)、4−アミノモルホリン(
5mL)、2,3−ブタンジオン(1.95mL)及び蟻酸(0.2mL)を装
入した。ほとんど直ちに沈殿物が分離した。3日後、真空濾過によって生成物を
ペールグリーン−イエローの結晶として採取した。
【0303】例13 a36の調製
【0304】
【化119】
【0305】 50mLの丸底フラスコにメタノール(10mL)、1−アミノ−2,6−ジメ
チルピペリジン(2.0mL)、2,3−ブタンジオン(0.54mL)及び蟻
酸(0.2mL)を装入した。混合物を22℃において3日間撹拌し、分離した
黄色の結晶を濾過によって単離した。電界脱離質量分析: m/z 306。
【0306】例14 a30の調製
【0307】
【化120】
【0308】 100mLの丸底フラスコを窒素雰囲気にし、これに磁気撹拌機及び還流冷却器
を取り付け、トルエン(16mL)、N−アミノフタルイミド(4.5g)、2
,3−ブタンジオン(1mL)及び蟻酸(0.25mL)を装入した。混合物を
加熱還流し、1時間還流を続け、次いで一晩室温に冷却させておいた。分離した
白色結晶を濾過によって単離し、メタノールで洗浄した。電界脱離質量分析:
m/z 374。
【0309】例15 a36のニッケル二臭化物錯体の調製 ドライボックス中で窒素下において、電磁撹拌棒を装着し且つセプタムキャップ
のついた、50mLのフレームドライSchlenkフラスコに、a36 10
0mg及び(1,2−ジメトキシエタン)ニッケル(II)二臭化物92mgを
装入した。Schlenkラインにおいて、無水脱酸素化ジクロロメタン6mL
をシリンジによって添加すると、ダークブラウンの混合物が急速に生成された。
混合物を窒素下で23℃において一晩撹拌した。次いで、混合物を無水脱酸素化
ヘキサン10mLで希釈し、次にa36をさらに28mg添加し、混合物をさら
に1時間撹拌した。窒素流下でCHClを一部蒸発させて、生成物を完全に
沈殿させ、その後、上清を、先端に濾紙のついたカニューレによって除去した。
茶色の粉末状残渣を真空乾燥した。
【0310】例16 a36のコバルト二塩化物錯体の調製 ドライボックス中で窒素下において、電磁撹拌棒を装着し且つセプタムキャップ
のついた、50mLのフレームドライSchlenkフラスコに、a36 10
0mg及び二塩化コバルト44mgを装入した。Schlenkラインにおいて
、無水脱酸素化ジクロロメタン9mLをシリンジによって添加すると、緑色の上
清がゆっくりと生成した。混合物を窒素下で23℃において一晩撹拌した。次い
で、混合物を無水脱酸素化ヘキサン10mLで希釈し、次に窒素流下でCH
を一部蒸発させて、生成物を緑色結晶として完全に沈殿させた。上清を、先
端に濾紙のついたカニューレによって除去し、結晶を真空下で乾燥させて、目的
錯体を得た。
【0311】例17 MAO(メチルアルミノキサン;トルエン中10%溶液)の存在下におけるa3 6のコバルト二塩化物錯体を用いたエチレンのオリゴマー化 電磁撹拌棒を装着し且つセプタムキャップのついた、200mLの丸底Schl
enkフラスコに、a36のコバルト二塩化物錯体9.8mgを装入し、次に排
気し、エチレンを再充填した。次いで、このフラスコに、無水脱酸素化トルエン
50mLを装入し、1atmのエチレン下で0℃において24分間撹拌した。M
AO(メチルアルミノキサン;トルエン中10%溶液)4mLを添加すると、エ
チレンが急速に消費にされて、エチレンオリゴマーが形成された。62分後、ア
セトン(50mL)、メタノール(50mL)及び6NのHCl水溶液(100
mL)を添加することによって混合物を急冷した。
【0312】例18 a35のニッケル二臭化物錯体の調製 ドライボックス中で窒素下において、電磁撹拌棒を装着し且つセプタムキャップ
のついた、200mLのフレームドライSchlenkフラスコに、a35 1
03mg及び(1,2−ジメトキシエタン)ニッケル(II)二臭化物109m
gを装入した。Schlenkラインにおいて、無水脱酸素化ジクロロメタン5
mLをシリンジによって添加すると、ダークブラウンの混合物が急速に生成した
。混合物を窒素下で23℃において一晩撹拌した。この混合物を無水脱酸素化ヘ
キサン10mLで希釈して、生成物を完全に沈殿させ、その後、上清を、先端に
濾紙のついたカニューレによって除去した。茶色の粉末状残渣を真空乾燥させた
【0313】例19 MAO(メチルアルミノキサン;トルエン中10%溶液)の存在下におけるa3 5のニッケル二臭化物錯体を用いたエチレンのオリゴマー化 電磁撹拌棒を装着し且つセプタムキャップのついた、500mLの丸底Schl
enkフラスコに、a35のニッケル二臭化物錯体19.5mgを装入し、次い
で排気し、エチレンを再充填した。次に、このフラスコに、無水脱酸素化トルエ
ン50mLを装入し、1atmのエチレン下で0℃において3分間撹拌した。M
AO(メチルアルミノキサン;トルエン中10%溶液)4mLを添加すると、エ
チレンが急速に消費にされた。130分後、アセトン(50mL)、メタノール
(50mL)及び6NのHCl水溶液(100mL)を添加することによって混
合物を急冷した。少量のポリエチレンが沈殿した。ガスクロマトグラフィーによ
って、比較的高級のオレフィンの分布が得られたことが示された。
【0314】例20 a38の調製 500mLの丸底フラスコ中で、2,4,6−トリ−tert−ブチルアニリン
(2.0g)及びトリエチルアミン2.6mLをジクロロメタン(50mL)中
に溶解させ、0℃に冷却した。エチルクロログリオキシレート(0.85mL)
とジクロロメタン(33mL)との混合物を滴下漏斗によってゆっくり添加し、
その後、混合物を0℃において1時間、次いで25℃において3時間撹拌した。
得られた混合物を水100mLを用いて急冷した。水層をジクロロメタン100
mLで抽出した。合した有機層を硫酸ナトリウム上で乾燥させ、濾過し、減圧(
20mmHg)濃縮した。残渣をフラッシュクロマトグラフィー(シリカ;ヘキ
サン/EtOAc;直線的濃度勾配法)によって精製した。こうして得られたN
−(2,4,6−トリ−tert−ブチルフェニル)オキサルアミド酸エチルエ
ステル(201.5mg)を、50℃において14時間、EtOH 5mL中過
剰のヒドラジン水和物(81μL)と反応させた。得られた固体を濾過によって
単離し、EtOHで洗浄して、化合物a38を得た。
【0315】例21 a38、ビス(1,5−シクロオクタジエン)ニッケル(0)及びB(C を用いたエチレン重合 Ar雰囲気下において、20mLの、セプタムキャップのついたバイアルに、化
合物a38 8.9mg、トリス(ペンタフルオロフェニル)硼素85mg及び
ビス(1,5−シクロオクタジエン)ニッケル(0) 4.2mgを量り入れた
。Schlenkラインにおいて、バイアルをエチレン雰囲気にした。室温にお
いて急速に電磁撹拌しながら、無水脱酸素化トルエン10mLを添加して、茶色
の混合物を得た。61分後、メタノールの添加によって反応を急冷した。ポリマ
ーを、真空濾過によって採取し、メタノールで洗浄し、80℃において一晩、真
空下(200mmHg)で乾燥させて、147mgを得た。H NMR: 分
岐点74.8個/炭素原子1000個;M=8423g/モル。GPC: M =35700g/モル;M/M=1.21。
【0316】例22 a17、ビス(1,5−シクロオクタジエン)ニッケル(0)及びB(C を用いたエチレン重合 Ar雰囲気下において、20mLの、セプタムキャップのついたバイアルに、化
合物a17 6.2mg、トリス(ペンタフルオロフェニル)硼素30mg及び
ビス(1,5−シクロオクタジエン)ニッケル(0) 1.9mgを量り入れた
。Schlenkラインにおいて、バイアルをエチレン雰囲気にした。室温にお
いて急速に電磁撹拌しながら、無水脱酸素化トルエン10mLを添加して、茶色
の混合物を得た。15分後、メタノールの添加によって反応を急冷した。ポリマ
ーを、真空濾過によって採取し、メタノールで洗浄し、80℃において一晩、真
空下(200mmHg)で乾燥させて、370mgを得た。
【0317】例23 a50の合成
【0318】
【化121】
【0319】 フェニルヒドラジン(0.551mL,5.6ミリモル)を、N−(2,6−ジ
メチルフェニル−2,2,2−トリフルオロ−アセトイミドイルクロリド(26
3.4mg,1.12ミリモル)(Tamura,K.ら,J.Org.Che
m.1993,58,32〜35の方法に従ってTFA、2,6−ジメチルアニ
リン、PhP、CCl及びEtNから調製)のトルエン(8.0mL)中
溶液に添加した。得られた溶液を2日間加熱還流し、室温に冷却し、真空濃縮し
た。残渣をHO(3mL)とCHCl(3mL)の間で分配させた。水層
をさらにCHCl(3×2mL)で抽出した。合した有機層をNaSO 上で乾燥させ、濾過し、真空濃縮した。残渣をフラッシュクロマトグラフィー(
SiO,4% EtOAc/Hex)によって精製して、アミドラゾンa50
(182mg,53%)を得た:R 0.27(5% EtOAc/Hex)
H NMR(300MHz,CDOD)δ7.09〜7.14(m,5H
),6.79〜6.82(m,3H),2.26(s,6H);IR(CDCl フィルム)cm−1 3383,3360,1661,1604,1496
,1226,1164,1119;FDMS m/z 307(M,100%
)。
【0320】例24 Ni(COD)/a50/HB(3,5−CF(EtO) によるエチレンの重合 不活性雰囲気のグローブボックス中において、電磁撹拌棒及びゴムセプタムを装
着したフレームドライSchlenkフラスコに、ビス(1,5−シクロオクタ
ジエン)ニッケル(0) 20mg(0.073ミリモル)及び式CIの配位子
22mgを装入した。フラスコをボックスから取り出し、エチレンを充填し戻し
た。トルエン(50mL)を添加すると、黄色溶液が得られた。15分後、H B(3,5−CF(EtO)を固体として添加すると、緩や
かなエチレン取り込み速度でオレンジ色の溶液が得られた。1時間後、メタノー
ルを添加して重合を急冷させた。溶媒を真空下で除去して、易流動性の油が得ら
れた。H NMRは分枝ポリエチレンと一致する。
【0321】例25 a50のニッケル(II)二臭化物錯体の合成及びエチレン重合に関する試験 ゴムセプタム及び撹拌棒を装着したフレームドライSchlenkフラスコに、
a50 10mg(0.0325ミリモル)及び(DME)NiBr 9mg
(0.03ミリモル)を添加した。固体混合物に、CHCl 10mlを添
加し、アルゴン雰囲気下で16時間反応を撹拌させておいた。溶媒を真空下で除
去し、粉末を生成した。次いで、この粉末をトルエン50ml中に吸収させ、フ
ラスコにエチレンを充填し戻した。MAO(1.5ml,トルエン中10重量%
溶液)を添加して、紫色の溶液を得た。23℃において1atmのエチレン下で
30分間激しく撹拌後、メタノール、アセトン及び6M HClを添加して、反
応を急冷させた。有機層を単離し、溶媒を真空下で除去して、油状固体を得た。 H NMRによって、高分枝エチレンホモポリマー(M=870)の調製が
確認された。
【0322】例26 Ni(COD)/b1/B(Cによるエチレンの重合
【0323】
【化122】
【0324】 不活性雰囲気のグローブボックス中において、電磁撹拌棒及びゴムセプタムを装
着したフレームドライSchlenkフラスコに、ビス(1,5−シクロオクタ
ジエン)ニッケル(0) 10mg(0.036ミリモル)、トリス(ペンタフ
ルオロフェニル)ボラン18.4mg(0.036ミリモル)及びb1 12m
g(0.036ミリモル)を装入した。フラスコをボックスから取り出し、排気
し、エチレンを再充填した。トルエン(50mL)を添加すると、オレンジ色の
溶液が得られた。重合混合物を室温で15時間撹拌させておいた。15時間後、
メタノール及びアセトンを添加して反応を急冷すると、白色の綿状ポリエチレン
が溶液から析出した。ポリマーを吸引濾過によって採取し、真空オーブン中で〜
100℃において一晩乾燥させて、ポリエチレン1.1gを得た。DSC T =41℃;GPC M=3,500,M/M=1.76;H NMR
分岐65個/炭素原子1000個。
【0325】例27 b2の合成
【0326】
【化123】
【0327】 セプタムキャップのついたシンチレーション・バイアルに、1−アミノ−2,5
−ジイソプロピルピロール(100mg)及び3,5−ジ−tert−ブチル−
2−ヒドロキシベンズアルデヒド(126mg)を量り入れた。このバイアルを
乾燥窒素ガスでよくパージし、次いでメタノール(1ml)を添加した。数分後
に固形分が全て溶解した。次いで、蟻酸のメタノール中溶液(メタノール1ml
に蟻酸2滴)を4滴添加した。反応混合物を室温に16時間放置した。分離した
ライトイエローの結晶生成物を真空濾過によって採取した。結晶をフィルター上
でメタノールによって洗浄し、次いで真空下で数時間乾燥させて、160mgを
得た。
【0328】例28 代表的な配位子合成 1−アミノ−2−フェニル−5−メチルピロール(174mg)及び3,5−ジ
−tert−ブチル−2−ヒドロキシベンズアルデヒド(236mg)をシンチ
レーション・バイアルに量り入れ、次いでメタノール(2mL)に溶解させた。
蟻酸(1滴)を添加した。反応を室温に16時間放置した。分離したライトイエ
ローの結晶生成物を真空濾過によって採取した。結晶をフィルター上でメタノー
ルによって洗浄し、次いで真空下で数時間乾燥させて、254mgを得た。
【0329】例29 Ni(COD)/b2/B(Cによるエチレンの重合 不活性雰囲気のグローブボックス中において、電磁撹拌棒及びゴムセプタムを装
着したフレームドライSchlenkフラスコに、ビス(1,5−シクロオクタ
ジエン)ニッケル(0) 10mg(0.036ミリモル)、トリス(ペンタフ
ルオロフェニル)ボラン18.4mg(0.036ミリモル)及び式b2の配位
子13.75mg(0.036ミリモル)を装入した。フラスコをボックスから
取り出し、排気し、エチレンを再充填した。トルエン(50mL)を添加すると
、オレンジ色の溶液が得られた。重合混合物を室温で15時間撹拌させておいた
。15時間後、メタノール及びアセトンを添加して反応を急冷すると、白色の綿
状ポリエチレンが溶液から析出した。ポリマーを吸引濾過によって採取し、真空
オーブン中で〜100℃において一晩乾燥させて、ポリエチレン3.8gを得た
。DSC T=41℃;GPC M=12,400,M/M=1.96
H NMR 分岐67個/炭素原子1000個。
【0330】例30 Ni(COD)/b2/B(Cによるエチレンの重合 Parr(登録商標)撹拌オートクレーブ(600ml)を動的真空下で約10
0℃に加熱して、反応器を完全に乾燥させた。反応器を冷却し、無水トルエン1
50mlを装入した。不活性雰囲気のグローブボックス中で、電気撹拌棒及びゴ
ムセプタムを装着したフレームドライSchlenkフラスコに、ビス(1,5
−シクロオクタジエン)ニッケル(0) 10mg(0.036ミリモル)、ト
リス(ペンタフルオロフェニル)ボラン18.4mg(0.036ミリモル)及
び式b2の配位子13.75mg(0.036ミリモル)を装入した。フラスコ
をボックスから取り出し、排気し、エチレンを再充填した。トルエン(50ml
)を添加して、オレンジ色の溶液を得た。15分後、反応フラスコの内容物を、
SSカニューレによってオートクレーブに移した。反応器をシールし、エチレン
で400psigまで加圧し、室温で5時間撹拌させておいた。5時間後、反応
器をガス抜きし、内容物を、メタノール/アセトン混合物を含むビーカー中に注
いだ。ポリマーを吸引濾過によって採取し、真空オーブン中で〜100℃におい
て一晩乾燥させて、ポリエチレン9gを得た。DSC T=111℃;GPC
=39,000,M/M=2.23;H NMR 分岐25個/炭
素原子1000個。
【0331】例31 d1によるエチレン重合
【0332】
【化124】
【0333】 Parr(登録商標)撹拌オートクレーブ(600ml)を動的真空下で約10
0℃に加熱して、反応器を完全に乾燥させた。反応器を冷却し、無水トルエン2
00ml及びトルエン中トリス(ペンタフルオロフェニル)ボラン(20mg)
の5mlの溶液を装入した。反応器をエチレンで200psigに加圧し、ガス
抜きした。触媒溶液(トルエン2ml中d1 7.5mg)を反応器に添加し、
オートクレーブをシールし、エチレンで200psigまで加圧した。30分後
、反応器をガス抜きし、内容物を、メタノール/アセトン混合物を含むビーカー
中に注いだ。ポリマーを吸引濾過によって採取し、真空オーブン中で〜100℃
において一晩乾燥させて、ポリエチレン0.1gを得た。H NMRは、M =3600の分枝ポリエチレンと一致してする。
【0334】例32 d2によるエチレン重合
【0335】
【化125】
【0336】 Parr(登録商標)撹拌オートクレーブ(600ml)を動的真空下で約10
0℃に加熱して、反応器を完全に乾燥させた。反応器を冷却し、無水トルエン2
00ml及びトルエン中トリス(ペンタフルオロフェニル)ボラン(6.5mg
,0.027ミリモル)の5mlの溶液を装入した。反応器をエチレン200p
sigに加圧し、ガス抜きした。触媒溶液(トルエン3ml中d2 5.25m
g)を反応器に添加し、オートクレーブをシールし、エチレンで200psig
まで加圧した。35℃において60分後、反応器をガス抜きし、内容物を、メタ
ノール/アセトン混合物を含むビーカー中に注いだ。ポリマーを吸引濾過によっ
て採取し、真空オーブン中で〜100℃において一晩乾燥させて、ポリエチレン
0.13gを得た。H NMRは、分枝ポリエチレンと一致している。
【0337】例33〜例36 Ni(COD)/配位子/B(Cによるエチレンの重合
【0338】
【化126】
【0339】 Parr(登録商標)撹拌オートクレーブ(600ml)を動的真空下で約10
0℃に加熱して、反応器を完全に乾燥させた。反応器を冷却し、無水トルエン1
50mlを装入した。不活性雰囲気のグローブボックス中で、電気撹拌棒及びゴ
ムセプタムを装着したフレームドライSchlenkフラスコに、0.018〜
0.036ミリモルのビス(1,5−シクロオクタジエン)ニッケル(0)、0
.018〜0.036ミリモルのトリス(ペンタフルオロフェニル)ボラン及び
0.018〜0.036ミリモルの配位子を1:1:1の比で装入した。フラス
コをボックスから取り出し、排気し、エチレンを再充填した。トルエン(50m
l)を添加した。10〜15分後、反応フラスコの内容物を、SSカニューレに
よってオートクレーブに移した。反応器をシールし、エチレンで400psig
まで加圧し、室温、30℃において2〜3時間撹拌させておいた。所望の反応時
間の後、反応器をガス抜きし、内容物を、メタノール/アセトン混合物を含むビ
ーカー中に注いだ。ポリマーを吸引濾過によって採取し、真空オーブン中で〜1
00℃において一晩乾燥させた。
【0340】
【表1】
【0341】例37 Ni(COD)/b1/B(Cによるノルボルネンの重合
【0342】
【化127】
【0343】 不活性雰囲気のグローブボックス中で、電気撹拌棒及びゴムセプタムを装着した
フレームドライSchlenkフラスコに、ビス(1,5−シクロオクタジエン
)ニッケル(0) 10mg(0.036ミリモル)、トリス(ペンタフルオロ
フェニル)ボラン18.4mg(0.036ミリモル)及び式b1の配位子12
mg(0.036ミリモル)を装入した。フラスコをボックスから取り出し、排
気し、アルゴンを再充填した。トルエン(50ml)を添加して、オレンジ色の
溶液を得た。重合混合物に、ノルボルネン3gを含むトルエン溶液を添加した。
1時間後、メタノール及びアセトンを添加して反応を急冷すると、溶液から白色
の綿状ポリノルボルネンが析出した。ポリマーを吸引濾過によって採取し、真空
オーブン中で〜100℃において一晩乾燥させると、ポリノルボルネン2.3g
が得られた。
【0344】例38 d3の合成
【0345】
【化128】
【0346】 不活性雰囲気のグローブボックス中で、撹拌棒及びゴムセプタムを装着したフレ
ームドライSchlenkフラスコに、[(HCC(COMe)CH)N
i(μ−Br)] 50mg(0.10ミリモル)及び配位子b3のナトリウム
塩100mgを装入した。フラスコをグローブボックスから取り出して、Sch
lenkラインに取り付け、排気し、アルゴンを再充填した。次いで、ジエチル
エーテル(10ml)を添加し、混合物を2〜3時間撹拌した。反応混合物をカ
ニューレによってセライトのパッドを通して移し、NaBrを除去した。セライ
トのパッドとSSカニューレを、さらに10mlのエーテルですすいだ。溶媒を
減圧下で除去して、目的生成物d3を65mg得た。[(HCC(COMe
)CH)Ni(μ−Br)]は、Angew.Chem.Int.Ed.En
g.1966,5,151に記載された方法によって調製した。
【0347】例39 d3によるエチレン重合
【0348】
【化129】
【0349】 Parr(登録商標)撹拌オートクレーブ(600ml)を動的真空下で約10
0℃に加熱して、反応器を完全に乾燥させた。反応器を冷却し、無水トルエン1
50ml及び5mlの触媒溶液(トルエン5ml中、d3 5mg)を装入した
。反応器をエチレンで200psigに加圧した。トルエン中トリ(フェニル)
ボラン(4mg,0.017ミリモル)を高圧サンプルループによって反応器に
加えると共に、反応器を400psigに加圧した。30℃において120分後
、反応器をガス抜きし、内容物を、メタノール/アセトン混合物を含むビーカー
中に注いだ。ポリマーを吸引濾過によって採取し、真空オーブン中で〜100℃
において一晩乾燥させて、ポリエチレン0.350gを得た。H NMRは、
は分枝ポリエチレンと一致する(分岐7個/炭素原子1000個;M=97,
000)。
【0350】例40〜例42 Zr(Me/b6/助触媒を用いたエチレンの重合
【0351】
【化130】
【0352】 不活性雰囲気のグローブボックス中で、電磁撹拌棒及びゴムセプタムを装着した
フレームドライSchlenkフラスコに、テトラキス(ジメチルアミノ)ジル
コニウム5mg(1.9×10−5モル)及び式b6の配位子11mg(3.7
×10−5モル)を装入した。フラスコをボックスから取り出し、排気し、エチ
レンを再充填した。トルエン(50ml)を添加した後、所望の量の助触媒を添
加した(詳細については表参照)。重合混合物を室温において1気圧のエチレン
下で30分間撹拌させておいた。30分後、メタノール、6M HCl及びアセ
トンを添加して反応を急冷すると、溶液から白色の綿状ポリエチレンが析出した
。ポリマーを吸引濾過によって採取し、真空オーブン中で〜100℃において一
晩乾燥させた。
【0353】
【表2】
【0354】 mMAO−3A(Akzo Nobelから)
【0355】例43 Zr(Me/b6/mMAOを用いたエチレンの重合 Parr(登録商標)撹拌オートクレーブ(600ml)を動的真空下で約10
0℃に加熱して、反応器を完全に乾燥させた。反応器を冷却し、無水トルエン1
50ml及びmMAO−3A(Akzo Nobel)3mlを装入した。不活
性雰囲気のグローブボックス中において、Zr(Me 5mg(0.01
9ミリモル)及び式b6の配位子11mg(0.037ミリモル)を、セプタム
キャップのついたバイアル中に量り入れた。このバイアルに、トルエン4mlを
添加した。得られた溶液(そのうち2ml)を、サンプルループを用いて加圧下
でオートクレーブに加えた。反応器をエチレンで400psigに加圧し、室温
で15分間撹拌させておいた。15分後、サンプルループを通してメタノールを
添加することによって反応を急冷し、反応器をガス抜きした。メタノール/アセ
トン/6M HCl混合物を含むビーカー中に内容物を注いだ。ポリマーを吸引
濾過によって採取し、真空オーブン中で〜100℃において一晩乾燥させて、ポ
リエチレン8.9gを得た。DSC T=125℃;PC M=36,00
0。
【0356】例44 i1の合成
【0357】
【化131】
【0358】 グローブボックス中で、ゴムセプタム及び撹拌棒を装着したフレームドライ反応
フラスコに配位子b6を装入した。このフラスコに、ジエチルエーテル(10m
l)を添加し、ドライアイス/アセトン浴を用いて溶液を−78℃に冷却した。
この溶液に、n−BuLi 0.58mlを添加して、ブライトイエローの溶液
を得た。1時間にわたってフラスコを室温まで加温しながら、混合物を撹拌した
。この配位子のリチウム塩を含む溶液を、SSカニューレによって、ZrCl の懸濁液を含む別のSchlenkフラスコに移した。混合物を3時間撹拌し、
溶媒を真空下で除去した。塩化メチレン(5ml)を添加して、LiClは溶解
させずに、得られたZr−錯体を可溶化した。混合物をSSカニューレによって
パッドセライトを通して新しいSchlenkフラスコに移した。溶媒を再び真
空下で除去すると、ガラス状の黄色固体が残された。これを次にヘキサンから再
結晶させた。H NMRは目的とするプロ触媒i1と一致する。
【0359】例45〜例50 配位子i1及びmMAO−3A(Akzo Nobel)を用いたエチレンの重 Parr(登録商標)撹拌オートクレーブ(600ml)を動的真空下で約10
0℃に加熱して、反応器を完全に乾燥させた。反応器を冷却し、無水トルエン1
50ml及びmMAO−3A(Akzo Nobel)を装入した。不活性雰囲
気のグローブボックス中において、セプタムキャップのついたバイアル中に配位
子ilを装入した。このバイアルに、トルエン4mlを添加した。得られた溶液
(そのうち2ml)を、サンプルループを用いて加圧下でオートクレーブに加え
た(初期圧力200psigから400psigまで上昇させた)。反応器を適
当な温度において15分間撹拌させておいた。15分後、サンプルループを通し
てメタノールを添加することによって反応を急冷した。反応器をガス抜きし、メ
タノール/アセトン/6M HCl混合物を含むビーカー中に内容物を注いだ。
ポリマーを吸引濾過によって採取し、真空オーブン中で一晩乾燥させた。
【0360】
【表3】
【0361】例51 h17の調製。2,6−ジアセチルピリジンと1−アミノ−2,5−ジイソプロ ピルピロールとの反応による対応するビス(ヒドラゾン)の生成 磁気撹拌棒を装着した65mL丸底フラスコに、2,6−ジアセチルピリジン(
50mg)、1−アミノ−2,5−ジイソプロピルピロール(115mg)及び
エタノール(1mL)を順次装入した。蟻酸(1滴)を添加すると、生成物が結
晶化し始めたが、TLC分析は、これらの結晶と、モノ(ヒドラゾン)と推定さ
れる第2の化合物を含む、濾液から単離された第2の生成物の両方を示した。従
って、結晶と濾液を再び合し、窒素下で2時間加熱還流し、次いで23℃に6日
間放置した。その後は、TLC分析によってモノ(ヒドラゾン)は検出されなか
った。揮発分を真空下で除去し、溶離剤としてヘキサン中4容量%の酢酸エチル
を用いて残渣をシリカに通して、ビス(ヒドラゾン)を黄色粉末(67mg)と
して得た。電界脱離質量分析: 459 m/z。
【0362】例52 h16の調製。2,6−ジアセチルピリジンと1−アミノ−2,5−ジメチルピ ロールとの反応による対応するビス(ヒドラゾン)の生成 250mL丸底フラスコに、2,6−ジアセチルピリジン(427mg)、1−
アミノ−2,5−ジメチルピロール(668mg)、エタノール(10mL)及
び蟻酸(2滴)を順次装入し、次いで、乾燥窒素流下で約3mLの容量まで濃縮
し、23℃に16時間放置した。分離した黄色結晶を真空濾過によって採取し、
冷エタノールで洗浄し(3×5mL)、真空下で乾燥させて、740mg(81
%)を生成した。電界脱離質量分析: 347 m/z。
【0363】例53 g18の調製。2,6−ジアセチルピリジンと4−アミノモルホリンとの反応に よる対応するビス(ヒドラゾン)の生成 2ドラムバイアルに、2,6−ジアセチルピリジン(0.810g)、4−アミ
ノモルホリン(1.22g)、エタノール(1mL)及び蟻酸(1滴)を装入し
、撹拌して、表面の固い黄色の塊を生成した。混合物を、さらに5mLのエタノ
ールでこね、次いで23℃に16時間放置した。分離した黄色結晶を真空濾過に
よって採取し、エタノールで洗浄し、フィルター上で数時間乾燥させて、生成物
を1.6g得た。
【0364】例54 g19の調製。2,6−ジアセチルピリジンと1−アミノ−4−メチルピペラジ ンとの反応による対応するビス(ヒドラゾン)の生成 2ドラムバイアルに、2,6−ジアセチルピリジン(0.830g)、1−アミ
ノ−4−メチルピペラジン(1.28g)、エタノール(4mL)及び蟻酸(1
滴)を順次装入した。1時間後、生成物が結晶化し始めるまで窒素ガス流下で混
合物を少し濃縮し、次いで23℃に16時間放置した。分離した黄色結晶を真空
濾過によって採取し、エタノールで洗浄し、真空下で数時間乾燥させて、ビス(
ヒドラゾン)を1.2g得た。
【0365】例55 g17の調製。2,6−ジアセチルピリジンと1−アミノ−2,6−ジメチルピ ペリジンとの反応による対応するビス(ヒドラゾン)の生成 2ドラムバイアルに、2,6−ジアセチルピリジン(0.248g)、1−アミ
ノ−2,6−ジメチルピペリジン(0.525g)、エタノール(4滴)及び蟻
酸(1滴)を順次装入して、粘稠な混合物を生成した。2時間後、エタノール0
.6gを添加して、均質な混合物を生成し、それを23℃に16時間放置した。
分離した黄色結晶を真空濾過によって採取し、エタノールで洗浄し(2×2mL
)、乾燥させて、ビス(ヒドラゾン)を0.366g得た。
【0366】例56 g17の鉄二塩化物錯体の調製 不活性窒素雰囲気下において、FeClのTHF(テトラヒドロフラン)2m
L中懸濁液にg17(95.4mg;0.249ミリモル)のTHF 4mL中
溶液を滴加した。添加するとすぐに、黄色の液滴がダークグリーンになった。混
合物を室温で24時間撹拌した。次いで、ヘキサン類(12mL)を添加した。
沈殿を沈降させ、上清を除去した。残渣をヘキサン(2×20mL)で洗浄し、
真空下で乾燥させて、ダークグリーンの固体87.6mgを生成した。
【0367】例57 g17の鉄二塩化物錯体を用いたエチレン重合 窒素下において、1000mLのParr(登録商標)反応器にトルエン300
mLを装入し、35℃に加熱した。トルエン中MMAO(Akzo Nobel
,Al 7.12重量%;2mL)を添加し、次いで表題錯体(3.0mL;ト
ルエン/CHCl(1:1)中1.18mM)を添加した。容器を200p
sigまで加圧し、54分間撹拌した。次いで、高圧においてメタノールで反応
を急冷した。反応混合物を6M HClの存在下で撹拌し、次いで濾過した。採
取した固体を真空下において乾燥して、ポリマー21.8mgを生成した。(T =124℃,M=330,000,M=675,000,分岐11個/炭
素原子1000個(H NMRによる))。
【0368】例58 h16の鉄二塩化物錯体の調製 不活性窒素雰囲気下において、h16(93.8mg;0.270ミリモル)の
THF 8mL中溶液を、FeCl(33.2mg;0.262ミリモル)の
THF 2mL中懸濁液に滴加した。配位子を添加すると直ちに、ダークグリー
ンに変色した。懸濁液を室温で5日間撹拌した。次いで、ヘキサン(15mL)
を添加し、固体を沈降させた。次に、上清を除去し、固体残渣をヘキサン15m
Lで2回洗浄した。緑色固体を真空下で乾燥させて、122mgを得た。
【0369】例59 h16の鉄二塩化物錯体によるエチレンの重合 300mLの洋なし形フラスコに、窒素下において表題錯体(5.0mg;10
.5μモル)を装入した。フラスコを室温の水浴中に入れ、雰囲気をエチレンに
代えた。激しく撹拌しながら、トルエン中MMAO(Akzo Nobel,A
l 7.12重量%;2mL)を添加した。有意な色の変化は観察されなかった
。3.5分後に、メタノール及び6M HClの添加によって反応を急冷した。
スラリーを濾過し、濾塊を真空オーブン中で乾燥させて1.37gを得た(M (NMR)=1154,T=93℃,分岐11個/炭素原子1000個(
NMR))。濾液を回収し、トルエンで抽出した。合した有機フラクションを
乾燥させ、揮発分を減圧下で除去して1.73gを得た。両フラクションの総収
量:3.10g(180,000 TO h−1)。
【0370】例60 高圧(200psig)におけるh16の鉄二塩化物錯体によるエチレンの重合 窒素下において、1000mLのParr(登録商標)反応器にトルエン300
mLを装入し、45℃に加熱した。表題錯体の溶液(2.0mL;トルエン中0
.749mM)を添加し、次いでトルエン中MMAO(Akzo Nobel,
Al 7.12重量%;2mL)を添加した。容器を200psigまで加圧し
、15分間撹拌した。次いで、高圧においてメタノールで反応を急冷した。反応
混合物を6M HClの存在下で撹拌し、次いで濾過した。採取した固体を真空
オーブン中で乾燥させて、ポリマー28.62gを生成した。濾液を回収し、ト
ルエンで抽出した。合した有機フラクションを硫酸ナトリウム上で乾燥させ、揮
発分を真空下で除去して、追加の物質を14.90g得た。反応の合計収量は4
3.52gであった(4.14×10 TO h−1)。
【0371】例61 h16の担持鉄二塩化物錯体の調製 予め数時間200℃に加熱した後に真空下で室温に冷却しておいた50mLの洋
なし形フラスコに、窒素雰囲気下においてMAO処理シリカ(Witcoから購
入,TA 02794/HL/04)1.70g及びh16の鉄二塩化物錯体(
8.0mg;17μモル)を装入した。フラスコに磁気撹拌棒とセプタムキャッ
プを装着した。固体を0℃に冷却し、激しく撹拌しながらジクロロメタン(15
mL)を添加した。1時間後、揮発分を減圧下において除去した。得られた固体
を−30℃において貯蔵した。収量:1.57g。Fe錯体担持量/担体(g)
:15.2μモル/g(Fe含量分析に基づく)。
【0372】例62 h16の担持鉄二塩化物錯体によるエチレンの重合 予め数時間200℃に加熱した後に真空下で室温に冷却しておいた300mLの
洋なし形フラスコに、窒素下において表題触媒227mgを装入した。次いで 、トルエン(100mL)を添加し、直ちに雰囲気をエチレンに代えた。懸濁液
を1atmのエチレン下で室温において90分間撹拌した。次いで、メタノール
及び6M HClで反応を急冷した。混合物を濾過し、固体を採取し、真空オー
ブン中で乾燥させた(133mg;GPC M=810,M/M=6.4
;NMR M=1379(末端オレフィン77%);T=119℃)。濾液
を再び回収し、トルエンで抽出した。有機層を合し、揮発分を減圧下で除去した
。残渣を真空オーブン中で乾燥させた(0.07g;GPC M=380,M /M=20;NMR M=531(末端オレフィン98%);T=63
℃)。
【0373】例63 h16のコバルト二塩化物錯体の調製 不活性窒素雰囲気下において、THF 10mL中h16(107.7mg;0
.310ミリモル)を、CoCl(39.1mg;0.310ミリモル)のT
HF 2mL中懸濁液に滴加した。色の変化は観察されなかった。懸濁液を5日
間撹拌した。ヘキサン(15mL)を添加し、固体を沈降させた。上清を除去し
、続いて固体をヘキサン15mLで2回洗浄した。固体残渣を真空下で乾燥させ
て、マスタードイエローの固体を採取した。
【0374】例64 h16のコバルト二塩化物錯体によるエチレンの重合 窒素下において、300mLの洋なし形フラスコに表題錯体(8.9mg;19
μモル)及びトルエン100mLを装入した。フラスコを室温の水浴中に入れ、
雰囲気をエチレンに代えた。激しく撹拌しながら、トルエン中MMAO(Akz
o Nobel,Al 7.12重量%;2mL)を添加すると、直ちに紫色に
変色した。3.5分後に、メタノール及び6M HClの添加によって反応を急
冷した。スラリーを濾過し、濾塊を真空オーブン中で乾燥させて823mgを得
た(M(NMR)=948,T=97℃)。濾液を回収し、トルエンで抽出
した。合した有機フラクションを乾燥させ、揮発分を減圧下で除去して0.91
gを得た。両フラクションの総収量:1.73g(56,900 TO h−1 )。
【0375】例65 g18の鉄二塩化物錯体の調製 不活性窒素雰囲気下において、THF 5mL中g18(96.6mg;0.2
91ミリモル)を、FeCl(35.2mg;0.278ミリモル)のTHF
2mL中懸濁液に添加した。懸濁液を4日間撹拌した。ヘキサン(15mL)
を添加し、固体を沈降させた。上清を除去し、続いて固体をヘキサン20mLで
2回洗浄した。固体残渣を真空下で乾燥させて、ダークグリーンの固体を採取し
た(101mg)。
【0376】例66 g18の鉄二塩化物錯体によるエチレンの重合 300mLの洋なし形フラスコに、窒素下において表題錯体(2.7mg;5.
