JP2003309136A - 電力半導体装置の製造方法 - Google Patents

電力半導体装置の製造方法

Info

Publication number
JP2003309136A
JP2003309136A JP2002112317A JP2002112317A JP2003309136A JP 2003309136 A JP2003309136 A JP 2003309136A JP 2002112317 A JP2002112317 A JP 2002112317A JP 2002112317 A JP2002112317 A JP 2002112317A JP 2003309136 A JP2003309136 A JP 2003309136A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
movable pin
lead frame
cavity
resin
semiconductor element
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2002112317A
Other languages
English (en)
Other versions
JP3733341B2 (ja
Inventor
Hirokimi Hata
浩公 秦
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
Priority to JP2002112317A priority Critical patent/JP3733341B2/ja
Publication of JP2003309136A publication Critical patent/JP2003309136A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3733341B2 publication Critical patent/JP3733341B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Abstract

(57)【要約】 【課題】 ヒートシンクとの接続を阻害しない平坦なモ
ールド樹脂表面を有する電力半導体装置の製造方法を提
供する。 【解決手段】 本発明による製造方法は、半導体素子を
モールド成形して半導体装置を製造する方法である。こ
の方法においては、成型金型によって形成されるキャビ
ティ8内に電力半導体素子2を配置し、そのキャビティ
8内に樹脂を注入して硬化させる。このとき、キャビテ
ィ8内に、第1の可動ピン10および第2の可動ピン1
2を挿入して、電力半導体素子2が搭載されたダイパッ
ド3を固定する。ここで、第2の可動ピン12を挿入す
る方向と、ダイパッド3の裏面との間の角度が、0度以
上90度未満である。可動ピン10および可動ピン12
は、キャビティ8内の樹脂が完全に硬化される前にキャ
ビティ8内から引き抜かれる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、電力半導体装置の
製造方法に関し、特に、電力半導体素子の樹脂封止時に
おけるリードフレームの固定方法に関する。
【0002】
【従来の技術】電力半導体素子を樹脂封止(樹脂モール
ド成形)する方法として、トランスファーモールド法が
既知である。この方法では、まず、一対の成形金型(以
下、「金型」という。)によって形成されたキャビティ
内に電力半導体素子を配置する。ここで、電力半導体素
子をキャビティ内に保持するために、電力半導体素子が
搭載されたリードフレームの一部を、上部金型と下部金
型とで挟持する。また、キャビティ内への樹脂注入時に
リードフレームが動かないように、そのキャビティ内の
リードフレームの端部を、キャビティ内に挿入される可
動ピンで固定する。次に、電力半導体素子が配置された
キャビティ内に樹脂を注入する。そして、キャビティ内
に樹脂を充填させた後、可動ピンをキャビティ内から引
き抜きながら、樹脂を一定時間硬化させる。最後に、上
部金型および下部金型を開いて、樹脂封止型電力半導体
装置を得る。以上のような方法を用いて電力半導体素子
を樹脂封止する技術は、例えば、特開平7−74195
号公開公報や特開平8−192446号公開公報に開示
されている。
【0003】以下に、従来の樹脂モールド成形時におけ
る可動ピンの動作について説明する。図5は、電力半導
体素子とその電力半導体素子を駆動する制御回路とを含
む電力半導体装置のモールド成形時における可動ピンの
動作を示す図である。可動ピンの動作が分かり易いよう
