JP2004099601A

JP2004099601A - ゾル−ゲル法により得られたジベンゾイルメタン型の日焼け止め剤を含む光安定化した物質、及び該物質を含む化粧及び／又は皮膚科学的組成物

Info

Publication number: JP2004099601A
Application number: JP2003199953A
Authority: JP
Inventors: Kimes Sandrine Chodorowski; サンドリーヌ　ショドロウスキ　キムス
Original assignee: LOreal SA
Current assignee: LOreal SA
Priority date: 2002-07-19
Filing date: 2003-07-22
Publication date: 2004-04-02
Also published as: EP1382328A1; FR2842418A1

Abstract

【課題】光安定化したジベンゾイルメタン型有機日焼け止め剤を提供すること。
【解決手段】本発明は、ジベンゾイルメタン型日焼け止め剤のフィルターを、有機溶媒を添加せずに、少なくとも一つのケイ素アルコキシド、少なくとも一つのノニオン性界面活性剤及び水からゾル−ゲル法によって製造したマトリックス中に固定化することによって、該日焼け止め剤を光安定化させる方法に関する。本発明はさらに、ジベンゾイルメタン型の有機日焼け止め剤を含む物質を製造する方法、該方法により得ることができる物質、及びこれらの物質を含む化粧及び／又は皮膚科学的組成物にも関する。
【選択図】　なし

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、ジベンゾイルメタン型の有機日焼け止め剤を光安定化する方法、及び該日焼け止め剤を含む物質を製造するゾル−ゲル法に関する。本発明はさらに、得られた物質及び該物質を含む化粧及び／又は皮膚科学的組成物に関する。
【０００２】
【従来の技術】
波長が２８０ｎｍ〜４００ｎｍの光を照射することによってヒトの表皮を日焼けさせること、及びＵＶ−Ｂ照射として知られている波長が２８０ｎｍ〜３２０ｎｍの照射によって紅斑及び皮膚火傷が生じ、これが自然な日焼けを起こさせることに有害な可能性があること；従ってＵＶ−Ｂ照射を遮蔽する必要があることが公知である。
さらに、皮膚の日焼けを起こす波長が３２０ｎｍ〜４００ｎｍのＵＶ−Ａ照射が皮膚に損傷を生じる可能性があること、特に感受性の高い皮膚又は太陽光の連続照射の場合にその可能性があることが公知である。ＵＶ−Ａ照射はＵＶ−Ｂ照射より透過力が強く、特に皮膚の弾力性を失わせかつしわが寄った外観を生じ、早期老化を生じる。ＵＶ−Ａ照射は紅斑反応の開始を促進し、ある種の人々ではこの反応を強化し、光毒性又は光アレルギー性反応の原因となる可能性すらある。従って、ＵＶ−Ａ照射、特に長波長のＵＶ−Ａ照射を遮蔽することが望ましい。
【０００３】
従って、ＵＶ照射に対して皮膚及びケラチン物質の保護を確実にするために、ＵＶ−Ａ領域で活性なフィルター及びＵＶ−Ｂ領域で活性なフィルターを含む日焼け止め組成物が一般に使用される。
この点に関して、周知かつ特に顕著な群のＵＶ−Ａ活性フィルターはジベンゾイルメタン誘導体、特に４−（ｔ−ブチル）−４’−メトキシジベンゾイルメタンから成り、該化合物はホフマン　ラロッシュ（ＨＯＦＦＭＡＮＮ　ＬＡＲＯＣＨＥ）による“ＰＡＲＳＯＬ（登録商標）１７８９”の商標で市場から入手可能である。
現在、Ｐａｒｓｏｌ（登録商標）１７８９のような日焼け止め剤は、ＵＶ照射に対する感受性という主要な問題を有している。実際、ジベンゾイルメタン誘導体は紫外線照射に対して相対的に感受性である化合物である。これらは紫外線の作用下で多かれ少なかれ分解するという遺憾な傾向を有している。このように、ジベンゾイルメタン誘導体が自然に受けることとなる紫外線照射の影響下におけるこれらの誘導体の光化学的な感受性のために、太陽に対する長時間の曝露の間一定した保護を保証することができず、そのためＵＶ光線に対して使用者に有効な保護を提供するためには定期的かつ高頻度の反復適用が必要となる。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
従って、これらのフィルターのＵＶ照射に対する感受性を減少させる試みがなされてきたが、多数の配合上の問題が生じてきた。例えば、これらの特に光感受性のフィルターは他の活性製品と配合することができず、それぞれの場合に新たな配合を開発することが必要である。さらに、これらの光感受性フィルターは必然的に限られた時間内で保護作用を有し、かつＵＶ照射に対するこれらの感受性を補償するために、配合物中にこれらをかなり大量に含むことが必要であり、このことは問題を解決するのに十分ではない。
ジベンゾイルメタン型の日焼け止め剤が有する光安定性に関するこの問題は当業者に周知である。
実際、特許出願ＦＲ−Ａ−２，７９９，１１９は、ジベンゾイル型光感受性日焼け止め剤をマトリックス中に取り込むことによって、該日焼け止め剤をＵＶ照射に関して安定化させる方法を記載しており、該マトリックスは少なくとも一つのケイ素アルコキシド、少なくとも一つの溶媒、少なくとも一つの界面活性剤及び水から製造される。しかしながら、これらのフィルターの光安定性の改良は必ずしも満足すべきものではない。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
