JP2003520969A - プリント回路基板の欠陥を検出する方法およびシステム - Google Patents

プリント回路基板の欠陥を検出する方法およびシステム

Info

Publication number
JP2003520969A
JP2003520969A JP2001554290A JP2001554290A JP2003520969A JP 2003520969 A JP2003520969 A JP 2003520969A JP 2001554290 A JP2001554290 A JP 2001554290A JP 2001554290 A JP2001554290 A JP 2001554290A JP 2003520969 A JP2003520969 A JP 2003520969A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
pcb
image
surface defects
layer
detecting surface
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2001554290A
Other languages
English (en)
Inventor
アライン コロンベ,
カンティン,ミヒャエル
ルイス ベラード,
ガウティアー,ジョナサン
Original Assignee
ソルビション インコーポレイテッド
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by ソルビション インコーポレイテッド filed Critical ソルビション インコーポレイテッド
Publication of JP2003520969A publication Critical patent/JP2003520969A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • GPHYSICS
    • G06COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06TIMAGE DATA PROCESSING OR GENERATION, IN GENERAL
    • G06T7/00Image analysis
    • G06T7/0002Inspection of images, e.g. flaw detection
    • G06T7/0004Industrial image inspection
    • G06T7/0006Industrial image inspection using a design-rule based approach
    • GPHYSICS
    • G06COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06TIMAGE DATA PROCESSING OR GENERATION, IN GENERAL
    • G06T2207/00Indexing scheme for image analysis or image enhancement
    • G06T2207/30Subject of image; Context of image processing
    • G06T2207/30108Industrial image inspection
    • G06T2207/30141Printed circuit board [PCB]

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Quality & Reliability (AREA)
  • Computer Vision & Pattern Recognition (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Theoretical Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Image Analysis (AREA)
  • Image Processing (AREA)
  • Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
  • Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)