9μモル)を装入した。雰囲気をエチレンに代えた。続いて、激しく撹拌しなが
ら、トルエン中MMAO(Akzo Nobel,Al 7.12重量%;2m
L)を添加した。エチレンの取り込みは見られなかった。20分後に、メタノー
ル及び6M HClの添加によって反応を急冷した。
【0377】例67 g18のコバルト二塩化物錯体の調製 不活性窒素雰囲気下において、THF 5mL中g18(91.8mg;0.2
77ミリモル)を、CoCl(34.9mg;0.277ミリモル)のTHF
2mL中懸濁液に添加した。懸濁液を4日間撹拌した。ヘキサン(15mL)
を添加し、固体を沈降させた。上清を除去し、続いて固体をヘキサン20mLで
2回洗浄した。固体残渣を真空下で乾燥させて、オレンジ色の固体を採取した(
119mg)。
【0378】例68 g18のコバルト二塩化物錯体によるエチレンの重合 300mLの洋なし形フラスコに、窒素下において表題錯体(4.5mg;9.
8μモル)を装入した。雰囲気をエチレンに代えた。続いて、激しく撹拌しなが
ら、トルエン中MMAO(Akzo Nobel,Al 7.12重量%;2m
L)を添加した。溶液は直ちに紫色になった。60分後に、メタノール及び6M
HClの添加によって反応を急冷した。反応混合物についてトルエンによる有
機抽出を行った。有機フラクションを合し、揮発分を真空下で除去した。残渣を
加熱し、真空下において乾燥させて、ポリマー0.09gを得た(327 TO
−1)。
【0379】例69 g19の鉄二塩化物錯体の調製 不活性窒素雰囲気下において、THF 5mL中g19(83.8mg;0.2
34ミリモル)を、FeCl(28.2mg;0.222ミリモル)のTHF
2mL中懸濁液に添加した。直ちに、緑色への変色が観察された。懸濁液を2
4時間撹拌した。ヘキサン(15mL)を添加し、固体を沈降させた。上清を除
去し、続いて固体をヘキサン20mLで2回洗浄した。固体残渣を真空下で乾燥
させて、ダークグリーンの固体を採取した(96.5mg)。
【0380】例70 g19の鉄二塩化物錯体によるエチレンの重合 300mLの洋なし形フラスコに、窒素下において表題錯体(5.9mg;12
μモル)を装入した。雰囲気をエチレンに代えた。続いて、激しく撹拌しながら
、トルエン中MMAO(Akzo Nobel,Al 7.12重量%;2mL
)を添加した。エチレンの取り込みは見られなかった。メタノール及び6M H
Clの添加によって反応を急冷した。
【0381】例71 g19のコバルト二塩化物錯体の調製 不活性窒素雰囲気下において、THF 5mL中g19(42.3mg;0.1
18ミリモル)を、CoCl(14.9mg;0.115ミリモル)のTHF
2mL中懸濁液に添加した。懸濁液を24時間撹拌した。ヘキサン(15mL
)を添加し、固体を沈降させた。上清を除去し、続いて固体をヘキサン20mL
で2回洗浄した。固体残渣を真空下で乾燥させて、オレンジ−ブラウンの固体を
採取した(48.6mg)。
【0382】例72 g19のコバルト二塩化物錯体によるエチレンの重合 300mLの洋なし形フラスコに、窒素下において表題錯体(7.2mg;15
μモル)を装入した。雰囲気をエチレンに代えた。続いて、激しく撹拌しながら
、トルエン中MMAO(Akzo Nobel,Al 7.12重量%;2mL
)を添加した。溶液は直ちに紫色になった。20分後に、メタノール及び6M
HClの添加によって反応を急冷した。反応混合物についてトルエンによる有機
抽出を行った。有機フラクションを合し、揮発分を真空下で除去した。残渣を加
熱し、真空下において乾燥させて、ポリマー0.06gを得た(433 TO
−1)。
【0383】例73 h17の鉄二塩化物錯体の調製 不活性窒素雰囲気下において、THF 5mL中h17(26.6mg;57.
9μモル)の溶液を、FeCl(7.2mg;57μモル)のTHF 2mL
中懸濁液に滴加した。溶液は12時間かかって徐々に緑色に変化した。黄色溶液
中に懸濁された白色固体が得られることから明らかなように、ヘキサン(15m
L)の添加によっておそらく錯体は分解されたのであろう。次いでTHF(10
mL)を混合物に添加し、続いて減圧雰囲気下で乾燥するまで排気した。次いで
、固体をTHF(10mL)中に懸濁させ、懸濁液を室温で18時間撹拌させて
おいた。次に、揮発分を真空下において除去して、緑色固体を得た。
【0384】例74 h17の鉄二塩化物錯体によるエチレンの重合 窒素下において、1000mLのParr(登録商標)反応器にトルエン300
mL及びMMAO(Akzo Nobel,Al 7.12重量%)0.45m
Lを装入し、50℃に加熱した。容器を加圧しながら、表題錯体の溶液(2.0
mL;トルエン:ジクロロメタン(1:1)中0.17mM)を注入ループを通
して添加した。溶液を30分間激しく撹拌した。次いで、高圧においてメタノー
ルで反応を急冷した。次に、溶液をビーカーに移し、6M HClと共に撹拌し
た。溶液をトルエンで抽出した。有機層を合し、揮発分をロータリー・エバポレ
ーター上で除去し、オーブン中で乾燥後に、生成物0.83gを得た(174,
000 TO/h)。
【0385】例75 h17のコバルト二塩化物錯体の調製 不活性窒素雰囲気下において、THF 7mL中h17(19.3mg;42.
0μモル)の溶液を、CoCl(5.3mg;41μモル)のTHF 2mL
中懸濁液に滴加した。溶液は徐々に琥珀色に変化し、45分以内にオリーブグリ
ーンになった。混合物を室温で18時間撹拌した後、揮発分を真空下において除
去した。
【0386】例76 h17のコバルト二塩化物錯体によるエチレンの重合 窒素下において、300mLの洋なし形フラスコに、表題錯体(3.5mg;5
.9μモル)及びトルエン100mLを装入した。次いで、雰囲気をエチレンに
代えた。フラスコを室温の水浴中に入れ、激しく撹拌しながら、トルエン中MM
AO(Akzo Nobel,Al 7.12重量%;2mL)を添加したとこ
ろ、直ちに紫色に変色した。反応媒体は急に濁った。4分後に、メタノール及び
6M HClの添加によって反応を急冷した。スラリーを濾過し、濾塊を真空オ
ーブン中で乾燥させて、ポリマー628mgを得た。濾液を回収し、トルエンで
抽出した。合した有機フラクションを乾燥させ、揮発分を減圧下で除去して、3
35mgを得た。両フラクションの総収量:963mg(87,300 TO
−1)。
【0387】例77 b4の合成
【0388】
【化132】
【0389】 1−アミノ−2−メチル−5−フェニル−1H−ピロール−3−カルボン酸エチ
ルエステル(208mg,0.89ミリモル)のトルエン(17.6mL)中溶
液を、室温においてピリジニウムp−トルエンスルホネート(2.4mg)及び
3,5−ジ−tert−ブチル−2−ヒドロキシ−ベンズアルデヒド(238m
g,0.975ミリモル)で処理した。得られた溶液を130℃の油浴中に浸漬
し、Ar下で1.5時間激しく撹拌した。溶液を室温に冷却し、真空下で濃縮し
た。残渣をフラッシュクロマトグラフィー(SiO,30〜60%のCH
/Hex)で精製して、b4(190mg,46%)を生成した。
【0390】例78 b5の合成
【0391】
【化133】
【0392】 1−アミノ−5−tert−ブチル−2−フェニル−1H−ピロール−3−カル
ボン酸エチルエステル(240mg,0.79ミリモル)のトルエン(14.2
mL)中溶液を、室温においてピリジニウムp−トルエンスルホネート(1.7
mg)及び3,5−ジ−tert−ブチル−2−ヒドロキシ−ベンズアルデヒド
(160mg,0.69ミリモル)で処理した。得られた溶液を130℃の油浴
中に浸漬し、Ar下で6時間激しく撹拌した。反応を室温に冷却し、Ar下に一
晩放置した。追加量の3,5−ジ−tert−ブチル−2−ヒドロキシ−ベンズ
アルデヒド(65mg,0.28ミリモル)を添加し、反応を3時間加熱還流し
、室温に冷却し、真空下で濃縮した。残渣をフラッシュクロマトグラフィー(S
iO,2〜15%のEtOAc/Hex(EtOAc及びHexはそれぞれ酢
酸エチル及びヘキサンを表す))で精製して、b5(230mg,58%)を生
成した。
【0393】例79 b3の合成 1−アミノ−5−tert−ブチル−2−メチル−1H−ピロール−3−カルボ
ン酸エチルエステル(258mg,1.15ミリモル)のトルエン(20.8m
L)中溶液を、室温においてピリジニウムp−トルエンスルホネート(2.5m
g)及び3,5−ジ−tert−ブチル−2−ヒドロキシ−ベンズアルデヒド(
234mg,1.0ミリモル)で処理した。フラスコにDean Starkト
ラップを装着し、150℃の油浴中に6時間浸漬し、その後、温度を1時間17
0℃に上げた。反応を室温に冷却し、Ar下に一晩放置し、次いで、追加量の3
,5−ジ−tert−ブチル−2−ヒドロキシ−ベンズアルデヒド(70mg,
0.30ミリモル)で処理し、油浴中で2.5時間150℃に加熱した。溶液を
室温に冷却し、真空下で濃縮した。残渣をフラッシュクロマトグラフィー(Si
,2〜15%のEtOAc/Hex)で精製して、b3(325.5mg,
74%)を生成した。
【0394】例80 h19の鉄二塩化物錯体の調製 h19(129.7mg,0.275ミリモル)のTHF 6mL中溶液を、室
温でFeCl(33.4mg,0.264ミリモル)の懸濁液に添加した。直
ちに上清の色がエメラルドグリーンに変化した。懸濁液を5日間撹拌した。揮発
分を真空下で除去して、ダークグリーンの固体を生成した。
【0395】例81 h19のコバルト二塩化物錯体の調製 h19(96.2mg,0.204ミリモル)のTHF 6mL中溶液を、室温
でCoCl(25.5mg,0.196ミリモル)の懸濁液に添加した。30
分以内に上清の色がアンバー/オレンジに変化した。懸濁液を6日間撹拌した。
次いで、固形分を沈降させ、上清を除去した。残留固体を真空下で乾燥させて、
茶色がかった固体を生成した。
【0396】例82 h20の鉄二塩化物錯体の調製 h20(86.2mg,0.270ミリモル)のTHF 8mL中溶液を、室温
でFeCl(33.0mg,0.260ミリモル)の懸濁液に添加した。懸濁
液を8日間撹拌した。揮発分を真空下で除去して、茶色がかった固体を生成した
【0397】例83 h20のコバルト二塩化物錯体の調製 h20(40.6mg,0.127ミリモル)のTHF 6mL中溶液を、室温
でCoCl(15.8mg,0.122ミリモル)の懸濁液に添加した。懸濁
液を8日間撹拌した。揮発分を真空下で除去して、残留固体を真空下で乾燥させ
た。
【0398】例84 h21の鉄二塩化物錯体の調製 h21(77.4mg,0.130ミリモル)のTHF 8mL中溶液を、室温
でFeCl(15.8mg,0.125ミリモル)の懸濁液に添加した。懸濁
液を8日間撹拌した。揮発分を真空下で除去して、茶色がかった固体生成した。
【0399】例85 h21の鉄二塩化物錯体の原液の調製 h21(4.8mg,20μモル)のCHCl 5mL中溶液を、室温でF
eCl・xTHF(12.2mg,20.4μモル)の懸濁液に添加した。懸
濁液を8日間撹拌した。ジクロロメタンを添加して、総容量を10mL(2.0
4mM)とした。
【0400】例86 h21の鉄錯体の原液の調製 h21(8.7mg,15μモル)のCHCl 5mL中溶液を、室温でビ
ス(アセチルアセトナト)鉄(3.7mg,15μモル)の懸濁液に添加した。
懸濁液を8日間撹拌した。ジクロロメタンを添加して、総容量を20mL(0.
75mM)とした。
【0401】例87 h21のコバルト二塩化物錯体の調製 h21(89.4mg,0.150ミリモル)のTHF 6mL中溶液を、室温
でCoCl(18.7mg,0.144ミリモル)の懸濁液に添加した。懸濁
液を8日間撹拌した。揮発分を真空下で除去して、残留固体を真空下で乾燥させ
た。
【0402】例88 h21のコバルト錯体の原液の調製 h21(4.1mg,6.9μモル)のCHCl 5mL中溶液を、室温で
CHCl 3mL中ビス(1,1,1,5,5,5−ヘキサフルオロアセチ
ルアセトナト)コバルト・2.5HO(3.6mg,6.9μモル)に添加し
た。紫色の溶液が直ちにオレンジ色に変色した。ジクロロメタンを添加して、総
容量を20mL(0.35mM)とした。
【0403】例89 h22のコバルト錯体の調製 h22(8.1mg,16μモル)のn−ブタノール 5mL中溶液を、室温で
n−ブタノール 3mL中ビス(アセチルアセトナト)コバルト(4.1mg,
16μモル)に添加した。懸濁液は徐々に均一になった。揮発分を真空下で除去
した。
【0404】例90 h23の鉄錯体の調製 h23(21.4mg,33.3μモル)のTHF 2mL中溶液を、室温でT
HF 4mL中FeCl(4.2mg,33μモル)に添加した。1日後、n
−ブタノール(10mL)を添加し、得られた混合物を定流量の窒素と共に加熱
して、揮発分を全てストリップして除いた。残渣をn−ブタノール中に再分散さ
せ、n−ブタノール5mL中TIPF(11.6mg,33.3μモル)の懸
濁液を添加した。懸濁液を1日間撹拌し、次いで揮発分を減圧下で除去した。
【0405】例91 h23の鉄錯体の原液の調製 h23(11.7mg,20.2μモル)のCHCl 5mL中溶液を、室
温でCHCl 3mL中ビス(アセチルアセトナト)鉄(4.9mg,19
μモル)に添加した。紫色の溶液は直ちにオレンジ色に変化した。ジクロロメタ
ンを添加して、総容量を15mL(1.29mM)とした。
【0406】例92 h23のコバルト錯体の原液の調製 h23(9.6mg,17μモル)のCHCl 3mL中溶液を、室温でC
Cl 2mL中ビス(1,1,1,5,5,5−ヘキサフルオロアセチル
アセトナト)コバルト(8.5mg,16μモル)に添加した。紫色の溶液が直
ちにオレンジ色に変色した。ジクロロメタンを添加して、総容量を10mL(1
.7mM)とした。
【0407】例93 h24の鉄二塩化物錯体の原液の調製 h24(10.0mg,20.9μモル)のCHCl 4mL中溶液を、室
温でCHCl 2mL中FeCl・xTHF(4.9mg,21μモル)
に添加した。懸濁液はゆっくりとオレンジ色に変化した。ジクロロメタンを添加
して、総容量を20mL(1.0mM)とした。
【0408】例94 h24の鉄錯体の原液の調製 h24(44.8mg,93.0μモル)のCHCl 10mL中溶液を、
室温でCHCl 10mL中ビス(アセチルアセトナト)鉄(23.3mg
,91.7μモル)に添加した。紫色の溶液は直ちにオレンジ色に変化した。こ
れを重合用の原液(4.59mM)として使用した。
【0409】例95 h24の鉄錯体の原液の調製 h24(4.0mg,8.3μモル)のCHCl 5mL中溶液を、室温で
CHCl 3mL中ビス(1,1,1,5,5,5−ヘキサフルオロアセチ
ルアセトナト)鉄(3.4mg,7.2μモル)(J.Chem.Soc.(A
)1970,3153にF.G.A.Stoneらによって記載された方法で調
製した)に添加した。紫色の溶液が直ちにオレンジ色に変色した。ジクロロメタ
ンを添加して、総容量を10mL(0.72mM)とした。
【0410】例96 h24のコバルト錯体の原液の調製 h24(4.0mg,8.3μモル)のCHCl 5mL中溶液を、室温で
CHCl 4mL中ビス(1,1,1,5,5,5−ヘキサフルオロアセチ
ルアセトナト)コバルト・2.5HO(4.4mg,8.5μモル)に添加し
た。ジクロロメタンを添加して、総容量を20mL(0.42mM)とした。
【0411】例97 h25の鉄錯体の原液の調製 h25(4.3mg,18μモル)のCHCl 5mL中溶液を、室温でF
eCl・xTHF(11.1mg,20.3μモル)の懸濁液に添加した。懸
濁液を8日間撹拌した。ジクロロメタンを添加して、総容量を10mL(1.8
3mM)とした。
【0412】例98 h25のコバルト錯体の原液の調製 h25(6.5mg,12μモル)のCHCl 5mL中溶液を、室温でC
Cl 3mL中ビス(1,1,1,5,5,5−ヘキサフルオロアセチル
アセトナト)コバルト・2.5HO(5.5mg,11μモル)に添加した。
紫色の溶液が直ちにオレンジ色に変化した。ジクロロメタンを添加して、総容量
を15mL(0.71mM)とした。
【0413】例99 例91と同様にして調製した触媒を用いたエチレンの高圧重合 1000mLのParr(登録商標)反応器に、トルエン300mL及びMAO
(トルエン中10重量%)2.0mLを装入した。得られた溶液を44℃に加熱
し、次いで激しく撹拌しながら200psiに加圧した。例91と同様にして調
製した鉄錯体の溶液(総Fe 0.68μモル)を、わずかに反応器を減圧する
ことによって注入ループを通して加圧下で添加した。注入すると、内部温度が4
7℃に上昇した。反応混合物を200psiのエチレン下で5分間撹拌し、次い
で高圧下でMeOHによって急冷した。反応器をガス抜きし、混合物をさらに6
M HClで処理した。スラリーについて液液抽出を行った。有機層を合し、揮
発分をロータリー・エバポレーター上で除去した。固体残渣を真空オーブン中で
さらに乾燥させて、ポリエチレン4.26gを得た。GPC:M=29,50
0;M/M=2.4。
【0414】例100〜例125 例80〜98と同様にして調製したプロ触媒を用いたエチレンの高圧重合 以下の表Iに要約した例は、例99の方法に従って生成した。
【0415】
【表4】
【0416】
【表5】
【0417】
【表6】
【0418】£ MAO(トルエン中Al 10重量%)を助触媒として用いた。 MMAO(改質メチルアルモキサン;ヘプタン中イソ−ブチルアルミノキサン
23%;Al 6.4%)を助触媒として用いた。§ GC分析を用いて単離収量から計算した総収量。Schultz−Flory
定数=0.52。 GC分析を用いて単離収量から計算した総収量。Schultz−Flory
定数=0.61。 GC分析を用いて単離収量から計算した総収量。Schultz−Flory
定数=0.61。
【0419】例126 h17の担持コバルト二塩化物錯体の調製 予め数時間200℃に加熱した後に真空下で室温に冷却しておいた、50mLの
洋なし形フラスコに、窒素不活性雰囲気下で、MAO処理シリカ(Witcoか
ら購入,TA 02794/HL/04)2.05g及びh17の鉄二塩化物錯
体(17.1mg,29.0μモル)を装入した。フラスコに電磁撹拌棒及びセ
プタムキャップを装着した。固体を0℃に冷却し、激しく撹拌しながらジクロロ
メタン(20mL)を添加した。1時間後、揮発分を真空下で除去した。得られ
た固体を−30℃において貯蔵した。収量:2.05g。
【0420】例127 h17の担持コバルト二塩化物錯体を用いたエチレンの重合 予め数時間200℃に加熱した後に真空下で室温に冷却しておいた、300mL
の洋なし形フラスコに、窒素下で表題触媒184mgを装入した。次いで、トル
エン(100mL)を添加し、直ちに雰囲気をエチレンに代えた。懸濁液を室温
において1atmのエチレン下で4時間撹拌した。次いで、メタノール及び6M
HClで反応を急冷した。混合物を濾過し、固体を採取し、真空オーブン中で
乾燥させた(86mg)。NMR M=5510(末端オレフィン100%)
;T=127℃。
【0421】例128 h16の鉄二塩化物錯体を用いたエチレンの重合 1000mLのParr(登録商標)反応器に、トルエン300mL及びMAO
(トルエン中10重量%)2.0mLを装入した。得られた溶液を60℃に加熱
し、次いで激しく撹拌しながら200psiに加圧した。h16の鉄二塩化物錯
体(Fe 11nmol)の溶液を、注入ループを通して加圧下で添加した。反
応混合物を200psiのエチレン下で60分間撹拌し、次いで高圧下でMeO
Hによって急冷した。反応器をガス抜きし、混合物をさらに6M HClで処理
した。固体物質を濾過によって単離した(3.44g;H NMR:M=5
090,21BP/1000C(BP/1000Cは、炭素原子1000個当た
りの分岐点の数を意味する),末端オレフィン>99%;GPC:M=580
,M/M=1.5;T=89℃)。トルエンを用いて濾液について液液抽
出を行うことによって追加の物質が単離された。有機層を合し、揮発分をロータ
リー・エバポレーター上で除去した。固体残渣を真空オーブン中でさらに乾燥さ
せて、ポリエチレン14.46gを得た(H NMR:M=4118,64
BP/1000C,末端オレフィン99%;GPC:M=130,M/M =1.8;T=55℃)。合計総収量13.50g(TO 1.4M(TOは
オレフィンモノマー(モル)/金属(モル)を意味する))。合したフラクショ
ンをNMRによってさらに分析して、M値477(末端オレフィン99%)と
BP 4/1000Cを得た。
【0422】例129 h16の鉄二塩化物錯体を用いたエチレンと1−ヘキセンとの共重合 1000mLのParr(登録商標)反応器に、トルエン270mL、1−ヘキ
セン30mL及びMAO(トルエン中10重量%)2.0mLを装入した。得ら
れた溶液を60℃に加熱し、次いで激しく撹拌しながら200psiに加圧した
。h16の鉄二塩化物錯体(Fe 6.0nmol)の溶液を、注入ループを通
して加圧下で添加した。反応混合物を200psiのエチレン下で60分間撹拌
し、次いで高圧下でMeOHによって急冷した。反応器をガス抜きし、混合物を
さらに6M HClで処理した。固体物質を濾過によって単離した(7.62g
H NMR:M=1590,2BP/1000C,末端オレフィン98%
;GPC:M=540,M/M=1.8;T=91℃)。トルエンを用
いて濾液について液液抽出を行うことによって追加の物質が単離された。有機層
を合し、揮発分をロータリー・エバポレーター上で除去した。固体残渣を真空オ
ーブン中でさらに乾燥させて、ポリエチレン6.92gを得た(H NMR:
=364,20BP/1000C,末端オレフィン>99%;GPC:M =210,M/M=1.2;T=55℃)。合計総収量14.54g(T
O 86M)。13C NMRは1−ヘキサンの取り込みが少ないことを示した
【0423】例130 h12の鉄二塩化物錯体の調製 h21(3.7mg,6.2μモル)のジクロロメタン5mL中溶液を、FeC
・THF(1.4mg,6.0μモル)のCHCl 1mL中懸濁液に
添加した。この溶液は徐々に緑色に変色し、次いで7時間後に黄色に戻った。追
加のジクロロメタンを添加して、鉄濃度を0.31μモル/mLとした。この溶
液を例131にそのまま用いた。
【0424】例131 例130において調製した二塩化物錯体を用いたエチレンの重合 1000mLのParr(登録商標)反応器に、トルエン300mL及びMAO
(トルエン中10重量%)2.0mLを装入した。得られた溶液を45℃に加熱
し、次いで激しく撹拌しながら200psiに加圧した。例130において調製
した鉄錯体の溶液(Fe 0.62μmol)を、注入ループを通して加圧下で
添加した。反応混合物を200psiのエチレン下で60分間撹拌し、次いで高
圧下でMeOHによって急冷した。反応器をガス抜きし、混合物をさらに6M
HClで処理した。反応混合物について液液抽出を行うことによって生成物を単
離した。有機層を合し、揮発分をロータリー・エバポレーター上で除去した。固
体残渣を真空オーブン中でさらに乾燥させて、ポリエチレン0.22g(TO
12,600)を得た(H NMR:M=597,<1BP/1000C,
末端オレフィン74%;GPC:M=300,M/M=6.7;T=1
19℃)。
【0425】例132 配位子h28の鉄二塩化物錯体の調製 FeCl・xTHF(2.2mg,9.4μモル)のジクロロメタン約2mL
中懸濁液にh28(5.4mg,9.7μモル)のCHCl 4mL中溶液
を添加した。黄色溶液が30分以内に緑色に変化した。追加のCHClを添
加して、濃度を0.53μモル/mLとした。
【0426】例133 例132において調製したh28の鉄二塩化物錯体を用いたエチレンの重合 1000mLのParr(登録商標)反応器に、トルエン300mL及びMAO
(トルエン中10重量%)2.0mLを装入した。得られた溶液を45℃に加熱
し、次いで激しく撹拌しながら200psiに加圧した。例132において調製
した鉄錯体の溶液(Fe 1.1μmol)を、注入ループを通して加圧下で添
加した。反応混合物を200psiのエチレン下で60分間撹拌し、次いで高圧
下でMeOHによって急冷した。反応器をガス抜きし、混合物をさらに6M H
Clで処理した。反応混合物についてトルエンで液液抽出を行うことによって生
成物を単離した。有機層を合し、揮発分をロータリー・エバポレーター上で除去
した。固体残渣を真空オーブン中でさらに乾燥させて、ポリエチレン3.56g
(TO 120K)を得た(H NMR:M=2082,<1BP/100
0C,末端オレフィン78%;GPC:M=1800,M/M=1.6;
=128℃)。
【0427】例134 h17の鉄三塩化物錯体の調製 不活性窒素雰囲気下において、h17(5.6mg,0.016ミリモル)のジ
クロロメタン2mL中溶液を、FeCl・6HO(4.5mg,0.017
ミリモル)のジクロロメタン中懸濁液に添加すると、直ちに黄色からダークブラ
ウンに変色した。重合触媒として使用する前に、溶液を室温で約18時間撹拌し
た。
【0428】例135 例134と同様にして生成したh17の鉄三塩化物錯体を用いたエチレン重合 窒素下において、300mLの洋なし形フラスコに、トルエン100mLを装入
した。MAO(Aldrich,トルエン中10重量%;1.0mL)を溶媒に
添加した。フラスコを排気し、エチレンを充填し戻した。激しく撹拌しながら、
鉄錯体(0.014ミリモル)を添加した。溶液を15分間撹拌し、次いでメタ
ノール及び6M HClの添加によって反応を急冷した。生成物をトルエンで抽
出した。次いで、揮発分を除去して、固体物質0.03g(TO 76)を得た
H NMR:M=653;63BP/1000C;末端オレフィン>99
%。
【0429】例136 h17の鉄ビス(テトラフルオロボレート)錯体の調製 鉄(II)ビス(テトラフルオロボレート)六水和物(4.9mg,15μモル
)のジクロロメタン中懸濁液に、数mLのジクロロメタン中h17(5.0mg
,14μモル)の溶液を添加した。18時間以内に溶液は経時的にライトイエロ
ーからダークオレンジに変色した。この溶液はこのまま、次の重合研究に用いた
【0430】例137 例136において調製したh17の鉄ビス(テトラフルオロボレート)錯体を用 いたエチレン重合 窒素下において、300mLの洋なし形フラスコに、トルエン100mLを装入
した。MAO(Aldrich,トルエン中10重量%;1.0mL)を溶媒に
添加した。フラスコを排気し、エチレンを充填し戻した。激しく撹拌しながら、
鉄錯体(0.014ミリモル)を添加した。溶液を7分間撹拌し、次いでメタノ
ール及び6M HClの添加によって反応を急冷した。トルエンで液体抽出する
ことによって生成物を単離した。有機層を合し、真空下において揮発分を除去し
て、2.17gを得た(TO 119,000;H NMR:M=993;
4BP/1000C;末端オレフィン>99%;GPC:M=630,M
=7.7;T=124℃)。
【0431】例138 h17の鉄錯体の調製 h17(5.0mg,0.014ミリモル)のジクロロメタン中溶液に、ジクロ
ロメタン中トリス(ペンタフルオロフェニル)ボラン(72.1mg,0.14
1ミリモル)を添加し、続いてFeCl(2.3mg,0.014ミリモル)
を添加した。エチレン重合への使用前に、この溶液を18時間、室温で撹拌した
【0432】例139 h25の鉄錯体の調製 FeCl(2.6mg,16μモル)のジクロロメタン中懸濁液に、トリス(
ペンタフルオロフェニル)ボラン(71.6mg,0.140ミリモル)を添加
し、続いてh25(8.0mg,13μモル)のジクロロメタン中溶液を添加し
た。エチレン重合への使用前に、この溶液を室温で撹拌し、室温で貯蔵した。
【0433】例140 例139において調製したh25の鉄錯体を用いたエチレン重合 1000mLのParr(登録商標)反応器に、トルエン300mL及びMAO
(トルエン中10重量%)2.0mLを装入した。得られた溶液を60℃に加熱
し、次いで激しく撹拌しながら600psiに加圧した。例139において調製
した鉄錯体の溶液(Fe 0.34μmol)を、注入ループを通して加圧下で
添加した。反応混合物を600psiのエチレン下で60分間撹拌し、次いで高
圧下でMeOHによって急冷した。反応器をガス抜きし、混合物をさらに6M
HClで処理した。固体物質を濾過によって単離した(5.88g;ポリマーは
GPCによって分析できなかった;T=91℃)。濾液についてトルエンを用
いて液液抽出することよってさらに物質が単離された。有機層を合し、揮発分を
ロータリー・エバポレーター上で除去した。固体残渣を真空オーブン中でさらに
乾燥させて、ポリエチレン7.62gを得た(GPC;M=170,M/M =1.2;T=53℃)。総合計収量13.50g(TO 1.4M)。合
したフラクションをNMRによってさらに分析して、477のM値(末端オレ
フィン99%)と4BP/1000Cを得た。
【0434】例141 h25のコバルト錯体の調製 PhCB(C(15.4mg,16.7μモル)及びCo(aca
c)(4.2mg,16.3μモル)を含むジクロロメタン約3mLの溶液に
、ジクロロメタン(約2mL)中h25(9.5mg,16.5μモル)を添加
した。得られた溶液はそのままで例142に使用した。
【0435】例142 例141において調製したh25のコバルト錯体を用いたエチレンの重合 300mLのオーブン乾燥フラスコにエチレン下でトルエン(100mL)を装
入した。この溶液にMAO(Aldrich,トルエン中10重量%;1.0m
L)を添加し、次いで例141において調製したh25のコバルト錯体(16.