驚くべきことに本出願人は、有機溶媒を添加せずに、少なくとも一つのケイ素アルコキシド、少なくとも一つの界面活性剤及び水からゾル−ゲル法によって製造したマトリックス中にジベンゾイルメタン型の有機日焼け止め剤を固定化すると、光安定性の良好な製品が得られることを見出した。
新規な本日焼け止め物質によって他の有利な性質も得られる。詳細には、該物質及びそれを含む組成物は、フィルムを形成し、快適な感触を与え、かつ純水又は生理食塩水に対して、又は極性又は非極性の化粧油に対して非常に良好な持続性を示すことができる。
【０００６】
【発明の実施の形態】
従って、本発明の主題はジベンゾイルメタン型有機日焼け止め剤の光安定化方法である。
本発明の主題はさらに、ゾル−ゲル法によるジベンゾイルメタン型有機フィルターを含む物質の製造方法でもある。
他の主題は、本発明に従う製造方法により得ることができる物質である。
本発明のさらに別の主題は、これらの物質を含む化粧品及び／又は皮膚科学的組成物である。
本発明の別の特徴、観点及び利点は、以下の説明及び種々の実施例を読むことによってさらに明確に明らかになろう。
本発明に従うジベンゾイルメタン型の有機日焼け止め剤を光安定化する方法は、該日焼け止め剤をマトリックス中に固定化することから成り、該マトリックスは少なくとも一つのケイ素アルコキシド、少なくとも一つの界面活性剤及び水から、有機溶媒を添加することなく、ゾル−ゲル法により製造される。
【０００７】
ジベンゾイルメタン型有機日焼け止め剤は、少なくとも一つのジベンゾイルメタン発色団基を有する単一の分子、二量体、オリゴマー又はポリマーの形態にあるいずれかの化合物を意味すると理解すべきである。
本発明の範囲内で使用することができるジベンゾイルメタン型有機日焼け止め剤の例は特に以下のものであるが、これに限定されない：
２−メチルジベンゾイルメタン、
４−メチルジベンゾイルメタン、
４−イソプロピルジベンゾイルメタン、又はイソプロピルジベンゾイルメタン、例えばメルク（ＭＥＲＣＫ）が市販する“ＥＵＳＯＬＥＸ（登録商標）８０２０”、
４−ｔ−ブチルジベンゾイルメタン、
２，４−ジメチルジベンゾイルメタン、
２，５−ジメチルジベンゾイルメタン、
４，４’−ジイソプロピルジベンゾイルメタン、
４，４’−ジメチルジベンゾイルメタン、
４−ｔ−ブチル−４’−メトキシジベンゾイルメタン、又はブチルメトキシジベンゾイルメタン、
２−メチル−５−イソプロピル−４’−メトキシジベンゾイルメタン、
２−メチル−５−ｔ−ブチル−４’−メトキシジベンゾイルメタン、
２，４−ジメチル−４’−メトキシジベンゾイルメタン、
２，６−ジメチル−４−ｔ−ブチル−４’−メトキシジベンゾイルメタン。
【０００８】
ホフマンラロッシュ（ＨＯＦＦＭＡＮＮ−ＬＡＲＯＣＨＥ）により特に“ＰＡＲＳＯＬ（登録商標）１７８９”の商品名で市販されているブチルメトキシジベンゾイルメタンは、以下の発色した式で表され、ジベンゾイルメタン型の有機日焼け止め剤として好ましく使用される：

【０００９】
本発明に従う方法で使用するケイ素アルコキシドを特に以下の式で表されるものから選択する：
Ｓｉ（ＯＲ_ａ）_４　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　（Ｉ）
Ｒ−Ｓｉ（ＯＲ_ａ）_３　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　（ＩＩ）
（Ｒ_ａＯ）_３−Ｓｉ−Ｒ”−Ｓｉ（ＯＲ_ａ）_３　　　　　（ＩＩＩ）

式中、
Ｒ_ａは、直鎖又は分岐した、Ｃ_１−３０、好ましくはＣ_１−６アルキル基を表し；
Ｒ及びＲ’は、相互に独立して、直鎖又は分岐したアルキル基、シクロアルキル基、置換又は未置換のアリール基を表し、該基Ｒ及びＲ’はさらに化粧品として又は皮膚科学的に活性な基を含むことができ；
Ｒ”は、直鎖又は分岐したアルキレン基、シクロアルキレン基、置換又は未置換のアリーレン基を表し、該基Ｒ”はさらに化粧品として又は皮膚科学的に活性な基を含むことができる。
【００１０】
Ｒ、Ｒ’及びＲ”基が含むことのできる化粧品として又は皮膚科学的に活性な基のうち、例えば以下を挙げることができる：発色基、光発色性基、ケラチン物質への付着を促進する基、例えばホスフェート基、ホスホネート基、ホスホン酸基、アミド基、ウレタン基、ウレイド基、ヒドロキシ基、カルボキシ基、チオール基、アミノ酸基又はポリペプチド型の基、フリーラジカルを消去する基又はビタミンを担持する基。
先に挙げたケイ素アルコキシドのうち、テトラエトキシシラン及びメチルトリエトキシシランが特に好ましい。
【００１１】
本発明に従う方法で使用する界面活性剤は好ましくはノニオン性である。これらを特に以下から選択する：６〜３２の炭素原子、好ましくは８〜１８の炭素原子を含む脂肪鎖を有する、ポリエトキシル化した、ポリプロポキシル化した、又はポリグリセロール化した脂肪アルコール、アルキルフェノール又は酸、この場合、エチレンオキシド又はプロピレンオキシド基の数は２〜１００、好ましくは２〜５０であり、グリセロール基の数は２〜３０である。
ノニオン性界面活性剤の他の例は以下のものである：エチレンオキシドとプロピレンオキシドのコポリマー；エチレンオキシド及びプロピレンオキシドの脂肪アルコールとの縮合物；好ましくは２〜３０モルのエチレンオキシドを有するポリエトキシル化した脂肪アミド；好ましくは１〜５のグリセロール基、特に１．５〜４のグリセロール基を含むポリグリセロール化した脂肪アミド；好ましくは２〜３０モルのエチレンオキシドを有するポリエトキシル化した脂肪アミン；２〜３０モルのエチレンオキシドでエトキシル化したソルビタン脂肪酸エステル；スクロース脂肪酸エステル、ポリエチレングリコール脂肪酸エステル、アルキルポリグリコシド、Ｎ−アルキルグルカミンのカルバメート又はアミド誘導体、アルドビオナミド、アミンオキシド、例えばアルキルアミン又はＮ−アシルアミドプロピルモルホリンオキシド。
上記の界面活性剤のうち、特に好ましいのはポリエトキシル化した４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェノールである。これはユニオン　カーバイド（Ｕｎｉｏｎ　Ｃａｒｂｉｄｅ）によりＴｒｉｔｏｎ（登録商標）Ｘ１００の名称で市販されている。
【００１２】
本発明の他の主題は、ゾル−ゲル法によるジベンゾイルメタン型有機日焼け止め剤を含む物質を製造する方法であり、該方法は、少なくとも一つのジベンゾイルメタン型の有機日焼け止め剤、少なくとも一つの界面活性剤、少なくとも一つのケイ素アルコキシド及び該アルコキシド及びその縮合物を部分的又は完全に加水分解するのに十分な量の水を、有機溶媒の不存在下に混合することから成る。
この製造方法で使用するジベンゾイルメタン型の有機日焼け止め剤、界面活性剤及びケイ素アルコキシドは上記に記載されている。
出発物質、すなわち界面活性剤及びケイ素アルコキシド並びにその量及び水の量を、所与のジベンゾイルメタン型の有機日焼け止め剤に対して、最終物質中にフィルターが均一に分散するように選択する。
本発明の方法において日焼け止め剤を、ケイ素アルコキシドの質量に対して、好ましくは０．１質量％〜２０質量％、さらには０．５〜１０質量％の範囲の量で特に使用する。
【００１３】
本発明の範囲内で使用する界面活性剤の量は、アルコキシド／水混合物中の界面活性剤の溶解度に依存する。それゆえ、界面活性剤のケイ素アルコキシドに対する質量比は特に０．０１〜９９、好ましくは１〜６０である。
ケイ素アルコキシド及びその縮合物が部分的又は完全に加水分解するのに十分な量で水を使用する。この量は、ケイ素アルコキシドの質量に対して、０．０１〜９９質量％、好ましくは１〜５０質量％である。
水は好ましくは化粧品として受容可能な無機又は有機酸、より詳細には塩酸、硝酸、硫酸又は酢酸を含む。本発明の範囲内において、塩酸が特に好ましい。
水の加水分解のｐＨは好ましくは１〜４、さらには１〜２である。
【００１４】
先に記載した製造方法の好ましい態様は、少なくとも一つの界面活性剤、好ましくはノニオン性界面活性剤、及びジベンゾイルメタン型の日焼け止め剤の混合物に、ケイ素アルコキシドを最初に添加し、次いで化粧品として受容可能な無機又は有機酸を含む水を加えることから成る。
本発明は、上記の製造方法によって得ることができるジベンゾイルメタン型の有機日焼け止め剤を含む物質にも関する。
本発明の追加的な主題は、化粧品として及び／又は皮膚科学的に受容可能な媒体中に、本発明の製造方法によって得ることができるジベンゾイルメタン型の有機日焼け止め剤を含む少なくとも一つの物質の有効量を含む化粧品及び／又は皮膚科学的組成物である。
化粧品として及び／又は皮膚科学的に受容可能な媒体は、全てのケラチン物質、例えば皮膚、毛髪、爪、まつげ及び眉毛、唇並びに身体及び顔の他の全ての領域と両立可能な媒体であると理解すべきである。
【００１５】
本化粧品及び／又は皮膚科学的組成物は、組成物の全質量に対して、１質量％〜９９質量％、好ましくは１質量％〜６０質量％の範囲の有効量で該物質を含む。
好ましくは、本発明の物質を乾燥して粉砕し、粒子の形態で化粧及び／又は皮膚科学的組成物に添加する。平均粒子径は使用する粉砕方法及び装置に依存し、０．１〜５０μｍ、好ましくは０．１〜２０μｍ、さらには０．１〜１０μｍの範囲が有利である。
本発明に従う化粧及び／又は皮膚科学的組成物はさらに、先に述べたジベンゾイルメタン型の日焼け止め剤以外の一又は複数の追加的な有機日焼け止め剤を含むことができ、これらはＵＶ−Ａ及び／又はＵＶ−Ｂ領域で活性であり、水溶性、脂溶性、又は通常の化粧用溶媒には不溶性であり、ただし、当然のことながら、本発明の組成物の本質的な特徴、すなわちその光安定性を変えるものではない。
【００１６】
これらの追加的なフィルターを特に以下から選択することができる：アントラニレート；サリチル酸誘導体；ケイヒ酸誘導体；カンファー誘導体；トリアジン誘導体、例えば特許ＵＳ　４，３６７，３９０、ＥＰ　０　８６３　１４５、ＥＰ　０　５１７　１０４、ＥＰ　０　５７０　８３８、ＥＰ　０　７９６　８５１、ＥＰ　０　７７５　６９８、ＥＰ　０　８７８　４６９及びＥＰ　０　９３３　３７６に記載されたもの；ベンゾフェノン誘導体；アミン化した２−ヒドロキシベンゾフェノン、例えば特許ＥＰ　１　０４６　３９１及びＤＥ　１０　０１２　４０８に記載されたもの；β，β’−ジフェニルアクリレート誘導体；ベンゾトリアゾール誘導体；ベンザルマロネート誘導体；ベンズイミダゾール誘導体；イミダゾリン；ビス（ベンゾアゾリル）誘導体、例えば特許ＥＰ　０　６６９　３２３及びＵＳ　２，４６３，２６４に記載されたもの；ｐ−アミノ安息香酸（ＰＡＢＡ）誘導体；メチレン−ビス（ヒドロキシフェニル−ベンゾトリアゾール）誘導体、例えば特許ＵＳ　５，２３７，０７１、ＵＳ　５，１６６，３５５、ＧＢ　２，３０３，５４９、ＤＥ　１９　７２６　１８４及びＥＰ　０　８９３　１１９に記載されたもの；炭化水素ポリマーフィルター及びＷＯ−９３／１０４６６５に記載されたシリコーンフィルター；アルキルスチレン誘導体、例えば特許ＤＥ　１９８　５５　６４９に記載されたもの；及びこれらの混合物。
【００１７】
以下のＩＮＣＩ名で表した化合物及びそれらの混合物を、ＵＶ−Ａ及び／又はＵＶ−Ｂ領域で活性な上記の追加的な有機日焼け止め剤の例として挙げることができる：
アントラニレート：
−　ハーマン　アンド　ライマー（ＭＡＡＲＭＡＮＮ　ＥＴ　ＲＥＩＭＥＲ）がＮＥＯ　ＨＥＬＩＯＰＡＮ（登録商標）ＭＡの商品名で市販するメンチルアントラニレート；
サリチル酸誘導体：
−　ロナ／エム　インダストリーズ（ＲＯＮＡ／ＥＭ　ＩＮＤＵＳＴＲＩＥＳ）がＥＵＳＯＬＥＸ（登録商標）ＨＭＳの商品名で市販するホモサレート；
−　ハーマン　アンド　ライマー（ＭＡＡＲＭＡＮＮ　ＥＴ　ＲＥＩＭＥＲ）がＮＥＯ　ＨＥＬＩＯＰＡＮ（登録商標）ＯＳの商品名で市販するエチルヘキシルサリチレート；
−　シェール（ＳＣＨＥＲ）がＤＩＰＳＡＬ（登録商標）の商品名で市販するジプロピレングリコールサリチレート；
−　ハーマン　アンド　ライマー（ＭＡＡＲＭＡＮＮ　ＥＴ　ＲＥＩＭＥＲ）がＮＥＯ　ＨＥＬＩＯＰＡＮ（登録商標）ＴＳの商品名で市販するＴＥＡサリチレート；
【００１８】
ケイヒ酸誘導体：
−　ホフマン　ラ　ロッシュ（ＨＯＦＦＭＡＮＮ　ＬＡ　ＲＯＣＨＥ）がＰＡＲＳＯＬ（登録商標）ＭＣＸの商品名で特に市販するエチルヘキシルメトキシシンナメート、
−　イソプロピルメトキシシンナメート、
−　ハーマン　アンド　ライマー（ＭＡＡＲＭＡＮＮ　ＥＴ　ＲＥＩＭＥＲ）がＮＥＯ　ＨＥＬＩＯＰＡＮ（登録商標）１０００の商品名で市販するイソアミルメトキシシンナメート、
−　シノキセート（Ｃｉｎｎｏｘａｔｅ）、
−　ＤＥＡメトキシシンナメート、
−　ジイソプロピルメチルシンナメート、
−　グリセリルエチルヘキサノエートジメトキシシンナメート；
【００１９】
カンファー誘導体：
−　シメックス（ＣＨＩＭＥＸ）がＭＥＸＯＲＹＬ（登録商標）ＳＤの名称で製造する３−ベンジリデンカンファー、
−　シメックス（ＣＨＩＭＥＸ）がＭＥＸＯＲＹＬ（登録商標）ＳＬの名称で製造するベンジリデンカンファースルホン酸、
−　シメックス（ＣＨＩＭＥＸ）がＭＥＸＯＲＹＬ（登録商標）ＳＯの名称で製造するカンファーベンザルコニウムメトスルフェート、
−　シメックス（ＣＨＩＭＥＸ）がＭＥＸＯＲＹＬ（登録商標）ＳＸの名称で製造するテレフタリリデンジカンファースルホン酸、
−　シメックス（ＣＨＩＭＥＸ）がＭＥＸＯＲＹＬ（登録商標）ＳＷの名称で製造するポリアクリルアミドメチルベンジリデンカンファー、
【００２０】
トリアジン誘導体：
−　チバ　ガイギー（ＣＩＢＡ　ＧＥＩＧＹ）がＴＩＮＯＳＯＲＢ（登録商標）Ｓの商品名で市販するアニソトリアジン、
−　ＢＡＳＦがＵＶＩＮＵＬ（登録商標）Ｔ１５０の商品名で特に市販するエチルヘキシルトリアゾン、
−　シグマ　３Ｖ（ＳＩＧＭＡ　３Ｖ）がＵＶＡＳＯＲＢ（登録商標）ＨＥＢの商品名で市販するジエチルヘキシルブタミドトリアゾン、
−　２，４，６−トリス−（ジイソブチル４’−アミノベンザルマロネート）−ｓ−トリアジン；
【００２１】
ベンゾフェノン誘導体：
−　ＢＡＳＦがＵＶＩＮＵＬ（登録商標）４００の商品名で市販するベンゾフェノン−１、
−　ＢＡＳＦがＵＶＩＮＵＬ（登録商標）Ｄ−５０の商品名で市販するベンゾフェノン−２、
−　ＢＡＳＦがＵＶＩＮＵＬ（登録商標）Ｍ−４０の商品名で市販するベンゾフェノン−３又はオキシベンゾン、
−　ＢＡＳＦがＵＶＩＮＵＬ（登録商標）ＭＳ−４０の商品名で市販するベンゾフェノン−４、
−　ベンゾフェノン−５、
−　ノルクェイ（ＮＯＲＱＵＡＹ）がＨＥＬＩＳＯＲＢ（登録商標）１１の商品名で市販するベンゾフェノン−６、
−　アメリカン　シアナミド（ＡＭＥＲＩＣＡＮ　ＣＹＡＮＡＭＩＤ）がＳＰＥＣＴＲＡ−ＳＯＲＢ（登録商標）ＵＶ−２４の商品名で市販するベンゾフェノン−８、
−　ＢＡＳＦがＵＶＵＮＵＬ（登録商標）ＤＳ−４９の商品名で市販するベンゾフェノン−９、
−　ベンゾフェノン−１２、
−　ｎ−ヘキシル２−（４−ジエチルアミノ−２−ヒドロキシベンゾイル）−ベンゾエート；
【００２２】
β，β ’ −ジフェニルアクリレート誘導体：
−　ＢＡＳＦが特にＵＶＩＮＵＬ（登録商標）Ｎ５３９の商品名で市販するオクトクリレン、
−　ＢＡＳＦが特にＵＶＩＮＵＬ（登録商標）Ｎ３５の商品名で市販するエトクリレン；
ベンゾトリアゾール誘導体：
−　ローディア　キミ（ＲＨＯＤＩＡ　ＣＨＩＭＩＥ）がＳＩＬＡＴＲＩＺＯＬＥ（登録商標）の商品名で市販するドロメトリロール、
−　フェアモント　ケミカル（ＦＡＩＲＭＯＵＮＴ　ＣＨＥＭＩＣＡＬ）がＭＩＸＸＩＭ（登録商標）ＢＢ／１００の商品名で市販するメチレンビス−ベンゾトリアゾリルテトラメチルブチルフェノール、又はチバ　スペシャルティ　ケミカルズ（ＣＩＢＡ　ＳＰＥＣＩＡＬＴＹ　ＣＨＥＭＩＣＡＬＳ）がＴＩＮＯＳＯＲＢ（登録商標）Ｍの商品名で市販する微小化した形態にある水性懸濁物；
ベンザルマロネート誘導体：
−　ホフマン　ラ　ロッシュ（ＨＯＦＦＭＡＮＮ　ＬＡ　ＲＯＣＨＥ）がＰＡＲＳＯＬ（登録商標）ＳＬＸの商品名で市販するベンザルマロネート官能基を有するポリオルガノシロキサン；
【００２３】
ベンズイミダゾール誘導体：
−　メルク（ＭＥＲＣＫ）がＥＵＳＯＬＥＸ（登録商標）２３２の商品名で特に市販するフェニルベンズイミダゾールスルホン酸、
−　ハーマン　アンド　ライマー（ＭＡＡＲＭＡＮＮ　ａｎｄ　ＲＥＩＭＥＲ）がＮＥＯ　ＨＥＬＩＯＰＡＮ（登録商標）ＡＰの商品名で市販するジナトリウムフェニルジベンズイミダゾールテトラスルホネート；
イミダゾリン誘導体：
−　エチルヘキシルジメトキシベンジリデンジオキソイミダゾリンプロピオネート；
パラ−アミノ安息香酸誘導体：
−　ＰＡＢＡ、
−　エチルＰＡＢＡ、
−　エチルジヒドロキシプロピルＰＡＢＡ、
−　ＩＳＰがＥＳＣＡＬＯＬ（登録商標）５０７の商品名で市販するエチルヘキシルジメチルＰＡＢＡ、
−　グリセリルＰＡＢＡ、
−　ＢＡＳＦがＵＶＩＮＵＬ（登録商標）Ｐ２５の商品名で市販するＰＥＧ−２５　ＰＡＢＡ。
【００２４】
より好ましい追加的な有機ＵＶフィルターを以下の化合物から選択する：
−　エチルヘキシルサリチレート、
−　オクトクリレン、
−　フェニルベンズイミダゾールスルホン酸、
−　テレフタリリデンジカンファースルホン酸、
−　４−メチルベンジリデンカンファー、
−　アニソトリアジン、
−　エチルヘキシルトリアゾン、
−　ジエチルヘキシルブタミドトリアゾン、
−　２，４，６−トリス−（ジイソブチル４’−アミノ−ベンザルマロネート）−ｓ−トリアジン、
−　ベンゾフェノン−３、
−　ベンゾフェノン−４、
−　ベンゾフェノン−５、
−　ｎ−ヘキシル２−（４−ジエチルアミノ−２−ヒドロキシベンゾイル）−ベンゾエート、
−　メチレンビス−ベンゾトリアゾリルテトラメチルブチルフェノール、
−　ドロメトリゾールトリシロキサン、
−　ジナトリウムフェニルジベンズイミダゾールテトラスルホネート、
及びこれらの混合物。
【００２５】
本発明に従う化粧及び／又は皮膚科学的組成物は、被覆又は未被覆の金属酸化物から製造した顔料又はナノ顔料（平均一次粒径が一般に５ｎｍ〜１００ｎｍ、好ましくは１０〜５０ｎｍである）を含むことができ、その例は、酸化チタン（ルチル及び／又はアナターゼ型の非晶質又は結晶質）、酸化鉄、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム又は酸化セリウムのナノ顔料であり、これらは全て自体周知の光保護剤である。常用の被覆剤はアルミナ及び／又はアルミニウムステアレートである。これらの被覆したか又は被覆していない金属酸化物のナノ顔料は特に特許出願ＥＰ−Ａ−０　５１８　７７２及びＥＰ−Ａ−０　５１８　７７３に記載されている。
本発明に従う組成物はさらに、皮膚の人工的な褐色化剤及び／又は日焼け剤（自己日焼け剤）、例えばジヒドロキシアセトン（ＤＨＡ）を含むこともできる。
【００２６】
本発明に従う組成物はさらに以下から選択する常用の化粧用添加物を含むことができる：脂肪物質、有機溶媒、イオン性又はノニオン性増粘剤、柔軟剤、抗酸化剤、フリーラジカルを消去する剤、不透明化剤、安定剤、緩和剤、シリコーン、α−ヒドロキシ酸、消泡剤、湿潤剤、ビタミン、昆虫忌避剤、芳香剤、保存剤、アニオン性、カチオン性、両性又はノニオン性界面活性剤、抗炎症剤、物質Ｐ拮抗剤、フィラー、封鎖剤、ポリマー、噴射剤、塩基性化剤又は酸性化剤、染料又は化粧品及び／又は皮膚科学的分野、特にエマルションの形態にある日焼け止め剤を製造するのに通常使用する他のいずれかの成分、及びこれらの混合物。
脂肪物質を油又はワックス又はこれらの混合物によって構成することができる。“油”を、周囲温度で液体である化合物として理解すべきである。“ワックス”を、周囲温度で固体又は実質的に固体であり、一般に３５℃より高い融点を有する化合物として理解すべきである。これらはさらに、直鎖又は環状の脂肪酸、脂肪アルコール及び脂肪酸エステル、例えば安息香酸、トリメリット酸及びヒドロキシ安息香酸の誘導体を含む。
【００２７】
油の例は以下のものである：鉱油（ワセリン）；植物油（甘ヘントウ油、マカダミア油、クロフサスグリ種子油、ホホバ油）；合成油、例えばペルヒドロスクアレン、脂肪アルコール、脂肪酸又は脂肪エステル（例えばファインテクス（Ｆｉｎｅｔｅｘ）が“Ｆｉｎｓｏｌｖ　ＴＮ”の商品名で市販するＣ_１２〜Ｃ_１５アルコールベンゾエート、オクチルパルミテート、イソプロピルラノレート、カプリン酸／カプリル酸のトリグリセリドを含むトリグリセリド混合物）、エトキシル化したか又はプロポキシル化した脂肪エステル及びエーテル；シリコーン油（好ましくは４又は５のケイ素原子を含むシクロメチコーン、ポリジメチルシロキサン又はＰＤＭＳ）又はフッ素化した油、又はポリアルキレン油。
ワックス状化合物の例はパラフィン、カルナウバワックス、ミツロウ、水素添加したヒマシ油である。
有機溶媒の例は低級アルコール及びポリオールである。
増粘剤を特に以下から選択することができる：架橋したポリアクリル酸、変性又は未変性のグアゴム又はセルロースゴム、例えばヒドロキシプロピル化したグアゴム、メチルヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロース、及びシリコーンゴム、例えばポリジメチルシロキサン誘導体。
【００２８】
本発明に従う化粧及び／又は皮膚科学的組成物を、当業者に周知の技術、特に水中油又は油中水型のエマルションを製造することを意図した技術に従って製造することができる。
これらの化粧及び／又は皮膚科学的組成物を特に単一又は複合エマルション（Ｏ／Ｗ、Ｗ／Ｏ、Ｏ／Ｗ／Ｏ又はＷ／Ｏ／Ｗ）の形態、例えばクリーム、ミルク、又はジェル又はジェルクリーム、パウダー、固形スティックの形態で提供することができ、任意にエアゾールでパッケージすることができ、フォーム又はスプレーの形態で提供することができる。
これがエマルションである場合、その水性相は公知の方法（Ｂａｎｇｈａｍ，　Ｓｔａｎｄｉｓｈ　ａｎｄ　Ｗａｔｋｉｎｓ，　Ｊ．　Ｍｏｌ．　Ｂｉｏｌ．，　１３，　２３８　（１９６５），　ＦＲ　２，３１５，９９１及びＦＲ　２，４１６，００８）に従って製造したノニオン性ベヒクル分散物を含むことができる。
本発明に従う化粧及び／又は皮膚科学的組成物を、紫外線に対して日焼け止め組成物又はメーキャップ製品として、ケラチン物質、例えば皮膚、毛髪、爪、唇、まつげ又は眉毛を保護する組成物として使用することができる。
【００２９】
本発明に従う化粧組成物を、ＵＶ線に対して皮膚を保護するために、又は日焼け止め組成物として使用する場合、溶媒又は脂肪物質中における懸濁物又は分散物の形態で、ノニオン性ベヒクル懸濁物の形態で、又はエマルション、好ましくは水中油型のエマルション、例えばクリーム又はミルクの形態で、又はポマード、ジェル、ジェルクリーム、固形スティック、パウダー、スティック、エアゾールフォーム又はスプレーの形態で提供することができる。
本発明に従う化粧組成物を毛髪の保護に使用する場合、シャンプー、ローション、ジェル、エマルション、ノニオン性ベヒクル分散物の形態でそれを提供することができ、シャンプー処置の前又は後、乾燥又は漂白の前又は後、パーマネントウェーブ処置又は毛髪の直毛化処置の前、最中又は後に適用するリンスを行う組成物、スタイリング又は処置ローション又はジェル、ブラッシング又はヘアセット用のローション又はジェル、パーマネントウェーブ処置又は毛髪直毛化、毛髪の乾燥又は漂白組成物を構成することができる。
本発明に従う化粧組成物を、まつげ、眉毛又は皮膚のメーキャップ製品、例えば表皮処置用のクリーム、ファンデーション、口紅、まぶたのメーキャップ、頬のメーキャップ、マスカラ又は“アイライナー”としても公知の“ライナー”として使用する場合、無水又は水性の固形状又はペースト状の形態、例えば水中油又は油中水型のエマルション、ノニオン性ベヒクル分散物又は分散物の形態で提供することができる。
以下の例は本発明を説明するために与えられている。
【００３０】
【実施例】
例１
以下の成分からゾル−ゲル法によって物質を製造する：
テトラエトキシシラン（ＴＥＯＳ）　　　　　５．０　ｇ
水（ＨＣｌ　０．１Ｎ）　　　　　　　　　　　　　　　　　　　０．８７　ｇ
トリトン（登録商標）Ｘ−１００　　　　　　　　　　　０．７５　ｇ
Ｐａｒｓｏｌ（登録商標）１７８９　　　　　　　　　　　　　　　０．２５　ｇ
テトラエトキシシランはフルカ（Ｆｌｕｋａ）製であり、Ｐａｒｓｏｌ（登録商標）１７８９はホフマン　ラロッシュ（ＨＯＦＦＭＡＮＮ−ＬＡＲＯＣＨＥ）が市販しており、トリトン（登録商標）Ｘ−１００はユニオン　カーバイド（Ｕｎｉｏｎ　Ｃａｒｂｉｄｅ）が市販している。
トリトン（登録商標）Ｘ−１００にＰａｒｓｏｌ（登録商標）１７８９を３０分４０℃に加熱して分散させる。次いで、周囲温度でＴＥＯＳをこの分散物に撹拌しながら添加する。次に、酸性化した水を一滴ずつ加える。全体を周囲温度で２４時間撹拌する。生成物は直ちに使用できる物質である。
【００３１】
比較例
以下の成分からゾル−ゲル法によって物質を製造する：
テトラエトキシシラン（ＴＥＯＳ）　　　　　５．０　ｇ
エタノール　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　１７　ｍｌ
水（ＨＣｌ　０．１Ｎ）　　　　　　　　　　　　　　　　　　　０．９　ｇ
トリトン（登録商標）Ｘ−１００　　　　　　　　　　　０．７５　ｇ
Ｐａｒｓｏｌ（登録商標）１７８９　　　　　　　　　　　　　　　０．２５　ｇ
テトラエトキシシランはフルカ（Ｆｌｕｋａ）製であり、Ｐａｒｓｏｌ（登録商標）１７８９はホフマン　ラロッシュ（ＨＯＦＦＭＡＮＮ−ＬＡＲＯＣＨＥ）が市販しており、トリトン（登録商標）Ｘ−１００はユニオン　カーバイド（Ｕｎｉｏｎ　Ｃａｒｂｉｄｅ）が市販している。
トリトン（登録商標）Ｘ−１００にＰａｒｓｏｌ（登録商標）１７８９を３０分４０℃に加熱して分散させる。次いで、周囲温度でＴＥＯＳ／エタノールをこの分散物に撹拌しながら添加する。次に、酸性化した水を一滴ずつ加える。全体を周囲温度で２４時間撹拌する。生成物は直ちに使用できる物質である。
【００３２】
ＵＶ照射に関する安定性試験
次いで上記の例１で得られた物質及び比較のために比較例で得られた物質に照射してＰａｒｓｏｌ（登録商標）１７８９のＵＶ照射に関する安定性についての試験を行った。
６個のガラス板（顕微鏡の板）を、例１の物質をそれぞれに１００μｌずつ載せて作成した。混合物の揮発成分が蒸発した後、フィルムが形成される。フィルムの乾燥時間は早く、すなわち１〜３分である。次いで、照射の前に物質をそのまま周囲温度で２４時間放置する。
得られたフィルムのうち３個を、以下の条件下に、キセノン灯を取り付けたＵＶＩＭＥＴＲＥ　ＯＳＴＲＡＭ−Ｃｅｎｔｒａを使用して照射した：
−　ランプＵＶ−Ａの出力＝２２Ｊ／ｃｍ^２、
−　シュミレーターの照射時間＝２０分。
この条件は約１時間のＵＶ−Ａ太陽光に相当する。
Ｐａｒｓｏｌ（登録商標）１７８９の光分解を照射の前後でＰａｒｓｏｌ（登録商標）１７８９の量を測定することによって評価した：３個の非照射板及び３個の照射板のそれぞれのフィルムから、一定量のエタノール中にフィルムを２４時間放置し時々撹拌しながらＰａｒｓｏｌ（登録商標）１７８９を抽出した。このようにして、照射前後にフィルム中に存在するＰａｒｓｏｌ（登録商標）１７８９の全てを抽出し、次いで、Ｐａｒｓｏｌ（登録商標）１７８９の量を測定する。
例１の物質について得られた結果を以下の表１に示す：
【００３３】
表１

比較例の物質におけるＰａｒｓｏｌ（登録商標）１７８９の光分解を、例１の物質についての手順で評価した。得られた結果を以下の表２に示す：
表２

【００３４】
上記の結果から、比較例の物質について得られた結果（３４％のオーダー）と比較して、本発明に従う物質について、明らかに顕著に少ない光分解（７％のオーダー）が得られる。
例１の物質について以下の点も観察された：
・太陽光への曝露によってフィルムの量は変化しない；
・水中及び化粧用油、例えばアプリコット油及びパーレム油でのＰａｒｓｏｌ（登録商標）１７８９の塩析が少ない；及び
・フィルムの水に対する耐性が良好である。

Claims

有機溶媒を添加せずに、少なくとも一つのケイ素アルコキシド、少なくとも一つのノニオン性界面活性剤及び水からゾル−ゲル法で製造したマトリックス中に日焼け止め剤を固定化することによってジベンゾイルメタン型有機日焼け止め剤を光安定化する方法。
ジベンゾイルメタン型有機日焼け止め剤を以下から選択することを特徴とする、請求項１に記載の光安定化方法：
２−メチルジベンゾイルメタン、
４−メチルジベンゾイルメタン、
４−イソプロピルジベンゾイルメタン、
４−ｔ−ブチルジベンゾイルメタン、
２，４−ジメチルジベンゾイルメタン、
２，５−ジメチルジベンゾイルメタン、
４，４’−ジイソプロピルジベンゾイルメタン、
４，４’−ジメチルジベンゾイルメタン、
４−ｔ−ブチル−４’−メトキシジベンゾイルメタン、
２−メチル−５−イソプロピル−４’−メトキシジベンゾイルメタン、
２−メチル−５−ｔ−ブチル−４’−メトキシジベンゾイルメタン、
２，４−ジメチル−４’−メトキシジベンゾイルメタン、
２，６−ジメチル−４−ｔ−ブチル−４’−メトキシジベンゾイルメタン。
ジベンゾイルメタン型有機日焼け止め剤が４−ｔ−ブチル−４’−メトキシジベンゾイルメタンであることを特徴とする、請求項２に記載の方法。
ケイ素アルコキシドを以下から選択することを特徴とする、先の請求項１〜３のいずれか１項に記載の方法：
Ｓｉ（ＯＲ_ａ）_４　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　（Ｉ）
Ｒ−Ｓｉ（ＯＲ_ａ）_３　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　（ＩＩ）
（Ｒ_ａＯ）_３−Ｓｉ−Ｒ”−Ｓｉ（ＯＲ_ａ）_３　　　　　（ＩＩＩ）

式中、
Ｒ_ａは、直鎖又は分岐した、Ｃ_１−３０、好ましくはＣ_１−６アルキル基を表し；
Ｒ及びＲ’は、相互に独立して、直鎖又は分岐したアルキル基、シクロアルキル基、置換又は未置換のアリール基を表し、該基Ｒ及びＲ’はさらに化粧品として又は皮膚科学的に活性な基を含むことができ；
Ｒ”は、直鎖又は分岐したアルキレン基、シクロアルキレン基、置換又は未置換のアリーレン基を表し、該基Ｒ”はさらに化粧品として又は皮膚科学的に活性な基を含むことができる。
ケイ素アルコキシドをテトラ−エトキシシラン及びメチルトリエトキシシランから選択することを特徴とする、請求項４に記載の方法。
ノニオン性界面活性剤を以下から選択することを特徴とする、先の請求項１ないし５のいずれか１項に記載の方法：６〜３２の炭素原子、好ましくは８〜１８の炭素原子を含む脂肪鎖を有する、ポリエトキシル化した、ポリプロポキシル化した、又はポリグリセロール化した脂肪アルコール、アルキルフェノール又は酸、この場合、エチレンオキシド又はプロピレンオキシド基の数は２〜１００、好ましくは２〜５０であり、グリセロール基の数は２〜３０である。
界面活性剤がポリエトキシル化した４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェノールであることを特徴とする、請求項６に記載の方法。
ゾル−ゲル法によるジベンゾイルメタン型有機日焼け止め剤を含む物質を製造する方法であって、該方法が、少なくとも一つのジベンゾイルメタン型の有機日焼け止め剤、少なくとも一つのノニオン性界面活性剤、少なくとも一つのケイ素アルコキシド及び該アルコキシド及びその縮合物を部分的又は完全に加水分解するのに十分な量の水を、有機溶媒の不存在下に混合することから成る、方法。
ジベンゾイルメタン型有機日焼け止め剤を以下から選択することを特徴とする、請求項８に記載の製造方法：
２−メチルジベンゾイルメタン、
４−メチルジベンゾイルメタン、
４−イソプロピルジベンゾイルメタン、
４−ｔ−ブチルジベンゾイルメタン、
２，４−ジメチルジベンゾイルメタン、
２，５−ジメチルジベンゾイルメタン、
４，４’−ジイソプロピルジベンゾイルメタン、
４，４’−ジメチルジベンゾイルメタン、
４−ｔ−ブチル−４’−メトキシジベンゾイルメタン、
２−メチル−５−イソプロピル−４’−メトキシジベンゾイルメタン、
２−メチル−５−ｔ−ブチル−４’−メトキシジベンゾイルメタン、
２，４−ジメチル−４’−メトキシジベンゾイルメタン、及び
２，６−ジメチル−４−ｔ−ブチル−４’−メトキシジベンゾイルメタン。
ジベンゾイルメタン型有機日焼け止め剤が４−ｔ−ブチル−４’−メトキシジベンゾイルメタンであることを特徴とする、請求項９に記載の製造方法。
ジベンゾイルメタン型有機日焼け止め剤が、ケイ素アルコキシドの質量に対して、０．１質量％〜２０質量％、好ましくは０．５〜１０質量％の範囲の量で存在することを特徴とする、請求項８ないし１０のいずれか１項に記載の製造方法。
ケイ素アルコキシドを以下から選択することを特徴とする、先の請求項８ないし１１のいずれか１項に記載の製造方法：
Ｓｉ（ＯＲ_ａ）_４　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　（Ｉ）
Ｒ−Ｓｉ（ＯＲ_ａ）_３　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　（ＩＩ）
（Ｒ_ａＯ）_３−Ｓｉ−Ｒ”−Ｓｉ（ＯＲ_ａ）_３　　　　　（ＩＩＩ）

式中、
Ｒ_ａは、直鎖又は分岐した、Ｃ_１−３０、好ましくはＣ_１−６アルキル基を表し；
Ｒ及びＲ’は、相互に独立して、直鎖又は分岐したアルキル基、シクロアルキル基、置換又は未置換のアリール基を表し、該基Ｒ及びＲ’はさらに化粧品として又は皮膚科学的に活性な基を含むことができ；
Ｒ”は、直鎖又は分岐したアルキレン基、シクロアルキレン基、置換又は未置換のアリーレン基を表し、該基Ｒ”はさらに化粧品として又は皮膚科学的に活性な基を含むことができる。
ケイ素アルコキシドをテトラエトキシシラン及びメチルトリエトキシシランから選択することを特徴とする、請求項１２に記載の製造方法。
ノニオン性界面活性剤を以下から選択することを特徴とする、先の請求項８ないし１３のいずれか１項に記載の製造方法：６〜３２の炭素原子、好ましくは８〜１８の炭素原子を含む脂肪鎖を有する、ポリエトキシル化した、ポリプロポキシル化した、又はポリグリセロール化した脂肪アルコール、アルキルフェノール又は酸、この場合、エチレンオキシド又はプロピレンオキシド基の数は２〜１００、好ましくは２〜５０であり、グリセロール基の数は２〜３０である。
界面活性剤がポリエトキシル化した４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェノールであることを特徴とする、請求項１４に記載の製造方法。
界面活性剤のケイ素アルコキシドに対する質量比が０．０１〜９９、好ましくは１〜６０であることを特徴とする、請求項８ないし１５のいずれか１項に記載の製造方法。
水が化粧品として受容可能な無機酸又は有機酸を含むことを特徴とする、先の請求項８ないし１６のいずれか１項に記載の製造方法。
加水分解水のｐＨが１〜４、好ましくは１〜２であることを特徴とする、先の請求項８ないし１７のいずれか１項に記載の製造方法。
少なくとも一つのノニオン性界面活性剤及びジベンゾイルメタン型の日焼け止め剤の混合物に、ケイ素アルコキシドを最初に添加し、次いで化粧品として受容可能な無機又は有機酸を含む水を加えることを特徴とする、先の請求項８ないし１８のいずれか１項に記載の製造方法。
請求項８ないし１９のいずれか１項に記載の方法によって得ることができるジベンゾイルメタン型の有機日焼け止め剤を含む物質。
化粧品として及び／又は皮膚科学的に受容可能な媒体中に、有効量の請求項２０に記載の少なくとも一つの物質を含む、化粧及び／又は皮膚科学的組成物。
物質が組成物の全質量に対して１〜９９質量％、好ましくは１〜６０質量％の量で存在することを特徴とする、請求項２１に記載の組成物。
ＵＶ−Ａ及び／又はＵＶ−Ｂ領域で活性な一又は複数の追加的な以下から選択する有機日焼け止め剤を組成物がさらに含むことを特徴とする、請求項２１又は２２に記載の組成物：アントラニレート；サリチル酸誘導体；ケイヒ酸誘導体；カンファー誘導体；トリアジン誘導体；ベンゾフェノン誘導体；アミン化した２−ヒドロキシベンゾフェノン；β，β’−ジフェニルアクリレート誘導体；ベンゾトリアゾール誘導体；ベンザルマロネート誘導体；ベンズイミダゾール誘導体；イミダゾリン；ビス（ベンゾアゾリル）誘導体；ｐ−アミノ安息香酸（ＰＡＢＡ）誘導体；メチレン−ビス（ヒドロキシフェニル−ベンゾトリアゾール）誘導体；炭化水素ポリマーフィルター及びシリコーンフィルター；アルキルスチレン誘導体；及びこれらの混合物。
ＵＶ−Ａ及び／又はＵＶ−Ｂ領域で活性な追加的な有機日焼け止め剤を以下から選択することを特徴とする、請求項２３に記載の組成物：
−　エチルヘキシルサリチレート、
−　オクトクリレン、
−　フェニルベンズイミダゾールスルホン酸、
−　テレフタリリデンジカンファースルホン酸、
−　４−メチルベンジリデンカンファー、
−　アニソトリアジン、
−　エチルヘキシルトリアゾン、
−　ジエチルヘキシルブタミドトリアゾン、
−　２，４，６−トリス−（ジイソブチル４’−アミノ−ベンザルマロネート）−ｓ−トリアジン、
−　ベンゾフェノン−３、
−　ベンゾフェノン−４、
−　ベンゾフェノン−５、
−　ｎ−ヘキシル２−（４−ジエチルアミノ−２−ヒドロキシベンゾイル）−ベンゾエート、
−　メチレンビス−ベンゾトリアゾリルテトラメチルブチルフェノール、
−　ドロメトリゾールトリシロキサン、
−　ジナトリウムフェニルジベンズイミダゾールテトラスルホネート、
及びこれらの混合物。
組成物がさらに被覆又は未被覆の金属酸化物の顔料又はナノ顔料を含むことを特徴とする、請求項２１ないし２４のいずれか１項に記載の組成物。
組成物が以下から選択する化粧品添加物を含むことを特徴とする、請求項２１ないし２５のいずれか１項に記載の組成物：脂肪物質、有機溶媒、イオン性又はノニオン性増粘剤、柔軟剤、抗酸化剤、フリーラジカルを消去する剤、不透明化剤、安定剤、緩和剤、シリコーン、α−ヒドロキシ酸、消泡剤、湿潤剤、ビタミン、昆虫忌避剤、芳香剤、保存剤、アニオン性、カチオン性、両性又はノニオン性界面活性剤、抗炎症剤、物質Ｐ拮抗剤、フィラー、封鎖剤、ポリマー、噴射剤、塩基性化剤又は酸性化剤、染料、及びこれらの混合物。
組成物が単一又は複合エマルションの形態、又はジェル又はジェルクリーム、パウダー、固形スティックの形態、又はフォーム又はスプレーの形態で提供されることを特徴とする、請求項２１ないし２６のいずれか１項に記載の組成物。