に、図5においては、キャビティの外形、電力半導体素
子、リードフレームおよび可動ピンのみを示し、金型や
可動ピンを駆動させる機構等を省略する。まず、図5の
(1)は、樹脂注入前のキャビティ内部の状態を示す断
面図である。図5の(1)において、キャビティ108
内には、電力半導体素子102が搭載された主端子フレ
ーム104、および、制御回路(図示されない)が搭載
された制御端子フレーム106が配置される。主端子フ
レーム104は、電力半導体素子102が搭載された平
坦部(ダイパッド103)と、そのダイパッド103の
一方の端部に接続されるリード部を備える。そのリード
部の一部を金型で挟持することによって、ダイパッド1
03をキャビティ108内に保持する。また、ダイパッ
ド103の位置を固定するために、キャビティ108内
に可動ピン110および可動ピン112を挿入する。可
動ピン110および可動ピン112は、ダイパッド10
3におけるリード部に接続されない他方の端部を固定す
る。可動ピン110は、上部金型(図示されない)の上
方からキャビティ108内へ、ダイパッド103の表面
(電力半導体素子102が搭載された面)に垂直に挿入
される。可動ピン112は、下部金型(図示されない)
の下方からキャビティ108内へ、ダイパッド103の
裏面に垂直に挿入される。可動ピン110の先端および
可動ピン112の先端は、それぞれ、対向するように、
ダイパッド103の表面およびダイパッド103の裏面
に当接する。その後、キャビティ108内に樹脂を注入
して充填させた後、樹脂の硬化を始める。
【0004】図5の(2)は、樹脂硬化開始後、樹脂硬
化が完了する前のキャビティ108内の断面図である。
樹脂硬化開始後、可動ピン110および可動ピン112
は、それぞれ、挿入された経路をたどって、キャビティ
108内から抜き取られる。樹脂が完全に硬化する前な
ので、可動ピン110および可動ピン112が抜き取ら
れた後の隙間に樹脂が流れ込む。これにより、主端子フ
レーム104および制御端子フレーム106を、樹脂で
完全に覆うことができる。可動ピン110および可動ピ
ン112が抜き取られた後、樹脂は完全に硬化される。
最後に、金型を取り外すと、モールド成形された電力半
導体装置が得られる。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかし、モールド成形
された電力半導体装置のモールド樹脂表面には、可動ピ
ン110および可動ピン112の痕跡(凹部)が残る。
特に、可動ピン112の痕跡は、主端子フレーム104
におけるダイパッド103の下部(図5の(3)におい
て点線で示される。)に存在する。これにより、ダイパ
ッド103の下部のモールド樹脂が薄くなり、モールド
部分の絶縁耐圧が低下するという問題があった。また、
可動ピンの痕跡の周囲には樹脂バリが発生し、モールド
樹脂表面が平坦でなくなる。特に、可動ピン112の痕
跡の周囲に発生する樹脂バリによって、ダイパッド10
3の下部のモールド樹脂表面が粗くなる。これは、電力
半導体素子102の放熱のために、ダイパッド103の
下部のモールド樹脂表面とヒートシンクとを接合しよう
とするとき、モールド樹脂とヒートシンクとの間の密着
性を低下させ、放熱の効率を悪くするという問題があっ
た。
【0006】上述の特開平7−74195号公開公報
は、先端が細くなった可動ピンでリードフレームを固定
したり、可動ピンとリードフレームとの間に微小の隙間
を設けたりして樹脂を硬化させ、リードフレームが樹脂
で完全に覆われるように樹脂封止を行う技術を開示して
いる。しかし、樹脂硬化後、可動ピンが引き抜かれた後
に樹脂表面に残る痕跡については言及していない。ま
た、特開平8−192446号公開公報も、可動ピンを
精度良く位置決めしてリードフレームを固定する技術を
開示しているが、可動ピンが引き抜かれた後に樹脂表面
に残る痕跡については言及していない。
【0007】本発明の目的は、絶縁耐圧の高いモールド
部分を備えた電力半導体装置の製造方法を提供すること
である。また、本発明の別の目的は、ヒートシンクとの
接続を阻害しない平坦なモールド樹脂表面を有する電力
半導体装置の製造方法を提供することである。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明に係る第1の半導
体装置製造方法は、半導体素子をモールド成形して半導
体装置を製造する方法である。この方法は、前記の半導
体素子が搭載されたリードフレームの一部を一対の成形
金型で挟持することにより、前記の成形金型によって形
成されるキャビティ内に前記の半導体素子を配置する配
置ステップと、前記のキャビティ内に第1の可動ピンお
