JP2003510453A - 光感受性遮蔽剤のｕｖ照射に対する安定性を改良する方法 - Google Patents
光感受性遮蔽剤のｕｖ照射に対する安定性を改良する方法Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 光感受性遮蔽剤のＵＶ照射に対する安定性を改良する方法及び光安定性材料を提供すること。
【解決手段】 本発明の光安定性材料は、少なくとも一つのシリコンアルコキシド及び少なくとも一つの非イオン性界面活性剤を含むゾル−ゲル法で製造した光安定化材料と光感受性遮蔽剤との組み合わせを含む。化粧品として及び／又は皮膚科学的に受容可能なビヒクル中に、有効量の光安定性材料を含む化粧品及び又は皮膚科学的組成物は、皮膚及び／又はケラチン物質を紫外線照射から保護することを主目的としている。
Description
【０００１】
本発明は、ＵＶ照射に感受性である日光遮蔽剤のＵＶ照射に対する安定性を改
良する方法に関する。本発明はまた光安定性材料及び該材料を含む化粧品及び／
又は皮膚科学的組成物に関する。
良する方法に関する。本発明はまた光安定性材料及び該材料を含む化粧品及び／
又は皮膚科学的組成物に関する。
【０００２】
波長が２８０nm〜４００nmの光を照射すると人の表皮の日焼けが可能であるこ
と、またＵＶ−Ｂ線として知られている２８０nm〜３２０nmの波長を有する光線
によって紅斑症及び皮膚熱傷が生じ、これらは天然の日焼けが進むのに有害とな
る可能性があり、従ってこのようなＵＶ−Ｂ照射を選別して取り除く必要がある
ことが公知である。 波長が３２０〜４００nmのＵＶ−Ａ線は皮膚に日焼けを生じ、皮膚に有害な変
化をもたらす可能性があり、特に敏感な皮膚又は日光照射を連続して受ける皮膚
に有害な変化をもたらすことも公知である。ＵＶ−Ａ線により特に皮膚の弾性が
失われかつしわを有する外観を生じ、早期老化へと導かれる。これらの光は紅斑
反応の誘発を促進するか又はある程度この反応を強化し、かつ光毒性又は光アレ
ルギー反応の原因にもなり得る。従って、ＵＶ−Ａ照射も選別して取り除くこと
が望ましい。
と、またＵＶ−Ｂ線として知られている２８０nm〜３２０nmの波長を有する光線
によって紅斑症及び皮膚熱傷が生じ、これらは天然の日焼けが進むのに有害とな
る可能性があり、従ってこのようなＵＶ−Ｂ照射を選別して取り除く必要がある
ことが公知である。 波長が３２０〜４００nmのＵＶ−Ａ線は皮膚に日焼けを生じ、皮膚に有害な変
化をもたらす可能性があり、特に敏感な皮膚又は日光照射を連続して受ける皮膚
に有害な変化をもたらすことも公知である。ＵＶ−Ａ線により特に皮膚の弾性が
失われかつしわを有する外観を生じ、早期老化へと導かれる。これらの光は紅斑
反応の誘発を促進するか又はある程度この反応を強化し、かつ光毒性又は光アレ
ルギー反応の原因にもなり得る。従って、ＵＶ−Ａ照射も選別して取り除くこと
が望ましい。
【０００３】
従って、ＵＶ照射に対して皮膚及びケラチン物質を保護するために、ＵＶ−Ａ
領域で活性な遮蔽剤及びＵＶ−Ｂ領域で活性な遮蔽剤を含む抗太陽光組成物が一
般に使用される。 この観点から、ＵＶ−Ａ領域で活性な周知で特に有利な一群の遮蔽剤は、ジベ
ンゾイルメタン誘導体、特に４−ｔ−ブチル−４'−メトキシジベンゾイルメタ
ンから成っており、“Parsol（登録商標）1789”の名称でHoffmann−Larocheか
ら市販されている。同様に、ＵＶ−Ｂ領域で活性な特に有利な一群の遮蔽剤は、
現在ケイヒ酸誘導体、特に２−エチルヘキシルｐ−シンナメートから成っており
、“Parsol（登録商標）MCX”の名称でHoffmann−Larocheから市販されている。
領域で活性な遮蔽剤及びＵＶ−Ｂ領域で活性な遮蔽剤を含む抗太陽光組成物が一
般に使用される。 この観点から、ＵＶ−Ａ領域で活性な周知で特に有利な一群の遮蔽剤は、ジベ
ンゾイルメタン誘導体、特に４−ｔ−ブチル−４'−メトキシジベンゾイルメタ
ンから成っており、“Parsol（登録商標）1789”の名称でHoffmann−Larocheか
ら市販されている。同様に、ＵＶ−Ｂ領域で活性な特に有利な一群の遮蔽剤は、
現在ケイヒ酸誘導体、特に２−エチルヘキシルｐ−シンナメートから成っており
、“Parsol（登録商標）MCX”の名称でHoffmann−Larocheから市販されている。
【０００４】
実際、Parsol（登録商標）1789 及びParsol（登録商標）MCXには、ＵＶ照射に
感受性であるという大きな問題がある。ジベンゾイルメタン誘導体は紫外線照射
に相対的に感受性の製品であるということが見出されたのがその理由である。残
念なことにこれらは紫外線の作用により、遅かれ早かれ分解するという傾向を示
す。従って、ジベンゾイルメタン誘導体は本来的に紫外線の照射を受けることを
目的とするものであり、その場合にこの誘導体が光化学的に感受性であることの
ために、長期間太陽に曝されると一定の保護を保証することができず、その結果
、ＵＶ照射に対して皮膚を有効に保護するためには、一定間隔でかつ多数回の使
用を繰り返さなければならないという制限を使用者が受けることとなる。同様の
ことがケイヒ酸誘導体について生じる。
感受性であるという大きな問題がある。ジベンゾイルメタン誘導体は紫外線照射
に相対的に感受性の製品であるということが見出されたのがその理由である。残
念なことにこれらは紫外線の作用により、遅かれ早かれ分解するという傾向を示
す。従って、ジベンゾイルメタン誘導体は本来的に紫外線の照射を受けることを
目的とするものであり、その場合にこの誘導体が光化学的に感受性であることの
ために、長期間太陽に曝されると一定の保護を保証することができず、その結果
、ＵＶ照射に対して皮膚を有効に保護するためには、一定間隔でかつ多数回の使
用を繰り返さなければならないという制限を使用者が受けることとなる。同様の
ことがケイヒ酸誘導体について生じる。
【０００５】
従って、これらの遮蔽剤（本明細書において継続して光感受性遮蔽剤として表
す）のＵＶ照射に対する感受性を減少させようとする試みがなされてきたが、多
くの配合上の問題が生じてきた。例えば、特定の光感受性遮蔽剤は他のいくつか
の活性物と配合することができず、それぞれの場合に新たな配合を行うことが必
要とされる。同様に、ある光感受性遮蔽剤は他のいくつかの遮蔽剤、例えばPars
ol（登録商標）1789（ＵＶ−Ａ遮蔽剤）及びParsol（登録商標）MCX（ＵＶ−Ｂ
遮蔽剤）と配合することができない。さらに、これらの光感受性遮蔽剤の保護効
果は時間の経過に伴って必然的に制限されており、かつこれらのＵＶ照射に対す
る感受性を補償するためには配合剤中にこれらを大量に含む必要があるが、しか
しながらこのことは問題を解決するのに充分ではない。
す）のＵＶ照射に対する感受性を減少させようとする試みがなされてきたが、多
くの配合上の問題が生じてきた。例えば、特定の光感受性遮蔽剤は他のいくつか
の活性物と配合することができず、それぞれの場合に新たな配合を行うことが必
要とされる。同様に、ある光感受性遮蔽剤は他のいくつかの遮蔽剤、例えばPars
ol（登録商標）1789（ＵＶ−Ａ遮蔽剤）及びParsol（登録商標）MCX（ＵＶ−Ｂ
遮蔽剤）と配合することができない。さらに、これらの光感受性遮蔽剤の保護効
果は時間の経過に伴って必然的に制限されており、かつこれらのＵＶ照射に対す
る感受性を補償するためには配合剤中にこれらを大量に含む必要があるが、しか
しながらこのことは問題を解決するのに充分ではない。
【０００６】
遮蔽剤のＵＶ照射に対する感受性というこの問題は、当業者にとって周知であ
る。特許出願ＰＣＴ ＷＯ ９８／３１３３３はゾル−ゲル法によって製造した材
料中に遮蔽剤を取り込むことを開示しているが、これには以下のような大きな問
題点がある。この文献に開示されているような材料中に有効量の遮蔽剤を取り込
むことにより、ＵＶ照射に対する安定性に関して重大な不適合が生じる。
る。特許出願ＰＣＴ ＷＯ ９８／３１３３３はゾル−ゲル法によって製造した材
料中に遮蔽剤を取り込むことを開示しているが、これには以下のような大きな問
題点がある。この文献に開示されているような材料中に有効量の遮蔽剤を取り込
むことにより、ＵＶ照射に対する安定性に関して重大な不適合が生じる。
【０００７】
出願人の会社は驚くべきことに、少なくとも一つのシリコンアルコキシド及び
少なくとも一つの界面活性剤を含みゾル−ゲル法により製造した材料を光感受性
遮蔽剤と組み合わせると、ＵＶ照射に対する安定性が改良した材料が得られるこ
とを見出した。光安定性材料及びこの材料の有効量を含む化粧品及び／又は皮膚
科学的組成物は、快適な感覚を有するフィルムを形成することができ、かつ純水
又は塩水及び極性又は非極性の化粧用油に対して非常に良好な持続性を示すこと