Abstract

(57)【要約】 ここではプリント回路基板等の電子回路上の表面欠陥を検出する方法とシステムが述べられる。方法は先ずPCBのデジタル画像の等高線を同定するステップを備える。次に同定された等高線とPCBのベクトルモデルの等高線とを比較することにより異常がPCB上で検出される。それが欠陥に相当するかどうかを確認するために検出された異常のそれぞれが製造データと比較される。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】 (技術分野) 本発明はプリント回路基板のような電子回路の欠陥を検出する検査システムお
よび方法に関する。より詳細には本発明はエッジ検出に基づくそのようなシステ
ム及び方法に関係する。
【0002】 (背景技術) 電子回路はPCB(プリント回路基板)、リードフレームおよびハイブリッド
回路のような多くの形態をしている。これらの回路は通常は例えば導体、孔、パ
ッド、誘電体、フォトポリマーレジスト膜等の複数の構成要素を含む。これらの
構成要素は層の上に組み立てられ、それらの層は互いの上面で取り付けられる。
そのような多層アセンブリーの例はよく知られた導体−孔−グレーズ回路構造で
ある。以下の説明において我々は単に例としてプリント回路基板(PCB)に言
及する。しかしながら本発明が電子回路のこの実施例に限定されないのは言うま
でもない。
【0003】 過去、PCBの検査は人により目視で行なわれ、許容回路モデルとの差を見つ
けようとして拡大鏡を用いて回路を目視してきた。目視検査の欠点は多数ある。
即ち主観的であること、遅いこと、欠陥に関する定量的情報の収集が困難なこと
等である。
【0004】 コンピュータ処理速度の増加に伴って最近は自動検査法が出現してきた。これ
らの自動化法のほとんどは検査すべきPCBのデジタル画像を取り込み、また欠
陥の存在を決定するためにデジタル画像を解析することに基づく。そのような自
動化法の例としてエッジ検出に基づく自動化法がある。
【0005】 エッジは構成要素の等高線の線分である。構成要素(あるいは領域)から構成
要素への変わり目が光学的に異なる特性を有すると見なせば、エッジはデジタル
画像については一つの構成要素から次の構成要素への色調の変動として目視で区
別できる。エッジに基づく検出法はPCB画像のエッジを特徴づけかつ解析して
そのようなエッジを既知の値および基準と比較することに基づく。
【0006】 添付図面の図1はPCBあるいは他のタイプの電子回路について見られる欠陥
の例を示す。欠陥は例えばPCBの二つの層間の重なり不良10、二つの層のア
ライメント不良12、二つの隣り合うトラック間の狭すぎる間隔14、二つの構
成要素間のブリッジ16、狭すぎるトラック18あるいは壊れたトラック19で
ある。
【0007】 電子回路の欠陥を検出するエッジに基づく方法の例は1986年2月発行の発
明者Baier他の名称「MethodFor Automatic Opti
cal Inspection」の米国特許第4570180号に記述されてい
る。この特許はデジタル画像処理技術を用いる実質的に2次元パターンの自動光
学検査の方法および装置に関係している。この方法は、グレーレベルデジタル画
像がエッジあるいは線に対して走査され、画像記憶においてこれらのエッジをマ
ークする第1のステップを含む。そのあと画像記憶におけるマークされない全て
の領域が走査され、許容グレーレベルに関して試験される。
【0008】 マークされない領域を許容グレーレベルと比較することのみにより異常が試験
されるので、Baierの方法の欠点は検出の質がデジタル画像の質に依存しす
ぎることである。実際、物体のデジタル化された画像はデジタル化アルゴリズム
、倍率差等に依存してパターン寸法および位置を変化させる可能性がある。
【0009】 Baierの方法のもう一つの問題はエッジに対応しないデジタル画像上の全
画素を試験するのに近似的に同様の計算力を要し、計算資源および時間の浪費に
繋がることである。
【0010】 Baierの方法のさらにもう一つの欠点は検出された欠陥を特徴づけること
が困難であることである。そのような特徴づけは電子回路の製造工程に現れる誤
差パターンを見つけるのに有用である。
【0011】 1995年9月19日発行の名称「Method of Detecting
Defects In Semiconductor Package Le
ads」の米国特許第5452368号においてLeBeauは第1の物体の第
1のグレーレベル画像を第2の物体の第2のグレーレベル画像と比較することに
より物体中の欠陥を検出する方法を教示している。より正確には第1の画像のエ
ッジの特徴が輪郭化され、第2の画像の詳細なエッジの特徴と比較され、またそ
の逆も行なわれる。Baierの方法とは反対にLeBreauの方法はデジタ
ル画像のエッジに無関係の領域を検査しない。
【0012】 しかしながらLeBreauの方法の欠点は、欠陥が物体の二つの画像を比較
することにより探索され、同一場所近傍に位置する非常に類似した欠陥により変
質され得ることである。LeBreauの方法はそのような欠陥の検出を考慮し
ていない。誤った製造工程によりそのような繰り返し欠陥を生じ得るのでこのこ
とは大きな欠点である。
【0013】 従って電子回路のデジタル化された画像の質と解像力に依存しない、またグレ
ーレベルの変動を欠陥とし解釈しない、電子回路の欠陥検査を考慮する方法とシ
ステムを得ることが望ましい。
【0014】 また設計データを使用する欠陥検出方法およびシステムを得ることが望ましい
【0015】 さらに一つは異常を検出し、もう一つは欠陥に関するこれらの異常を検査する
二つのレベルの検査を提供して、処理速度の最大化に役立つ方法とシステムを得
ることが望ましい。
【0016】 (発明の開示) より具体的には本発明により、構成要素を含む少なくとも一つの層を有するプ
リント回路基板(PCB)の表面欠陥を検出する方法が提供され、前記方法はP
CBのデジタル画像を提供するステップと、PCB画像のエッジを同定するステ
ップと、PCBの少なくとも一つの層上の各構成要素に対する対応するコンピュ
ータモデルを提供するステップと、前記同定されたエッジをコンピュータモデル
と比較することによりPCB画像の異常を検出するステップと、検出された異常
のそれぞれに対して検出された異常が表面欠陥に対応するかどうかを決定するス
テップとを含む。
【0017】 本発明の別の態様によれば、PCBの表面欠陥を検出するシステムが提供され
、前記システムはPCBのモデルを含み、かつPCB画像のエッジを同定するよ
うに構成され、かつ同定されたエッジをコンピュータモデルと比較することによ
りPCB画像の異常を検出し、かつ検出された異常のそれぞれに対して検出され
た異常が表面欠陥に対応するかどうかを決定するコンピュータと、PCBに照明
を提供する、コンピュータに接続された照明アセンブリーと、コンピュータに接
続されたフレーム取り込み装置と、PCBの画像を撮影する、フレーム取り込み
装置に接続されたカメラと、フレーム取り込み装置に接続された位置決めシステ
ムとを備える。
【0018】 「PCB」と言う用語はここでは電子回路と解釈すべきであり、目視で区別で
きる表面欠陥を含み得る。
【0019】 本発明の他の目的、利点および特徴は、添付図面に関連して単に例証として与
えられる、その好ましい実施例の以下の非限定的な説明を読めばより明らかにな
るであろう。
【0020】 (発明を実施するための最良の形態) 一般的に言って、本発明の実施例によるPCBの表面欠陥を検出する方法は1
)PCBのデジタル画像のエッジを同定するステップ、2)同定されたエッジを
PCBのコンピュータモデルと比較することにより異常を検出するステップと、
3)検出された異常が各異常の特徴づけにより表面欠陥に対応するかどうかを決
定するステップとを含む。
【0021】 本発明による方法は従って二つのレベルの検査を提供する。即ち異常の迅速な
同定が可能で、比較的少ない計算時間しか要さない第1のレベルと、検出された
欠陥を特徴づけるように、同定された異常を設計仕様と比較する、より洗練され
た第2のレベルである。
【0022】 この方法を実施するために、検査されるPCBのデジタル画像と類似のPCB
のコンピュータモデルが供給されなければならない。
【0023】 添付図の図2に言及して、本発明の実施例によるPCBの表面欠陥を検出する
システム20を説明する。
【0024】 一般的に言えば、後でより詳細に説明するように、システム20は本発明によ
る方法を用いて被検PCBの画像を集め、また欠陥候補を検出することを可能に
する。
【0025】 システム20はコンピュータ22、フレーム取り込み装置24、フレーム取り
込み装置24に接続されたカメラ28、軸制御装置32およびサーボ制御装置3
4を介してフレーム取り込み装置24に接続された位置決めシステム30を備え
る。
【0026】 コンピュータ22は検査すべきPCBのカメラ28により撮影された画像と、
類似のPCBのコンピュータモデルの両方を記憶するように構成されたパーソナ
ルコンピュータの形式であると都合がよい。コンピュータ22はまた照明アセン
ブリー26を制御し、かつ画像を解析するのに必要な計算を行なうようにプログ
ラムされていると都合がよく、本発明による方法を用いて被検PCBが表面欠陥
を含むかどうかを評価する。
【0027】 照明アセンブリー26は被検PCB上の光強度の調節を可能にする。
【0028】 フレーム取り込み装置24はカメラ28とコンピュータ22と対話するカード
の形式をしている。フレーム取り込み装置24は二つのモードのどちらででも動
作できると都合がよい。第1のモードによればフレーム取り込み装置24は画像
を線ごとに取り込み、各線をコンピュータ22に送る。第2のモードにおいては
フレーム取り込み装置24は画像をコンピュータ22に送る前にPCBの全画像
を一度に取り込む。
【0029】 オプションの従来の画像処理カード36はフレーム取り込み装置24とコンピ
ュータ22と対話すると都合がよく、カメラ28により撮影された画像のより迅
速な処理を可能にする。カード36が含まれる場合、コンピュータ22は画像を
処理するように構成される。
【0030】 カメラ28はPCBのデジタル画像の撮影を可能にする。カメラ28はリニア
あるいはマトリックスモードで動作し得るCCD(Charged−Coupl
ed Device)カメラの形式であると都合がよい。カメラ28の解像力は
検査すべきPCBの性質と必要精度により変わる。
【0031】 リニアCCDカメラを使用するには位置決めシステム30がPCBをその画素
に垂直な方向に走査することが必要である。しかしながら垂直方向において得ら
れる解像力は実用的には無限大である。その線解像力はおよそ8000ピクセル
である。
【0032】 マトリックスCCDカメラはおよそ4000x4000ピクセルの解像力を有
する。そのようなカメラはPCBのまばらな領域に使用すると都合がよい。この
場合、位置決めシステム30は領域から領域へ移動するように構成される。
【0033】 位置決めシステム30はPCBが載っている支持体を移動させる軸とサーボモ
ータ(図示せず)を含む。
【0034】 軸制御装置32は位置決めシステム30の運動を検査システム20の必要物と
同期させる。
【0035】 サーボ制御装置34は位置決めシステム30と位置決めシステム30の電気モ
ータ(図示せず)を起動するのに必要な電源電流の大きさを調節する遡及ループ
を制御する。
【0036】 フレーム取り込み装置、サーボ制御装置、位置決めシステムおよびCCDカメ
ラは周知技術であると思うのでここではこれ以上詳述しない。
【0037】 もちろんシステム20は本発明の精神と本質を逸脱することなく他の構成を有
することができる。
【0038】 システム20が生産ラインの一部であってもよいのはもちろんである。
【0039】 さて図3に注目すれば、本発明の実施例によるPCBあるいは別の電子回路の
表面欠陥を検出する方法200を次により詳細に説明する。
【0040】 ステップ202においてPCBのデジタル画像がコンピュータ22に供給され
る。画像はグレーレベルを有するビットマップの形式であると都合がよい。グレ
ーレベルの数は必要精度により変わる。本発明の最も好ましい実施例によればシ
ステム20は256のグレーレベルを有するデジタル画像を生じかつ解析する。
あるいは初期画像は他のフォーマットを有してもよく、その場合変換ステップが
ビットマップ画像を供給するために追加される。
【0041】 ステップ204において等高線がPCB画像について同定される。ステップ2
04はPCB画像の等高線を表すActual Contour Chart(
ACC)を生じる。あとで説明するように等高線の位置はシステム20により取
り込まれたPCB画像の解像力より大きな解像力で計算される。ステップ204
は図4にまとめられている。
【0042】 サブステップ204a(図4)においてPCB画像の光度が補正される。より
具体的には画像の光度(画素強度)が以下の式を用いて正規化されると都合がよ
い。
【0043】
【数1】 ただし、lumは画像の各画素における光度であり、LUM_MINは画像の最
も暗い領域の平均光度であり、LUM_MAXは画像の明るい領域の平均光度で
ある。
【0044】 上の式は256のグレーレベルの全てを包含するようにLUM_MINとLU
M_MAXの間で画素強度を分布させることを考慮している。
【0045】 上記の式は画像のグレーレベルの数により補正してもよいのはもちろんである
。他の正規化方程式を用いてもよい。
【0046】 サブステップ204aは随意であるけれども閾値処理サブステップ(204d
)の効率を増大するために光度を補正することは好都合であることが分った。
【0047】 最も暗い領域と明るい領域を決定するアルゴリズムを考えることは当業者の考
えの及ぶ範囲内であると思われる。
【0048】 オプションのサブステップ204bにおいてPCB画像は画像の数値化により
生じるノイズを低減するためにフィルタリングされる。以下のガウスのフィルタ
は3x3の画素ウィンドー(8つの接続ウィンドー)に適用されると都合がよい
【0049】
【数2】
【0050】 ガウスフィルタは別の寸法を有する画素ウィンドーに適用してもよい。他のタ
イプのフィルタを用いてもよい。
【0051】 サブステップ204cにおいて従来のPrewitt法を用いて8つの接続さ
れたウィンドーに対して数値グラディエントが計算される。あるいは別の方法を
用いてもよい。グラディエントの強度は新しい画像に蓄えられる。Prewit
t法は周知技術であると思うのでここではこれ以上詳述しない。
【0052】 次にグラディエント画像が所定の閾値と比較され、光度が急激に変化する画像
領域内の画素が同定される(サブステップ204d)。これらの領域は通常は画
像内の等高線を重ね合わせる画素トラックに対応する。
【0053】 サブステップ204eにおいてエッジの第1の近似がサブステップ204dに
おいて同定された画素トラックの輪郭化により計算される。実際、画像の各エッ
ジはそれぞれが8つの接続されたウィンドーにおいて少なくとも一つの隣接部を
有する一連の接続された画素に対応する。輪郭化プロセスにより画素連鎖は1画
素幅を有するトラックにされる。初期画像と同一の寸法を有し、しかし二値のみ
即ちエッジに属する画素に対して1を、他の画素に対しては0を有する画像ファ
イル(ACCimage)に結果が蓄えられると都合がよい。
【0054】 サブステップ204fにおいてACCimageの画素の各連鎖はACCを形成す
る画素の座標として作表される。これらの座標は後で説明するように実際の座標
の第1推定に過ぎない。
【0055】 より正確には、連鎖は反時計方向に従い、また各連続画素の座標はファイルA
CCに蓄えられる。従ってACCは一連のベクトルを含み、それぞれは画像の等
高線の一つの座標を表す。
【0056】 2階微分がゼロを通過する位置を推定するために各等高線が画素ごとに解析さ
れるが、これは光度の変曲点の座標の信頼性のある指標であることが分った。光
度プロファイルにおける変曲点は二つの材料間の変わり目の指標であるので対応
する画素は等高線の部分であると考えられる。
【0057】 より正確にはプロセスは先ず各画素において等高線に垂直な方向の概算を知る
ことにある。これは先ず同一等高線について2画素前と2画素後を含む現在の画
素位置において線適合を行なうことにより達成される。線適合は画素位置におけ
る等高線接線の角度を示す。垂直方向は90度を加えることにより得られる。次
にその方向に沿い、現在の画素を通る光度プロファイルがシステム20により初
めに取り込まれた初期PCB画像において抽出される。2階微分が光度分布につ
いて計算される。2階微分がゼロを通過する点は光度分布の変曲点に対応する。
この点の座標が、座標の第1の推定と置換されてACCに蓄えられる。
【0058】 もちろん各画素において等高線に垂直な方向の概算を知るのに他の数値的方法
を用いてもよい。
【0059】 被検PCBの画像から等高線を抽出する他の方法を考えることは当業者の考え
の及ぶ範囲内であると考えられる。
【0060】 ステップ208においてより詳細に説明するようにACCとACCimageに蓄
えられた等高線位置を設計された等高線位置と比較することにより異常が被検P
CBについて検出される。実際、その位置がその設計位置と異なる場合、等高線
あるいは等高線の部分はACCについては疑わしい。
【0061】 方法200(図3)のステップ206において被検PCBのコンピュータモデ
ルが次に供給される。コンピュータモデルは構成要素の等高線を有する各層の多
角形形状のベクトルモデルを含むと都合がよい。多角形は等高線の適当な表現で
ある上に、後で述べるようにACCと比較するのに効率がよいことが分った。
【0062】 PCBの従来のGerberモデルはベクトルモデルに変換されると都合がよ
く、各層の構成要素は多角形で表される。実際、円弧を含む要素でも、円弧エッ
ジが短い頂点により代表される場合、適当なベクトルモデルとして表される。あ
るいはPCBのGerberモデルが入手できない場合、関係情報を抽出するの
にPCBの他の多層モデルを用いてもよい。
【0063】 PCBのベクトルモデルをACCおよびACCimageと比較する前にモデルを
画像に合わせるためにベクトルモデルに対して変換を実行してもよい。実際、P
CBの製造中に各層は通常、異なる時点において異なる機械にかけられ、各層の
アライメントはわずかに異なる可能性がある。従ってPCBの多層モデルを持ち
、かつ被検PCBに従ってモデルの層を再合わせしてPCBのよりよいモデルを
生み出すことが好ましい。
【0064】 各層に対してアライメント工程に対する基準点として所定の点が選択される。
層32のモデルとPCB画像34を示す図5からさらによく分るように、基準点
として水平線分36と垂直線分38との交点40を選択するのが好都合であるこ
とが分った。別の層の要素に覆われない層の領域はより信頼性のある基準点を提
供することはもちろんである。PCB画像34は全ての層を含むのでPCB画像
34が単一層モデル32には存在しない構成要素42のような要素を含むことは
特筆される。
【0065】 基準点のリストが完成されると、PCB画像上の基準点に従ってアライメント
するために層の各点に対して以下の変換がなされる。
【0066】
【数3】
【数4】 ただし、(u,v)はPCB画像における座標であり、(x,y)は層モデルに
おける座標であり、au、bu、cu、ddおよびeeはPCB画像およびモデル
間の回転、並進、スケールおよび斜視に対する補償をさせる係数である。これら
の係数は各層に対して異なる可能性がある。
【0067】 計算の遅れを最小限にするためにPCBの検査前に基準点は選択されると都合
がよい。
【0068】 全てのモデル層がアライメントされたらそれらは全て重ね合わされる。
【0069】 モデルの全ての層は複数の多角形を含むので、2層の重ね合わせは第1の層の
各多角形を第2の層からの全ての多角形に重ね合わせることに基づく。モデルが
例えば第3の層を含む場合、第3の層からの多角形は第1の二つの層の重ね合せ
から生じる新しい多角形と重ね合わされる。
【0070】 重ね合せ工程は図6aから6cに示される。
【0071】 図6aは各層に一つの三つの多角形P1、P2およびP3を含む3層モデルを
示す。重ね合わせは多角形P1とP2の重ね合せの結果として多角形P3(Pv
3)を重ね合わせることに基づく。
【0072】 P2のP1への重ね合せは以下を生じる。
【0073】
【数5】
【数6】
【0074】 P2をP1に重ね合わせた後、P2はそのままであり、一方P1は重なるP2
の部分を引かなければならない。P2とP1の重ね合わせにP3を重ね合せるこ
とにより以下を生じる。
【0075】
【数7】
【数8】
【数9】
【0076】 いくつかの場合、2つの多角形の引き算は独立な多角形を生じる。Pv1とP
v2は多角形リストと見なし得る。層に一つより以上の多角形がある場合、P1
、P2およびP3は多角形のリストとして見なし得る。
【0077】 重ね合わせ工程により重複領域を指示できる。重複領域についての多角形は新
しい層の重ね合せのあとに更新されなければならない。
【0078】 図6cでよりよく分るように、O21はP3との重ね合わせの後にP1とP2
の交点から生じる最終多角形である。
【0079】 繰り返すが、二つの多角形の交点または二つの多角形間の差は一つより多い多
角形を生じるので、O21はここでは多角形のリストと解釈される。層1と2の
間に多角形が重ならない場合、このリストは多角形を含まない。
【0080】 上記の重ね合わせ工程により後で述べるように狭い領域のトラックを維持でき
る。狭い領域の例は図7aの領域T31である。領域T31は以下のように抽出
される。
【0081】 図7bから分るように、多角形P1とP3はD(Pv1)とD(P3)を生じ
るように膨張される。そうするとそれらの交点は抽出されるべき領域を明らかに
含む多角形D31を生じることが分る。多角形O31が膨張されてD(O31)
を生じ、これがO31から引かれて狭い領域T31を生じる(図7c参照)。
【0082】 図7aから7cに示された演算は 以下の式により要約される。
【0083】
【数10】
【0084】 繰り返すがT31は以下の二つの理由で多角形のリストと見なし得る。即ち二
つの多角形の交点が一つ以上の多角形を生じ、かつD(O31)もまた一つ以上
の多角形を生じる。
【0085】 要約すれば、層の重ね合わせは以下の三つの結果を生じる。即ち
【0086】
【数11】 見える多角形のリスト、
【数12】 重複領域からの多角形のリスト、
【数13】 狭い領域からの多角形のリスト、 ただし、
【数14】 であり、かつO1はゼロ(空白)である。
【0087】 工程は反復的である。即ち新しい層のそれぞれは前の層の重ね合わせにより得
られるPvk、OkのおよびTkのに重ね合わされる。添え字kは重ね合わされた
層数を示す。
【0088】 多角形のリストに対して実行される演算は和集合、積集合、引き算、膨張変換
である。和集合(∪)は多角形の二つのリストを一つのリストに寄せ集めること
に基づく。二つのリスト間の積集合(∩)は第1のリストからの各多角形と第2
のリストからの各多角形との積集合に基づく。同様に二つのリストが引き算され
る場合、第1のリストの各多角形は第2のリストの全ての多角形に対して引き算
される。
【0089】 見える多角形PvkのリストはPCB画像に現れるべき全ての等高線を記述す
る。しかしながらリストPvkは上記のようにACCと迅速に比較されるのに適
したフォーマットをしていない。実際ACCの各点は迅速な比較を保証するため
にPvkからの少なくとも一つの多角形線分に対応すべきである。
【0090】 リストPvkを変換してそれが形成する線分を有する各多角形の頂点を次の頂
点で置き換えることによりCharacteristic Contour C
hart(CCC)を生じる。次にCCCの線分はPvkリストにおけるように
全頂点に代わりにそれらの線分の全ての記述を含む多角形リストに分割される。
より具体的にはCCCにおける各線分は線、線の端点の座標および線分から許容
される距離閾値の方程式により特徴付けられる。さらにCCCは全ての多角形に
対し多角形をぴったりと囲む矩形の特徴づけを含む。矩形に囲まれないACC内
の各点が多角形線分に対応しないことを確実にするようにこの矩形は膨張される
【0091】 異常の検出 CCCが作られると、方法200のステップ208(図3参照)はACCにお
ける等高線を今はCCCの形式になっているコンピュータモデルと比較すること
によりPCBの異常を検出することにある。より具体的には異常が以下のチャー
トにおいて指示されかつ特徴付けられると都合がよい。即ちECC(the E
xcess Contour Chart)とMCC(Missing Con
tour Chart)である。
【0092】 外れた等高線の検出における第1のステップはACCの各点に対応するCCC
の線分を見つけることである。点が十分にCCCの線分に近くない場合、それは
外れていると考えられECCに蓄えられる。計算された距離は所定の閾値と比較
される。ECCのフォーマットはACCと同一であり、それは接続された点のリ
ストにより特徴付けられた各等高線を有する等高線のリストである。
【0093】 より正確には、ACCにおける各点に対し *そのリストされた矩形がその点を囲むまでCCCが走査される。 *その点が対応する可能性のある線分が見つかるまで対応する多角形が走査され る。 *線分がその点に対応しない場合、別の多角形が走査される。 *線分が検出されたら工程は次の点について継続されるが、しかし同じ線分につ いて開始すると都合がよい。実際、多角形を形成する点は連続しているので次 の点が同じ線分に対応する確率が大きい。 *どの線分にも対応しない点がECCにおいて指示される。その点が連続する一 連の点である場合、それはこの一連の部分であるとしてECCに記録される。
【0094】 ACCの各等高線に対して、点がACCとCCCにいて同一方向に走査される
と都合がよい。
【0095】 もちろんACCにおける外れた等高線を検出するのに他の方法を用いてもよい
【0096】 次に見失った等高線の検出をより詳細に説明する。
【0097】 見失った等高線の検出もまたCCCにおける等高線の位置からずれ過ぎている
等高線の検出を意味する。高密度電子回路に対して等高線の許容ずれ区域は比較
的狭い。しかしCCCはベクトルフォーマットなのでその解像力は画像の解像力
により制限されない。同様にACCはサブピクセルの解像力を有する等高線の検
出の後にコンパイルされるのでACCは画像の解像力の7から8倍の解像力を有
する。このことは最大許容ずれが狭くても置き違えた等高線の検出を可能にする
ので都合がよい。
【0098】 見失った等高線の検出は精度の観点からは比較的拘束力がないことは特筆され
る。見失った等高線の検出の目的はCCCの等高線がPCB画像上にないことを
確認することだけである。実際PCB画像にはあるがコンピュータモデルに対し
て置き違えた等高線は外れた等高線検出工程により検出され、ECC上で指示さ
れる。従って見失った等高線の検出は画像の解像力で達成でき、従って画像を比
較することにより行なわれる。
【0099】 MCCを得るには、まずCCCの等高線がACCimageと同じ解像力を有する
二値画像であるCCCimage上に描かれる。MCCを生じるCCCimageとACC image の比較は以下の式で要約される。
【0100】
【数15】 ただし、D(ACCimage)は膨張後のACCimageである。MCCの
計算工程も図8に要約される。
【0101】 MCCとECCはPCB画像における異常に対応する領域記述を備える。これ
らの領域は欠陥を検出するために方法200のステップ210において検査され
る(図3参照)。
【0102】 異常の検出 異常はECCにおいて一つ以上の等高線を発生し得るが、ECCの各等高線は
一つの異常のみに対応するので、ECCの各等高線は独立な異常と考えられ、別
々に検査される。ECCにおける全ての等高線が検査されたら検査工程は終了す
る。所定の製造基準を超えていることが分ったECCの等高線はファイルに指示
され、また特徴づけられると都合がよい。
【0103】 ファイルは本発明の精神と本質から逸脱することなく多くの形式を取ることが
でき、例えば欠陥の位置と寸法や、そのような欠陥により変質されたPCBの記
述も含む。
【0104】 PCB上で見つけられる欠陥の大部分はPCBに印刷された要素の間違った幅
あるいはこれらの要素間の正しくない間隔である。要素の幅あるいは二つの要素
間の距離が設計仕様から離れすぎる場合、よごれ、溝、滲みのような他の異常が
問題となり得る。
【0105】 以下の二つのどちらかが製造基準を超える場合、異常の中から欠陥が検出され
る。即ち異常を有する要素の幅、および異常が要素になければ二つの隣接要素間
の距離である。これらの二つの条件が次に説明するように独立に確認される。
【0106】 これら二つの条件の確認は非常に似ている。一般的に言えば、どちらの場合も
異常の近接部に見られるCCCの線分の全ては、ここで近接線分リスト(NSL
)と呼ぶリストの形式でコンピュータファイルに記憶される。異常近傍の各線分
に対して第1の線分とは対向するNSLの他の線分全てが求められる。第1の線
分とこれらの対向する線分の全てとの距離が設計あるいは製造基準内にあるかど
うかを評価するために確認される。これらの基準は予め決められ、コンピュータ
22によりアクセスできるようにコンピュータファイルに予め記憶されることは
もちろんである。
【0107】 二つの線分間の距離の確認とそれらの間の幅の確認はあとで説明するように何
が二つの対向する線分かの定義により異なるだけである。
【0108】 図9に見られるように、線分44のような等高線の各線分は二つの半平面46
および48の間の境界線と解釈できる。線分44の側面上の、等高線50と対向
する側にある平面46は線分44の「外」側にある。線分44の側面上の、等高
線50と同じ側にある平面48は線分44の「材料」側と呼ばれる。線分44と
「対向する」線分52との間の距離が確認されたら、材料側は「有効」として設
定される。
【0109】 線分44と56の間のトラック54の幅が確認されたら外側が有効である。二
つの線分がそれらが互いに面しているかどうか、またそれらが同じ有効平面にあ
るかどうかを解析するために対にされる。図9の例では線分52、58および6
0のどれかが線分44と対にされる。
【0110】 検出工程は都合よくパーセントで表された閾値処理を用いたので、新しいタイ
プの回路ごとに幅と距離に対する新しい閾値をプログラムする必要がない普遍的
な方法を提供する。もちろんパーセントは設計値により表現される。例えば、二
つの線分間の距離が設計値の2倍より小さい場合に問題となるときは閾値は50
%に設定される。
【0111】 線分間の幅を確認するのに絶対値に基づく閾値も使用できることはもちろんで
ある。
【0112】 二つの線分間の間隔を決定するのに線分の方向に依存し、かつ二つの線分間に
一つ以上の異常があるかどうかに依存する、異なるアプローチを選択してもよい
【0113】 異常が二つの平行線分間に検出された場合、二つの線分間の間隔は二つの線分
間の距離として単純に定義される。
【0114】 二つの線分62と64が平行でない場合(図10参照)、間隔はそれらの間の
角度として任意に定義される。そのような場合、ある点から基準線分62までの
距離は以下のように測定される。即ち二つの線分間の交点68と、その点とを通
る線66が測定される。その点と基準線分間の距離は線66と基準線分62間の
角度72として定義される。
【0115】 どちらの場合も異常の各点と基準線分(対向する線分)との間の距離がまた計
算される。記録された最大および最小距離は異常を含む区間を定める。異常があ
る場合二つの線分間の有効間隔は二つの線分間の間隔引く区間である。正規化間
隔は二つの線分の有効間隔と間隔の比である。
【0116】 図11は二つの線分80および82の間に複数の異常74、76および78が
検出される場合、間隔の計算例を示す。
【0117】 この場合区間は各異常について計算される。一つ以上の異常の区間が重なる場
合(例えば異常74および76を参照)、これらの区間は一つの累積区間(a−
c)を形成するように再グループ化される。累積(a−c)および非累積(d−
e)区間は加算されて有効間隔を与える。繰り返すが正規化間隔は二つの線分間
の有効間隔と実際の間隔との比である。
【0118】 間隔と幅の確認は異常近傍のPCB領域においてのみ実行される。以下の記述
はこれらの領域がどのように決定されるかを説明している。これらの領域は異常
解析領域(AAR)と呼ばれる。
【0119】 次に図12に注目すれば、AARは異常86を囲む矩形84として先ず決定さ
れる。異常86の等高線を形成する点の座標を知ってそのような矩形を決定する
のに周知のアルゴリズムが使用できる。
【0120】 次に矩形84は以下で定義される膨張係数(DF)により膨張される。即ち
【0121】
【数16】 ただし、%resは有効AAR88を与える正規化間隔あるいは正規化幅につい
ての所定の閾値である。
【0122】 矩形88の中に囲まれた領域の外にある要素は、それが異常86との組合せで
欠陥を生じ得ないと見なされるのでさらなる解析を考慮しないのが都合がよい。
しかしながら線分89〜91および上記のように対にされ、かつAAR88にあ
る線分89〜91’の全ては欠陥検査される。
【0123】 第2の異常のAARが第1の異常のAARに重なる場合、これら二つの異常の
組合せは欠陥を生じ得る。異常が欠陥検査された場合、そのAARが他の異常の
AARと重ならないように確認が行なわれる。もし重なったら関係する異常を全
て囲む新しい矩形が作り出される。新しい矩形は膨張されて新しいAARを生み
出し、この最終工程は新しいAARが他のAARのどれにも重ならなくなるまで
繰り返される。このAARにおいても線分の全ての対は欠陥確認される。
【0124】 AARは一つ以上の異常を含み、また大きさが比較的重要であり得るので各異
常が二つの線分間の間隔にあるかどうかを確認するために試験が実行される。試
験を実行するのに以下の二つの規則を実施すると都合がよい。
【0125】 第1の条件はAARを定める矩形は二つの対にされた線分の二つの有効な半平
面に重ならなければならないということである。
【0126】 第2の条件は二つの線分が十分近接していなければならないということである
。より具体的には以下の基準が用いられる。即ち第1と第2の線分の間の異常の
距離の合計はそれらの間の半値幅より小さくなければならない。二つの線分間の
最大距離は蓄えられ、かつここではdsegmaxと呼ばれる。そのような基準
は好結果を生むことが分ったけれども、二つの線分が検査するのに十分近接して
いる場合は他の基準を用いてもよい。
【0127】 第1と第2の条件が満たされたら、異常は二つの線分間の間隔にあると考えら
れ、また対向する一対の線分が欠陥検査される場合に考慮される。
【0128】 図13a、13bおよび13cに注目すれば、異常が許容幅あるいは間隔を超
えることにより欠陥を生じるかどうかを決定する方法300を述べる。
【0129】 後で議論するように、狭い間隔の領域および重複領域の場合にもう二つの検査
が追加して実行される。
【0130】 異常を二つのグループに分けると都合がよい。即ち要素の異常であって、幅欠
陥を生じ得る異常と、要素の異常ではないが、間隔欠陥を生じ得る異常である。
【0131】 要素の異常は比較的容易に選択される。実際、ECCの各等高線は一連の連続
する点に対応する。次にCCCの等高線に重なるECCの等高線は二つに割られ
る。それに関してECCの等高線のどの点も要素上にある場合、等高線の全ての
点はこの要素上にあると考えられる。ECC等高線のただ1点が要素上にない場
合、等高線は要素上ないと考えられる。ECCの各等高線のただ1点を確認する
ことにより、ここでECCspacingおよびECCwidthと呼ばれる二つのグループ
に異常を区別できる。方法300は二つのグループについて独立に用いられる。
【0132】 二つのグループのそれぞれに対する方法300の適用間の差は非常にわずかで
あり、簡単のために方法300は総体的ECCと呼んで説明する。
【0133】 第1のステップ302はECCwidthにリストされる次の未検査異常を取るこ
とである。ステップ302が実行される第1回目は、次の異常はリストされた最
初の異常であることはもちろんである。この異常は現在異常(CA)と呼ばれる
【0134】 ステップ304はCAのAARと重なるその対応するAARを有するECCの
異常を見つけることにある。
【0135】 ステップ306においてこれらの異常はECCリストにおいて検査済みとして
マークされ、現在異常リスト(CAL)に入れられる。AARは上記のように再
評価され(ステップ306)、ステップ304および306は未検査異常が新し
いAARと重なるそのAARをもたなくなるまで繰り返される。
【0136】 ステップ308においてAAR内に囲まれたCCCの全ての等高線が新しいN
SLにリストされる。
【0137】 ステップ310においてNSLの全ての線分が解析済みとしてマークされてい
るかどうかが確認される。もしそうでなかったらNSLの次の未解析線分が現在
線分(CS)になり、CSがNSLにおいて解析済みとしてマークされ(ステッ
プ311)、工程がステップ316まで続く。
【0138】 NSLの全ての線分が解析済みとしてマークされたら、ステップ312におい
てECCの全ての異常が検査済みとしてマークされたかどうかが確認される。そ
うでない場合、ステップ302が次の異常について繰り返される。そうであれば
、異常の検査は終了し、全工程が停止される(ステップ314)。
【0139】 ステップ316はNSLの次の未解析線分が上記の基準を用いてCSと対向す
るかどうかを確認することにある。そのような場合、工程はステップ320を続
ける。そうでない場合でかつNSLの最後に達した場合(318)、ステップ3
10が繰り返される。最後に達しない場合はステップ316が繰り返される。
【0140】 ステップ320においてCSと、CSに対向する線分とを考慮してdsegm
axが上記のように計算される。
【0141】 ステップ322においてCALが別の未検査異常を含むかどうかが確認される
。そうである場合、CALにおける次の未検査異常がCAとして設定され(ステ
ップ324)、工程はステップ326を続ける。そうでない場合この方法はステ
ップ330を進める。
【0142】 ステップ326においてCAのAARがCSとそれに対向する線分の両方の有
効半平面と重ならない場合、ステップ322が繰り返される。もし重なる場合こ
の方法はステップ328を進める。
【0143】 ステップ328においてCSへの最小距離(MD1)と対向する線分への最小
距離(MD2)と、最大および最小間隔(MASおよびMIS)がCAの各点に
ついて計算される。
【0144】 検出された全ての異常の中から二つの線分の間隔内にある異常が決定される(
ステップ330)。試験は以下の通りである。即ちもし
【数17】 なら異常は二つの線分の間の間隔にあるとは考えられない。間の間隔にない異常
はCALから除去される(ステップ332)。
【0145】 CALが空の場合、工程はステップ310に戻る(ステップ334)。
【0146】 ステップ336において各異常に占領された領域は都合よく区間の形式をした
全ての占領された領域(AOR)のリストに蓄えられる。AORリストは各異常
に対するMASおよびMISを含む。二つの領域が重なる場合、それらの区間は
加算される。
【0147】 ステップ338において正規化された間隔は上記のように計算され。実際CS
とそれに対向する線分間の有効間隔が計算される。それは二つの線分間の間隔引
くAORの間隔合計に等しい。正規化された間隔は有効間隔の、二つの線分間の
実際の間隔に対する比に等しい。
【0148】 正規化された間隔が%RES値より悪い場合欠陥がステップ340において検
出される。
【0149】 ステップ342において検出された欠陥が特徴付けられ欠陥リストに蓄えられ
る。より具体的には異常と二つの線分(CSとCSに対向する線分)が蓄えられ
る。工程は次にステップ310に戻る。
【0150】 狭い間隔領域の検査 狭い領域からの多角形Tk+1も以下の二つの理由から検査されると都合がよい
。即ち * 多層モデルのそれらの寸法が小さすぎる可能性がある。 * モデルの二つの線分間の間隔が正しくても画像の対応する領域が正しくない 可能性がある。
【0151】 一般的に言って多角形Tk+1のリスト中の二つの対向する線分は幅を有する間
隔を生じる。それらの間隔のいくつかは、対応する幅が所定の閾値内にない場合
、欠陥に相当する。
【0152】 より具体的には小さすぎる多層モデル上の寸法は層間の重要なアライメントず
れを示している。これは間隔を所定の基準で試験することにより検出される。例
えば二つの異なる材料間の間隔が例えばPCBの製造により設定された最小間隔
値より確実に悪くないことを確認してもよい。より小さい場合、二つの層間にア
ライメント問題が検出される。
【0153】 方法300による異常検出によりPCBの二つの要素間の誤った間隔を検出で
きない可能性がある。
【0154】 実際、上記で議論したように、異常の検出はモデル内の等高線とPCB画像内
に検出された等高線との間の所定の許容量内で行なわれる。しかしながら間隔に
許容された欠陥の最小寸法は間隔の寸法に依存する。例えば等高線位置の許容量
がモデル上の幅の25%であり、領域の最小幅がモデルの幅の50%であるとす
ると異常はアルゴリズム300により検出されない。
【0155】 図14に注目すれば、第1の異常90が許容マージン内の等高線(91)のず
れを生じ、公称幅92の25%であり、対向する等高線93近傍の第2の異常9
4もそうである。両者とも許容マージン92および96内であるので二つの異常
はどちらも方法300により検出されない。しかしながら二つの異常の組合せは
間隔をその公称幅の50%だけ狭くすることに寄与する。
【0156】 図15に示す以下の基準は狭い間隔(間の間隔)の領域において欠陥を検出す
る本発明の方法により設定される。
【0157】 ステップ400において間隔の計算幅が例えば製造により指定された閾値より
悪い場合、層のアライメント誤差が検出される。
【0158】 そうでなくて、かつ幅が等高線位置についての許容マージンの4倍より悪い場
合(ステップ402)、欠陥が存在し、間隔の幅がPCB画像上で測定される。
【0159】 測定幅がモデル上の幅の50%より悪い場合(ステップ404)要素間の領域
(間の間隔)は正しくなく、欠陥が検出される。
【0160】 図16および17に示すようにベクトルモデル上の間隔98の測定は多角形の
線分が交差するまで(図17の102参照)多角形を徐々に狭める(矢印101
参照)ことにより行なわれると都合がよい。この工程は浸食と呼ばれる。
【0161】 浸食率は間隔98の幅の指標である。例えば浸食率は交差が起こるまで高く設
定されると都合がよい。その後、多角形100を膨張するために率が下げられる
。そうして浸食を再開するために、別の交差が生じるまで率が再び下げられる。
工程は浸食率が必要な解像力に等しいか悪くなるまで繰り返される。前に議論し
たように解像力は画素以下のオーダであると都合がよいので率は画素数の分数で
表される。
【0162】 画像上の間隔測定は間隔を区別する、等高線の抽出により行なわれる。これら
の等高線は同じ要素に必ずしも対応しないし、必ずしも閉じた等高線を生じない
ことが特筆される。その場合、等高線は多角形を形成するために閉じられる。ベ
クトルモデルにおける多角形の浸食に関して上で議論した方法は等高線の幅を測
定するのに用いられる。
【0163】 本発明の精神から逸脱することなくベクトルモデルおよび画像の両方の間隔を
測定するのに他の方法も使用できる。
【0164】 もちろん狭い領域中の欠陥を検出するために他の閾値あるいは基準を用いても
よい。
【0165】 重複領域の検査 式11で得られた重複領域は前節に述べたのと同じ二つの理由から検査される
【0166】 しかしながら重複領域の場合、別の問題が生じる。即ち層の一つ以上の等高線
が重複層によりPCB画像上で隠されることがある。この場合二つの可能性が存
在する。
【0167】 上の層の等高線は外挿が可能であり、線分の部分は見える可能性がある。そう
でない場合、見える等高線だけが検出される。
【0168】 重複領域内の欠陥検出は一般的には図15で述べたのと同じ基準に基づくので
ここではこれ以上詳細に述べない。
【0169】 狭い領域により、あるいは重複領域により生じる欠陥はさらなる解析のために
特徴付けられかつファイルに蓄えられると都合がよい。このファイルは他の検出
された欠陥を記憶しまた特徴づけするのに使用されるファイルと同じである。
【0170】 本発明はその好ましい実施例を通じて説明したが、添付の請求の範囲に定めら
れる本発明の精神と本質から逸脱することなく変形できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 プリント回路基板(PCB)上の欠陥の例を示す模式図である。
【図2】 本発明の実施例によるPCB上の表面欠陥を検出するシステムを
示すブロック図である。
【図3】 本発明の実施例によるPCB上の表面欠陥を検出する方法を示す
フローチャートである。
【図4】 図3の等高線同定ステップを示すフローチャートである。
【図5】 PCBとそのコンピュータモデルの両方を示す模式図であり、そ
れらのアライメントに対する基準点の選択を示す。
【図6a】 3層モデルのPCBから重ねられた多角形を示す模式図である
【図6b】 下層を引き算した後の図6aの重ねられた多角形を示す模式図
である。
【図6c】 図6aの多角形の積集合を示す模式図である。
【図7a】 図6aの多角形を示す模式図であり、狭い領域を示す。
【図7b】 膨張後の図7aの多角形P1およびP3を示す模式図である。
【図7c】 図7aの多角形の重ね合わせの結果を示す模式図である。
【図8】 PCBの領域上の見失った等高線の検出を示す模式図である。
【図9】 図3の異常の中から欠陥を検出するステップにおける二つの有効
な半平面の定義を示す模式図である。
【図10】 線分が平行でない場合に二つの線分間の距離の測定を示す模式
図である。
【図11】 二つの線分間の累積区間の測定を示す模式図である。
【図12】 異常解析領域(AAR)の決定を示す模式図である。
【図13a】〜
【図13c】 異常が許容幅あるいは許容間隔を超えるかど
うかを決定する方法を示すフローチャートである。
【図14】 狭い間隔領域にある欠陥を示す模式図である。
【図15】 狭い間隔領域にある欠陥を検出する決定肢を示す図である。
【符号の説明】
20 システム 30 位置決めシステム 22 コンピュータ 24 フレーム取り込み装置 26 照明アセンブリー 28 カメラ 30 位置決めシステム 32 軸制御装置 32 層 34 サーボ制御装置 34 PCB画像 36 画像処理カード 36 水平線分 38 垂直線分 40 交点 42 構成要素 44 線分 46 半平面 48 半平面 50 等高線 52 対向する線分 54 トラック 56 トラック 58 線分 60 線分 62 基準線分 64 線分 68 交点 72 角度 74 異常 76 異常 78 異常 80 線分 82 線分 84 異常を囲む矩形 86 異常 88 AAR 89 線分 90 第1の異常 91 線分 91’ 線分 92 許容マージン 93 等高線 94 第2の異常 96 許容マージン 98 間隔 100 多角形
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) H05K 3/00 H05K 3/00 Q (81)指定国 EP(AT,BE,CH,CY, DE,DK,ES,FI,FR,GB,GR,IE,I T,LU,MC,NL,PT,SE,TR),OA(BF ,BJ,CF,CG,CI,CM,GA,GN,GW, ML,MR,NE,SN,TD,TG),AP(GH,G M,KE,LS,MW,MZ,SD,SL,SZ,TZ ,UG,ZW),EA(AM,AZ,BY,KG,KZ, MD,RU,TJ,TM),AE,AG,AL,AM, AT,AU,AZ,BA,BB,BG,BR,BY,B Z,CA,CH,CN,CR,CU,CZ,DE,DK ,DM,DZ,EE,ES,FI,GB,GD,GE, GH,GM,HR,HU,ID,IL,IN,IS,J P,KE,KG,KP,KR,KZ,LC,LK,LR ,LS,LT,LU,LV,MA,MD,MG,MK, MN,MW,MX,MZ,NO,NZ,PL,PT,R O,RU,SD,SE,SG,SI,SK,SL,TJ ,TM,TR,TT,TZ,UA,UG,UZ,VN, YU,ZA,ZW (72)発明者 カンティン,ミヒャエル カナダ国 ジェー4ダブリュー 3エル2 ケベック、ブロサード、ブルバード マ リエ−ヴィクトリン 7680、アパートメン ト 1410 (72)発明者 ベラード, ルイス カナダ国 エイチ2エル 3ダブリュー1 ケベック、モントロール、セイント−ア ンドレ 3948 (72)発明者 ガウティアー,ジョナサン カナダ国 ジェー3イー 1エル1 ケベ ック、 サント−ジュリ、ビー デ ベン ツ 1737 Fターム(参考) 2F065 AA49 AA51 BB02 CC01 EE09 FF41 FF61 JJ03 JJ26 MM02 NN17 QQ00 QQ03 QQ13 QQ23 QQ24 QQ25 QQ26 QQ27 QQ28 QQ32 QQ33 QQ42 RR06 RR09 TT02 2G051 AA65 AB02 AB05 BB20 CA04 EA08 EA12 EA14 EA16 EB01 EC05 ED11 ED12 ED15 ED21 ED22 5B057 AA03 BA12 CA08 CA12 CA16 CD01 CE06 DA03 DA07 DA08 DB02 DB09 DC02 DC16 DC33 5L096 AA06 BA03 CA04 EA02 EA14 EA23 FA06 FA17 FA66 FA69 GA03 GA04 GA51 HA07

Claims (42)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 構成要素を含む少なくとも一つの層を有するプリント回路基
    板(PCB)上の表面欠陥を検出する方法であって、前記方法がPCBのデジタ
    ル画像を供給するステップと、前記PCB画像上のエッジを同定するステップと
    、PCBの前記少なくとも一つの層上の各構成要素に対する対応するコンピュー
    タモデルを供給するステップと、前記同定されたエッジを前記コンピュータモデ
    ルと比較することによりPCB画像上の異常を検出するステップと、前記検出さ
    れた異常のそれぞれに対し前記検出された異常が表面欠陥に対応するかどうかを
    決定するステップとを含むことを特徴とする方法。
  2. 【請求項2】 前記少なくとも一つの層上の各構成要素の前記コンピュータ
    モデルが線分を含むことを特徴とする請求項1記載のPCB上の表面欠陥を検出
    する方法。
  3. 【請求項3】 前記エッジ同定ステップが前記PCB画像上の数値グラディ
    エントを計算してグラディエント画像を生じるステップと、前記グラディエント
    画像を閾値処理して閾値画像を生じるステップと、前記閾値処理された画像を輪
    郭化するステップと、輪郭化された画像のエッジを求めるステップとを含むこと
    を特徴とする請求項1記載のPCB上の表面欠陥を検出する方法。
  4. 【請求項4】 エッジを求めるステップが少なくとも一つの画素の連鎖をを
    生じ、かつ輪郭化された画像の画素の前記連鎖の前記少なくとも一つのそれぞれ
    を画素座標のベクトルとして蓄えるステップと、前記画素座標を用いて画素の前
    記少なくとも一つの連鎖の2階微分を推定するステップとを含み、それによりゼ
    ロを通過する点が前記エッジに対応することを特徴とする請求項3記載のPCB
    上の表面欠陥を検出する方法。
  5. 【請求項5】 さらにPCB画像の光度を補正するステップを含むことを特
    徴とする請求項3記載のPCB上の表面欠陥を検出する方法。
  6. 【請求項6】 さらに前記補正された画像をフィルタリングするステップを
    含むことを特徴とする請求項5記載のPCB上の表面欠陥を検出する方法。
  7. 【請求項7】 前記供給されたコンピュータモデルが前記層のそれぞれに対
    するベクトルモデルを含むことを特徴とする請求項1記載のPCB上の表面欠陥
    を検出する方法。
  8. 【請求項8】 前記ベクトルモデルが各層の全ての構成要素の多角形表現を
    含むことを特徴とする請求項7記載のPCB上の表面欠陥を検出する方法。
  9. 【請求項9】 前記コンピュータモデルの前記少なくとも一つの層のそれぞ
    れが、異常検出ステップの前に前記PCB画像にアライメントされることを特徴
    とする請求項2記載のPCB上の表面欠陥を検出する方法。
  10. 【請求項10】 コンピュータモデルの前記少なくとも一つの層のそれぞれ
    に対して少なくとも一つの基準点が選択され、前記基準点が前記対応する層を前
    記PCB画像にアライメントするのに用いられることを特徴とする請求項9記載
    のPCB上の表面欠陥を検出する方法。
  11. 【請求項11】 前記各層を前記PCB画像にアライメントするために前記
    コンピュータモデルの各層の全ての線分に対して前記各層の回転、並進、縮尺お
    よび不良斜視を補償するように変換が適用されることを特徴とする請求項9記載
    のPCB上の表面欠陥を検出する方法。
  12. 【請求項12】 前記アライメントされた層が重ね合わされることを特徴と
    する請求項9記載のPCB上の表面欠陥を検出する方法。
  13. 【請求項13】 前記供給されたコンピュータモデルが各層上のすべての構
    成要素の多角形表現を含むベクトルモデルであり、前記多角形が少なくとも一つ
    の線分を含み、前記コンピュータモデルの前記層が、各層からの各多角形を他の
    層からの各多角形に重ね合わせることにより重ね合わされることを特徴とする請
    求項12記載のPCB上の表面欠陥を検出する方法。
  14. 【請求項14】 前記重ね合わせが各層に対する以下の反復公式、Pvk+1
    =(Pvk−Pk+1)∪Pk+1(ただしPkは現在の層における線分のベクトル表現
    のリストであり、Pvkは前の層の重ね合せにより生じた線分のベクトル表現の
    リストであり、Pvk+1はある層を前の層に重ね合わせることにより生じた線分
    のベクトル表現のリストであり、Pv1=P1)を用いて行なわれることを特徴と
    する請求項13記載のPCB上の表面欠陥を検出する方法。
  15. 【請求項15】 前記コンピュータモデルが各要素の等高線を含むことを特
    徴とする請求項1記載のPCB上の表面欠陥を検出する方法。
  16. 【請求項16】 前記コンピュータモデルが各等高線に対し前記等高線を囲
    む矩形モデルをさらに含むことを特徴とする請求項15記載のPCB上の表面欠
    陥を検出する方法。
  17. 【請求項17】 前記異常検出ステップがa)PCB画像の各画素に対し各
    構成要素の前記等高線の中の等高線が前記画素を囲むその対応する矩形を有する
    かどうかを確認し、もしそうでなかったら前記画素を異常の部分と考え、もしそ
    うなら、b)前記画素が、前記画素を囲むその対応する矩形を有する前記等高線
    の部分であるかどうかを確認し、もしそうでなかったら前記画素が以上の部分で
    あると考えるステップを含むことを特徴とする請求項16記載のPCB上の表面
    欠陥を検出する方法。
  18. 【請求項18】 前記異常検出ステップが前記コンピュータモデルを用いて
    前記コンピュータモデルの画像を作り出すステップと、前記PCB画像を前記コ
    ンピュータモデルの画像と比較するステップとを含むことを特徴とする請求項1
    記載のPCB上の表面欠陥を検出する方法。
  19. 【請求項19】 欠陥を決定するステップが前記検出された異常を設計仕様
    と比較するステップを含むことを特徴とする請求項2記載のPCB上の表面欠陥
    を検出する方法。
  20. 【請求項20】 PCB画像上の異常を検出するステップが前記コンピュー
    タモデルにおける前記線分に対して外れている、PCB画像中のエッジを検出す
    るステップと、前記検出された異常のそれぞれに対し、 a)前記検出された異常の一つの所定距離内に位置する前記コンピュータモデ
    ル内の第1の線分を決定し、 b)前記対向する線分に対向する各線分に対し前記第1の線分と前記第1の線
    分に対向する前記線分との間の距離が所定の閾値内に有るかどうかを決定するこ
    とにより欠陥を決定するステップをさらに含むことを特徴とする請求項19記載
    のPCB上の表面欠陥を検出する方法。
  21. 【請求項21】 前記第1の線分と前記対向する線分との間に一つ以上の異
    常がある場合、前記第1の線分と前記第1の線分に対向する前記線分との間の前
    記距離がそれらの間の有効間隔として計算されることを特徴とする請求項20記
    載のPCB上の表面欠陥を検出する方法。
  22. 【請求項22】 前記異常が重複異常と非重複異常を含み、前記有効間隔が
    全ての非重複異常と再グループ化された重複異常との間の区間の合計として計算
    されることを特徴とする請求項21記載のPCB上の表面欠陥を検出する方法。
  23. 【請求項23】 前記所定距離が前記検出された異常を囲む矩形により定義
    されることを特徴とする請求項20記載のPCB上の表面欠陥を検出する方法。
  24. 【請求項24】 前記囲む矩形が膨張されることを特徴とする請求項23記
    載のPCB上の表面欠陥を検出する方法。
  25. 【請求項25】 前記囲む矩形が別の異常を囲むかどうかを確認し、もしそ
    うなら前記別の異常を囲む矩形を再定義するステップをさらに含むことを特徴と
    する請求項23記載のPCB上の表面欠陥を検出する方法。
  26. 【請求項26】 前記矩形再定義ステップが反復的であることを特徴とする
    請求項25記載のPCB上の表面欠陥を検出する方法。
  27. 【請求項27】 前記閾値が比率形式であることを特徴とする請求項20記
    載のPCB上の表面欠陥を検出する方法。
  28. 【請求項28】 前記異常検出ステップが前記コンピュータモデルの各層k
    に対し以下の反復公式、Tk+1=(Tk−Pk+1)∪((D(Pk+1)∩D(Pvk
    ))−D(Pk+1∩PvK))(ただしPk+1は前の層における多角形のベクトル
    表現のリストであり、Pvkは前の層の重ね合せにより生じた多角形のベクトル
    表現のリストであり、Pvk+1はある層を現在の層に重ね合わせることにより生
    じる多角形のベクトル表現のリストであり、Dは多角形のリストにある全ての多
    角形の膨張を行なう関数であり、T1=D(P1)∩D(P1))を用いて前記層
    kの狭い領域にある多角形Tkのリストを決定するステップを含み、多角形の前
    記リストにおける二つの対向する線分が幅を有する間隔を生じ、前記間隔のそれ
    ぞれが、前記対応する幅が所定の閾値内にない場合に欠陥に対応することを特徴
    とする請求項13記載のPCB上の表面欠陥を検出する方法。
  29. 【請求項29】 前記間隔の前記幅が前記多角形のそれぞれの浸食により決
    定されることを特徴とする請求項28記載のPCB上の表面欠陥を検出する方法
  30. 【請求項30】 前記異常検出ステップが前記少なくとも一つの層kのそれ
    ぞれに対し以下の公式、即ちOk+1=(Ok−Ok+1)∪(Pk+1∩Pvk)(ただ
    し、Pk+1は前の層における多角形のベクトル表現のリストであり、PvKは前の
    層の重ね合せにより生じた多角形のベクトル表現のリストであり、O1はゼロで
    ある。)を用いてPCBのコンピュータモデル上の重なる領域における多角形O k のリストを決定するステップを含み、多角形の前記リストにおける二つの対向
    する線分が幅を有する間隔を生じ、前記間隔のそれぞれが、前記対応する幅が所
    定の閾値内にない場合に欠陥に対応することを特徴とする請求項13記載のPC
    B上の表面欠陥を検出する方法。
  31. 【請求項31】 多角形の前記リストが見える等高線と、隠れた等高線とを
    含み、前記等高線が前記見える等高線を用いて外挿されることを特徴とする請求
    項30記載のPCB上の表面欠陥を検出する方法。
  32. 【請求項32】 前記検出された異常をコンピュータファイルにおいて指示
    するステップをさらに含むことを特徴とする請求項1記載のPCB上の表面欠陥
    を検出する方法。
  33. 【請求項33】 前記画像がビットマップ形式であることを特徴とする請求
    項1記載のPCB上の表面欠陥を検出する方法。
  34. 【請求項34】 前記ビットマップがグレーレベルを含むことを特徴とする
    請求項33記載のPCB上の表面欠陥を検出する方法。
  35. 【請求項35】 PCB上の表面欠陥を検出するシステムであって、PCB
    のモデルを含み、かつPCB画像上のエッジを同定するように構成され、かつ前
    記同定されたエッジを前記コンピュータモデルと比較することによりPCB画像
    上の異常を検出し、かつ検出された異常のそれぞれに対し前記検出された異常が
    表面欠陥に対応するかどうかを決定するコンピュータと、PCB上に照明を供給
    する、前記コンピュータに接続された照明アセンブリーと、前記コンピュータに
    接続されたフレーム取り込み装置と、PCB上の画像を撮影する、前記フレーム
    取り込み装置に接続されたカメラと、前記フレーム取り込み装置に接続された位
    置決めシステムとを前記システムが備えることを特徴とするシステム。
  36. 【請求項36】 前記コンピュータがさらに照明アセンブリーを制御するよ
    うに構成されることを特徴とする請求項35記載のシステム。
  37. 【請求項37】 前記位置決めシステムが軸制御装置およびサーボ制御装置
    を介して前記フレーム取り込み装置に接続されることを特徴とする請求項35記
    載のシステム。
  38. 【請求項38】 前記フレーム取り込み装置および前記コンピュータと対話
    する画像処理カードをさらに備えることを特徴とする請求項35記載のシステム
  39. 【請求項39】 前記カメラが電荷結合装置(CCD)であることを特徴と
    する請求項35記載のシステム。
  40. 【請求項40】 前記CCDが線モードで動作するように構成されることを
    特徴とする請求項39記載のシステム。
  41. 【請求項41】 前記CCDがマトリックスモードで動作するように構成さ
    れることを特徴とする請求項39記載のシステム。
  42. 【請求項42】 前記位置決めシステムが少なくとも一つのサーボモータを
    含むことを特徴とする請求項35記載のシステム。
JP2001554290A 2000-01-18 2001-01-17 プリント回路基板の欠陥を検出する方法およびシステム Pending JP2003520969A (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CA002296143A CA2296143A1 (fr) 2000-01-18 2000-01-18 Systeme d'inspection optique
CA2,296,143 2000-01-18
PCT/CA2001/000042 WO2001054068A2 (en) 2000-01-18 2001-01-17 Method and system for detecting defects on a printed circuit board

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2003520969A true JP2003520969A (ja) 2003-07-08

Family

ID=4165090

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2001554290A Pending JP2003520969A (ja) 2000-01-18 2001-01-17 プリント回路基板の欠陥を検出する方法およびシステム

Country Status (12)

Country Link
US (1) US6771807B2 (ja)
EP (1) EP1254431B1 (ja)
JP (1) JP2003520969A (ja)
KR (1) KR100744212B1 (ja)
CN (1) CN1261908C (ja)
AT (1) ATE247309T1 (ja)
AU (1) AU2001228211A1 (ja)
CA (1) CA2296143A1 (ja)
DE (1) DE60100594T2 (ja)
IL (2) IL150744A0 (ja)
TW (1) TWI240223B (ja)
WO (1) WO2001054068A2 (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012189418A (ja) * 2011-03-10 2012-10-04 Seiko Epson Corp 欠陥検出方法及び欠陥検出装置
US10151711B2 (en) 2014-12-05 2018-12-11 Shenzhen Kana Technology Co., Ltd. Method and apparatus for generating X-ray inspection image of electronic circuit board

Families Citing this family (83)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6115491A (en) 1996-02-27 2000-09-05 Cyberoptics Corporation Apparatus and method for estimating background tilt and offset
US6593705B1 (en) 2000-01-07 2003-07-15 Cyberoptics Corporation Rapid-firing flashlamp discharge circuit
US6549647B1 (en) 2000-01-07 2003-04-15 Cyberoptics Corporation Inspection system with vibration resistant video capture
GB2375392B (en) 2000-01-07 2004-12-15 Cyberoptics Corp Phase profilometry system with telecentric projector
US6980685B2 (en) * 2001-01-22 2005-12-27 Siemens Corporate Research, Inc. Model-based localization and measurement of miniature surface mount components
US6920624B2 (en) * 2002-01-17 2005-07-19 Seagate Technology, Llc Methodology of creating an object database from a Gerber file
IL148829A0 (en) * 2002-03-21 2002-09-12 Camtek Ltd A method for storing information on layers of a layered product
JP3589424B1 (ja) * 2003-12-22 2004-11-17 株式会社メガトレード 基板検査装置
JP2005351631A (ja) * 2004-06-08 2005-12-22 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 欠陥検出装置および欠陥検出方法
JP2006235762A (ja) * 2005-02-22 2006-09-07 Orion Denki Kk プリント基板用cadシステム
KR100687870B1 (ko) * 2005-04-04 2007-02-27 주식회사 하이닉스반도체 웨이퍼의 불량 검사 방법
US7653235B2 (en) * 2005-10-27 2010-01-26 Honeywell International Inc. Surface anomaly detection system and method
US7551272B2 (en) * 2005-11-09 2009-06-23 Aceris 3D Inspection Inc. Method and an apparatus for simultaneous 2D and 3D optical inspection and acquisition of optical inspection data of an object
EP1997074B1 (en) * 2006-03-13 2013-02-06 Given Imaging Ltd. Device, system and method for automatic detection of contractile activity in an image frame
US8441530B2 (en) * 2006-03-13 2013-05-14 Given Imaging Ltd. Cascade analysis for intestinal contraction detection
US7684609B1 (en) * 2006-05-25 2010-03-23 Kla-Tencor Technologies Corporation Defect review using image segmentation
JP5010207B2 (ja) * 2006-08-14 2012-08-29 株式会社日立ハイテクノロジーズ パターン検査装置及び半導体検査システム
US20080117438A1 (en) * 2006-11-16 2008-05-22 Solvision Inc. System and method for object inspection using relief determination
CN101201371B (zh) * 2006-12-15 2011-12-21 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 印刷电路检测装置和方法
US7535560B2 (en) * 2007-02-26 2009-05-19 Aceris 3D Inspection Inc. Method and system for the inspection of integrated circuit devices having leads
US7664614B2 (en) * 2007-11-02 2010-02-16 United Microelectronics Corp. Method of inspecting photomask defect
US8059280B2 (en) 2008-01-31 2011-11-15 Cyberoptics Corporation Method for three-dimensional imaging using multi-phase structured light
US8131107B2 (en) * 2008-05-12 2012-03-06 General Electric Company Method and system for identifying defects in NDT image data
US8269836B2 (en) * 2008-07-24 2012-09-18 Seiko Epson Corporation Image capture, alignment, and registration
US20100046816A1 (en) * 2008-08-19 2010-02-25 Igual-Munoz Laura Method for automatic classification of in vivo images
US8121415B2 (en) 2008-10-28 2012-02-21 Quality Vision International, Inc. Combining feature boundaries
TWI427556B (zh) * 2008-12-30 2014-02-21 Hon Hai Prec Ind Co Ltd 圖像比對系統及方法
TWI440847B (zh) * 2009-03-30 2014-06-11 Koh Young Tech Inc 檢測方法
US8378702B2 (en) * 2009-05-08 2013-02-19 Corning Incorporated Non-contact testing of printed electronics
JP5407632B2 (ja) * 2009-07-22 2014-02-05 富士通株式会社 プリント基板試験支援装置、プリント基板試験支援方法、及びプリント基板試験支援プログラム
US8339449B2 (en) * 2009-08-07 2012-12-25 Globalfoundries Singapore Pte. Ltd. Defect monitoring in semiconductor device fabrication
US8942465B2 (en) * 2011-12-13 2015-01-27 General Electric Company Methods and systems for processing images for inspection of an object
CN103185560A (zh) * 2011-12-29 2013-07-03 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 Pcb板线路的线宽检测系统及方法
US9881354B2 (en) * 2012-03-15 2018-01-30 Microsoft Technology Licensing, Llc Image completion including automatic cropping
CN102721695B (zh) * 2012-05-18 2015-01-07 深圳大学 一种检测印刷电路板缺陷的方法
CN102914549B (zh) * 2012-09-10 2015-03-25 中国航天科技集团公司第五研究院第五一三研究所 针对星载表露型pcb焊点质量的光学图像匹配检测方法
WO2014063301A1 (zh) * 2012-10-23 2014-05-01 Luo Yi Smt的pcb板的检验方法及装置
CN102937595B (zh) * 2012-11-13 2015-05-20 浙江省电力公司电力科学研究院 一种pcb板检测方法、装置及系统
CN103063677A (zh) * 2012-12-24 2013-04-24 上海金东唐精机科技有限公司 多功能pcb测试系统
US9361682B2 (en) * 2013-03-15 2016-06-07 John S. Youngquist Virtual assembly and product inspection control processes
US10126252B2 (en) 2013-04-29 2018-11-13 Cyberoptics Corporation Enhanced illumination control for three-dimensional imaging
KR102154075B1 (ko) * 2013-10-21 2020-09-09 삼성전자주식회사 반도체 소자의 검사 방법 및 반도체 검사 시스템
CN104636525B (zh) * 2013-11-14 2017-12-19 英业达科技有限公司 印刷电路检查方法与装置
CN103728316B (zh) * 2014-01-13 2016-04-06 深圳市永光神目科技有限公司 Pcba板用的检测装置
CN103728305A (zh) * 2014-01-13 2014-04-16 深圳市永光神目科技有限公司 Pcba板用的检测方法
CN103885216A (zh) 2014-02-10 2014-06-25 北京京东方显示技术有限公司 一种基板检测装置及方法
CN104156958B (zh) * 2014-08-06 2017-07-11 中国科学院生物物理研究所 一种电路板布线边缘提取方法及提取平台
CN105466951B (zh) * 2014-09-12 2018-11-16 江苏明富自动化科技股份有限公司 一种自动光学检测装置及其检测方法
EP3552980A3 (en) * 2015-02-27 2019-12-11 Pulsar S.r.l. A unit for controlling or managing products
CN104820979A (zh) * 2015-03-20 2015-08-05 深圳市纳研科技有限公司 一种用于产品缺陷检测以及质量控制的图像减薄和特征分类方法
JP6535755B2 (ja) * 2015-04-15 2019-06-26 エクスロン インターナショナル ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツングYxlon International Gmbh 電子部品を試験する方法
CN105069772B (zh) * 2015-06-11 2018-01-26 国家电网公司 一种电力元器件识别方法
US9727785B2 (en) * 2015-06-18 2017-08-08 The Boeing Company Method and apparatus for tracking targets
US9715639B2 (en) 2015-06-18 2017-07-25 The Boeing Company Method and apparatus for detecting targets
CN106937080A (zh) * 2015-12-30 2017-07-07 希姆通信息技术(上海)有限公司 一种移动终端上螺丝的视觉检测方法及控制设备
CN106127779B (zh) * 2016-06-29 2018-12-11 上海晨兴希姆通电子科技有限公司 基于视觉识别的缺陷检测方法及系统
CN106327496B (zh) * 2016-08-26 2019-04-23 西安电子科技大学 基于aoi的pcb裸板盲孔缺陷的检测系统及方法
CN106526448A (zh) * 2016-09-30 2017-03-22 厦门通士达照明有限公司 一种电源驱动板自动检测系统和检测方法
US11275361B2 (en) * 2017-06-30 2022-03-15 Kla-Tencor Corporation Systems and methods for predicting defects and critical dimension using deep learning in the semiconductor manufacturing process
TWI640932B (zh) * 2017-08-08 2018-11-11 富比庫股份有限公司 Electronic part pattern verification system and method thereof
CN110197797B (zh) * 2018-02-27 2021-07-02 上海微电子装备(集团)股份有限公司 一种缺陷检测用标准片
CN109033917A (zh) * 2018-06-04 2018-12-18 广州美维电子有限公司 一种pcb板及pcb板的信息追溯方法
CN109389597B (zh) * 2018-10-24 2021-04-27 四川长虹电器股份有限公司 一种生产线上电路板缺陷检测系统及方法
CN110285760A (zh) * 2019-06-27 2019-09-27 重庆矢崎仪表有限公司 一种fpc组装检测系统和方法
CN110555858A (zh) * 2019-08-16 2019-12-10 珠海格力电器股份有限公司 一种电控板热熔胶位置检测的方法及设备
CN110751624B (zh) * 2019-09-10 2022-08-09 华中科技大学 一种提高pcb检查精度的方法及系统
CN112579810B (zh) * 2019-09-30 2023-10-27 深圳市嘉立创科技发展有限公司 印刷电路板分类方法、装置、计算机设备和存储介质
TWI721718B (zh) 2019-12-19 2021-03-11 新加坡商鴻運科股份有限公司 電路板智慧檢測方法、裝置、系統及存儲介質
CN111570327B (zh) * 2020-04-09 2022-05-31 广州视源电子科技股份有限公司 Led显示屏的印刷线路板的分类方法、装置及设备
CN113554582B (zh) * 2020-04-22 2022-11-08 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 电子设备盖板上功能孔的缺陷检测方法、装置以及系统
US11803960B2 (en) * 2020-08-12 2023-10-31 Kla Corporation Optical image contrast metric for optical target search
CN113222913B (zh) * 2021-04-28 2024-04-12 南京南瑞继保电气有限公司 一种电路板缺陷检测定位方法、装置和存储介质
CN113610761B (zh) * 2021-07-06 2023-11-17 上海望友信息科技有限公司 判断断头线的方法、装置、电子设备及存储介质
CN113744247A (zh) * 2021-09-03 2021-12-03 西安建筑科技大学 一种pcb焊点缺陷识别方法和系统
TWI786838B (zh) * 2021-09-17 2022-12-11 鴻海精密工業股份有限公司 印字瑕疵檢測方法、電腦裝置及儲存介質
TWI807426B (zh) * 2021-09-17 2023-07-01 鴻海精密工業股份有限公司 文字圖像瑕疵檢測方法、電腦裝置及儲存介質
WO2023055375A1 (en) * 2021-09-30 2023-04-06 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Image comparison to determine device abnormalities
CN113870257B (zh) * 2021-12-01 2022-03-18 武汉飞恩微电子有限公司 印刷电路板缺陷检测分类方法、装置及计算机储存介质
CN114384204B (zh) * 2021-12-07 2024-03-22 广州兴森快捷电路科技有限公司 Pcb拼板检测装置、系统、方法及存储介质
CN114627113B (zh) * 2022-05-12 2022-07-29 成都数之联科技股份有限公司 一种印制电路板缺陷检测方法及系统及装置及介质
CN116563357B (zh) * 2023-07-10 2023-11-03 深圳思谋信息科技有限公司 图像匹配方法、装置、计算机设备及计算机可读存储介质
CN116912250B (zh) * 2023-09-13 2023-11-28 山东众成菌业股份有限公司 基于机器视觉的菌包生产质量检测方法
CN117451728B (zh) * 2023-12-26 2024-02-20 常州漫舒医疗科技有限公司 基于视觉检测的造口产品生产检测系统

Family Cites Families (26)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3267548D1 (en) 1982-05-28 1986-01-02 Ibm Deutschland Process and device for an automatic optical inspection
US4589140A (en) 1983-03-21 1986-05-13 Beltronics, Inc. Method of and apparatus for real-time high-speed inspection of objects for identifying or recognizing known and unknown portions thereof, including defects and the like
DE3475106D1 (en) 1983-04-15 1988-12-15 Hitachi Ltd Method and apparatus for detecting defects of printed circuit patterns
US4578810A (en) 1983-08-08 1986-03-25 Itek Corporation System for printed circuit board defect detection
JPS60263807A (ja) 1984-06-12 1985-12-27 Dainippon Screen Mfg Co Ltd プリント配線板のパタ−ン欠陥検査装置
US4648053A (en) * 1984-10-30 1987-03-03 Kollmorgen Technologies, Corp. High speed optical inspection system
US5774572A (en) 1984-12-20 1998-06-30 Orbotech Ltd. Automatic visual inspection system
DE3587846T2 (de) 1984-12-26 1994-10-06 Hitachi Ltd Verfahren und Gerät zum Prüfen der Geometrie von Mehrschichtmustern für integrierte Schaltungsstrukturen.
DE3587582D1 (de) * 1985-03-14 1993-10-21 Beltronics Inc Gerät und Verfahren zum selbsttätigen Inspizieren von Objekten und zum Identifizieren oder Erkennen bekannter und unbekannter Teile davon, einschliesslich Fehler und dergleichen.
US4776022A (en) 1985-04-09 1988-10-04 Aoi Systems, Inc. System for printed circuit board defect detection
EP0236738A3 (en) 1986-02-05 1988-12-21 OMRON Corporation Input method for reference printed circuit board assembly data to an image processing printed circuit board assembly automatic inspection apparatus
US4974261A (en) 1988-11-15 1990-11-27 Matsushita Electric Works, Ltd. Optical surface inspection method
US5272763A (en) * 1990-03-02 1993-12-21 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Apparatus for inspecting wiring pattern formed on a board
US5054094A (en) * 1990-05-07 1991-10-01 Eastman Kodak Company Rotationally impervious feature extraction for optical character recognition
US5115475A (en) 1990-06-04 1992-05-19 Motorola, Inc. Automatic semiconductor package inspection method
US5086477A (en) 1990-08-07 1992-02-04 Northwest Technology Corp. Automated system for extracting design and layout information from an integrated circuit
US5586058A (en) 1990-12-04 1996-12-17 Orbot Instruments Ltd. Apparatus and method for inspection of a patterned object by comparison thereof to a reference
US5119434A (en) 1990-12-31 1992-06-02 Beltronics, Inc. Method of and apparatus for geometric pattern inspection employing intelligent imaged-pattern shrinking, expanding and processing to identify predetermined features and tolerances
DE4222804A1 (de) * 1991-07-10 1993-04-01 Raytheon Co Einrichtung und verfahren zur automatischen visuellen pruefung elektrischer und elektronischer baueinheiten
EP0594146B1 (en) 1992-10-22 2002-01-09 Advanced Interconnection Technology, Inc. System for automatic optical inspection of wire scribed circuit boards
US5365596A (en) 1992-12-17 1994-11-15 Philip Morris Incorporated Methods and apparatus for automatic image inspection of continuously moving objects
US5452368A (en) 1993-08-02 1995-09-19 Motorola, Inc. Method of detecting defects in semiconductor package leads
US5517234A (en) 1993-10-26 1996-05-14 Gerber Systems Corporation Automatic optical inspection system having a weighted transition database
US5506793A (en) * 1994-01-14 1996-04-09 Gerber Systems Corporation Method and apparatus for distortion compensation in an automatic optical inspection system
US5751910A (en) * 1995-05-22 1998-05-12 Eastman Kodak Company Neural network solder paste inspection system
US5848189A (en) 1996-03-25 1998-12-08 Focus Automation Systems Inc. Method, apparatus and system for verification of patterns

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012189418A (ja) * 2011-03-10 2012-10-04 Seiko Epson Corp 欠陥検出方法及び欠陥検出装置
US10151711B2 (en) 2014-12-05 2018-12-11 Shenzhen Kana Technology Co., Ltd. Method and apparatus for generating X-ray inspection image of electronic circuit board

Also Published As

Publication number Publication date
CN1401107A (zh) 2003-03-05
AU2001228211A1 (en) 2001-07-31
DE60100594D1 (de) 2003-09-18
CA2296143A1 (fr) 2001-07-18
KR100744212B1 (ko) 2007-07-30
IL150744A (en) 2007-09-20
US6771807B2 (en) 2004-08-03
US20010028732A1 (en) 2001-10-11
WO2001054068A2 (en) 2001-07-26
IL150744A0 (en) 2003-02-12
DE60100594T2 (de) 2004-06-24
KR20020089325A (ko) 2002-11-29
TWI240223B (en) 2005-09-21
WO2001054068A3 (en) 2002-08-08
CN1261908C (zh) 2006-06-28
ATE247309T1 (de) 2003-08-15
EP1254431A2 (en) 2002-11-06
EP1254431B1 (en) 2003-08-13

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2003520969A (ja) プリント回路基板の欠陥を検出する方法およびシステム
US5774574A (en) Pattern defect detection apparatus
KR100954703B1 (ko) 결함을 검출하는 방법 및 시스템
KR100554639B1 (ko) 패턴검사방법과 장치 및 패턴정렬방법
KR100759950B1 (ko) 외관 검사 방법 및 그 장치
US7275006B2 (en) Workpiece inspection apparatus assisting device, workpiece inspection method and computer-readable recording media storing program therefor
JP2011017705A (ja) パターン検査装置、パターン検査方法および記録媒体
US20090074286A1 (en) Data management equipment used to defect review equipment and testing system configurations
CN113454445A (zh) 零件检查期间对于参考未对准进行补偿
JP2001338304A (ja) パターン検査装置、パターン検査方法および記録媒体
JP4617970B2 (ja) 欠陥検査装置及び欠陥検査方法
JP2004163420A (ja) パターン検査装置および方法
Sanz et al. Machine-vision techniques for inspection of printed wiring boards and thick-film circuits
JP2009071271A (ja) パターン形状評価方法,パターン形状評価装置,パターン形状評価データ生成装置およびそれを用いた半導体形状評価システム
JPH0769155B2 (ja) プリント基板のパターン検査方法
WO2014103617A1 (ja) 位置合せ装置、欠陥検査装置、位置合せ方法、及び制御プログラム
CN116485752A (zh) 一种去除边缘误判的显示屏aoi检测方法、系统、电子装置及存储介质
JP2010133744A (ja) 欠陥検出方法およびその方法を用いた視覚検査装置
JP4597509B2 (ja) パターン検査装置およびパターン検査方法
JP2019003574A (ja) 変化検出装置及び鉄道設備部品の保守管理方法
JP2004296592A (ja) 欠陥分類装置、欠陥分類方法およびプログラム
JP4796535B2 (ja) 画像処理による多導体電線の追跡方法、装置及びプログラム並びにこれを用いた多導体電線の異常検出方法、装置及びプログラム
KR960000344B1 (ko) 프린트 기판의 배선폭 검사방법 및 장치
JP2008014717A (ja) 欠陥検査システムおよび欠陥検査方法
JPH09147107A (ja) 画像位置評価方法およびその装置

Legal Events

Date Code Title Description
RD04 Notification of resignation of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424

Effective date: 20060425