よび第2の可動ピンを挿入して、前記の第1の可動ピン
の先端部および前記の第2の可動ピンの先端部を、それ
ぞれ、前記のリードフレームの前記の半導体素子が搭載
された第1の表面および前記のリードフレームの第1の
表面に対向する第2の表面に接触させる挿入ステップ
と、前記のキャビティ内に樹脂を注入する注入ステップ
と、前記の樹脂を硬化させる硬化ステップと、前記の樹
脂が完全に硬化する前に、前記の第1の可動ピンおよび
前記の第2の可動ピンを、それぞれ、前記の挿入ステッ
プにおける挿入経路と同じ経路で、前記のキャビティ内
から引き抜く引き抜きステップとから成る。また、前記
の挿入ステップにおいて、前記の第2の可動ピンを挿入
する方向と前記のリードフレームの第2の表面との間の
角度が、0度以上90度未満である。
【0009】好ましくは、前記の挿入ステップにおい
て、前記の第2の可動ピンを、前記のキャビティ内に、
前記のリードフレームの第2の表面に平行に挿入し、前
記の第2の可動ピンの先端部を、前記のリードフレーム
の第2の表面に接触させる。
【0010】好ましくは、前記の挿入ステップにおい
て、前記の第1の可動ピンを、前記のキャビティ内に、
前記のリードフレームの第1の表面に平行に挿入し、前
記の第1の可動ピンの先端部を、前記のリードフレーム
の第1の表面に接触させる。
【0011】本発明に係る第2の半導体装置製造方法
は、半導体素子をモールド成形して半導体装置を製造す
る方法である。この方法は、前記の半導体素子が搭載さ
れたリードフレームの一部を一対の成形金型で挟持する
ことにより、前記の成形金型によって形成されるキャビ
ティ内に前記の半導体素子を配置する配置ステップと、
前記のキャビティ内に第1の可動ピンおよび第2の可動
ピンを挿入して、前記の第1の可動ピンの先端部および
前記の第2の可動ピンの先端部を、それぞれ、前記のリ
ードフレームの前記の半導体素子が搭載された第1の表
面および前記のリードフレームの第1の表面に対向する
第2の表面に接触させる挿入ステップと、前記のキャビ
ティ内に樹脂を注入する注入ステップと、前記の樹脂を
硬化させる硬化ステップと、前記の樹脂が完全に硬化す
る前に、前記の第1の可動ピンおよび前記の第2の可動
ピンを、前記のキャビティ内から引き抜く引き抜きステ
ップとから成る。また、前記の挿入ステップにおいて、
前記の第1の可動ピンを、前記のキャビティ内に、前記
のリードフレームの第1の表面と接触しないように前記
の第1の表面に平行に挿入し、その後、その第1の可動
ピンを、前記のリードフレーム側に前記のリードフレー
ムの第1の表面に垂直に移動させて、前記の可動ピンの
先端部を、前記の第1の表面に接触させ、前記の挿入ス
テップにおいて、前記の第2の可動ピンを、前記のキャ
ビティ内に、前記の第2の可動ピンの挿入方向と前記の
リードフレームの第2の表面との間の角度が0度以上9
0度未満であるように挿入し、前記の引き抜きステップ
において、前記の第1の可動ピンを、前記の挿入ステッ
プにおいて前記のリードフレームの第1の表面に接触さ
せた位置から、前記の第1の表面に平行に引き抜き、前
記の引き抜きステップにおいて、前記の第2の可動ピン
を、前記の挿入ステップにおける挿入経路と同じ経路
で、前記のキャビティ内から引き抜く。
【0012】本発明に係る第3の半導体装置製造方法
は、半導体素子をモールド成形して半導体装置を製造す
る方法である。この方法は、前記の半導体素子が搭載さ
れたリードフレームの一部を一対の成形金型で挟持する
ことにより、前記の成形金型によって形成されるキャビ
ティ内に前記の半導体素子を配置する配置ステップと、
前記のキャビティ内に第1の可動ピンおよび第2の可動
ピンを挿入して、前記の第1の可動ピンの先端部および
前記の第2の可動ピンの先端部を、それぞれ、前記のリ
ードフレームの前記の半導体素子が搭載された第1の表
面および前記のリードフレームの第1の表面に対向する
第2の表面に接触させる挿入ステップと、前記のキャビ
ティ内に樹脂を注入する注入ステップと、前記の樹脂を
硬化させる硬化ステップと、前記の樹脂が完全に硬化す
る前に、前記の第1の可動ピンおよび前記の第2の可動
ピンを、それぞれ、前記の挿入ステップにおける挿入経
路と同じ経路で、前記のキャビティ内から引き抜く引き
抜きステップとから成る。また、前記の第2の可動ピン
の先端部がL字型であり、前記の挿入ステップにおい
て、前記の第2の可動ピンを、前記のリードフレームの
第1の表面側から、前記のリードフレームと交差しない
ように、前記のリードフレームの第2の表面に垂直に挿
入し、その後、その第2の可動ピンを、前記のリードフ