ができる。
少なくとも一つの界面活性剤を含みゾル−ゲル法により製造した材料を光感受性
遮蔽剤と組み合わせると、ＵＶ照射に対する安定性が改良した材料が得られるこ
とを見出した。光安定性材料及びこの材料の有効量を含む化粧品及び／又は皮膚
科学的組成物は、快適な感覚を有するフィルムを形成することができ、かつ純水
又は塩水及び極性又は非極性の化粧用油に対して非常に良好な持続性を示すこと
ができる。
【０００８】
従って、本発明の主題は、少なくとも一つのシリコンアルコキシド及び少なく
とも一つの界面活性剤からゾル−ゲル法により製造した材料中に遮蔽剤を取り込
むことを含む、光感受性遮蔽剤のＵＶ照射に対する安定性を改良する方法である
。 他の主題は、少なくとも一つのシリコンアルコキシド及び少なくとも一つの界
面活性剤からゾル−ゲル法により製造した光安定化材料と組み合わせた光感受性
遮蔽剤を含む光安定性材料である。 本発明の他の主題は、本発明に従う光安定性材料を有効量含む化粧品及び／又
は皮膚科学的組成物である。 本発明の特徴、観点及び利点は、以下の説明及び種々の実施例を読むことによ
ってより明確に明らかとなろう。
とも一つの界面活性剤からゾル−ゲル法により製造した材料中に遮蔽剤を取り込
むことを含む、光感受性遮蔽剤のＵＶ照射に対する安定性を改良する方法である
。 他の主題は、少なくとも一つのシリコンアルコキシド及び少なくとも一つの界
面活性剤からゾル−ゲル法により製造した光安定化材料と組み合わせた光感受性
遮蔽剤を含む光安定性材料である。 本発明の他の主題は、本発明に従う光安定性材料を有効量含む化粧品及び／又
は皮膚科学的組成物である。 本発明の特徴、観点及び利点は、以下の説明及び種々の実施例を読むことによ
ってより明確に明らかとなろう。
【０００９】
本発明に従うと、該遮蔽剤のＵＶ照射に対する安定性を改良する方法は、以下
を含むゾル−ゲル法により製造した材料中に光感受性遮蔽剤を取り込むことを含
む： (a) 以下の式の一つに相当するものから選択する少なくとも一つのシリコンア
ルコキシド： Ｓｉ(ＯＲ1)4 （Ｉ） Ｒ−Ｓｉ(ＯＲ1)3 （II） (Ｒ1Ｏ)3−Ｓｉ−Ｒ"−Ｓｉ(ＯＲ1)3 （III） (ＲＲ')−Ｓｉ(ＯＲ1)2 （IV） 式中： Ｒ1は直鎖又は分岐したＣ1-30、好ましくはＣ1-6のアルキル基； Ｒ及びＲ'は相互に独立して直鎖又は分岐したアルキル基、シクロアルキル基又
はアリール基を表し、これらは置換又は未置換で、Ｒ基及びＲ'基は付加的に化
粧品として又は皮膚科学的に活性な基を含むことができ； Ｒ"は直鎖又は分岐したアルキレン基、シクロアルキレン基又はアリーレン基を
表し、これらは置換又は未置換で、Ｒ"基は付加的に化粧品として又は皮膚科学
的に活性な基を含むことができ； (b) 少なくとも一つの溶媒、 (c) 少なくとも一つの界面活性剤、及び (d) 水。
を含むゾル−ゲル法により製造した材料中に光感受性遮蔽剤を取り込むことを含
む： (a) 以下の式の一つに相当するものから選択する少なくとも一つのシリコンア
ルコキシド： Ｓｉ(ＯＲ1)4 （Ｉ） Ｒ−Ｓｉ(ＯＲ1)3 （II） (Ｒ1Ｏ)3−Ｓｉ−Ｒ"−Ｓｉ(ＯＲ1)3 （III） (ＲＲ')−Ｓｉ(ＯＲ1)2 （IV） 式中： Ｒ1は直鎖又は分岐したＣ1-30、好ましくはＣ1-6のアルキル基； Ｒ及びＲ'は相互に独立して直鎖又は分岐したアルキル基、シクロアルキル基又
はアリール基を表し、これらは置換又は未置換で、Ｒ基及びＲ'基は付加的に化
粧品として又は皮膚科学的に活性な基を含むことができ； Ｒ"は直鎖又は分岐したアルキレン基、シクロアルキレン基又はアリーレン基を
表し、これらは置換又は未置換で、Ｒ"基は付加的に化粧品として又は皮膚科学
的に活性な基を含むことができ； (b) 少なくとも一つの溶媒、 (c) 少なくとも一つの界面活性剤、及び (d) 水。
【００１０】
Ｒ基、Ｒ'基及びＲ"基が有することができる化粧品として又は皮膚科学的に活
性な基のうち、例えば以下を挙げることができる：着色基、光発色性基、ケラチ
ン物質への接着を促進する基、例えばホスフェート、ホスホネート、ホスホン酸
、アミド、ウレタン、ウレイド、ヒドロキシル、カルボキシル、チオール、アミ
ノ酸又はポリペプチド型、遊離基に対抗する基、又はビタミンを担持する基。 先に挙げたシリコンアルコキシドのうち、特に好ましいのはテトラエトキシシ
ラン及びメチルトリエトキシシランである。 本発明で使用することができる界面活性剤は、シリコンアルコキシド、溶媒及
び光感受性遮蔽剤と化学的に相溶性であるすべての化合物である。 界面活性剤は、好ましくは非イオン性界面活性剤であり、一般には以下から選
択する：６〜３２の炭素原子、好ましくは８〜１８の炭素原子を含む脂肪鎖を有
し、酸化エチレン基又は酸化プロピレン基の数が２〜１００、好ましくは２〜５
０であり、かつグリセロール基の数が２〜３０である、ポリエトキシル化、ポリ
プロポキシル化又はポリグリセロール化脂肪アルコール、アルキルフェノール又
は酸。
性な基のうち、例えば以下を挙げることができる：着色基、光発色性基、ケラチ
ン物質への接着を促進する基、例えばホスフェート、ホスホネート、ホスホン酸
、アミド、ウレタン、ウレイド、ヒドロキシル、カルボキシル、チオール、アミ
ノ酸又はポリペプチド型、遊離基に対抗する基、又はビタミンを担持する基。 先に挙げたシリコンアルコキシドのうち、特に好ましいのはテトラエトキシシ
ラン及びメチルトリエトキシシランである。 本発明で使用することができる界面活性剤は、シリコンアルコキシド、溶媒及
び光感受性遮蔽剤と化学的に相溶性であるすべての化合物である。 界面活性剤は、好ましくは非イオン性界面活性剤であり、一般には以下から選
択する：６〜３２の炭素原子、好ましくは８〜１８の炭素原子を含む脂肪鎖を有
し、酸化エチレン基又は酸化プロピレン基の数が２〜１００、好ましくは２〜５
０であり、かつグリセロール基の数が２〜３０である、ポリエトキシル化、ポリ
プロポキシル化又はポリグリセロール化脂肪アルコール、アルキルフェノール又
は酸。
【００１１】
非イオン性界面活性剤として以下も挙げることができる：酸化エチレン及び酸
化プロピレンのコポリマー；酸化エチレン及び酸化プロピレンと脂肪アルコール
との縮合物；好ましくは２〜３０モルの酸化エチレンを有するポリエトキシル化
脂肪アミド；好ましくは１〜５、特に１．５〜４のグリセロール基を含むポリグ
リセロール化脂肪アミド；好ましくは２〜３０モルの酸化エチレンを有するポリ
エトキシル化脂肪アミン；２〜３０モルの酸化エチレンでエトキシル化したソル
ビタン脂肪酸エステル；スクロース脂肪酸エステル、ポリエチレングリコール脂
肪酸エステル、アルキルポリグルコシド、Ｎ−アルキルグルカミンのカルバメー
ト又はアミド誘導体、アルドビオナミド、又はアミンオキシド、例えばアルキル
アミン又はＮ−(アシルアミドプロピル)モルホリンオキシド。 上記の界面活性剤のうち特に好ましいのは、ポリエトキシル化４−(１，１，
３，３−テトラメチルブチル)フェノールである。この化合物はRohm & Haasによ
りTriton（登録商標）X100の名称で市販されている。
化プロピレンのコポリマー；酸化エチレン及び酸化プロピレンと脂肪アルコール
との縮合物；好ましくは２〜３０モルの酸化エチレンを有するポリエトキシル化
脂肪アミド；好ましくは１〜５、特に１．５〜４のグリセロール基を含むポリグ
リセロール化脂肪アミド；好ましくは２〜３０モルの酸化エチレンを有するポリ
エトキシル化脂肪アミン；２〜３０モルの酸化エチレンでエトキシル化したソル
ビタン脂肪酸エステル；スクロース脂肪酸エステル、ポリエチレングリコール脂
肪酸エステル、アルキルポリグルコシド、Ｎ−アルキルグルカミンのカルバメー
ト又はアミド誘導体、アルドビオナミド、又はアミンオキシド、例えばアルキル
アミン又はＮ−(アシルアミドプロピル)モルホリンオキシド。 上記の界面活性剤のうち特に好ましいのは、ポリエトキシル化４−(１，１，
３，３−テトラメチルブチル)フェノールである。この化合物はRohm & Haasによ
りTriton（登録商標）X100の名称で市販されている。
【００１２】
本発明で使用する界面活性剤の量は、アルコキシド／溶媒／水混合物へのその
溶解性に依存する。シリコンアルコキシドに対する界面活性剤の質量に基づく比
率は０．０１％〜９９％、好ましくは１％〜６０％である。 本発明で使用することができる光感受性遮蔽剤のうち、ジベンゾイルメタン誘
導体及びケイヒ酸誘導体を挙げることができる。ジベンゾイルメタン誘導体のう
