JP2004517094A

JP2004517094A - ジベンゾイルメタンから誘導されたタイプの遮蔽剤と４，４−ジアリールブタジエンタイプの遮蔽剤を含有する遮蔽組成物

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Publication number: JP2004517094A
Application number: JP2002550937A
Authority: JP
Inventors: キャンドー，ディディエ
Original assignee: LOreal SA
Current assignee: LOreal SA
Priority date: 2000-12-18
Filing date: 2001-11-20
Publication date: 2004-06-10
Also published as: DE60129852D1; EP1370231B1; EP1370231A2; WO2002049595A3; ES2291270T3; DE60129852T2; FR2818127B1; US6994844B2; AU2002218388A1; FR2818127A1; ATE369188T1; WO2002049595A2; US20040052738A1

Abstract

本発明は、化粧品的に許容可能な担体に：（ａ）少なくとも一のジベンゾイルメタンから誘導されたタイプのＵＶ遮蔽剤と、（ｂ）少なくとも一の４，４―ジアリールブタジエン化合物とを含有し、ジベンゾイルメタン誘導体に対する４，４―ジアリールブタジエン化合物の重量比が２．５より大きく、かつシンナマート誘導体を含有しないことを特徴とする、局所使用のための化粧品用又は皮膚用組成物に関する。また本発明は、少なくとも一のジベンゾイルメタン誘導体を、少なくとも一の４，４―ジアリールブタジエン化合物と有効量組み合わせることからなる、該ジベンゾイルメタン誘導体のＵＶ線に対する安定性を改善するための方法に関する。

Description

【発明の開示】
【０００１】
本発明は、４，４―ジアリールブタジエン化合物とジベンゾイルメタン誘導体のＵＶ遮蔽剤を組み合わせて含有する、皮膚及び毛髪を光保護することを意図した、局所使用される化粧品用又は皮膚用組成物に関する。
また本発明は、少なくとも一のジベンゾイルメタン誘導体に、少なくとも一の４，４―ジアリールブタジエン化合物を有効量組み合わせることからなる、該ジベンゾイルメタン誘導体のＵＶ線に対する安定性を改善するための方法に関する。
【０００２】
２８０ｎｍと４００ｎｍの間の波長の光線によりヒトの表皮はサンタン状態となり、特にＵＶ―Ｂ線として知られている２８０ｎｍと３２０ｎｍの間の波長の光線により、皮膚は、自然なサンタン状態の形成に対して有害なサンバーン状態となったり、紅斑が形成されたりすることが知られている。これらの理由並びに美観的理由から、自然なサンタンを調節して皮膚の色をコントロールする手段が変わらず必要とされている；よって、ＵＶ―Ｂ線は遮蔽すべきである。
【０００３】
また、皮膚を褐色化する３２０ｎｍと４００ｎｍの間の波長を有するＵＶ―Ａ線が皮膚に好ましくない変化を引き起こすおそれがあることが知られており、特に敏感肌又は太陽光線に絶えずさらされている皮膚の場合にしかりである。ＵＶ―Ａ線は、特に、皮膚の弾力性を喪失させ、しわを出現せしめ、皮膚を時期尚早の老化に導く原因となるものである。ＵＶ―Ａ線は、紅斑反応の惹起を促進したり、ある個人においてはこの反応を増幅させ、光毒性又は光アレルギー反応の原因にさえなる。従って、例えば皮膚本来の弾力性を保持するという美観的及び美容的理由から、益々多くの人々が皮膚へのＵＶ―Ａ線の影響をコントロールすることを望んでいる。よって、ＵＶ―Ａ線も遮蔽することが望ましい。
かかる点に関し、現在特に有効な種類のＵＶ―Ａ遮蔽剤は、高い固有の吸収力を有する、特に４―ｔｅｒｔ―ブチル―４´―メトキシジベンゾイルメタンのようなジベンゾイルメタン誘導体からなるとされる。これらジベンゾイルメタン誘導体は、それ自体ＵＶ―Ａ領域に活性のある遮蔽剤としてよく知られている生成物であり、特に仏国特許出願公開第２３２６４０５号及び仏国特許出願公開第２４４０９３３号、並びに欧州特許出願公開第０１１４６０７号に記載されている；さらに、４―ｔｅｒｔ―ブチル―４´―メトキシジベンゾイルメタンは、ホフマン・ラロシュ社（ＨｏｆｆｍａｎｎＬａＲｏｃｈｅ）から「パルソール（Ｐａｒｓｏｌ）１７８９」の商品名で現在市販されている。
【０００４】
しかし残念なことに、ジベンゾイルメタン誘導体は紫外線（特にＵＶ―Ａ）に比較的敏感な生成物であることが見出されており、すなわち特に、この光線の作用下では、多かれ少なかれ素早く分解するという困った傾向を有している。よって、ジベンゾイルメタン誘導体が本来被ることになる紫外線に対して、該誘導体は光化学的安定性を大幅に欠くので、長時間日光に暴露されている間、一定の保護性を保証することができず、その結果、ＵＶ線から皮膚を効果的に保護するためには、使用者は規則的な短い間隔で繰り返し適用しなければならない。
欧州特許出願第０９６７２００号、独国特許出願第１９７４６６５４号、独国特許出願第１９７５５６４９号、欧州特許出願第１００８５８６号、独国特許出願第１０００７０１７号、欧州特許出願第１１３３９８０号及び欧州特許出願第１１３３９８１号には、４，４―ジアリールブタジエン類をベースとし、ジベンゾイルメタン誘導体等の他の付加的な遮蔽剤を含有する抗日光組成物が開示されている。
【０００５】
よって、本発明の主題の一つでは、化粧品的に許容可能な担体中に、少なくとも：
（ｃ）少なくとも一のジベンゾイルメタン誘導体型のＵＶ遮蔽剤と、
（ｄ）少なくとも一の４，４―ジアリールブタジエン化合物とを含有し、
ジベンゾイルメタン誘導体に対する４，４―ジアリールブタジエン化合物の重量比が２．５より大きく、かつシンナマート誘導体を含有しないことを特徴とする、局所使用のための新規の化粧品用又は皮膚用組成物が提案される。
また本発明の主題は、有効量の少なくとも一の４，４―ジアリールブタジエン化合物を少なくとも一のジベンゾイルメタン誘導体と組合せることからなる、該ジベンゾイルメタン誘導体のＵＶ線に対する安定性を改善する方法にある。
本発明において「有効量の４，４―ジアリールブタジエン」なる表現は、光保護のための化粧品用組成物におけるジベンゾイルメタン誘導体又は誘導体群の光安定性が顕著にかつ有意に改善されるのに十分な量を意味する。使用される光安定剤のこの最小量は、組成物のために選択される化粧品的に許容可能な担体の性質に依存して変化し得、光安定性を測定するための標準的なテストにより、何ら困難なく決定することができる。
本発明において、「４，４―ジアリールブタジエン化合物」なる用語は、少なくとも一の４，４―ジアリールブタジエン発色団を有する任意の分子を意味する。この分子は、鎖に発色団を含有するグラフトを有するポリマー、オリゴマー又は単純化合物の形態であってよい。
【０００６】
最後に、本発明の主題は、また、ジベンゾイルメタン誘導体のＵＶ線に対する安定性を改善するための、少なくとも一のジベンゾイルメタン誘導体を含有する化粧品用又は皮膚用組成物の調製における４，４―ジアリールブタジエン化合物の使用にある。
本発明の他の特徴、側面及び利点は、以下の詳細な記載を読むことにより、明らかになるであろう。
【０００７】
選択することができる本発明における好ましい４，４―ジアリールブタジエン化合物は、次の式（Ｉ）：
【化１】

［上式中、ジエン系はＺ，Ｚ；Ｚ，Ｅ；Ｅ，Ｚ又はＥ，Ｅ立体配置又は該立体配置の混合物であり、ここで：
− Ｒ^１及びＲ^２は同一でも異なっていてもよく、水素、直鎖状又は分枝状のＣ_１―Ｃ_２０アルキル基；Ｃ_２―Ｃ_１０アルケニル基；Ｃ_１―Ｃ_１２アルコキシ基；Ｃ_３―Ｃ_１０シクロアルキル基；Ｃ_３―Ｃ_１０シクロアルケニル基；直鎖状又は分枝状のＣ_１―Ｃ_２０アルコキシカルボニル基；直鎖状又は分枝状のＣ_１―Ｃ_１２モノアルキルアミノ基；直鎖状又は分枝状のＣ_１―Ｃ_１２ジアルキルアミノ基；アリール；ヘテロアリール又はカルボキシラート基、スルホナート基及びアンモニウム残基から選択される水可溶化（ｈｙｄｒｏ―ｓｏｌｕｂｉｌｉｚｉｎｇ）置換基を示し；
− Ｒ^３は、基ＣＯＯＲ^５；ＣＯＲ^５；ＣＯＮＲ^５Ｒ^６；ＣＮ；直鎖状又は分枝状のＣ_１―Ｃ_２０アルキル基；Ｃ_２―Ｃ_１０アルケニル基；Ｃ_３―Ｃ_１０シクロアルキル基；Ｃ_７―Ｃ_１０ビシクロアルキル基；Ｃ_３―Ｃ_１０シクロアルケニル基；Ｃ_７―Ｃ_１０ビシクロアルケニル基；Ｃ_６―Ｃ_１８アリール；Ｃ_３―Ｃ_７ヘテロアリールを示し；
− Ｒ^４は、基ＣＯＯＲ^６；ＣＯＲ^６；ＣＯＮＲ^５Ｒ^６；ＣＮ；直鎖状又は分枝状のＣ_１―Ｃ_２０アルキル基；Ｃ_２―Ｃ_１０アルケニル基；Ｃ_３―Ｃ_１０シクロアルキル基；Ｃ_７―Ｃ_１０ビシクロアルキル基；Ｃ_３―Ｃ_１０シクロアルケニル基；Ｃ_７―Ｃ_１０ビシクロアルケニル基；アリール；ヘテロアリールを示し；
− Ｒ^５及びＲ^６は同一でも異なっていてもよく、水素；［Ｘ］_ｐ―Ｒ^７；Ｃ_１―Ｃ_６―アルキレン―ＳＯ_３Ｙ；Ｃ_１―Ｃ_６―アルキレン―ＰＯ_３Ｙ；Ｃ_１―Ｃ_６―アルキレン―Ｎ（Ｒ^８）_３ ^＋Ａ⁻；直鎖状又は分枝状のＣ_１―Ｃ_２０アルキル基；Ｃ_２―Ｃ_１０アルケニル基；Ｃ_３―Ｃ_１０シクロアルキル基；Ｃ_７―Ｃ_１０ビシクロアルキル基；Ｃ_３―Ｃ_１０ビシクロアルケニル基；Ｃ_７―Ｃ_１０シクロアルケニル基；アリール；ヘテロアリールを示し；
− Ｘは、基―ＣＨ_２―ＣＨ_２―Ｚ―、―ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２―Ｚ―、―ＣＨ（ＣＨ_３）―ＣＨ_２―Ｚ―、―ＣＨ_２―ＣＨ_２―ＣＨ_２―ＣＨ_２―Ｚ―又は―ＣＨ_２―ＣＨ（ＣＨ_２ＣＨ_３）―Ｚ―を示し；
− Ａは、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ又はＳＯ_４Ｒ^９を示し；
− Ｙは、水素、Ｎａ^＋、Ｋ^＋、Ｍｇ^２＋、Ｃａ^２＋、Ｌｉ^＋、Ａｌ^３＋又は―Ｎ（Ｒ^８）_４ ^＋を示し、
− Ｚは、Ｏ又はＮＨを示し；
− Ｒ^７及びＲ^８は同一でも異なっていてもよく、水素、直鎖状又は分枝状のＣ_１―Ｃ_６アルキル基；直鎖状又は分枝状のＣ_２―Ｃ_６アルケニル基；直鎖状又は分枝状のＣ_１―Ｃ_６アシル基を示し；
− Ｒ^９は、水素、直鎖状又は分枝状のＣ_１―Ｃ_６アルキル基；Ｃ_２―Ｃ_６アルケニル基を示し；
− ｎは１〜３の範囲であり；
− ｐは０〜１５０の範囲である］
に相当する化合物である。
【０００８】
Ｃ_１―Ｃ_２０アルキル基の例としては：メチル、エチル、ｎ―プロピル、１―メチルエチル、ｎ―ブチル、１―メチルプロピル、２―メチルプロピル、１，１―ジメチルエチル、ｎ―ペンチル、１―メチルブチル、２―メチルブチル、３―メチルブチル、２，２―ジメチルプロピル、１―エチルプロピル、ｎ―ヘキシル、１，１―ジメチルプロピル、１，２―ジメチルプロピル、１―メチルペンチル、２―メチルペンチル、３―メチルペンチル、４―メチルペンチル、１，１―ジメチルブチル、１，２―ジメチルブチル、１，３―ジメチルブチル、２，２―ジメチルブチル、２，３―ジメチルブチル、３，３―ジメチルブチル、１―エチルブチル、２―エチルブチル、１，２，２―トリメチルプロピル、１―エチル―１―メチルプロピル、１―エチル―２―メチルプロピル、ｎ―ヘプチル、ｎ―オクチル、ｎ―ノニル、ｎ―デシル、ｎ―ウンデシル、ｎ―ドデシル、ｎ―トリデシル、ｎ―テトラデシル、ｎ―ペンタデシル、ｎ―ヘキサデシル、ｎ―ヘプタデシル、ｎ―オクタデシル、ｎ―ノナデシル又はｎ―エイコシルを挙げることができる。
【０００９】
Ｃ_２―Ｃ_１０アルケニル基の例としては：エテニル、ｎ―プロペニル、１―メチルエテニル、ｎ―ブテニル、１―メチルプロペニル、２―メチルプロペニル、１，１―ジメチルエテニル、ｎ―ペンテニル、１―メチルブテニル、２―メチルブテニル、３―メチルブテニル、２，２―ジメチルプロペニル、１―エチルプロペニル、ｎ―ヘキセニル、１，１―ジメチルプロペニル、１，２―ジメチルプロペニル、１―メチルペンテニル、２―メチルペンテニル、３―メチルペンテニル、４―メチルペンテニル、１，１―ジメチルブテニル、１，２―ジメチルブテニル、１，３―ジメチルブテニル、２，２―ジメチルブテニル、２，３―ジメチルブテニル、３，３―ジメチルブテニル、１―エチルブテニル、２―エチルブテニル、１，１，２―トリメチルプロペニル、１，２，２―トリメチルプロペニル、１―エチル―１―メチルプロペニル、１―エチル―２―メチルプロペニル、ｎ―ヘプテニル、ｎ―オクテニル、ｎ―ノネニル、ｎ―デセニルを挙げることができる。
Ｃ_１―Ｃ_１２アルコキシ基としては：メトキシ、ｎ―プロポキシ、１―メチルプロポキシ、１―メチルエトキシ、ｎ―ペントキシ、３―メチルブトキシ、２，２―ジメチルプロポキシ、１―メチル―１―エチルプロポキシ、オクトキシ、エトキシ、ｎ―プロポキシ、ｎ―ブトキシ、２―メチルプロポキシ、１，１―ジメチルプロポキシ、ヘキソキシ、ヘプトキシ、２―エチルヘキソキシを挙げることができる。
【００１０】
Ｃ_３―Ｃ_１０シクロアルキル基の例としては：シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、１―メチルシクロプロピル、１―エチルシクロプロピル、１―プロピルシクロプロピル、１―ブチルシクロプロピル、１―ペンチルシクロプロピル、１―メチル―１―ブチルシクロプロピル、１，２―ジメチルシクロプロピル、１―メチル―２―エチルシクロプロピル、シクロオクチル、シクロノニル又はシクロデシルを挙げることができる。
一又は複数の二重結合を有するＣ_３―Ｃ_１０シクロアルケニル基としては：シクロブテニル、シクロペンテニル、シクロペンタジエニル、シクロヘキセニル、１，３―シクロヘキサジエニル、１，４―シクロヘキサジエニル、シクロヘプテニル、シクロヘプタトリエニル、シクロオクテニル、１，５―シクロオクタジエニル、シクロオクタテトラエニル、シクロノネニル又はシクロデセニルを挙げることができる。
シクロアルキル又はシクロアルケニル基は、例えば塩素、フッ素又は臭素等のハロゲン；シアノ；ニトロ；アミノ；Ｃ_１―Ｃ_４アルキルアミノ；Ｃ_１―Ｃ_４ジアルキルアミノ；Ｃ_１―Ｃ_４アルキル；Ｃ_１―Ｃ_４アルコキシ；ヒドロキシルから選択される一又は複数（好ましくは１〜３）の置換基を有し得る：それらは、１〜３のヘテロ原子、例えば硫黄、酸素又は窒素で、そのフリーの結合価が水素又はＣ_１―Ｃ_４アルキル基により飽和していてもよいものをさらに有してもよい。
【００１１】
挙げることのできるアシル基の例には、ホルミル、アセチル、プロピオニル及びｎ―ブチリルが含まれる。
ビシクロアルキル又はビシクロアルケニル基は、例えば、二環式テルペン類、例えばピナン、ボルナン、ピネン、ショウノウ又はアダマンタン誘導体から選択される。
アリール基は、好ましくは、例えば塩素、フッ素又は臭素等のハロゲン；シアノ；ニトロ；アミノ；Ｃ_１―Ｃ_４アルキルアミノ；Ｃ_１―Ｃ_４ジアルキルアミノ；Ｃ_１―Ｃ_４アルキル；Ｃ_１―Ｃ_４アルコキシ；ヒドロキシルから選択される一又は複数（好ましくは１〜３）の置換基を有し得るフェニル及びナフチル環から選択される。特に好ましくは、フェニル、メトキシフェニル及びナフチルである。
ヘテロアリール基は、一般的に、硫黄、酸素及び窒素から選択される一又は複数のヘテロ原子を含有する。
【００１２】
水可溶化基は、例えばカルボキシラート又はスルホナート基であり、特に、それらの生理学的に許容可能なカチオンとの塩、例えばアルカリ金属塩又はトリアルキルアンモニウム塩、例えばトリス（ヒドロキシアルキル）アンモニウム又は２―メチル―１―プロパノール―２―アンモニウム塩である。さらに、アンモニウム基、例えばアルキルアンモニウム、及びそれらの生理学的に許容可能なアニオンとの塩の形態を挙げることもできる。
【００１３】
式（Ｉ）の好ましい化合物は、次の式（Ｉａ）：
【化２】

［上式中、ジエン系はＺ，Ｚ；Ｚ，Ｅ；Ｅ，Ｚ又はＥ，Ｅ立体配置又は該立体配置の混合物であり、ここで：
− Ｒ^１及びＲ^２は同一でも異なっていてもよく、水素、Ｃ_１―Ｃ_８アルキル基；Ｃ_１―Ｃ_８アルコキシ基；カルボキシラート基、スルホナート基及びアンモニウム残基から選択される水可溶化置換基を示し；
− Ｒ^３は、基ＣＯＯＲ^５；ＣＯＮＲ^５Ｒ^６；ＣＮを示し；
− Ｒ^４は、基ＣＯＯＲ^６；ＣＯＮＲ^５Ｒ^６を示し；
− Ｒ^５は、水素；［Ｘ］_ｐ―Ｒ^７；Ｃ_１―Ｃ_６―アルキレン―ＳＯ_３Ｙ；Ｃ_１―Ｃ_６―アルキレン―Ｎ（Ｒ^８）_３ ^＋Ａ⁻を示し；
− Ｒ^６は、［Ｘ］_ｐ―Ｒ^７；Ｃ_１―Ｃ_６―アルキレン―ＳＯ_３Ｙ；Ｃ_１―Ｃ_６―アルキレン―Ｎ（Ｒ^８）_３ ^＋Ａ⁻を示し；
− Ｘは、―ＣＨ_２―ＣＨ_２―Ｏ―、―ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ―、―ＣＨ（ＣＨ_３）―ＣＨ_２―Ｏ―基を示し；
− Ａは、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ又はＳＯ_４Ｒ^９を示し；
− Ｙは、水素、Ｎａ^＋、Ｋ^＋、Ｍｇ^２＋、Ｃａ^２＋、Ｌｉ^＋、Ａｌ^３＋又は―Ｎ（Ｒ^８）_４ ^＋を示し、
− Ｒ^７、Ｒ^８及びＲ^９は同一でも異なっていてもよく、水素又は直鎖状又は分枝状のＣ_１―Ｃ_３アルキル基を示し；
− ｎは１〜３の範囲であり；
− ｐは０〜５０の範囲である］
のものから選択される。
【００１４】
式（Ｉ）の好ましい化合物は、次の式（Ｉｂ）：
【化３】

［上式中、ジエン系はＺ，Ｚ；Ｚ，Ｅ；Ｅ，Ｚ又はＥ，Ｅ立体配置又は該立体配置の混合物であり、ここで：
− Ｒ^１及びＲ^２は同一でも異なっていてもよく、水素、Ｃ_１―Ｃ_８アルキル基；Ｃ_１―Ｃ_８アルコキシ基を示し；
− Ｒ^３は、基ＣＯＯＲ^５；ＣＯＮＲ^５Ｒ^６；ＣＮを示し；
− Ｒ^４は、基ＣＯＯＲ^６；ＣＯＮＲ^５Ｒ^６を示し；
− Ｒ^５は、水素；［Ｘ］_ｐ―Ｒ^７；Ｃ_１―Ｃ_６―アルキレン―ＳＯ_３Ｙ；Ｃ_１―Ｃ_６―アルキレン―Ｎ（Ｒ^８）_３ ^＋Ａ⁻を示し；
− Ｒ^６は、［Ｘ］_ｐ―Ｒ^７；Ｃ_１―Ｃ_６―アルキレン―ＳＯ_３Ｙ；Ｃ_１―Ｃ_６―アルキレン―Ｎ（Ｒ^８）_３ ^＋Ａ⁻を示し；
− Ｘは、―ＣＨ_２―ＣＨ_２―Ｏ―、―ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ―、―ＣＨ（ＣＨ_３）―ＣＨ_２―Ｏ―基を示し；
− Ａは、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ又はＳＯ_４Ｒ^９を示し；
− Ｙは、水素、Ｎａ^＋、Ｋ^＋、Ｍｇ^２＋、Ｃａ^２＋、Ｌｉ^＋、Ａｌ^３＋又は―Ｎ（Ｒ^８）_４ ^＋を示し、
− Ｒ^７、Ｒ^８及びＲ^９は同一でも異なっていてもよく、水素又は直鎖状又は分枝状のＣ_１―Ｃ_３アルキル基を示し；
− ｐは０〜５０の範囲である］
に相当するものから選択される。
【００１５】
式（Ｉ）の好ましい化合物は、次の式（Ｉｃ）：
【化４】

［上式中、ジエン系はＺ，Ｚ；Ｚ，Ｅ；Ｅ，Ｚ又はＥ，Ｅ立体配置又は該立体配置の混合物であり、ここで：
− Ｒ^１及びＲ^２は同一でも異なっていてもよく、水素、Ｃ_１―Ｃ_８アルキル基；Ｃ_１―Ｃ_８アルコキシ基を示し；
− Ｒ^３は、基ＣＯＯＲ^５；ＣＯＮＲ^５Ｒ^６；ＣＮを示し；
− Ｒ^４は、基ＣＯＯＲ^６；ＣＯＮＲ^５Ｒ^６を示し；
− Ｒ^５は、水素；［Ｘ］_ｐ―Ｒ^７；Ｃ_１―Ｃ_６―アルキレン―ＳＯ_３Ｙ；Ｃ_１―Ｃ_６―アルキレン―Ｎ（Ｒ^８）_３ ^＋Ａ⁻を示し；
− Ｒ^６は、［Ｘ］_ｐ―Ｒ^７；Ｃ_１―Ｃ_６―アルキレン―ＳＯ_３Ｙ；Ｃ_１―Ｃ_６―アルキレン―Ｎ（Ｒ^８）_３ ^＋Ａ⁻を示し；
− Ｘは、―ＣＨ_２―ＣＨ_２―Ｏ―、―ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ―、―ＣＨ（ＣＨ_３）―ＣＨ_２―Ｏ―基を示し；
− Ａは、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ又はＳＯ_４Ｒ^９を示し；
− Ｙは、水素、Ｎａ^＋、Ｋ^＋、Ｍｇ^２＋、Ｃａ^２＋、Ｌｉ^＋、Ａｌ^３＋又は―Ｎ（Ｒ^８）_４ ^＋を示し、
− Ｒ^７、Ｒ^８及びＲ^９は同一でも異なっていてもよく、水素又は直鎖状又は分枝状のＣ_１―Ｃ_３アルキル基を示し；
− ｐは０〜５０の範囲である］
に相当するものから選択される。
【００１６】
特に好ましい式（Ｉ）の化合物は、次の化合物：
【化５】

から選択される。
上述した式（Ｉ）の化合物はそれ自体公知であり、それらの構造及び合成方法は、欧州特許出願第０９６７２００号、独国特許出願第１９７４６６５４号及び独国特許出願第１９７５５６４９号（記載の内容の主要部分を形成）に記載されている。
【００１７】
本発明において好ましい４，４―ジアリールブタジエン化合物としては、次の式（ＩＩ）：
【化６】

［上式中、ジエン系はＺ，Ｚ；Ｚ，Ｅ；Ｅ，Ｚ又はＥ，Ｅ立体配置又は該立体配置の混合物であり、ここで：
− Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３及びｎは、上述した式（Ｉ）と同様の定義を有し；
− Ｙ´は、基―Ｏ―又は―ＮＲ^１０―を示し；
− Ｒ^１０は、水素；直鎖状又は分枝状のＣ_１―Ｃ_２０アルキル基；Ｃ_２―Ｃ_１０アルケニル基；Ｃ_３―Ｃ_１０シクロアルキル基；Ｃ_７―Ｃ_１０ビシクロアルキル基；Ｃ_３―Ｃ_１０シクロアルケニル基；Ｃ_７―Ｃ_１０ビシクロアルケニル基；アリール；ヘテロアリールを示し；
− Ｘ´は、結合価ｑと、２〜１０のヒドロキシル基を有する脂肪族又は脂環式で、直鎖状又は分枝状のポリオール残基を示し；該残基の炭素ベース鎖は一又は複数の硫黄又は酸素原子；一又は複数のイミン基；一又は複数のＣ_１―Ｃ_４アルキルイミノ基が挿入されていてもよく；
− ｑは２〜１０の範囲である］
に相当するオリゴマーを挙げることができる。
【００１８】
Ｘ´は２〜１０のヒドロキシル基を有するポリオール残基、特に：
【化７】

のものである。
【００１９】
好ましい式（ＩＩ）の化合物は：
− Ｒ^１及びＲ^２は同一でも異なっていてもよく、水素、Ｃ_１―Ｃ_１２アルキル基；Ｃ_１―Ｃ_８アルコキシ基；カルボキシラート基、スルホナート基及びアンモニウム残基から選択される水可溶化置換基を示し；
− Ｒ^３は、基ＣＯＯＲ^５；ＣＯＮＲ^５Ｒ^６；ＣＮ；Ｃ_３―Ｃ_１０シクロアルキル基；Ｃ_７―Ｃ_１０ビシクロアルキル基を示し；
− Ｒ^５及びＲ^６は同一でも異なっていてもよく、直鎖状又は分枝状のＣ_１―Ｃ_２０アルキル基；Ｃ_３―Ｃ_１０シクロアルキル基；Ｃ_７―Ｃ_１０ビシクロアルキル基；置換されていてもよいナフチル又はフェニルを示し；
− Ｘ´は、２〜６、特に２〜４のヒドロキシル基を有するポリオール残基を示す；
ものである。
より好ましい式（ＩＩ）の化合物は：
− Ｘ´がエタノール又はペンタエリトロール残基を示す；
ものである。
【００２０】
さらに好ましい式（ＩＩ）の化合物は、次の化合物：
【化８】

から選択される。
上述した式（ＩＩ）の化合物はそれ自体公知であり、それらの構造及び合成方法は、欧州特許出願公開第１００８５８６号（記載の内容の主要部分を形成）に記載されている。
本発明において、４，４―ジアリールブタジエン化合物は、組成物の全重量に対して、好ましくは０．５重量％〜１５重量％、より好ましくは１重量％〜１０重量％の範囲の割合で、本発明の組成物中に存在する。
【００２１】
上述したように、本発明の範囲内において光安定化されることを意図したジベンゾイルメタン誘導体は、それ自体既によく知られている生成物であり、特に、上述した仏国特許第２３２６４０５号、仏国特許第２４４０９３３号及び欧州特許第０１１４６０７号公報に記載されており、該公報の教示は、これらの生成物の実際の定義に関して、全体が本明細書に出典明示によって含まれるものである。
【００２２】
もちろん本発明においては、一又は複数のジベンゾイルメタン誘導体を使用することができる。
本発明の範囲に入るジベンゾイルメタン誘導体としては、これらに限定されるものではないが、特に：
− ２―メチルジベンゾイルメタン、
− ４―メチルジベンゾイルメタン、
− ４―イソプロピルジベンゾイルメタン、
− ４―ｔｅｒｔ―ブチルジベンゾイルメタン、
− ２，４―ジメチルジベンゾイルメタン、
− ２，５―ジメチルジベンゾイルメタン、
− ４，４´―ジイソプロピルジベンゾイルメタン、
− ４，４´―ジメトキシジベンゾイルメタン、
− ４―ｔｅｒｔ―ブチル―４´―メトキシジベンゾイルメタン、
− ２―メチル―５―イソプロピル―４´―メトキシジベンゾイルメタン、
− ２―メチル―５―ｔｅｒｔ―ブチル―４´―メトキシジベンゾイルメタン、
− ２，４―ジメチル―４´―メトキシジベンゾイルメタン、
− ２，６―ジメチル―４―ｔｅｒｔ―ブチル―４´―メトキシジベンゾイルメタン、
を挙げることができる。
【００２３】
上述したジベンゾイルメタン誘導体の中でも、特にホフマン・ラロシュ社から「パルソール１７８９」の商品名で販売されている４―（ｔｅｒｔ―ブチル）―４´―メトキシジベンゾイルメタンが本発明において最も好ましく使用され、この遮蔽剤は次の構造式：
【化９】

に相当するものである。
【００２４】
本発明の他の好ましいジベンゾイルメタン誘導体は４―イソプロピルジベンゾイルメタンで、この遮蔽剤はメルク社（Ｍｅｒｃｋ）から「ユーソレックス（Ｅｕｓｏｌｅｘ）８０２０」の名前で販売されており、次の構造式：
【化１７】

に相当するものである。
ジベンゾイルメタン誘導体（類）は、組成物の全重量に対して０．５重量％〜１５重量％、特に１重量％〜１０重量％の範囲の含有量で本発明の組成物中に存在する。
【００２５】
本発明の組成物は、ＵＶ―Ａ及び／又はＵＶ―Ｂ領域に活性のある他の付加的な有機ＵＶ遮蔽剤（吸収剤）をさらに含有可能であり、該遮蔽剤は、水溶性、又は脂溶性、又は一般的に使用されている化粧品用溶媒に不溶である。
付加的な有機ＵＶ遮蔽剤は、特にアントラニラート類；サリチル酸誘導体；ショウノウ誘導体；トリアジン誘導体、例えば米国特許第４３６７３９０号、欧州特許出願第８６３１４５号、欧州特許出願第５１７１０４号、欧州特許出願第５７０８３８号、欧州特許出願第７９６８５１号、欧州特許出願第７７５６９８号、欧州特許出願第８７８４６９号及び欧州特許出願第９３３３７６号に記載されているもの；ベンゾフェノン誘導体；β，β―ジフェニルアクリラート誘導体；ベンゾトリアゾール誘導体、ベンゾイミダゾール誘導体；イミダゾリン類；ｐ―アミノ安息香酸（ＰＡＢＡ）誘導体；米国特許第５２３７０７１号、米国特許第５１６６３５５号、英国特許出願第２３０３５４９号、独国特許出願第１９７２６１８４号及び欧州特許出願第８９３１１９号に記載されているメチレンビス（ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール誘導体；遮蔽ポリマー及び遮蔽シリコーン類、例えば特に国際公開第９３／０４６６５号に記載されているもの；α―アルキルスチレンから誘導される二量体、例えば独国特許出願第１９８５５６４９号に記載されているものから選択される。
【００２６】
有機遮蔽剤の例としては、ＩＮＣＩ名で以下に示すものが挙げられる：
パラ―アミノ安息香酸誘導体：
− ＰＡＢＡ、
− エチルＰＡＢＡ、
− エチル―ジヒドロキシプロピルＰＡＢＡ、
− 特に、ＩＳＰ社から「エスカロール（Ｅｓｃａｌｏｌ）５０７」の名称で販売されているエチルヘキシル―ジメチルＰＡＢＡ、
− グリセリルＰＡＢＡ、
− ＢＡＳＦ社から「ユビヌル（Ｕｖｉｎｕｌ）Ｐ２５」の名称で販売されているＰＥＧ―２５―ＰＡＢＡ。
【００２７】
サリチル酸誘導体：
− ロナ（Ｒｏｎａ）／ＥＭインダストリーズ社から「ユーソレックス（Ｅｕｓｏｌｅｘ）ＨＭＳ」の名称で販売されているホモサラート（ｈｏｍｏｓａｌａｔｅ）、
− ハーマンアンドレイマー社（ＨａａｒｍａｎｎａｎｄＲｅｉｍｅｒ）から「ネオ・ヘリオパン（ＮｅｏＨｅｌｉｏｐａｎ）ＯＳ」の名称で販売されているサリチル酸エチルヘキシル、
− スケル社（Ｓｃｈｅｒ）から「ディプサル（Ｄｉｐｓａｌ）」の名称で販売されているジプロピレングリコールサリチラート、
− ハーマンアンドレイマー社から「ネオ・ヘリオパンＴＳ」の名称で販売されているＴＥＡサリチラート。
【００２８】
ジベンゾイルメタン誘導体
− 特にホフマン・ラロシュ社から「パルソール１７８９」の商品名で販売されているブチルメトキシジベンゾイルメタン、
− イソプロピルジベンゾイルメタン。
β，β´―ジフェニルアクリラート誘導体：
− 特にＢＡＳＦ社から「ユビヌルＮ５３９」の商品名で販売されているオクトクリレン（Ｏｃｔｏｃｒｙｌｅｎｅ）、
− 特にＢＡＳＦ社から「ユビヌルＮ３５」の商品名で販売されているエトクリレン（Ｅｔｏｃｒｙｌｅｎｅ）。
【００２９】
ベンゾフェノン誘導体：
− ＢＡＳＦ社から「ユビヌル４００」の商品名で販売されているベンゾフェノン―１、
− ＢＡＳＦ社から「ユビヌルＤ５０」の商品名で販売されているベンゾフェノン―２、
− ＢＡＳＦ社から「ユビヌルＭ４０」の商品名で販売されているベンゾフェノン―３又はオキシベンゾン、
− ＢＡＳＦ社から「ユビヌルＭＳ４０」の商品名で販売されているベンゾフェノン―４、
− ベンゾフェノン―５、
− ノーケイ社（Ｎｏｒｑｕａｙ）から「ヘリソーブ（Ｈｅｌｉｓｏｒｂ）１１」の商品名で販売されているベンゾフェノン―６、
− アメリカン・シアナミド社（ＡｍｅｒｉｃａｎＣｙａｎａｍｉｄ）から「スペクトラ―ソーブ（Ｓｐｅｃｔｒａ―Ｓｏｒｂ）ＵＶ―２４」の商品名で販売されているベンゾフェノン―８、
− ＢＡＳＦ社から「ユビヌルＤＳ―４９」の商品名で販売されているベンゾフェノン―９、
− ベンゾフェノン―１２。
【００３０】
ベンジリデンショウノウ誘導体：
− シメックス社（Ｃｈｉｍｅｘ）から「メギゾリル（Ｍｅｘｏｒｙｌ）ＳＤ」の名称で製造されている３―ベンジリデンショウノウ、
− メルク社（Ｍｅｒｃｋ）「ユーソレックス６３００」の名称で販売されている４―メチルベンジリデンショウノウ、
− シメックス社から「メギゾリルＳＬ」の名称で製造されているベンジリデンショウノウスルホン酸、
− シメックス社から「メギゾリルＳＯ」の名称で製造されているメト硫酸ショウノウベンザルコニウム、
− シメックス社から「メギゾリルＳＸ」の名称で製造されているテレフタリリデンジショウノウスルホン酸、
− シメックス社から「メギゾリルＳＷ」の名称で製造されているポリアクリルアミドメチルベンジリデンショウノウ。
フェニルベンゾイミダゾール誘導体：
− 特にメルク社から「ユーソレックス２３２」の商品名で販売されているフェニルベンゾイミダゾールスルホン酸、
− ハーマンアンドレイマー社から「ネオ・ヘリオパンＡＰ」の商品名で販売されているベンゾイミダジラート（ｂｅｎｚｉｍｉｄａｚｉｌａｔｅ）。
【００３１】
トリアジン誘導体：
− チバ・スペシャリティー・ケミカルズ（ＣｉｂａＳｐｅｃｉａｌｔｙＣｈｅｍｉｃａｌｓ）から「チノソーブ（Ｔｉｎｏｓｏｒｂ）Ｓ」の商品名で販売されているアニソトリアジン、
− 特にＢＡＳＦ社から「ユビヌルＴ１５０」の商品名で販売されているエチルヘキシルトリアゾン、
− シグマ３Ｖ社（Ｓｉｇｍａ３Ｖ）から「ユバソーブ（Ｕｖａｓｏｒｂ）Ｈｅｂ」の商品名で販売されているジエチルヘキシルブタミドトリアゾン、
− ２，４，６―トリス（ジイソブチル―４´―アミノベンザルマロナート）―ｓ―トリアジン。
フェニルベンゾトリアゾール誘導体：
− ロ−ディア・シミー社（ＲｈｏｄｉａＣｈｉｍｉｅ）から「シラトリゾール（Ｓｉｌａｔｒｉｚｏｌｅ）」の名称で販売されているドロメトリゾール（Ｄｒｏｍｅｔｒｉｚｏｌｅ）トリシロキサン、
− チバ・スペシャリティー・ケミカルズ社から「チノソーブＭ」の商品名で水性分散液として微小化形態で、もしくはフェアマウント・ケミカル社（ＦａｉｒｍｏｕｎｔＣｈｅｍｉｃａｌ）から「ミキシム（ＭＩＸＸＩＭ）ＢＢ／１００」の商品名で固形形態で販売されているメチレンビス（ベンゾトリアゾリル）テトラメチルブチルフェノール。
【００３２】
アントラニル誘導体：
− ハーマンアンドレイマー社から「ネオ・ヘリオパンＭＡ」の商品名で販売されているアントラニル酸メンチル。
イミダゾリン誘導体：
− エチルヘキシルジメトキシベンジリデンジオキソイミダゾリンプロピオナート。
ベンザルマロナート誘導体：
− ホフマン・ラロシェ社から「パルソールＳＬＸ」の商品名で販売されているベンザルマロナート官能基を有するポリオルガノシロキサン。
及びそれらの混合物。
【００３３】
特に好ましい有機ＵＶ遮蔽剤は次の化合物：
− サリチル酸エチルヘキシル、
− オクトクリレン、
− フェニルベンゾイミダゾールスルホン酸、
− テレフタリリデンジショウノウスルホン酸、
− ベンゾフェノン―３、
− ベンゾフェノン―４、
− ベンゾフェノン―５、
− ４―メチルベンジリデンショウノウ、
− フェニルジベンゾイミダゾールテトラスルホン酸二ナトリウム、
− アニソトリアジン、
− エチルヘキシルトリアゾン、
− ジエチルヘキシルブタミドトリアゾン、
− ２，４，６―トリス（ジイソブチル―４´―アミノベンザルマロナート）―ｓ―トリアジン、
− メチレンビス（ベンゾトリアゾリル）テトラメチルブチルフェノール、
− ドロメトリゾールトリシロキサン、
及びそれらの混合物、
から選択される。
【００３４】
さらに本発明の化粧品用組成物は、被覆又は非被覆の金属酸化物の顔料又はナノ顔料（一次粒子の平均粒径：一般的に５ｎｍ〜１００ｎｍ、好ましくは１０ｎｍ〜５０ｎｍ）、例えば、それ自体、ＵＶ光保護剤としてよく知られている酸化チタン（アモルファス、又はルチル及び／又はアナターゼ型の結晶）、酸化鉄、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム又は酸化セリウムのナノ顔料をさらに含有してもよい。また、標準的なコーティング剤は、アルミナ及び／又はステアリン酸アルミニウムである。このような、被覆又は非被覆の金属酸化物のナノ顔料としては、特に、欧州特許出願公開第０５１８７７２号及び欧州特許出願公開第０５１８７７３号に記載されているものがある。
また、本発明の組成物は、皮膚を人工的にサンタン状態にする、及び／又は褐色にするための薬剤（自己サンタン剤）、例えばジヒドロキシアセトン（ＤＨＡ）をさらに含有してもよい。
【００３５】
また本発明の組成物は、特に、脂肪物質、有機溶媒、イオン性又は非イオン性の増粘剤、柔軟剤、酸化防止剤、フリーラジカル捕捉剤、乳白剤、安定剤、エモリエント、シリコーン類、α―ヒドロキシ酸、消泡剤、保湿剤、ビタミン類、昆虫忌避剤、香料、防腐剤、界面活性剤、抗炎症剤、サブスタンスＰアンタゴニスト、フィラー、ポリマー類、噴霧剤、酸性化又は塩基性化剤、着色料、又は化粧品、特にエマルションの形態の抗日光組成物の製造において通常使用されている任意の他の成分から選択される標準的な化粧品用アジュバントをさらに含有してもよい。
【００３６】
脂肪物質は油又はロウ又はそれらの混合物からなり得る。「油」という用語は、室温で液状の化合物を意味する。「ロウ」という用語は、室温で固体又は実質的に固体であり、その融点が一般的に３５℃を越える化合物を意味する。それらは、直鎖状又は環状の脂肪酸、脂肪アルコール、及び脂肪酸エステル、例えば安息香酸、トリメリト酸及びヒドロキシ安息香酸の誘導体を含み得る。
挙げることのできる油には、鉱物性油（パラフィン）；植物性油（スイートアルモンド油、マカダミア油、クロフサグスリ種油又はホホバ油）；合成油、例えばペルヒドロスクワレン、脂肪アルコール、脂肪酸又は脂肪エステル（例えばファインテックス社（Ｆｉｎｅｔｅｘ）から「フィンソルブ（Ｆｉｎｓｏｌｖ）ＴＮ」の商品名で販売されているＣ_１２―Ｃ_１５安息香酸アルキル、パルミチン酸オクチル、ラノリン酸イソプロピル、カプリン酸／カプリル酸トリグリセリドを含むトリグリセリド類）、オキシエチレン化又はオキシプロピレン化された脂肪エステル及びエーテル；シリコーン油（シクロメチコーン、及びポリジメチルシロキサン又はＰＤＭＳ類）；フッ化油；及びポリアルキレン類が含まれる。
挙げることのできるロウ状化合物には、パラフィンロウ、カルナウバロウ、ミツロウ及び硬化ヒマシ油が含まれる。
【００３７】
有機溶媒としては、低級アルコール及びポリオールを挙げることができる。
言うまでもなく、当業者であれば、本発明の組成物に固有の有利な特性、特に光安定性が、考えられる添加により悪影響を受けないか、実質的に受けないように留意して、これらの任意の付加的な化合物（類）及び／又はその量を選択するであろう。
【００３８】
本発明の組成物は、当業者によく知られた技術、特に、水中油型又は油中水型のエマルションの調製のための技術により調製され得る。
これらの組成物は、特に、単一エマルション又は複合エマルション（Ｏ／Ｗ、Ｗ／Ｏ、Ｏ／Ｗ／Ｏ又はＷ／Ｏ／Ｗ）の形態、例えばクリーム、ミルク、ゲル又はクリームゲル；パウダー又は固形チューブの形態であってもよく、また、任意にエアゾールとして包装されてもよく、ムース又はスプレーの形態であってもよい。
エマルションである場合、このエマルションの水相は、公知の方法［バンガム（Ｂａｎｇｈａｍ）、スタンディッシュ（Ｓｔａｎｄｉｓｈ）及びワトキンス（Ｗａｔｋｉｎｓ）、Ｊ．Ｍｏｌ．Ｂｉｏｌ．１３，２３８（１９６５）、仏国特許第２３１５９９１号及び仏国特許第２４１６００８号］により調製される非イオン性の小胞体分散液を含有してもよい。
【００３９】
本発明の化粧品用組成物は、紫外線からヒトの表皮又は毛髪を保護するための組成物として、抗日光組成物として又はメークアップ製品として使用することができる。
本発明の化粧品用組成物が、ＵＶ線からヒトの表皮を保護するため、あるいは抗日光組成物として使用される場合、組成物は、脂肪物質又は溶媒に分散又は懸濁した形態、非イオン性の小胞体分散液の形態、又はエマルション、好ましくは水中油型エマルションの形態、例えばミルク又はクリーム、又は膏薬、ゲル、クリームゲル、固形チューブ、パウダー、スティック、エアゾールムース又はスプレーの形態にすることができる。
【００４０】
本発明の化粧品用組成物が、ＵＶ線から毛髪を保護するために使用される場合、それは、シャンプー、ローション、ゲル、エマルション又は非イオン性の小胞体分散液の形態にすることができ、また、例えばシャンプーの前又は後、染色又は脱色の前又は後、パーマネントウエーブ又は毛髪のストレート化処理の前、処理中又は処理後に適用されてすすがれる組成物、スタイリング又はトリートメント用のローション又はゲル、ブロー乾燥又は毛髪のセット用のローション又はゲル、又はパーマネントウエーブ処理、毛髪のストレート化、染色又は脱色のための組成物を構成し得る。
組成物が、まつげ、眉毛又は皮膚用のメークアップ製品、例えば、表皮用トリートメントクリーム、ファンデーション、口紅チューブ、アイシャドウ、フェイスパウダー、マスカラ又はアイライナーとして使用される場合、それは固体状又はペースト状、無水又は水性の形態、例えば、水中油型又は油中水型のエマルション、非イオン性の小胞体分散液又は懸濁液であり得る。
【００４１】
指針として、水中油型エマルション型の担体を有する本発明の抗日光組成物において、水相（特に親水性の遮蔽剤を含有する）は、全組成物に対して、一般的に５０重量％〜９５重量％、好ましくは７０重量％〜９０重量％、油相（特に親油性の遮蔽剤を含有する）は、全組成物に対して５重量％〜５０重量％、好ましくは１０重量％〜３０重量％、（共）乳化剤（類）は、全組成物に対して０．５重量％〜２０重量％、好ましくは２重量％〜１０重量％である。
【００４２】
本記載の最初に挙げたように、本発明の主題の一つは、紫外線、特に太陽光線から皮膚及び／又は毛髪を保護することを意図した化粧品用又は皮膚用組成物の調製における上述した組成物の使用にある。
本発明の他の主題は、少なくとも一のジベンゾイルメタン誘導体と、上述した少なくとも一の４，４―ジアリールブタジエンを有効量組み合わせることからなる、該ジベンゾイルメタン誘導体のＵＶ線に対する安定性を改善するための方法にある。
本発明の他の主題は、ジベンゾイルメタン誘導体のＵＶ線に対する安定性を改善する目的で、少なくとも一のジベンゾイルメタン誘導体型のＵＶ遮蔽剤を含有する化粧品用又は皮膚用組成物の調製における、上述した４，４―ジアリールブタジエン型のＵＶ遮蔽剤の使用からなる。
【００４３】
以下に、本発明を例証するものであって限定するものではない具体例を付与する。
【表１】

【００４４】
【表２】

Claims

化粧品的に許容可能な担体中に、
（ａ）少なくとも１種のジベンゾイルメタン誘導体型のＵＶ遮蔽剤と、
（ｂ）少なくとも１種の４，４―ジアリールブタジエン化合物と
を含有し；ジベンゾイルメタン誘導体に対する４，４―ジアリールブタジエン化合物の重量比が２．５より大きく、かつシンナマート誘導体を含有していないことを特徴とする、局所使用のための化粧品用又は皮膚用組成物。
４，４―ジアリールブタジエン化合物が、次の式（Ｉ）：

［上式中、ジエン系はＺ，Ｚ；Ｚ，Ｅ；Ｅ，Ｚ又はＥ，Ｅ立体配置又は該立体配置の混合物であり、ここで：
− Ｒ^１及びＲ^２は同一でも異なっていてもよく、水素、直鎖状又は分枝状のＣ_１―Ｃ_２０アルキル基；Ｃ_２―Ｃ_１０アルケニル基；Ｃ_１―Ｃ_１２アルコキシ基；Ｃ_３―Ｃ_１０シクロアルキル基；Ｃ_３―Ｃ_１０シクロアルケニル基；直鎖状又は分枝状のＣ_１―Ｃ_２０アルコキシカルボニル基；直鎖状又は分枝状のＣ_１―Ｃ_１２モノアルキルアミノ基；直鎖状又は分枝状のＣ_１―Ｃ_１２ジアルキルアミノ基；アリール；ヘテロアリール又はカルボキシラート基、スルホナート基及びアンモニウム残基から選択される水可溶化置換基を示し；
− Ｒ^３は、基ＣＯＯＲ^５；ＣＯＲ^５；ＣＯＮＲ^５Ｒ^６；ＣＮ；直鎖状又は分枝状のＣ_１―Ｃ_２０アルキル基；Ｃ_２―Ｃ_１０アルケニル基；Ｃ_３―Ｃ_１０シクロアルキル基；Ｃ_７―Ｃ_１０ビシクロアルキル基；Ｃ_３―Ｃ_１０シクロアルケニル基；Ｃ_７―Ｃ_１０ビシクロアルケニル基；Ｃ_６―Ｃ_１８アリール；Ｃ_３―Ｃ_７ヘテロアリールを示し；
− Ｒ^４は、基ＣＯＯＲ^６；ＣＯＲ^６；ＣＯＮＲ^５Ｒ^６；ＣＮ；直鎖状又は分枝状のＣ_１―Ｃ_２０アルキル基；Ｃ_２―Ｃ_１０アルケニル基；Ｃ_３―Ｃ_１０シクロアルキル基；Ｃ_７―Ｃ_１０ビシクロアルキル基；Ｃ_３―Ｃ_１０シクロアルケニル基；Ｃ_７―Ｃ_１０ビシクロアルケニル基；アリール；ヘテロアリールを示し；
− Ｒ^５及びＲ^６は同一でも異なっていてもよく、水素；［Ｘ］_ｐ―Ｒ^７；Ｃ_１―Ｃ_６―アルキレン―ＳＯ_３Ｙ；Ｃ_１―Ｃ_６―アルキレン―ＰＯ_３Ｙ；Ｃ_１―Ｃ_６―アルキレン―Ｎ（Ｒ^８）_３ ^＋Ａ⁻；直鎖状又は分枝状のＣ_１―Ｃ_２０アルキル基；Ｃ_２―Ｃ_１０アルケニル基；Ｃ_３―Ｃ_１０シクロアルキル基；Ｃ_７―Ｃ_１０ビシクロアルキル基；Ｃ_３―Ｃ_１０シクロアルケニル基；Ｃ_７―Ｃ_１０ビシクロアルケニル基；アリール；ヘテロアリールを示し；
− Ｘは、基―ＣＨ_２―ＣＨ_２―Ｚ―、―ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｚ―、―ＣＨ（ＣＨ_３）―ＣＨ_２―Ｚ―、―ＣＨ_２―ＣＨ_２―ＣＨ_２―ＣＨ_２―Ｚ―又は―ＣＨ_２―ＣＨ（ＣＨ_２ＣＨ_３）―Ｚ―を示し；
− Ａは、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ又はＳＯ_４Ｒ^９を示し；
− Ｙは、水素、Ｎａ^＋、Ｋ^＋、Ｍｇ^２＋、Ｃａ^２＋、Ｌｉ^＋、Ａｌ^３＋又は―Ｎ（Ｒ^８）_４ ^＋を示し、
− Ｚは、Ｏ又はＮＨを示し；
− Ｒ^７及びＲ^８は同一でも異なっていてもよく、水素、直鎖状又は分枝状のＣ_１―Ｃ_６アルキル基；直鎖状又は分枝状のＣ_２―Ｃ_６アルケニル基；直鎖状又は分枝状のＣ_１―Ｃ_６アシル基を示し；
− Ｒ^９は、水素、直鎖状又は分枝状のＣ_１―Ｃ_６アルキル基；Ｃ_２―Ｃ_６アルケニル基を示し；
− ｎは１〜３の範囲であり；
− ｐは０〜１５０の範囲である］
に相当する、請求項１に記載の組成物。
式（Ｉ）の化合物が、次の式（Ｉａ）：

［上式中、ジエン系はＺ，Ｚ；Ｚ，Ｅ；Ｅ，Ｚ又はＥ，Ｅ立体配置又は該立体配置の混合物であり、ここで：
− Ｒ^１及びＲ^２は同一でも異なっていてもよく、水素、Ｃ_１―Ｃ_８アルキル基；Ｃ_１―Ｃ_８アルコキシ基；カルボキシラート基、スルホナート基及びアンモニウム残基から選択される水可溶化置換基を示し；
− Ｒ^３は、基ＣＯＯＲ^５；ＣＯＮＲ^５Ｒ^６；ＣＮを示し；
− Ｒ^４は、基ＣＯＯＲ^６；ＣＯＮＲ^５Ｒ^６を示し；
− Ｒ^５は、水素；［Ｘ］_ｐ―Ｒ^７；Ｃ_１―Ｃ_６―アルキレン―ＳＯ_３Ｙ；Ｃ_１―Ｃ_６―アルキレン―Ｎ（Ｒ^８）_３ ^＋Ａ⁻を示し；
− Ｒ^６は、［Ｘ］_ｐ―Ｒ^７；Ｃ_１―Ｃ_６―アルキレン―ＳＯ_３Ｙ；Ｃ_１―Ｃ_６―アルキレン―Ｎ（Ｒ^８）_３ ^＋Ａ⁻を示し；
− Ｘは、―ＣＨ_２―ＣＨ_２―Ｏ―、―ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ―、―ＣＨ（ＣＨ_３）―ＣＨ_２―Ｏ―基を示し；
− Ａは、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ又はＳＯ_４Ｒ^９を示し；
− Ｙは、水素、Ｎａ^＋、Ｋ^＋、Ｍｇ^２＋、Ｃａ^２＋、Ｌｉ^＋、Ａｌ^３＋又は―Ｎ（Ｒ^８）_４ ^＋を示し、
− Ｒ^７、Ｒ^８及びＲ^９は同一でも異なっていてもよく、水素又は直鎖状又は分枝状のＣ_１―Ｃ_３アルキル基を示し；
− ｎは１〜３の範囲であり；
− ｐは０〜５０の範囲である］
のものから選択される、請求項２に記載の組成物。
式（Ｉ）の化合物が、次の式（Ｉｂ）：

［上式中、ジエン系はＺ，Ｚ；Ｚ，Ｅ；Ｅ，Ｚ又はＥ，Ｅ立体配置又は該立体配置の混合物であり、ここで：
− Ｒ^１及びＲ^２は同一でも異なっていてもよく、水素、Ｃ_１―Ｃ_８アルキル基；Ｃ_１―Ｃ_８アルコキシ基を示し；
− Ｒ^３は、基ＣＯＯＲ^５；ＣＯＮＲ^５Ｒ^６；ＣＮを示し；
− Ｒ^４は、基ＣＯＯＲ^６；ＣＯＮＲ^５Ｒ^６を示し；
− Ｒ^５は、水素；［Ｘ］_ｐ―Ｒ^７；Ｃ_１―Ｃ_６―アルキレン―ＳＯ_３Ｙ；Ｃ_１―Ｃ_６―アルキレン―Ｎ（Ｒ^８）_３ ^＋Ａ⁻を示し；
− Ｒ^６は、［Ｘ］_ｐ―Ｒ^７；Ｃ_１―Ｃ_６―アルキレン―ＳＯ_３Ｙ；Ｃ_１―Ｃ_６―アルキレン―Ｎ（Ｒ^８）_３ ^＋Ａ⁻を示し；
− Ｘは、―ＣＨ_２―ＣＨ_２―Ｏ―、―ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ―、―ＣＨ（ＣＨ_３）―ＣＨ_２―Ｏ―基を示し；
− Ａは、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ又はＳＯ_４Ｒ^９を示し；
− Ｙは、水素、Ｎａ^＋、Ｋ^＋、Ｍｇ^２＋、Ｃａ^２＋、Ｌｉ^＋、Ａｌ^３＋又は―Ｎ（Ｒ^８）_４ ^＋を示し、
− Ｒ^７、Ｒ^８及びＲ^９は同一でも異なっていてもよく、水素又は直鎖状又は分枝状のＣ_１―Ｃ_３アルキル基を示し；
− ｐは０〜５０の範囲である］
に相当するものから選択される、請求項３に記載の組成物。
式（Ｉ）の化合物が、次の式（Ｉｃ）：

［上式中、ジエン系はＺ，Ｚ；Ｚ，Ｅ；Ｅ，Ｚ又はＥ，Ｅ立体配置又は該立体配置の混合物であり、ここで：
− Ｒ^１及びＲ^２は同一でも異なっていてもよく、水素、Ｃ_１―Ｃ_８アルキル基；Ｃ_１―Ｃ_８アルコキシ基を示し；
− Ｒ^３は、基ＣＯＯＲ^５；ＣＯＮＲ^５Ｒ^６；ＣＮを示し；
− Ｒ^４は、基ＣＯＯＲ^６；ＣＯＮＲ^５Ｒ^６を示し；
− Ｒ^５は、水素；［Ｘ］_ｐ―Ｒ^７；Ｃ_１―Ｃ_６―アルキレン―ＳＯ_３Ｙ；Ｃ_１―Ｃ_６―アルキレン―Ｎ（Ｒ^８）_３ ^＋Ａ⁻を示し；
− Ｒ^６は、［Ｘ］_ｐ―Ｒ^７；Ｃ_１―Ｃ_６―アルキレン―ＳＯ_３Ｙ；Ｃ_１―Ｃ_６―アルキレン―Ｎ（Ｒ^８）_３ ^＋Ａ⁻を示し；
− Ｘは、―ＣＨ_２―ＣＨ_２―Ｏ―、―ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ―、―ＣＨ（ＣＨ_３）―ＣＨ_２―Ｏ―基を示し；
− Ａは、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ又はＳＯ_４Ｒ^９を示し；
− Ｙは、水素、Ｎａ^＋、Ｋ^＋、Ｍｇ^２＋、Ｃａ^２＋、Ｌｉ^＋、Ａｌ^３＋又は―Ｎ（Ｒ^８）_４ ^＋を示し、
− Ｒ^７、Ｒ^８及びＲ^９は同一でも異なっていてもよく、水素又は直鎖状又は分枝状のＣ_１―Ｃ_３アルキル基を示し；
− ｐは０〜５０の範囲である］
に相当するものから選択される、請求項４に記載の組成物。
式（Ｉ）の化合物が、次の化合物：

から選択される、請求項４又は５に記載の組成物。
４，４―ジアリールブタジエン化合物が、次の式（ＩＩ）：

［上式中、ジエン系はＺ，Ｚ；Ｚ，Ｅ；Ｅ，Ｚ又はＥ，Ｅ立体配置又は該立体配置の混合物であり、ここで：
− Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３及びｎは、請求項２に記載の式（Ｉ）におけるものと同じ定義を有し；
− Ｙ´は、基―Ｏ―又は―ＮＲ^１０―を示し；
− Ｒ^１０は、水素；直鎖状又は分枝状のＣ_１―Ｃ_２０アルキル基；Ｃ_２―Ｃ_１０アルケニル基；Ｃ_３―Ｃ_１０シクロアルキル基；Ｃ_７―Ｃ_１０ビシクロアルキル基；Ｃ_３―Ｃ_１０シクロアルケニル基；Ｃ_７―Ｃ_１０ビシクロアルケニル基；アリール；ヘテロアリールを示し；
− Ｘ´は、結合価ｑと、２〜１０のヒドロキシル基を有する脂肪族又は脂環式で、直鎖状又は分枝状のポリオール残基を示し；該残基の炭素ベース鎖は一又は複数の硫黄又は酸素原子；一又は複数のイミン基又は一又は複数のＣ_１―Ｃ_４アルキルイミノ基が挿入されていてもよく；
− ｑは２〜１０の範囲である］
に相当するオリゴマーである、請求項１に記載の組成物。
式（ＩＩ）の化合物が：
− Ｒ^１及びＲ^２は同一でも異なっていてもよく、水素、Ｃ_１―Ｃ_１２アルキル基；Ｃ_１―Ｃ_８アルコキシ基；カルボキシラート基、スルホナート基及びアンモニウム残基から選択される水可溶化置換基を示し；
− Ｒ^３は、基ＣＯＯＲ^５；ＣＯＮＲ^５Ｒ^６；ＣＮ；Ｃ_３―Ｃ_１０シクロアルキル基；Ｃ_７―Ｃ_１０ビシクロアルキル基を示し；
− Ｒ^５及びＲ^６は同一でも異なっていてもよく、直鎖状又は分枝状のＣ_１―Ｃ_２０アルキル基；Ｃ_３―Ｃ_１０シクロアルキル基；Ｃ_７―Ｃ_１０ビシクロアルキル基；置換されていてもよいナフチル又はフェニルを示し；
− Ｘ´は、２〜６、特に２〜４のヒドロキシル基を有するポリオール残基を示す；
ものから選択される、請求項７に記載の組成物。
式（ＩＩ）の化合物が：
− Ｘ´がエタノール又はペンタエリトロール残基を示す；
ものから選択される、請求項８に記載の組成物。
式（ＩＩ）の化合物が、次の化合物：

から選択される、請求項９に記載の組成物。
ジベンゾイルメタン誘導体が：
− ２―メチルジベンゾイルメタン、
− ４―メチルジベンゾイルメタン、
− ４―イソプロピルジベンゾイルメタン、
− ４―ｔｅｒｔ―ブチルジベンゾイルメタン、
− ２，４―ジメチルジベンゾイルメタン、
− ２，５―ジメチルジベンゾイルメタン、
− ４，４´―ジイソプロピルジベンゾイルメタン、
− ４，４´―ジメトキシジベンゾイルメタン、
− ４―ｔｅｒｔ―ブチル―４´―メトキシジベンゾイルメタン、
− ２―メチル―５―イソプロピル―４´―メトキシジベンゾイルメタン、
− ２―メチル―５―ｔｅｒｔ―ブチル―４´―メトキシジベンゾイルメタン、
− ２，４―ジメチル―４´―メトキシジベンゾイルメタン、
− ２，６―ジメチル―４―ｔｅｒｔ―ブチル―４´―メトキシジベンゾイルメタン、
から選択されることを特徴とする、請求項１ないし１０のいずれか１項に記載の組成物。
ジベンゾイルメタン誘導体が、４―（ｔｅｒｔ―ブチル）―４´―メトキシジベンゾイルメタンであることを特徴とする、請求項１１に記載の組成物。
ジベンゾイルメタン誘導体が４―イソプロピルジベンゾイルメタンであることを特徴とする、請求項１２に記載の組成物。
４，４―ジアリールブタジエン化合物が、組成物の全重量に対して０．５重量％〜１５重量％の範囲の含有量で存在している、請求項１ないし１３のいずれか１項に記載の組成物。
４，４―ジアリールブタジエン化合物が、組成物の全重量に対して１重量％〜１０重量％の範囲の含有量で存在している、請求項１４に記載の組成物。
ジベンゾイルメタン誘導体が、組成物の全重量に対して０．５重量％〜１５重量％の範囲の含有量で存在している、請求項１ないし１４のいずれか１項に記載の組成物。
ジベンゾイルメタン誘導体が、組成物の全重量に対して１重量％〜１０重量％の範囲の含有量で存在している、請求項１６に記載の組成物。
ＵＶ―Ａ活性及び／又はＵＶ―Ｂ活性の他の有機遮蔽剤をさらに含有していることを特徴とする、請求項１ないし１７のいずれか１項に記載の組成物。
付加的な有機ＵＶ遮蔽剤が、アントラニラート類；サリチル酸誘導体；ショウノウ誘導体；ベンゾフェノン誘導体；β，β´―ジフェニルアクリラート誘導体；ベンゾトリアゾール誘導体；ベンザルマロナート誘導体；ベンゾイミダゾール誘導体；イミダゾリン類；ビス―ベンザゾリル誘導体；ｐ―アミノ安息香酸（ＰＡＢＡ）誘導体；メチレンビス（ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール誘導体；遮蔽ポリマー及び遮蔽シリコーン類；α―アルキルスチレンから誘導された二量体から選択される、請求項１６に記載の組成物。
有機ＵＶ遮蔽剤が次の化合物：
− サリチル酸エチルヘキシル、
− オクトクリレン、
− フェニルベンゾイミダゾールスルホン酸、
− テレフタリリデンジショウノウスルホン酸、
− ベンゾフェノン―３、
− ベンゾフェノン―４、
− ベンゾフェノン―５、
− ４―メチルベンジリデンショウノウ、
− フェニルジベンゾイミダゾールテトラスルホン酸二ナトリウム、
− アニソトリアジン、
− エチルヘキシルトリアゾン、
− ジエチルヘキシルブタミドトリアゾン、
− ２，４，６―トリス（ジイソブチル―４´―アミノベンザルマロナート）―ｓ―トリアジン、
− メチレンビス（ベンゾトリアゾリル）テトラメチルブチルフェノール、
− ドロメトリゾールトリシロキサン、
及びそれらの混合物、
から選択されることを特徴とする、請求項１９に記載の組成物。
被覆又は非被覆の金属酸化物の顔料又はナノ顔料をさらに含有していることを特徴とする請求項１ないし２０のいずれか１項に記載の組成物。
前記顔料又はナノ顔料が、被覆又は非被覆の酸化チタン、酸化亜鉛、酸化鉄、酸化ジルコニウム及び酸化セリウム及びそれらの混合物から選択されることを特徴とする請求項１９に記載の組成物。
皮膚を人工的にサンタン状態にする、及び／又は褐色にするための少なくとも一の薬剤をさらに含有していることを特徴とする請求項１ないし２２のいずれか１項に記載の組成物。
脂肪物質、有機溶媒、イオン性又は非イオン性の増粘剤、柔軟剤、酸化防止剤、フリーラジカル捕捉剤、乳白剤、安定剤、エモリエント、シリコーン類、α―ヒドロキシ酸、消泡剤、保湿剤、ビタミン類、昆虫忌避剤、香料、防腐剤、界面活性剤、抗炎症剤、サブスタンスＰアンタゴニスト、フィラー、ポリマー類、噴霧剤、酸性化又は塩基性化剤及び着色料から選択される少なくとも一のアジュバントをさらに含有していることを特徴とする請求項１ないし２３のいずれか１項に記載の組成物。
ヒトの表皮を保護するための組成物又は抗日光組成物であり、非イオン性の小胞体分散液、水中油型エマルション等のエマルション、クリーム、ミルク、ゲル、クリームゲル、懸濁液、分散液、パウダー、固形チューブ、ムース又はスプレーの形態であることを特徴とする請求項１ないし２４のいずれか１項に記載の組成物。
まつげ、眉毛又は皮膚をメークアップするための組成物であり、固体状又はペースト状、無水又は水性の形態、又はエマルション、懸濁液又は分散液の形態であることを特徴とする請求項１ないし２４のいずれか１項に記載の組成物。
紫外線から毛髪を保護するための組成物であり、シャンプー、ローション、ゲル、エマルション又は非イオン性の小胞体分散液の形態であることを特徴とする請求項１ないし２４のいずれか１項に記載の組成物。
太陽光線等の紫外線から皮膚及び／又は毛髪を保護するための化粧品用又は皮膚用組成物の調製における、請求項１ないし２４のいずれか１項に記載の組成物の使用。
少なくとも一のジベンゾイルメタン誘導体のＵＶ線に対する安定性を改善するための方法であって、請求項１ないし２８のいずれか１項に記載の少なくとも一の４，４―ジアリールブタジエン化合物を有効量、該ジベンゾイルメタン誘導体と組み合わせることからなることを特徴とする方法。
少なくとも一のジベンゾイルメタン誘導体型のＵＶ遮蔽剤を含有する化粧品用又は皮膚用組成物の調製における、該ジベンゾイルメタン誘導体のＵＶ線に対する安定性を改善するための、請求項１ないし２９のいずれか１項に記載の４，４―ジアリールブタジエン化合物の使用。