レーム側に前記の第2の表面に平行に移動させて、前記
のL字型の先端部を前記の第2の表面に接触させる。
【0013】
【発明の実施の形態】以下に、添付の図面を参照して、
本発明の実施の形態について説明する。以下の実施の形
態による電力半導体装置の製造方法は、半導体素子を搭
載したダイパッドを成型金型によって形成されるキャビ
ティ内に配置して樹脂モールド成型を行う方法であっ
て、ダイパッドを固定する可動ピンをキャビティ内に挿
入する、および、キャビティ内から引き抜く工程を含ん
でいる。以下の実施の形態による製造方法は、製造され
た電力半導体装置のモールド樹脂表面において、可動ピ
ンの痕跡(凹部)がダイパッドの下部に残らないよう
に、可動ピンが挿入され、引き抜かれる例を示す。可動
ピンの痕跡は、ダイパッドの下部以外であれば、モール
ド樹脂表面に存在しても、電力半導体装置の絶縁耐圧お
よび熱伝導性に影響を与えることはないので、可動ピン
の挿入および引き抜き位置は、以下の実施の形態に説明
される位置に限られず、ダイパッドの下部以外の任意の
位置であってよい。
【0014】なお、以下の実施の形態においては、樹脂
封止されるリードフレームにおいてリードフレームとモ
ールド樹脂表面との間の距離が最も短い部分(最短距離
部分)を、電力半導体素子が搭載されるダイパッドとし
たが、上述の最短距離部分を、リードフレームにおける
他の部分とする場合には、その他の部分を覆うモールド
樹脂の表面に可動ピンの痕跡が残らないように可動ピン
を動作させるべきである。
【0015】実施の形態1.本実施の形態による電力半
導体装置の製造方法において、電力半導体素子のモール
ド成形は、トランスファーモールド法によって行われ
る。本実施の形態による製造方法においては、電力半導
体素子、および、その電力半導体素子を駆動する制御回
路を、一体的にモールド成形する。図1は、本実施の形
態による電力半導体装置の製造方法を説明する図であ
り、一対の金型(成型金型)によって形成されるキャビ
ティ内の断面図が示される。図1においては、簡単化の
ために、キャビティの外形、電力半導体素子、リードフ
レームおよび可動ピンのみを示し、金型や可動ピンを駆
動させる機構等を省略する。図1を参照すると、本実施
の形態による製造方法においては、電力半導体素子2が
搭載された主端子フレーム4の一部、および、制御回路
(図示されない)が搭載された制御端子フレーム6の一
部を、それぞれ、一対の金型(図示されない)によって
挟持し、キャビティ8内に電力半導体素子2と制御回路
を配置する。特に、主端子フレーム4に注目すると、主
端子フレーム4は、電力半導体素子2が搭載される平坦
部(ダイパッド3)と、そのダイパッド3の一方の端部
に接続されるリード部を備える。そのリード部の一部を
金型で挟持することによって、電力半導体素子2が搭載
されたダイパッド3をキャビティ8内に保持する。
【0016】さらに、キャビティ8内に樹脂を注入する
ときに、高い注入圧によって上述のダイパッド3が変形
したり、その位置がずれないように、キャビティ8内
に、ダイパッド3を固定する可動ピン10および可動ピ
ン12を挿入する。以下に、この可動ピンの動作につい
て説明する。
【0017】図1の(1)は、樹脂注入前のキャビティ
内部の状態を示す断面図である。主端子フレーム4のダ
イパッド3において、リード部が接続された端部に対向
する端部は、2つの可動ピン10および可動ピン12に
よって固定される。図1の(1)において、可動ピン1
0は、上部金型(図示されない)を貫通して、キャビテ
ィ8の上方からキャビティ8内に挿入される。このと
き、可動ピン10は、主端子フレーム4におけるダイパ
ッド3の電力半導体素子2が搭載された面(以下、「第
1の表面」という。)に垂直に挿入される。可動ピン1
0の先端部は、ダイパッド3の端部を押さえるように、
その第1の表面に当接する。可動ピン12は、下部金型
(図示されない)の側壁を貫通して、キャビティの側壁
側からキャビティ8内に挿入される。このとき、可動ピ
ン12は、主端子フレーム4におけるダイパッド3の裏
面(以下、「第2の表面」という。)に平行に挿入され
る(可動ピン12の挿入方向とダイパッド3の第2の表
面との間の角度は0度である)。可動ピン12の先端部
は、第2の表面に接触し、その第2の表面においてダイ
パッド3の端部を支持する。
【0018】キャビティ8内に樹脂が充填された後、そ
の樹脂の硬化を始める。図1の(2)は、樹脂硬化開始
後、樹脂硬化が完了する前のキャビティ内の状態を示す
断面図である。樹脂硬化開始後、可動ピン10および可
動ピン12は、それぞれ、挿入された経路をたどって抜