ち以下のものを挙げることができるがこれに制限されない： −２−メチルジベンゾイルメタン、 −４−メチルジベンゾイルメタン、 −４−イソプロピルジベンゾイルメタン、 −４−tert−ブチルジベンゾイルメタン、 −２，４−ジメチルジベンゾイルメタン、 −２，５−ジメチルジベンゾイルメタン、 −４，４'−ジイソプロピルジベンゾイルメタン、 −４，４'−ジメトキシジベンゾイルメタン、 −４−tert−ブチル−４'−メトキシジベンゾイルメタン、 −２−メチル−５−イソプロピル−４'−メトキシジベンゾイルメタン、 −２−メチル−５−tert−ブチル−４'−メトキシジベンゾイルメタン、 −２，４−ジメチル−４'−メトキシジベンゾイルメタン、 −２，６−ジメチル−４−tert−ブチル−４'−メトキシジベンゾイル−メタ
ン。
溶解性に依存する。シリコンアルコキシドに対する界面活性剤の質量に基づく比
率は０．０１％〜９９％、好ましくは１％〜６０％である。 本発明で使用することができる光感受性遮蔽剤のうち、ジベンゾイルメタン誘
導体及びケイヒ酸誘導体を挙げることができる。ジベンゾイルメタン誘導体のう
ち以下のものを挙げることができるがこれに制限されない： −２−メチルジベンゾイルメタン、 −４−メチルジベンゾイルメタン、 −４−イソプロピルジベンゾイルメタン、 −４−tert−ブチルジベンゾイルメタン、 −２，４−ジメチルジベンゾイルメタン、 −２，５−ジメチルジベンゾイルメタン、 −４，４'−ジイソプロピルジベンゾイルメタン、 −４，４'−ジメトキシジベンゾイルメタン、 −４−tert−ブチル−４'−メトキシジベンゾイルメタン、 −２−メチル−５−イソプロピル−４'−メトキシジベンゾイルメタン、 −２−メチル−５−tert−ブチル−４'−メトキシジベンゾイルメタン、 −２，４−ジメチル−４'−メトキシジベンゾイルメタン、 −２，６−ジメチル−４−tert−ブチル−４'−メトキシジベンゾイル−メタ
ン。
【００１３】
先に述べた本発明のジベンゾイルメタン誘導体のうち、特に好ましいのは、４
−tert−ブチル−４'−メトキシジベンゾイルメタンであり、Hoffmann−Laroche
からParsol（登録商標）1789の名称で市場から入手可能である。 他の光感受性遮蔽剤として、以下の一般式に相当するものから選択するケイヒ
酸誘導体を使用することができる：
−tert−ブチル−４'−メトキシジベンゾイルメタンであり、Hoffmann−Laroche
からParsol（登録商標）1789の名称で市場から入手可能である。 他の光感受性遮蔽剤として、以下の一般式に相当するものから選択するケイヒ
酸誘導体を使用することができる：
【化３】
式中、
Ａは、
−ＯＲ3基を表し、Ｒ3は水素原子、フィチル若しくはベンジル基、飽和又は不
飽和及び直鎖、分岐した若しくは環状のＣ1-18アルキル基、アルカリ金属若しく
はアルカリ土類金属塩若しくはアンモニウムイオンから選択され、又は −ＮＨＲ4基を表し、Ｒ4は水素原子、フィチル若しくはベンジル基、飽和又は
不飽和及び直鎖、分岐した若しくは環状のＣ1-18アルキル基から選択され； Ｒ1は、Ｈ、ＯＨ、Ｃ1〜Ｃ6アルコキシ、好ましくはメトキシ、又は飽和又は不
飽和及び直鎖、分岐した若しくは環状のＣ1-18アルキル基から選択する基を表し
； Ｒ2は、Ｈ、ＯＨ又はＣ1〜Ｃ6アルコキシ、好ましくはメトキシから選択する基
を表す。
飽和及び直鎖、分岐した若しくは環状のＣ1-18アルキル基、アルカリ金属若しく
はアルカリ土類金属塩若しくはアンモニウムイオンから選択され、又は −ＮＨＲ4基を表し、Ｒ4は水素原子、フィチル若しくはベンジル基、飽和又は
不飽和及び直鎖、分岐した若しくは環状のＣ1-18アルキル基から選択され； Ｒ1は、Ｈ、ＯＨ、Ｃ1〜Ｃ6アルコキシ、好ましくはメトキシ、又は飽和又は不
飽和及び直鎖、分岐した若しくは環状のＣ1-18アルキル基から選択する基を表し
； Ｒ2は、Ｈ、ＯＨ又はＣ1〜Ｃ6アルコキシ、好ましくはメトキシから選択する基
を表す。
【００１４】
この群の光感受性遮蔽剤は、好ましくは２−エチルヘキシルｐ−シンナメート
であり、Hoffmann−Larocheから“Parsol（登録商標）MCX”の名称で市場から入
手可能である。 光感受性遮蔽剤は、百分率をシリコンアルコキシドの質量で表して、ゾル中に
０．１質量％からゾル中の溶解限界までの範囲の量で存在する。光感受性遮蔽剤
は、好ましくはシリコンアルコキシドの質量に対して０．１質量％〜１０質量％
の範囲の量で存在する。 本発明で使用する溶媒は、好ましくは直鎖又は低級アルコール、より好ましく
はエタノールである。 本発明で使用する溶媒の量は、ゾルの質量に対して１質量％から８５質量％ま
で変化する。 最終的に、材料に使用する水の量はシリコンアルコキシドを完全に又は部分的
に加水分解するのに十分でなければならない。 加水分解における水のｐＨは、好ましくは１〜４の範囲内、より好ましくは１
〜２の範囲内にある。
であり、Hoffmann−Larocheから“Parsol（登録商標）MCX”の名称で市場から入
手可能である。 光感受性遮蔽剤は、百分率をシリコンアルコキシドの質量で表して、ゾル中に
０．１質量％からゾル中の溶解限界までの範囲の量で存在する。光感受性遮蔽剤
は、好ましくはシリコンアルコキシドの質量に対して０．１質量％〜１０質量％
の範囲の量で存在する。 本発明で使用する溶媒は、好ましくは直鎖又は低級アルコール、より好ましく
はエタノールである。 本発明で使用する溶媒の量は、ゾルの質量に対して１質量％から８５質量％ま
で変化する。 最終的に、材料に使用する水の量はシリコンアルコキシドを完全に又は部分的
に加水分解するのに十分でなければならない。 加水分解における水のｐＨは、好ましくは１〜４の範囲内、より好ましくは１
〜２の範囲内にある。
【００１５】
本発明はさらに、以下を含むゾル−ゲル法によって製造した光安定化材料と組
み合わせた光感受性遮蔽剤を含む光安定性材料に関する： (a) 少なくとも一つのシリコンアルコキシド、 (b) 少なくとも一つの溶媒、 (c) 少なくとも一つの非イオン性界面活性剤、及び (d) 水。 “光安定性材料”という用語を、ＵＶ照射に対する安定性が改良された材料を
意味すると解する。 光安定性材料における(a)、(b)及び(d)のすべての成分及び光感受性遮蔽剤は
先に説明したとおりのものである。 本発明の光安定性材料に適する非イオン性界面活性剤を特に以下から選択する
：６〜３２の炭素原子、好ましくは８〜１８の炭素原子を含む脂肪鎖を有し、酸
化エチレン基又は酸化プロピレン基の数が２〜１００、好ましくは２〜５０であ
り、かつグリセロール基の数が２〜３０である、ポリエトキシル化、ポリプロポ
キシル化又はポリグリセロール化脂肪アルコール、アルキルフェノール又は酸。
み合わせた光感受性遮蔽剤を含む光安定性材料に関する： (a) 少なくとも一つのシリコンアルコキシド、 (b) 少なくとも一つの溶媒、 (c) 少なくとも一つの非イオン性界面活性剤、及び (d) 水。 “光安定性材料”という用語を、ＵＶ照射に対する安定性が改良された材料を
意味すると解する。 光安定性材料における(a)、(b)及び(d)のすべての成分及び光感受性遮蔽剤は
先に説明したとおりのものである。 本発明の光安定性材料に適する非イオン性界面活性剤を特に以下から選択する
：６〜３２の炭素原子、好ましくは８〜１８の炭素原子を含む脂肪鎖を有し、酸
化エチレン基又は酸化プロピレン基の数が２〜１００、好ましくは２〜５０であ
り、かつグリセロール基の数が２〜３０である、ポリエトキシル化、ポリプロポ
キシル化又はポリグリセロール化脂肪アルコール、アルキルフェノール又は酸。
【００１６】
非イオン性界面活性剤として以下も挙げることができる：酸化エチレン及び酸
化プロピレンのコポリマー；酸化エチレン及び酸化プロピレンと脂肪アルコール
との縮合物；好ましくは２〜３０モルの酸化エチレンを有するポリエトキシル化
脂肪アミド；好ましくは１〜５、特に１．５〜４のグリセロール基を含むポリグ
リセロール化脂肪アミド；好ましくは２〜３０モルの酸化エチレンを有するポリ
エトキシル化脂肪アミン；２〜３０モルの酸化エチレンでエトキシル化したソル
ビタン脂肪酸エステル；スクロース脂肪酸エステル、ポリエチレングリコール脂
肪酸エステル、アルキルポリグルコシド、Ｎ−アルキルグルカミンのカルバメー
ト又はアミド誘導体、アルドビオナミド、又はアミンオキシド、例えばアルキル
アミン又はＮ−(アシルアミドプロピル)モルホリンオキシド。 上記の界面活性剤のうち特に好ましいのは、ポリエトキシル化４−(１，１，
３，３−テトラメチルブチル)フェノールである。この化合物はRohm & Haasによ
りTriton（登録商標）X100の名称で市販されている。
化プロピレンのコポリマー；酸化エチレン及び酸化プロピレンと脂肪アルコール
との縮合物；好ましくは２〜３０モルの酸化エチレンを有するポリエトキシル化
脂肪アミド；好ましくは１〜５、特に１．５〜４のグリセロール基を含むポリグ
リセロール化脂肪アミド；好ましくは２〜３０モルの酸化エチレンを有するポリ
エトキシル化脂肪アミン；２〜３０モルの酸化エチレンでエトキシル化したソル
ビタン脂肪酸エステル；スクロース脂肪酸エステル、ポリエチレングリコール脂
肪酸エステル、アルキルポリグルコシド、Ｎ−アルキルグルカミンのカルバメー
ト又はアミド誘導体、アルドビオナミド、又はアミンオキシド、例えばアルキル
アミン又はＮ−(アシルアミドプロピル)モルホリンオキシド。 上記の界面活性剤のうち特に好ましいのは、ポリエトキシル化４−(１，１，
３，３−テトラメチルブチル)フェノールである。この化合物はRohm & Haasによ
りTriton（登録商標）X100の名称で市販されている。
【００１７】
最良の光安定化効果を得るために、以下のやり方で本発明の光安定性材料の成
分を添加することが好ましい。シリコンアルコキシドを溶媒に加え、次いで以下
の成分を以下に示した順序で添加する： (1) 非イオン性界面活性剤、 (2) 光感受性遮蔽剤及び (3) 水。 このようにして得た光安定性材料を乾燥し、粉砕することができ、さらに再度
他のシリコンアルコキシド及び／又は溶媒と接触させて粉末の表面処理を行うこ
とができる。このようにして得られた追加層はさらにＵＶ照射に対する安定性を
改良する。
分を添加することが好ましい。シリコンアルコキシドを溶媒に加え、次いで以下
の成分を以下に示した順序で添加する： (1) 非イオン性界面活性剤、 (2) 光感受性遮蔽剤及び (3) 水。 このようにして得た光安定性材料を乾燥し、粉砕することができ、さらに再度
他のシリコンアルコキシド及び／又は溶媒と接触させて粉末の表面処理を行うこ
とができる。このようにして得られた追加層はさらにＵＶ照射に対する安定性を
改良する。
【００１８】
本発明のさらなる主題は、化粧品として及び／又は皮膚科学的に受容可能なビ
ヒクル中に、本発明の光安定性材料を有効量含む化粧品及び／又は皮膚科学的組
成物である。 本化粧品及び／又は皮膚科学的組成物は、本発明の光安定性材料を、組成物の
全質量に対して１質量％〜９９質量％、好ましくは１質量％〜６０質量％の範囲
の有効量で含む。 化粧品及び／又は皮膚科学的組成物をゾルの形態で提供することができ、これ
はフィルム形成性であり、皮膚に直接使用して皮膚を紫外線の照射から保護する
ことができる。この使用は、例えばスプレーによって実施することができる。 本発明の光安定性材料を好ましくは乾燥し、粉砕し、粒子の形態で化粧品及び
／又は皮膚科学的組成物に添加する。光安定性材料を乾燥しかつ粉砕した後で得
られる粒子の平均の大きさは０．１〜５０μm、好ましくは０．１〜２０μm、よ
り好ましくは０．１〜１０μmである。
ヒクル中に、本発明の光安定性材料を有効量含む化粧品及び／又は皮膚科学的組
成物である。 本化粧品及び／又は皮膚科学的組成物は、本発明の光安定性材料を、組成物の
全質量に対して１質量％〜９９質量％、好ましくは１質量％〜６０質量％の範囲
の有効量で含む。 化粧品及び／又は皮膚科学的組成物をゾルの形態で提供することができ、これ
はフィルム形成性であり、皮膚に直接使用して皮膚を紫外線の照射から保護する
ことができる。この使用は、例えばスプレーによって実施することができる。 本発明の光安定性材料を好ましくは乾燥し、粉砕し、粒子の形態で化粧品及び
／又は皮膚科学的組成物に添加する。光安定性材料を乾燥しかつ粉砕した後で得
られる粒子の平均の大きさは０．１〜５０μm、好ましくは０．１〜２０μm、よ
り好ましくは０．１〜１０μmである。
【００１９】
本発明の目的である化粧品及び／又は皮膚科学的組成物は、当然のことながら
、先に定義した光感受性遮蔽剤以外のＵＶ−Ａ領域及び／又はＵＶ−Ｂ領域で活
性な一又は複数の追加的な日光遮蔽剤を含むことができ、これらの追加的な遮蔽
剤は一般に使用する化粧用溶媒中で水溶性、脂溶性又は不溶性である。これらの
追加的な遮蔽剤を特に以下から選択することができる：サリチル酸誘導体、カン
ファー誘導体、トリアジン誘導体、例えば特許出願ＵＳ−４，３６７，３９０、
ＥＰ ０ ８６３ １４５、ＥＰ ０ ５１７ １０４、ＥＰ ０ ５７０ ８３８、Ｅ
Ｐ ０ ７９６ ８５１、ＥＰ ０ ７７５ ６９８、ＥＰ ０ ８７８ ４６９、ＥＰ
０ ９３３ ３７６及びＥＰ ０ ８９３ １１９に開示されたもの、ベンゾフェノ
ン誘導体、β、β'−ジフェニルアクリレート誘導体、ベンズイミダゾール誘導
体、メチレンビス(ヒドロキシフェニルベンゾトリアゾール)誘導体、例えば特許
出願ＵＳ５，２３７，０７１、ＵＳ５，１６６，３５５、ＧＢ２，３０３，５４
９，ＤＥ １９７２６１８４及びＥＰ ０ ８９３ １１９に開示されたもの、ｐ−
アミノ安息香酸誘導体、及びＷＯ−９３／０４６６５出願に開示された遮蔽性炭
化水素及び遮蔽性シリコーンポリマー及びビス(ベンゾアゾリル)誘導体、例えば
特許出願ＥＰ ０ ６６９ ３２３及びＵＳ２，４６３，２６４に開示されている
もの。
、先に定義した光感受性遮蔽剤以外のＵＶ−Ａ領域及び／又はＵＶ−Ｂ領域で活
性な一又は複数の追加的な日光遮蔽剤を含むことができ、これらの追加的な遮蔽
剤は一般に使用する化粧用溶媒中で水溶性、脂溶性又は不溶性である。これらの
追加的な遮蔽剤を特に以下から選択することができる：サリチル酸誘導体、カン
ファー誘導体、トリアジン誘導体、例えば特許出願ＵＳ−４，３６７，３９０、
ＥＰ ０ ８６３ １４５、ＥＰ ０ ５１７ １０４、ＥＰ ０ ５７０ ８３８、Ｅ
Ｐ ０ ７９６ ８５１、ＥＰ ０ ７７５ ６９８、ＥＰ ０ ８７８ ４６９、ＥＰ
０ ９３３ ３７６及びＥＰ ０ ８９３ １１９に開示されたもの、ベンゾフェノ
ン誘導体、β、β'−ジフェニルアクリレート誘導体、ベンズイミダゾール誘導
体、メチレンビス(ヒドロキシフェニルベンゾトリアゾール)誘導体、例えば特許
出願ＵＳ５，２３７，０７１、ＵＳ５，１６６，３５５、ＧＢ２，３０３，５４
９，ＤＥ １９７２６１８４及びＥＰ ０ ８９３ １１９に開示されたもの、ｐ−
アミノ安息香酸誘導体、及びＷＯ−９３／０４６６５出願に開示された遮蔽性炭
化水素及び遮蔽性シリコーンポリマー及びビス(ベンゾアゾリル)誘導体、例えば
特許出願ＥＰ ０ ６６９ ３２３及びＵＳ２，４６３，２６４に開示されている
もの。
【００２０】
ＵＶ−Ａ領域及び／又はＵＶ−Ｂ領域で活性な追加的な遮蔽剤の例として以下
を挙げることができる： ｐ−アミノ安息香酸、 エトキシル化(２５モル)ｐ−アミノベンゾエート、 ２−エチルヘキシルｐ−ジメチルアミノベンゾエート、 Ｎ−プロポキシル化エチルｐ−アミノベンゾエート、 グリセロールｐ−アミノベンゾエート、 ホモメンチルサリチレート、 ２−エチルヘキシルサリチレート、 トリエタノールアミンサリチレート、 ４−イソプロピルベンジルサリチレート、 アントラニル酸メチル ２−エチルヘキシル２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリレート エチル２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリレート、 ２−フェニルベンズイミダゾール−５−スルホン酸及びその塩、 ３−((４'−トリメチルアンモニウム)ベンジリデン)ボルナン−２−オンメチ
ルスルフェート ２−ヒドロキシ４−メトキシベンゾフェノン、 ２−ヒドロキシ４−メトキシベンゾフェノン−５−スルホネート、 ２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、 ２，２'，４，４'−テトラヒドロキシベンゾフェノン、 ２，２'−ジヒドロキシ−４，４'−ジメトキシベンゾフェノン、 ２−ヒドロキシ−４−(ｎ−オクトキシ)ベンゾフェノン、 ２−ヒドロキシ−４−メトキシ−４'−メチルベンゾフェノン、
を挙げることができる： ｐ−アミノ安息香酸、 エトキシル化(２５モル)ｐ−アミノベンゾエート、 ２−エチルヘキシルｐ−ジメチルアミノベンゾエート、 Ｎ−プロポキシル化エチルｐ−アミノベンゾエート、 グリセロールｐ−アミノベンゾエート、 ホモメンチルサリチレート、 ２−エチルヘキシルサリチレート、 トリエタノールアミンサリチレート、 ４−イソプロピルベンジルサリチレート、 アントラニル酸メチル ２−エチルヘキシル２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリレート エチル２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリレート、 ２−フェニルベンズイミダゾール−５−スルホン酸及びその塩、 ３−((４'−トリメチルアンモニウム)ベンジリデン)ボルナン−２−オンメチ