3μモル)のジクロロメタン溶液を添加した。反応溶液を室温で3分間撹拌し、
次いで6M HClで急冷した。トルエンで抽出することによって生成物を単離
した(296mg,TO 640;NMR:M>50,000,<1BP/1
000C;T=141℃)。
【0436】例143 h25の鉄ビス(テトラフルオロボレート)錯体の調製 h25(5.1mg,8.9μモル)のジクロロメタン約2mL中溶液を、鉄ビ
ス(テトラフルオロボレート)六水和物(3.0mg,8.9μモル)のジクロ
ロメタン中懸濁液に添加した。エチレン重合に使用する前に、混合物を室温で約
18時間撹拌した。
【0437】例144 例143において調製したh25の鉄錯体を用いたエチレンの重合 300mLのオーブン乾燥フラスコにエチレン下でトルエン(100mL)を装
入した。この溶液にMAO(Aldrich,トルエン中10重量%;1.0m
L)を添加し、次いで例143において調製したh25の鉄錯体(1.1μモル
)のジクロロメタン溶液を添加した。反応溶液を室温で10分間撹拌し、次いで
6M HClで急冷した。トルエンで抽出することによって生成物を単離した(
1.78g,TO 7160;NMR:M=786,4BP/1000C,末
端オレフィン94%;GPC:M=440,M/M=1.8;T=12
2℃)。
【0438】例145 h16の鉄二塩化物錯体を用いたエチレン及び1−ヘキセンの重合 300mLのオーブン乾燥フラスコにエチレン下でトルエン(90mL)及び1
−ヘキセン(10mL)を装入した。この溶液にMAO(Aldrich,トル
エン中10重量%;2.0mL)を添加し、次いでh16の鉄二塩化物錯体(1
.1μモル)のジクロロメタン溶液を添加した。反応溶液を室温で20分間撹拌
し、次いで6M HClで急冷した。トルエンで抽出することによって生成物を
単離した(5.2g;NMR:M=472,48BP/1000C,末端オレ
フィン85%;GPC:M=330,M/M=2.1;T=88℃)。
NMRデータの分析は、1−ヘキセンの18モル%の取り込みを示唆している。
【0439】例146 h16の鉄二塩化物錯体を用いたエチレン及び1−ヘキセンの重合 1000mLのParr(登録商標)反応器に、トルエン270mL及びMAO
(トルエン中10重量%)2.0mLを装入した。得られた溶液を60℃に加熱
し、次いで激しく撹拌しながら200psiに加圧した。h16の鉄二塩化物錯
体(Fe 6.0nmol)の溶液を、わずかに反応器を減圧することによって
、注入ループを通して加圧下で添加した。注入すると、内部温度が69℃まで上
昇した。反応混合物を200psiのエチレン下で60分間撹拌し、次いで高圧
下でMeOHによって急冷した。反応器をガス抜きし、混合物をさらに6M H
Clで処理した。固体物質を濾過によって単離した(7.62g;NMR:M =1590,BP 2/1000C,末端オレフィン98%;GPC:M=5
40,M/M=1.8;T=91℃)。濾液についてトルエンを用いて液
液抽出することよってさらに物質が単離された。有機層を合し、揮発分をロータ
リー・エバポレーター上で除去した。固体残渣を真空オーブン中でさらに乾燥さ
せて、ポリエチレン6.92gを得た(NMR:M=364,20BP/10
00C,末端オレフィン>99%;GPC;M=210,M/M=1.2
;T=55℃)。総合計収量14.54g(TO 86M)。
【0440】例147 h16の鉄二塩化物錯体を用いた1−ヘキセンの重合 300mLのオーブン乾燥フラスコに窒素下でトルエン(90mL)及び1−ヘ
キセン(10mL)を装入した。この溶液にMAO(Aldrich,トルエン
中10重量%;2.0mL)を添加し、次いでh16の鉄二塩化物錯体(0.2
8μモル)のジクロロメタン溶液を添加した。反応溶液を室温で24分間撹拌し
、次いでメタノール及び6M HClで急冷した。トルエンで抽出することによ
って生成物を単離した(0.07g;M=408,137BP/1000C,
末端オレフィン>99%;M(GPC)=240,M/M=1.3)。
【0441】例148 ジクロロフェニルエチルアセテート(PhClCCOEt)の存在下におけ るh16の鉄二塩化物錯体を用いたエチレンの重合 1000mLのParr(登録商標)反応器に、トルエン300mL及びMAO
(トルエン中10重量%)2.0mLを装入した。得られた溶液を60℃に加熱
し、次いで激しく撹拌しながら200psiに加圧した。h16の鉄二塩化物錯
体(Fe 6.0nmol)の溶液を、わずかに反応器を減圧することによって
、注入ループを通して加圧下で添加した。反応混合物を200psiのエチレン
下で5分間撹拌し、次いで高圧下でMeOHによって急冷した。反応器をガス抜
きし、混合物をさらに6M HClで処理した。固体物質を濾過によって単離し
た(12.58g;NMR:M=804,2BP/1000C,末端オレフィ
ン98%;GPC:M=650,M/M=1.5;T=92℃)。濾液
についてトルエンを用いて液液抽出することよってさらに物質が単離された。有
機層を合し、揮発分をロータリー・エバポレーター上で除去した。固体残渣を真
空オーブン中でさらに乾燥させて、ポリエチレン5.73gを得た(NMR:M =390,5BP/1000C,末端オレフィン>99%;GPC;M=9
000,M/M=1.2;T=60℃)。総合計収量18.31g(TO
75M)。
【0442】例149 h16の鉄二塩化物錯体を用いたエチレンの重合 1000mLのParr(登録商標)反応器に、トルエン270mL及びトリイ
ソブチルアルミニウム(トルエン中25重量%)0.5mLを装入した。得られ
た溶液を60℃に加熱し、次いで激しく撹拌しながら200psiに加圧した。
h16の鉄二塩化物錯体(Fe 77nmol)の溶液を、わずかに反応器を減
圧することによって、注入ループを通して加圧下で添加した。続いて加圧下で、
トリチルテトラキス(ペルフルオロフェニル)ボレート(0.46μモル)のジ
クロロメタン中溶液を添加した。注入すると、内部温度が73まで上昇した。反
応混合物を200psiのエチレン下で60分間撹拌し、次いで高圧下でMeO
Hによって急冷した。反応器をガス抜きし、混合物をさらに6M HClで処理
した。固体物質を濾過によって単離した(43.38g;NMR:M=697
,3BP/1000C,末端オレフィン>99%;GPC:M=360,M /M=1.9;T=101℃)。濾液についてトルエンを用いて液液抽出す
ることよってさらに物質が単離された。有機層を合し、揮発分をロータリー・エ
バポレーター上で除去した。固体残渣を真空オーブン中でさらに乾燥させて、ポ
リエチレン2.72gを得た(NMR:M=263,2BP/1000C,末
端オレフィン>99%;GPC;M=110,M/M=1.1;T=3
5℃)。総合計収量46.10g(TO 21M)。
【0443】例150 h16の鉄二塩化物錯体を用いたエチレンの重合 1000mLのParr(登録商標)反応器に、トルエン300mL及びジエチ
ルアルミニウムクロリド(トルエン中25重量%)1.7mLを装入した。得ら
れた溶液を60℃に加熱し、次いで激しく撹拌しながら200psiに加圧した
。h16の鉄二塩化物錯体(Fe 1.0nmol)の溶液を、わずかに反応器
を減圧することによって、注入ループを通して加圧下で添加した。反応混合物を
200psiのエチレン下で60分間撹拌し、次いで高圧下でMeOHによって
急冷した。反応器をガス抜きし、混合物をさらに6M HClで処理した。反応
混合物についてトルエンを用いて液液抽出をすることによって固体物質を単離し
た。有機層を合し、揮発分をロータリー・エバポレーター上で除去した。固体残
渣を真空オーブン中でさらに乾燥させて、ポリエチレン0.05gを得た(NM
R:M=876,95BP/1000C,末端オレフィン69%;T=13
8℃)。
【0444】例151 h16の鉄二塩化物錯体を用いたエチレンの重合 1000mLのParr(登録商標)反応器に、トルエン300mL及びトリイ
ソブチルアルミニウム(トルエン中25重量%)0.22mLを装入した。得ら
れた溶液を60℃に加熱し、次いで激しく撹拌しながら200psiに加圧した
。h16の鉄二塩化物錯体(Fe 1.34μmol)の溶液を、わずかに反応
器を減圧することによって、注入ループを通して加圧下で添加した。反応混合物
を200psiのエチレン下で60分間撹拌し、次いで高圧下でMeOHによっ
て急冷した。反応器をガス抜きし、混合物をさらに6M HClで処理した。混
合物を濾過して、白色固体5.37gを得た(NMR:M=935,2BP/
1000C,末端オレフィン>99%;GPC:M=580,M/M=1
.4;T=98℃)。濾液についてトルエンを用いて液液抽出することよって
さらに固体物質が単離された。有機層を合し、揮発分をロータリー・エバポレー
ター上で除去した。固体残渣を真空オーブン中でさらに乾燥させて、ポリエチレ
ン10.8g(TO 430K)を得た(NMR:M=329,5BP/10
00C,末端オレフィン>99%;GPC;M=120,M/M=1.6
;T=60℃)。
【0445】例152 h16の鉄二塩化物錯体を用いたエチレンの重合 1000mLのParr(登録商標)反応器に、トルエン300mL及び固体M
AO(3.0ミリモル)のトルエン2.0mL中溶液を装入した。得られた溶液
を60℃に加熱し、次いで激しく撹拌しながら200psiに加圧した。h16
の鉄二塩化物錯体(Fe 0.011μモル)の溶液を、わずかに反応器を減圧
することによって、注入ループを通して加圧下で添加した。反応混合物を200
psiのエチレン下で60分間撹拌し、次いで高圧下でMeOHによって急冷し
た。反応器をガス抜きし、混合物をさらに6M HClで処理した。混合物を濾
過して、白色固体3.44gを得た(NMR:M=5090,21BP/10
00C,末端オレフィン>99%;GPC:M=580,M/M=1.5
;T=89℃)。濾液についてトルエンを用いて液液抽出することよってさら
に固体物質が単離された。有機層を合し、揮発分をロータリー・エバポレーター
上で除去した。固体残渣を真空オーブン中でさらに乾燥させて、ポリエチレン1
4.46g(TO 58M)を得た(NMR:M=5118,64BP/10
00C,末端オレフィン99%;GPC;M=130,M/M=1.8;
=55℃)。
【0446】例153 h16の鉄二塩化物錯体を用いたエチレンの重合 1000mLのParr(登録商標)反応器に、トルエン300mL及び改質M
AO(Akzo Nobel,−[(CH0.7(i−C0.3
lO]−,Al 7.18重量%)を装入した。得られた溶液を60℃に加熱し
、次いで激しく撹拌しながら200psiに加圧した。h16の鉄二塩化物錯体
(Fe 0.011μモル)の溶液を、わずかに反応器を減圧することによって
、注入ループを通して加圧下で添加した。反応混合物を200psiのエチレン
下で60分間撹拌し、次いで高圧下でMeOHによって急冷した。反応器をガス
抜きし、混合物をさらに6M HClで処理した。混合物を濾過して、白色固体
7.97gを得た(NMR:M=664,2BP/1000C,末端オレフィ
ン99%;GPC:M=370,M/M=1.7;T=88℃)。濾液
についてトルエンを用いて液液抽出することよってさらに固体物質が単離された
。有機層を合し、揮発分をロータリー・エバポレーター上で除去した。固体残渣
を真空オーブン中でさらに乾燥させて、ポリエチレン7.49gを得た(GPC
;M=150,M/M=1.3;T=55℃)。総収量15.46g(
TO 50×10)。
【0447】例154 h29のコバルト錯体の調製 配位子h29(3.1mg,5.8μモル)のジクロロメタン中溶液を、Co(
acac)(1.7mg,6.6μモル)の懸濁液に添加した。続いて、Ph CB(C(5.7mg,6.2μモル)を添加し、次いでジクロロ
メタンを添加して、総容量を3.0mLとした。
【0448】例155 例154において調製したh29のコバルト錯体を用いたエチレン重合 1000mLのParr(登録商標)反応器に、トルエン300mL及びMAO
(トルエン中10重量%)2.0mLを装入した。得られた溶液を60℃に加熱
し、次いで激しく撹拌しながら200psiに加圧した。例154において調製
したコバルト錯体(Co 0.20μモル)の溶液を、注入ループを通して加圧
下で添加した。反応混合物を200psiのエチレン下で60分間撹拌し、次い
で高圧下でMeOHによって急冷した。反応器をガス抜きし、混合物をさらに6
M HClで処理した。固体物質を濾過によって単離した(8.77g;GPC
:M=323,000,M=953,000;H NMR:M=15,
251,<1BP/1000C,末端オレフィン17%;T=91℃)。
【0449】例156 h30のコバルト錯体の調製 配位子h30(3.5mg,7.6μモル)のジクロロメタン中溶液を、Co(
acac)(2.9mg,8.1μモル)に添加した。次いで、この溶液にジ
クロロメタン中トリチルテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート(15
.0mg,16.3μモル)を添加した。得られた溶液をジクロロメタンでさら
に希釈して、88nmol/mLの濃度を得た。
【0450】例157 例156において調製したh30のコバルト錯体を用いたエチレン重合 1000mLのParr(登録商標)反応器に、トルエン300mL及びMAO
(トルエン中10重量%)2.0mLを装入した。得られた溶液を60℃に加熱
し、次いで激しく撹拌しながら200psiに加圧した。例156において調製
したコバルト錯体(Co 0.18μモル)の溶液を、注入ループを通して加圧
下で添加した。反応混合物を200psiのエチレン下で60分間撹拌し、次い
で高圧下でMeOHによって急冷した。反応器をガス抜きし、混合物をさらに6
M HClで処理した。固体物質を濾過によって単離した(7.38g;TO
1.5M;H NMR:M>50K,<1BP/1000C,T=138
℃;GPC:M=346,000,M=978,000)。
【0451】例158 例156において調製したh30のコバルト錯体を用いた、水素下におけるエチ レン重合 1000mLのParr(登録商標)反応器に、トルエン300mL、水素50
mL及びMAO(トルエン中10重量%)2.0mLを装入した。得られた溶液
を60℃に加熱し、次いで激しく撹拌しながら200psiに加圧した。例15
6において調製したコバルト錯体(Co 0.17μモル)の溶液を、注入ルー
プを通して加圧下で添加した。反応混合物を200psiのエチレン下で60分
間撹拌し、次いで高圧下でMeOHによって急冷した。反応器をガス抜きし、混
合物をさらに6M HClで処理した。固体物質を濾過によって単離した(1.
51g;H NMR:M=51K,2BP/1000C,末端オレフィン8
3%;GPC:M=22,600,M=60,600;T=139℃)。
濾液について有機抽出を行うことよって第2のフラクションを単離した。合した
有機フラクションを硫酸ナトリウム上で乾燥させ、次いで揮発分を真空下で除去
した。残渣を真空オーブン中で100℃においてさらに乾燥させて、0.13g
を得た。合計単離収量は1.64g(TO 3.51×10)であった。
【0452】例159 h22のコバルト錯体の調製 配位子h22(6.3mg,13μモル)及びPhCB(C(13
.0mg,14.1μモル)のジクロロメタン中溶液をCo(acac)(3
.4mg,14μモル)のジクロロメタン中溶液に添加して、4.3μモル/m
Lの濃度を得た。
【0453】例160 例159において調製したh22のコバルト錯体を用いたエチレン重合 1000mLのParr(登録商標)反応器に、トルエン300mL及びMAO
(トルエン中10重量%)2.0mLを装入した。得られた溶液を60℃に加熱
し、次いで激しく撹拌しながら600psiに加圧した。例159において調製
したコバルト錯体(Co 0.17μモル)の溶液を、注入ループを通して加圧
下で添加した。反応混合物を600psiのエチレン下で60分間撹拌し、次い
で高圧下でMeOHによって急冷した。反応器をガス抜きし、混合物をさらに6
M HClで処理した。固体物質を濾過によって単離した(3.44g;TO
710K;NMR:M>50,000,<1BP/1000C,末端オレフィ
ン51%;T=139℃;GPC:M=372,000,M=859,0
00)。
【0454】例161 h22の鉄錯体の調製 配位子22(3.7mg,7.6μモル)及びPhCB(C(7.
5mg,8.13μモル)のジクロロメタン中溶液を、Fe(acac)(2
.0mg,7.9μモル)のジクロロメタン中溶液に添加して、1.7μモル/
mLの濃度を得た。
【0455】例162 例161において調製したh22のコバルト錯体を用いたエチレン重合 1000mLのParr(登録商標)反応器に、トルエン300mL及びMAO
(トルエン中10重量%)2.0mLを装入した。得られた溶液を60℃に加熱
し、次いで激しく撹拌しながら200psiに加圧した。例161において調製
したコバルト錯体(Fe 0.17μモル)の溶液を、注入ループを通して加圧
下で添加した。反応混合物を200psiのエチレン下で60分間撹拌し、次い
で高圧下でMeOHによって急冷した。反応器をガス抜きし、混合物をさらに6
M HClで処理した。固体物質を濾過によって単離した(2.22g;TO
645K;H NMR:M>50K,1BP/1000C;T=140℃
;GPC:M=24,600,M=96,700)。
【0456】例163 h31の鉄錯体の原液の調製 配位子h31(3.8mg,9.1μモル)のジクロロメタン中溶液を、Fe(
acac)(2.3mg,9.1μモル)及びPhCB(C(8
.5mg,9.2μモル)に添加した。得られた溶液を例164において使用し
た。
【0457】例164 例163において調製したh31の鉄錯体を用いたエチレン重合 300mLのオーブン乾燥フラスコにエチレン下でトルエン(100mL)を装
入した。この溶液にMAO(Aldrich,トルエン中10重量%;1.0m
L)を添加し、次いで例163において調製したh31の鉄錯体(9.1μモル
)のジクロロメタン溶液を添加した。反応溶液を室温で2分間撹拌し、次いで6
M HClによって急冷した。トルエンで抽出することよって生成物を単離した
(2.70g;TO 11,000;T=132℃;H NMR:M=6
190,18BP/1000C,末端オレフィン17%;GPC:M=511
0,M=31,600)。
【0458】例165 例163に記載したのと同様な方法で調製したh31の鉄錯体を用いたエチレン 重合 1000mLのParr(登録商標)反応器に、トルエン300mL及びMAO
(トルエン中10重量%)2.0mLを装入した。得られた溶液を60℃に加熱
し、次いで激しく撹拌しながら200psiに加圧した。鉄錯体(Fe 0.1
6μモル)の溶液を、注入ループを通して加圧下で添加した。直ちに温度が75
℃まで上昇した。反応を66℃で10分行わせ、次いで高圧下でMeOHによっ
て急冷した。反応器をガス抜きし、混合物をさらに6M HClで処理した。固
体物質を濾過によって単離した(14.45g;TO 3.2M)。H NM
R:M=19,600,<1BP/1000C,末端オレフィン92%;GP
C:M=16,100,M/M=7.1;T=138℃)。
【0459】例166 例163に記載したのと同様な方法で調製したh29の鉄錯体を用いたエチレン 重合 1000mLのParr(登録商標)反応器に、トルエン300mL及びMAO
(トルエン中10重量%)2.0mLを装入した。得られた溶液を60℃に加熱
し、次いで激しく撹拌しながら200psiに加圧した。鉄錯体(Fe 0.2
7μモル)の溶液を、注入ループを通して加圧下で添加した。反応混合物を60
分間撹拌し、次いで高圧下でMeOHによって急冷した。反応器をガス抜きし、
混合物をさらに6M HClで処理した。固体物質を濾過によって単離した(7
.52g;TO 985K)。(H NMR:M>75K,<1BP/10
00C;GPC:M=63.9K,M/M=10;T=142℃)。
【0460】例167 h31のコバルト錯体の原液の調製 h31(2.8mg,6.7μモル)のジクロロメタン中溶液を、Co(aca
c)(1.9mg,7.4μモル)及びPhCB(C(6.1m
g,6.6μモル)に添加した。得られた溶液を例168において用いた。
【0461】例168 例167において調製したh31のコバルト錯体を用いたエチレン重合 300mLのオーブン乾燥フラスコにエチレン下でトルエン(100mL)を装
入した。この溶液にMAO(Aldrich,トルエン中10重量%;1.0m
L)を添加し、次いで、例167において調製したh31のコバルト錯体のジク
ロロメタン溶液を添加した。反応溶液を室温で2分間撹拌し、次いで6M HC
lで急冷した。トルエンで抽出することによって生成物を単離した(1.65g
,TO 8790;H NMR:M>50K,<1BP/1000C;T =139℃;GPC:M=99,300,M=196,000)。
【0462】例169 h32の鉄錯体の原液の調製 配位子h32(9.0mg,17μモル)のジクロロメタン中溶液を、Fe(a
cac)(4.4mg,17μモル)及びPhCB(C(16m
g,17μモル)に添加した。得られた溶液を例170において用いた。
【0463】例170 例169において調製したh32の鉄錯体を用いたエチレン重合 300mLのオーブン乾燥フラスコにエチレン下でトルエン(100mL)を装
入した。この溶液にMAO(Aldrich,トルエン中10重量%;1.0m
L)を添加し、次いで、例169において調製したh32の鉄錯体のジクロロメ
タン溶液を添加した。反応溶液を室温で3分間撹拌し、次いで6M HClで急
冷した。トルエンで抽出することによって生成物を単離した(1.05g,TO
2200;NMR:M>50,000,14BP/1000C;GPC:M =4150,M/M=13;T=133℃)。
【0464】例171 例167に記載したのと同様な方法で調製したh33のコバルト錯体を用いたエ チレン重合 300mLのオーブン乾燥フラスコにエチレン下でトルエン(100mL)を装
入した。この溶液にMAO(Aldrich,トルエン中10重量%;1.0m
L)を添加し、次いで、コバルト錯体(5.5μモル)のジクロロメタン溶液を
添加した。反応溶液を室温で3分間撹拌し、次いで6M HClで急冷した。生
成物を濾過によって単離し、さらに真空オーブン中で乾燥させた(1.11g,
TO 7000;H NMR:M>50K,1BP/1000C;GPC:
=134K,M/M=2.3;T=139℃)。
【0465】例172 b20の合成 20mLの試験管に、3,5−ジ−tert−ブチル−2−ヒドロキシベンズア
ルデヒド500mg(2.13ミリモル)、4−アミノモルホリン218mg(
2.13ミリモル)及びCHCl 8mLを添加した。溶液が得られるまで
混合物を超音波処理し、蟻酸2滴を添加した。溶液をヒートガンを用いて穏やか
に還流するまで加熱し、5分間ぐるぐるかき混ぜた。溶液を室温まで冷却させる
と、結晶が形成し始めた。1時間後、結晶を真空濾過によって採取し、冷メタノ
ールで洗浄して、b20を600mg得た。
【0466】例173 h32の合成 Dean−Starkトラップを装着したフレームドライされた2L丸底フラス
コにo−キシレン300mL及びケリダム酸一水和物50g(248.6ミリモ
ル)を添加した。得られたスラリーを4時間撹拌しながら加熱還流し、次いで室
温まで冷却させた。この混合物にPCl 207.1g(994.4ミリモル
)を数回に分けて少量ずつ添加した。得られた溶液を25℃において30分間撹
拌し、次いでさらに1.5時間、撹拌しながら加熱還流した。溶液を室温まで冷
却させ、次いで0℃まで冷却し、1時間かけて無水メタノール300mLをゆっ
くり添加することによって冷却した。この溶液を45分間加熱還流し、過剰のメ
タノールを蒸留によって除去した。完了したらすぐに、混合物を0℃に冷却する
と、ジメチル−4−クロロ−2,6−ピリジンジカルボキシレートが溶液から晶
出した。生成物を真空濾過によって採取し、冷メタノール50mLで洗浄して、
ジメチル−4−クロロ−2,6−ピリジンジカルボキシレート29.9gを生成
した。H NMR(CDCl,300MHz) δ4.03(s,6H),
8.30(s,2H)。500mLの丸底フラスコにジメチル−4−クロロ−2
,6−ピリジンジカルボキシレート900mg(3.9ミリモル)、N,N’−
ジメチルエチレンジアミン1.4mL(13.3ミリモル)及び無水トルエン1
00mLを添加した。得られた溶液を0℃に冷却し、トリメチルアルミニウム(
40.0ミリモル)のトルエン中2M溶液20.0mLを滴加した。この溶液を
14時間撹拌しながら加熱還流し、次いで0℃に冷却した。酒石酸1.65g(
11.0ミリモル)の0.5N NaOH44mL中溶液を添加することによっ
て反応を急冷した。1時間撹拌を続け、得られたスラリーをCeliteを通し
て濾過した。濾液を分液漏斗に移した。2つの層が形成された。有機物質を採取
し、無水KCO上で乾燥させ、濾過し、真空下で濃縮して油を得た。この油
のシリカゲルクロマトグラフィー(ヘキサン中50%塩化メチレン)により、4
−クロロ−2,6−ジアセチルピリジン128mgを得た。H NMR(CD
Cl,300MHz)δ2.77(s,6H),8.16(s,2H)。De
an−Starkトラップを装着した50mL丸底フラスコに無水トルエン20
mL、4−クロロ−2,6−ジアセチルピリジン130mg(0.66ミリモル
)、1−アミノ−2−tert−ブチル−5−イソプロピルピロール235mg
(1.30ミリモル)及びo−トルエンスルホン酸一水和物0.1mgを添加し
た。反応混合物を撹拌及び加熱還流した。6時間後、得られた溶液を室温まで冷
却させ、真空下で油に濃縮した。この油のシリカゲルクロマトグラフィー(ヘキ
サン中33%塩化メチレン)によって、h32が166mg得られた。H N
MR(CDCl,300MHz)δ1.05(d,J=6.5Hz,3H),
1.26(d,J=6.8Hz,3H),1.29(s,9H),2.29(s
,6H),2.41(qu,J=6.8Hz,2H),5.93(d,J=3.