き取られる。樹脂が完全に硬化する前なので、可動ピン
10や可動ピン12が抜き取られた後の隙間に樹脂が流
れ込む。これにより、主端子フレーム4および制御端子
フレーム6を、樹脂で完全に覆うことができる。可動ピ
ン10および可動ピン12が抜き取られた後、樹脂は、
完全に硬化される。樹脂の硬化が完了した後、金型を取
り外すと、樹脂モールド成形された電力半導体装置が得
られる。
【0019】本実施の形態による製造方法を用いれば、
成形後のモールド樹脂表面における可動ピン12の痕跡
(凹部)は、成形されたモールド部分の側面に残る。よ
って、可動ピン12の痕跡(凹部)が、ダイパッド3の
下部のモールド樹脂表面に残らない。従って、電力半導
体素子2が搭載されたダイパッド3の下部においてモー
ルド樹脂が薄くなることはなく、モールド部分の絶縁耐
圧が維持される。また、可動ピン12の痕跡(凹部)
が、ダイパッド3の下部のモールド樹脂表面に残らない
ので、ダイパッド3の下部においてモールド樹脂表面が
平坦であり、ダイパッド3の下部におけるモールド樹脂
表面とヒートシンクとの良好な接続が実現できる。
【0020】なお、可動ピン10が、上部金型(図示さ
れない)の側壁からキャビティ8内に、ダイパッド3の
第1の表面に平行に挿入されてもよい。その場合、第1
の表面に平行に挿入された可動ピン10の先端部は、第
1の表面に接触して、ダイパッド3の端部を固定する。
【0021】なお、図2に示されるように、可動ピン1
0が、上部金型(図示されない)の側壁からキャビティ
内に、ダイパッド3の第1の表面に平行に挿入されても
よい。その場合、可動ピン10は、第1の表面に平行に
挿入された後(図2の(1))、可動ピン10の先端部
がその第1の表面を押さえるように、ダイパッド3側に
その第1の表面に垂直に移動させられる(図2の
(2))。このように、可動ピン10と可動ピン12と
でダイパッド3を挟むことにより、ダイパッド3が固定
される。電力半導体装置の製造方法におけるその他の工
程は、上述の工程と同様である。可動ピン10および可
動ピン12をキャビティ8内から引き抜く場合は、可動
ピン10および可動ピン12を、それぞれ、ダイパッド
3を固定した位置から、第1の表面および第2の表面に
平行に移動させる(図2の(3))。
【0022】以上のように、可動ピン10を、上部金型
(図示されない)の側壁からキャビティ8内に、ダイパ
ッド3の第1の表面に平行に挿入できれば、可動ピン1
0と可動ピン12を、共にキャビティ8内に挿入する、
および、共にキャビティ8内から引き抜くことが可能と
なり、可動ピン10および可動ピン12を駆動させる機
構を単純化できる。
【0023】以上のように、可動ピン10が、上部金型
(図示されない)の側壁からキャビティ8内に、ダイパ
ッド3の第1の表面に平行に挿入されても、本実施の形
態による効果と同様の効果が得られる。
【0024】なお、本実施の形態による製造方法におい
て、可動ピン10のキャビティ8内への挿入方向は、上
述した方向に限られない。可動ピン10は、ダイパッド
3の下部のモールド樹脂表面に痕跡が残らない限り、他
の任意の方向でキャビティ8内に挿入されてよい。
【0025】実施の形態2.図3は、本発明による実施
の形態2の電力半導体装置の製造方法を説明する図であ
る。本実施の形態による製造方法が、実施の形態1によ
る製造方法と異なる点は、ダイパッド3の第2の表面に
おいてダイパッド3を支持する可動ピン12が、下部金
型(図示されない)の下方からキャビティ8内に、その
第2の表面と約45度の角度をなして挿入され(図3の
(1))、その挿入された経路と同じ経路で、キャビテ
ィ8内から引き抜かれる(図3の(2))点である。
【0026】本実施の形態による製造方法を用いれば、
電力半導体装置の成形後のモールド樹脂表面において、
主端子フレーム4におけるダイパッド3の真下に可動ピ
ン12の痕跡(凹部)が残らない。従って、ダイパッド
3の真下のモールド樹脂が薄くなってモールド部分の絶
縁耐圧が低下したり、ダイパッド3の真下のモールド樹
脂表面に樹脂バリが発生してモールド樹脂とヒートシン
クとの接続が阻害されるといった問題を解決できる。
【0027】なお、本実施の形態による製造方法におい
て、可動ピン12のキャビティ8内への挿入方向とダイ
パッド3の第2の表面との間の角度は約45度とした
が、0度より大きく90度より小さい角度であれば、ダ
イパッド3の真下に可動ピン12の痕跡(凹部)が残る
ことはなく、本実施の形態による効果と同様の効果が得
られる。
【0028】なお、本実施の形態による製造方法におい
て、可動ピン10のキャビティ8内への挿入方向は、ダ
イパッド3の上方からダイパッド3の第1の表面に垂直