ルスルフェート ２−ヒドロキシ４−メトキシベンゾフェノン、 ２−ヒドロキシ４−メトキシベンゾフェノン−５−スルホネート、 ２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、 ２，２'，４，４'−テトラヒドロキシベンゾフェノン、 ２，２'−ジヒドロキシ−４，４'−ジメトキシベンゾフェノン、 ２−ヒドロキシ−４−(ｎ−オクトキシ)ベンゾフェノン、 ２−ヒドロキシ−４−メトキシ−４'−メチルベンゾフェノン、
【００２１】
α−(２−オキソボルニ−３−イリデン)トリル−４−スルホン酸及びその塩、
３−((４'−スルホ)ベンジリデン)ボルナン−２−オン及びその塩、
３−(４'−メチルベンジリデン)−ｄ，ｌ−カンファー、
３−ベンジリデン−ｄ，ｌ−カンファー、
ウロカニン酸
２，４，６−トリス［ｐ−(２'−エチルヘキシル−１'−オキシカルボニル)−
アニリノ］−１，３，５−トリアジン ２−［(ｐ−(tert−ブチルアミド)アニリノ］−４，６−ビス［(ｐ−(２'−エ
チルヘキシル−１'−オキシカルボニル)アニリノ］−１，３，５−トリアジン、 ２，４−ビス｛［４−(２−エチルヘキシルオキシ)−２−ヒドロキシ］フェニ
ル｝−６−(４−メトキシフェニル)−１，３，５−トリアジン（Tinosorb（登録
商標）、Ciba−Geigy） Ｎ−(２−及び４−)［(２−オキソボルニ−３−イリデン)メチル］ベンジル］
アクリルアミドのポリマー、 １，４−ビス(ベンズイミダゾリル)フェニレン−３，３'，５，５'−テトラス
ルホン酸及びその可溶性塩、 ベンザルマロネート官能性基を含むポリオルガノシロキサン、 ベンゾトリアゾール官能基を含むポリオルガノシロキサン、例えばドロメトリ
ゾールトリシロキサン、 −溶解した形態にある２，２'−メチレンビス［６−(２Ｈ−ベンゾトリアゾー
ル−２−イル)−４−(１，１，３，３−テトラメチルブチル)フェノール］、例
えばFairmount ChemicalによりMixxim（登録商標）BB/100の名称で市販されてい
る製品、又は不溶性の微小化した形態にあるもの、例えばCiba−GeigyによりTin
osorb（登録商標）Mの名称で市販されている製品、 −溶解した形態にある２，２'−メチレンビス［６−(２Ｈ−ベンゾトリアゾー
ル−２−イル)−４−(メチル)フェノール］、例えばFairmount ChemicalによりM
ixxim（登録商標）BB/200の名称で市販されている製品。
アニリノ］−１，３，５−トリアジン ２−［(ｐ−(tert−ブチルアミド)アニリノ］−４，６−ビス［(ｐ−(２'−エ
チルヘキシル−１'−オキシカルボニル)アニリノ］−１，３，５−トリアジン、 ２，４−ビス｛［４−(２−エチルヘキシルオキシ)−２−ヒドロキシ］フェニ
ル｝−６−(４−メトキシフェニル)−１，３，５−トリアジン（Tinosorb（登録
商標）、Ciba−Geigy） Ｎ−(２−及び４−)［(２−オキソボルニ−３−イリデン)メチル］ベンジル］
アクリルアミドのポリマー、 １，４−ビス(ベンズイミダゾリル)フェニレン−３，３'，５，５'−テトラス
ルホン酸及びその可溶性塩、 ベンザルマロネート官能性基を含むポリオルガノシロキサン、 ベンゾトリアゾール官能基を含むポリオルガノシロキサン、例えばドロメトリ
ゾールトリシロキサン、 −溶解した形態にある２，２'−メチレンビス［６−(２Ｈ−ベンゾトリアゾー
ル−２−イル)−４−(１，１，３，３−テトラメチルブチル)フェノール］、例
えばFairmount ChemicalによりMixxim（登録商標）BB/100の名称で市販されてい
る製品、又は不溶性の微小化した形態にあるもの、例えばCiba−GeigyによりTin
osorb（登録商標）Mの名称で市販されている製品、 −溶解した形態にある２，２'−メチレンビス［６−(２Ｈ−ベンゾトリアゾー
ル−２−イル)−４−(メチル)フェノール］、例えばFairmount ChemicalによりM
ixxim（登録商標）BB/200の名称で市販されている製品。
【００２２】
本発明に従う化粧品及び／又は皮膚科学的組成物は、皮膚の人工日焼け及び／
又は褐色化のための剤（人工日焼け剤）、例えばジヒドロキシアセトン（ＤＨＡ
）も含むことができる。 本発明に従う化粧品及び／又は皮膚科学的組成物は、被覆した又は被覆してい
ない金属酸化物から形成した顔料又はナノ顔料（一次粒子の平均の大きさが一般
に５nm〜１００nm、好ましくは１０〜５０nm）も含むことができ、これらには例
えば酸化チタン（ルチル及び／又はアナターゼ型の非晶質又は結晶）、酸化鉄、
酸化亜鉛、酸化ジルコニウム又は酸化セリウムから形成したナノ顔料があり、こ
れらはすべて自体周知の光保護剤であり、ＵＶ照射を物理的に遮蔽（反射及び／
又は散乱）することによって作用する。常用の被覆剤は、さらにアルミナ及び／
又はステアリン酸アルミニウムである。被覆した又は被覆していない金属酸化物
から形成したこのようなナノ顔料は、特に特許出願ＥＰ−Ａ−０ ５１８ ７７２
及びＥＰ−Ａ−０ ５１８ ７７３に開示されている。
又は褐色化のための剤（人工日焼け剤）、例えばジヒドロキシアセトン（ＤＨＡ
）も含むことができる。 本発明に従う化粧品及び／又は皮膚科学的組成物は、被覆した又は被覆してい
ない金属酸化物から形成した顔料又はナノ顔料（一次粒子の平均の大きさが一般
に５nm〜１００nm、好ましくは１０〜５０nm）も含むことができ、これらには例
えば酸化チタン（ルチル及び／又はアナターゼ型の非晶質又は結晶）、酸化鉄、
酸化亜鉛、酸化ジルコニウム又は酸化セリウムから形成したナノ顔料があり、こ
れらはすべて自体周知の光保護剤であり、ＵＶ照射を物理的に遮蔽（反射及び／
又は散乱）することによって作用する。常用の被覆剤は、さらにアルミナ及び／
又はステアリン酸アルミニウムである。被覆した又は被覆していない金属酸化物
から形成したこのようなナノ顔料は、特に特許出願ＥＰ−Ａ−０ ５１８ ７７２
及びＥＰ−Ａ−０ ５１８ ７７３に開示されている。
【００２３】
本発明に従う組成物は、特に以下から選択する常用の化粧品補助剤を付加的に
含むことができる：脂肪物質、有機溶媒、イオン性又は非イオン性増粘剤、柔軟
剤、抗酸化剤、遊離基対抗剤、不透明化剤、安定剤、緩和剤、シリコーン、α−
ヒドロキシ酸、消泡剤、湿潤剤、ビタミン類、芳香剤、保存剤、界面活性剤、充
填剤、隔離剤、ポリマー、噴射剤、塩基性化又は酸性化剤、染料及び化粧品及び
／又は皮膚科学の分野、特に乳剤の形態にある日光防止組成物の製造に一般に使
用する他のすべての成分。 脂肪物質は油又はワックス又はその混合物より成ることができる。“油”とい
う用語は環境温度で液状である化合物を意味すると理解される。“ワックス”と
いう用語は、環境温度で固形又は実質的に固形であり、一般に３５℃より高い融
点を有する化合物を意味すると理解される。 油として以下のものを挙げることができる：鉱油（流動パラフィン）、植物油
（ヘントウ油、マカダミア油、クロフサスグリ実油又はホホバ油）、合成油、例
えばペルヒドロスクアレン、脂肪アルコール、酸又はエステル（例えばＣ12-15
アルコールのベンゾエートでFinetexにより“Finsolv TN”の名称で市販されて
いるもの、オクチルパルミテート、イソプロピルラノレート又はカプリル酸／カ
プリン酸のトリグリセリドを含むトリグリセリド）、又はエトキシル化又はプロ
ポキシル化脂肪エステル及びエーテル；シリコーン油（シクロメチコーン、好ま
しくは４又は５のケイ素原子を含むもの、又はポリジメチルシロキサン又はＰＤ
ＭＳ）；フッ素化油；又はポリアルキレン。
含むことができる：脂肪物質、有機溶媒、イオン性又は非イオン性増粘剤、柔軟
剤、抗酸化剤、遊離基対抗剤、不透明化剤、安定剤、緩和剤、シリコーン、α−
ヒドロキシ酸、消泡剤、湿潤剤、ビタミン類、芳香剤、保存剤、界面活性剤、充
填剤、隔離剤、ポリマー、噴射剤、塩基性化又は酸性化剤、染料及び化粧品及び
／又は皮膚科学の分野、特に乳剤の形態にある日光防止組成物の製造に一般に使
用する他のすべての成分。 脂肪物質は油又はワックス又はその混合物より成ることができる。“油”とい
う用語は環境温度で液状である化合物を意味すると理解される。“ワックス”と
いう用語は、環境温度で固形又は実質的に固形であり、一般に３５℃より高い融
点を有する化合物を意味すると理解される。 油として以下のものを挙げることができる：鉱油（流動パラフィン）、植物油
（ヘントウ油、マカダミア油、クロフサスグリ実油又はホホバ油）、合成油、例
えばペルヒドロスクアレン、脂肪アルコール、酸又はエステル（例えばＣ12-15
アルコールのベンゾエートでFinetexにより“Finsolv TN”の名称で市販されて
いるもの、オクチルパルミテート、イソプロピルラノレート又はカプリル酸／カ