9Hz,2H),5.98(d,J=4Hz,2H),8.53(s,2H)。
【0467】例174 モノヒドラゾン1の合成
【0468】
【化134】
【0469】 Dean−Starkトラップを装着した50mLの丸底フラスコに、無水トル
エン10mL、2,6−ジアセチルピリジン3.17g(19.44ミリモル)
、1−アミノ−2−tert−ブチル−5−イソプロピルピロール700mg(
3.89ミリモル)及びp−トルエンスルホン酸一水和物0.1mgを添加した
。反応混合物を撹拌及び加熱還流した。30分後、得られた溶液を室温まで冷却
させ、真空下で濃縮して油を得た。この油のシリカゲルクロマトグラフィー(ヘ
キサン中10%酢酸エチル)によって、モノヒドラゾン1が959mg得られた
H NMR(CDCl,300MHz)δ1.03(d,J=6.5Hz
,3H),1.27(s,9H),1.27(d,J=6.6Hz,3H),2
.30(s,3H),2.44(qu,J=6.8Hz,1H),2.79(s
,3H),5.91(dd,J=3.8,.8Hz,1H),5.96(dd,
J=3.8,1H),7.99(t,J=7.9Hz,1H),8.18(dd
,J=7.6,1.0Hz,1H),8.58(dd,J=7.8,1.2Hz
,1H)。
【0470】例175 h29の合成 Dean−Starkトラップを装着した50mLの丸底フラスコに、無水トル
エン10mL、モノヒドラゾン1 115mg(0.35ミリモル)、1−アミ
ノ−2−tert−ブチル−4−エトキシカルボニル−5−メチルピロール95
mg(0.42ミリモル)及びp−トルエンスルホン酸一水和物0.1mgを添
加した。反応混合物を撹拌及び加熱還流した。12時間後、得られた溶液を室温
まで冷却させ、真空下で濃縮して油を得た。この油のシリカゲルクロマトグラフ
ィー(ヘキサン中66%塩化メチレン)によって、h29が150mg得られた
H NMR(CDCl,300MHz)δ1.03(d,J=6.6Hz
,3H),1.27(ovrlp,3H),1.27(s,9H),1.28(
s,9H),1.36(t,J=7.2Hz,3H),2.28(s,6H),
2.32(s,3H),2.43(qu,J=6.6Hz,1H),4.28(
q,J=7.2,1.5Hz,2H),5.91(d,J=3.6Hz,1H)
,5.96(d,J=3.6Hz,1H),6.43(s,1H),8.0(t
,J=8.0Hz,1H),8.49(d,J=7.8Hz,1H),8.57
(d,J=7.3Hz,1H)。
【0471】例176 h33の合成 Dean−Starkトラップを装着した50mLの丸底フラスコに、無水トル
エン20mL、モノヒドラゾン1 150mg(0.46ミリモル)、1−アミ
ノ−2−tert−ブチル−4,5−ジメチルピロール77mg(0.46ミリ
モル)及びp−トルエンスルホン酸一水和物2.0mgを添加した。反応混合物
を撹拌及び加熱還流した。6時間後、得られた溶液を室温まで冷却させ、真空下
で濃縮して油を得た。この油のシリカゲルクロマトグラフィー(ヘキサン中33
%塩化メチレン)によって、h33が78mg得られた。H NMR(CDC
,300MHz)δ1.04(d,J=6.5Hz,3H),1.25(d
,J=6.5Hz,3H),1.27(s,18H),1.90(s,3H),
2.05(s,3H),2.28(s,3H),2.36(s,3H),2.4
3(qu,J=6.5Hz,1H),5.83(s,1H),5.91(d,J
=3.9Hz,1H),5.96(d,J=3.7Hz,1H),7.96(t
,J=7.9Hz,1H),8.47(dd,J=7.7,0.7Hz,1H)
,8.52(dd,J=8.0,0.8Hz,1H)。
【0472】例177 h31の合成 Dean−Starkトラップを装着した50mLの丸底フラスコに、無水トル
エン10mL、モノヒドラゾン1 138mg(0.42ミリモル)、1−アミ
ノ−2,5−ジメチルピロール56mg(0.51ミリモル)及びp−トルエン
スルホン酸一水和物2.0mgを添加した。反応混合物を撹拌及び加熱還流した
。12時間後、得られた溶液を室温まで冷却させ、真空下で濃縮して油を得た。
この油のシリカゲルクロマトグラフィー(ヘキサン中5%酢酸エチル)によって
、h31が78mg得られた。H NMR(CDCl,300MHz)δ1
.07(d,J=6.7Hz,3H),1.29(d,J=6.7Hz,3H)
,1.30(s,9H),2.11(s,6H),2.32(s,3H),2.
39(s,3H),2.46(m,1H),5.92(s,2H),5.93(
d,J=3.7Hz,1H),5.98(d,J=3.7Hz,1H),7.9
7(t,J=7.7Hz,1H),8.51(dd,J=7.9,0.8Hz,
1H),8.56(dd,J=7.6,0.9Hz,1H)。
【0473】例178 a51の合成 Dean−Starkトラップを装着した50mLの丸底フラスコに、無水トル
エン10mL、1−アミノ−2,5−ジ−イソ−プロピル−4−エトキシカルボ
ニルピロール400mg(1.70ミリモル)、2,3−ブタンジオン74μL
(0.85ミリモル)及びp−トルエンスルホン酸一水和物5.0mgを添加し
た。得られた溶液を室温において30分撹拌し、次いで60℃に加熱した。12
時間後、この溶液を1時間加熱還流し、室温まで冷却させ、真空下で濃縮して油
を得た。この油のシリカゲルクロマトグラフィー(ヘキサン中10%酢酸エチル
)によって、a51が442mg得られた。H NMR(CDCl,300
MHz)δ1.07(d,J=4.8Hz,6H),1.17(d,J=7.1
Hz,6H),1.27(d,J=6.8Hz,6H),1.32(d,J=7
.2Hz,6H),1.34(t,J=7.0Hz,3H),2.18(s,6
H),2.39(qu,J=6.7Hz,2H),3.75(qu,J=7.3
Hz,2H),4.24(q,J=7.2Hz,4H),6.40(d,J=0
.5Hz,2H)。
【0474】例179 a52の合成 Dean−Starkトラップを装着した50mLの丸底フラスコに、無水トル
エン20mL、1−アミノ−2,5−ジ(1−ナフチル)ピロール330mg(
0.99ミリモル)、2,3−ブタンジオン37μL(0.42ミリモル)及び
p−トルエンスルホン酸一水和物2.0mgを添加した。得られた溶液を室温に
おいて30分撹拌し、次いで60℃に加熱した。6時間後、この溶液を1時間加
熱還流し、室温まで冷却させ、真空下で濃縮して油を得た。この油のシリカゲル
クロマトグラフィー(ヘキサン中10%酢酸エチル)によって、a52が266
mg得られた。H NMR(CDCl,300MHz)δ0.93(s,6
H),6.49(s,4H),7.09(dd,J=7.2,1.2Hz,4H
),7.24(m,4H),7.37(m,4H),7.59(m,4H),7
.76(d,J=8.1Hz,4H),7.82(d,J=8.0Hz,4H)
,8.01(d,J=8.5Hz,4H)。
【0475】例180 モノヒドラゾン2の合成
【0476】
【化135】
【0477】 Dean−Starkトラップを装着した50mLの丸底フラスコに、DMF1
0mL、無水トルエン5mL、1−アミノ−2,5−ジフェニルピロール1.7
5g(6.47ミリモル)、2,3−ブタンジオン5.7mL(64.7ミリモ
ル)及びp−トルエンスルホン酸一水和物10.0mgを添加した。得られた溶
液を室温において30分撹拌し、次いで70℃に加熱した。12時間後、この溶
液を加熱還流し、過剰のジケトン及びトルエンを蒸留によって除去した。反応器
にトルエン(15mL)を添加し、蒸留によって除去した。この溶液を室温まで
冷却させ、真空下で濃縮して油を得た。この油のシリカゲルクロマトグラフィー
(ヘキサン中10%酢酸エチル)によって、モノヒドラゾン2が1.94g得ら
れた。H NMR(CDCl,300MHz)δ1.45(s,3H),2
.57(s,3H),6.48(s,2H),7.24(m,2H),7.35
(m,4H),7.48(m,4H)。
【0478】例181 a53の合成 Dean−Starkトラップを装着した50mLの丸底フラスコに、無水トル
エン15mL、モノヒドラゾン2 255mg(0.84ミリモル)、1−アミ
ノ−2−メチル−5−フェニルピロール145mg(0.84ミリモル)及びp
−トルエンスルホン酸一水和物5.0mgを添加した。得られた溶液を加熱還流
及び撹拌した。12時間後、この溶液を室温まで冷却させ、真空下で濃縮して油
を得た。この油のシリカゲルクロマトグラフィー(ヘキサン中10%酢酸エチル
)によって、a53が208mg得られた。H NMR(CDCl,300
MHz)δ1.72(s,3H),1.86(s,3H),2.05(s,3H
)、6.01(d,J=3.7Hz,1H),6.26(d,J=4.0Hz,
1H),6.47(s,2H),7.26(m,12H),7.44(m,3H
)。
【0479】例182 a54の合成 Dean−Starkトラップを装着した50mLの丸底フラスコに、DMF7
mL、無水トルエン16mL、1−アミノ−2,5−ジフェニルピロール1.2
5g(4.62ミリモル)、2,3−ブタンジオン203μL(2.31ミリモ
ル)及びp−トルエンスルホン酸一水和物2.0mgを添加した。得られた溶液
を70℃に加熱し、撹拌した。4時間後、この溶液を1〜24時間加熱還流した
。この溶液を室温まで冷却させ、真空下で濃縮して油を得た。この油のシリカゲ
ルクロマトグラフィー(ヘキサン中10%酢酸エチル)によって、a54が得ら
れた。H NMR(CDCl,300MHz)δ1.76(s,6H),6
.49(s,4H),7.30(m,12H),7.40(m,8H)。
【0480】例183 b21の合成 1−アミノ−ピロール(500mg,6.25ミリモル)及びサリチルアルデヒ
ド(610mg,5ミリモル)を、セプタムのついた50ml丸底フラスコに量
り入れた。フラスコを乾燥アルゴンガスでパージした。次いで、このフラスコに
、メタノール(10ml)及び蟻酸4滴を添加した。反応を50℃において60
分間撹拌した。1時間後、混合物を0℃に冷却して、結晶固体を得た。分離した
結晶生成物を低温で真空濾過によって採取した。結晶をフィルター上で冷メタノ
ールによって洗浄し、次いで真空下で数時間乾燥させて、562mg(収率68
%)を得た。H NMR:s(OH)δ10.75,s(N=CH)δ8.4
5,m(アリール 4H)δ6.8−7.4,s(ピロリル 4H)δ6.25
【0481】例184 b22の合成 1−アミノ−2,5−ジイソプロピルピロール(693mg,4.2ミリモル)
及び3−(アントラセン−9−イル)−2−ヒドロキシベンズアルデヒド(1.
04g,3.5ミリモル)を、セプタムのついた100ml丸底フラスコに別々
に量り入れた。1−アミノ−2,5−ジイソプロピルピロールはCHCl
2ml及びメタノール2mlに溶解させ、次いで、メタノール(10ml)中化
合物3−(アントラセン−9−イル)−2−ヒドロキシベンズアルデヒドの懸濁
液上に移した。反応を55℃において60分間撹拌した。1時間後、混合物を0
℃に冷却して、黄色結晶固体を得た。分離した結晶生成物を低温で真空濾過によ
って採取した。結晶をフィルター上で冷メタノールによって洗浄し、次いで真空
下で数時間乾燥させて、1.01g(収率65%)を得た。H NMR:s(
OH)δ11.42,s(N=CH)δ8.70,m(アリール 12H)δ7
.2−8.6,s(ピロリル 4H)δ5.95,七重線[CH(CH
δ3.0,[CH(CH]δ1.2。
【0482】例185 b23の合成 1−アミノ−ピロール(750mg、9.375ミリモル)を、3−(アントラ
セン−9−イル)−2−ヒドロキシベンズアルデヒド(1.49g,5ミリモル
)のメタノール50ml中懸濁液を含む50ml丸底フラスコに添加した。フラ
スコをセプタムでシールし、アルゴンで15〜20分間パージした。メタノール
をさらに20ml添加し、混合物を50℃において90分間撹拌した。1.5時
間後、混合物を0℃に冷却して、黄色結晶固体を得た。分離した化粧生成物を低
温で真空濾過によって採取した。結晶をフィルター上で冷メタノールで洗浄し、
次いでCHClに溶解させ、丸底フラスコ中で、Argonaut Tec
hnologyからのトリスアミン掃去用樹脂0.883gと合して、未反応の
アルデヒドを除去した。混合物を一晩穏やかに撹拌し、樹脂を吸引濾過によって
採取した。CHClを真空下で除去して、1.35g(収率75%)を得た
H NMR:s(OH)δ11.08,s(N=CH)δ8.65,m(ア
リール 12H)δ7.2−8.6,s(ピロリル 4H)δ6。
【0483】例186 b6の合成 1−アミノ−ピロール(990mg,12.4ミリモル)及び3、5−ジ−t−
ブチルサリチルアルデヒド(2.54g,10.8ミリモル)を、50ml丸底
フラスコに量り入れ、温メタノール35ml中に溶解させた。次いで、蟻酸(4
滴)をフラスコに添加した。反応を50℃において30分間撹拌した。30分後
、混合物を0℃に冷却して、結晶固体を得た。分離した結晶生成物を低温で真空
濾過によって採取した。結晶をフィルター上で冷メタノールによって洗浄し、次
いでCHClに溶解させ、丸底フラスコ中で、Argonaut Tech
nologyからのトリスアミン掃去用樹脂0.89gと合して、未反応のアル
デヒドを除去した。混合物を一晩穏やかに撹拌し、樹脂を吸引濾過によって採取
した。CHClを真空下で除去して、生成物2gを得た。H NMR:s
(OH)δ10.75,s(N=CH)δ8.45,m(アリール 4H)δ6
.8−7.4,s(ピロリル 4H)δ6.25。
【0484】例187〜例197 Ni(COD)/配位子/B(Cを出発原料とするエチレンの重合 Parr(登録商標)撹拌オートクレーブ(600ml)を動的真空下で約10
0℃に加熱して、反応器を完全に乾燥させた。反応器を冷却し、無水トルエン1
50mlを装入した。不活性雰囲気のグローブボックス中で、電気撹拌棒及びゴ
ムセプタムを装着したフレームドライSchlenkフラスコに、ビス(1,5
−シクロオクタジエン)ニッケル(0) 0.015〜0.036ミリモル、ト
リス(ペンタフルオロフェニル)ボラン0.015〜0.036ミリモル及び配
位子0.015〜0.036ミリモルを1:1:1の比で装入した。フラスコを
ボックスから取り出し、排気し、エチレンを再充填した。トルエン(25〜50
ml)を添加した。5〜60分の予混合後、反応フラスコの内容物を、SSカニ
ューレによってオートクレーブに移した。反応器をシールし、エチレンで400
psigまで加圧し、室温で25℃において30〜120分間撹拌させておいた
。所望の反応時間後、反応器をガス抜きし、内容物を、メタノール/アセトン混
合物を含むビーカー中に注いだ。ポリマーを吸引濾過によって採取し、真空オー
ブン中で〜100℃において一晩乾燥させた。
【0485】
【表7】
【0486】例198 d4を用いたエチレンの重合
【0487】
【化136】
【0488】 Parr(登録商標)撹拌オートクレーブ(600ml)を動的真空下で約10
0℃に加熱して、反応器を完全に乾燥させる。反応器を冷却し、無水トルエン1
50mlを装入する。反応器をエチレンで200psigまで加圧し、ガス抜き
する。反応器に触媒溶液(トルエン2ml中d4 2mg)を添加し、オートク
レーブをシールし、エチレンで200psigまで加圧する。30分後、反応器
をガス抜きし、内容物を、メタノール/アセトン混合物を含むビーカー中に注ぐ
。ポリマーを吸引濾過によって採取し、真空オーブン中で〜100℃において一
晩乾燥させて、ポリエチレンを得る。
【0489】例199 d5によるエチレン重合
【0490】
【化137】
【0491】 Parr(登録商標)撹拌オートクレーブ(600ml)を動的真空下で約10
0℃に加熱して、反応器を完全に乾燥させる。反応器を冷却し、無水トルエン1
50mlを装入する。反応器をエチレンで200psigまで加圧し、ガス抜き
する。反応器に触媒溶液(トルエン2ml中d5 2mg)を添加し、オートク
レーブをシールし、エチレンで200psigまで加圧する。30分後、反応器
をガス抜きし、内容物を、メタノール/アセトン混合物を含むビーカー中に注ぐ
。ポリマーを吸引濾過によって採取し、真空オーブン中で〜100℃において一
晩乾燥させて、ポリエチレンを得る。
【0492】例200 Ni(COD)/b6/B(Cを用いたノルボルネンの重合 不活性雰囲気のグローブボックス中において、電磁撹拌棒及びゴムセプタムを装
着したフレームドライSchelenkフラスコに、ビス(1,5−シクロオク
タジエン)ニッケル(0) 17mg(0.062ミリモル)、トリス(ペンタ
フルオロフェニル)ボラン31.6mg(0.062ミリモル)及び式b6の配
位子18.4mg(0.062ミリモル)を装入した。フラスコをボックスから
取り出し、排気し、アルゴンを再充填した。トルエン(25mL)を添加すると
、オレンジ色の溶液が得られた。重合混合物に、ノルボルネン3gを含むトルエ
ン溶液を添加した。数秒後には、ノルボルネンがポリノルボルネンに転化されて
いた。メタノール及びアセトンを添加して反応を急冷すると、白色の綿状ポリノ
ルボルネンが析出した。ポリマーを吸引濾過によって採取し、真空オーブン中で
〜100℃において一晩乾燥させて、ポリノルボルネン2.8gを得た。M
127,000。
【0493】例201
【0494】
【化138】
【0495】i1及びi2の調製 それぞれ撹拌棒及びゴムセプタムを装着した2つのフレームドライSchlen
kフラスコを不活性雰囲気のグローブボックス中に入れた。フラスコの1つに、
b6を446mg(2eq(当量))装入し、もう一方のフラスコにZr(NM
を200mg添加した。これらのフラスコをグローブボックスから取り
出し、真空/アルゴンマニホールドに取り付け、排気し、アルゴンを再充填した
。塩化メチレンを添加して、2つの透明な溶液を生成した。配位子の溶液を撹拌
しながら、Zr(NMeの塩化メチレン溶液をSSカニューレによって配
位子上に移して、イエロー/オレンジの溶液を得た。混合物を2時間撹拌させて
おいた。その2時間のうち5〜10分間は、セプタムを通してベントニードルを
取り付けて、アルゴン流中のジメチルアミンの除去を助けた。2時間後、溶媒を
真空下で除去して、i2を黄色粉末として生成した(498mgを単離,収率8
6%)。Schlenkフラスコにi2を200mg添加して、トルエン中に溶
解させた。撹拌しながら、トリメチルクロロシラン66μlを滴加し、混合物を
15時間撹拌させておいた。溶媒を真空下で除去して、ガラス状の固体を得た。
この固体をヘキサン中に溶解させてから真空下でヘキサンを除去する操作を3回
行って、i1を乾燥黄色固体として150mg(収率78%)得た。H NM
Rは目的とする錯体と一致している。
【0496】例202〜例211
【0497】
【化139】
【0498】 Parr(登録商標)撹拌オートクレーブ(600ml)を動的真空下で約10
0℃に加熱して、反応器を完全に乾燥させた。反応器を冷却し、無水トルエン1
50ml及び適量の助触媒(例えば、mMAO)を装入した。不活性雰囲気のグ
ローブボックス中で、セプタムキャップのついたバイアルに所望のプロ触媒を装
入した。バイアルをボックスから取り出し、1気圧のアルゴン下に入れ、トルエ
ン中に溶解させた。反応器をシールし、エチレン300〜350psigまで加
圧した。プロ触媒を原液(2ml)として高圧サンプルループによって反応器に
添加すると共に、オートクレーブを400psigに加圧した。エチレン400
psigにおいて15分間撹拌後、高圧においてメタノール2mlの添加によっ
て反応を急冷した。反応器をガス抜きし、内容物を、メタノール/アセトン混合
物を含むビーカー中に注いだ。ポリマーを吸引濾過によって採取し、真空下で〜
100℃において乾燥させた。
【0499】
【表8】
【0500】 mMAO−3A(Akzo Nobel)
【0501】例212 i1によるエチレンと1−ヘキセンとの共重合 Parr(登録商標)撹拌オートクレーブ(600ml)を動的真空下で約10
0℃に加熱して、反応器を完全に乾燥させた。反応器を冷却し、無水トルエン1
00ml、脱酸素化1−ヘキセン50ml及びmMAO 3mlを装入した。不
活性雰囲気のグローブボックス中で、セプタムキャップのついたバイアルにil
を装入した。バイアルをグローブボックスから取り出し、1気圧のアルゴン下に
入れ、トルエン(16ml中2mg)中に溶解させた。反応器をシールし、50
℃に加熱し(20℃発熱)、エチレンで300〜350psigまで加圧した。
プロ触媒を原液(2ml)として高圧サンプルループによって反応器に添加する
と共に、オートクレーブを400psigに加圧した。エチレン400psig
及び60℃において30分間撹拌後、高圧においてメタノール2mlの添加によ
って反応を急冷した。反応器をガス抜きし、内容物を、メタノール/アセトン混
合物を含むビーカー中に注いだ。ポリマーを吸引濾過によって採取し、真空オー
ブン中で〜100℃において一晩乾燥させて、LLDPEを1.8g得た。
NMR 10分岐/炭素原子1000個;M=46,000。
【0502】例213 Ti(NMe、b6及びMeSiClの反応生成物を用いたエチレンの 重合 撹拌棒及びゴムセプタムを装着したフレームドライSchlenkフラスコを、
セプタムキャップのついたバイアルと共に不活性雰囲気のグローブボックス中に
入れた。フラスコに、b6を516mg(2eq)装入し、バイアルにTi(N
Meを250mg添加した。フラスコ及びバイアルをグローブ・ボックス
から取り出し、真空/アルゴンマニホールドに取り付け、アルゴン雰囲気下に置
いた。フラスコ及びセプタムキャップ付きバイアルの両方に塩化メチレン(10
mL)を添加した。配位子の溶液を撹拌しながら、Ti(NMeの塩化メ
チレン溶液をSSカニューレによって配位子上に移して、ディープレッド/オレ
ンジの溶液を得た。混合物を1時間撹拌させておいた。1時間後、溶媒を真空下
で除去して、バーガンディーの固体を得た。得られたバーガンディーの固体をト
ルエン中に溶解させた。撹拌しながら、トリメチルクロロシラン109□lを滴
加し、混合物を15時間撹拌させておいた。溶媒を真空下で除去して、ガラス状
のバーガンディーの固体を得た。この固体を真空下で数時間乾燥させた後、この
物質1mgをトルエン20ml中に溶解させた。Parr(登録商標)撹拌オー
トクレーブ(600ml)を動的真空下で100℃に加熱して、反応器を完全に
乾燥させた。反応器を冷却し、無水トルエン150ml、mMAO 0.14m
lを装入した。反応器をシールし、30℃に加熱し(10℃発熱)、エチレンで
300〜350psigまで加圧した。反応器にプロ触媒を原液(2ml,前に
単離したバーガンディーの固体0.1mg)として高圧サンプルロープによって
添加すると共に、オートクレーブを400psigに加圧した。エチレン400
psig及び40℃において30分間撹拌後、高圧でメタノール2mlの添加に
よって反応を急冷した。反応器をガス抜きし、内容物を、メタノール/アセトン
混合物を含むビーカー中に注いだ。ポリマーを吸引濾過によって採取し、真空オ
ーブン中で〜100℃において一晩乾燥させて、ポリエチレンgを得た。
【0503】例214 b3の合成 1−アミノ−5−tert−ブチル−2−メチル−1H−ピロール−3−カルボ
ン酸エチルエステル(258mg,1.15ミリモル)のトルエン(20.8m
L)中溶液を、ピリジニウムp−トルエンスルホネート(PPTS)(2.5m
g)及び3,5−ジ−t−ブチル−2−ヒドロキシベンズアルデヒド(234m
g,1.0ミリモル)で処理した。Dean Starkトラップ及び還流冷却
器を取り付け、〜7時間、水を共沸除去しながら、得られた溶液を還流した。反
応を室温に冷却し、Ar下に一晩放置した。TLCは、反応が完了していないこ
とを示したので、加熱をさらに2.25時間続け、その後に追加の3,5−ジ−
t−ブチル−2−ヒドロキシベンズアルデヒド(70mg,0.299ミリモル
)を添加し、加熱をさらに2.5時間続けた。得られた溶液を真空下で濃縮した
。残渣をフラッシュクロマトグラフィー(SiO,2〜15% EtOAc/
ヘキサン類)によって精製して、b3(326mg,74%)を得た。H N
MR(CDCl,TMSを基準とした化学シフト(ppm)):1.326(
s,9H),1.330(s,9H),1.359(t,3H,J=6.9Hz
),4.286(q,2H,J=7.1Hz),7.124(d,1H,J=2
.5Hz),7.552(d,2H,J=2.2Hz),8.422(s,1H
),11.447(s,1H);電界脱離質量分析:m/z 440。
【0504】例215 b24の合成 3−アントラセン−9−イル−2−ヒドロキシ−ベンズアルデヒド(394mg
,1.32ミリモル)を1−アミノ−2,5−ジイソプロピル−1H−ピロール
−3−カルボン酸エチルエステル(436mg,1.83ミリモル)のトルエン
中溶液で処理し、次いで、MP−TsOH(Argonaut Technol
ogies,22mg,3モル% H)で処理した。Ar下で反応を111℃
に加熱し、1.5時間撹拌した。TLCは、反応が起こらなかったことを示した
。混合物をp−TsOH(11mg,2.5重量%)で処理し、さらに1.5時
間、111℃に加熱し、次いで、PS−トリスアミン樹脂(NH 5モル当量
)で処理し、さらに2時間撹拌させておいた。混合物を濾過し、真空下で濃縮し
た。H NMRは、残渣がb24と出発アミノピロールを約5:1の比(前者
対後者)で含むことを示した。従って、粗製混合物をトルエン(5mL)中に溶
解させ、3−アントラセン−9−イル−2−ヒドロキシ−ベンズアルデヒド(1
06mg,0.355ミリモル)及びp−TsOH(2.8mg)で処理し、1
.5時間110℃に加熱し、その後、反応を室温に冷却し、PS−トリスアミン
樹脂(出発アルデヒドに基づき5当量)で処理した。得られたスラリーを室温で
一晩撹拌し、濾過し、真空下で濃縮した。残渣を結晶化(ヘキサン類/CH
)によって精製して、少量のヘキサン類の混入したb24(341mg)を
得た:H NMR(CDCl,TMSを基準とした化学シフト(ppm))
:0.861〜0.905(m,ヘキサン類),1.181(d,6H,J=6
.6Hz),1.26(bs,ヘキサン類),1.316(d,6H,J=6.