な方向に限られない。可動ピン10は、ダイパッド3の
下部のモールド樹脂表面に痕跡が残らない限り、他の任
意の方向でキャビティ8内に挿入されてよい。例えば、
図2に示されるように、可動ピン10が、上部金型(図
示されない)の側壁からキャビティ内に、ダイパッド3
の第1の表面に平行に挿入され、その後、可動ピン10
の先端部がその第1の表面を押さえるように、ダイパッ
ド3側にその第1の表面に垂直に移動させられてもよ
い。
【0029】実施の形態3.図4は、本発明による実施
の形態3の電力半導体装置の製造方法を説明する図であ
る。本実施の形態による製造方法が、実施の形態1によ
る製造方法と異なる点は、ダイパッド3の第2の表面に
おいてダイパッド3を支持する可動ピン12が、上部金
型(図示されない)の上方からキャビティ8内に、ダイ
パッド3の第2の表面に垂直に挿入される点である。可
動ピン10および可動ピン12は、それぞれ、ダイパッ
ド3の第1の表面およびダイパッド3の第2の表面に垂
直に挿入される。可動ピン10の先端は、ダイパッド3
の第1の表面の端部に当接する。可動ピン12の先端
は、ダイパッド3の第2の表面に達する深さまで、主端
子フレーム4と交差しないように、樹脂中を移動する
(図4の(1))。
【0030】ここで、可動ピン12の先端は、L字型に
曲げられている。その可動ピン12の先端の曲げられた
部分は、ダイパッド3の第2の表面に平行であり、可動
ピン12をそのダイパッド3の第2の表面に平行にダイ
パッド3側に移動させることにより、その曲げられた部
分がそのダイパッド3の第2の表面に接触する。その可
動ピン12の曲げられた部分は、ダイパッド3の第2の
表面においてダイパッド3の端部を支持する(図4の
(2))。樹脂がキャビティ8内に充填された後、可動
ピン12は、最初にダイパッド3の第2の表面に垂直に
挿入された位置まで、ダイパッド3の第2の表面に平行
に移動させられる。その後、可動ピン10および可動ピ
ン12は、挿入された経路をたどって、ダイパッド3の
第1の表面およびダイパッド3の第2の表面に垂直に、
キャビティ8内から抜き取られる(図4の(3))。
【0031】本実施の形態による製造方法を用いれば、
電力半導体装置の成形後のモールド樹脂表面において、
ダイパッド3の下部に可動ピン12の痕跡(凹部)が残
らない。従って、ダイパッド3の下部のモールド樹脂が
薄くなってモールド部分の絶縁耐圧が低下したり、ダイ
パッド3の下部に樹脂バリが発生してモールド樹脂とヒ
ートシンクとの接続が阻害されるといった問題を解決で
きる。
【0032】なお、本実施の形態による製造方法におい
て、可動ピン10のキャビティ8内への挿入方向は、ダ
イパッド3の上方からダイパッド3の第1の表面に垂直
な方向に限られない。可動ピン10は、ダイパッド3の
下部のモールド樹脂表面に痕跡が残らない限り、他の任
意の方向でキャビティ8内に挿入されてよい。
【0033】なお、実施の形態1から実施の形態3に述
べられた電力半導体装置の製造方法において、可動ピン
10および可動ピン12のキャビティ8内への挿入方向
は、上述した方向に限られない。可動ピン10および可
動ピン12は、ダイパッド3の下部のモールド樹脂表面
に痕跡が残らない限り、他の任意の方向でキャビティ8
内に挿入されてよい。
【0034】
【発明の効果】本発明による電力半導体装置の製造方法
によれば、電力半導体装置のモールド樹脂表面におい
て、リードフレームのダイパッドの下部に可動ピンの痕
跡が残らない。よって、そのダイパッドの下部のモール
ド樹脂において、絶縁耐圧が低下することを防止でき
る。
【0035】本発明による電力半導体装置の製造方法に
よれば、電力半導体装置のモールド樹脂表面において、
リードフレームのダイパッドの下部に可動ピンの痕跡が
残らない。これにより、モールド樹脂表面に樹脂バリが
発生しないので、ダイパッドの下部のモールド樹脂とヒ
ートシンクとの接続を容易に達成できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の実施の形態1による電力半導体装置
の製造方法を説明する図。
【図2】 本発明の実施の形態1による別の電力半導体
装置の製造方法を説明する図。
【図3】 本発明の実施の形態2による電力半導体装置
の製造方法を説明する図。
【図4】 本発明の実施の形態3による電力半導体装置
の製造方法を説明する図。
【図5】 従来の電力半導体装置の製造方法を説明する
図。
【符号の説明】
2 電力半導体素子、 3 ダイパッド、 4 主端子
フレーム、 6 制御端子フレーム、 8 キャビテ
ィ、 10、12 可動ピン