プリン酸のトリグリセリドを含むトリグリセリド）、又はエトキシル化又はプロ
ポキシル化脂肪エステル及びエーテル；シリコーン油（シクロメチコーン、好ま
しくは４又は５のケイ素原子を含むもの、又はポリジメチルシロキサン又はＰＤ
ＭＳ）；フッ素化油；又はポリアルキレン。
【００２４】
ワックス化合物として以下のものを挙げることができる：パラフィンワックス
、カルナウバワックス、蜜ロウ又は水素添加したヒマシ油。 有機溶媒のうち、低級アルコール及びポリオールを挙げることができる。 増粘剤を特に以下から選択することができる：架橋したポリアクリル酸、変性
又は未変性グアゴム及びセルロースゴム、例えばヒドロキシプロピル化グアゴム
、メチルヒドロキシエチルセルロース又はヒドロキシプロピルメチルセルロース
、及びシリコーンゴム、例えばポリジメチルシロキサン誘導体。 本発明に従う化粧品及び／又は皮膚科学的組成物を、当業者に周知の技術、特
に水中油型又は油中水型の乳剤の製造を意図する技術によって製造することがで
きる。 本化粧品及び／又は皮膚科学的組成物を特に単一又は複合乳剤の型（Ｏ／Ｗ、
Ｗ／Ｏ、Ｏ／Ｗ／Ｏ又はＷ／Ｏ／Ｗ）、例えばクリーム若しくは乳液の型で、又
はゲル若しくはクリームゲルの型で、粉末若しくは固形スティックの型で提供す
ることができ、任意にエアゾルとして包装することができ、かつフォーム若しく
はスプレーの型で提供することができる。
、カルナウバワックス、蜜ロウ又は水素添加したヒマシ油。 有機溶媒のうち、低級アルコール及びポリオールを挙げることができる。 増粘剤を特に以下から選択することができる：架橋したポリアクリル酸、変性
又は未変性グアゴム及びセルロースゴム、例えばヒドロキシプロピル化グアゴム
、メチルヒドロキシエチルセルロース又はヒドロキシプロピルメチルセルロース
、及びシリコーンゴム、例えばポリジメチルシロキサン誘導体。 本発明に従う化粧品及び／又は皮膚科学的組成物を、当業者に周知の技術、特
に水中油型又は油中水型の乳剤の製造を意図する技術によって製造することがで
きる。 本化粧品及び／又は皮膚科学的組成物を特に単一又は複合乳剤の型（Ｏ／Ｗ、
Ｗ／Ｏ、Ｏ／Ｗ／Ｏ又はＷ／Ｏ／Ｗ）、例えばクリーム若しくは乳液の型で、又
はゲル若しくはクリームゲルの型で、粉末若しくは固形スティックの型で提供す
ることができ、任意にエアゾルとして包装することができ、かつフォーム若しく
はスプレーの型で提供することができる。
【００２５】
本発明に従う化粧品及び又は皮膚科学的組成物は、好ましくは水中油型の乳剤
の型で提供される。 乳剤の場合、その水性相は公知の方法（Bangham, Standish及びWatkins, J. M
ol. Biol., 13, 238(1965), FR 2 315 991及びFR 2 416 008）に従って製造した
非イオン性小胞性懸濁物を含むことができる。 本発明に従う化粧品及び／又は皮膚科学的組成物を、紫外線から皮膚又はケラ
チン物質を保護する組成物として、抗太陽光組成物として又はメーキャップ製品
として使用する。 本発明に従う化粧組成物を毛髪を保護するために使用する場合は、該組成物は
、シャンプー、ローション、ゲル、乳剤又は非イオン性小胞性懸濁物の形態で使
用することができ、かつ例えばシャンプーの前後、染色又は脱色の前後、又はパ
ーマネント処理又は直毛化処理の前後又はその処理中に使用する洗い流し組成物
、スタイリング又は処置ローション又はゲル、ブロー乾燥又はヘアセット用ロー
ション又はゲル、又は毛髪をパーマネント処理若しくは直毛化処理若しくは染色
若しくは脱色するための組成物を構成することができる。 実施例は本発明を表示するためのものでありかついずれの方法においても制限
するように理解してはならない。
の型で提供される。 乳剤の場合、その水性相は公知の方法（Bangham, Standish及びWatkins, J. M
ol. Biol., 13, 238(1965), FR 2 315 991及びFR 2 416 008）に従って製造した
非イオン性小胞性懸濁物を含むことができる。 本発明に従う化粧品及び／又は皮膚科学的組成物を、紫外線から皮膚又はケラ
チン物質を保護する組成物として、抗太陽光組成物として又はメーキャップ製品
として使用する。 本発明に従う化粧組成物を毛髪を保護するために使用する場合は、該組成物は
、シャンプー、ローション、ゲル、乳剤又は非イオン性小胞性懸濁物の形態で使
用することができ、かつ例えばシャンプーの前後、染色又は脱色の前後、又はパ
ーマネント処理又は直毛化処理の前後又はその処理中に使用する洗い流し組成物
、スタイリング又は処置ローション又はゲル、ブロー乾燥又はヘアセット用ロー
ション又はゲル、又は毛髪をパーマネント処理若しくは直毛化処理若しくは染色
若しくは脱色するための組成物を構成することができる。 実施例は本発明を表示するためのものでありかついずれの方法においても制限
するように理解してはならない。
【００２６】
【実施例】実施例１
以下の成分からゾル−ゲル法により材料を製造する：
テトラエトキシシラン（ＴＥＯＳ） 1.8 g
無水エタノール 13.6 g
水（０．０１Ｎ ＨＣｌ） 1.0 g
Triton（登録商標）X-100 0.6 g
Parsol（登録商標）1789 0.04 g
テトラヒドロキシシランはFlukaからのものであり、Parsol（登録商標）1789
はHoffmann−Larocheにより市販されており、Triton（登録商標）X-100はRohm
＆ Haasにより市販されている。 ＴＥＯＳを攪拌しながらエタノールに加える。次いでTriton（登録商標）X-10
0を攪拌しながら加え、次いでさらに攪拌しながらParsol（登録商標）1789を加
える。成分の間に非相溶性は見られなかった。混合物を５分間攪拌する。水（０
．０１Ｎ ＨＣｌ）を加え、混合物を３０℃で６０分間攪拌する。混合物を環境
温度に戻るまで攪拌しながら放置する。材料は直ちに使用できる。
はHoffmann−Larocheにより市販されており、Triton（登録商標）X-100はRohm
＆ Haasにより市販されている。 ＴＥＯＳを攪拌しながらエタノールに加える。次いでTriton（登録商標）X-10
0を攪拌しながら加え、次いでさらに攪拌しながらParsol（登録商標）1789を加
える。成分の間に非相溶性は見られなかった。混合物を５分間攪拌する。水（０
．０１Ｎ ＨＣｌ）を加え、混合物を３０℃で６０分間攪拌する。混合物を環境
温度に戻るまで攪拌しながら放置する。材料は直ちに使用できる。
【００２７】実施例２
以下の成分からゾル−ゲル法により材料を製造する：
テトラエトキシシラン（ＴＥＯＳ） 1.8 g
無水エタノール 14.43 g
水（０．０１Ｎ ＨＣｌ） 1.5 g
Triton（登録商標）X-100 0.6 g
Parsol（登録商標）1789 0.05 g
メチルトリエトキシシラン（ＭＴＥＳ） 3.2 g
テトラヒドロキシシランはFlukaからのものであり、Parsol（登録商標）1789
はHoffmann−Larocheにより市販されており、Triton（登録商標）X-100はRohm
＆ Haasにより市販されており、メチルトリエトキシシランはInterchimにより市
販されている。 ＴＥＯＳを攪拌しながらエタノールに加える。次いでTriton（登録商標）X-10
0を攪拌しながら加え、次いでさらに攪拌しながらParsol（登録商標）1789を加
える。混合物を５分間攪拌する。水（０．０１Ｎ ＨＣｌ）を加え、４８℃で３
０分間混合する。混合物を環境温度に戻るまで攪拌しながら放置する。このよう
にして得られたゾルを換気装置のあるオーブン中に５０℃で２４時間置く。白色
の固形物が得られ、この固形物を粉砕して白色粉末を得る。 さらにＴＭＥＳからゾルを製造する。このために、ＴＭＥＳ、エタノール及び
水を環境温度で混合し、混合物を環境温度で１時間攪拌する。次いで、上記によ
り得られた粉末５００mgをＴＭＥＳから製造したこのゾルに溶解させる。粉末を
含むこの新規なゾルを直ちに使用できる。
はHoffmann−Larocheにより市販されており、Triton（登録商標）X-100はRohm
＆ Haasにより市販されており、メチルトリエトキシシランはInterchimにより市
販されている。 ＴＥＯＳを攪拌しながらエタノールに加える。次いでTriton（登録商標）X-10
0を攪拌しながら加え、次いでさらに攪拌しながらParsol（登録商標）1789を加
える。混合物を５分間攪拌する。水（０．０１Ｎ ＨＣｌ）を加え、４８℃で３
０分間混合する。混合物を環境温度に戻るまで攪拌しながら放置する。このよう
にして得られたゾルを換気装置のあるオーブン中に５０℃で２４時間置く。白色
の固形物が得られ、この固形物を粉砕して白色粉末を得る。 さらにＴＭＥＳからゾルを製造する。このために、ＴＭＥＳ、エタノール及び
水を環境温度で混合し、混合物を環境温度で１時間攪拌する。次いで、上記によ
り得られた粉末５００mgをＴＭＥＳから製造したこのゾルに溶解させる。粉末を
含むこの新規なゾルを直ちに使用できる。
【００２８】ＵＶ照射に対する安定性の試験
次いで、Parsol（登録商標）1789のＵＶ照射に対する安定性試験を、実施例１
及び２で得られた材料を照射し、かつParsol（登録商標）1789を含むが界面活性
剤を含まない材料と比較することによって行った。 材料をガラス板（顕微鏡のスライド）上に乗せる。混合物の揮発性成分が蒸発
した後、板上にフィルムが形成される。フィルムの乾燥時間は早く、すなわち１
〜３分である。 次いで得られたフィルムを以下の条件下で照射する： −ＵＶ−Ａランプのエネルギー＝１９mW／cm2、 −ＵＶ−Ｂランプのエネルギー＝０．６mW／cm2、 −照射時間＝２０分。 これらの条件は約１時間の日光照射に相当する。 光分解を吸収型分光光度計又はＨＰＬＣで監視する。結果を以下の表にまとめ
てある。 表 MTMS：メチルトリメトキシシラン この表から、本発明の材料は界面活性剤を含まない材料と比較してＵＶ照射に
対してより安定であることが分かる。さらに、試験した材料のすべてが純水又は
塩水に対して、又極性及び非極性の化粧用油に対して持続性であることが分かっ
た。
及び２で得られた材料を照射し、かつParsol（登録商標）1789を含むが界面活性
剤を含まない材料と比較することによって行った。 材料をガラス板（顕微鏡のスライド）上に乗せる。混合物の揮発性成分が蒸発
した後、板上にフィルムが形成される。フィルムの乾燥時間は早く、すなわち１
〜３分である。 次いで得られたフィルムを以下の条件下で照射する： −ＵＶ−Ａランプのエネルギー＝１９mW／cm2、 −ＵＶ−Ｂランプのエネルギー＝０．６mW／cm2、 −照射時間＝２０分。 これらの条件は約１時間の日光照射に相当する。 光分解を吸収型分光光度計又はＨＰＬＣで監視する。結果を以下の表にまとめ
てある。 表 MTMS：メチルトリメトキシシラン この表から、本発明の材料は界面活性剤を含まない材料と比較してＵＶ照射に
対してより安定であることが分かる。さらに、試験した材料のすべてが純水又は
塩水に対して、又極性及び非極性の化粧用油に対して持続性であることが分かっ
た。
【手続補正書】
【提出日】平成１３年１０月５日（２００１．１０．５）
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考）
Ａ６１Ｋ 7/42 Ａ６１Ｋ 7/42
(81)指定国 ＥＰ(ＡＴ，ＢＥ，ＣＨ，ＣＹ，
ＤＥ，ＤＫ，ＥＳ，ＦＩ，ＦＲ，ＧＢ，ＧＲ，ＩＥ，Ｉ
Ｔ，ＬＵ，ＭＣ，ＮＬ，ＰＴ，ＳＥ)，ＯＡ(ＢＦ，ＢＪ
，ＣＦ，ＣＧ，ＣＩ，ＣＭ，ＧＡ，ＧＮ，ＧＷ，ＭＬ，
ＭＲ，ＮＥ，ＳＮ，ＴＤ，ＴＧ)，ＡＰ(ＧＨ，ＧＭ，Ｋ
Ｅ，ＬＳ，ＭＷ，ＭＺ，ＳＤ，ＳＬ，ＳＺ，ＴＺ，ＵＧ
，ＺＷ)，ＥＡ(ＡＭ，ＡＺ，ＢＹ，ＫＧ，ＫＺ，ＭＤ，
ＲＵ，ＴＪ，ＴＭ)，ＡＥ，ＡＧ，ＡＬ，ＡＭ，ＡＴ，
ＡＵ，ＡＺ，ＢＡ，ＢＢ，ＢＧ，ＢＲ，ＢＹ，ＢＺ，Ｃ
Ａ，ＣＨ，ＣＮ，ＣＲ，ＣＵ，ＣＺ，ＤＥ，ＤＫ，ＤＭ
，ＤＺ，ＥＥ，ＥＳ，ＦＩ，ＧＢ，ＧＤ，ＧＥ，ＧＨ，
ＧＭ，ＨＲ，ＨＵ，ＩＤ，ＩＬ，ＩＮ，ＩＳ，ＪＰ，Ｋ
Ｅ，ＫＧ，ＫＰ，ＫＲ，ＫＺ，ＬＣ，ＬＫ，ＬＲ，ＬＳ
，ＬＴ，ＬＵ，ＬＶ，ＭＡ，ＭＤ，ＭＧ，ＭＫ，ＭＮ，
ＭＷ，ＭＸ，ＭＺ，ＮＯ，ＮＺ，ＰＬ，ＰＴ，ＲＯ，Ｒ
Ｕ，ＳＤ，ＳＥ，ＳＧ，ＳＩ，ＳＫ，ＳＬ，ＴＪ，ＴＭ
，ＴＲ，ＴＴ，ＴＺ，ＵＡ，ＵＧ，ＵＳ，ＵＺ，ＶＮ，
ＹＵ，ＺＡ，ＺＷ
(72)発明者 サンチェス クレマン
フランス エフ−91190 ジフ−スール−
イヴェット レジダンス デュ シャトウ
デ クーセル ９
Ｆターム(参考） 4C083 AC101 AC102 AC211 AC212
AC401 AC441 AC471 AC472
AC531 AC561 AC641 AC911
AC912 AD021 AD191 CC19
EE17
Claims (41)
- 【請求項１】 少なくとも一つのシリコンアルコキシド及び少なくとも一つ
の界面活性剤からゾル−ゲル法により製造した光安定化材料中に光感受性遮蔽剤
を取り込むことを含むことを特徴とする、光感受性遮蔽剤のＵＶ照射に対する安
定性を改良する方法。 - 【請求項２】 ゾル−ゲル法により製造した光安定化材料が少なくとも一つ
のシリコンアルコキシド、少なくとも一つの界面活性剤、少なくとも一つの溶媒
及び水を含むことを特徴とする、請求項１の方法。 - 【請求項３】 シリコンアルコキシドを以下の式に相当するものから選択す
ることを特徴とする、請求項１又は２の方法： Ｓｉ(ＯＲ1)4 （Ｉ） Ｒ−Ｓｉ(ＯＲ1)3 （II） (Ｒ1Ｏ)3−Ｓｉ−Ｒ"−Ｓｉ(ＯＲ1)3 （III） (ＲＲ')−Ｓｉ(ＯＲ1)2 （IV） 式中： Ｒ1は直鎖又は分岐したＣ1-30、好ましくはＣ1-6のアルキル基； Ｒ及びＲ'は相互に独立して直鎖又は分岐したアルキル基、シクロアルキル基又
はアリール基を表し、これらは置換又は未置換で、Ｒ基及びＲ'基は付加的に化
粧品として又は皮膚科学的に活性な基を含むことができ； Ｒ"は直鎖又は分岐したアルキレン基、シクロアルキレン基又はアリーレン基を
表し、これらは置換又は未置換で、Ｒ"基は付加的に化粧品として又は皮膚科学
的に活性な基を含むことができる。 - 【請求項４】 シリコンアルコキシドをテトラエトキシシラン及びメチルト
リエトキシシランからなる群から選択することを特徴とする、先の請求項１ない
し３のいずれか１の方法。 - 【請求項５】 界面活性剤が非イオン性界面活性剤であることを特徴とする
、先の請求項１ないし４のいずれか１の方法。 - 【請求項６】 非イオン性界面活性剤を以下から選択することを特徴とする
、請求項５の方法：６〜３２の炭素原子を含む脂肪鎖を有し、酸化エチレン基又
は酸化プロピレン基の数が２〜１００であり、かつグリセロール基の数が２〜３
０である、ポリエトキシル化、ポリプロポキシル化又はポリグリセロール化脂肪
アルコール、アルキルフェノール又は酸；酸化エチレン及び酸化プロピレンのコ
ポリマー；酸化エチレン及び酸化プロピレンと脂肪アルコールとの縮合物；ポリ
エトキシル化脂肪アミド；ポリグリセロール化脂肪アミド；ポリエトキシル化脂
肪アミン；エトキシル化したソルビタン脂肪酸エステル；スクロース又はポリエ
チレングリコール脂肪酸エステル；アルキルポリグルコシド；Ｎ−アルキルグル
カミンのアミド又はカルバメート誘導体、アルドビオナミド及びアミンオキシド
。 - 【請求項７】 界面活性剤がポリエトキシル化４−(１，１，３，３−テト
ラメチルブチル)フェノールであることを特徴とする、先の請求項１ないし６の
いずれか１の方法。 - 【請求項８】 界面活性剤がシリコンアルコキシドに対する質量に基づいて
０．０１質量％〜９９質量％、好ましくは１０質量％〜６０質量％の範囲の量で
存在することを特徴とする、先の請求項１ないし７のいずれか１の方法。 - 【請求項９】 光感受性遮蔽剤をジベンゾイルメタン誘導体及びケイヒ酸誘
導体からなる群から選択することを特徴とする、先の請求項１ないし９のいずれ
か１の方法。 - 【請求項１０】 光感受性遮蔽剤を以下から選択することを特徴とする、先
の請求項１ないし９のいずれか１の方法： −２−メチルジベンゾイルメタン、 −４−メチルジベンゾイルメタン、 −４−イソプロピルジベンゾイルメタン、 −４−tert−ブチルジベンゾイルメタン、 −２，４−ジメチルジベンゾイルメタン、 −２，５−ジメチルジベンゾイルメタン、 −４，４'−ジイソプロピルジベンゾイルメタン、 −４，４'−ジメトキシジベンゾイルメタン、 −４−tert−ブチル−４'−メトキシジベンゾイルメタン、 −２−メチル−５−イソプロピル−４'−メトキシジベンゾイルメタン、 −２−メチル−５−tert−ブチル−４'−メトキシジベンゾイルメタン、 −２，４−ジメチル−４'−メトキシジベンゾイルメタン、 −２，６−ジメチル−４−tert−ブチル−４'−メトキシジベンゾイル−メタ
ン。 - 【請求項１１】 光感受性遮蔽剤が４−tert−ブチル−４'−メトキシジベ
ンゾイルメタンであることを特徴とする、先の請求項１ないし１０のいずれか１
の方法。 - 【請求項１２】 光感受性遮蔽剤を以下の一般式に対応するケイヒ酸誘導体
から選択することを特徴とする、請求項１ないし９のいずれか１の方法： 【化１】 式中、 Ａは、 −ＯＲ3基を表し、Ｒ3は水素原子、フィチル若しくはベンジル基、飽和又は不
飽和及び直鎖、分岐した若しくは環状のＣ1-18アルキル基、アルカリ金属若しく
はアルカリ土類金属塩若しくはアンモニウムイオンから選択され、又は −ＮＨＲ4基を表し、Ｒ4は水素原子、フィチル若しくはベンジル基、飽和又は
不飽和及び直鎖、分岐した若しくは環状のＣ1-18アルキル基から選択され； Ｒ1は、Ｈ、ＯＨ、Ｃ1〜Ｃ6アルコキシ、好ましくはメトキシ、又は飽和又は不
飽和及び直鎖、分岐した若しくは環状のＣ1-18アルキル基から選択する基を表し
； Ｒ2は、Ｈ、ＯＨ又はＣ1〜Ｃ6アルコキシ、好ましくはメトキシから選択する基
を表す。 - 【請求項１３】 光感受性遮蔽剤が２−エチルヘキシルｐ−シンナメートで
あることを特徴とする、請求項１２の方法。 - 【請求項１４】 光感受性遮蔽剤がシリコンアルコキシドの質量に対して、
０．１質量％からゾル中の溶解限界までの範囲の量で存在することを特徴とする
、先の請求項１ないし１３のいずれか１の方法。 - 【請求項１５】 光感受性遮蔽剤がシリコンアルコキシドの全質量に対して
０．１質量％〜１０質量％の範囲の量で存在することを特徴とする、先の請求項
１ないし１４のいずれか１の方法。 - 【請求項１６】 溶媒がアルコールであることを特徴とする、先の請求項１
ないし１５のいずれか１の方法。 - 【請求項１７】 アルコールが直鎖又は分岐した低級アルコールであること
を特徴とする、請求項１６の方法。 - 【請求項１８】 アルコールがエタノールであることを特徴とする、請求項
１７の方法。 - 【請求項１９】 溶媒が材料の全質量に対して１〜８５質量％の範囲の量で
存在することを特徴とする、先の請求項１ないし１８のいずれか１の方法。 - 【請求項２０】 加水分解の水のｐＨが１〜４の範囲内にあることを特徴と
する、先の請求項１ないし１９のいずれか１の方法。 - 【請求項２１】 加水分解の水のｐＨが１〜２の範囲内にあることを特徴と
する、先の請求項１ないし２０のいずれか１の方法。 - 【請求項２２】 以下を含みゾル−ゲル法によって製造した光安定化材料と
組み合わせた光感受性遮蔽剤を含むことを特徴とする光安定性材料： (a) 少なくとも一つのシリコンアルコキシド、 (b) 少なくとも一つの溶媒、 (c) 少なくとも一つの非イオン性界面活性剤、及び (d) 水。 - 【請求項２３】 シリコンアルコキシドを以下の式に対応するものから選択
することを特徴とする、請求項２２の光安定性材料： Ｓｉ(ＯＲ1)4 （Ｉ） Ｒ−Ｓｉ(ＯＲ1)3 （II） (Ｒ1Ｏ)3−Ｓｉ−Ｒ"−Ｓｉ(ＯＲ1)3 （III） (ＲＲ')−Ｓｉ(ＯＲ1)2 （IV） 式中： Ｒ1は直鎖又は分岐したＣ1-30、好ましくはＣ1-6のアルキル基； Ｒ及びＲ'は相互に独立して直鎖又は分岐したアルキル基、シクロアルキル基又
はアリール基を表し、これらは置換又は未置換で、Ｒ基及びＲ'基は付加的に化
粧品として又は皮膚科学的に活性な基を含むことができ； Ｒ"は直鎖又は分岐したアルキレン基、シクロアルキレン基又はアリーレン基を
表し、これらは置換又は未置換で、Ｒ"基は付加的に化粧品として又は皮膚科学
的に活性な基を含むことができる。 - 【請求項２４】 シリコンアルコキシドをテトラエトキシシラン及びメチル
トリエトキシシランからなる群から選択することを特徴とする、請求項２２又は
２３の光安定性材料。 - 【請求項２５】 非イオン性界面活性剤を以下から選択することを特徴とす
る、請求項２２ないし２４のいずれか１の光安定性材料：６〜３２の炭素原子を
含む脂肪鎖を有し、酸化エチレン基又は酸化プロピレン基の数が２〜１００であ
り、かつグリセロール基の数が２〜３０である、ポリエトキシル化、ポリプロポ
キシル化又はポリグリセロール化脂肪アルコール、アルキルフェノール又は酸；
酸化エチレン及び酸化プロピレンのコポリマー；酸化エチレン及び酸化プロピレ
ンと脂肪アルコールとの縮合物；ポリエトキシル化脂肪アミド；ポリグリセロー
ル化脂肪アミド；ポリエトキシル化脂肪アミン；エトキシル化したソルビタン脂
肪酸エステル；スクロース又はポリエチレングリコール脂肪酸エステル；アルキ
ルポリグルコシド；Ｎ−アルキルグルカミンのアミド又はカルバメート誘導体、
アルドビオナミド及びアミンオキシド。 - 【請求項２６】 界面活性剤がポリエトキシル化４−(１，１，３，３−テ
トラメチルブチル)フェノールであることを特徴とする、請求項２２ないし２５
のいずれか１の光安定性材料。 - 【請求項２７】 光感受性遮蔽剤をジベンゾイルメタン誘導体及びケイヒ酸
誘導体からなる群から選択することを特徴とする、請求項２２ないし２６のいず
れか１の光安定性材料。 - 【請求項２８】 光感受性遮蔽剤を以下から選択することを特徴とする、請
求項２２ないし２７のいずれか１の光安定性材料： −２−メチルジベンゾイルメタン、 −４−メチルジベンゾイルメタン、 −４−イソプロピルジベンゾイルメタン、 −４−tert−ブチルジベンゾイルメタン、 −２，４−ジメチルジベンゾイルメタン、 −２，５−ジメチルジベンゾイルメタン、 −４，４'−ジイソプロピルジベンゾイルメタン、 −４，４'−ジメトキシジベンゾイルメタン、 −４−tert−ブチル−４'−メトキシジベンゾイルメタン、 −２−メチル−５−イソプロピル−４'−メトキシジベンゾイルメタン、 −２−メチル−５−tert−ブチル−４'−メトキシジベンゾイルメタン、 −２，４−ジメチル−４'−メトキシジベンゾイルメタン、 −２，６−ジメチル−４−tert−ブチル−４'−メトキシジベンゾイル−メタ
ン。 - 【請求項２９】 光感受性遮蔽剤が４−tert−ブチル−４'−メトキシジベ
ンゾイルメタンであることを特徴とする、請求項２２ないし２８のいずれか１の
光安定性材料。 - 【請求項３０】 光感受性遮蔽剤を以下の一般式に対応するケイヒ酸誘導体
から選択することを特徴とする、請求項２２ないし２７のいずれか１の光安定性
材料： 【化２】 式中、 Ａは、 −ＯＲ3基を表し、Ｒ3は水素原子、フィチル若しくはベンジル基、飽和又は不
飽和及び直鎖、分岐した若しくは環状のＣ1-18アルキル基、アルカリ金属若しく
はアルカリ土類金属塩若しくはアンモニウムイオンから選択され、又は −ＮＨＲ4基を表し、Ｒ4は水素原子、フィチル若しくはベンジル基、飽和又は
不飽和及び直鎖、分岐した若しくは環状のＣ1-18アルキル基から選択され； Ｒ1は、Ｈ、ＯＨ、Ｃ1〜Ｃ6アルコキシ、好ましくはメトキシ、又は飽和又は不
飽和及び直鎖、分岐した若しくは環状のＣ1-18アルキル基から選択する基を表し
； Ｒ2は、Ｈ、ＯＨ又はＣ1〜Ｃ6アルコキシ、好ましくはメトキシから選択する基
を表す。 - 【請求項３１】 光感受性遮蔽剤が２−エチルヘキシルｐ−シンナメートで
あることを特徴とする、請求項３０の光安定性材料。 - 【請求項３２】 溶媒がアルコールであることを特徴とする、請求項２２な
いし３１のいずれか１の光安定性材料。 - 【請求項３３】 アルコールが直鎖又は分岐した低級アルコールであること
を特徴とする、請求項３２の光安定性材料。 - 【請求項３４】 アルコールがエタノールであることを特徴とする、請求項
３３の光安定性材料。 - 【請求項３５】 シリコンアルコキシドを次の順序、すなわち非イオン性界
面活性剤、光感受性遮蔽剤及び水の順序で溶媒に添加することを特徴とする、請
求項２２ないし３４のいずれか１の光安定性材料。 - 【請求項３６】 光安定性材料を乾燥し、粉砕し、再度他のシリコンアルコ
キシド及び／又は溶媒及び水と接触させたことを特徴とする、請求項３５の光安
定性材料。 - 【請求項３７】 化粧品として及び／又は皮膚科学的に受容可能なビヒクル
中に、請求項２２ないし３６のいずれか１の光安定性材料の有効量を含むことを
特徴とする、ＵＶ照射に対して光感受性である遮蔽剤を含む化粧品及び／又は皮
膚科学的組成物。 - 【請求項３８】 光感受性遮蔽剤以外の日光遮蔽剤、皮膚の人工日焼け剤及
び／又は褐色化剤、顔料、脂肪物質、有機溶媒、増粘剤、柔軟剤又は抗酸化剤か
ら選択する添加剤が付加的に添加可能であることを特徴とする、請求項３７の化
粧品及び／又は皮膚科学的組成物。 - 【請求項３９】 請求項２２ないし３６のいずれか１の光安定性材料を、化
粧品及び／又は皮膚科学的組成物の全質量に対して１質量％〜９９質量％、好ま
しくは１〜６０質量％の範囲の有効量で添加することを特徴とする、請求項３７
又は３８の化粧品及び／又は皮膚科学的組成物。 - 【請求項４０】 光安定性材料を乾燥及び粉砕によって得られる粒子の形態
で含むことを特徴とする、請求項３７ないし３９のいずれか１の化粧品及び／又
は皮膚科学的組成物。 - 【請求項４１】 光安定性材料を乾燥及び粉砕によって得た粒子の平均の大
きさが０．１〜５０μm、好ましくは０．１〜２０μmの範囲内にあることを特徴
とする、請求項３７ないし４０のいずれか１の化粧品及び／又は皮膚科学的組成
物。
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