JP2003313033A - 光学用ガラスおよびその製造方法 - Google Patents
光学用ガラスおよびその製造方法Info
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- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
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- C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 光学用ガラスを構成するガラス微粒子の合成
に用いられるバーナの劣化を防止し、かつ、安定した品
質の光学用ガラスを得る光学用ガラスの製造方法を提供
する。 【解決手段】 ０．３ｍｍ以上の残留気泡数が単位体積
当り０．００５個／ｃｍ ３以下の光学用ガラス。ガラス
微粒子堆積中に、可燃性ガスまたは支燃性ガスの流速、
あるいは、流量を調整することでガラス合成用バーナ１
０の端面温度を制御する多孔質体の製造方法。ガラス合
成用バーナ１０の端面温度を９００℃以下とする。前記
可燃性ガスの流速をｖＨ、前記支燃性ガスの流速をｖＯ
とし、これらの関係を、ｖＨ＝ｖＯ×ａとすると、ａ≦
０．２とする。前記可燃性ガスの流量をＶＨ、前記支燃
性ガスの流量をＶＯとし、これらの関係を、ＶＯ＝ＶＨ
×ｂとすると、０．１≦ｂ≦０．８とする。
に用いられるバーナの劣化を防止し、かつ、安定した品
質の光学用ガラスを得る光学用ガラスの製造方法を提供
する。 【解決手段】 ０．３ｍｍ以上の残留気泡数が単位体積
当り０．００５個／ｃｍ ３以下の光学用ガラス。ガラス
微粒子堆積中に、可燃性ガスまたは支燃性ガスの流速、
あるいは、流量を調整することでガラス合成用バーナ１
０の端面温度を制御する多孔質体の製造方法。ガラス合
成用バーナ１０の端面温度を９００℃以下とする。前記
可燃性ガスの流速をｖＨ、前記支燃性ガスの流速をｖＯ
とし、これらの関係を、ｖＨ＝ｖＯ×ａとすると、ａ≦
０．２とする。前記可燃性ガスの流量をＶＨ、前記支燃
性ガスの流量をＶＯとし、これらの関係を、ＶＯ＝ＶＨ
×ｂとすると、０．１≦ｂ≦０．８とする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、光学用ガラスおよ
びその製造方法に関し、特に、光学用ガラスを構成する
ガラス微粒子の合成に用いられるバーナの劣化を防止
し、かつ、安定した品質の光学用ガラスを得る光学用ガ
ラスの製造方法に関するものである。
びその製造方法に関し、特に、光学用ガラスを構成する
ガラス微粒子の合成に用いられるバーナの劣化を防止
し、かつ、安定した品質の光学用ガラスを得る光学用ガ
ラスの製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】光学用ガラスの一例として、光ファイバ
用母材の製造方法には、ＶＡＤ法、ＯＶＤ法、ＭＣＶＤ
法、ＰＣＶＤ法などの方法がある。なかでも、ＯＶＤ
（Ｏｕｔｓｉｄｅ Ｖａｐｏｒ Ｐｈａｓｅ Ｄｅｐｏ
ｓｉｔｉｏｎ）法（外付け法）は、ガラス合成用バーナ
から四塩化ケイ素（ＳｉＣｌ４）などのガラス原料ガス
を、酸素または水素などの添加ガス、水素などの可燃性
ガス、酸素などの支燃性ガスとともに噴出し、ガラス原
料ガスを火炎中で加水分解反応または酸化反応させてガ
ラス微粒子を合成し、その軸回りに回転するコアとなる
ガラス材を備えた円柱形の出発部材の外周部の径方向
に、ガラス微粒子（スート）を堆積させて複数層からな
る多孔質層を形成して光ファイバ用多孔質体とし、これ
を電気炉中で透明ガラス化し、光ファイバ用母材を製造
する方法である（例えば、特許文献１参照。）。このよ
うな方法を用いて製造される光学用ガラスは、品質に優
れた光ファイバ用のみならず、半導体製造装置用光学ガ
ラスにも充分に適用可能である。光ファイバ用多孔質体
などの製造に用いられるガラス合成用バーナとしては、
ガラス微粒子の合成に用いられる各種ガスの噴出口が同
心円状に複数設けられた多重管バーナや、同心円状に設
けられた複数の可燃性ガスなどの噴出口の間に複数の支
燃性ガス噴出口が設けられたマルチノズル型バーナ（例
えば、特許文献２参照。）などの、一般的に石英ガラス
からなるものが挙げられる。
用母材の製造方法には、ＶＡＤ法、ＯＶＤ法、ＭＣＶＤ
法、ＰＣＶＤ法などの方法がある。なかでも、ＯＶＤ
（Ｏｕｔｓｉｄｅ Ｖａｐｏｒ Ｐｈａｓｅ Ｄｅｐｏ
ｓｉｔｉｏｎ）法（外付け法）は、ガラス合成用バーナ
から四塩化ケイ素（ＳｉＣｌ４）などのガラス原料ガス
を、酸素または水素などの添加ガス、水素などの可燃性
ガス、酸素などの支燃性ガスとともに噴出し、ガラス原
料ガスを火炎中で加水分解反応または酸化反応させてガ
ラス微粒子を合成し、その軸回りに回転するコアとなる
ガラス材を備えた円柱形の出発部材の外周部の径方向
に、ガラス微粒子（スート）を堆積させて複数層からな
る多孔質層を形成して光ファイバ用多孔質体とし、これ
を電気炉中で透明ガラス化し、光ファイバ用母材を製造
する方法である（例えば、特許文献１参照。）。このよ
うな方法を用いて製造される光学用ガラスは、品質に優
れた光ファイバ用のみならず、半導体製造装置用光学ガ
ラスにも充分に適用可能である。光ファイバ用多孔質体
などの製造に用いられるガラス合成用バーナとしては、
ガラス微粒子の合成に用いられる各種ガスの噴出口が同
心円状に複数設けられた多重管バーナや、同心円状に設
けられた複数の可燃性ガスなどの噴出口の間に複数の支
燃性ガス噴出口が設けられたマルチノズル型バーナ（例
えば、特許文献２参照。）などの、一般的に石英ガラス
からなるものが挙げられる。
【０００３】
【特許文献１】米国特許第５５９７３９８号明細書
【特許文献２】米国特許第４８１０１８９号明細書
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】ところで、近年、光通
信の需要の増加に伴って、光ファイバの需要も年々増加
している。そのため、光ファイバの価格を下げることが
望まれている。そこで、これに対応するためには、光フ
ァイバの製造を高速化し、光ファイバの製造を高効率化
し、光ファイバを大量に製造して、製造コストを低減す
る必要がある。したがって、光ファイバを一度に大量に
製造して、製造コストを低減するために、光ファイバの
紡糸に供される光ファイバ用母材が大型化する傾向にあ
る。また、半導体製造装置の大型化に伴い、半導体製造
装置用光学ガラスも大型化している。光ファイバ用母材
や半導体製造装置用光学ガラスを大型化すると、例え
ば、ＯＶＤ法などによる光学用ガラスの製造において、
ガラス微粒子が出発部材の外周部に堆積する速度（以
下、「堆積速度」とする。）およびガラス微粒子が出発
部材の外周部に堆積する効率（以下、「堆積効率」とす
る。）を向上することが、非常に重要な課題となってい
る。
信の需要の増加に伴って、光ファイバの需要も年々増加
している。そのため、光ファイバの価格を下げることが
望まれている。そこで、これに対応するためには、光フ
ァイバの製造を高速化し、光ファイバの製造を高効率化
し、光ファイバを大量に製造して、製造コストを低減す
る必要がある。したがって、光ファイバを一度に大量に
製造して、製造コストを低減するために、光ファイバの
紡糸に供される光ファイバ用母材が大型化する傾向にあ
る。また、半導体製造装置の大型化に伴い、半導体製造
装置用光学ガラスも大型化している。光ファイバ用母材
や半導体製造装置用光学ガラスを大型化すると、例え
ば、ＯＶＤ法などによる光学用ガラスの製造において、
ガラス微粒子が出発部材の外周部に堆積する速度（以
下、「堆積速度」とする。）およびガラス微粒子が出発
部材の外周部に堆積する効率（以下、「堆積効率」とす
る。）を向上することが、非常に重要な課題となってい
る。
【０００５】ガラス微粒子の堆積速度を向上させるため
には、ガラス微粒子の合成速度を向上させればよい。そ
こで、ガラス微粒子の合成速度を向上させるためには、
ガラス原料ガスの反応時間を長くし、反応温度を高くす
る必要がある。また、ガラス微粒子の堆積効率を向上す
るには、ガラス微粒子の堆積面とガラス合成用バーナか
ら発せられる火炎との温度差を大きくして、ガラス微粒
子に働くサーモホレシス効果（ガラス微粒子が温度勾配
に比例した力を、ガラス微粒子の合成に用いられる各種
のガスから受ける効果）を最大限に利用することが必要
である。
には、ガラス微粒子の合成速度を向上させればよい。そ
こで、ガラス微粒子の合成速度を向上させるためには、
ガラス原料ガスの反応時間を長くし、反応温度を高くす
る必要がある。また、ガラス微粒子の堆積効率を向上す
るには、ガラス微粒子の堆積面とガラス合成用バーナか
ら発せられる火炎との温度差を大きくして、ガラス微粒
子に働くサーモホレシス効果（ガラス微粒子が温度勾配
に比例した力を、ガラス微粒子の合成に用いられる各種
のガスから受ける効果）を最大限に利用することが必要
である。
【０００６】しかしながら、火炎の温度を高くすると、
ガラス合成用バーナの端面が加熱され、溶融して削れて
しまうことがあった。ガラス合成用バーナの端面が削れ
てしまうと、このガラス合成用バーナは光学用ガラスの
製造に使用できなくなるため、ガラス合成用バーナの交
換を頻繁に行わなければならない。したがって、ガラス
微粒子の堆積速度および堆積効率を向上して、製造コス
トを削減することができない。また、ガラス合成用バー
ナの端面が加熱によって削れて変形すると、安定した火
炎を形成することができなくなり、ガラス微粒子の堆積
速度および堆積効率が低下する。さらに、ガラス合成用
バーナの端面が削れて生じるガラス屑がガラス微粒子と
伴に堆積して、このガラス屑が光学用ガラス中に気泡を
生じる原因となったり、光学用ガラスの端部から光を入
射した際に、このガラス屑が輝点として観測されるとい
った問題点があった。
ガラス合成用バーナの端面が加熱され、溶融して削れて
しまうことがあった。ガラス合成用バーナの端面が削れ
てしまうと、このガラス合成用バーナは光学用ガラスの
製造に使用できなくなるため、ガラス合成用バーナの交
換を頻繁に行わなければならない。したがって、ガラス
微粒子の堆積速度および堆積効率を向上して、製造コス
トを削減することができない。また、ガラス合成用バー
ナの端面が加熱によって削れて変形すると、安定した火
炎を形成することができなくなり、ガラス微粒子の堆積
速度および堆積効率が低下する。さらに、ガラス合成用
バーナの端面が削れて生じるガラス屑がガラス微粒子と
伴に堆積して、このガラス屑が光学用ガラス中に気泡を
生じる原因となったり、光学用ガラスの端部から光を入
射した際に、このガラス屑が輝点として観測されるとい
った問題点があった。
【０００７】本発明は、前記事情に鑑みてなされたもの
で、光学用ガラスを構成するガラス微粒子の合成に用い
られるバーナの劣化を防止し、かつ、安定した品質の光
学用ガラスを得る光学用ガラスの製造方法を提供するこ
とを課題とする。
で、光学用ガラスを構成するガラス微粒子の合成に用い
られるバーナの劣化を防止し、かつ、安定した品質の光
学用ガラスを得る光学用ガラスの製造方法を提供するこ
とを課題とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】前記課題は、光ファイバ
用ガラス母材あるいは半導体製造装置用光学ガラスであ
って、０．３ｍｍ以上の残留気泡数が単位体積当り０．
００５個／ｃｍ３以下である光学用ガラスによって解決
できることを見出した。前記課題は、ガラス原料ガス、
添加ガス、可燃性ガス、支燃性ガスおよび不活性ガスを
ガラス合成用バーナに導入して、ガラス原料ガスを火炎
中で加水分解反応または酸化反応させてガラス微粒子を
合成し、該ガラス微粒子を堆積させて光学ガラスを製造
する方法において、前記ガラス微粒子堆積中に、前記可
燃性ガスまたは前記支燃性ガスの流速を所定の流速の関
係となるように調整することによって、前記ガラス合成
用バーナの端面温度を制御し、０．３ｍｍ以上の残留気
泡数が単位体積当り０．００５個／ｃｍ３以下の光学用
ガラスを製造する光学用ガラスの製造方法によって解決
できることを見出した。前記課題は、ガラス原料ガス、
添加ガス、可燃性ガス、支燃性ガスおよび不活性ガスを
ガラス合成用バーナに導入して、ガラス原料ガスを火炎
中で加水分解反応または酸化反応させてガラス微粒子を
合成し、該ガラス微粒子を堆積させて光学ガラスを製造
する方法において、前記ガラス微粒子堆積中に前記可燃
性ガスまたは前記支燃性ガスの流量を所定の流量の関係
となるように調整することによって、前記ガラス合成用
バーナの端面温度を制御し、０．３ｍｍ以上の残留気泡
数が単位体積当り０．００５個／ｃｍ３以下の光学用ガ
ラスを製造する光学用ガラスの製造方法によって解決で
きることを見出した。上記光学用ガラスの製造方法にお
いて、前記ガラス合成用バーナの端面温度を９００℃以
下とすることが好ましい。上記光学用ガラスの製造方法
において、前記可燃性ガスの流速をｖＨ、前記支燃性ガ
スの流速をｖＯとし、これらの関係を、ｖＨ＝ｖＯ×ａ
とすると、ａ≦０．２とすることが好ましい。上記光学
用ガラスの製造方法において、前記可燃性ガスの流量を
ＶＨ、前記支燃性ガスの流量をＶＯとし、これらの関係
を、ＶＯ＝ＶＨ×ｂとすると、０．１≦ｂ≦０．８とす
ることが好ましい。
用ガラス母材あるいは半導体製造装置用光学ガラスであ
って、０．３ｍｍ以上の残留気泡数が単位体積当り０．
００５個／ｃｍ３以下である光学用ガラスによって解決
できることを見出した。前記課題は、ガラス原料ガス、
添加ガス、可燃性ガス、支燃性ガスおよび不活性ガスを
ガラス合成用バーナに導入して、ガラス原料ガスを火炎
中で加水分解反応または酸化反応させてガラス微粒子を
合成し、該ガラス微粒子を堆積させて光学ガラスを製造
する方法において、前記ガラス微粒子堆積中に、前記可
燃性ガスまたは前記支燃性ガスの流速を所定の流速の関
係となるように調整することによって、前記ガラス合成
用バーナの端面温度を制御し、０．３ｍｍ以上の残留気
泡数が単位体積当り０．００５個／ｃｍ３以下の光学用
ガラスを製造する光学用ガラスの製造方法によって解決
できることを見出した。前記課題は、ガラス原料ガス、
添加ガス、可燃性ガス、支燃性ガスおよび不活性ガスを
ガラス合成用バーナに導入して、ガラス原料ガスを火炎
中で加水分解反応または酸化反応させてガラス微粒子を
合成し、該ガラス微粒子を堆積させて光学ガラスを製造
する方法において、前記ガラス微粒子堆積中に前記可燃
性ガスまたは前記支燃性ガスの流量を所定の流量の関係
となるように調整することによって、前記ガラス合成用
バーナの端面温度を制御し、０．３ｍｍ以上の残留気泡
数が単位体積当り０．００５個／ｃｍ３以下の光学用ガ
ラスを製造する光学用ガラスの製造方法によって解決で
きることを見出した。上記光学用ガラスの製造方法にお
いて、前記ガラス合成用バーナの端面温度を９００℃以
下とすることが好ましい。上記光学用ガラスの製造方法
において、前記可燃性ガスの流速をｖＨ、前記支燃性ガ
スの流速をｖＯとし、これらの関係を、ｖＨ＝ｖＯ×ａ
とすると、ａ≦０．２とすることが好ましい。上記光学
用ガラスの製造方法において、前記可燃性ガスの流量を
ＶＨ、前記支燃性ガスの流量をＶＯとし、これらの関係
を、ＶＯ＝ＶＨ×ｂとすると、０．１≦ｂ≦０．８とす
ることが好ましい。
【０００９】
【発明の実施の形態】以下、本発明を詳しく説明する。
図１は、本発明の光学用ガラスの製造方法に用いられる
ガラス合成用バーナの一例を示す概略構成図である。こ
のガラス合成用バーナ１０の端面において、その中心に
第１のノズル１が設けられ、この第１のノズル１の周囲
に、第１のノズル１と中心軸を同じくして、第２のノズ
ル２が設けられ、さらに、この第２のノズル２の周囲
に、第１のノズル１と中心軸を同じくして、第３のノズ
ル３が設けられている。また、第２のノズル２と第３の
ノズル３の間で、第１のノズル１の同心円上には、複数
個の内径および外径の等しい小口径ノズル４、４、…が
設けられている。また、第１のノズル１が第１の噴出口
１１をなし、第１のノズル１と第２のノズル２の間の部
分が第２の噴出口１２をなし、第２のノズル２と第３の
ノズル３の間の部分が第３の噴出口１３をなし、小口径
ノズル４、４、…が第４の噴出口１４をなしている。
図１は、本発明の光学用ガラスの製造方法に用いられる
ガラス合成用バーナの一例を示す概略構成図である。こ
のガラス合成用バーナ１０の端面において、その中心に
第１のノズル１が設けられ、この第１のノズル１の周囲
に、第１のノズル１と中心軸を同じくして、第２のノズ
ル２が設けられ、さらに、この第２のノズル２の周囲
に、第１のノズル１と中心軸を同じくして、第３のノズ
ル３が設けられている。また、第２のノズル２と第３の
ノズル３の間で、第１のノズル１の同心円上には、複数
個の内径および外径の等しい小口径ノズル４、４、…が
設けられている。また、第１のノズル１が第１の噴出口
１１をなし、第１のノズル１と第２のノズル２の間の部
分が第２の噴出口１２をなし、第２のノズル２と第３の
ノズル３の間の部分が第３の噴出口１３をなし、小口径
ノズル４、４、…が第４の噴出口１４をなしている。
【００１０】ＯＶＤ法において、ガラス微粒子を合成す
るには、一般的に、第１の噴出口１１からは例えばＳｉ
Ｃｌ４などのガラス原料ガス、および酸素または水素な
どの添加ガスを供給し、第２の噴出口１２からはアルゴ
ンなどの不活性ガスを供給し、第３の噴出口１３からは
水素などの可燃性ガスを供給し、第４の噴出口１４から
は酸素などの支燃性ガスを供給する。
るには、一般的に、第１の噴出口１１からは例えばＳｉ
Ｃｌ４などのガラス原料ガス、および酸素または水素な
どの添加ガスを供給し、第２の噴出口１２からはアルゴ
ンなどの不活性ガスを供給し、第３の噴出口１３からは
水素などの可燃性ガスを供給し、第４の噴出口１４から
は酸素などの支燃性ガスを供給する。
【００１１】また、ガラス合成用バーナ１０は、外径４
０〜６０ｍｍ程度の円筒形で、一般的には、石英ガラス
で形成されている。ガラス合成用バーナ１０を構成する
第１のノズル１の内径は３〜６ｍｍ程度、第２のノズル
２の内径は４〜７ｍｍ程度、第３のノズル３の内径は３
０〜３５ｍｍ程度となっている。また、小口径ノズル４
の内径は１〜２ｍｍ程度となっている。なお、図１に
は、本発明の光学用ガラスの製造方法に用いられるガラ
ス合成用バーナの一例を示したが、本発明の光学用ガラ
スの製造方法に用いられるガラス合成用バーナは、これ
に限定されるものではない。本発明の光学用ガラスの製
造方法に用いられるガラス合成用バーナは、図１に示し
たガラス合成用バーナ１０と類似の構造を有するもので
あればよい。
０〜６０ｍｍ程度の円筒形で、一般的には、石英ガラス
で形成されている。ガラス合成用バーナ１０を構成する
第１のノズル１の内径は３〜６ｍｍ程度、第２のノズル
２の内径は４〜７ｍｍ程度、第３のノズル３の内径は３
０〜３５ｍｍ程度となっている。また、小口径ノズル４
の内径は１〜２ｍｍ程度となっている。なお、図１に
は、本発明の光学用ガラスの製造方法に用いられるガラ
ス合成用バーナの一例を示したが、本発明の光学用ガラ
スの製造方法に用いられるガラス合成用バーナは、これ
に限定されるものではない。本発明の光学用ガラスの製
造方法に用いられるガラス合成用バーナは、図１に示し
たガラス合成用バーナ１０と類似の構造を有するもので
あればよい。
【００１２】以下、本発明の光学用ガラスの製造方法に
ついて説明する。図２は、本発明の光学用ガラスの製造
方法を示す概略説明図である。本発明の光学用ガラスの
製造方法では、まず、石英ガラスなどからなる円柱形の
出発部材２１を用意する。次いで、出発部材２１の両端
部を把持具２３、２３で把持し、出発部材２１を水平に
配置する。次いで、この状態で、出発部材２１を、その
中心軸を中心にして回転させる。続いて、１個以上のガ
ラス合成用バーナ１０を用いて、ガラス合成用バーナ１
０の第１の噴出口１１からガラス原料ガスおよび添加ガ
スを供給し、第２の噴出口１２から不活性ガスを供給
し、第３の噴出口１３から可燃性ガスを供給し、第４の
噴出口１４から支燃性ガスを供給して、ガラス合成用バ
ーナ１０の火炎中における加水分解反応または酸化反応
により、ガラス微粒子を合成し、ガラス合成用バーナ１
０を出発部材の長手方向と平行に移動させながら、ガラ
ス微粒子を回転する出発部材の半径方向に堆積して、多
孔質体２２を得、この多孔質体２２を焼結することで透
明ガラス化し、光学用ガラスを得る。なお、図２には、
光学用ガラスの製造方法の一例を示したが、本発明の光
学用ガラスの製造方法はこれに限定されるものではな
い。
ついて説明する。図２は、本発明の光学用ガラスの製造
方法を示す概略説明図である。本発明の光学用ガラスの
製造方法では、まず、石英ガラスなどからなる円柱形の
出発部材２１を用意する。次いで、出発部材２１の両端
部を把持具２３、２３で把持し、出発部材２１を水平に
配置する。次いで、この状態で、出発部材２１を、その
中心軸を中心にして回転させる。続いて、１個以上のガ
ラス合成用バーナ１０を用いて、ガラス合成用バーナ１
０の第１の噴出口１１からガラス原料ガスおよび添加ガ
スを供給し、第２の噴出口１２から不活性ガスを供給
し、第３の噴出口１３から可燃性ガスを供給し、第４の
噴出口１４から支燃性ガスを供給して、ガラス合成用バ
ーナ１０の火炎中における加水分解反応または酸化反応
により、ガラス微粒子を合成し、ガラス合成用バーナ１
０を出発部材の長手方向と平行に移動させながら、ガラ
ス微粒子を回転する出発部材の半径方向に堆積して、多
孔質体２２を得、この多孔質体２２を焼結することで透
明ガラス化し、光学用ガラスを得る。なお、図２には、
光学用ガラスの製造方法の一例を示したが、本発明の光
学用ガラスの製造方法はこれに限定されるものではな
い。
【００１３】ところで、ガラス微粒子の堆積速度や堆積
効率を向上させるために、ガラス合成用バーナ１０から
噴出する火炎を大きくする方法として、ガラス合成用バ
ーナ１０の断面積を大きくする方法がある。しかしなが
ら、ガラス合成用バーナ１０の断面積が大きくなると、
ガラス微粒子の合成に用いられる各種ガスの流速が遅く
なってしまう。そして、ガスの流速が遅くなると、ガラ
ス合成用バーナ１０の端面近傍で火炎が形成されるとと
もに、加水分解反応または酸化反応が起こる。このた
め、ガラス合成用バーナ１０の端面近傍で熱が発生し、
ガラス合成用バーナ１０の端面が削れることがある。
効率を向上させるために、ガラス合成用バーナ１０から
噴出する火炎を大きくする方法として、ガラス合成用バ
ーナ１０の断面積を大きくする方法がある。しかしなが
ら、ガラス合成用バーナ１０の断面積が大きくなると、
ガラス微粒子の合成に用いられる各種ガスの流速が遅く
なってしまう。そして、ガスの流速が遅くなると、ガラ
ス合成用バーナ１０の端面近傍で火炎が形成されるとと
もに、加水分解反応または酸化反応が起こる。このた
め、ガラス合成用バーナ１０の端面近傍で熱が発生し、
ガラス合成用バーナ１０の端面が削れることがある。
【００１４】そこで、本発明の光学用ガラスの製造方法
にあっては、ガラス微粒子堆積中に第３の噴出口１３か
ら噴出する可燃性ガスまたは第４の噴出口から噴出する
支燃性ガスの流速あるいは流量を調整する。これによ
り、火炎の形成位置をガラス合成用バーナ１０の端面よ
り離し、ガラス合成用バーナ１０の端面近傍で高熱が発
生するのを防止する。このようにすれば、火炎の熱によ
るガラス合成用バーナ１０の端面の削れや、劣化を防止
できる。また、ガラス合成用バーナ１０の交換回数を減
少することができる。さらに、ガラス合成用バーナ１０
の熱による変形を防げるので、安定した火炎を常に形成
することができ、ガラス微粒子の堆積速度および堆積効
率の低下を防止することができる。また、ガラス合成用
バーナの端面が削れて生じるガラス屑がガラス微粒子と
伴に堆積して、多孔質体の焼結によって得られた光学用
ガラス中に気泡などが混入するのを防止できる。
にあっては、ガラス微粒子堆積中に第３の噴出口１３か
ら噴出する可燃性ガスまたは第４の噴出口から噴出する
支燃性ガスの流速あるいは流量を調整する。これによ
り、火炎の形成位置をガラス合成用バーナ１０の端面よ
り離し、ガラス合成用バーナ１０の端面近傍で高熱が発
生するのを防止する。このようにすれば、火炎の熱によ
るガラス合成用バーナ１０の端面の削れや、劣化を防止
できる。また、ガラス合成用バーナ１０の交換回数を減
少することができる。さらに、ガラス合成用バーナ１０
の熱による変形を防げるので、安定した火炎を常に形成
することができ、ガラス微粒子の堆積速度および堆積効
率の低下を防止することができる。また、ガラス合成用
バーナの端面が削れて生じるガラス屑がガラス微粒子と
伴に堆積して、多孔質体の焼結によって得られた光学用
ガラス中に気泡などが混入するのを防止できる。
【００１５】また、本発明の光学用ガラスの製造方法に
あっては、ガラス微粒子堆積中に第３の噴出口１３から
噴出する可燃性ガスまたは第４の噴出口から噴出する支
燃性ガスの流速もしくは流量を調整することによって、
ガラス合成用バーナ１０の端面温度を９００℃以下とす
ることが好ましく、より好ましくは８００℃以下とす
る。このようにすれば、酸水素火炎の熱によるガラス合
成用バーナ１０の端面の削れや、劣化を防止できる。ま
た、本発明の光学用ガラスの製造方法により得られる光
学用ガラス中に、気泡が混入するのを防止できる。
あっては、ガラス微粒子堆積中に第３の噴出口１３から
噴出する可燃性ガスまたは第４の噴出口から噴出する支
燃性ガスの流速もしくは流量を調整することによって、
ガラス合成用バーナ１０の端面温度を９００℃以下とす
ることが好ましく、より好ましくは８００℃以下とす
る。このようにすれば、酸水素火炎の熱によるガラス合
成用バーナ１０の端面の削れや、劣化を防止できる。ま
た、本発明の光学用ガラスの製造方法により得られる光
学用ガラス中に、気泡が混入するのを防止できる。
【００１６】また、本発明の光学用ガラスの製造方法に
あっては、ガラス微粒子堆積中に、可燃性ガスまたは支
燃性ガスの流速を調整する。可燃性ガスの流速をｖＨ、
支燃性ガスの流速をｖＯとし、これらの関係をｖＨ＝ｖ
Ｏ×ａとすると、ａ≦０．２とすることが好ましい。こ
のように、本発明の光学用ガラスの製造方法では、可燃
性ガスの流速ｖＨを、所定の範囲で、常に支燃性ガスの
流速ｖＯよりも遅くすることが好ましい。ａが０．２を
超えると、ガラス合成用バーナ１０の端面近傍で、火炎
が形成されると共に、加水分解反応または酸化反応が起
こってしまう。したがって、ガラス合成用バーナ１０の
端面近傍で熱が発生し、ガラス合成用バーナ１０が溶け
て、その端面が削れることがある。
あっては、ガラス微粒子堆積中に、可燃性ガスまたは支
燃性ガスの流速を調整する。可燃性ガスの流速をｖＨ、
支燃性ガスの流速をｖＯとし、これらの関係をｖＨ＝ｖ
Ｏ×ａとすると、ａ≦０．２とすることが好ましい。こ
のように、本発明の光学用ガラスの製造方法では、可燃
性ガスの流速ｖＨを、所定の範囲で、常に支燃性ガスの
流速ｖＯよりも遅くすることが好ましい。ａが０．２を
超えると、ガラス合成用バーナ１０の端面近傍で、火炎
が形成されると共に、加水分解反応または酸化反応が起
こってしまう。したがって、ガラス合成用バーナ１０の
端面近傍で熱が発生し、ガラス合成用バーナ１０が溶け
て、その端面が削れることがある。
【００１７】あるいは、ガラス微粒子堆積中に、可燃性
ガスまたは支燃性ガスの流量を調整して可燃性ガスの流
量をＶＨ、前記支燃性ガスの流量をＶＯとし、これらの
関係をＶＯ＝ＶＨ×ｂとすると、０．１≦ｂ≦０．８と
することが好ましい。このように、本発明の光学用ガラ
スの製造方法では、支燃性ガスの流量ＶＯを、所定の範
囲で、常に可燃性ガスＶＨの流量よりも少なくすること
が好ましい。ｂが０．１未満では、ガラス合成用バーナ
１０の端面近傍で火炎が形成されるとともに、加水分解
反応または酸化反応が起こってしまう。したがって、ガ
ラス合成用バーナ１０の端面近傍で熱が発生し、ガラス
合成用バーナ１０が溶けて、その端面が削れることがあ
る。一方、ｂが０．８を超える場合では、支燃性ガスの
流速が速くなり過ぎて炎がまとまらず、ガラス微粒子の
堆積速度、堆積効率が低下する。
ガスまたは支燃性ガスの流量を調整して可燃性ガスの流
量をＶＨ、前記支燃性ガスの流量をＶＯとし、これらの
関係をＶＯ＝ＶＨ×ｂとすると、０．１≦ｂ≦０．８と
することが好ましい。このように、本発明の光学用ガラ
スの製造方法では、支燃性ガスの流量ＶＯを、所定の範
囲で、常に可燃性ガスＶＨの流量よりも少なくすること
が好ましい。ｂが０．１未満では、ガラス合成用バーナ
１０の端面近傍で火炎が形成されるとともに、加水分解
反応または酸化反応が起こってしまう。したがって、ガ
ラス合成用バーナ１０の端面近傍で熱が発生し、ガラス
合成用バーナ１０が溶けて、その端面が削れることがあ
る。一方、ｂが０．８を超える場合では、支燃性ガスの
流速が速くなり過ぎて炎がまとまらず、ガラス微粒子の
堆積速度、堆積効率が低下する。
【００１８】また、本発明の光学用ガラスの製造方法に
よって得られた光学用ガラスは、その中に含まれる０．
３ｍｍ以上の残留気泡数が単位体積当たり０．００５個
／ｃｍ３以下となる。なお、０．３ｍｍ以下の気泡であ
れば、その後の加工時および光学特性に大きな影響を与
えることはない。また、残留気泡は、光学用ガラスの一
端より光を入射し、直径０．３ｍｍの円が描いてあるス
ケールを用い、比較することで、その大きさを調査し
た。このように、本発明の光学用ガラスの製造方法によ
れば、良好な光学用ガラスを得ることができる。
よって得られた光学用ガラスは、その中に含まれる０．
３ｍｍ以上の残留気泡数が単位体積当たり０．００５個
／ｃｍ３以下となる。なお、０．３ｍｍ以下の気泡であ
れば、その後の加工時および光学特性に大きな影響を与
えることはない。また、残留気泡は、光学用ガラスの一
端より光を入射し、直径０．３ｍｍの円が描いてあるス
ケールを用い、比較することで、その大きさを調査し
た。このように、本発明の光学用ガラスの製造方法によ
れば、良好な光学用ガラスを得ることができる。
【００１９】以下、図１および図２を用いて具体的な実
施例を示し、本発明の効果を明らかにする。 （実施例１）図１に示したガラス合成用バーナを備えた
光学用ガラス製造用バーナ装置を用意した。次いで、外
径３０ｍｍ、長さ１５００ｍｍの石英系ガラスからなる
円柱形の出発部材を用意した。次いで、この出発部材の
両端部を把持具で把持し、出発部材を水平に配置した。
次いで、この出発部材を、その中心軸を中心にして回転
させながら、上記のガラス合成用バーナを用いてガラス
微粒子を合成し、ガラス合成用バーナを出発部材の長手
方向と平行に移動させながら、ガラス微粒子を回転する
出発部材の半径方向に堆積して、出発部材の周りにＳｉ
Ｏ２からなるガラス微粒子を１２ｋｇ堆積させた円柱形
の多孔質体２２を得た。このとき、出発部材の回転速度
を３０ｒｐｍとした。また、第1の噴出口１１からはガ
ラス原料ガスのＳｉＣｌ４を５リットル／分噴出し、添
加ガスの酸素を３リットル／分噴出し、第２の噴出口１
２からはアルゴンを１リットル／分噴出し、第３の噴出
口１３からは水素を噴出し、その流量を多孔質体２２の
外径の増加に応じて、流速が１．０〜１．３ｍ／秒とな
るように調整し、第４の噴出口１４からは酸素を噴出
し、その流量を、流速が１２．０ｍ／秒となるように調
整した。このとき、ｖＨ＝ｖＯ×ａの関係においては、
ａ＝０．０５〜０．０６５であった。その結果、ガラス
微粒子堆積中、ガラス合成用バーナ１０の端面温度は、
非接触式の放射温度計で観測したところ、４００〜６０
０℃であった。また、上記の製造方法で製造された多孔
質体を焼結し、得られた光学ガラスの一端より光を照射
したところ、光学ガラス中に確認された直径０．３ｍｍ
の円の範囲を越える残留気泡などは０．０００７個／ｃ
ｍ３であった。さらに、この条件で繰り返し多孔質体の
製造を行っても、多孔質体の焼結後の光学ガラス中に認
められる気泡などはいずれも０．００５個／ｃｍ３以下
であり、また、ガラス合成用バーナ１０が削れている様
子も観察されなかった。
施例を示し、本発明の効果を明らかにする。 （実施例１）図１に示したガラス合成用バーナを備えた
光学用ガラス製造用バーナ装置を用意した。次いで、外
径３０ｍｍ、長さ１５００ｍｍの石英系ガラスからなる
円柱形の出発部材を用意した。次いで、この出発部材の
両端部を把持具で把持し、出発部材を水平に配置した。
次いで、この出発部材を、その中心軸を中心にして回転
させながら、上記のガラス合成用バーナを用いてガラス
微粒子を合成し、ガラス合成用バーナを出発部材の長手
方向と平行に移動させながら、ガラス微粒子を回転する
出発部材の半径方向に堆積して、出発部材の周りにＳｉ
Ｏ２からなるガラス微粒子を１２ｋｇ堆積させた円柱形
の多孔質体２２を得た。このとき、出発部材の回転速度
を３０ｒｐｍとした。また、第1の噴出口１１からはガ
ラス原料ガスのＳｉＣｌ４を５リットル／分噴出し、添
加ガスの酸素を３リットル／分噴出し、第２の噴出口１
２からはアルゴンを１リットル／分噴出し、第３の噴出
口１３からは水素を噴出し、その流量を多孔質体２２の
外径の増加に応じて、流速が１．０〜１．３ｍ／秒とな
るように調整し、第４の噴出口１４からは酸素を噴出
し、その流量を、流速が１２．０ｍ／秒となるように調
整した。このとき、ｖＨ＝ｖＯ×ａの関係においては、
ａ＝０．０５〜０．０６５であった。その結果、ガラス
微粒子堆積中、ガラス合成用バーナ１０の端面温度は、
非接触式の放射温度計で観測したところ、４００〜６０
０℃であった。また、上記の製造方法で製造された多孔
質体を焼結し、得られた光学ガラスの一端より光を照射
したところ、光学ガラス中に確認された直径０．３ｍｍ
の円の範囲を越える残留気泡などは０．０００７個／ｃ
ｍ３であった。さらに、この条件で繰り返し多孔質体の
製造を行っても、多孔質体の焼結後の光学ガラス中に認
められる気泡などはいずれも０．００５個／ｃｍ３以下
であり、また、ガラス合成用バーナ１０が削れている様
子も観察されなかった。
【００２０】（実施例２）第１の噴出口１１からはガラ
ス原料ガスのＳｉＣｌ４を５リットル／分噴出し、添加
ガスの酸素を３リットル／分噴出し、第２の噴出口１２
からはアルゴンを１リットル／分噴出し、第３の噴出口
１３からは水素を噴出し、その流量を多孔質体２２の外
径の増加に応じて、流量が４０〜８０リットル／分とな
るように調整し、第４の噴出口１４からは酸素を２０リ
ットル／分噴出した以外は実施例１と同様にして多孔質
体２２を製造した。このとき、ＶＯ＝ＶＨ×ｂの関係に
おいては、ｂ＝０．２３〜０．５０であった。その結
果、ガラス微粒子堆積中、ガラス合成用バーナ１０の端
面温度は、非接触式の放射温度計で観測したところ、６
００〜８５０℃であった。また、上記の製造方法で製造
された多孔質体を焼結し、得られた光学ガラスの一端よ
り光を照射したところ、光学ガラス中に確認された直径
０．３ｍｍの円の範囲を越える残留気泡などは０．００
１８個／ｃｍ３であった。さらに、この条件で繰り返し
多孔質体の製造を行っても、多孔質体の焼結後の光学ガ
ラス中に認められる気泡などはいずれも０．００５個／
ｃｍ３以下であり、また、ガラス合成用バーナ１０が削
れている様子も観察されなかった。
ス原料ガスのＳｉＣｌ４を５リットル／分噴出し、添加
ガスの酸素を３リットル／分噴出し、第２の噴出口１２
からはアルゴンを１リットル／分噴出し、第３の噴出口
１３からは水素を噴出し、その流量を多孔質体２２の外
径の増加に応じて、流量が４０〜８０リットル／分とな
るように調整し、第４の噴出口１４からは酸素を２０リ
ットル／分噴出した以外は実施例１と同様にして多孔質
体２２を製造した。このとき、ＶＯ＝ＶＨ×ｂの関係に
おいては、ｂ＝０．２３〜０．５０であった。その結
果、ガラス微粒子堆積中、ガラス合成用バーナ１０の端
面温度は、非接触式の放射温度計で観測したところ、６
００〜８５０℃であった。また、上記の製造方法で製造
された多孔質体を焼結し、得られた光学ガラスの一端よ
り光を照射したところ、光学ガラス中に確認された直径
０．３ｍｍの円の範囲を越える残留気泡などは０．００
１８個／ｃｍ３であった。さらに、この条件で繰り返し
多孔質体の製造を行っても、多孔質体の焼結後の光学ガ
ラス中に認められる気泡などはいずれも０．００５個／
ｃｍ３以下であり、また、ガラス合成用バーナ１０が削
れている様子も観察されなかった。
【００２１】（実施例３）第１の噴出口１１からはガラ
ス原料ガスのＳｉＣｌ４を５リットル／分噴出し、添加
ガスの酸素を３リットル／分噴出し、第２の噴出口１２
からはアルゴンを１リットル／分噴出し、第３の噴出口
１３からは水素を噴出し、流速が１．２ｍ／秒となるよ
うにその流量を調整し、第４の噴出口１４からは酸素を
噴出し、多孔質体２２の外径の増加に応じて、流速が６
〜１６ｍ／秒となるようにその流量を調整した以外は実
施例１と同様にして多孔質体２２を製造した。このと
き、ｖＨ＝ｖＯ×ａの関係においては、ａ＝０．０７５
〜０．２であった。その結果、ガラス微粒子堆積中、ガ
ラス合成用バーナ１０の端面温度は、非接触式の放射温
度計で観測したところ、６００〜９００℃であった。ま
た、上記の製造方法で製造された多孔質体を焼結し、得
られた光学ガラスの一端より光を照射したところ、光学
ガラス中に確認された直径０．３ｍｍの円の範囲を越え
る残留気泡などは０．００３０個／ｃｍ３であった。さ
らに、この条件で繰り返し多孔質体の製造を行っても、
多孔質体の焼結後の光学ガラス中に認められる気泡など
はいずれも０．００５個／ｃｍ３以下であり、また、ガ
ラス合成用バーナ１０が削れている様子も観察されなか
った。
ス原料ガスのＳｉＣｌ４を５リットル／分噴出し、添加
ガスの酸素を３リットル／分噴出し、第２の噴出口１２
からはアルゴンを１リットル／分噴出し、第３の噴出口
１３からは水素を噴出し、流速が１．２ｍ／秒となるよ
うにその流量を調整し、第４の噴出口１４からは酸素を
噴出し、多孔質体２２の外径の増加に応じて、流速が６
〜１６ｍ／秒となるようにその流量を調整した以外は実
施例１と同様にして多孔質体２２を製造した。このと
き、ｖＨ＝ｖＯ×ａの関係においては、ａ＝０．０７５
〜０．２であった。その結果、ガラス微粒子堆積中、ガ
ラス合成用バーナ１０の端面温度は、非接触式の放射温
度計で観測したところ、６００〜９００℃であった。ま
た、上記の製造方法で製造された多孔質体を焼結し、得
られた光学ガラスの一端より光を照射したところ、光学
ガラス中に確認された直径０．３ｍｍの円の範囲を越え
る残留気泡などは０．００３０個／ｃｍ３であった。さ
らに、この条件で繰り返し多孔質体の製造を行っても、
多孔質体の焼結後の光学ガラス中に認められる気泡など
はいずれも０．００５個／ｃｍ３以下であり、また、ガ
ラス合成用バーナ１０が削れている様子も観察されなか
った。
【００２２】（実施例４）第１の噴出口１１からはガラ
ス原料ガスのＳｉＣｌ４を５リットル／分噴出し、添加
ガスの酸素を３リットル／分噴出し、第２の噴出口１２
からはアルゴンを１リットル／分噴出し、第３の噴出口
１３からは水素を６０リットル／分噴出し、第４の噴出
口１４からは酸素を噴出し、多孔質体２２の外径の増加
に応じて、流量が２５〜４５リットル／分となるように
調整した以外は実施例１と同様にして多孔質体２２を製
造した。このとき、ＶＯ＝ＶＨ×ｂの関係においては、
ｂ＝０．４２〜０．７５であった。その結果、ガラス微
粒子堆積中、ガラス合成用バーナ１０の端面温度は、非
接触式の放射温度計で観測したところ、４００〜７００
℃であった。また、上記の製造方法で製造された多孔質
体を焼結し、得られた光学ガラスの一端より光を照射し
たところ、光学ガラス中に確認された直径０．３ｍｍの
円の範囲を越える残留気泡などは０．０００６個／ｃｍ
３であった。さらに、この条件で繰り返し多孔質体の製
造を行っても、多孔質体の焼結後の光学ガラス中に認め
られる気泡などはいずれも０．００５個／ｃｍ３以下で
あり、また、ガラス合成用バーナ１０が削れている様子
も観察されなかった。
ス原料ガスのＳｉＣｌ４を５リットル／分噴出し、添加
ガスの酸素を３リットル／分噴出し、第２の噴出口１２
からはアルゴンを１リットル／分噴出し、第３の噴出口
１３からは水素を６０リットル／分噴出し、第４の噴出
口１４からは酸素を噴出し、多孔質体２２の外径の増加
に応じて、流量が２５〜４５リットル／分となるように
調整した以外は実施例１と同様にして多孔質体２２を製
造した。このとき、ＶＯ＝ＶＨ×ｂの関係においては、
ｂ＝０．４２〜０．７５であった。その結果、ガラス微
粒子堆積中、ガラス合成用バーナ１０の端面温度は、非
接触式の放射温度計で観測したところ、４００〜７００
℃であった。また、上記の製造方法で製造された多孔質
体を焼結し、得られた光学ガラスの一端より光を照射し
たところ、光学ガラス中に確認された直径０．３ｍｍの
円の範囲を越える残留気泡などは０．０００６個／ｃｍ
３であった。さらに、この条件で繰り返し多孔質体の製
造を行っても、多孔質体の焼結後の光学ガラス中に認め
られる気泡などはいずれも０．００５個／ｃｍ３以下で
あり、また、ガラス合成用バーナ１０が削れている様子
も観察されなかった。
【００２３】（比較例１）第1の噴出口１１からはガラ
ス原料ガスのＳｉＣｌ４を５リットル／分噴出し、添加
ガスの酸素を３リットル／分噴出し、第２の噴出口１２
からはアルゴンを１リットル／分噴出し、第３の噴出口
１３からは水素を噴出し、その流量を多孔質体２２の外
径の増加に応じて、流速が０．８〜１．３ｍ／秒となる
ように調整し、第４の噴出口１４からは酸素を噴出し、
その流量を、流速が３．０ｍ／秒となるように調整した
以外は実施例１と同様にして多孔質体２２を製造した。
このとき、ｖＨ＝ｖＯ×ａの関係においては、ａ＝０．
２７〜０．４３であった。その結果、ガラス微粒子堆積
中、ガラス合成用バーナ１０の端面温度は、非接触式の
放射温度計で観測したところ、９５０〜１０５０℃であ
った。また、上記の製造方法で製造された多孔質体を焼
結し、得られた光学用ガラスの一端より光を照射したと
ころ、光学ガラス中に確認された直径０．３ｍｍの円の
範囲を越える残留気泡は０．００８個／ｃｍ３であっ
た。この条件で繰り返し多孔質体を製造したところ、徐
々にガラス合成用バーナ１０の端面温度は上昇し、１０
００〜１１００℃を示すようになった。また、多孔質体
の焼結後の光学ガラス中に認められる気泡の数が増加
し、０．０１２個／ｃｍ３となった。さらに、徐々にガ
ラス微粒子の堆積速度および堆積効率が低下し、多孔質
体を５０回製造した後にガラス合成用バーナ１０を観察
したところ、その端面が削れているのが確認された。
ス原料ガスのＳｉＣｌ４を５リットル／分噴出し、添加
ガスの酸素を３リットル／分噴出し、第２の噴出口１２
からはアルゴンを１リットル／分噴出し、第３の噴出口
１３からは水素を噴出し、その流量を多孔質体２２の外
径の増加に応じて、流速が０．８〜１．３ｍ／秒となる
ように調整し、第４の噴出口１４からは酸素を噴出し、
その流量を、流速が３．０ｍ／秒となるように調整した
以外は実施例１と同様にして多孔質体２２を製造した。
このとき、ｖＨ＝ｖＯ×ａの関係においては、ａ＝０．
２７〜０．４３であった。その結果、ガラス微粒子堆積
中、ガラス合成用バーナ１０の端面温度は、非接触式の
放射温度計で観測したところ、９５０〜１０５０℃であ
った。また、上記の製造方法で製造された多孔質体を焼
結し、得られた光学用ガラスの一端より光を照射したと
ころ、光学ガラス中に確認された直径０．３ｍｍの円の
範囲を越える残留気泡は０．００８個／ｃｍ３であっ
た。この条件で繰り返し多孔質体を製造したところ、徐
々にガラス合成用バーナ１０の端面温度は上昇し、１０
００〜１１００℃を示すようになった。また、多孔質体
の焼結後の光学ガラス中に認められる気泡の数が増加
し、０．０１２個／ｃｍ３となった。さらに、徐々にガ
ラス微粒子の堆積速度および堆積効率が低下し、多孔質
体を５０回製造した後にガラス合成用バーナ１０を観察
したところ、その端面が削れているのが確認された。
【００２４】（比較例２）第1の噴出口１１からはガラ
ス原料ガスのＳｉＣｌ４を５リットル／分噴出し、添加
ガスの酸素を３リットル／分噴出し、第２の噴出口１２
からはアルゴンを１リットル／分噴出し、第３の噴出口
１３からは水素を噴出し、その流量を多孔質体２２の外
径の増加に応じて、流速が１．２〜１．５ｍ／秒となる
ように調整し、第４の噴出口１４からは酸素を噴出し、
その流量を多孔質体２２の外径の増加に応じて、流速が
２．８〜３．２ｍ／秒となるように調整した以外は実施
例１と同様にして多孔質体２２を製造した。このとき、
ｖＨ＝ｖＯ×ａの関係においては、ａ＝０．３３〜０．
５０であった。その結果、ガラス微粒子堆積中、ガラス
合成用バーナ１０の端面温度は、非接触式の放射温度計
で観測したところ、９８０〜１１２０℃であった。ま
た、上記の製造方法で製造された多孔質体を焼結し、得
られた光学用ガラスの一端より光を照射したところ、光
学ガラス中に確認された直径０．３ｍｍの円の範囲を越
える残留気泡は０．０１０個／ｃｍ３であった。この条
件で繰り返し多孔質体を製造したところ、徐々にガラス
合成用バーナ１０の端面温度は上昇し、１１５０〜１３
００℃を示すようになった。また、多孔質体の焼結後の
光学ガラス中に認められる気泡の数が増加し、０．０１
５個／ｃｍ３となった。さらに、徐々にガラス微粒子の
堆積速度および堆積効率が低下し、多孔質体を５０回製
造した後にガラス合成用バーナ１０を観察したところ、
その端面が削れているのが確認された。
ス原料ガスのＳｉＣｌ４を５リットル／分噴出し、添加
ガスの酸素を３リットル／分噴出し、第２の噴出口１２
からはアルゴンを１リットル／分噴出し、第３の噴出口
１３からは水素を噴出し、その流量を多孔質体２２の外
径の増加に応じて、流速が１．２〜１．５ｍ／秒となる
ように調整し、第４の噴出口１４からは酸素を噴出し、
その流量を多孔質体２２の外径の増加に応じて、流速が
２．８〜３．２ｍ／秒となるように調整した以外は実施
例１と同様にして多孔質体２２を製造した。このとき、
ｖＨ＝ｖＯ×ａの関係においては、ａ＝０．３３〜０．
５０であった。その結果、ガラス微粒子堆積中、ガラス
合成用バーナ１０の端面温度は、非接触式の放射温度計
で観測したところ、９８０〜１１２０℃であった。ま
た、上記の製造方法で製造された多孔質体を焼結し、得
られた光学用ガラスの一端より光を照射したところ、光
学ガラス中に確認された直径０．３ｍｍの円の範囲を越
える残留気泡は０．０１０個／ｃｍ３であった。この条
件で繰り返し多孔質体を製造したところ、徐々にガラス
合成用バーナ１０の端面温度は上昇し、１１５０〜１３
００℃を示すようになった。また、多孔質体の焼結後の
光学ガラス中に認められる気泡の数が増加し、０．０１
５個／ｃｍ３となった。さらに、徐々にガラス微粒子の
堆積速度および堆積効率が低下し、多孔質体を５０回製
造した後にガラス合成用バーナ１０を観察したところ、
その端面が削れているのが確認された。
【００２５】（比較例３）第1の噴出口１１からはガラ
ス原料ガスのＳｉＣｌ４を５リットル／分噴出し、添加
ガスの酸素を３リットル／分噴出し、第２の噴出口１２
からはアルゴンを１リットル／分噴出し、第３の噴出口
１３からは水素を７０〜１１０リットル／分噴出し、第
４の噴出口１４からは酸素を１０〜２０リットル／分噴
出した以外は実施例１と同様にして多孔質体２２を製造
した。このとき、ＶＯ＝ＶＨ×ｂの関係においては、ｂ
＝０．０９〜０．２９であった。その結果、ガラス微粒
子堆積中、ガラス合成用バーナ１０の端面温度は、非接
触式の放射温度計で観測したところ、７８０〜１１５０
℃であった。ＶＯ＝ＶＨ×ｂの関係において、ｂ＜０．
１となる範囲では、ガラス合成用バーナ１０の端面が赤
熱しているのが確認された。また、上記の製造方法で製
造された多孔質体を焼結し、得られた光学用ガラスの一
端より光を照射したところ、光学ガラス中に確認された
直径０．３ｍｍの円の範囲を越える残留気泡は０．０１
２個／ｃｍ３であった。この条件で繰り返し多孔質体を
製造したところ、徐々にガラス合成用バーナ１０の端面
温度は上昇し、１０００〜１２００℃を示すようになっ
た。また、多孔質体の焼結後の光学ガラス中に認められ
る気泡の数が増加し、０．０１８個／ｃｍ３となった。
さらに、徐々にガラス微粒子の堆積速度および堆積効率
が低下し、多孔質体を５０回製造した後にガラス合成用
バーナ１０を観察したところ、その端面が削れているの
が確認された。
ス原料ガスのＳｉＣｌ４を５リットル／分噴出し、添加
ガスの酸素を３リットル／分噴出し、第２の噴出口１２
からはアルゴンを１リットル／分噴出し、第３の噴出口
１３からは水素を７０〜１１０リットル／分噴出し、第
４の噴出口１４からは酸素を１０〜２０リットル／分噴
出した以外は実施例１と同様にして多孔質体２２を製造
した。このとき、ＶＯ＝ＶＨ×ｂの関係においては、ｂ
＝０．０９〜０．２９であった。その結果、ガラス微粒
子堆積中、ガラス合成用バーナ１０の端面温度は、非接
触式の放射温度計で観測したところ、７８０〜１１５０
℃であった。ＶＯ＝ＶＨ×ｂの関係において、ｂ＜０．
１となる範囲では、ガラス合成用バーナ１０の端面が赤
熱しているのが確認された。また、上記の製造方法で製
造された多孔質体を焼結し、得られた光学用ガラスの一
端より光を照射したところ、光学ガラス中に確認された
直径０．３ｍｍの円の範囲を越える残留気泡は０．０１
２個／ｃｍ３であった。この条件で繰り返し多孔質体を
製造したところ、徐々にガラス合成用バーナ１０の端面
温度は上昇し、１０００〜１２００℃を示すようになっ
た。また、多孔質体の焼結後の光学ガラス中に認められ
る気泡の数が増加し、０．０１８個／ｃｍ３となった。
さらに、徐々にガラス微粒子の堆積速度および堆積効率
が低下し、多孔質体を５０回製造した後にガラス合成用
バーナ１０を観察したところ、その端面が削れているの
が確認された。
【００２６】（比較例４）第1の噴出口１１からはガラ
ス原料ガスのＳｉＣｌ４を５リットル／分噴出し、添加
ガスの酸素を３リットル／分噴出し、第２の噴出口１２
からはアルゴンを１リットル／分噴出し、第３の噴出口
１３からは水素を３５〜８０リットル／分噴出し、第４
の噴出口１４からは酸素を３０〜６０リットル／分噴出
した以外は実施例１と同様にして多孔質体２２を製造し
た。その結果、ガラス微粒子堆積中、ＶＯ＝ＶＨ×ｂの
関係において、ｂ＞０．８となる範囲では、火炎がまと
まらず、ガラス微粒子を堆積することができなかった。
ス原料ガスのＳｉＣｌ４を５リットル／分噴出し、添加
ガスの酸素を３リットル／分噴出し、第２の噴出口１２
からはアルゴンを１リットル／分噴出し、第３の噴出口
１３からは水素を３５〜８０リットル／分噴出し、第４
の噴出口１４からは酸素を３０〜６０リットル／分噴出
した以外は実施例１と同様にして多孔質体２２を製造し
た。その結果、ガラス微粒子堆積中、ＶＯ＝ＶＨ×ｂの
関係において、ｂ＞０．８となる範囲では、火炎がまと
まらず、ガラス微粒子を堆積することができなかった。
【００２７】図３に、上記実施例１〜４および比較例１
〜４におけるガラス合成用バーナの端面温度と、多孔質
体の焼結によって得られた光学用ガラス内に発生した気
泡の数との関係を示す。また、図４に、式ｖＨ＝ｖＯ×
ａにおける定数ａ、式ＶＯ＝ＶＨ×ｂにおける定数ｂ
と、ガラス合成用バーナの端面温度との関係を示す。図
３から、ガラス合成用バーナ１０の端面温度の上昇に伴
い、多孔質体の焼結によって得られた光学用ガラス内に
認められる気泡の数が増加していることが分かった。ま
た、図４から、支燃性ガス、可燃性ガスの流量または流
速を調整することで、ガラス合成用バーナ１０の端面温
度を調整することができることが分かった。以上のこと
から、ガラス合成用バーナ１０の端面温度を調整するこ
とにより、多孔質体の焼結によって得られた光学用ガラ
ス内に気泡が混入するのを抑制することができる。
〜４におけるガラス合成用バーナの端面温度と、多孔質
体の焼結によって得られた光学用ガラス内に発生した気
泡の数との関係を示す。また、図４に、式ｖＨ＝ｖＯ×
ａにおける定数ａ、式ＶＯ＝ＶＨ×ｂにおける定数ｂ
と、ガラス合成用バーナの端面温度との関係を示す。図
３から、ガラス合成用バーナ１０の端面温度の上昇に伴
い、多孔質体の焼結によって得られた光学用ガラス内に
認められる気泡の数が増加していることが分かった。ま
た、図４から、支燃性ガス、可燃性ガスの流量または流
速を調整することで、ガラス合成用バーナ１０の端面温
度を調整することができることが分かった。以上のこと
から、ガラス合成用バーナ１０の端面温度を調整するこ
とにより、多孔質体の焼結によって得られた光学用ガラ
ス内に気泡が混入するのを抑制することができる。
【００２８】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の光学用ガ
ラスの製造方法によれば、ガラス合成用バーナの端面温
度の上昇を抑制することが可能となり、火炎の熱による
ガラス合成用バーナの端面の削れや、劣化を防止するこ
とができる。また、ガラス合成用バーナの交換回数を減
少することができる。さらに、ガラス合成用バーナの熱
による変形を防げるので、安定した火炎を常に形成する
ことができ、ガラス微粒子の堆積速度および堆積効率を
向上することができる。また、本発明の光学用ガラスの
製造方法によって製造された光学用ガラスの中に含まれ
る気泡の数を０．００５個／ｃｍ３以下とすることがで
きる。
ラスの製造方法によれば、ガラス合成用バーナの端面温
度の上昇を抑制することが可能となり、火炎の熱による
ガラス合成用バーナの端面の削れや、劣化を防止するこ
とができる。また、ガラス合成用バーナの交換回数を減
少することができる。さらに、ガラス合成用バーナの熱
による変形を防げるので、安定した火炎を常に形成する
ことができ、ガラス微粒子の堆積速度および堆積効率を
向上することができる。また、本発明の光学用ガラスの
製造方法によって製造された光学用ガラスの中に含まれ
る気泡の数を０．００５個／ｃｍ３以下とすることがで
きる。
【図面の簡単な説明】
【図１】 本発明の光学用ガラスの製造方法に用いられ
るガラス合成用バーナの一例を示す概略構成図である。
るガラス合成用バーナの一例を示す概略構成図である。
【図２】 本発明の光学用ガラスの製造方法を示す概略
説明図である。
説明図である。
【図３】 実施例および比較例におけるガラス合成用バ
ーナ１０の端面温度と光学用ガラス内に発生した気泡の
数との関係を示すグラフである。
ーナ１０の端面温度と光学用ガラス内に発生した気泡の
数との関係を示すグラフである。
【図４】 実施例および比較例におけるガラス合成用バ
ーナ１０の端面温度と定数ａ、ｂとの関係を示すグラフ
である。
ーナ１０の端面温度と定数ａ、ｂとの関係を示すグラフ
である。
１・・・第１のノズル、２・・・第２のノズル、３・・・第３の
ノズル、４・・・小口径ノズル、１０・・・ガラス合成用バー
ナ、１１・・・第１の噴出口、１２・・・第２の噴出口、１３
・・・第３の噴出口、１４・・・第４の噴出口、２１・・・出発
部材、２２・・・多孔質体、２３・・・把持具
ノズル、４・・・小口径ノズル、１０・・・ガラス合成用バー
ナ、１１・・・第１の噴出口、１２・・・第２の噴出口、１３
・・・第３の噴出口、１４・・・第４の噴出口、２１・・・出発
部材、２２・・・多孔質体、２３・・・把持具
フロントページの続き
(72)発明者 堀越 雅博
千葉県佐倉市六崎1440番地 株式会社フジ
クラ佐倉事業所内
Ｆターム(参考） 4G014 AH12 AH16
4G021 EA03 EB06 EB15
Claims (6)
- 【請求項１】 光ファイバ用ガラス母材あるいは半導体
製造装置用光学ガラスであって、０．３ｍｍ以上の残留
気泡数が単位体積当り０．００５個／ｃｍ３以下である
ことを特徴とする光学用ガラス。 - 【請求項２】 ガラス原料ガス、添加ガス、可燃性ガ
ス、支燃性ガスおよび不活性ガスをガラス合成用バーナ
に導入して、ガラス原料ガスを火炎中で加水分解反応ま
たは酸化反応させてガラス微粒子を合成し、該ガラス微
粒子を堆積させて光学ガラスを製造する方法において、 前記ガラス微粒子堆積中に、前記可燃性ガスまたは前記
支燃性ガスの流速を所定の流速の関係となるように調整
することによって、前記ガラス合成用バーナの端面温度
を制御し、０．３ｍｍ以上の残留気泡数が単位体積当り
０．００５個／ｃｍ３以下の光学用ガラスを製造するこ
とを特徴とする光学用ガラスの製造方法。 - 【請求項３】 ガラス原料ガス、添加ガス、可燃性ガ
ス、支燃性ガスおよび不活性ガスをガラス合成用バーナ
に導入して、ガラス原料ガスを火炎中で加水分解反応ま
たは酸化反応させてガラス微粒子を合成し、該ガラス微
粒子を堆積させて光学ガラスを製造する方法において、 前記ガラス微粒子堆積中に前記可燃性ガスまたは前記支
燃性ガスの流量を所定の流量の関係となるように調整す
ることによって、前記ガラス合成用バーナの端面温度を
制御し、０．３ｍｍ以上の残留気泡数が単位体積当り
０．００５個／ｃｍ３以下の光学用ガラスを製造するこ
とを特徴とする光学用ガラスの製造方法。 - 【請求項４】 請求項２または３記載の光学用ガラスの
製造方法において、前記ガラス合成用バーナの端面温度
を９００℃以下とすることを特徴とする光学用ガラスの
製造方法。 - 【請求項５】 請求項２および４記載の光学用ガラスの
製造方法において、 前記可燃性ガスの流速をｖＨ、前記支燃性ガスの流速を
ｖＯとし、これらの関係を、ｖＨ＝ｖＯ×ａとすると、
ａ≦０．２とすることを特徴とする光学用ガラスの製造
方法。 - 【請求項６】 請求項３および４記載の光学用ガラスの
製造方法において、 前記可燃性ガスの流量をＶＨ、前記支燃性ガスの流量を
ＶＯとし、これらの関係を、ＶＯ＝ＶＨ×ｂとすると、
０．１≦ｂ≦０．８とすることを特徴とする光学用ガラ
スの製造方法。
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|---|---|---|---|
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| RU2004125159/03A RU2284968C2 (ru) | 2002-02-20 | 2003-02-18 | Способ изготовления оптического стекла |
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| JP2002043795 | 2002-02-20 | ||
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|---|---|
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ID=27759654
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|---|---|---|---|
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Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006182624A (ja) * | 2004-12-28 | 2006-07-13 | Fujikura Ltd | ガラス棒状体の製造方法 |
| JP2010195667A (ja) * | 2009-02-27 | 2010-09-09 | Shin-Etsu Chemical Co Ltd | ガラス微粒子合成用バーナ及びこれを用いた多孔質ガラス母材の製造方法 |
| JP2012232875A (ja) * | 2011-05-02 | 2012-11-29 | Fujikura Ltd | 光ファイバ用ガラス母材の製造方法及び製造装置 |
| JP2018024544A (ja) * | 2016-08-09 | 2018-02-15 | 信越化学工業株式会社 | 光ファイバ母材の製造方法及び製造装置 |
| JP2019064897A (ja) * | 2017-10-05 | 2019-04-25 | 信越化学工業株式会社 | 光ファイバ用多孔質ガラス堆積体の製造方法 |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7404302B2 (en) * | 2004-05-27 | 2008-07-29 | Corning Incorporated | Method of depositing glass soot |
| JP5236526B2 (ja) * | 2008-02-27 | 2013-07-17 | 信越化学工業株式会社 | 多孔質ガラス母材製造用バーナー |
| JP5748633B2 (ja) * | 2011-10-18 | 2015-07-15 | 信越化学工業株式会社 | 多孔質ガラス母材製造用バーナ及び多孔質ガラス母材の製造方法 |
| CN105384334B (zh) * | 2015-11-30 | 2018-10-12 | 中天科技精密材料有限公司 | 一种大尺寸光纤预制棒制造用喷灯及其大尺寸光纤预制棒制造方法 |
| JP2018193279A (ja) * | 2017-05-18 | 2018-12-06 | 住友電気工業株式会社 | ガラス微粒子堆積体の製造方法、ガラス母材の製造方法及びガラス微粒子堆積体 |
| CN116625694B (zh) * | 2023-07-21 | 2023-10-13 | 中国空气动力研究与发展中心空天技术研究所 | 一种超燃冲压发动机光学观测玻璃的快速更换装置 |
Family Cites Families (26)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3027592A1 (de) * | 1980-07-21 | 1982-03-04 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | Verfahren zum herstellen einer schicht aus glas auf einer innenflaeche eines hohlkoerpers |
| JPS62187135A (ja) | 1986-02-12 | 1987-08-15 | Furukawa Electric Co Ltd:The | ガラス微粒子合成用ト−チ |
| JP2793617B2 (ja) | 1989-01-31 | 1998-09-03 | 信越化学工業株式会社 | 光ファイバー母材の製造方法 |
| JP3118822B2 (ja) * | 1990-09-07 | 2000-12-18 | 住友電気工業株式会社 | ガラス物品の製造方法 |
| JP2770103B2 (ja) | 1992-07-03 | 1998-06-25 | 株式会社フジクラ | 光ファイバ母材の製造方法 |
| JPH06247722A (ja) | 1993-02-24 | 1994-09-06 | Furukawa Electric Co Ltd:The | 多孔質ガラス母材の製造方法 |
| CA2125508C (en) * | 1993-06-16 | 2004-06-08 | Shinji Ishikawa | Process for producing glass preform for optical fiber |
| JP3360374B2 (ja) | 1993-10-13 | 2002-12-24 | 株式会社ニコン | 石英ガラスの製造方法 |
| JP3137517B2 (ja) | 1993-11-17 | 2001-02-26 | 信越化学工業株式会社 | 合成石英ガラス部材の製造方法および合成石英ガラス製造用バーナー |
| JPH07215727A (ja) | 1994-02-04 | 1995-08-15 | Yazaki Corp | 光ファイバ母材及び光ファイバ母材の製造方法 |
| JPH0912322A (ja) | 1995-06-29 | 1997-01-14 | Tosoh Corp | 高純度透明石英ガラス及びその製造方法 |
| JPH09295826A (ja) | 1996-04-30 | 1997-11-18 | Tosoh Corp | 高純度透明シリカガラスの製造方法 |
| JP3988211B2 (ja) | 1996-06-18 | 2007-10-10 | 東ソー株式会社 | 高純度透明シリカガラスの製造方法 |
| JPH1053428A (ja) | 1996-08-08 | 1998-02-24 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 光ファイバ用母材およびその製造方法 |
| JP3653902B2 (ja) | 1996-12-12 | 2005-06-02 | 住友電気工業株式会社 | ガラス母材合成用バーナ及びガラス母材の製造方法 |
| JPH1129331A (ja) | 1997-05-14 | 1999-02-02 | Nikon Corp | 合成石英ガラス光学部材の製造方法および光学部材 |
| JP3264227B2 (ja) | 1997-09-05 | 2002-03-11 | 住友電気工業株式会社 | 光ファイバ用母材の製造方法 |
| JPH11125406A (ja) | 1997-10-21 | 1999-05-11 | Nikon Corp | 石英ガラス製バーナー |
| JP3045719B1 (ja) | 1999-02-01 | 2000-05-29 | 信越化学工業株式会社 | 光ファイバ母材加工用バ―ナ |
| JP2000272929A (ja) | 1999-03-26 | 2000-10-03 | Mitsubishi Cable Ind Ltd | 光ファイバ母材の製造方法 |
| JP2000272930A (ja) * | 1999-03-26 | 2000-10-03 | Mitsubishi Cable Ind Ltd | 光ファイバ母材の製造方法 |
| JP2000319024A (ja) | 1999-04-30 | 2000-11-21 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 多孔質ガラス母材の製造装置およびこれを用いた多孔質ガラス母材の製造方法 |
| JP2001080923A (ja) | 1999-09-06 | 2001-03-27 | Nikon Corp | 合成石英ガラスの製造方法及び光学部材 |
| US7299659B2 (en) * | 2000-12-19 | 2007-11-27 | Prysmian Cavi E Sistemi Energia S.R.L. | Method for manufacturing optical fiber preforms |
| JP3910806B2 (ja) * | 2001-06-06 | 2007-04-25 | 古河電気工業株式会社 | 光ファイバ母材の製造方法 |
| JP2003252643A (ja) * | 2002-03-04 | 2003-09-10 | Fujikura Ltd | 光ファイバ母材の製造方法及び酸水素火炎バーナ |
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Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006182624A (ja) * | 2004-12-28 | 2006-07-13 | Fujikura Ltd | ガラス棒状体の製造方法 |
| JP4498917B2 (ja) * | 2004-12-28 | 2010-07-07 | 株式会社フジクラ | ガラス棒状体の製造方法 |
| JP2010195667A (ja) * | 2009-02-27 | 2010-09-09 | Shin-Etsu Chemical Co Ltd | ガラス微粒子合成用バーナ及びこれを用いた多孔質ガラス母材の製造方法 |
| JP2012232875A (ja) * | 2011-05-02 | 2012-11-29 | Fujikura Ltd | 光ファイバ用ガラス母材の製造方法及び製造装置 |
| JP2018024544A (ja) * | 2016-08-09 | 2018-02-15 | 信越化学工業株式会社 | 光ファイバ母材の製造方法及び製造装置 |
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