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 半導体素子をモールド成形して半導体装
    置を製造する方法であって、 前記半導体素子が搭載されたリードフレームの一部を一
    対の成形金型で挟持することにより、前記成形金型によ
    って形成されるキャビティ内に前記半導体素子を配置す
    る配置ステップと、 前記キャビティ内に第1の可動ピンおよび第2の可動ピ
    ンを挿入して、前記第1の可動ピンの先端部および前記
    第2の可動ピンの先端部を、それぞれ、前記リードフレ
    ームの前記半導体素子が搭載された第1の表面および前
    記リードフレームの第1の表面に対向する第2の表面に
    接触させる挿入ステップと、 前記キャビティ内に樹脂を注入する注入ステップと、 前記樹脂を硬化させる硬化ステップと、 前記樹脂が完全に硬化する前に、前記第1の可動ピンお
    よび前記第2の可動ピンを、それぞれ、前記挿入ステッ
    プにおける挿入経路と同じ経路で、前記キャビティ内か
    ら引き抜く引き抜きステップとから成り、 前記挿入ステップにおいて、前記第2の可動ピンを挿入
    する方向と前記リードフレームの第2の表面との間の角
    度が、0度以上90度未満であることを特徴とする半導
    体装置製造方法。
  2. 【請求項2】 前記挿入ステップにおいて、前記第2の
    可動ピンを、前記キャビティ内に、前記リードフレーム
    の第2の表面に平行に挿入し、前記第2の可動ピンの先
    端部を、前記リードフレームの第2の表面に接触させる
    ことを特徴とする請求項1に記載の半導体装置製造方
    法。
  3. 【請求項3】 前記挿入ステップにおいて、前記第1の
    可動ピンを、前記キャビティ内に、前記リードフレーム
    の第1の表面に平行に挿入し、前記第1の可動ピンの先
    端部を、前記リードフレームの第1の表面に接触させる
    ことを特徴とする請求項1または請求項2に記載の半導
    体装置製造方法。
  4. 【請求項4】 半導体素子をモールド成形して半導体装
    置を製造する方法であって、 前記半導体素子が搭載されたリードフレームの一部を一
    対の成形金型で挟持することにより、前記成形金型によ
    って形成されるキャビティ内に前記半導体素子を配置す
    る配置ステップと、 前記キャビティ内に第1の可動ピンおよび第2の可動ピ
    ンを挿入して、前記第1の可動ピンの先端部および前記
    第2の可動ピンの先端部を、それぞれ、前記リードフレ
    ームの前記半導体素子が搭載された第1の表面および前
    記リードフレームの第1の表面に対向する第2の表面に
    接触させる挿入ステップと、 前記キャビティ内に樹脂を注入する注入ステップと、 前記樹脂を硬化させる硬化ステップと、 前記樹脂が完全に硬化する前に、前記第1の可動ピンお
    よび前記第2の可動ピンを、前記キャビティ内から引き
    抜く引き抜きステップとから成り、 前記挿入ステップにおいて、前記第1の可動ピンを、前
    記キャビティ内に、前記リードフレームの第1の表面と
    接触しないように前記第1の表面に平行に挿入し、その
    後、その第1の可動ピンを、前記リードフレーム側に前
    記リードフレームの第1の表面に垂直に移動させて、前
    記可動ピンの先端部を、前記第1の表面に接触させ、 前記挿入ステップにおいて、前記第2の可動ピンを、前
    記キャビティ内に、前記第2の可動ピンの挿入方向と前
    記リードフレームの第2の表面との間の角度が0度以上
    90度未満であるように挿入し、 前記引き抜きステップにおいて、前記第1の可動ピン
    を、前記挿入ステップにおいて前記リードフレームの第
    1の表面に接触させた位置から、前記第1の表面に平行
    に引き抜き、 前記引き抜きステップにおいて、前記第2の可動ピン
    を、前記挿入ステップにおける挿入経路と同じ経路で、
    前記キャビティ内から引き抜くことを特徴とする半導体
    装置製造方法。
  5. 【請求項5】 半導体素子をモールド成形して半導体装
    置を製造する方法であって、 前記半導体素子が搭載されたリードフレームの一部を一
    対の成形金型で挟持することにより、前記成形金型によ
    って形成されるキャビティ内に前記半導体素子を配置す
    る配置ステップと、 前記キャビティ内に第1の可動ピンおよび第2の可動ピ
    ンを挿入して、前記第1の可動ピンの先端部および前記
    第2の可動ピンの先端部を、それぞれ、前記リードフレ
    ームの前記半導体素子が搭載された第1の表面および前
    記リードフレームの第1の表面に対向する第2の表面に
    接触させる挿入ステップと、 前記キャビティ内に樹脂を注入する注入ステップと、 前記樹脂を硬化させる硬化ステップと、 前記樹脂が完全に硬化する前に、前記第1の可動ピンお
    よび前記第2の可動ピンを、それぞれ、前記挿入ステッ
    プにおける挿入経路と同じ経路で、前記キャビティ内か
    ら引き抜く引き抜きステップとから成り、 前記第2の可動ピンの先端部がL字型であり、 前記挿入ステップにおいて、前記第2の可動ピンを、前
    記リードフレームの第1の表面側から、前記リードフレ
    ームと交差しないように、前記リードフレームの第2の
    表面に垂直に挿入し、その後、その第2の可動ピンを、
    前記リードフレーム側に前記第2の表面に平行に移動さ
    せて、前記L字型の先端部を前記第2の表面に接触させ
    ることを特徴とする半導体装置製造方法。
JP2002112317A 2002-04-15 2002-04-15 電力半導体装置の製造方法 Expired - Fee Related JP3733341B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2002112317A JP3733341B2 (ja) 2002-04-15 2002-04-15 電力半導体装置の製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2002112317A JP3733341B2 (ja) 2002-04-15 2002-04-15 電力半導体装置の製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2003309136A true JP2003309136A (ja) 2003-10-31
JP3733341B2 JP3733341B2 (ja) 2006-01-11