9Hz),1.350(t,3H,J=7.1Hz),2.837(sep,1
H,J=6.9Hz),3.650(sep,1H,J=7.1Hz),4.2
65(q,2H,J=7.1Hz),6.374(s,1H),7.379〜7
.595(m,7H),7.688(d,2H,J=8.5Hz),8.082
(d,2H,J=8.5Hz),8.561(s,1H),8.604(s,1
H),11.157(s,1H)。
【0505】例216 置換サリチルアルデヒド由来配位子の代表的合成。b26の合成 1−アミノ−2−メチル−5−フェニル−1H−ピロール−3−カルボン酸エチ
ルエステル(238mg,0.975ミリモル)のトルエン(17.6mL)中
溶液を、PPTS(2.4mg,1重量%)及び3,5−ジ−t−ブチル−2−
ヒドロキシベンズアルデヒド(208mg,0.89ミリモル)で処理した。還
流冷却器を取り付け、得られた溶液を1.5時間加熱還流した。反応を室温に冷
却し、真空下で濃縮した。残渣をフラッシュクロマトグラフィー(SiO,3
0〜60% CHCl/ヘキサン類)によって精製して、b26(190m
g,46%)を得た。H NMR(DMSO):1.231(s,9H),1
.284(t,3H,J=7.1Hz),1.379(s,9H),2.557
(s,3H),4.224(q,2H,J=6.9Hz),6.673(s,1
H),7.257〜7.439(m,7H),8.789(s,1H),11.
173(s,1H);電界脱離質量分析:m/z 460。
【0506】例217 b25の合成 例216の方法に従って、トルエン中p−TsOH(3重量%)、1−アミノ−
5−(2,4−ジメトキシ−フェニル)−2−イソプロピル−1H−ピロール−
3−カルボン酸エチルエステル(1.0当量)及び3−アントラセン−9−イル
−2−ヒドロキシ−ベンズアルデヒド(1.2当量)からb25を調製した。過
剰のアルデヒドを、室温において7時間、PS−トリスアミン樹脂(Argon
aut Technologies)との反応によって除去し、次いで濾過し、
真空下で濃縮した。残渣をフラッシュクロマトグラフィー(SiO,5〜25
% EtOAc/ヘキサン)によって精製して、b25を得た。H NMR(
CDCl,TMSを基準とした化学シフト(ppm)):1.298(d,6
H,J=7.1Hz),1.335(t,3H,J=7.1Hz),3.601
(s,3H),3.856(s,3H),3.953(sep,1H,J=7.
1Hz),4.261(q,2H,J=7.1Hz),6.410(d,1H,
J=2.2Hz),6.576(dd,1H,J=2.2Hz,J=8.2Hz
),6.606(s,1H),7.025〜7.107(m,2H),7.33
3〜7.394(m,4H),7.441〜7.495(m,2H),7.60
7(d,2H,J=8.2Hz),8.070(d,2H,J=8.5Hz),
8.142(s,1H),8.542(s,1H),11.229(s,1H)
【0507】例218 h28の合成 2−イソプロピル−5−o−トリル−ピロル−1−イルアミン(60mg,0.
279ミリモル)のトルエン(5.76mL)中溶液を、2,6−ジアセチルピ
リジン(21.7mg,0.133ミリモル)及びp−TsOH(1.2mg)
で処理した。得られた溶液を油浴中、Ar下において4.5時間還流させながら
撹拌し、次いで室温に冷却した。溶媒を真空下で除去し、残渣をフラッシュクロ
マトグラフィー(SiO,5〜25% EtOAc/ヘキサン類)によって精
製して、少量のEtOAc及びヘキサンの混入したh28(41mg,56%)
を得た:H NMR(CDCl,TMSを基準とした化学シフト(ppm)
):1.222(d,12H,J=6.9Hz),1.825(s,6H),2
.330(s,6H),2.864(sep,2H,J=6.9Hz),6.0
68(d,2H,J=3.8Hz),6.146(d,2H,J=3.8Hz)
,7.039〜7.200(m,8H),7.827(t,1H,J=7.7H
z),8.26(d,2H,J=7.7Hz);電界脱離質量分析:m/z 5
55。
【0508】例219 代表的なジケトエステルの合成。エチル2−アセチル−5,5−ジメチル−4− オキソ−ヘキサノエートの調製 アセト酢酸エチル(1g,7.68ミリモル)を、NaH(鉱油中60%,33
8mg,8.45ミリモル)のトルエン(20mL)中懸濁液に滴加した。得ら
れた懸濁液を室温で10分間撹拌し、次いで1−ブロモピナコロン(1.3g,
7.32ミリモル)で処理した。混合物を75℃の油浴に浸漬し、Ar下で1時
間撹拌した。反応を室温に冷却し、トルエンで希釈し、HOで洗浄した(2×
50mL)。有機層をNaSO上で乾燥させ、濾過し、真空下で濃縮して、
精製されていない粗製エチル2−アセチル−5,5−ジメチル−4−オキソ−ヘ
キサノエート(1.46g)を得た:H NMR(CDCl,TMSを基準
とした化学シフト(ppm)):1.166(s,9H),1.277(t,3
2H,J=7.1Hz),2.368(s,3H),3.000(dd,1H,
J=5.8Hz,J=18.4Hz),3.231(dd,1H,J=8.2H
z,J=18.4Hz),4.010(dd,1H,J=5.8Hz,J=8.
2Hz),4.191(q,2H,J=7.1Hz);電界脱離質量分析:m/
z 229(M+1)。
【0509】例220 保護された1−アミノピロール誘導体の代表的合成。o1の調製
【0510】
【化140】
【0511】 2−アセチル−5,5−ジメチル−4−オキソ−ヘキサン酸エチルエステル(1
.29g,5.65ミリモル)、ヒドラジンカルボン酸2−トリメチルシラニル
−エチルエステル(1g,5.67ミリモル)及びp−TsOH(21mg)の
トルエン(10.2mL)中溶液を、2時間、水を共沸除去しながら、加熱還流
し、次いで室温に冷却し、真空下で濃縮した。残渣をフラッシュクロマトグラフ
ィー(SiO,CHCl)によって精製して、o1(1.28g,62%
)を白色固体として得た:H NMR(CDCl,TMSを基準とした化学
シフト(ppm)):−0.019&0.066(2つの幅広い一重線,異性体
の混合物,9H),0.913〜1.094(m,2H),1.297(s,9
H),2.375&2.383(2つの一重線,異性体の混合物,3H),4.
177〜4.341(m,4H),6.237&6.247(2つの一重線,異
性体の混合物,1H),7.007&7.060(2つの一重線,異性体の混合
物,1H)。
【0512】例221 4−エトキシカルボニル置換保護ピロールの代表的LAH還元。o2の調製
【0513】
【化141】
【0514】 o1(241.2mg,0.65ミリモル)の無水THF(1.5mL)中溶液
をLAH(74mg,1.95ミリモル)で処理した。得られた懸濁液を室温に
おいてAr下で2日間撹拌し、EtO(5mL)で希釈し、HO(74μL
)、NaOH(HO中15%w/v、74μL)及びHO(222μL)で
急冷した。得られた懸濁液を室温で30分間撹拌し、次いでポリエチレンフリッ
トを通して濾過した。濾液を真空下で濃縮し、残渣をフラッシュクロマトグラフ
ィー(SiO,5〜25% EtOAc/ヘキサン)によって精製して、o2
(142mg,70%)を得た:H NMR(CDCl,TMSを基準とし
た化学シフト(ppm)):−0.003&0.077(2つの一重線,9H,
異性体の混合物),0.962〜1.091(m,2H),1.299(s,9
H),1.971(s,3H),2.002(s,3H),4.233〜4.3
37(m,4H),5.670(s,1H),7.038&7.341(2つの
一重線,1H,異性体の混合物)。
【0515】例222 トリメチルシリルエトキシカルボニル−保護1−アミノピロール誘導体の代表的 脱保護。1−アミノ−2−tert−ブチル−4,5−ジメチルピロールの調製 o2(141mg,0.45ミリモル)を、TBAF(TBAFはテトラブチル
アンモニウムフルオリドを意味する)のTHF中溶液(1M溶液,0.90mL
,0.90ミリモル)で処理した。得られた溶液を室温で一晩撹拌し、氷酢酸(
51.5μL)で急冷し、真空下で濃縮した。残渣をトルエン(5mL)中に溶
解し、PS−TsOH(PS−TsOHはArgonaut Technolo
giesからのアレーンスルホン酸官能基を有するポリスチレン樹脂を意味する
;H 1.45ミリモル/g,1g)で処理した。懸濁液を室温で1時間撹拌
し、次いで、シリカゲルのショートプラグを通して濾過し、トルエン(50mL
)で溶離した。濾液を真空下で濃縮して、1−アミノ−2−tert−ブチル−
4,5−ジメチルピロールを白色固体として得た(45mg,60%)。
NMR(CDCl,TMSを基準とした化学シフト(ppm)):1.426
(s,9H),2.029(s,3H),2.148(s,3H),4.255
(s,2H),5.621(s,1H)。
【0516】例223 h30の合成 2,6−ジアセチルピリジン(79.9mg,0.49ミリモル)及び5−te
rt−ブチル−2,3−ジメチル−ピロル−1−イルアミン(159mg,0.
956ミリモル)をトルエン(10.6mL)中に溶解させ、p−TsOH(〜
8mg)で処理した。得られた溶液を室温においてAr下で10分間撹拌し、次
いで油浴中で加熱還流した。2時間、水を共沸除去しつつ、混合物を還流させな
がら撹拌し、次いで室温に冷却し、真空下で濃縮した。残渣をフラッシュクロマ
トグラフィー(SiO,5% EtOAc/ヘプタン)によって精製して、h
30(116mg,51%)を得た:H NMR(CDCl,TMSを基準
とした化学シフト(ppm)):1.278(s,18H),1.911(s,
6H),2.059(s,6H),2.375(s,6H),5.831(s,
2H),7.928(t,1H,J=8.0Hz),8.456(d,2H,J
=8.0Hz)。
【0517】例224 h19の調製 2,6−ジアセチルピリジン(176mg)及び1−アミノ−2−フェニル−5
−メチルピロール(420mg)を、20mLのシンチレーションバイアル中の
メタノール(10mL)とジクロロメタン(4滴)との混合物中に溶解させた。
蟻酸1滴を添加し、次いで溶媒容量を窒素ガス流下で6mLに減少させた。黒ず
んだ色の油が沈降した。バイアルを穏やかに加温して、透明な溶液を生成し、次
いで室温に放置した。16時間後、黄色の結晶と黒ずんだ油が分離した。溶媒を
真空下で除去して、残渣をシリカゲル上でクロマトグラフ処理(EtOAc/ヘ
キサン)して、生成物を黄色結晶粉末(285mg)として得た。
【0518】例225 3−ナフタレン−1−イル−3−オキソ−プロピオン酸エチルエステルの合成 マロン酸エチルカリウム(ethyl potassium malonate
)(3.4g,20.0ミリモル)のアセトニトリル(30.6mL)中懸濁液
を、EtN(3.11mL,22.3ミリモル)及びMgCl(2.38g
,25.0ミリモル)で処理した。得られた懸濁液を室温で2.5時間撹拌し、
次いで1−ナフトイルクロリド(1.55mL,10.3ミリモル)で処理し、
室温においてAr下で一晩撹拌した。アセトニトリルを真空下で除去し、トルエ
ン(14mL)を添加し、懸濁液を再び濃縮した。残渣をトルエン(14mL)
中に懸濁させ、12%HCl水溶液(14.1mL)で洗浄した。有機層を除去
し、NaSO上で乾燥させ、濾過し、真空下で濃縮した。残渣をフラッシュ
クロマトグラフィー(SiO,10% EtOAc/ヘプタン)によって精製
して、3−ナフタレン−1−イル−3−オキソ−プロピオン酸エチルエステル(
1.65g,66%)をケト/エノール異性体の3.5:1混合物として得た: H NMR(CDCl,TMSを基準とした化学シフト(ppm)):1.
21(t,3H,ケトン異性体,J=7.1Hz),1.36(3h,エノール
異性体,J=7.1Hz),4.11(s,2H,ケトン異性体),4.20(
q,2H,ケトン異性体,J=7.4Hz),4.32(q,2H,エノール異
性体,J=7.4Hz),5.50(s,1H,エノール異性体),7.46〜
7.68(m,3H),7.88(d,1H,J=8.1Hz),7.92(d
,1H,J=7.3Hz),8.03(d,1H,J=8.1Hz),8.36
(d,1H,エノール異性体,J=8.1Hz),8.76(d,1H,J=8
.1Hz);電界脱離質量分析:m/z 242。
【0519】例226 2−(ナフタレン−1−カルボニル)−4−オキソ−4−フェニル酪酸エチルエ ステルの合成
【0520】
【化142】
【0521】 NaH(鉱油中60%,323mg,8.07ミリモル)のトルエン(20mL
)中懸濁液を、3−ナフタレン−1−イル−3−オキソ−プロピオン酸エチルエ
ステル(1.63g,6.7ミリモル)で処理した。得られた懸濁液を室温にお
いてAr下で1時間撹拌し、次いで2−ブロモセトフェノン(1.61g,8.
07ミリモル)で処理した。懸濁液を70℃の油浴中に浸漬し、Ar下で4時間
撹拌し、室温に冷却し、トルエンで希釈し、HO及びブラインで洗浄した。有
機層をNaSO上で乾燥させ、濾過し、真空下において濃縮した。残渣をフ
ラッシュクロマトグラフィー(SiO,10〜20% EtOAc/ヘプタン
)によって精製して、少量の未確認芳香族不純物が混入した2−(ナフタレン−
1−カルボニル)−4−オキソ−4−フェニル−酪酸エチルエステル(1.2g
)を得た:1H NMR(CDCl,TMSを基準とした化学シフト(pp
m)):1.03(t,3H,J=7.25Hz),3.72(dd,1H,J
=18.8Hz,J=5.4Hz),3.96(dd,1H,J=18.8Hz
,J=8.05Hz),4.09(m,2H),5.16(m,1H),7.4
5〜7.63(m,6H),7.88(d,1H,J=7.9Hz),8.0〜
8.07(m,3H),8.24(d,1H,J=7.2Hz),8.48(d
,1H,J=8.7Hz)。
【0522】例227 2−ナフタレン−1−イル−5−フェニル−1−(2−トリメチルシラニル−エ トキシカルボニルアミノ)−1H−ピロール−3−カルボン酸エチルエステルの 合成
【0523】
【化143】
【0524】 2−(ナフタレン−1−カルボニル)−4−オキソ−4−フェニル酪酸エチルエ
ステル(1g,2.77ミリモル)のトルエン(6.5mL)中溶液を、ヒドラ
ジンカルボン酸2−トリメチルシラニル−エチルエステル(599mg,3.3
4ミリモル)及びp−トルエンスルホン酸(33mg)で処理した。Ar下で6
時間、水を共沸除去しながら(Dean Starkトラップ)得られた溶液を
加熱還流し、室温に冷却し、真空下で濃縮して、2−ナフタレン−1−イル−5
−フェニル−1−(2−トリメチルシラニル−エトキシカルボニルアミノ)−1
H−ピロール−3−カルボン酸エチルエステル(1.33g)を得た。これは精
製せずに、直ちに次の反応に用いた。
【0525】例228 1−アミノ−2−ナフタレン−1−イル−5−フェニル−1H−ピロール−3− カルボン酸エチルエステルの合成
【0526】
【化144】
【0527】 2−ナフタレン−1−イル−5−フェニル−1−(2−トリメチルシラニル−エ
トキシカルボニルアミノ)−1H−ピロール−3−カルボン酸エチルエステル(
608mg,1.3ミリモル)を、TBAFのTHF中溶液(1M溶液2.66
mL,2.7ミリモル)で処理した。得られた溶液を室温においてAr下で一晩
撹拌した。反応を氷酢酸(145μL,2.5ミリモル)で急冷し、シリカゲル
のショートプラグを通し、トルエンで溶離した。濾液を真空下で濃縮して、1−
アミノ−2−ナフタレン−1−イル−5−フェニル−1H−ピロール−3−カル
ボン酸エチルエステル(434mg)を生成した。これは精製せずに、直ちに次
の反応に用いた。
【0528】例229 1−[2−(2,5−ジフェニル−ピロル−1−イルイミノ)−1−メチル−プ ロピリデンアミノ]−2−ナフタレン−1−イル−5−フェニル−1H−ピロー ル−3−カルボン酸エチルエステルa66の合成
【0529】
【化145】
【0530】 1−アミノ−2−ナフタレン−1−イル−5−フェニル−1H−ピロール−3−
カルボン酸エチルエステル(434mg,1.22ミリモル)のトルエン(7.
2mL)中溶液を、3−(2,5−ジフェニル−ピロル−1−イルイミノ)ブタ
ン−2−オン(308mg,1.02ミリモル)及びp−トルエンスルホン酸(
8mg)で処理した。Dean Starkトラップを取り付け、18時間、水
を共沸除去しながら、得られた溶液をAr下で加熱還流し、次いで追加のp−ト
ルエンスルホン酸(8mg)を添加し、さらに75分間、水の共沸除去を続けた
。溶液を室温に冷却し、真空下で濃縮した。残渣をTHF/酢酸(10/1)に
溶解させ、PS−TsNHNH樹脂(Argonaut Technolog
ies,1.039g,2.6ミリモル)で処理した。懸濁液をAr下で一晩撹
拌し、次いでポリエチレンフリットを通して濾過し、真空下で濃縮した。残渣を
フラッシュクロマトグラフィー(SiO,50〜100% CHCl/ヘ
プタン)で精製して、1−[2−(2,5−ジフェニル−ピロル−1−イルイミ
ノ)−1−メチル−プロピリデンアミノ]−2−ナフタレン−1−イル−5−フ
ェニル−1H−ピロール−3−カルボン酸エチルエステルa66(240mg,
37%)を得た:1H NMR(DMSO,TMSを基準とした化学シフト,
80℃):0.82(t,3H,J=7.3Hz),1.08(s,3H),1
.74(s,3H),3.91(q,2H,J=6.9Hz),6.42(s,
2H),7.03(s,1H),7.11(d,4H,J=7.3Hz),7.
18(t,4H,J=7.3Hz),7.22〜7.25(m,2H),7.3
2〜7.37(m,5H),7.39〜7.41(m,2H),7.44〜7.
47(m,2H),7.53(d,1H,J=8.2Hz),7.93(t,2
H,J=8.7Hz)。
【0531】例230 4,4”−ビス−トリフルオロメチル−[1,1’;3’,1”]テルフェニル −2’−イルアミンの合成
【0532】
【化146】
【0533】 テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0)(66mg,0.06
ミリモル)のトルエン(8mL)中懸濁液を、2,6−ジブロモアニリン(50
0mg,2.0ミリモル)、水性NaCO(2M,3.98mL)及び4−
トリフルオロメチルフェニルボロン酸(831mg,4.4ミリモル)で処理し
た。得られた懸濁液を、110℃の油浴中に浸漬し、Ar下で22時間撹拌した
。懸濁液を室温に冷却し、エーテルで抽出した。有機層をブラインで洗浄し、N
SO上で乾燥させ、真空下で濃縮した。残渣をフラッシュクロマトグラフ
ィー(SiO,2.5〜5.0% EtOAc/ヘプタン)によって精製して
、4,4”−ビス−トリフルオロメチル−[1,1’;3’,1”]テルフェニ
ル−2’−イルアミン(713mg,93%)を得た:H NMR(CDCl ,TMSを基準とした化学シフト(ppm)):6.93(t,1H,J=7
.3Hz),7.14(d,2H,J=7.3Hz),7.64(d,4H,J
=8.0Hz),7.74(d,4H,J=8.0Hz)。
【0534】例231 N,N’−ビス−(4,4”−ビス−トリフルオロメチル−[1,1’;3’, 1”]テルフェニル−2’−イル)−オキサルアミドの合成
【0535】
【化147】
【0536】 4,4”−ビス−トリフルオロメチル−[1,1’;3’,1”]テルフェニル
−2’−イルアミン(700mg,1.84ミリモル)のピリジン(5mL)中
溶液を、塩化オキサリル(73μL,0.837ミリモル)で処理した。得られ
た懸濁液を室温においてAr下で一晩撹拌し、次いでHO中に注いだ。沈殿物
を濾過し、HOで洗浄し、真空下で乾燥させた。得られた固体をトルエン/ヘ
プタンから結晶化させ、次いでトルエンから再結晶させて、N,N’−ビス−(
4,4”−ビス−トリフルオロメチル−[1,1’;3’,1”]テルフェニル
−2’−イル)−オキサルアミド(430mg)を得た。
【0537】例232 ,N−ビス(4,4”−ビス−トリフルオロメチル−[1,1’;3’, 1”]テルフェニル−2’−イル)−オキサロジイミドイル二塩化物の合成
【0538】
【化148】
【0539】 N,N’−ビス−(4,4”−ビス−トリフルオロメチル−[1,1’;3’,
1”]テルフェニル−2’−イル)−オキサルアミド(419mg,0.513
ミリモル)のトルエン(4.1mL)中懸濁液を、室温においてPCl(40
8mg,1.96ミリモル)で処理した。得られた懸濁液を60℃の油浴中に浸
漬し、Ar下で6.5時間撹拌し、次いでさらに1時間80℃に加熱した。黄色
溶液を室温に冷却し、エーテル(5mL)で希釈し、HO(10mL)及びN
aHCO飽和水溶液で洗浄した。有機層をNaSO上で乾燥し、濾過し、
真空下で濃縮して、N,N−ビス−(4,4”−ビス−トリフルオロメチル
−[1,1’;3’,1”]テルフェニル−2’−イル)−オキサロジイミドイ
ル二塩化物(401mg,92%)を黄色固体として生成した:7.33(d,
4H,J=8.4Hz),7.38(m,3H),7.50(d,4H,J=8
.4Hz);電界脱離質量分析:m/z 852。
【0540】例233 2,3−ビス−(2,6−ビス(4−トリフルオロメチルフェニル)フェニルイ ミノ)−[1,4]ジチアン V10の合成
【0541】
【化149】
【0542】 エタンジチオール(264μL,3.15ミリモル)をシリンジによって、Na
H(75.6mg,油中60%,1.89ミリモル)のTHF(5mL)中懸濁
液に添加した。得られた懸濁液を室温においてAr下で15分間撹拌し、次いで
,N−ビス(4,4”−ビス−トリフルオロメチル−[1,1’;3’,
1”]テルフェニル−2’−イル)−オキサロジイミドイル二塩化物(401m
g,0.471ミリモル)のTHF(5mL)中溶液で処理した。懸濁液をAr
下で一晩撹拌し、次いで、TLCによって測定したときにビス−イミドイルクロ
リドが残らなくなるまで(45分)、65℃に加熱した。反応を室温に冷却し、
Oで急冷し、トルエンで抽出した。有機層をNaSO上で乾燥させ、濾
過し、真空下で濃縮した。残渣をヘプタン/CHClから結晶化させて、2
,3−ビス−(2,6−ビス−(4−トリフルオロメチルフェニル)フェニルイ
ミノ)−[1,4]ジチアン V10(260mg,63%)を黄色固体として
得た:H NMR(CDCl,TMSを基準とした化学シフト(ppm))
:2.06(bs,4H),7.32〜7.42(m,8H),7.49(bs
,7H);電界脱離質量分析:m/z 875。
【0543】例234 2,3−ビス−(2,6−ジフェニル−フェニルイミノ)−[1,4]ジチアン V9の合成
【0544】
【化150】
【0545】 2,3−ビス−(2,6−ジフェニル−フェニルイミノ)−[1,4]ジチアン
V9を、例233に記載したのと同様な条件を用いて調製した。これを、ヘプタ
ン及び熱エタノールで洗浄することによって精製して、2,3−ビス−(2,6
−ジフェニル−フェニルイミノ)−[1,4]ジチアンV9を得た:H NM
R(DMSO,TMSを基準とした化学シフト(ppm)):2.21(s,4
H),7.21〜7.39(m,26H)。
【0546】例235〜241 配位子V1、V2、V3、V4、V5、V6、V8及びV12の合成
【0547】
【化151】
【0548】 配位子V1〜V6、V8及びV12を、例233に記載したのと同様な条件を用
いて調製した。
【0549】
【表9】
【0550】 全てのスペクトルは、特に断らない限りCDCl中で記録。 全ての化学シフトは、TMSを基準としてppmで報告。
【0551】例242 配位子V1からのプロ触媒原液の調製 :配位子V1(34.1mg,0.045
ミリモル)、Ni(II)アセチルアセトネート(9.8mg,0.038ミリ
モル)及びトリフェニルカルベニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボ
レート(34.8mg,0.038ミリモル)を、不活性雰囲気のドライボック
ス中において、Schlenk管中で合した。混合物をドライボックスから取り
出し、不活性雰囲気下においてCHCl(7.0mL)で処理して、ダーク
レッドのプロ触媒原液を得た。
【0552】例243〜319 例242において調製した型のプロ触媒によるエチレン重合 電磁撹拌棒を装着し且つセプタムキャップのついたSchlenkフラスコ(2
00mL、500mLまたは1000mL)を排気し、それにエチレンを再充填
し、次いで無水脱酸素化トルエン(100mL)及びMAOのトルエン中10重
量%溶液(4.0mL)を装入した。必要容量のプロ触媒溶液(例242に記載
したようにして、下表に示した配位子から調製)を添加して、下表に示した量の
Niを得た。混合物を下表に示した温度において1atmのエチレン下で撹拌し
、ポリエチレン沈殿物が観察された。表中に示した反応時間の後、アセトン(5
0mL)、メタノール(50mL)及び6N HCl水溶液(100mL)の添
加によって混合物を急冷した。膨潤ポリエチレンを真空濾過によって単離し、水
、メタノール及びアセトンで洗浄し、次いで100℃において16時間、減圧乾
燥させて、下記表に示した量のポリエチレンを生成した。
【0553】
【表10】
【0554】
【表11】
【0555】
【表12】
【0556】 触媒注入前に、表面下にH60mL注入 触媒注入前に、表面下にH50mL注入 触媒注入前に、表面下にH100mL注入 触媒注入前に、表面下にH25mL注入 溶媒600mL 助触媒としてDEACを使用 溶媒300mL 溶媒としてミネラルスピリット 触媒注入前に、表面下にH10mL注入 溶媒としてトルエン90mLを使用 重合に1−ヘキセン10mL添加 80℃において5分、0℃において15分 80℃において5分、0℃において5分、23℃において5分 60℃において25分、0℃において5分、23℃において18分
【0557】例320 配位子V11の調製
【0558】
【化152】
【0559】 例233に記載したのと同様な反応条件を用いて、2,3−ビス−(2,6−ジ
フェニル−4−メチル−フェニルイミノ)−[1,4]ジチアンV11を調製し
た;H NMR(CDCl,TMSを基準とした化学シフト(ppm)):
2.36(s,4H),2.41(s,6H),7.16〜7.23(m,24
H)。
【0560】例321 配位子a67の調製 例229に記載したのと同様な反応条件を用いて、5−tert−ブチル−1−
[2−(2,5−ジメチル−ピロル−1−イルイミノ)−1−メチル−プロピリ
デンアミノ]−2−メチル−1H−ピロール−3−カルボン酸エチルエステルa
67を調製した;H NMR(CDCl,TMSを基準とした化学シフト(
ppm)):1.28(s,9H),1.37(t,3H,J=6.9Hz),
2.07(s,6H),2.16(s,3H),2.26(s,3H),2.2
7(s,3H),4.26〜4.33(m,2つの異性体,2H),5.93(
s,2H),6.44(s,3H)。
【0561】例322 aa1の合成
【0562】
【化153】
【0563】 ゴムセプタム及び撹拌棒を装着したフレームドライSchlenkフラスコに
、ニッケル(II)アセチルアセトネート128mg(0.5ミリモル)を装入
した。塩化メチレン(10ml)を添加し、次いで2,3−ビス(2,6−ジフ
ェニルイミノ)−[1,4]ジチアンの塩化メチレン溶液[CHCl10m
l中300mg(0.5ミリモル)]を添加して、茶色の溶液を得た。2分間撹
拌後、PhCB(Cの塩化メチレン溶液を添加して、赤色の溶液を
得た。混合物を1.5時間撹拌させておいた。溶媒を真空下で除去して、油状固
体を得た。この油状固体をジエチルエーテル5mlに吸収させた。ヘキサン15
mlを添加すると、目的化合物が一部分沈殿した。溶媒を真空下で除去して、赤
色粉末を得た。この赤色固体を、EtO/ヘキサン溶液で洗浄した。洗浄を繰
り返し、得られた固体をEtO/CHClの1:1溶液に吸収させた。赤
色溶液上にヘキサンを重層し、混合物を−78℃に冷却し、一晩放置した。放置
により赤色固体が形成され、上清をフィルターカニューレで除去した。得られた
結晶固体を動的真空下で数時間乾燥させて、赤色結晶固体374mgを得た。 H NMRは目的錯体と一致していた。
【0564】例323 aa1+mMAOによるエチレンの重合 Parr(登録商標)撹拌オートクレーブ(600ml)を動的真空下で約10
0℃に加熱して、反応器を完全に乾燥させた。反応器を冷却し、無水トルエン1
50ml及びmMAO(Akzo Nobel)1mlを装入した。不活性雰囲
気のグローブボックス中で、セプタムキャップのついたバイアルにaa1を3m
g装入した。バイアルをボックスから取り出し、バイアルにCHClを20
ml添加した。反応器をシールし、エチレンで150psigまで加圧し、60
℃に加熱した。aa1のこの溶液を2ml(0.3mg,2.1×10−7モル
)、バイアルから取り出し、高圧サンプルループによってオートクレーブに添加
すると共に、オートクレーブを200psigに加圧した。エチレン200ps
ig及び60℃において15分間撹拌後、高圧においてメタノール2mlを添加
することによって反応を急冷した。反応器をガス抜きし、メタノール/アセトン
混合物を含むビーカー中に内容物を注いだ。ポリマーを吸引濾過によって採取し
、〜100℃において真空オーブン中で一晩乾燥させて、ポリエチレン8.9g
を得た(触媒のターンオーバー6,100,000/時)。
【0565】例324 aa1+mMAOによるエチレンの重合 Parr(登録商標)撹拌オートクレーブ(600ml)を動的真空下で約10
0℃に加熱して、反応器を完全に乾燥させた。反応器を冷却し、無水トルエン1
50ml及びmMAO(Akzo Nobel)1mlを装入した。不活性雰囲
気のグローブボックス中で、セプタムキャップのついたバイアルにaa1を3m
g装入した。バイアルをボックスから取り出し、バイアルにCHClを20
ml添加した。反応器をシールし、エチレンで150psigまで加圧し、10
0℃に加熱した。aa1のこの溶液を2ml(0.3mg,2.1×10−7
ル)バイアルから取り出し、高圧サンプルループによってオートクレーブに添加
すると共に、オートクレーブを200psigに加圧した。エチレン200ps
ig及び100℃において15分間撹拌後、高圧においてメタノール2mlを添
加することによって反応を急冷した。反応器をガス抜きし、メタノール/アセト
ン混合物を含むビーカー中に内容物を注いだ。ポリマーを吸引濾過によって採取
し、〜100℃において真空オーブン中で一晩乾燥させて、ポリエチレン2.4
gを得た(触媒のターンオーバー1,600,000/時)。GPC分析:Mn
=309,000;PDI=3.16。H NMR 13分岐/炭素1000
個。
【0566】例325 aa1のシリカ担持触媒の調製 撹拌棒及びゴムセプタムを装着したフレームドライSchlenkフラスコを
、aa1 14.3mg(9.94×10−7モル)及びGrace Davi
son 2402シリカ1gと共に不活性雰囲気のグローブボックス中に入れた
。フラスコをグローブボックスから取り出し、真空/アルゴンマニホールドに取
り付け、排気し、アルゴンを再充填した。固体混合物に1,2−ジフルオロベン
ゼン5mlを添加した。得られた懸濁液を0℃において45分間撹拌した。溶媒
を真空下で除去して、目的担持触媒875mgを得た(触媒担持量10μモル/g
(シリカ))。
【0567】例326 aa1のシリカ担持触媒の調製 撹拌棒及びゴムセプタムを装着したフレームドライSchlenkフラスコを
、Grace Davison 2402シリカ1gと共に不活性雰囲気のグロ
ーブボックス中に入れた。フラスコをグローブボックスから取り出し、真空/ア
ルゴンマニホールドに取り付け、排気し、アルゴンを再充填した。固体にaa1
28.6mg(20μモル)をCHCl中溶液(合計5ml)として添加
した。得られた懸濁液を室温で30分間撹拌した。溶媒を真空下で除去して、目
的担持触媒889mgを得た(触媒担持量20μモル/g(シリカ))。
【0568】例327 aa1のシリカ担持触媒の調製 撹拌棒及びゴムセプタムを装着したフレームドライSchlenkフラスコを
、Grace Davison 2402シリカ1gと共に不活性雰囲気のグロ
ーブボックス中に入れた。フラスコをグローブボックスから取り出し、真空/ア
ルゴンマニホールドに取り付け、排気し、アルゴンを再充填した。固体にaa1
14.3mg(10μモル)をCHCl中溶液(合計5ml)として添加
した。得られた懸濁液を室温で30分間撹拌した。溶媒を真空下で除去して、目
的担持触媒905mgを得た(触媒担持量10μモル/g(シリカ))。
【0569】例328 aa1のシリカ担持触媒の調製 撹拌棒及びゴムセプタムを装着したフレームドライSchlenkフラスコを
、Grace Davison 2402シリカ1gと共に不活性雰囲気のグロ
ーブボックス中に入れた。フラスコをグローブボックスから取り出し、真空/ア
ルゴンマニホールドに取り付け、排気し、アルゴンを再充填した。固体にaa1
57.2mg(40μモル)をCHCl中溶液(合計5ml)として添加
した。得られた懸濁液を室温で30分間撹拌した。溶媒を真空下で除去して、目
的担持触媒911mgを得た(触媒担持量40μモル/g(シリカ))。
【0570】例329〜333 現場活性化プロトコルを用いたエチレンの気相重合 Parr(登録商標)撹拌オートクレーブ(600ml)を動的真空下で約1
00℃に加熱して、反応器を完全に乾燥させた。不活性雰囲気下のグローブボッ
クス中で、反応器を冷却し、〜300gのNaCl及びaa1の担持プロ触媒を
装入した。反応器をシールし、グローブボックスから取り出し、アルゴン雰囲気
下に置いた。反応器を60℃に加熱し、トリメチルアルミニウムを、トルエンま
たはヘキサン中溶液として添加した。反応器をエチレンで200psigまで急
速に加圧し、撹拌させた。反応器をガス抜きし、内容物をビーカーに注いだ。水
中で塩/ポリマー混合物をブレンドすることによってポリマーを単離させた。得
られたポリエチレンを採取し、真空オーブン中で〜100℃において一晩乾燥さ
せた。
【0571】
【表13】
【0572】例334〜342
【0573】
【化154】
【0574】分子量を調節するためのHの存在下におけるエチレンの重合 Parr(登録商標)撹拌オートクレーブ(600ml)を動的真空下で約10
0℃に加熱して、反応器を完全に乾燥させた。反応器を冷却し、無水トルエン1
50ml、mMAO(Al 7.14重量%;Akzo Nobel)1ml及
びHガスを装入した。不活性雰囲気のグローブボックス中で、セプタムキャッ
プのついたバイアルに2.1×10−6モルのaa1またはz1を装入した。バ
イアルをボックスから取り出し、バイアルにCHClを20ml添加した。
反応器をシールし、エチレンで150psigまで加圧し、60℃に加熱した。
この触媒溶液を2ml(触媒2.1×10−7モル)、バイアルから取り出し、
高圧サンプルループによってオートクレーブに添加すると共に、オートクレーブ
を200psigに加圧した。エチレン200psig及び60℃において15
分間撹拌後、高圧においてメタノール2mlを添加することによって反応を急冷
した。反応器をガス抜きし、メタノール/アセトン混合物を含むビーカー中に内
容物を注いだ。ポリマーを吸引濾過によって採取し、真空オーブン中で〜100
℃において一晩乾燥させた。
【0575】
【表14】
【0576】 これらのデータは、本発明の触媒、特に第24及びそれ以降の側面の触媒が、
水素の存在下において重合を行ったときに、α−ジイミン触媒z1よりも劇的に
少ない阻害または失活を示しながらも、比較的低分子量のポリマーを生成するこ
とを示している。
【0577】例343〜346 例242において調製した型のプロ触媒を用いたエチレン重合 電磁撹拌棒を装着し且つセプタムキャップのついたSchlenkフラスコ(2
00mL,500mLまたは1000mL)を排気し、これにエチレンを再充填
し、次いで無水脱酸素化トルエン(100mL)及びMAOのトルエン中10重
量%溶液(4.0mL)を装入した。必要量のプロ触媒溶液(例242と同様に
して、表中に示した配位子から調製)を添加して、下表に示した量のNiを得た
。混合物を1atmのエチレン下で、下表に示した温度において撹拌し、ポリエ
チレンの沈殿を観察した。示された反応時間の後、アセトン(50mL)、メタ
ノール(50mL)及び6N HCl水溶液(100mL)の添加によって混合
物を急冷した。膨潤したポリエチレンを真空濾過によって単離し、水、メタノー
ル及びアセトンで洗浄し、次いで100℃において減圧下で16時間乾燥させて
、下表に示した量のポリエチレンを得た。
【0578】
【表15】
【0579】 プロ触媒注入前にH 30mLを表面下に添加した。
【0580】例347 配位子V1、Ni(acac)、PhCB(C及びMAOから調 製した触媒を用いた57℃、208psigにおけるエチレン重合 1L Parr(登録商標)オートクレーブ,Model 4520を、0.6
トルの真空下で180℃において16時間加熱することによって乾燥させ、次い
で冷却し、乾燥窒素を再充填した。オートクレーブに、無水脱酸素化トルエン(
450mL)及びMAOのトルエン中10重量%溶液(Aldrich(登録商
標))4.0mLを装入し、50℃に加熱し、エチレンで80psigに加圧し
た。次いで、無水脱酸素化CHCl 9.375mLと配位子V1(29.
4mg)、Ni(acac)(10.4mg)、PhCB(C
36.2mg)及び無水脱酸素化CHCl 5.0mLから調製した原液0
.625mLとから調製したプロ触媒の原液2.0mLを、サンプルループを用
いて注入し、エチレンで約200psigに加圧した。混合物をエチレン下で約
208psigの平均圧力及び57℃の平均温度で80分間撹拌し、その後、圧
力を抜き、オートクレーブを開け、ポリマーをMeOH及び6N HCl水溶液
で処理し、濾過によって単離して、白色の部分結晶ポリエチレン60.3g(C 2.1×10モル/モル(Ni)を得た。
【0581】例348 配位子V1、Ni(acac)、PhCB(C及びMAOから調 製した触媒を用いた84℃、270psigにおけるエチレン重合 重合反応温度が84℃、圧力がエチレン270psigであり、反応が、7.1
分でMeOH 2.0mLをサンプルループ注入することによって急冷した以外
は、例347に用いたのと同様な手法に従った。これによって、触媒1.0μモ
ルからポリエチレン20.0gが得られた(C 700,000モル/モ
ル(Ni)。これは、C 5.9×10モル/モル(Ni)/時の速度
に相当する。GPC:M=779,000,M/M=1.88。
【0582】例349 配位子a54、Ni(acac)、PhCB(C及びMAOから 調製した触媒を用いた64℃、260psigにおけるエチレン重合 配位子がa54であり、重合反応温度が64℃であり、圧力がエチレン260p
sigであり且つ反応を、5.0分でMeOH 2.0mLをサンプルループに
よって注入することによって冷却した以外は、例348に用いたのと同様な手法
に従った。これによって、触媒0.4μモルからポリエチレン24.3gが得ら
れた(C 2.2×10モル/モル(Ni)。これは、C 2.
6×10モル/モル(Ni)/時の速度に相当する。GPC:M=73,0
00,M/M=1.97。H NMR:分岐2個/1000C;末端オレ
フィン100%(実験誤差範囲内)。
【0583】例350 配位子V1を含む不均一触媒の調製 V1(37.8mg,50.0μモル)、Ni(acac)(12.8mg,
49.9μモル)及びPhCB(C(46.5mg,50.4μモ
ル)を装入したバイアルに、1,2−ジフルオロベンゼン3.0mLを添加した
。得られた溶液を一晩撹拌した(約18時間)。次いで、この溶液を0℃におい
てシリカ(1.0g;PQ Corporation,MS−3030;500
SCCM ヘリウム下で600℃において乾燥)に滴加した。次に、フラスコ
を室温まで加温し、1時間真空を適用して揮発分を除去した。次いで、フラスコ
を氷水浴で0℃に冷却し戻し、適当に撹拌しながら、ジエチルアルミニウムクロ
リド(2.7mL,ヘキサン類中1.0M)を滴加した。揮発分を真空下で0℃
において90分間除去した。得られた茶色の固体を−30℃において窒素下に貯
蔵した。
【0584】例351 例350において調製した触媒を用いたエチレンの重合 触媒送出装置に、例350で調製した触媒(58.6mg,Ni 2.2μモル
)を装入し、これを1000mLのParr(登録商標)反応器のヘッドに取り
付けた。装置を真空下に置いた。次いで、反応器に、予め真空中で120℃にお
いて数時間乾燥しておいたNaCl(325g)を装入し、反応器を閉め、排気
し、窒素を充填し戻した。続いて、塩をトリメチルアルミニウム(10mL,ト
ルエン中2.0M)で処理し、60℃において30分間撹拌した。次いで、反応
器をエチレン200psigで加圧し、大気圧まで減圧する操作を4回行った。
次に、適当に撹拌しながら、反応器中に触媒を加えた。反応を62℃において4
時間続けさせてから、反応器をガス抜きした。反応器の内容物を水洗することに
よって、ポリマーを単離した。単離されたポリマーをさらに、メタノール中6M
HClで処理し、メタノールですすぎ、真空下で乾燥させて、51.2gを得
た(TO 630K,ポリマー875g/g(シリカ);H NMR:M
50K,BP 6/1000C;T=125℃)。
【0585】例352 例350において調製した触媒を用いた、水素の存在下におけるエチレンの重合 触媒送出装置に、例350で調製した触媒(47.7mg,Ni 1.8μモル
)を装入し、これを1000mLのParr(登録商標)反応器のヘッドに取り
付けた。装置を真空下に置いた。次いで、反応器に、予め真空中で120℃にお
いて数時間乾燥しておいたNaCl(348g)を装入し、反応器を閉め、排気
した。次いで、反応器をエチレン200psigで加圧し、大気圧まで減圧する
操作を3回行った。続いて、塩をトリメチルアルミニウム(10mL,ヘキサン
類中2.0M)で処理し、60℃において30分間撹拌した。反応器を再び、エ
チレン200psigで加圧し、大気圧まで減圧する操作を3回行った。続いて
、水素(150mL)を反応器に添加した。次に、適当に撹拌しながら、反応器
中に触媒を加えた。反応を56℃において4時間続けさせてから、反応器をガス
抜きした。反応器の内容物を水洗することによって、ポリマーを単離した。単離
されたポリマーをさらに、メタノール中6M HClで処理し、メタノールです
すぎ、真空下で乾燥させて、3.41gを得た(TO 67.7K,ポリマー7
1g/g(シリカ);GPC:M=159K,M/M=3.0;T=1
23℃)。
【0586】例353 配位子V1を含む不均一触媒の調製 V1 20.2μモル、Ni(acac)及びPhCB(Cを含
む1,2−ジフルオロベンゼン溶液(3.0mL)を、0℃においてシリカ(2
.0g;Grace Davison,XPO−2402)に滴加した。次いで
、フラスコを室温まで加温し、1時間真空を適用して揮発分を除去した。次に、
フラスコを氷水浴で0℃に冷却し戻し、適当に撹拌しながら、ジエチルアルミニ
ウムクロリド(2.7mL,ヘキサン類中1.0M)を滴加した。揮発分を真空
下で0℃において90分間除去した。得られた固体を−30℃において窒素下で
貯蔵した。
【0587】例354 例353において調製した触媒を用いたエチレンの重合 触媒送出装置に、例353で調製した触媒(205mg,Ni 1.9μモル)
を装入し、これを1000mLのParr(登録商標)反応器のヘッドに取り付
けた。装置を真空下に置いた。次いで、反応器に、予め真空中で120℃におい
て数時間乾燥しておいたNaCl(329g)を装入し、反応器を閉め、排気し
、窒素を充填し戻した。続いて、塩をトリメチルアルミニウム(10mL,トル
エン中2.0M)で処理し、60℃において30分間撹拌した。次いで、反応器
をエチレン200psigで加圧し、大気圧まで減圧する操作を4回行った。次
に、適当に撹拌しながら、反応器中に触媒を加えた。反応を63℃において90
分間続けさせてから、反応器をガス抜きした。反応器の内容物を水洗することに
よって、ポリマーを単離した。単離されたポリマーをさらに、メタノール中6M
HClで処理し、メタノールですすぎ、真空下で乾燥させて、45.8gを得
た(TO 857K,ポリマー224g/g(シリカ);H NMR:M
50K,8BP/1000C;T=122℃)。
【0588】例355 配位子V1を含む不均一触媒の調製 V1(37.7mg,49.9μモル)、Ni(acac)(12.8mg,
49.9μモル)及びPhCB(C(46.1mg,50.0μモ
ル)を装入したバイアルに、1,2−ジフルオロベンゼン3.0mLを添加した
。得られた溶液を一晩撹拌した(約18時間)。次いで、この溶液を0℃におい
てシリカ(1.02g;PQ Corporation,MS−3030;50
0 SCCM ヘリウム下で600℃において乾燥)に滴加した。次に、フラス
コを室温まで加温し、90分間真空を適用して揮発分を除去した。得られたブリ
ックレッドの固体を−30℃において窒素下で貯蔵した。
【0589】例356 例355において調製した触媒を用いたエチレンの重合 触媒送出装置に、例355で調製した触媒(44.1mg,Ni 2.2μモル
)を装入し、これを1000mLのParr(登録商標)反応器のヘッドに取り
付けた。装置を真空下に置いた。次いで、反応器に、予め真空中で120℃にお
いて数時間乾燥しておいたNaCl(328g)を装入し、反応器を閉め、排気
し、窒素を充填し戻した。続いて、塩をトリメチルアルミニウム(10mL,ヘ
キサン中2.0M)で処理し、60℃において30分間撹拌した。次いで、反応
器をエチレン200psigで加圧し、大気圧まで減圧する操作を3回行った。
次に、適当に撹拌しながら、反応器中に触媒を加えた。反応を86℃において4
時間続けてさせてから、反応器をガス抜きした。反応器の内容物を水洗すること
によって、ポリマーを単離した。単離されたポリマーをさらに、メタノール中6
M HClで処理し、メタノールですすぎ、真空下で乾燥させて、48.0gを
得た(TO 777K,ポリマー1100g/g(シリカ);GPC:M=1
,300,000,M/M=2.0;T=112℃)。
【0590】例357 配位子a54を含む不均一触媒の調製 a54(26.0mg,50.1μモル)、Ni(acac)(12.8mg
,49.9μモル)及びPhCB(C(46.1mg,50.0μ
モル)を装入したバイアルに、1,2−ジフルオロベンゼン3.0mLを添加し
た。得られた溶液を一晩撹拌した(約18時間)。次いで、この溶液を0℃にお
いてシリカ(992mg;PQ Corporation,MS−3030;5
00 SCCM ヘリウム下で600℃において乾燥)に滴加した。次に、フラ
スコを室温まで加温し、90分間真空を適用して揮発分を除去した。得られたブ
リックレッドの固体を−30℃において窒素下で貯蔵した。
【0591】例358 例357において調製した触媒を用いたエチレンの重合 触媒送出装置に、例357で調製した触媒(94mg,Ni 4.7μモル)を
装入し、これを1000mLのParr(登録商標)反応器のヘッドに取り付け
た。装置を真空下に置いた。次いで、反応器に、予め真空中で120℃において
数時間乾燥しておいたNaCl(320g)を装入し、反応器を閉め、排気し、
窒素を充填し戻す操作を3回行った。続いて、塩をトリメチルアルミニウム(1
0mL,ヘキサン中2.0M)で処理し、60℃において30分間撹拌した。次
いで、反応器をエチレン200psigで加圧し、大気圧まで減圧する操作を3
回行った。次に、適当に撹拌しながら、反応器中に触媒を加えた。反応を58℃
において3.5時間続けさせてから、温度を80℃に上昇させた。反応を合計5
.5時間続けさせた。反応器の内容物を水洗することによって、ポリマーを単離
した。単離されたポリマーをさらに、メタノール中6M HClで処理し、メタ
ノールですすぎ、真空下で乾燥させて、2.52gを得た(TO 18,700
,ポリマー27g/g(シリカ);GPC:M=45,500;M/M
4.6;T=118℃)。
【0592】例359 配位子V9を含む不均一触媒の調製 V9(30.1mg,49.9μモル)、Ni(acac)(13.1mg,
50.1μモル)及びPhCB(C(46.2mg,50.1μモ
ル)を装入したバイアルに、1,2−ジフルオロベンゼン3.0mLを添加した
。得られた溶液を一晩撹拌した(約18時間)。次いで、この溶液を0℃におい
てシリカ(996mg;PQ Corporation,MS−3030;50
0 SCCM ヘリウム下で600℃において乾燥)に滴加した。次に、フラス
コを室温まで加温し、90分間真空を適用して揮発分を除去した。得られた固体
を−30℃において窒素下に貯蔵した。
【0593】例360 例359において調製した触媒を用いた、水素の存在下におけるエチレンの重合 触媒送出装置に、例359で調製した触媒(54.4mg,Ni 2.8μモル
)を装入し、これを1000mLのParr(登録商標)反応器のヘッドに取り
付けた。装置を真空下に置いた。次いで、反応器に、予め真空中で120℃にお
いて数時間乾燥しておいたNaCl(313g)を装入し、反応器を閉め、排気
した。次いで、反応器を排気し、窒素(1atm)を充填し戻す操作を3回行っ
た。続いて、塩をトリメチルアルミニウム(10mL,ヘキサン類中2.0M)
で処理し、80℃において30分間撹拌した。次いで、反応器をまた、エチレン
200psigで加圧し、大気圧まで減圧する操作を3回行った。続いて、水素
(100mL)を反応器に添加した。次に、適当に撹拌しながら、反応器中に触
媒を加えた。反応を83℃において4時間続けさせてから、反応器をガス抜きし
た。反応器の内容物を水洗することによって、ポリマーを単離した。単離された
ポリマーをさらに、メタノール中6M HClで処理し、メタノールですすぎ、
真空下で乾燥させて、7.61gを得た(TO 98K,ポリマー137g/g
(シリカ);H NMR:M>75K,12BP/1000C;GPC:M =52.5K,M/M=3.3)。
【0594】例361 配位子a54を含む不均一触媒の調製 a54(7.8mg,15μモル)、Ni(acac)(3.9mg,15μ
モル)及びPhCB(C(13.8mg,15.0μモル)を装入
したバイアルに、1,2−ジフルオロベンゼン0.5mLを添加した。得られた
溶液を一晩撹拌した(約18時間)。次いで、この溶液を0℃においてシリカ(
229mg;Grace Davison XPO−2402)に滴加した。次
に、フラスコを室温まで加温し、90分間真空を適用して揮発分を除去した。得
られた茶色の固体を−30℃において窒素下で貯蔵した。
【0595】例362 例361において調製した触媒を用いたエチレンの重合 触媒送出装置に、例361で調製した触媒(44mg,Ni 2.2μモル)を
装入し、これを1000mLのParr(登録商標)反応器のヘッドに取り付け
た。装置を真空下に置いた。次いで、反応器に、予め真空中で120℃において
数時間乾燥しておいたNaCl(348g)を装入し、反応器を閉め、排気し、
窒素を充填し戻す操作を3回行った。続いて、塩をトリメチルアルミニウム(8
mL,ヘキサン中2.0M)で処理し、60℃において30分間撹拌した。次い
で、反応器をエチレン(約200psig)で加圧し、大気圧まで減圧する操作
を4回行った。次に、適当に撹拌しながら、反応器中に触媒を加えた。反応を6
0℃において4時間続けさせた。反応器の内容物を水洗することによって、ポリ
マーを単離した。単離されたポリマーをさらに、メタノール中6M HClで処
理し、メタノールですすぎ、真空下で乾燥させて、15.7gを得た(TO 2
54K,ポリマー355g/g;GPC:M=110,000,M/M
4.2;H NMR:M>75,000K,10BP/1000C)。
【0596】例363 配位子V1を含む不均一触媒の調製 V1(37.9mg,50.2μモル)、Ni(acac)(12.9mg,
50.2μモル)及びPhCBF(16.6mg,50.3μモル)を装入
したバイアルに、1,2−ジフルオロベンゼン1.6mLを添加した。得られた
溶液を一晩撹拌した(約18時間)。次いで、この溶液を0℃においてシリカ(
0.985g;Grace Davison XPO−2402)に滴加した。
次に、フラスコを室温まで加温し、2.5時間真空を適用して揮発分を除去した
。得られたブリックレッドの固体を−30℃において窒素下で貯蔵した。
【0597】例364 例363において調製した触媒を用いたエチレンの重合 触媒送出装置に、例363で調製した触媒(45.4mg,Ni 2.3μモル
)を装入し、これを1000mLのParr(登録商標)反応器のヘッドに取り
付けた。装置を真空下に置いた。次いで、反応器に、予め真空中で120℃にお
いて数時間乾燥しておいたNaCl(323g)を装入し、反応器を閉め、排気
し、窒素を充填し戻した。続いて、塩をトリメチルアルミニウム(10mL,ヘ
キサン中2.0M)で処理し、80℃において20分間撹拌した。次いで、反応
器を200psigのエチレンで加圧し、大気圧まで減圧する操作を3回行った
。次に、適当に撹拌しながら、反応器中に触媒を加えた。反応を80℃において
2.5時間続けさせてから、反応器をガス抜きした。反応器の内容物を水洗する
ことによって、ポリマーを単離した。単離されたポリマーをさらに、メタノール
中6M HClで処理し、メタノールですすぎ、真空下で乾燥させて、ポリマー
1.84gを得た(GPC:M=219,000,M/M=4.7)。
【0598】例365 例361において調製した触媒を用いたエチレンの重合 触媒送出装置に、例361で調製した触媒(74.2mg,Ni 3.8μモル
)を装入し、これを1000mLのParr(登録商標)反応器のヘッドに取り
付けた。装置を真空下に置いた。次いで、反応器に、予め真空中で120℃にお
いて数時間乾燥しておいたNaCl(345g)を装入し、反応器を閉め、排気
し、窒素を充填し戻した。続いて、塩をトリメチルアルミニウム(10mL,ヘ
キサン中2.0M)で処理し、60℃において30分間撹拌した。次いで、反応
器を200psigのエチレンで加圧し、大気圧まで減圧する操作を3回行った
。次いで、水素ガス(50mL)を注入した。次に、適当に撹拌しながら、圧力
をかけて反応器中に触媒を加えた。反応を59℃において200psigのC下で4時間続けさせてから、反応器をガス抜きした。反応器の内容物を水洗
することによって、ポリマーを単離した。単離されたポリマーをさらに、メタノ
ール中6M HClで処理し、メタノールですすぎ、真空下で乾燥させて、11
.2gを得た(ポリエチレン151g/g(SiO);C 106,0
00モル/モル(Ni);H NMR:8BP/1000C;GPC:M
78,000,M/M=2.5)。
【0599】例366 例361に記載したのと同様な手法を用いて調製した触媒を用いたエチレンの重 触媒送出装置に、例361に記載したのと同様な手法を用いて調製した触媒(9
2.3mg,Ni 0.69μモル)のSylopol 2100中14.9重
量%分散液を装入した。この場合、Grace Davison Sylopo
l 2100、使用したシリカそのものに、ニッケル濃度が50μモル/g(シリ
カ)となるように個々の成分を含む溶液を入れた。この触媒送出装置を1000
mLのParr(登録商標)反応器のヘッドに取り付けた。装置を真空下に置い
た。次いで、反応器に、予め真空中で120℃において数時間乾燥しておいたN
aCl(278g)を装入し、反応器を閉め、排気し、窒素を充填し戻した。続
いて、塩をトリメチルアルミニウム(10mL,ヘキサン中2.0M)で処理し
、60℃において30分間撹拌した。次いで、反応器を200psigのエチレ
ンで加圧し、大気圧まで減圧する操作を3回行った。次に、適当に撹拌しながら
、反応器中にエチレン圧下で触媒を加えたところ、17℃発熱した。反応を75
℃において200psigのC下で60分間続けさせてから、反応器をガ
ス抜きした。反応器の内容物を水洗することによって、ポリマーを単離した。単
離されたポリマーをさらに、メタノール中6M HClで処理し、メタノールで
すすぎ、真空下で乾燥させて、19.2gを得た(ポリエチレン1400g/g
(担持触媒);C 991,000モル/モル(Ni);H NMR:
7BP/1000C;GPC:M=89,900,M/M=3.0)。
【0600】例367 例361に記載したのと同様な手法を用いて調製した触媒を用いたエチレンの重 触媒送出装置に、例361に記載したのと同様な手法を用いて調製した触媒(5
5mg,Ni 82nmol)のSylopol 2100中3.0重量%分散
液を装入した。この場合、Grace Davison Sylopol 21
00、使用したシリカそのものに、ニッケル濃度が50μモル/g(シリカ)とな
るように個々の成分を含む溶液を入れた。この触媒送出装置を1000mLのP
arr(登録商標)反応器のヘッドに取り付けた。装置を真空下に置いた。次い
で、反応器に、予め真空中で120℃において数時間乾燥しておいたNaCl(
350g)を装入した。反応器を閉め、約50psiの窒素で加圧し、大気圧ま
で減圧する操作を数回行った。続いて、塩をトリメチルアルミニウム(10mL
,ヘキサン中2.0M)で処理し、57℃において30分間撹拌した。次いで、
反応器を200psigのエチレンで加圧し、大気圧まで減圧する操作を3回行
った。次に、適当に撹拌しながら、反応器中にエチレン圧下で触媒を加えた。反
応を60℃において100psigのC下で4時間続けさせてから、反応
器をガス抜きした。反応器の内容物を水洗することによって、ポリマーを単離し
た。単離されたポリマーをさらに、メタノール中6M HClで処理し、メタノ
ールですすぎ、真空下で乾燥させて、2.49gを得た(ポリエチレン1500
g/g(担持触媒);C 1,100,000モル/モル(Ni);
NMR:12BP/1000C;GPC:M=72,300,M/M
3.2)。
【0601】例368 例322において調製したニッケル錯体を含む不均一触媒の調製 aa1のジクロロメタン溶液(0.75mL,2.5μモル)を、0℃において
適当に撹拌しながら、Grace Davison XPO−2402(5.0
g)に滴加した。固体を室温にし、フラスコを90分間、真空下に置いて、揮発
分を除去した。得られた固体はそのまま、次の重合反応に用いた。
【0602】例369 例368において調製した触媒を用いたエチレンの重合 触媒送出装置に、例368において調製した触媒(1.07g,Ni 0.54
μモル)を装入し、1000mLのParr(登録商標)反応器のヘッドに取り
付けた。装置を真空下に置いた。次いで、反応器に、予め真空中で120℃にお
いて数時間乾燥しておいたNaCl(354g)を装入した。反応器を閉め、窒
素(約40psi)で加圧し、大気圧まで減圧する操作を10回行った。続いて
、塩をトリメチルアルミニウム(10mL,ヘキサン中2.0M)で処理し、8
6℃において30分間撹拌した。次いで、反応器を200psigのエチレンで
加圧し、大気圧まで減圧する操作を5回行った。次に、適当に撹拌しながら、反
応器中に触媒を加えると、6℃発熱した。反応を88℃において60分間続けさ
せてから、反応器をガス抜きした。反応器の内容物を水洗することによって、ポ
リマーを単離した。単離されたポリマーをさらに、メタノール中6M HClで
処理し、メタノールですすぎ、真空下で乾燥させて、10.4gを得た(C 620,000モル/モル(Ni)。H NMR(o−ジクロロベンゼン
):13分岐点/炭素1000個。
【0603】例370 例322において調製したニッケル錯体を含む不均一触媒の調製 aa1のジクロロメタン溶液(0.75mL,2.5μモル)を、0℃において
適当に撹拌しながら、Grace Davison XPO−2402(5.0
g)に滴加した。固体を室温にし、フラスコを約60分間、真空下に置いて、揮
発分を除去した。前記操作をさらに9回繰り返して、シリカ上最終ニッケル担持
量を5.0μモル/gとした。得られた固体はそのまま、次の重合反応に用いた
【0604】例371 例370において調製した触媒を用いたエチレンの重合 触媒送出装置に、例370において調製した触媒(540mg,Ni 2.7μ
モル)を装入し、1000mLのParr(登録商標)反応器のヘッドに取り付
けた。装置を真空下に置いた。次いで、反応器に、予め真空中で120℃におい
て数時間乾燥しておいたNaCl(281g)を装入した。反応器を閉め、窒素
(約40psi)で加圧し、大気圧まで減圧する操作を10回行った。続いて、
塩をトリメチルアルミニウム(10mL,ヘキサン中2.0M)で処理し、84
℃において30分間撹拌した。次いで、反応器を200psigのエチレンで加
圧し、大気圧まで減圧する操作を5回行った。次に、適当に撹拌しながら、反応
器中に触媒を加えると、温度が100℃まで上昇した。反応を94℃において3
0分間続けさせてから、反応器をガス抜きした。反応器の内容物を水洗すること
によって、ポリマーを単離した。単離されたポリマーをさらに、メタノール中6
M HClで処理し、メタノールですすぎ、乾燥させて、24.8gを得た(C 320Kモル/モル(Ni)。
【0605】例372
【0606】
【化155】
【0607】(2,5−ジフェニル−ピロル−1−イル)−カルバミン酸tert−ブチルエ ステルの合成 ジベンゾイルエタン(5g,21.0ミリモル)及びt−ブチルカルバゼート(
3.98g,30.1ミリモル)のEtOH(170mL)及びAcOH(21
mL)中溶液を、Ar下で4.5時間加熱還流し、室温に冷却し、水(400m
L)で希釈した。得られた懸濁液を室温においてAr下で3時間撹拌し、次いで
室温で一晩沈降させた。固体を濾過し、水を少しずつ用いて洗浄し、真空下で乾
燥させて、(2,5−ジフェニル−ピロル−1−イル)−カルバミン酸tert
−ブチルエステル(6.72g,96%)を白色固体として得た:H NMR
(CDCl,TMSを基準とした化学シフト(ppm)):1.14(s,3
H),1.38(s,6H),6.35(s,2H),6.84(bs,2H)
,7.29〜7.53(m,10H)。
【0608】例373 2,5−ジフェニル−ピロル−1−イルアミンの合成 (2,5−ジフェニル−ピロル−1−イル)カルバミン酸tert−ブチルエス
テル(3.7g,11.06ミリモル)の無水メタノール(25mL)中懸濁液
を氷水浴中で0℃に冷却し、次いで濃HCl(9.86mL)で処理した。氷浴
を外し、得られた懸濁液を油浴中で1.5時間加熱還流した。室温に冷却すると
、白色固体が沈殿した。これを濾過し、水洗し、真空下で乾燥させて、2,5−
ジフェニル−ピロル−1−イルアミン(2.32g,90%)を得た:H N
MR(CDCl,TMSを基準とした化学シフト(ppm)):3.64(b
s,2H),6.28(s,2H),7.28〜7.33(m,2H),7.4
2(t,4H,J=8.0Hz),7.58(d,4H,J=8.0Hz)。
【0609】例374
【0610】
【化156】
【0611】3−(2,5−ジフェニル−ピロル−1−イルイミノ)−ブタン−2−オンの合 2,5−ジフェニル−ピロル−1−イルアミン(1.91g,8.15ミリモル
)のトルエン(5.45mL)中懸濁液を、2,3−ブタンジオン(7.15m
L,81.5ミリモル)、DMF(10.9mL)及びp−トルエンスルホン酸
(10.9mg)で処理した。得られた懸濁液を室温においてAr下で30分間
撹拌し、次いで油浴中で70℃に加熱した。2.5時間後、溶液を室温に冷却し
、真空下で濃縮した。油状固体をトルエンに溶解し、真空下で濃縮して、過剰の
2,3−ブタンジオンを除去した。残渣をフラッシュクロマトグラフィー(Si
,10% EtOAc/ヘプタン)によって精製して、3−(2,5−ジフ
ェニル−ピロル−1−イルイミノ)−ブタン−2−オンを得た:H NMR(
CDCl,TMSを基準とした化学シフト(ppm)):1.44(s,3H
),2.56(s,3H),6.47(s,2H),7.20〜7.26(m,
2H),7.34(t,4H,J=8.0Hz),7.47(d,4H,J=8
.0Hz)。
【0612】例375
【0613】
【化157】
【0614】2,3−ビス(2,5−ジフェニル−ピロル−1−イルイミノ)−ブタンの合成 3−(2,5−ジフェニル−ピロル−1−イルイミノ)−ブタン−2−オン(2
.45g,8.1ミリモル)のトルエン(28mL)中懸濁液を、DMF(14
mL)、2,5−ジフェニル−ピロル−1−イルアミン(1.99g,8.5ミ
リモル)及びp−トルエンスルホン酸(73mg)で処理した。得られた懸濁液
にDean Starkトラップを取り付け、油浴中で21時間加熱還流し、次
いで室温に冷却し、Ar下に4日間放置した。目的化合物は結晶化しなかったの
で、溶液を真空下で濃縮した。残渣の約半分をフラッシュクロマトグラフィー(
SiO,5〜100% EtOAc/ヘプタン)によって精製して、出発2,
5−ジフェニル−ピロル−1−イルアミンが混入した、ほぼ純粋な目的2,3−
ビス(2,5−ジフェニル−ピロル−1−イルイミノ)−ブタン(780mg)
を得た。残りの粗製残渣を、過剰のアミノピロールを除去するためにフラッシュ
クロマトグラフ処理した(SiO,33〜50% CHCl/ヘプタン)
。分離は起こらなかったので、フラクション全てを、第1のカラムからの混ざり
もののある物質と共に合し、真空下で濃縮した。この混合物をトルエン(15m
L)中に懸濁させ、DMF(5mL)、2,3−ブタンジオン(0.81mL,
9.24ミリモル)及びp−トルエンスルホン酸(7mg)で処理した。得られ
た懸濁液を油浴中で70℃に加熱し、Ar下で3時間撹拌し、次いで室温に冷却
し、真空下で濃縮した。得られた固体を水、ヘプタン及びトルエンで洗浄し(3
−(2,5−ジフェニル−ピロル−1−イルイミノ)−ブタン−2−オン及び2
,3−ブタンジオンを除去するために)、真空下で乾燥させて、2,3−ビス(
2,5−ジフェニル−ピロル−1−イルイミノ)−ブタン(1.42g)を黄色
固体として得た。全体で2.2g(3−(2,5−ジフェニル−ピロル−1−イ
ルイミノ)−ブタン−2−オンに基づき52%)の2,3−ビス(2,5−ジフ
ェニル−ピロル−1−イルイミノ)−ブタンを黄色固体として単離した:
NMR(CDCl,TMSを基準とした化学シフト(ppm)):1.71(
s,6H),6.44(s,4H),7.22〜7.36(m,20H)。
【0615】例376
【0616】
【化158】
【0617】1,4−ビス−(4−tert−ブチル−フェニル)−ブタン−1,4−ジオン の合成 −78℃においてジイソプロピルアミン(2.2mL,15.7ミリモル)のT
HF(16.32mL)中溶液にヘキサン類中2.5Mのn−ブチルリチウム(
6.3mL,15.7ミリモル)を滴加することによって、リチウムジイソプロ
ピルアミド(LDA)のTHF中溶液を調製した。この溶液に、−78℃におい
て4’−t−ブチルアセトフェノン(2.5g,14.2ミリモル)をTHF(
3mL)中溶液として滴下漏斗から添加した。得られた溶液を−78℃において
Ar下で1時間撹拌し、次いで無水CuCl(2.11g,15.7ミリモル
)のDMF(15.84mL)中溶液で処理した。添加完了後、ドライアイス浴
をはずし、反応を1時間かけて室温まで温め、次いでHClの0.5M溶液(1
20mL)中に注いだ。水性懸濁液をEtOで抽出した。有機層をNaSO 上で乾燥させ、濾過し、真空下で濃縮した。残渣をEtOHから結晶化させて
、1,4−ビス−(4−tert−ブチル−フェニル)−ブタン−1,4−ジオ
ン(377mg,16%)を白色結晶として得た。濾液の濃縮によって、結晶の
セカンドクロップ(253mg,10%)を回収した:H NMR(CDCl ,TMSを基準とした化学シフト(ppm)):1.35(s,18H),3
.44(s,4H),7.50(d,4H,J=8.3Hz),7.98(d,
4H,J=8.3Hz)。
【0618】例377
【0619】
【化159】
【0620】[2,5−ビス(4−tert−ブチル−フェニル)−ピロル−1−イル]−カ ルバミン酸2−トリメチルシラニル−エチルエステルの合成 1,4−ビス−(4−tert−ブチル−フェニル)−ブタン−1,4−ジオン
(377mg,1.08ミリモル)のトルエン(3mL)中溶液を、ヒドラジン
カルボン酸2−トリメチルシラニル−エチルエステル(212mg,1.18ミ
リモル)及びp−トルエンスルホン酸(11.3mg)で処理した。得られた溶
液をAr下で1.5時間加熱還流し、次いで室温に冷却し、真空下で濃縮して、
粗製[2,5−ビス(4−tert−ブチル−フェニル)−ピロル−1−イル]
−カルバミン酸2−トリメチルシラニル−エチルエステルを得た。残渣は精製せ
ずに、直ちに以下のようにして脱保護した。
【0621】例378
【0622】
【化160】
【0623】2,5−ビス−(4−tert−ブチル−フェニル)−ピロル−1−イルアミン の合成 [2,5−ビス−(4−tert−ブチル−フェニル)−ピロル−1−イル]−
カルバミン酸2−トリメチルシラニル−エチルエステル(681mg,1.39
ミリモル)をTBAFのTHF中1M溶液(2.78mL)で処理した。得られ
た溶液を室温で一晩撹拌し、次いで氷酢酸(0.155mL)で急冷した。この
溶液をシリカゲルのショートプラグを通し、トルエンで溶離し、真空下で濃縮し
て、2,5−ビス−(4−tert−ブチル−フェニル)−ピロル−1−イルア
ミン(299mg,2工程で80%)を乳白色の固体として得た:H NMR
(CDCl,TMSを基準とした化学シフト(ppm)):1.36(s,1
8H),4.60(s,2H),6.24(s,2H),7.46(d,4H,
J=8.7Hz),7.52(d,4H,J=8.7Hz)。
【0624】例379
【0625】
【化161】
【0626】2,3−ビス(2,5−ビス(4−tert−ブチルフェニル)−ピロル−1− イルイミノ)−ブタンの合成 2,5−ビス(4−tert−ブチル−フェニル)−ピロル−1−イルアミン(
174mg,0.502ミリモル)のトルエン(4.5mL)中溶液を、ブタン
ジオン(19.7μL,0.225ミリモル)及びp−トルエンスルホン酸(5
.2mg)で処理した。得られた溶液を油浴中でAr下において一晩80℃に加
熱した。この溶液を室温に冷却し、真空下で濃縮した。残渣をフラッシュクロマ
トグラフィー(SiO,33% CHCl/ヘプタン)によって精製して
、2,3−ビス(2,5−ビス(4−tert−ブチルフェニル)−ピロル−1
−イルイミノ)−ブタン(121mg,72%)を得た:H NMR(CDC
,TMSを基準とした化学シフト(ppm)):1.33(s,36H),
1.69(s,6H),6.39(s,4H),7.33〜7.39(m,16
H)。
【0627】例380〜例389
【0628】
【化162】
【0629】連鎖移動剤としての水素の存在下におけるエチレン重合 aa1 6mgをCHClまたはトルエン40ml中に溶解させ、次いでそ
の溶液のうちの2mlを4mlに希釈することによって、aa1 0.75mg
/ml(溶媒)を含むaa1の原液を調製した。Parr(登録商標)撹拌オー
トクレーブ(600ml)を動的真空下で100℃に加熱して、反応器を完全に
乾燥させた。反応器を冷却し、無水トルエン150ml、mMAO(Al 7.
14重量%;Akzo Nobel)1ml及び場合によってはHガス(反応
器のヘッドスペースにシリンジによってHガスを0、50、150、300ま
たは450ml添加した)を装入した。反応器をシールし、エチレンで150p
sigまで加圧し、60℃に加熱した。aa1の触媒原液2ml(触媒1.04
×10−7モル)を高圧サンプルループによってオートクレーブに添加すると共
に、オートクレーブを200psigに加圧した。エチレン200psig及び
60℃において15分間撹拌後、高圧においてメタノール2mlを添加すること
によって反応器を急冷した。反応器をガス抜きし、メタノール/アセトン混合物
を含むビーカー中に内容物を注いだ。ポリマーを、吸引濾過によって採取し、真
空オーブン中で〜100℃において一晩乾燥させた。
【0630】
【表16】
【0631】例390〜例394
【0632】
【化163】
【0633】aa2によるエチレン重合 Ni(acac) 3.3mg(12.7μモル)、PhCB(C 11.7mg(12.7μモル)及び必要なオサゾン9.3mg(12.7
μモル)を塩化メチレン5ml中で合することによって、原液を調製した。混合
物を30分間放置した。30分後、塩化メチレンをさらに10ml添加し、次い
で得られた溶液のうち5ml(1/3)を取り出した。取り出したこの溶液5m
lを、トルエンで40mlに希釈して、aa2 0.0825mg/ml(溶媒
)を含む原液を生成した。続いて、Parr(登録商標)撹拌オートクレーブ(
600ml)を動的真空下で100℃に加熱して、反応器を完全に乾燥させた。
反応器を冷却し、無水トルエン150ml、mMAO(Al 7.14重量%;
Akzo Nobel)1ml及び場合によってはHガス(反応器のヘッドス
ペースにシリンジによってHガスを0、50、150または300ml添加し
た)を装入した。反応器をシールし、エチレン150psigまで加圧し、60
℃に加熱した。aa2の触媒原液2ml(触媒1.04×10−7モル)を高圧
サンプルループによってオートクレーブに添加すると共に、オートクレーブを2
00psigに加圧した。エチレン200psig及び60℃において15分間
撹拌後、高圧においてメタノール2mlを添加することによって反応器を急冷し
た。反応器をガス抜きし、メタノール/アセトン混合物を含むビーカー中に内容
物を注いだ。ポリマーを、吸引濾過によって採取し、真空オーブン中で〜100
℃において一晩乾燥させた。
【0634】
【表17】
【0635】例395
【0636】
【化164】
【0637】z2の調製 ゴムセプタム及び撹拌棒を装着したフレームドライSchlenkフラスコに、
ニッケル(II)アセチルアセトネート100mg(0.39ミリモル)、適当
なα−ジイミン配位子308mg(0.39ミリモル)及びPhCB(C 360mg(0.39ミリモル)を装入した。固体混合物に塩化メチレ
ン20mlを添加すると、数秒以内に均一なブラッドレッドの溶液が得られた。
この溶液を室温で60分間撹拌させておいた。60分後、溶液を5mlに濃縮し
、ガス抜きされた無水ヘキサン20mlを添加して、赤色沈殿物を形成した。上
清をフィルターカニューレによって除去した。次いで、得られた固体を塩化メチ
レン5ml中に溶解させ、ヘキサン類20mlを添加すると、再沈殿した。上清
を再び、フィルターカニューレによって除去した。洗浄操作をもう1回繰り返し
た。得られた赤色粉末を真空下で一晩乾燥させて、目的錯体546mg(収率8
6%)を得た。H NMRは目的錯体と一致していた。例396
【0638】
【化165】
【0639】z3の調製 ゴムセプタム及び撹拌棒を装着したフレームドライSchlenkフラスコに、
ニッケル(II)アセチルアセトネート100mg(0.39ミリモル)、適当
なα−ジイミン配位子270mg(0.39ミリモル)及びPhCB(C 360mg(0.39ミリモル)を装入した。固体混合物に塩化メチレ
ン20mlを添加すると、数秒以内に均一なブラッドレッドの溶液が得られた。
この溶液を室温で60分間撹拌させておく。60分後、溶媒を真空下で除去して
、赤色のガラス状固体を得た。得られた固体を、エーテル1部及びヘキサン4部
からなる溶液で4回洗浄した。上清をフィルターカニューレによって除去した。
得られた赤色粉末を真空下で一晩乾燥させて、目的錯体413mg(収率69%
)を得た。H NMRは目的錯体と一致していた。
【0640】例397〜例400 z2またはz3によるエチレン重合 Parr(登録商標)撹拌オートクレーブ(600ml)を動的真空下で100
℃に加熱して、反応器を完全に乾燥させた。反応器を冷却し、無水トルエン15
0ml、mMAO(Al 7.14重量%;Akzo Nobel)1ml及び
場合によってはHガス(反応器のヘッドスペースにシリンジによってHガス
を0、50、150または300ml添加した)を装入した。反応器をシールし
、エチレンで150psigまで加圧し、60℃に加熱した。z2またはz3の
触媒原液2ml(触媒1.04×10−7モル)を高圧サンプルループによって
オートクレーブに添加すると共に、オートクレーブを200psigに加圧した
。エチレン200psig及び60℃において15分間撹拌後、高圧においてメ
タノール2mlを添加することによって反応を急冷した。反応器をガス抜きし、
メタノール/アセトン混合物を含むビーカー中に内容物を注いだ。ポリマーを、
吸引濾過によって採取し、真空オーブン中で〜100℃において一晩乾燥させた
【0641】
【表18】
【0642】例401 v20の調製
【0643】
【化166】
【0644】 50mLの丸底フラスコに、2,4,6−トリフェニルアニリン(762mg,
1eq)、2,3−ブタンジオン(2mL,10eq)、p−トルエンスルホン
酸水和物(15mg)及び無水トルエン(10mL)を装入した。混合物を窒素
雰囲気下で60℃において10時間加熱し、室温に一晩冷却させておいた。溶媒
のほとんどと過剰のブタンジオンを真空下で除去すると、粗製モノイミン−モノ
ケトンが琥珀色の油として残された(電界脱離質量分析:m/z 389)。ト
ルエン(23mL)、硫酸(1滴)及び2,4,6−トリフェニルアニリン(1
g)を添加した。この溶液を、Dean−Starkトラップ(容量約13mL
)を用いて10時間還流させて、取り除かれた水を集めた。室温に1日放置後、
若干量のメタノールを添加すると、黒っぽい溶液から薄い色の沈殿が分離した。
さらに11日間放置後、真空濾過によって黄色の結晶生成物が単離され、これを
トルエン及びメタノールで洗浄した。v20の収量=1.4g(アニリンの最初
の装入量に基づき85%)。H NMR(300MHz,CDCl,295
K):δ7.64(見かけのd,4H),7.54(見かけのs,4H),7.
43(見かけのt,4H),7.34(見かけのd,2H),7.31〜7.1
5(m,20H)。
【0645】例402 v21の調製
【0646】
【化167】
【0647】 50mLの丸底フラスコに、2,4,6−トリフェニルアニリン(1.295g
,1eq)、アセナフテンキノン(0.294g,eq)、硫酸(1滴)及び無
水トルエン(20mL)を装入した。この溶液を、Dean−Starkトラッ
プ(容量約13mL)を用いて10時間還流させて、取り除かれた水を集め、次
いで一晩室温に冷却させておいた。室温に12日間放置後、溶液から分離したオ
レンジ色の結晶生成物を、真空濾過によって単離し、トルエン及びメタノールで
洗浄した。v21の収量=0.9g(71%)。H NMR(300MHz,
CDCl,295K):δ7.75(見かけのd,4H),7.68(見かけ
のt,2H),7.64(見かけのs,4H),7.47(見かけのt,4H)
,7.40〜7.32(見かけのt,2H),7.11〜7.04(m,4H)
,7.01〜6.92(m,8H),6.89(見かけのd,2H)。電界脱離
質量分析:m/z=789。
【0648】例403 v22の調製
【0649】
【化168】
【0650】 例233に記載したのと同様な手法によって、化合物v22を調製した。
NMR(300MHz,CDCl,295K),異性体の混合物:δ7.9(
s,2H),7.79(d,J=7.45Hz,2H),7.65(d,J=7
.45Hz,4H),7.57(d,J=7.45Hz,2H),7.52〜7
.28(m,14H),2.88〜2.64(m,2H),2.34〜2.00
(m,2H)。Suzukiの条件下において対応するブロモ置換アニリンのフ
ェニル化によって、必要なアニリンを調製した(簡便な方法は、Y.Miura
ら,Synthesis,1995,1419〜1422参照)。o−トリフル
オロメチルアニリンを酢酸中で臭素によって二臭素化して、必要なブロモ置換ア
ニリンを生成した(アニリンの臭素化のための一般的手法については、例えば、
R.G.Pewsら,Tetrahedron,1993,49(22),48
09〜4820参照)。
【0651】例404 v23の合成
【0652】
【化169】
【0653】 例233に記載したのと同様な手法によって、化合物v23を調製した。
NMR(300MHz,CDCl,295K),異性体の混合物:δ8.19
〜8.10(m,1H),8.03〜7.89(m,3H),7.84〜7.7
5(m,2H),7.68〜7.39(m,20H),7.39〜7.27(m
,4H),2.85〜2.73(m,2H),2.53〜2.44(m,1H)
,2.32〜2.19(m,1H)。例403に記載した手法と同様にして、1
−ナフチルアミンを出発原料として、必要なアニリンを調製した。
【0654】例405〜例407 例242において調製した型のプロ触媒を用いたエチレン重合 磁気撹拌棒を装着し且つセプタムキャップのついたSchlenkフラスコ(2
00mL,500mLまたは1000mL)を排気し、エチレンを再充填し、次
いで無水脱酸素化トルエン(100mL)及びMAOのトルエン中10重量%溶
液(4.0mL)を装入した。下記表に示した量のNiが得られるように、必要
な容量のプロ触媒溶液(例242と同様にして、表中に示した配位子から調製)
を添加した。混合物を1atmのエチレン下で、下記表に示した温度において撹
拌すると、ポリエチレン沈殿が観察された。示された反応時間後、アセトン(5
0mL)、メタノール(50mL)及び6N HCl水溶液(100mL)の添
加によって混合物を急冷した。膨潤したポリエチレンを、真空濾過によって単離
し、水、メタノール及びアセトンで洗浄し、次いで減圧下で100℃において1
6時間乾燥させて、下表に示した量のポリエチレンを得た(この場合には、MH NMRによって測定した)。
【0655】
【表19】
【0656】例408及び例409 例242において調製した型のプロ触媒原液を、配位子v22から0.51μモ
ル/mLの濃度で調製した。続いて、Parr(登録商標)撹拌オートクレーブ
(600ml)を動的真空下で100℃に加熱して、反応器を完全に乾燥させた
。反応器を冷却し、無水トルエン150ml、mMAO(Al 7.14重量%
;Akzo Nobel)1ml及び場合によってはHガス(反応器のヘッド
スペースにシリンジによってHガス0、50、150または300mlを添加
した)を装入した。反応器をシールし、エチレンで150psigまで加圧し、
60℃に加熱した。配位子v22からの触媒原液2ml(触媒1.02×10 モル)を高圧サンプルループによってオートクレーブに添加すると共に、オー
トクレーブを200psigに加圧した。エチレン200psig及び60℃に
おいて15分間撹拌後、高圧においてメタノール2mlの添加によって反応を急
冷した。反応器をガス抜きし、メタノール/アセトン混合物を含むビーカー中に
、内容物を注いだ。ポリマーを、吸引濾過によって採取し、真空オーブン中で〜
100℃において一晩乾燥させた。
【0657】
【表20】
【0658】例410 (2,5−ジ−ピリジン−3−イル−ピロル−1−イル)−カルバミン酸2−ト リメチルシラニル−エチルエステルの合成: 1,4−ジ−ピリジン−3−イル
−ブタン−1,4−ジオン(1g,4.2ミリモル)のトルエン(40mL)中
溶液を、ヒドラジンカルボン酸2−トリメチルシラニル−エチルエステル(88
8mg,5.5ミリモル)及びp−トルエンスルホン酸(30mg)で処理する
。反応器にDean Starkトラップを装着し、TLCによって出発原料が
検出されなくなるまで水を共沸除去しながら、得られる溶液を加熱還流する。こ
の溶液を室温に冷却し、水洗する。有機層をNaSO上で乾燥させ、濾過し
、濃縮して、(2,5−ジ−ピリジン−3−イル−ピロル−1−イル)−カルバ
ミン酸2−トリメチルシラニル−エチルエステルを生成する。これはこれ以上精
製しない。
【0659】例411 2,5−ジ−ピリジン−3−イル−ピロル−1−イルアミンの合成 : (2,5
−ジ−ピリジン−3−イル−ピロル−1−イル)−カルバミン酸2−トリメチル
シラニル−エチルエステル(1g,2.6ミリモル)を、TBAFのTHF中1
M溶液(5.2ml.5.2ミリモル)で処理する。得られる溶液を、Ar下で
室温において一晩撹拌し、次いで氷酢酸(0.3ml,5.2ミリモル)で急冷
し、トルエンで希釈する。得られる溶液をシリカゲルのショートプラグに通し、
真空下で濃縮して、2,5−ジ−ピリジン−3−イル−ピロル−1−イルアミン
を生成する。
【0660】例412 2−(2,5−ジフェニル−ピロル−1−イルイミノ)−3−(2,5−ジピリ ジン−3−イル−ピロル−1−イルイミノ)−ブタンの合成 : 3−(2,5−
ジフェニル−ピロル−1−イルイミノ)−ブタン−2−オン(1.0g,3.4
ミリモル)のトルエン(12ml)中懸濁液を、DMF(6ml)、2,5−ジ
−ピリジン−3−イル−ピロル−1−イルアミン(850mg,3.6ミリモル
)及びp−トルエンスルホン酸(30mg)で処理する。得られる懸濁液にDe
an Starkトラップを装着し、TLCによって出発原料が検出されなくな
るまで油浴中で水を共沸除去しながら、加熱還流する。この溶液を室温に冷却し
、真空下で濃縮する。残渣をフラッシュクロマトグラフィーによって精製して、
2−(2,5−ジフェニル−ピロル−1−イルイミノ)−3−(2,5−ジピリ
ジン−3−イル−ピロル−1−イルイミノ)−ブタンを生成する。
【0661】例413 z4の調製
【0662】
【化170】
【0663】 ゴムセプタム及び撹拌棒を装着したフレームドライSchlenkフラスコに、
ニッケル(II)アセチルアセトネート100mg(0.39ミリモル)、2−
(2,5−ジフェニル−ピロル−1−イルイミノ)−3−(2,5−ジピリジン
−3−イル−ピロル−1−イルイミノ)−ブタン203mg(0.39ミリモル
)及びPhCB(C 360mg(0.39ミリモル)を装入する
。固体混合物に塩化メチレン(20ml)を添加すると、数秒以内に均一なブラ
ッドレッドの溶液が得られる。この溶液を室温で60分間撹拌させておく。60
分後、溶媒を真空下で除去して、赤色のガラス状固体を得る。得られる固体を、
エーテル1部及びヘキサン4部からなる溶液で4回洗浄する。上清をフィルター
カニューレによって除去する。赤色粉末を真空下で一晩乾燥させて、z4を得る
【0664】例414 z4によるエチレン重合 Parr(登録商標)撹拌オートクレーブ(600ml)を動的真空下で100
℃に加熱して、反応器を完全に乾燥させる。反応器を冷却し、無水トルエン15
0ml及びmMAO (Al 7.14重量%;Akzo Nobel)1ml
を装入する。反応器をシールし、エチレンで150psigまで加圧し、60℃
に加熱する。z4の触媒原液2ml(触媒1.04×10−7モル)を高圧サン
プルループによってオートクレーブに添加すると共に、オートクレーブを200
psigに加圧する。エチレン200psig及び60℃において15分間撹拌
後、高圧においてメタノール2mlを添加することによって反応を急冷する。反
応器をガス抜きし、メタノール/アセトン混合物を含むビーカー中に内容物を注
ぐ。ポリマーを、吸引濾過によって採取し、真空オーブン中で〜100℃におい
て一晩乾燥させる。
【0665】例415 例368と同様な方法で調製した触媒を用いるエチレンの重合 触媒送出装置に、例368と同様にして調製した触媒を装入した。その際、aa
1(73.8mg)はジクロロメタン1.5mLに溶解させ、Grace Da
vison XPO−2402(1.0g)に添加した。次に、XPO−240
2 200mg中に分散させた触媒10.2mgを含む装置を1000mLのP
arr(登録商標)反応器のヘッドに取り付けた。装置を真空下に置いた。次い
で、反応器に、予め真空中で120℃において数時間乾燥しておいたNaCl(
304g)を装入した。反応器を閉め、窒素(約40psi)で加圧し、大気圧
まで減圧する操作を10回行った。続いて、塩をトリメチルアルミニウム(10
mL,ヘキサン中2.0M)で処理し、86℃において30分間撹拌した。次い
で、反応器を200psigのエチレンで加圧し、大気圧まで減圧する操作を5
回行った。次に、適当に撹拌しながら、反応器中に触媒を加えた。反応を86℃
において60分間続けさせてから、反応器をガス抜きした。反応器の内容物を水
洗することによって、ポリマーを単離した。単離されたポリマーをさらに、メタ
ノール中6M HClで処理し、メタノールですすぎ、窒素下で乾燥させて、7
.4gを得た(C 520,000モル/モル(Ni)。
【0666】例416 a54、Co(acac)及びPhCB(Cから調製した触媒を 用いたエチレンの重合 調製したa54(20.2mg)、Co(acac)(10.1mg)及びP
CB(C(36.1mg)の混合物を、無水脱酸素化塩化メチレ
ン5.0mL中に溶解させて、濃い赤みがかった茶色の触媒原液を得た。この溶
液の一部(54μL)を1atmのエチレン下で23℃において、無水脱酸素化
トルエン300mLとMAOのトルエン中10重量%溶液(Aldrich)4
.0mLとの、激しく撹拌された混合物中に添加すると、弱いエチレン吸収があ
った。9.5分後、原液をさらに0.46mL添加すると、エチレン吸収が増加
した。合計39分後、MeOH及び6N HCl水溶液の添加によって反応を急
冷した。ポリマーを、濾過によって回収し、真空下で乾燥させて、白色の粉末状
ポリエチレンを0.250g得た。GPC:M=99,000;Mw=265
,800。DSC(溶融液からの2回目の加熱、吸熱最大):135.1℃。 H NMR(o−ジクロロベンゼン):分岐点 4.4個/炭素1000個。
【0667】 本発明を好ましい実施態様及び実施例に関して説明したが、当業者には明らか
なように、当然のことながら、変形及び変更は可能である。このような変形及び
変更は、「特許請求の範囲」によって定義した範囲内と考えなければならない。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) C08F 4/70 C08F 4/70 10/00 510 10/00 510 (72)発明者 キリアン,クリストファー ムーア アメリカ合衆国,テネシー 37615,グレ ー,ヒレンデイル ロード 1201 (72)発明者 ラボイエ,ジーノ ジョージズ アメリカ合衆国,テネシー 37664,キン グスポート,クレセント ドライブ 1625 (72)発明者 ポナシク,ジェイムズ アレン ジュニ ア. アメリカ合衆国,テネシー 37617,ブラ ウントビル,ポロ ドライブ 167 (72)発明者 スミス,トーマス ウィリアム アメリカ合衆国,テネシー 37660,キン グスポート,バークシャー プレイス 2809 (72)発明者 ペアソン,ジェイソン クレー アメリカ合衆国,テネシー 37663,キン グスポート,ピケンス コート 116 (72)発明者 バレット,アンソニー ジェラルド マー ティン イギリス国,チスウィック ダブリュ4 4エルティー,バーリントン ガーデンズ 15 (72)発明者 コーツ,ジェフリー ウィリアム アメリカ合衆国,ニューヨーク 14850, イサカ,ベケット ウエイ 15 Fターム(参考) 4J128 AA01 AB00 AB01 AC01 AC08 AC26 AC31 AC32 AC37 AC41 AC42 AC44 AC46 AC47 AC48 AE01 AE02 AE07 AF01 AF02 BA01B BB00B BB01B BC13B BC14B BC25B BC32A EA01 EB02 EB04 EB05 EB07 EB09 GA01 GA06 GA16

Claims (50)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 ジアニオン性二座配位子のTi、ZrまたはHf錯体を含ん
    でなるオレフィンの重合用触媒組成物であって、該配位子のドナー原子の少なく
    とも1つが、1−ピロリルまたは置換1−ピロリル基で置換された窒素原子であ
    り、該配位子の残りのドナー原子がC、N、P、As、O、S及びSeからなる
    群から選ばれる触媒組成物。
  2. 【請求項2】 前記金属錯体が式XIV: 【化1】 [式中、 Mは、ZrまたはTiであり; D、D及びGは集合してジアニオン性二座配位子を構成し; D及びDは、架橋基Gによって結合された単座ドナーであり、D及びD の少なくとも一方は、1−ピロリルまたは置換1−ピロリル基で置換された窒
    素原子によって金属Mに配位し; Tは、H、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、またはオレフィンを挿入で
    きる他の基であり; Xは、弱配位性アニオンである] の化合物である請求項1に記載の触媒組成物。
  3. 【請求項3】 前記ジアニオン性二座配位子が、セット7またはそれらの互
    変異性体から選ばれる請求項2に記載の触媒組成物: セット7 【化2】 【化3】 [式中、 R3a−hはそれぞれ独立して、H、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、
    ヘテロ原子結合ヒドロカルビル、ヘテロ原子結合置換ヒドロカルビル、フルオロ
    アルキル、シリル、ボリル、フルオロ、クロロ、ブロモ、シアノまたはニトロで
    あり、さらにR3a−hのうち任意の2つは架橋基によって結合されることがで
    き; Gは、二価架橋ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ヘテロ原子結合ヒド
    ロカルビルまたはヘテロ原子結合置換ヒドロカルビルである]。
  4. 【請求項4】 固体担体に担持されている請求項1に記載の触媒組成物。
  5. 【請求項5】 1種またはそれ以上のオレフィンを請求項1に記載の触媒組
    成物及び場合によってはアルミニウムまたは硼素を中心とするルイス酸と接触さ
    せることを含んでなる、オレフィンの重合方法。
  6. 【請求項6】 モノアニオン性二座配位子のTi、ZrまたはHf錯体を含
    んでなるオレフィンの重合用触媒組成物であって、該配位子のドナー原子の少な
    くとも1つが、1−ピロリルまたは置換1−ピロリル基で置換された窒素原子で
    あり、該配位子の残りのドナー原子がC、N、P、As、O、S及びSeからな
    る群から選ばれる触媒組成物。
  7. 【請求項7】 場合によってはさらに第2の化合物Yを含み、金属錯体が式
    XV: 【化4】 [式中、 Mは、Ti、ZrまたはHfであり; m及びnは整数であるが;ただし、MがTiであり且つmが1である場合には
    nは2または3であり;MがTiであり且つmが2である場合にはnは1または
    2であり;MがZrであり且つmが1である場合にはnは3であり;MがZrで
    あり且つmが2である場合にはnは2であり;MがHfである場合にはmは2で
    あり且つnは2であり; R3a−iはそれぞれ独立して、H、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、
    ヘテロ原子結合ヒドロカルビル、ヘテロ原子結合置換ヒドロカルビル、シリル、
    ボリル、フルオロ、クロロ、ブロモまたはニトロであるが、ただし、R3eは、
    ハロゲンまたはニトロ以外であり;さらに、同一または異なるN−ピロル−1−
    イルイミノフェノキシド配位子上のR3a−iのうちの任意の2つは架橋基によ
    って結合されることができ; Zは、H、ハロゲン、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ヘテロ原子結合
    ヒドロカルビル、ヘテロ原子結合置換ヒドロカルビル、シリル、アリル、ベンジ
    ル、アルコキシ、カルボキシレート、アミド、ニトロまたはトリフルオロメタン
    スルホニルであり;各Zは同一であっても異なってもよく、複数のZが合わさっ
    てサルフェート、オキサレートまたは別の二価の基を形成することもでき; Yは、Zを引き抜いて弱配位性アニオンを形成できる中性ルイス酸、対イオ
    ンが弱配位性アニオンであるカチオン性ルイス酸、及び共役塩基が弱配位性アニ
    オンであるブレンステッド酸からなる群から選ばれ;且つ nが2または3である場合には、金属錯体は、Ti、ZrまたはHfを中心と
    するカチオンを含み且つ基Zの1つが弱配位性アニオンである塩であることが
    できる] の化合物である請求項6に記載の触媒化合物。
  8. 【請求項8】 モノアニオン性二座配位子が、セット8またはそれらの互変
    異性体から選ばれる請求項6または7に記載の触媒組成物: セット8 【化5】 【化6】 [式中、 R2xは、H、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ヘテロ原子結合ヒドロ
    カルビル、またはヘテロ原子結合置換ヒドロカルビルであり; R3a−d,f−iはそれぞれ独立して、H、ヒドロカルビル、置換ヒドロカ
    ルビル、ヘテロ原子結合ヒドロカルビル、ヘテロ原子結合置換ヒドロカルビル、
    フルオロアルキル、シリル、ボリル、フルオロ、クロロ、ブロモ、シアノまたは
    ニトロであり、さらにR3a−d,f−iのうち任意の2つは架橋基によって結
    合されることができる]。
  9. 【請求項9】 固体担体に担持されている請求項6に記載の触媒組成物。
  10. 【請求項10】 1種またはそれ以上のオレフィンを請求項6に記載の触媒
    組成物及び場合によっては第2の化合物Yと接触させることを含んでなるオレフ
    ィンの重合方法であって、Yが(i)Ti、ZrまたはHf錯体と反応して、弱
    配位性アニオンを含む塩を形成できる中性ルイス酸、(ii)対イオンが弱配位
    性アニオンであるカチオン性ルイス酸、及び(iii)共役塩基が弱配位性アニ
    オンであるブレンステッド酸からなる群から選ばれる方法。
  11. 【請求項11】 ジアニオン性単座配位子のCr、MoまたはW錯体を含ん
    でなるオレフィンの重合用触媒組成物であって、該配位子のドナー原子の少なく
    とも1つが、1−ピロリルまたは置換1−ピロリル基で置換された窒素原子であ
    り、該配位子の残りのドナー原子がC、N、P、As、O、S及びSeからなる
    群から選ばれる触媒組成物。
  12. 【請求項12】 場合によってはさらに第2の化合物Yを含み、金属錯体が
    式XVI: 【化7】 [式中、 Mは、Cr、MoまたはWであり; D及びDは、架橋基によって結合されて、合わさってテトラアニオン性二
    座配位子を構成できるジアニオン性単座配位子であり; Z1a及びZ1bはそれぞれ独立して、H、ハロゲン、ヒドロカルビル、置換
    ヒドロカルビル、ヘテロ原子結合ヒドロカルビル、ヘテロ原子結合置換ヒドロカ
    ルビル、シリル、アリル、ベンジル、アルコキシ、カルボキシレート、アミド、
    ニトロもしくはトリフルオロメタンスルホニルであるか、または合わさってサル
    フェート、オキサレートもしくは別の二価の基を形成でき; Yは、(Z1aまたは(Z1bを引き抜いて弱配位性アニオンを形成
    できる中性ルイス酸、対イオンが弱配位性アニオンであるカチオン性ルイス酸、
    及び共役塩基が弱配位性アニオンであるブレンステッド酸からなる群から選ばれ
    ;且つ 金属錯体は、Cr、MoまたはWを中心とするカチオンを含み且つ基(Z1aまたは(Z1bの1つが弱配位性アニオンである塩であることができる
    ] の化合物である請求項11に記載の触媒化合物。
  13. 【請求項13】 金属がCrであり且つジアニオン性単座配位子がセット9
    またはそれらの互変異性体から選ばれる請求項12に記載の触媒組成物: セット9 【化8】 [式中、R3a−dはそれぞれ独立して、H、ヒドロカルビル、置換ヒドロカル
    ビル、ヘテロ原子結合ヒドロカルビル、ヘテロ原子結合置換ヒドロカルビル、フ
    ルオロアルキル、シリル、ボリル、フルオロ、クロロ、ブロモ、シアノまたはニ
    トロであり、さらにR3a−dのうち任意の2つは架橋基によって結合されるこ
    とができる]。
  14. 【請求項14】 固体担体に担持されている請求項11に記載の触媒組成物
  15. 【請求項15】 1種またはそれ以上のオレフィンを請求項11に記載の触
    媒組成物及び場合によっては第2の化合物Yと接触させることを含んでなるオレ
    フィンの重合方法であって、Yが(i)Cr、MoまたはW錯体と反応して、弱
    配位性アニオンを含む塩を形成できる中性ルイス酸、(ii)対イオンが弱配位
    性アニオンであるカチオン性ルイス酸、及び(iii)共役塩基が弱配位性アニ
    オンであるブレンステッド酸からなる群から選ばれる方法。
  16. 【請求項16】 ジアニオン性単座配位子のV、NbまたはTa錯体を含ん
    でなるオレフィンの重合用触媒組成物であって、該配位子のドナー原子の少なく
    とも1つが、1−ピロリルまたは置換1−ピロリル基で置換された窒素原子であ
    り、該配位子の残りのドナー原子がC、N、P、As、O、S及びSeからなる
    群から選ばれる触媒組成物。
  17. 【請求項17】 場合によってはさらに第2の化合物Yを含み、金属錯体が
    式XVII: 【化9】 [式中、 Mは、V、NbまたはTaであり; R3a−dはそれぞれ独立して、H、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、
    ヘテロ原子結合ヒドロカルビル、ヘテロ原子結合置換ヒドロカルビル、シリル、
    ボリル、フルオロ、クロロ、ブロモまたはニトロであり、さらにR3a−dのう
    ち任意の2つは架橋基によって結合されることができ; T1bは、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ヘテロ原子結合ヒドロカル
    ビル、ヘテロ原子結合置換ヒドロカルビル、シクロペンタジエニル、置換シクロ
    ペンタジエニル、N(ヒドロカルビル)、O(ヒドロカルビル)またはハロゲ
    ン化物であり; Z1a及びZ1bはそれぞれ独立して、H、ハロゲン、ヒドロカルビル、置換
    ヒドロカルビル、ヘテロ原子結合ヒドロカルビル、ヘテロ原子結合置換ヒドロカ
    ルビル、シリル、アリル、ベンジル、アルコキシ、カルボキシレート、アミド、
    ニトロもしくはトリフルオロメタンスルホニルであるか、または合わさってサル
    フェート、オキサレートもしくは別の二価の基を形成でき; Yは、(Z1aまたは(Z1bを引き抜いて弱配位性アニオンを形成
    できる中性ルイス酸、対イオンが弱配位性アニオンであるカチオン性ルイス酸、
    及び共役塩基が弱配位性アニオンであるブレンステッド酸からなる群から選ばれ
    ;且つ 金属錯体は、V、NbまたはTaを中心とするカチオンを含み且つ基(Z1aまたは(Z1bの1つが弱配位性アニオンである塩であることができる
    ] の化合物である請求項16に記載の触媒組成物。
  18. 【請求項18】 前記ジアニオン性単座配位子がセット10またはそれらの
    互変異性体から選ばれ、且つT1bがN(ヒドロカルビル)基である請求項1
    7に記載の触媒組成物: セット10 【化10】 [式中、R3a−dはそれぞれ独立して、H、ヒドロカルビル、置換ヒドロカル
    ビル、ヘテロ原子結合ヒドロカルビル、ヘテロ原子結合置換ヒドロカルビル、フ
    ルオロアルキル、シリル、ボリル、フルオロ、クロロ、ブロモ、シアノまたはニ
    トロであり、さらにR3a−dのうち任意の2つは架橋基によって結合されるこ
    とができる]。
  19. 【請求項19】 MがVである請求項16に記載の触媒組成物。
  20. 【請求項20】 固体担体に担持されている請求項16に記載の触媒組成物
  21. 【請求項21】 1種またはそれ以上のオレフィンを請求項16に記載の触
    媒組成物及び場合によっては第2の化合物Yと接触させることを含んでなるオレ
    フィンの重合方法であって、Yが(i)V、NbまたはTa錯体と反応して、弱
    配位性アニオンを含む塩を形成できる中性ルイス酸、(ii)対イオンが弱配位
    性アニオンであるカチオン性ルイス酸、及び(iii)共役塩基が弱配位性アニ
    オンであるブレンステッド酸からなる群から選ばれる方法。
  22. 【請求項22】 (i)モノアニオン性またはジアニオン性窒素ドナー配位
    子のカチオン性Ti、ZrまたはHf錯体(ここで窒素ドナーは、1−ピロリル
    または置換1−ピロリル基で置換され且つ架橋基によってシクロペンタジエニル
    、ホスファシクロペンタジエニル、ペンタジエニル、6−オキサシクロヘキサジ
    エニルまたはボラタアリール基に結合され、これがまた該金属に配位される)及
    び場合によっては(ii)アルミニウムまたは硼素を中心とするルイス酸を含ん
    でなるオレフィンの重合用触媒組成物。
  23. 【請求項23】 モノアニオン性またはジアニオン性窒素ドナー配位子がセ
    ット11またはそれらの互換異性体から選ばれる請求項22に記載の触媒組成物
    : セット11 【化11】 【化12】 【化13】 [式中、 R2aは、H、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ヘテロ原子結合ヒドロ
    カルビル、ヘテロ原子結合置換ヒドロカルビル、シリル、ボリルまたはフェロセ
    ニルであり; R3a−hはそれぞれ独立して、H、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、
    ヘテロ原子結合ヒドロカルビル、ヘテロ原子結合置換ヒドロカルビル、フルオロ
    アルキル、シリル、ボリル、フルオロ、クロロ、ブロモ、シアノまたはニトロで
    あり、さらにR3a−hのうち任意の2つは架橋基によって結合されることがで
    き; R4aは、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ヘテロ原子結合ヒドロカル
    ビルまたはヘテロ原子結合置換ヒドロカルビルであり; Gは、二価の架橋ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、シリル、ヘテロ原子
    結合ヒドロカルビル、またはヘテロ原子結合置換ヒドロカルビルである]。
  24. 【請求項24】 前記組成物が固体担体に担持されている請求項22に記載
    の触媒組成物。
  25. 【請求項25】 1種またはそれ以上のオレフィンを請求項22に記載の触
    媒組成物と接触させることを含んでなるオレフィンの重合方法。
  26. 【請求項26】 1種またはそれ以上のオレフィンを、第8族〜第10族遷
    移金属錯体を含む触媒組成物と接触させることを含んでなるオレフィンの重合ま
    たはオリゴマー化方法であって、該触媒組成物が改良された熱安定性を示し、該
    金属錯体が、芳香環または複素環式芳香環で独立して置換された1個または2個
    の窒素ドナー原子を含む二座配位子または配位座数が可変である配位子を含み、
    該環のオルト位が、Hまたはアルキル以外の基で置換されているが、但し、該芳
    香環または複素環式芳香環の少なくとも1つのオルト位の少なくとも1つがアリ
    ールまたはヘテロアリール基で置換されている方法。
  27. 【請求項27】 1種またはそれ以上のオレフィンを、第8族〜第10族遷
    移金属錯体を含む触媒組成物と接触させることを含んでなるオレフィンの重合ま
    たはオリゴマー化方法であって、該触媒組成物が、連鎖移動を行うのに有効な量
    の水素の存在下で改良された安定性を示し、該金属錯体が、芳香環または複素環
    式芳香環で独立して置換された1個または2個の窒素ドナー原子を含む二座配位
    子または配位座数が可変である配位子を含み、該環のオルト位が、Hまたはアル
    キル以外の基で置換されているが、但し、該芳香環または複素環式芳香環の少な
    くとも1つのオルト位の少なくとも1つがアリールまたはヘテロアリールで置換
    されている方法。
  28. 【請求項28】 1種またはそれ以上のオレフィンを、第8族〜第10族遷
    移金属錯体を含む触媒組成物と接触させることを含んでなるオレフィンの重合ま
    たはオリゴマー化方法であって、該触媒組成物が改良された熱安定性を示すか、
    連鎖移動を行うのに有効な量の水素の存在下で改良された安定性を示すか、その
    両方であり、該金属錯体が、芳香環または複素環式芳香環で独立して置換された
    1個または2個の窒素ドナー原子を含む二座配位子または配位座数が可変である
    配位子を含み、該芳香環または複素環式芳香環の少なくとも1つのオルト位の少
    なくとも1つが、オレフィン重合反応条件下で該第8族〜第10族遷移金属に対
    して可逆的にアゴスティック結合を形成できるアリールまたはヘテロアリール基
    で置換されている方法。
  29. 【請求項29】 1種またはそれ以上のオレフィンを、第8族〜第10族遷
    移金属錯体を含む触媒組成物と接触させることを含んでなるオレフィンの重合ま
    たはオリゴマー化方法であって、該触媒組成物が改良された熱安定性を示すか、
    連鎖移動を行うのに有効な量の水素の存在下で改良された安定性を示すか、その
    両方であり、該組成物が、芳香環または複素環式芳香環で独立して置換された1
    個または2個の窒素ドナー原子を含む二座配位子または配位座数が可変である配
    位子を含み、該環のオルト位が、Hまたはアルキル以外の基で置換されているが
    、但し、該芳香環または複素環式芳香環の少なくとも1つのオルト位の少なくと
    も1つがアリールまたはヘテロアリール基で置換されている方法。
  30. 【請求項30】 前記芳香環または複素環式芳香環のオルト位がアリールま
    たはヘテロアリール基で置換されている請求項26、27、28または29に記
    載の方法。
  31. 【請求項31】 熱分解半減期が60℃、エチレン200psigにおいて
    溶解状態で10分より長く、前記触媒の平均見掛け触媒活性がC 100
    ,000モル/触媒モル/時より高い請求項26、27、28、29または30
    に記載の方法。
  32. 【請求項32】 熱分解半減期が20分より長く、前記触媒の平均見掛け触
    媒活性がC 1,000,000モル/触媒モル/時より高い請求項31
    に記載の方法。
  33. 【請求項33】 前記触媒の熱分解半減期が30分より長い請求項31に基
    に記載の方法。
  34. 【請求項34】 前記の第8族〜第10族遷移金属がNiである請求項31
    、32または33に記載の方法。
  35. 【請求項35】 プロセス温度が約60〜約150℃である請求項26、2
    7、28、29または30に記載の方法。
  36. 【請求項36】 プロセス温度が約100〜約150℃である請求項35に
    記載の方法。
  37. 【請求項37】 前記の二座配位子または配位座数が可変の配位子がセット
    12から選ばれる請求項26、27、28、29または30に記載の方法: セット12 【化14】 [式中、 R6a及びR6bはそれぞれ独立して芳香環または複素環式芳香環であり、該
    環のオルト位は、Hまたはアルキル以外の基で置換されるが、但し、該芳香環ま
    たは複素環式芳香環の少なくとも1つのオルト位の少なくとも1つがアリールま
    たはヘテロアリール基で置換され; R2x及びR2yはそれぞれ独立して、H、ヒドロカルビル、置換ヒドロカル
    ビル、ヘテロ原子結合ヒドロカルビルまたはヘテロ原子結合置換ヒドロカルビル
    であり、架橋基によって結合されることができる]。
  38. 【請求項38】 前記の第8族〜第10族遷移金属がニッケルであり、且つ
    前記の二座配位子または配位座数が可変の配位子がセット13から選ばれる請求
    項37に記載の方法: セット13 【化15】 [式中、 R7a−dは、Hまたはアルキル以外の基であるが、ただし、R7a−dの少
    なくとも1つはアリールまたはヘテロアリール基であり; R2x及びR2yはそれぞれ独立して、H、ヒドロカルビル、置換ヒドロカル
    ビル、ヘテロ原子結合ヒドロカルビル、またはヘテロ原子結合置換ヒドロカルビ
    ルであり、架橋基によって結合されることができ; R3a−fはそれぞれ独立して、H、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、
    ヘテロ原子結合ヒドロカルビル、ヘテロ原子結合置換ヒドロカルビル、フルオロ
    アルキル、シリル、ボリル、フルオロ、クロロ、ブロモ、シアノまたはニトロで
    あり、さらにR3a−fのうち任意の2つは架橋基によって結合されることがで
    きる]。
  39. 【請求項39】 前記組成物が固体担体に担持されている請求項38に記載
    の方法。
  40. 【請求項40】 プロセス温度が約60〜約100℃である請求項39に記
    載の方法。
  41. 【請求項41】 1種またはそれ以上のオレフィンモノマーを、固体担体に
    担持されたシングルサイト触媒と接触させることを含んでなるオレフィン重合方
    法であって、該触媒がカチオン性第4族〜第11族遷移金属錯体及び弱配位性対
    アニオンを含み;該触媒が気相オレフィン重合反応器中に不活性型で装入され、
    それが第2の化合物Yとの反応によって活性化されて、該反応器中で該シング
    ルサイト触媒が形成され;Yが揮発性のルイス酸性金属ヒドロカルビルである
    方法。
  42. 【請求項42】 前記遷移金属がTi、ZrまたはHfからなる群から選ば
    れる請求項41に記載の方法。
  43. 【請求項43】 前記遷移金属がNi、CoまたはFeからなる群から選ば
    れる請求項41に記載の方法。
  44. 【請求項44】 Yがトリアルキルアルミニウムまたはジアルキル亜鉛で
    ある請求項41、42または43に記載の方法。
  45. 【請求項45】 Yがトリメチルアルミニウムである請求項44に記載の
    方法。
  46. 【請求項46】 (i)前記触媒の不活性型がセット14から選ばれ、(i
    i)前記弱配位性対アニオンが、該触媒の該不活性型とYとの反応によって形
    成されるか、またはB(C 、B(3,5−ビス(トリフルオロメチ
    ル)フェニル) 、[(CB−(イミダゾール)−B(C、BF 及び[(CB−CN−B(Cからな
    る群から選ばれ;且つ(iii)Yがトリメチルアルミニウムである請求項4
    1に記載の方法: セット14 【化16】 【化17】 【化18】 【化19】 [式中、 R2a,b,x,yはそれぞれ独立して、H、ヒドロカルビル、置換ヒドロカ
    ルビル、ヘテロ原子結合ヒドロカルビル、ヘテロ原子結合置換ヒドロカルビル、
    シリル、ボリルまたはフェロセニルであり;さらに、R2a,b,x,yのうち
    任意の2つは架橋基によって結合されることができ; R3a−mはそれぞれ独立して、H、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、
    ヘテロ原子結合ヒドロカルビル、ヘテロ原子結合置換ヒドロカルビル、フルオロ
    アルキル、シリル、ボリル、フロオロ、クロロ、ブロモ、シアノまたはニトロで
    あり;さらに、R3a−mのうち任意の2つは架橋基によって結合されることが
    でき; Aはハロゲン化物基、またはYと反応して活性オレフィン重合触媒を発生
    できるモノアニオン基であるが、但し、Yの不存在下においては、Aは、シ
    ングルサイト触媒の不活性型が該活性オレフィン重合触媒よりもオレフィン重合
    の触媒として少なくとも10倍活性が低くなるようなものであり; A及びAはそれぞれ独立して、ヒドロカルビル、ハロゲン化物、O(ヒド
    ロカルビル)またはO(置換ヒドロカルビル)であるが、但し、A及びA
    少なくとも一方は、Yによって引き抜かれて弱配位性対アニオンを形成でき、
    且つ他方はオレフィンを挿入して、ポリマーの連鎖生長を開始できるか、次に連
    鎖生長を開始できるY上の基と交換されることができ; G及びGは、二価の架橋ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、シリル、ヘ
    テロ原子結合ヒドロカルビル、またはヘテロ原子結合置換ヒドロカルビルであり
    ; Yはトリアルキルアルミニウムまたはジアルキル亜鉛であり; Xは弱配位性アニオンである]。
  47. 【請求項47】 前記触媒を、固体担体に担持された不活性型で気相オレフ
    ィン重合反応器中に装入し、該触媒が該反応器中で第2の化合物Yによって活
    性化される請求項26、27,28、29または30に記載の方法。
  48. 【請求項48】 前記の二座配位子または配位座数が可変の配位子がセット
    15から選ばれる請求項47に記載の方法: セット15 【化20】 [式中、 R6a及びR6bはそれぞれ独立して、芳香環または複素環式芳香環であり、
    1つまたはそれ以上の該環のオルト位は、Hまたはアルキル以外の基で置換され
    ているが、ただし、該芳香環または複素環式芳香環の少なくとも1つのオルト位
    の少なくとも1つはアリールまたはヘテロアリール基によって置換されており; R2x及びR2yはそれぞれ独立して、H、ヒドロカルビル、置換ヒドロカル
    ビル、ヘテロ原子結合ヒドロカルビルまたはヘテロ原子結合置換ヒドロカルビル
    であり、架橋基によって結合されることができる]。
  49. 【請求項49】 (i)前記の第8族〜第10族遷移金属がニッケルであり
    、(ii)前記の弱配位性対アニオンが、該触媒の不活性型と揮発性の第2の化
    合物Yとの反応によって形成されるか、またはB(C 、B(3,
    5−ビス(トリフルオロメチル)フェニル) 、[(CB−(イミ
    ダゾール)−B(C、BF 及び[(CB−CN−
    B(Cからなる群から選ばれ;(iii)Yがトリメチルアル
    ミニウムであり;且つ(iv)前記の二座配位子または配位座数が可変の配位子
    がセット16から選ばれる請求項48に記載の方法: セット16 【化21】 [式中、 R7a−dは、Hまたはアルキル以外の基であるが、ただし、R7a−dの少
    なくとも1つはアリールまたはヘテロアリール基であり; R2x及びR2yはそれぞれ独立して、H、ヒドロカルビル、置換ヒドロカル
    ビル、ヘテロ原子結合ヒドロカルビル、またはヘテロ原子結合置換ヒドロカルビ
    ルであり、架橋基によって結合されることができ; R3a−fはそれぞれ独立して、H、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、
    ヘテロ原子結合ヒドロカルビル、ヘテロ原子結合置換ヒドロカルビル、フルオロ
    アルキル、シリル、ボリル、フルオロ、クロロ、ブロモ、シアノまたはニトロで
    あり、さらにR3a−fのうち任意の2つは架橋基によって結合されることがで
    きる]。
  50. 【請求項50】 前記芳香環または複素環式芳香環がセット17から選ばれ
    る請求項26、27、28、29または30に記載の方法: セット17 【化22】 【化23】 [式中、 R7a,bは、Hまたはアルキル以外の基であるが、但し、R7a,bの少な
    くとも一方はアリールまたはヘテロアリール基であり; R3a−kはそれぞれ独立して、H、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、
    ヘテロ原子結合ヒドロカルビル、ヘテロ原子結合置換ヒドロカルビル、フルオロ
    アルキル、シリル、ボリル、フルオロ、クロロ、ブロモ、シアノまたはニトロで
    あり、さらに、R3a−kのうち任意の2つは架橋基によって結合されることが
    でき; EはO、S、SeまたはNR3bである]。
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