Family

ID=29394859

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2002112317A Expired - Fee Related JP3733341B2 (ja) 2002-04-15 2002-04-15 電力半導体装置の製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3733341B2 (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013157578A (ja) * 2012-02-01 2013-08-15 Mitsubishi Electric Corp 電力用半導体装置および電力用半導体装置の製造方法
CN105359262A (zh) * 2013-07-04 2016-02-24 三菱电机株式会社 半导体装置的制造方法、半导体装置
WO2019038857A1 (ja) * 2017-08-23 2019-02-28 三菱電機株式会社 半導体装置の製造方法

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013157578A (ja) * 2012-02-01 2013-08-15 Mitsubishi Electric Corp 電力用半導体装置および電力用半導体装置の製造方法
CN105359262A (zh) * 2013-07-04 2016-02-24 三菱电机株式会社 半导体装置的制造方法、半导体装置
WO2019038857A1 (ja) * 2017-08-23 2019-02-28 三菱電機株式会社 半導体装置の製造方法
JPWO2019038857A1 (ja) * 2017-08-23 2020-01-09 三菱電機株式会社 半導体装置の製造方法
KR20200029009A (ko) * 2017-08-23 2020-03-17 미쓰비시덴키 가부시키가이샤 반도체 장치의 제조 방법
CN110998812A (zh) * 2017-08-23 2020-04-10 三菱电机株式会社 半导体装置的制造方法
KR102321556B1 (ko) 2017-08-23 2021-11-03 미쓰비시덴키 가부시키가이샤 반도체 장치의 제조 방법
DE112017007957B4 (de) 2017-08-23 2023-01-26 Mitsubishi Electric Corporation Verfahren zum Herstellen einer Halbleitervorrichtung
CN110998812B (zh) * 2017-08-23 2023-08-18 三菱电机株式会社 半导体装置的制造方法

Also Published As

Publication number Publication date
JP3733341B2 (ja) 2006-01-11

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2927660B2 (ja) 樹脂封止型半導体装置の製造方法
US7604765B2 (en) Electronic circuit device and manufacturing method of the same
US5970323A (en) Injection of encapsulating material on an optocomponent
JPH10116962A (ja) 半導体装置とその製造方法
JP2008277470A (ja) 半導体パッケージの製造方法及び製造装置
JP2003309136A (ja) 電力半導体装置の製造方法
JP3994683B2 (ja) メモリーカードの製造方法
JP2009152507A (ja) 樹脂封止金型および半導体パッケージの樹脂封止成形方法
JP2001196532A (ja) 半導体装置
JP3265079B2 (ja) 表面実装型水晶振動子
JP2011187819A (ja) 樹脂封止型パワーモジュールおよびその製造方法
JP2000025069A (ja) インサート樹脂成形回路基板の製造方法
JPH02184040A (ja) 半導体装置の製造方法
JP4107306B2 (ja) 半導体素子製造装置
JP2759523B2 (ja) 半導体装置の製造方法
JP4151682B2 (ja) 半導体素子の製造方法
JP3808746B2 (ja) 樹脂パッケージ型半導体装置の製造方法
JP2003174053A (ja) 半導体素子の製造方法及び製造装置
JP2858690B2 (ja) 樹脂封止型電子部品の製造方法
JP2596995B2 (ja) 半導体装置の製造方法
JP2009194057A (ja) 半導体装置およびその製造方法、並びに、電子機器
JP3304181B2 (ja) 絶縁型樹脂封止半導体装置およびその製造方法
JPH11260845A (ja) 射出成形金型と圧電振動子及びその製造方法
JPS63211638A (ja) 樹脂封止型半導体装置の製造方法
JPH11330116A (ja) 半導体装置の製造方法、それに使用されるリードフレーム及び成型用金型

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Effective date: 20040714

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20050322

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20050405

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20050603

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20050712

A521 Written amendment

Effective date: 20050912

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20051011

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Effective date: 20051017

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

R150 Certificate of patent (=grant) or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Year of fee payment: 4

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091021

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees