JP2003282669A - 基板の搬送方法及びその装置 - Google Patents

基板の搬送方法及びその装置

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Abstract

(57)【要約】 （修正有） 【課題】 ベイ内での各処理装置ごとにウエハの処理が
異なる場合でも、ウエハの搬送、及びウエハ搬送手段と
各処理装置とのウエハの取合いが、これに律速されるの
を防止でき、スループットの低下を防ぐことができる枚
葉搬送方法及びその装置を提供する。 【解決手段】 各ベイ１００、２００、３００……は、
各々がベイストッカー１３０、２３０、３３０……を介
し、ベイ間搬送ライン４００に接続されている。ベイ１
００は、ループ状の枚葉搬送ライン１２０と、ベイ間搬
送ライン４００の搬送方向と交差する方向に沿って配
置、並設された処理装置１０１〜１０６で構成されてい
る。処理装置１０１〜１０３は、枚葉搬送ライン１２０
の一方側に隣接して配置、並設され、処理装置１０４〜
１０６は、その他方側に隣接して配置、並設されてい
る。また処理装置１０１〜１０６は搬送ロボット１１〜
１６およびウエハＷを枚葉で処理するチャンバー（図示
省略）を備えている。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体基板、液晶
基板または部品基板などの基板（以下、ウエハとい
う。）を処理する装置間において、ウエハを一枚毎搬送
（枚葉搬送）するのに好適な枚葉搬送方法及びその装置
に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】ウエハを処理する装置間でウエハを枚葉
搬送する従来技術として、例えば、野崎勝弘「特集 LSI
ラインの生産技術革命」、NIKKEI MICRODEVICES 1993年
8月号、25-32頁に記載の技術が挙げられる。この従来技
術は、特につぎのようなことを開示している。 １．枚葉式処理装置やクラスタツールを効率的に利用で
きる自動化ライン。 ２．ベイ内搬送を枚葉化して多品種変量生産を可能にす
る生産ラインの構想。 ３．枚葉搬送で品種や生産量を可変にできる。 ４．枚葉処理装置との組合わせでウエハの仕掛り枚数を
削減できる。 ５．ベイ間はロット搬送を使用する。 ６．量産開始時点では１台のクラスタツールに異なるプ
ロセス処理チャンバをつなぐ。 装置台数が少なければ生産能力も低く抑えられる。単独
のクラスタツールでも同一の処理チャンバを複数接続し
たり、複数のプロセスの処理ができるモジュールを付加
して処理能力をアナログ的に増やしていく。
【０００３】さらに、次のことが図示されている。平面
形状が変形Ｕ字形のウエハ搬送システムの両サイドにマ
ルチプロセス装置が複数台配置され、ベイが構成されて
いる。つまり、ベイ内のＵ字形のウエハ搬送システムの
二列の平行搬送ラインにそれぞれ沿ってマルチプロセス
装置が複数台配置されている。ウエハ搬送システムには
数ヶ所、ロボットを持ったシャトルが設けられている。
この搬送ラインとそれぞれの処理装置の間にはＩ／Ｏが
設けられている。また、このようなベイ間でのウエハの
搬送にはロット搬送システムが採用されている。
【０００４】図1に第２の従来技術を示す。図２は、半
導体産業新聞2001年12月5日に掲載されたものである。
これは、ＩＴＲＳ（International Technology Roadmap
for Semiconductors）が示したウエハ枚葉生産システ
ムのモジュールオートメーション例である。工程間は、
ＦＯＵＰを採用した２５枚単位搬送で、工程内をウエハ
枚葉単位でダイレクト搬送している。図の黒い丸がウエ
ハを表しており、プロセス装置内やプロセス装置間をウ
エハ単位で処理や搬送が行われる。このシステムによれ
ば、ウエハ枚葉単位での処理やダイレクト搬送により、
従来のＦＯＵＰ搬送による２５枚までのウエハの待ち時
間がゼロとなり、ＦＯＵＰオープナーやＥＦＥＭといっ
た付属装置が不要となる。尚、このような事例は、例え
ば、林 武秀、「システムＬＳＩ製造は”俊敏さ“が命
枚葉生産・搬送でＴＡＴを大幅短縮」、Electronic
Journal 2002年2月号、PP95〜99にも同様に開示されて
いる。
【０００５】図２に第３の従来技術例を示す。図２で、
被処理基板に対してレジスト塗布および露光後の現像を
行うとともに、現像後の被処理基板をエッチングするた
めの一連の処理を行う複数の処理ユニットを搬送路の両
側に配置した処理部と、搬送路に沿って移動し、各処理
ユニットとの間で基板の受渡しを行う主搬送装置と、主
搬送装置に対して被処理基板を受渡しする搬送機構を有
する搬入出部とを備え、これが処理部の各処理ユニット
および搬送路ならびに搬入出部が一体的に設けられてい
る。
【０００６】図３に第４の従来技術例を示す。図３で、
例えば液晶ディスプレイ（Liquid Crystal Display : L
CD）に使われるTFTアレイが形成されるガラス基板を搬
送する搬送装置が走行する搬送路に沿って、ガラス基板
の一のレイヤを形成するためのエッチング装置、第１の
検査装置、レジスト剥離装置、基板待機用のバッファ、
洗浄装置、成膜装置、第２の検査装置を配置し、搬送路
の一端に基板搬入部を配置し、搬送路の他端に基板搬出
部には、カセットを多段に収容し、かつ搬送装置が各カ
セットに対してアクセス可能となるように棚が昇降する
昇降機構を設けた。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】上記の従来技術では、
ベイの構成はそれぞれ異なるものの、ウエハ、ウエハ、
被処理基板、ガラス基板をそれぞれのベイ内で搬送する
ためのウエハ搬送システム、ウエハ枚葉ダイレクト搬送
システム、搬送路が、いずれの場合でも共通して単一体
であるため、依然として次のような解決しなければなら
ない課題を有している。 １．ベイ内でのウエハの搬送及びウエハの搬送手段と各
処理装置とのウエハの取合いが、各処理装置でのウエハ
の処理時間（並びに処理装置内でのウエハ搬送時間）の
中で最も長い時間に律速される。このため、ベイ内での
ウエハの搬送及び各処理装置とのウエハの取合いに待ち
時間が生じ、ベイ内でのスループットが低下する。この
ようなことは、上記従来技術例の、特に図１から図３に
示した第２から第４の従来技術例のように、各処理装置
ごとでウエハの処理が異なる場合においては顕著に生じ
る。 ２．例えば、２個のＦＯＵＰ内のウエハの処理内容が、
ＦＯＵＰごとに異なっている場合、例えば、一方のＦＯ
ＵＰ内のウエハがプラズマエッチング処理、他方のＦＯ
ＵＰ内のウエハがプラズマＣＶＤ処理のように異なって
いる場合、それらの処理に処理時間の長短が存在する。
このため、ベイ内でのウエハの搬送、及びウエハの搬送
手段と各処理装置とのウエハの取合いが処理時間の長
い、この場合、プラズマＣＶＤ処理に律速される。この
ため、ベイ内でのウエハ、特にプラズマエッチング処理
されるウエハの搬送及び各エッチング装置とのウエハの
取合いに待ち時間が生じ、ベイ内でのスループットが低
下する。 ３．ベイ内での各処理装置でのウエハの処理が同一（例
えば、処理内容、条件等）であったとしても、ベイ内搬
送手段でのウエハの搬送時間と、各処理装置での処理時
間＋処理装置内でのウエハの搬送時間とが異なるため、
ベイ内搬送手段と各処理装置とのウエハの取合い、及び
ベイ内でのウエハの搬送に混乱が生じる危険性があり、
これによってベイ内でのスループットの低下が懸念され
る。 ４．処理時間が長いウエハと処理時間が短いウエハとが
ベイ内搬送ラインに混在する場合、処理時間が短いウエ
ハはその処理が終了しても、搬送ラインでその前にある
処理時間が長いウエハの処理が終っていないために、処
理装置から搬送ラインへ、そして、搬送ラインでの次の
処理装置への搬送が出来ない。つまり、待ち時間が生じ
ることになる。このような従来技術では、処理時間の短
いウエハと処理時間の長いウエハとの搬送ラインの使い
分けをするといった認識がない。従って、このような従
来技術では、搬送時間は処理時間の長い方に律速される
ことになる。そのため処理時間も遅くなり、全体のスピ
ードが低下する、ひいてはベイ全体のスループットが低
下する。 ５．多品種少量生産の場合、一つのウエハ搬送ラインで
特急を要するウエハがきた場合、その前に通常の処理の
ウエハを有するロボットを持ったシャトルがあると、こ
れが邪魔になり指定された装置に直ちに移動できない。
このため特急を要するウエハにとって待ち時間が生じ
る。このため結果として、このウエハの処理に時間がか
かり多品種少量生産に対応できずスループットが低下す
る。 ６．ウエハ搬送ラインのロボットを持っているシャトル
が、例えば、一つ故障するとベイ内の搬送ラインがスト
ップし、ウエハをマルチプロセス装置に運ぶことが出来
なくなる。そのためウエハをマルチプロセス装置で処理
することが出来ず、ベイ内の各ウエハの処理がストップ
する。また、このベイ内の搬送ライン、各マルチプロセ
ス装置のストップにより、このベイから他のベイへのウ
エハの搬送が出来なくなり、この他のベイでのウエハ処
理もストップする。ひいては関連するベイでのウエハ処
理が全てストップする。 本発明は、上記の問題点を解決し、次のような目的を達
成しようとするものである。
【０００８】本発明の第一の目的は、ベイ内での各処理
装置ごとにウエハの処理が異なる場合でも、ベイ内での
ウエハの搬送、及びウエハ搬送手段と各処理装置とのウ
エハの取合いが、これに律速されるのを防止でき、これ
によってスループットの低下を防ぐことができる枚葉搬
送方法及びその装置を提供することにある。また、本発
明の第二の目的は、ウエハの処理内容が、ウエハを保持
する手段ごとに異なっている場合でも、ベイ内でのウエ
ハの搬送、及びウエハ搬送手段と各処理装置とのウエハ
の取合いが、これに律速されるのを防止でき、これによ
ってスループットの低下を防ぐことができる枚葉搬送手
段及びその装置を提供することにある。また、本発明の
第三の目的は、ベイ内でのウエハの処理が同一の場合に
生じる危険性があるベイ内搬送手段と各処理装置とのウ
エハの取合い、及びベイ内でのウエハの搬送の混乱を防
止でき、これによってベイ内でのスループットの低下を
防ぐことができる枚葉搬送方法及びその装置を提供する
ことにある。
【０００９】本発明の第四の目的は、処理時間の違うウ
エハが混在した場合でも、処理時間の短いウエハと処理
時間の長いウエハとの使い分けができ、スループットの
低下を防ぐ枚葉搬送方法及びその装置を提供することに
ある。また、本発明の第五の目的は、多品種少量生産の
場合、特急を要するウエハがきた場合でも、そのウエハ
の処理に時間がかかるのを防止でき、スループットの低
下を防ぐ枚葉搬送方法及びその装置を提供することにあ
る。本発明の第六の目的は、ウエハ搬送ラインが故障し
てもベイ内処理や他のベイでの処理がストップするのを
防止できる枚葉搬送方法及びその装置を提供することに
ある。
【００１０】
【課題を解決するための手段】第一〜第三の目的は、ベ
イ内に少なくとももう一つ別の搬送ラインを並搬送可能
に設けることによって達成することができる。つまり、
ベイ内の各処理装置ごとにウエハの処理が異なる場合で
も、並搬送可能な複数のベイ内搬送ラインを使い分ける
ことで、ベイ内でのウエハの搬送及びウエハ搬送手段と
各処理装置とのウエハの取合いが各処理装置ごとにウエ
ハの処理が異なることで律速されるのを抑制できる。ま
た、ウエハの処理内容が、ウエハを保持する手段ごとに
異なっている場合でも、これらに対応してベイ内搬送ラ
インの並搬送可能な搬送ラインを使い分けることで、そ
れぞれのウエハ保持手段に収納されているウエハの処理
内容に対応して、ベイ内でのウエハの搬送及びウエハ搬
送手段と各処理装置とのウエハの取合いをスムーズに実
施することができる。さらに、ベイ内搬送ラインの並搬
送可能な搬送ラインを使い分けることで、ベイ内でのウ
エハの処理が同一の場合に生じる危険性があるベイ内搬
送手段と各処理装置とのウエハの取合い、及びベイ内で
のウエハの搬送の混乱を防止することができる。
【００１１】第四の目的は、ベイ内搬送ラインの並搬送
可能な搬送ラインとして、ウエハ普通搬送ラインに他の
ウエハ特急搬送ラインを設けることによって達成するこ
とが出来る。ここで、ウエハ普通搬送ラインとは、処理
装置での処理時間の長いウエハを枚葉搬送する搬送ライ
ンのことを示す。ウエハ特急搬送ラインとは、処理装置
での処理時間の短いウエハを枚葉搬送する搬送ラインを
示す。つまり、処理時間の短いウエハと処理時間の長い
ウエハが混在した場合、処理時間の短いウエハはウエハ
特急搬送ラインとし、処理時間の長いウエハはウエハ普
通搬送ラインを使用するという使い分けによって達成す
ることが出来る。尚、処理速度の長短とは、定量的なも
のでなく、例えば、あるウエハの処理速度と他のウエハ
の処理速度の比較、また、あるウエハ収容手段に収容さ
れているウエハの処理速度と他のウエハ収容手段に収容
されている他のウエハの処理速度との比較によって決め
られるものである。このような処理速度の差異が制御装
置により比較演算され、この結果に基づいてウエハ普通
搬送ラインを使用するか、ウエハ特急搬送ラインを使用
するかが選択される。
【００１２】第五の目的は、ベイ内にスキップ対応の別
の枚葉搬送ラインを設けることで達成することが出来
る。つまり、多品種少量生産の場合、特急を要するウエ
ハがきた場合に、指定された装置にスキップラインを使
うことによって移動することが出来る。第六の目的に対
して、ベイ内に別の枚葉搬送のラインを設けることによ
って達成することが出来る。つまり、ベイ内の枚葉搬送
ラインが何らかの原因で故障した場合、その故障が直ち
に検知され別の枚葉搬送ラインが作動を開始する。これ
によりベイ内のウエハはその搬送を停止されることがな
い。従って各処理装置での処理を停止することなく継続
して処理、搬送され、ベイ内での全ての作業がスムーズ
に実施される。さらに、このようにベイ内のウエハの搬
送・処理がストップされることがないので、他の関係す
るベイでもウエハの搬送・処理を全てストップさせずに
実施することが出来る。
【００１３】
【発明の実施の形態】以下、本発明にかかる実施例を図
面に基づいて説明する。図４から図１７までは、本発明
の一実施例を示す。図４で、複数のベイ１００、２０
０、３００……を有する半導体製造ラインを部分的に示
す。各ベイ１００、２００、３００……は、各々がベイ
ストッカー１３０、２３０、３３０……を介し、ベイ間
搬送ライン４００に接続されている。以下、図４で、ベ
イ１００を代表例にとりその構成・作用を詳細に説明す
る。尚、他のベイ２００、３００……は、それらの構成
・作用が、ベイ１００のそれと略同じであるため、説明
を省略する。図４で、ベイ１００は、この場合、平面形
状がループ状の枚葉搬送ライン１２０と、それの長手搬
送方向（ベイ間搬送ライン４００の搬送方向と交差する
方向）に沿って配置、並設された処理装置１０１〜１０
６で構成されている。この場合、処理装置１０１〜１０
３は、枚葉搬送ライン１２０の一方側に一台毎それぞれ
隣接して配置、並設されている。また、残りの処理装置
１０４〜１０６は、その他方側に一台毎それぞれ隣接し
て配置、並設されている。処理装置１０１〜１０６は搬
送ロボット１１〜１６をそれぞれ備えている。尚、処理
装置１０１〜１０６はウエハＷを一枚毎、つまり枚葉で
処理するチャンバー（図示省略）を備えている。この例
では、処理装置を６台用い配置しているが、この台数に
は、特に限定されない。枚葉搬送ライン１２０に沿って
配置される装置の種類、台数及び装置配列は、先に従来
技術例で示したようにウエハＷのプロセス・フローによ
って選択、決定される。
【００１４】図４で、枚葉搬送ライン１２０は、ウエハ
Ｗを枚葉搬送する搬送ライン１２１と、この搬送ライン
１２１と並搬送可能に設けられウエハＷを枚葉搬送する
他の搬送ライン１２２との組合わせで構成されている。
この場合、各搬送ラインは上下の位置関係にあり、搬送
ライン１２１が下側位置、搬送ライン１２２は上側位置
にセットされた構造になっている。この場合、搬送ライ
ン１２２は、搬送ライン１２１のウエハ搬送面と相対す
るウエハ搬送面を有している。更に、この場合、搬送ラ
イン１２１は、略水平面のウエハ搬送面を有し、搬送ラ
イン１２２は、搬送ライン１２１のウエハ搬送面と上下
方向に相対する略水平面のウエハ搬送面を有する。つま
り、搬送ライン１２１、１２２は、ウエハＷを水平面保
持して搬送するようになっている。以下の説明では、搬
送ライン１２１、１２２のそれぞれのウエハ搬送面が、
上下方向に相対する例につき説明するが、しかし、この
関係は、これに特に限定されない。例えば、搬送ライン
１２１、１２２両方のウエハ搬送面が、左右方向に相対
するようになっていても良い。この場合、搬送ライン１
２１、１２２でウエハＷは、それらの構造上、被処理面
縦型姿勢でそれぞれ搬送されることになる。尚、各処理
装置とのウエハＷの受け渡しは、縦型姿勢から姿勢変換
して被処理面水平姿勢で実施するように構成しても、ま
た、そのままの姿勢で実施するようにしても、本発明を
実施する上で、特に問題を生じない。
【００１５】さらに、図４で、処理装置１０１〜１０６
の搬送ロボット１１〜１６と搬送ライン１２１、１２２
との間でウエハＷを１枚、つまり、枚葉で受渡し可能と
なっている。さらに、ベイストッカー１３０のストッカ
ー（図示省略）と搬送ライン１２１、１２２との間でウ
エハＷを受渡し可能となっている。図４で、ベイ１０
０、２００、３００……間でのウエハの搬送は、ベイス
トッカー１３０、２３０、３３０……を利用しベイ間搬
送ライン４００で実施される。
【００１６】図５、図６は、枚葉搬送ライン１２０の詳
細構造を示す。図５は、枚葉搬送ライン１２０のベイス
トッカー１３０とは反対側の部分の斜視外観図である。
図６は、図５のＩ−Ｉ視断面図である。図６で、搬送ラ
イン１２１は移動体１２１ａとウエハ保持台１２１ｂを
備えている。ウエハ保持台１２１ｂは移動体１２１ａに
設けられている。ウエハ保持台１２１ｂは、その上表面
をウエハ保持面とし、その上にウエハＷを１枚保持する
ようになっている。ウエハＷは水平姿勢でそのウエハ保
持台１２１ｂの上表面にコンタクトして置かれる。搬送
ライン１２２は移動体１２２ａとウエハ保持具１２２ｂ
を備えている。ウエハ保持具１２２ｂは、移動体１２２
ａに設けられている。ウエハ保持具１２２ｂは、ウエハ
Ｗを水平姿勢で１枚保持するようになっている。図６で
ウエハ保持台１２１ｂのウエハ載置面とウエハ保持具１
２２ｂとウエハ保持部との間隔Ｈは各処理処置の構造に
より決定される。これについては後述する。
【００１７】図７で、例えば、移動体１２１ａには、非
接触移動体、この場合、リニアレール１２１ａ−１とリ
ニア台車１２１ａ−２とでなるリニア移動体が用いられ
る。ウエハ保持台１２１ｂは、移動体１２１ａのリニア
台車１２１ａ−２に設けられている。ウエハ保持台１２
１ｂは、その上表面をウエハ保持面とし、その上にウエ
ハＷを１枚保持するようになっている。ウエハＷは水平
姿勢でそのウエハ保持台１２１ｂの上表面にコンタクト
して置かれる。図７で、移動体１２２ａには、非接触移
動体、この場合、リニアレール１２２ａ−１とリニア台
車１２２ａ−２とでなるリニア移動体が用いられる。ウ
エハ保持具１２２ｂは、移動体１２２ａのリニア台車１
２２ａ−２に設けられている。ウエハ保持具１２２ｂ
は、ウエハＷの外周部であって、その裏面部分をコンタ
クトして、この場合、１枚保持するようになっている。
【００１８】次に、搬送ライン１２１から搬送ライン１
２２へウエハＷの受渡しをする場合につき説明する。図
７で、まず、搬送ライン１２１のウエハ保持台１２１ｂ
にウエハＷが１枚載置保持されている。一方、搬送ライ
ン１２２のウエハ保持具１２２ｂはウエハを保持してい
ない状態である。この状態でウエハ保持台１２１ｂとウ
エハ保持具１２２ｂの位置関係がウエハの受渡し可能な
位置関係に調整される。次ぎに、ウエハ保持台１２１ｂ
のウエハＷがウエハ保持具１２２ｂに向って上昇（矢印
６００）させられる。その上昇は、ウエハ保持具１２２
ｂでウエハを受取り可能な位置に達した時点で停止され
る。この前に図１０に示すように、ウエハ保持具１２２
ｂは半径方向に開いた状態（矢印６０２）になってい
る。ウエハＷが、その部位に来た時点で開いているウエ
ハ保持具１２２ｂが半径方向に閉じられる（矢印６０
２）。それによってウエハＷはその外周裏面部をウエハ
保持具１２２ｂのすくい部によってすくわれて受取られ
る。その後、ウエハＷを上昇させた部材（図示省略）は
下降させられて、例えば、ウエハ保持台１２１ｂ内に収
納される。
【００１９】図８に搬送ライン１２１の部分平面図を示
す。図８で、枚葉搬送ラインに沿ってその底面にリニア
レール１２１ａ−１が設けられている。リニアレール１
２１ａ−１には、この場合３個のリニア台車が走行可能
（矢印６０３）にそれぞれ設けられている。それぞれの
リニア台車１２１ａ−２には、ウエハ保持台１２１ｂが
１個設けられている。図８で、リニア台車１２１ａ−２
の平面形状は、例えば、矩形となっている。ウエハ保持
台１２１ｂの形状は、例えば、略円形である。このウエ
ハ保持台１２１ｂの大きさは、ウエハの大きさによって
選択される。例えば、ウエハの直径が８インチ、１２イ
ンチ、１４インチ……と変わって行く場合は、このウエ
ハの直径によってウエハ保持台１２１ｂの大きさもそれ
に応じて変わる。リニア台車１２１ａ−２には前後の間
隔を検知するセンサー（図示省略）がそれぞれ備えられ
ている。これらのセンサーは、制御装置（図示省略）に
それぞれ接続されている。また、リニア台車１２１ａ−
２またはウエハ保持台１２１ｂには、センサー（図示省
略）が設けられている。このセンサーは、ウエハの有無
とウエハ情報を検知する機能を有する。このセンサー
は、制御装置（図示省略）に接続されている。このセン
サーは、一つのセンサーが、ウエハの有無検知とウエハ
情報検知の両方の検知機能を有しても良い。また、別々
の機能を有しても良い。さらに、リニア台車１２１ａ−
２は、搬送ライン１２１における自身の位置情報を確認
するためのセンサー（図示省略）をそれぞれ備えてい
る。このセンサーは、制御装置（図示省略）に接続され
ている。例えば、このセンサーは、所定の処理装置に対
応した位置にリニア台車１２１ａ−２が来たかどうかを
検知する機能を有する。尚、このような検知機能を有す
るセンサーをそれぞれの処理装置が備えても良いし、ま
た、それぞれのリニア台車、処理装置の双方で備えても
良い。
【００２０】図９に搬送ライン１２２の部分平面図を示
す。図９で、枚葉搬送ラインに沿ってその底面にリニア
レール１２２ａ−１が設けられている。リニアレール１
２２ａ−１には、この場合、３個のリニア台車１２２ａ
−２が走行可能（矢印６０４）にそれぞれ設けられてい
る。それぞれのリニア台車１２２ａ−２には、ウエハ保
持具１２２ｂが設けられている。例えば、図１０に示す
ようにウエハ保持具１２２ｂは、３個のすくい部１２２
ｂ−１を有している。このすくい部１２２ｂ−１は円周
上、１２０°間隔で配置されており、ウエハＷの外周部
分に位置する。このウエハ保持具１２２ｂはウエハＷの
受取りのためにウエハの半径方向（矢印６０２）に開閉
することができる。
【００２１】図９で、リニア台車１２２ａ−２の平面形
状は、例えば、矩形となっている。また、リニア台車１
２２ａ−２には、前後の間隔を検知するセンサー（図示
省略）がそれぞれ備えられている。このセンサーは、制
御装置（図示省略）にそれぞれ接続されている。さら
に、リニア台車１２２ａ−２には、ウエハの有無とウエ
ハ情報を検知する機能を有するセンサー（図示省略）が
設けられている。このセンサーは、制御装置（図示省
略）にそれぞれ接続されている。このセンサーは、一つ
のセンサーが、ウエハ有無検知とウエハ情報検知の両方
の検知機能を有しても良い。また、別々の機能を有して
も良い。さらに、各リニア台車１２２ａ−２は、搬送ラ
イン１２２における自身の位置情報を確認するためのセ
ンサー（図示省略）を備えている。このセンサーは、制
御装置（図示省略）にそれぞれ接続されている。例え
ば、このセンサーは、所定の処理装置に対応した位置に
リニア台車１２２ａ−２が来たかどうかを検知する機能
を有する。尚、このような検知機能を有するセンサーを
それぞれの処理装置が備えても良いし、また、それぞれ
のリニア台車、処理装置の双方で備えても良い。
【００２２】図８、図９で、搬送ライン１２１でのリニ
ア台車１２１ａ−２のリニアレール１２１ａ−１への設
置台数と、搬送ライン１２２でのリニア台車１２２ａ−
２のリニアレール１２２ａ−１への設置台数とは、同一
であっても異なる台数であっても良い。図８、図９で、
リニア台車がそれぞれ３台設けられた例を示したが、こ
のリニア台車の台数は、適宜決められれば良い。また、
それぞれのセンサー等が接続される制御装置は、個別の
ものであっても良いし、１台の装置あってもよい。搬送
ライン１２１のリニア台車１２１ａ−２と搬送ライン１
２２のリニア台車１２２ａ−２との位置関係の制御がそ
れぞれのセンサーと制御装置の作用によって適宜実施さ
れる。
【００２３】図１１、図１２で、ベイストッカー１３０
は、ベイ間搬送ライン４００に接続されている。ベイ間
搬送ライン４００としてはこの場合ＡＧＶ（Ａｕｔｏｍ
ａｔｉｃ Ｇｕｉｄｅｄ Ｖｅｈｉｃｌｅ）４１０が採
用されている。ＡＧＶ４１０は、ロボット４１１、台４
１２、レール４１３、走行フレーム４１４を有してい
る。走行レール４１３は、ベイ間搬送ライン４００に設
置されている。走行フレーム４１４がレール４１３に移
動可能に設けられている。走行フレーム４１４にはロボ
ット４１１と台４１２とが設けられている。走行フレー
ム４１４は、駆動装置（図示省略）を有している。この
駆動装置は、制御装置（図示省略）に接続されている。
走行フレーム４１４はベイストッカー１３０との位置検
知センサーを備えている。このセンサーはベイストッカ
ー１３０が備えていても良い。図１１、図１２で、台４
１２は、ウエハ収納手段、例えば、ＦＯＵＰ（Ｆｒｏｎ
ｔ Ｏｐｅｎｉｎｇ Ｕｎｉｆｉｅｄ Ｐｏｄ）５００
が、この場合、２個（５００ａ、５００ｂ）載置可能な
平面を有する。ＦＯＵＰ５００は、その中に収納されて
いるウエハの被処理面を水平姿勢で保持するように台４
１２の載置面に置かれる。ロボット４１１は、この場
合、例えば、その先端にＦＯＵＰの握み部を握むアーム
４１６を有している。このロボット４１１は、アーム４
１６を旋回動、左右往復動及び昇降動させる駆動手段
（図示省略）を有する。この駆動手段は、制御装置（図
示省略）に接続されている。尚、ウエハ収納装置として
はＦＯＵＰの他にオープンカセット等の他の収納装置も
支障なく採用される。
【００２４】図１１、図１２で、ベイストッカー１３０
は、台１３１、ゲート１３２、ロボット１３３、レール
１３４を有している。ベイストッカー１３０は、この場
合、台１３１部分と搬送ロボット部分１３６とに分れて
いる。台１３１部分と搬送ロボット部分１３６とはゲー
ト１３２で仕切られている。ゲート１３２のＡＧＶ４１
０サイドに台１３１が設置されている。ゲート１３２の
搬送ライン１２１サイドに搬送ロボット部分１３６が配
置されている。台１３１は、ＦＯＵＰ５００が、この場
合３個載置可能な平面を有する。ＦＯＵＰは、その中に
収納されている複数個のウエハの被処理面を水平姿勢で
保持するように台１３１の載置面に置かれる。台１３１
の載置面は、ＡＧＶ４１０の走行方向に沿ってＦＯＵＰ
５００が隣接して置かれるようになっている。この場
合、ゲート１３２が３個備えられ、それぞれのゲート１
３２ａ〜１３２ｃは、ＦＯＵＰ５００にそれぞれ対応し
て配設されている。搬送ロボット１３６のレール台１３
７には、レール１３４が設けられている。レール１３４
は、台１３１でのＦＯＵＰ５００の載置面に平行に置か
れている。ロボット１３３が、レール１３４に載せられ
ている。ロボット１３３は、レール１３４上を走行させ
る駆動手段（図示省略）を有している。この駆動手段
は、制御装置（図示省略）に接続されている。このロボ
ット１３３は、アーム１３８を有している。アーム１３
８は、このアーム１３８を旋回動、左右往復動、及び昇
降動させる駆動手段（図示省略）を有する。この駆動手
段は制御装置（図示省略）に接続される。この場合、こ
のアーム１３８は、ウエハの有無検知とウエハ情報検知
の両方の検知機能を有するセンサー（図示省略）を備え
ている。このセンサーは制御装置（図示省略）に接続さ
れている。
【００２５】このように構成されている装置システムで
は、次のようなウエハの操作・処理がなされる。図４〜
図１２で、ベイ１００の上流側から、ベイ間搬送ライン
４００を通ってウエハがベイ１００に搬送されてくる。
具体的には、ＡＧＶ４１０の台４１２の載置面にＦＯＵ
Ｐ５００ａ、５００ｂが並んで置かれる。例えば、ＦＯ
ＵＰ５００ｂの中には処理速度の速いウエハが収納され
ている。ＦＯＵＰ５００ａ、５００ｂが台４１２に載置
されたかどうかセンサーで検知する。この検知情報は、
制御装置に送られる。これによって台４１２にＦＯＵＰ
５００ａ、５００ｂがそれぞれ適正に置かれたことが確
認される。その後、制御装置から駆動手段に操作信号が
出力され、駆動手段の作動が開始される。これによって
ＡＧＶ４１０は、ベイ間搬送ライン４００の中をベイ１
００のベイストッカー１３０に向って走行させられる。
その後、ＡＧＶ４１０が、ベイストッカー１３０の所定
位置に対応する場所に来たことを位置検知センサーで検
知される。この検知信号は、制御装置に送られ、制御装
置から停止信号が出力される。これによりＡＧＶ４１０
は、停止させられる。この場合、台１３１のＦＯＵＰ載
置面には、ＦＯＵＰ５００ｃ、５００ｄが載置されてい
る。そして残されたＦＯＵＰ載置面一ヶ所にはＦＯＵＰ
は載置されていない。この場合、ベイストッカー１３０
の台１３１に置かれているＦＯＵＰ５００ｄのウエハ処
理がほぼ終了状態にある。残りのＦＯＵＰ５００ｃ内の
ウエハの処理は中途段階である。また、例えば、ＦＯＵ
Ｐ５００ｄのウエハは、ＦＯＵＰ５００ｂのウエハとは
異なり、処理速度が遅いものである。台１３１のＦＯＵ
Ｐの載置面であって、残された１ヶ所の載置面、この場
合ＦＯＵＰ５００ｄのゲート１３２ｂに向って右側に位
置する載置面にＦＯＵＰがあるか無いかセンサー（図示
省略）で検知される。センサーでＦＯＵＰ無しと検知さ
れた時点で制御装置からロボット４１１の駆動手段に操
作信号が出力される。この操作信号を受けてロボット４
１１が作動開始される。この作動は、図１１のアーム４
１６の状態からＦＯＵＰ５００ｂに対応する位置にアー
ム４１６が旋回させられた時点で停止される。その後ア
ーム４１６がＦＯＵＰ５００ｂを掴持可能な間隔に広げ
られる。その後、アーム４１６がＦＯＵＰ５００ｂの握
み部に対応する位置まで下降される。その後アーム４１
６は閉じられ、これによってＦＯＵＰ５００ｂがアーム
４１６に掴持される。アーム４１６がＦＯＵＰ５００ｂ
を掴持したことが、センサーで検知されて、この信号が
制御装置に出力される。その後、ＦＯＵＰ５００ｂはこ
の状態で台１３１の残りの載置面まで搬送される。この
結果、ＦＯＵＰ５００ｂはこの載置面に載置される。こ
の載置された信号はセンサーから制御装置に出力され
る。一方、ＦＯＵＰ５００ｄのウエハの処理が終了した
ことが制御装置に送信される。これを受けて、ロボット
４１１のアーム４１６はＦＯＵＰ５００ｄを回収可能な
位置まで移動させられて停止させられる。その後、ロボ
ット４１１のアーム４１６は、その間隔を開いた状態で
ＦＯＵＰ５００ｄに向って移動させられる。この移動は
アーム４１６でＦＯＵＰ５００ｄを側面キャッチできる
ようになった時点で制御装置によって停止させられる。
その後、アーム４１６が閉じられ、これによってＦＯＵ
Ｐ５００ｄはアーム４１６に掴持される。この状態でＦ
ＯＵＰ５００ｄは、もともとＦＯＵＰ５００ｂが載置さ
れていた台４１２の載置面に載置される。つまり、この
状態では台１３１のもともとＦＯＵＰ５００ｂが載置さ
れた面が、次のＦＯＵＰ受取り面となる。ＦＯＵＰ５０
０ａ、ＦＯＵＰ５００ｄを保持したＡＧＶ４１０は次の
ベイ方向矢印６０５又は上流方向矢印６０６に移動され
られる。
【００２６】次に制御装置の指令によりゲート１３２ｃ
が開かれる。この時、ＦＯＵＰ５００ｂのドアも開かれ
る。これによりＦＯＵＰ５００ｂ内は、搬送ロボット部
１３６、枚葉搬送ライン１２０の雰囲気と連通状態とな
る。この状態で、制御装置の指令により、ロボット１３
３がゲート１３２ｃに対応した位置まで移動されられて
停止させられる。ＦＯＵＰ５００ｂ内に収納されている
ウエハの情報がアーム入１３８のセンサーにより読取ら
れる。読取られた情報は制御装置に出力される。この情
報信号により、ＦＯＵＰ５００ｂ内のウエハのどのウエ
ハを次の処理に出すかが選択される。その選択された信
号が、ロボット１３３に出力される。これによりロボッ
ト１３３はアーム１３８が所定の高さの位置になるよう
調節される。その後、アーム１３８がゲート１３２ｃを
通ってＦＯＵＰ５００ｂ内に挿入される。このアーム１
３８の動きはＦＯＵＰ５００ｂ内の所定のウエハの裏面
に、このアーム１３８のすくい部が到達した時点で制御
装置により停止される。その後、このアーム１３８のす
くい部は少しだけ上昇させられる。この上昇によってウ
エハはアーム１３８のすくい部に受取られる。その後、
このアーム１３８は元の位置まで待避される。一方、枚
葉搬送ライン１２０の上側位置にある搬送ライン１２２
のリニア台車１２２ａ−２がウエハ受渡し可能な位置に
停止させられる。この停止位置と情報はセンサーから制
御装置に出力される。リニア台車１２２ａ−２のウエハ
保持具１２２ｂは半径方向に開いた状態になっている。
尚、この場合、このリニア台車１２２ａ−２の下側位置
にリニア台車１２１ａ−２が有るか無いかは問題ではな
い。アーム１３８のすくい部にウエハを有するロボット
１３３は、リニア台車１２２ａ−２に対応する位置まで
レール１３４上を走行させられる。この走行は、ロボッ
ト１３３がリニア台車１２２ａ−２に対応した位置に到
達した時点で制御装置により停止させられる。この間、
ウエハを有するアーム１３８は、そのすくい部を１８０
°旋回させられる。その後、アーム１３８のすくい部は
リニア台車１２２ａ−２に向って移動させられる。リニ
ア台車１２１ａ−２の下方位置にアーム１３８のすくい
部にすくわれたウエハが到達した時点で、このアーム１
３８の移動は停止させられる。その後、アーム１３８の
すくい部は上昇させられる。この上昇はアーム１３８の
すくい部のウエハがリニア台車１２２ａ−２のウエハ保
持具１２２ｂですくい可能な位置にきた時点で制御装置
により停止させられる。この状態でウエハ保持具１２２
ｂは半径方向に閉じられる（矢印６０２）。これにより
ウエハは、アーム１３８のすくい部からウエハ保持具１
２２ｂに渡される。ウエハを渡したアーム１３８は元の
位置に待避して待機させられる。
【００２７】図４でＦＯＵＰ５００ｂが、例えば、ベイ
ストッカー１３０の台１３１にセットされた時点で、制
御装置により処理装置の内１０３、１０６が処理速度の
速いウエハの処理ができるように加工条件をセッティン
グされている。尚、残りの処理装置１０１、１０２、１
０４、１０５では処理速度の遅いウエハの処理が続行さ
れる。
【００２８】図１３は、図４における枚葉搬送ライン１
２０における処理装置１０１及び処理装置１０３の部分
の詳細構成図である。図１３で枚葉搬送ライン１２０の
下側の搬送ライン１２１を示す。処理装置１０１の前方
部分に位置するところにリニア台車１２１ａ−２があ
る。処理装置１０１の搬送ライン１２１側からゲート１
０１ｄ、ロック室１０１ａ、ゲート１０１ｃ、処理室１
０１ｂが順次配置されている。ロック室１０１ａの中に
はすくい部１１−１を有したロボット１１が配置されて
いる。このすくい部１１−１は、例えばゲート１０１ｄ
を通ってウエハの受渡しをするリンク機構と旋回してゲ
ート１０１ｃを通って処理室１０１ｂにウエハを受渡し
する機能を有する。また、図１３で枚葉搬送ライン１２
０の上側の搬送ライン１２２を示す。処理装置１０３の
前方部分に位置するところにリニア台車１２２ａ−２が
ある。処理装置１０３の搬送ライン１２２側からゲート
１０３ｄ、ロック室１０３ａ、ゲート１０３ｃ、処理室
１０３ｂが順次配置されている。ロック室１０３ａの中
にはすくい部１３−１を有したロボット１３が配置され
ている。このすくい部１３−１は、例えばゲート１０３
ｄを通ってウエハの受渡しをするリンク機構と旋回して
ゲート１０３ｃを通って処理室１０３ｂにウエハを受渡
しする機能を有する。この他に処理速度の遅いウエハを
処理する処理装置１０２、１０４、１０５と搬送ライン
１２１との取合い構造は、処理装置１０１と搬送ライン
１２１との取合い構造と略同一であり、図示、説明を省
略する。また、処理速度の速いウエハを処理する処理装
置１０６と搬送ライン１２２との取合い構造は処理装置
１０３と搬送ライン１２２との取合い構造と略同一のた
め、図示、説明を省略する。
【００２９】図１４に処理装置１０３と枚葉搬送ライン
１２２の取合い詳細を示す。図１４で、枚葉搬送ライン
１２０の空間とロック室１０３ａは、ゲート１０３ｄで
仕切られている。この場合、枚葉搬送ライン１２０とロ
ック室１０３ａの高さは略同一の高さである。ロック室
１０３ａ内と処理室１０３ｂ内とは、ゲート１０３ｃで
仕切られている。ロボット１３３のアーム１３８からＦ
ＯＵＰ５００ｂ内のウエハＷｂ１を受取ったリニア台車
１２２ａ−２は、図１１の位置から図４の処理装置１０
３に対応する位置まで移動させられる。この移動は、所
定位置にリニア台車１２２ａ−２が来たことをセンサー
で検知されることで制御装置で制御される（図１４）。
図１４でロック室１０３ａ内は、清浄ガス、例えば、窒
素ガスが導入され、これによりロック室１０３ａ内の圧
力は枚葉搬送ライン１２０の雰囲気圧力とほぼ同圧力に
調節される。その後、ゲート１０３ｄが開けられる。そ
の後、ロボット１３のすくい部１３−１が、開けられて
いるゲート１０３ｄを通って枚葉搬送ライン１２０へ繰
り出される（矢印６０７）。このすくい部１３−１が、
ウエハ保持具１２２ｂに保持されているウエハＷｂ１の
下方位置に達した時点で、すくい部１３−１の動きは停
止される。その後、ウエハ保持具１２２ｂは下降させら
れる（矢印６０１）。この下降はウエハＷｂ１の裏面が
すくい部１３−１に当接した時点で停止される（図１
５）。その後、ウエハ保持具１２２ｂが半径方向に開か
れる（矢印６０２）。これによりウエハＷｂ１はウエハ
保持具１２２ｂからすくい部１３−１に渡される。ウエ
ハＷｂ１を受取ったすくい部１３−１はゲート１０３ｄ
を通ってロック室１０３ａの元の位置に引戻される。そ
の後、図１５（ｂ）に示すようにゲート１０３ｄが閉じ
られロック室１０３ａ内は減圧排気される。ロック室１
０３ａの圧力が処理室１０３ｂの圧力とほぼ同圧になっ
た時点でゲート１０３ｃが開かれる。この状態でロボッ
ト１３のすくい部１３−１はロック室１０３ａから処理
室１０３ｂへ移動させられる。これによりウエハＷｂ１
はすくい部１３−１ですくわれた状態で処理室１０３ｂ
に搬入させられる。さらに、このウエハＷｂ１は処理室
１０３ｂに内設されている試料台（図示省略）上に渡さ
れる。ウエハＷｂ１を渡したすくい部１３−１は、ゲー
ト１０３ｃを通ってロック室１０３ａに待避させられ
て、ロック室１０３ａの元の位置に待機させられる。そ
の後、ゲート１０３ｃが閉じられる。この状態で処理室
１０３ｂ内の試料台に載置されたウエハＷｂ１は、処理
室１０３ｂで所定処理、例えばプラズマエッチング処理
される。処理室１０３ｂでプラズマエッチング処理が終
ったウエハＷｂ１は上述した搬入操作とは逆の操作によ
りゲート１０３ｃ、ロック室１０３ａ、ゲート１０３ｄ
を順次通過し、枚葉搬送ライン１２０に搬出されてウエ
ハ保持具１２２ｂに渡される。処理室１０３ｂでプラズ
マエッチング処理が終ったウエハＷｂ１を保持したリニ
ア台車１２２ａ−２はリニアレール１２２ａ−１にガイ
ドされて搬送ライン１２２を処理装置１０６方向へ移動
させられる。
【００３０】図１１、１２でＦＯＵＰ５００ｂ内の次に
選択されたウエハＷｂ２が、上述した操作と同様の操作
によりロボット１３３のアーム１３８のすくい部にすく
われてＦＯＵＰ５００ｂから抜出される。この抜出され
た第２のウエハＷｂ２は上述した操作と同様の操作によ
りロボット１３３のアーム１３８のすくい部からリニア
台車１２２ａ−２のウエハ保持具１２２ｂに渡される。
ウエハ保持具１２２ｂにウエハＷｂ２を受け取ったリニ
ア台車１２２ａ−２は、上述した操作と同様の操作によ
り処理装置１０３に対応する位置に移動させられて停止
される。尚、処理装置１０３での処理と処理装置１０６
の処理とでは、この場合異なっている。処理装置１０３
でプラズマエッチング処理されたウエハＷｂ１を保持し
たリニア台車１２２ａ−２は、搬送ライン１２２を処理
装置１０６方向へ向って移動させられる。その後、リニ
ア台車１２２ａ−２が処理装置１０６に達した時点で停
止される。このリニア台車１２２ａ−２に保持されてい
るウエハＷｂ１は、処理装置１０３同様の操作により、
処理装置１０６の処理室（図示省略）に、搬入される。
この処理装置に搬入されたウエハＷｂ１はここで所定処
理、例えば成膜処理（ＣＶＤ、ＰＶＤ等）される。成膜
処理済のウエハＷｂ１は処理室からゲート（図示省
略）、ロック室（図示省略）、ゲート（図示省略）を順
次通って枚葉搬送ライン１２０に搬出される。この搬出
されたウエハＷｂ１はリニア台車１２２ａ−２のウエハ
保持具１２２ｂに保持されて、ロボット１３３のアーム
１３８にウエハを受渡し可能な位置にまで移動させられ
る。その後、リニア台車１２２ａ−２のウエハ保持具１
２２ｂに保持されているウエハＷｂ１は、上述した操作
とは逆操作によりロボット１３３を介してＦＯＵＰ５０
０ｂの元の位置に回収される。
【００３１】一方、処理装置１０３に対応する位置まで
移動させられて停止されたリニア台車１２２ａ−２のウ
エハ保持具１２２ｂに保持されているウエハＷｂ２は、
上述したウエハＷｂ１の場合と同様な操作により、処理
装置１０３の処理室１０３ｂに搬入され、ここでプラズ
マエッチング処理される。その後、処理済ウエハＷｂ１
は処理室１０３ｂから枚葉搬送ライン１２０に搬出さ
れ、リニア台車１２２ａ−２のウエハ保持具１２２ｂに
渡されて保持される。その後、このリニア台車１２２ａ
−２は処理装置１０６に向って走行させられる。このよ
うな操作が繰返し実施される。これによりＦＯＵＰ５０
０ｂ内のウエハＷｂ１、Ｗｂ２、……Ｗｂｎは、搬送ラ
イン１２２により処理装置１０３、１０６に順次送られ
る。処理装置１０３、１０６で処理されたウエハＷｂ
１、Ｗｂ２、……ＷｂｎはＦＯＵＰ５００ｂに順次戻さ
れ、そしてＦＯＵＰ５００ｂの所定の位置に回収され
る。
【００３２】図１６に処理装置１０１と枚葉搬送ライン
１２１の取合い詳細を示す。図１６で、枚葉搬送ライン
１２０の空間とロック室１０１ａは、ゲート１０１ｄで
仕切られている。この場合、枚葉搬送ライン１２０とロ
ック室１０１ａの高さは略同一の高さである。ロック室
１０１ａ内と処理室１０１ｂ内とは、ゲート１０１ｃで
仕切られている。ＦＯＵＰ５００ｃ内に収納されている
ウエハの情報が、センサーにより読み取られる。読み取
られた情報は制御装置に出力される。この場合、ＦＯＵ
Ｐ５００ｃ内のウエハは、処理速度の遅いウエハであ
る。従って、この場合、処理速度が遅いとの情報がセン
サーにより読み取られ、この読み取られた情報が制御装
置に出力される。一方、枚葉搬送ライン１２０ａの下側
位置にある搬送ライン１２１のリニア台車１２１ａ−２
が、ウエハ受け渡し可能な位置に停止させられる。この
停止位置と情報はセンサーから制御装置に出力される。
リニア台車１２１ａ−２のウエハ保持台１２１ｂのウエ
ハ押し上げピン１２１ｃは、この場合、ウエハ保持台１
２１ｂ内に収納された状態となっている。尚、ウエハ押
し上げピンは、この場合３本あり、それぞれはウエハ保
持台１２１ｂの中心を中心として１２０°間隔でウエハ
保持台１２１ｂに配設されている。また、これらピンは
所定間隔で昇降動可能となっている。アーム１３８のす
くい部にウエハを有するロボット１３３は、リニア台車
１２１ａ−２に対応する位置までレール１３４上を走行
させられる。この走行はロボット１３３がリニア台車１
２１ａ−２に対応した位置に到達した時点で、制御装置
により停止させられる。この間、ウエハを有するアーム
１３８の、そのすくい部は、リニア台車１２１ａ−２に
向って移動させられる。リニア台車１２１ａ−２の上方
位置にアーム１３８のすくい部にすくわれたウエハＷｃ
ｎが到達した時点で、このアーム１３８の移動は停止さ
せられる。その後、ウエハ押し上げピン１２１ｃが上昇
させられる。この上昇は、アーム１３８のすくい部のウ
エハＷｃｎの裏面にその頂点が当接した時点で、このウ
エハ押し上げピンの上昇は停止させられる。これにより
ウエハＷｃｎは、アーム１３８のすくい部からウエハ押
し上げピンに受け渡される。その後アーム１３８は、元
の位置に戻されて待機させられる。ロボット１３３のア
ーム１３８からウエハＷｃｎを受け取ったリニア台車１
２１ａ−２は、処理装置１０１に対応する位置まで移動
させられる。この移動は所定位置にリニア台車１２１ａ
−２が来たことをセンサーで検知され、制御装置により
制御される。
【００３３】図１６で、ロック室１０１ａ内は、清浄ガ
ス、例えば、窒素ガスが導入され、これによりロック室
１０１ａ内の圧力は、枚葉搬送ライン１２０とほぼ同圧
に調節される。その後、ゲート１０１ｄが開けられる。
その後、ロボット１１のすくい部１１−１が開けられて
いるゲート１０１ｄを通って、枚葉搬送ライン１２０へ
繰り出される（矢印６０７）。一方、処理装置１０１に
対応する位置にあるリニア台車１２１ａ−２のウエハ保
持台１２１ｂに保持されているウエハＷｃｎは、ウエハ
押し上げピンの上昇によりウエハ保持台１２１ｂからウ
エハ押し上げピン１２１ｃに渡されて保持される。この
状態で、ロボット１１のすくい部１１−１が、ウエハ押
し上げピン１２１ｃに保持されているウエハＷｃｎの下
方位置に達した時点で、すくい部１１−１の動きは停止
される（図１７（ａ））。その後、ウエハ押し上げピン
１２１ｃは下降させられる。この下降により、ウエハＷ
ｃｎはウエハ押し上げピン１２１ｃからすくい部１１−
１に渡される。ウエハＷｃｎを受取ったすくい部１１−
１は、ゲート１０１ｄを通ってロック室１０１ａの元に
位置に引き戻される。その後、ゲート１０１ｄが閉じら
れ、ロック室１０１ａ内は減圧排気される（図１７
（ｂ））。ロック室１０１ａの圧力が、処理室１０１ｂ
の圧力とほぼ同圧になった時点でゲート１０１ｃが開か
れる。この状態でロボット１１のすくい部１１−１は、
ロック室１０１ａから処理室１０１ｂへ移動させられ
る。これによりウエハＷｃｎは、すくい部１１−１です
くわれた状態で処理室１０１ｂに搬入させられる。さら
に、ウエハＷｃｎは処理室１０１ｂに内設されている試
料台上に渡される。ウエハＷｃｎを渡したすくい部１１
−１は、ゲート１０１ｃを通ってロック室１０１ａに退
避させられてロック室１０１ａの元の位置に待機させら
れる。その後、ゲート１０１ｃが閉じられる。この状態
で処理室１０１ｂ内の試料台に載置されたウエハＷｃｎ
は、処理室１０１ｂで所定処理、例えばプラズマエッチ
ング処理される。
【００３４】尚、先に説明した処理室１０３ｂ内でのウ
エハＷｂのプラズマエッチング処理条件と、この場合、
処理室１０１ｂ内でのウエハＷｃのプラズマエッチング
処理条件とは当然異なっている。つまり、処理室１０３
ｂ内でのウエハＷｂのプラズマエッチング処理条件は、
その処理時間が短いような条件であり、一方、処理室１
０１ｂ内でのウエハＷｃのプラズマエッチング処理条件
は、その処理時間が長いようになっている。処理室１０
１ｂでプラズマエッチング処理が終ったウエハＷｃｎ
は、上述した搬入操作とは逆の操作により、ゲート１０
１ｃ、ロック室１０１ａ，、ゲート１０１ｄを順次通過
し、枚葉搬送ライン１２０に搬出されてウエハ押し上げ
ピン１２１ｃを介してウエハ保持台１２１ｂに受け渡さ
れる。処理室１０１ｂでプラズマエッチング処理が終っ
たウエハＷｃｎを保持したリニア台車１２１ａ−２はリ
ニアレール１２１ａ−１にガイドされて搬送ライン１２
１を処理室１０５の方向へ移動させられる。
【００３５】図１１、１２で、ＦＯＵＰ５００ｃ内の次
に選択されたウエハＷｃｎ＋１が、上述した操作と同様
の操作によりロボット１３３のアーム１３８ａのすくい
部にすくわれてＦＯＵＰ５００ｃから抜き出される。こ
の抜き出されたウエハＷｃｎ＋１は上述した操作と同様
の操作によりロボット１３３のアーム１３８のすくい部
からリニア台車１２１ａ−２のウエハ保持台１２１ｂに
渡される。ウエハ保持台１２１ｂにウエハＷｃｎ＋１を
受け取ったリニア台車１２１ａ−２は、上述した同様の
操作により処理装置１０１に対応する位置に移動させら
れて停止される。尚，処理装置１０１での処理と処理装
置１０５の処理とでは、この場合異なっている。処理装
置１０１でプラズマエッチング処理されたウエハＷｃｎ
を保持したリニア台車１２１ａ−２は、搬送ライン１２
１を処理装置１０５の方向へ向かって移動させられる。
その後、リニア台車１２１ａ−２が処理装置１０５に対
応する位置に達した時点で、この移動は停止させられ
る。リニア台車１２１ａ−２に保持されているウエハＷ
ｃｎは処理装置１０１と同様の操作により、処理装置１
０５の処理室（図示省略）に搬入される。この処理装置
に搬入されたウエハＷｃｎは、ここで所定処理、例えば
成膜処理（ＣＶＤ、ＰＶＤ等）される。成膜処理済のウ
エハＷｃｎは処理室からゲート（図示省略）、ロック室
（図示省略）、ゲート（図示省略）を順次通って枚葉搬
送ライン１２０に搬出される。この搬出されたウエハＷ
ｃｎはリニア台車１２１ａ−２のウエハ保持台１２１ｂ
に保持されてロボット１３３のアーム１３８にウエハＷ
ｃｎを受け渡し可能な位置にまで移動させられる。その
後、リニア台車１２１ａ−２のウエハ保持台１２１ｂに
保持されているウエハＷｃｎは、上述した操作とは逆操
作によりロボット１３３を介してＦＯＵＰ５００ｃの元
の位置に回収される。一方、処理装置１０１に対応する
位置まで移動させられて停止されたリニア台車１２１ａ
−２のウエハ保持台１２１ｂに保持されている次のウエ
ハＷｃｎ＋１は、上述したウエハＷｃｎの場合と同様の
操作により処理装置１０１の処理室１０１ｂに搬入さ
れ、ここでプラズマエッチング処理される。その後、処
理済ウエハＷｃｎ＋１は、処理室１０１ｂから枚葉搬送
ライン１２０に搬出されリニア台車１２１ａ−２のウエ
ハ保持台１２１ｂのウエハ保持台１２１ｂに渡されて保
持される。その後、このリニア台車１２１ａ−２は、処
理装置１０５に向かって移動させられる。このようにし
て、ＦＯＵＰ５００ｃ内のウエハは、上述したＦＯＵＰ
５００ｂ内のウエハの搬送・処理と平行して、搬送ライ
ン１２１、処理装置１０１、１０２、１０４、１０５に
より１枚ごと順次処理される。この処理済ウエハはＦＯ
ＵＰ５００ｃに１枚ごと戻され、そして所定の位置に回
収される。以上、ＦＯＵＰ５００ｂ内のウエハとＦＯＵ
Ｐ５００ｃ内のウエハとの処理装置での処理条件が異な
る例につき説明をした。次にＦＯＵＰ５００ｂ、５００
ｃ内のウエハの処理条件が同じ場合につき説明する。
【００３６】図４で、処理装置１０１〜１０３が同一の
処理装置、例えばプラズマエッチング装置、処理装置１
０４〜１０６は、例えばプラズマＣＶＤ装置とする。処
理装置１０１〜１０３は同じウエハの処理条件で運転さ
れる。処理装置１０４〜１０６は同じウエハの処理条件
で運転される。図１１で、ＦＯＵＰ５００ｂには処理速
度の速いウエハが収納されている。またＦＯＵＰ５００
ｃ、５００ｄには処理速度の遅いウエハが収納されてい
る。ＦＯＵＰ５００ｂから５００ｄにそれぞれ収納され
ているウエハの処理装置１０１〜１０３及び処理装置１
０４〜１０６での処理条件等は同じである。
【００３７】まず図１１、１２の状態から先述した操作
と同様の操作で、台４１２のＦＯＵＰ５００ｂは、台１
３１の空いている載置面にロボット４１１により搬送さ
れて載置される。次にＦＯＵＰ５００ｄに収納されてい
るウエハの処理が終了した時点で、このＦＯＵＰ５００
ｄはロボット４１１により台１３１から台４１２の載置
面に搬送されて載置される。その後、このＡＧＶ４１０
は矢印６０４又は６０５方向に移動させられる。ＦＯＵ
Ｐ５００ｂに収納されているウエハＷｂ１が上述したよ
うな操作によりロボット１３３で取出され、搬送ライン
１２２のリニア台車１２２ａ−２のウエハ保持具１２２
ｂに渡される。一方、ＦＯＵＰ５００ｂの搬送、載置に
より処理装置１０１〜１０３の中で処理待ちの状態にあ
る処理装置がセンサーにより検知され、この信号は制御
装置に出力される。例えば、処理装置１０１〜１０３で
処理装置１０２が処理待ち状態にあると検知された場
合、先程のウエハＷｂ１を保持したリニア台車１２２ａ
−２は、処理装置１０２に対応した位置まで走行させら
れて停止させられる。このウエハＷｂ１はその後、処理
装置１０２の処理室に搬入され、ここでプラズマエッチ
ング処理される。エッチング処理済のウエハＷｂ１は処
理装置１０２外へ取出されてリニア台車１２２ａ−２の
ウエハ保持具１２２ｂに戻される。尚、処理装置１０
１、１０３ではＦＯＵＰ５００ｃの処理速度の遅いウエ
ハＷｃｎ…の処理が並行して実施される。
【００３８】次に、処理装置１０４〜１０６で処理待ち
状態にある処理装置がセンサーにより検知され、制御装
置に出力される。処理装置１０４〜１０６の中で、例え
ば、処理装置１０４が処理待ちと検知された場合、先程
のウエハＷｂ１を保持したリニア台車１２２ａ−２は、
処理装置１０４に対応した位置まで走行させられて停止
させられる。このウエハＷｂ１は、その後、処理装置１
０４の処理室に搬入され、ここでプラズマＣＶＤ処理さ
れる。ＣＶＤ処理済のウエハＷｂ１は処理装置１０４外
へ取出され、リニア台車１２２ａ−２のウエハ保持具１
２２ｂに戻される。
【００３９】尚、処理装置１０５、１０６ではＦＯＵＰ
５００ｃの処理速度の遅いウエハＷｃｎ…の処理が並行
して実施される。処理装置１０４で処理が終ったウエハ
Ｗｂ１は搬送ライン１２２、ロボット１３３によりＦＯ
ＵＰ５００ｂの元の位置に戻され回収される。これとと
もに処理装置１０５、１０６でそれぞれ処理が終ったウ
エハＷｃｎ…は、搬送ライン１２１、ロボット１３３に
より、ＦＯＵＰ５００ｃの元の位置に戻されて回収され
る。ＦＯＵＰ５００ｂから次のウエハＷｂ２が選択され
る。一方、処理装置１０１〜１０３で処理装置１０１が
処理待ちの状態にある場合、ウエハＷｂ２はロボット１
３３、搬送ライン１２２により処理装置１０１の処理室
に搬入されてプラズマエッチング処理される。処理装置
１０１での処理が終了したウエハＷｂ２は処理室１０１
外へ取出される。ここで処理装置１０４〜１０６の中
で、例えば処理装置１０５が処理待ち状態にある場合、
処理装置１０１で処理が終了したウエハＷｂ２は搬送ラ
イン１２２により処理装置１０５まで搬送される。この
ウエハＷｂ２は処理装置１０５の処理室内に搬入され、
ここでプラズマＣＶＤ処理される。処理済のウエハＷｂ
２は処理装置１０５外へ取出され、搬送ライン１２２、
ロボット１３３によりＦＯＵＰ５００ｂの元の位置に戻
されて回収される。これとともに処理装置１０４、１０
６では、処理速度の遅いウエハＷｃｎ＋１…に対するプ
ラズマＣＶＤ処理が実施される。これらの処理が終了し
たウエハＷｃｎ＋１…は処理装置１０４、１０６からそ
れぞれ取出され、搬送ライン１２１、ロボット１３３に
よりＦＯＵＰ５００ｃ内の所定の位置に戻されて回収さ
れる。このようにＦＯＵＰ５００ｂ内のウエハＷｂ１，
Ｗｂ２……Ｗｂｎは処理装置１０１〜１０３で処理待ち
状態にある処理装置で１枚ごと順次処理される。これら
の処理装置で処理が終了したウエハＷｂ１，Ｗｂ２……
Ｗｂｎは、次に処理装置１０４〜１０６の中で処理待ち
状態にあるいずれかの処理装置でプラズマＣＶＤ処理さ
れる。これらウエハＷｂ１，Ｗｂ２……Ｗｂｎのベイ内
における搬送は搬送ライン１２２により実施される。処
理装置１０４〜１０６のいずれかで処理が終了したウエ
ハＷｂ１，Ｗｂ２……Ｗｂｎは１枚ごと搬送ライン１２
２、ロボット１３３によりＦＯＵＰ５００ｂ内の所定の
位置に戻され回収される。これとともに、ＦＯＵＰ５０
０ｃ内の処理速度の遅いウエハＷｃｎ＋１…Ｗｃｍの処
理が処理装置１０１〜１０３のいずれかの装置及び処理
装置１０４〜１０６のいずれかの装置で順次実施され
る。この場合、ベイ内でのウエハの搬送は搬送ライン１
２１により行われる。処理装置１０４〜１０６のいずれ
かの装置でプラズマＣＶＤ処理が終了したウエハＷｃ
ｎ、Ｗｃｎ＋１……Ｗｃｍは、搬送ライン１２１、ロボ
ット１３３によりＦＯＵＰ５００ｃ内の元の位置に戻さ
れて回収される。
【００４０】図１１、１２で、ＦＯＵＰ５００ｃが台１
３１のＦＯＵＰ載置面にＡＧＶ４１０のロボット４１１
により載置されたものとする。ＦＯＵＰ５００ｃ内には
処理速度が速いウエハ、すなわち処理時間が短いウエハ
と処理速度が遅いウエハ、すなわち処理時間が長いウエ
ハとが混在されている。ここで、それぞれのウエハの処
理室での処理条件は異なっているものとする。まず、図
４で処理装置１０１〜１０３はプラズマエッチング装
置、処理装置１０４〜１０６はプラズマＣＶＤ装置とす
る。さらに、プラズマエッチング装置１０１〜１０３
で、処理装置１０３が処理時間が短いウエハの処理条件
に設定されている。処理装置１０１、１０２は、処理時
間が長いウエハの処理条件に設定されている。また、処
理装置１０４〜１０６で、この場合、処理装置１０４
が、処理時間が短いウエハの処理条件に設定されてい
る。処理装置１０５、１０６は、処理時間の長いウエハ
の処理条件に設定されている。また、搬送ライン１２１
が処理時間が長いウエハの搬送に使用され、搬送ライン
１２２が処理時間が短いウエハの搬送に使用される。
【００４１】図１１〜図１７で、ＦＯＵＰ５００ｃ内に
ロボット１３３のアーム１３８が挿入される。この時点
で、アーム１３８の上方に位置するウエハ情報がセンサ
ーにより検知され、これは制御装置に出力される。これ
により制御装置では、このウエハは、例えば、処理時間
が短いウエハＷｃＳ１と判定される。この処理時間が短
いウエハＷｃＳ１は、その後、ロボット１３３により搬
送ライン１２２のリニア台車１２２ａ−２のウエハ保持
具１２２ｂに渡される。ウエハ保持具１２２ｂでウエハ
ＷｃＳ１を受け取ったリニア台車１２２ａ−２は、搬送
ライン１２２を処理装置１０３に向かって走行させられ
る。その後、ウエハＷｃＳ１を有するリニア台車１２２
ａ−２が、処理装置１０３に対応する位置に到達したこ
とがセンサーで検知され、この走行は停止される。その
後、このウエハＷｃＳ１は、処理装置１０３に搬入され
プラズマエッチング処理される。プラズマエッチング処
理済のＷｃＳ１は処理装置１０３外へ取り出され、リニ
ア台車１２２ａ−２のウエハ保持具１２２ｂに渡され
る。その後、そのウエハＷｃＳ１を受け取ったリニア台
車１２２ａ−２は、搬送ライン１２２より処理装置１０
４に向かって走行させられる。一方、ＦＯＵＰ５００Ｃ
内にロボット１３３のアーム１３８が挿入される。この
時点で、アーム１３８の上方に位置するウエハ情報はセ
ンサーにより検知され、これは制御装置に出力される。
これにより制御装置では、このウエハは、例えば、処理
速度が遅いウエハと判定される。この処理速度の遅いウ
エハＷｃＬ１は、その後、ロボット１３３により搬送ラ
イン１２１のリニア台車１２１ａ−２のウエハ保持台１
２１ｂに渡される。ウエハ保持台１２１ｂでウエハＷｃ
Ｌ１を受け取ったリニア台車１２１ａ−２は、搬送ライ
ン１２１を処理装置１０２に向かって走行させられる。
その後、ウエハＷｃＬ１を有するリニア台車１２１ａ−
２が処理装置１０２に対応する位置に到着したことがセ
ンサーで検知され、この走行は停止される。その後、こ
のウエハＷｃＬ１は、処理装置１０２に搬入されプラズ
マエッチング処理される。プラズマエッチング処理済の
ウエハＷｃＬ１は、処理装置１０２外へ取り出され、リ
ニア台車１２１ａ−２のウエハ保持台１２１ｂに渡され
る。その後、そのウエハＷｃＬ１を受け取ったリニア台
車１２１ａ−２は、搬送ライン１２１より処理装置１０
５に向かって走行させられる。その後、ウエハＷｃＬ１
は、処理装置１０５に搬入されプラズマＣＶＤ処理され
る。プラズマＣＶＤ処理済のウエハＷｃＬ１は、処理装
置１０５外へ取り出され、リニア台車１２１ａ−２のウ
エハ保持具１２１ｂに渡される。その後、そのウエハＷ
ｃＬ１は、ＦＯＵＰ５００ｃの元の位置に戻される。一
方、ＦＯＵＰ５００ｃ内に、ロボット１３３のアーム１
３８が挿入される。この時点で、アーム１３８の上方に
位置するウエハ情報はセンサーにより検知され、これは
制御装置に出力される。これにより制御装置では、この
ウエハは、例えば、処理時間が長いウエハと判定され
る。この処理時間が長いウエハＷｃＬ２は、その後、ロ
ボット１３３により搬送ライン１２１のリニア台車１２
１ａ−２のウエハ保持台１２１ｂに渡される。ウエハ保
持台１２１ｂでウエハＷｃＬ２を受け取ったリニア台車
１２１ａ−２は、搬送ライン１２１を処理装置１０１に
向かって走行させられる。その後、ウエハＷｃＬ２を有
するリニア台車１２１ａ−２が処理装置１０１に対応す
る位置に到着したことがセンサーで検知され、この走行
は停止される。その後、このウエハＷｃＬ２は、処理装
置１０１に搬入されプラズマエッチング処理される。プ
ラズマエッチング処理済のウエハＷｃＬ２は、処理装置
１０１外へ取り出され、リニア台車１２１ａ−２のウエ
ハ保持台１２１ｂに渡される。その後、そのウエハＷｃ
Ｌ２を受け取ったリニア台車１２１ａ−２は、搬送ライ
ン１２１より処理装置１０６に向かって走行させられ
る。その後、ウエハＷｃＬ２は、処理装置１０６に搬入
されプラズマＣＶＤ処理される。プラズマＣＶＤ処理済
のウエハＷｃＬ２は、処理装置１０６外へ取り出され、
リニア台車１２１ａ−２のウエハ保持具１２１ｂに渡さ
れる。その後、そのウエハＷｃＬ２はＦＯＵＰ５００ｃ
の元の位置に戻される。一方、ＦＯＵＰ５００ｃ内にロ
ボット１３３のアーム１３８が挿入される。この時点
で、アーム１３８の上方に位置するウエハ情報はセンサ
ーにより検知され、これは制御装置に出力される。これ
により制御装置では、ウエハは、例えば、処理時間が短
いウエハと判定される。この処理時間が短いウエハＷｃ
Ｓ２は、その後、ロボット１３３により搬送ライン１２
２のリニア台車１２２ａ−２のウエハ保持具１２２ｂに
渡される。ウエハ保持具１２２ｂでウエハＷｃＳ２を受
け取ったリニア台車１２２ａ−２は、搬送ライン１２２
を処理装置１０３に向かって走行させられる。その後、
ウエハＷｃＳ２を有するリニア台車１２２ａ−２が処理
装置１０３に対応する位置に到達したことがセンサーで
検知され、この走行は停止される。その後、このウエハ
ＷｃＳ２は、処理装置１０３に搬入されプラズマエッチ
ング処理される。このとき、ウエハＷｃＳ１は、処理装
置１０４に搬入されプラズマＣＶＤ処理される。プラズ
マＣＶＤ処理済のウエハＷｃＳ１は、処理装置１０４外
へ取り出され、リニア台車１２２ａ−２のウエハ保持具
１２２ｂに渡される。その後、そのウエハＷｃＳ１はＦ
ＯＵＰ５００ｃの元の位置に戻される。その後、プラズ
マエッチング処理済のウエハＷｃＳ２は、処理装置１０
３外へ取り出され、リニア台車１２２ａ−２のウエハ保
持具１２２ｂに渡される。その後そのウエハＷｃＳ１を
受け取ったリニア台車１２２ａ−２は、搬送ライン１２
２より処理装置１０４に向かって走行させられる。この
後、ウエハＷｃＳ２は、処理装置１０４に搬入されプラ
ズマＣＶＤ処理される。プラズマＣＶＤ処理済のウエハ
ＷｃＳ２は、処理装置１０４外へ取り出され、リニア台
車１２２ａ−２のウエハ保持具１２２ｂに渡される。そ
の後、そのウエハＷｃＳ２は、ＦＯＵＰ５００Ｃの元の
位置に戻される。このようにして、ＦＯＵＰ５００ｃの
内の処理時間が短いウエハＷｃＳ１、ＷｃＳ２…ＷｃＳ
ｎならびに、処理時間が長いウエハＷｃＬ１、ＷｃＬ２
…ＷｃＬｎの枚葉搬送ライン１２０での搬送処理装置１
０１〜１０６での処理が順次実施され、そしてＦＯＵＰ
５００Ｃの元の位置に戻され回収される。
【００４２】図１１〜図１４で、ＡＧＶ４１０の台４１
２に、ＦＯＵＰ５００ａ、５００ｂが載置されている。
この状態でＡＧＶ４１０は矢印６０４方向に走行させら
れる。ベイ１００のベイストッカー１３０に対応した位
置に到着した時点でこのＡＧＶ４１０の走行は停止され
る。ＦＯＵＰ５００ｂ内には、特急仕様のウエハＷｈｂ
１、Ｗｈｂ２…Ｗｂｈｎが収納されている。このウエハ
の情報にもとづき図４での、処理装置１０１〜１０６で
このウエハを処理する装置が選択され加工条件が設定さ
れる。この場合、例えば、処理装置１０１、１０５は、
この特急ウエハの処理に使用される装置として選択され
る。尚、残りの処理装置１０２、１０３、１０４、１０
６は、ＦＯＵＰ５００ｃ、５００ｄ内の処理に継続して
使用される。また、枚葉搬送ライン１２０で特急ウエハ
を搬送するラインとして、この場合、搬送ライン１２２
が選択される。搬送ライン１２１では、ＦＯＵＰ５００
ｃ、５００ｄ内のウエハの搬送が行われる。
【００４３】図１１〜図１４でＦＯＵＰ５００ｂは、ベ
イストッカー１３０の台１３１のＦＯＵＰ５００ｄの右
横側のＦＯＵＰ載置面に載置される。このＦＯＵＰ５０
０ｂに対応するゲート１３２ｃが開けられ、これに伴い
ＦＯＵＰ５００ｂのドア（図示省略）も開けられる。Ｆ
ＯＵＰ５００ｂ内にロボット１３３のアーム１３８が挿
入される。この時点で、アーム１３８の上方に位置する
ウエハ情報はセンサーにより検知され、これは制御装置
に出力される。これにより制御装置では、このウエハ
は、例えば、処理速度が特急のウエハと判定される。こ
の処理速度の特急のウエハＷｂｈ１は、その後、ロボッ
ト１３３により搬送ライン１２２のリニア台車１２２ａ
−２のウエハ保持具１２２ｂに渡される。このウエハ保
持具１２２ｂでウエハＷｂｈ１を受け取ったリニア台車
１２２ａ−２には、搬送ライン１２２を処理装置１０１
に向かって走行させられる。その後、ウエハＷｂｈ１を
有するリニア台車１２２ａ−２が処理装置１０１に対応
する位置に到達したことがセンサーで検知され、この走
行は停止される。その後、このウエハＷｂｈ１は、処理
装置１０１に搬入され、ここで、プラズマエッチング処
理される。エッチング処理済みのウエハＷｂｈ１は、処
理装置１０１外へ取り出され、リニア台車１２２ａ−２
のウエハ保持具１２２ｂに渡される。その後、そのウエ
ハＷｂｈ１を受け取ったリニア台車１２２ａ−２は、搬
送ライン１２２より処理装置１０５に向かって走行させ
られる。この後、ウエハＷｂｈ１は、処理装置１０５に
搬入されプラズマＣＶＤ処理される。プラズマＣＶＤ処
理済のウエハＷｂｈ１は、処理装置１０５外へ取り出さ
れ、リニア台車１２２ａ−２のウエハ保持具１２２ｂに
渡される。その後、そのウエハＷｂｈ１はＦＯＵＰ５０
０ｂの元の位置に戻される。その後、ＦＯＵＰ５００ｂ
内にロボット１３３のアーム１３８が挿入される。この
時点でアーム１３８の上方に位置するウエハ情報はセン
サーにより検知され、これは制御装置に出力される。こ
れにより制御装置では、このウエハは、例えば、処理速
度が特急のウエハと判定される。この処理速度の特急の
ウエハＷｂｈ２は、その後、ロボット１３３により搬送
ライン１２２のリニア台車１２２ａ−２のウエハ保持具
１２２ｂに渡される。このウエハ保持具１２２ｂでウエ
ハＷｂｈ２を受け取ったリニア台車１２２ａ−２は、搬
送ライン１２２を処理装置１０１に向かって走行させら
れる。その後、ウエハＷｂｈ２を有するリニア台車１２
２ａ−２が、処理装置１０１に対応する位置に到達した
ことがセンサーで検知され、この走行は停止される。そ
の後、このウエハＷｂｈ２は、処理装置１０１に搬入さ
れプラズマエッチング処理される。エッチング処理済み
のウエハＷｂｈ２は、処理装置１０１外へ取り出され、
リニア台車１２２ａ−２のウエハ保持具１２２ｂに渡さ
れる。その後、そのウエハＷｂｈ２を受け取ったリニア
台車１２２ａ−２は、搬送ライン１２２より処理装置１
０５に向かって走行させられる。この後、ウエハＷｂｈ
２は、処理装置１０５に搬入されプラズマＣＶＤ処理さ
れる。プラズマＣＶＤ処理済のウエハＷｂｈ２は、処理
装置１０５外へ取り出され、リニア台車１２２ａ−２の
ウエハ保持具１２２ｂに渡される。その後、そのウエハ
Ｗｂｈ２は、ＦＯＵＰ５００ｂの元の位置に戻される。
ＦＯＵＰ ５００ｂには、これらの特急のウエハが５枚
収納されているものとする。残りの３枚の特急のウエハ
は、先程のウエハＷｂｈ１、Ｗｂｈ２と同様に搬送処理
されてＦＯＵＰ５００ｂの元の位置に戻される。
【００４４】尚、ここでＦＯＵＰ５００ｄに先程の処理
速度が速い、すなわち処理時間が短いウエハか、また
は、処理速度が遅い、すなわち処理時間が長いウエハの
どちらかが収納されているものとする。例えば、処理時
間が短いウエハが収納されている場合、このウエハＷｄ
Ｓは搬送ライン１２２で搬送され処理装置１０３でプラ
ズマエッチング処理、引続き処理装置１０５でプラズマ
ＣＶＤ処理される。その後、処理済ウエハはＦＯＵＰ５
００ｄの元の位置に戻されて回収される。一方、処理時
間が長いウエハが収納されている場合、このウエハＷｄ
Ｌ１は、搬送ライン１２１で搬送され処理装置１０１、
１０２でプラズマエッチング処理、引続き処理装置１０
４、１０６でプラズマＣＶＤ処理される。その後、処理
済みウエハＦＯＵＰ５００ｄの元の位置に戻されて回収
される。尚、このような処理は、上述したＦＯＵＰ５０
０ｃ内のウエハの処理の合間（待ち時間）を利用して実
施される。この様なことはセンサー、制御装置により円
滑に処理される。
【００４５】この様にして処理が完了したウエハを全て
回収したＦＯＵＰ５００ｂは、その後、ＡＧＶ４１０の
台４１２に載置される。その後、このＡＧＶ４１０は、
別のベイ等、別の場所へ移動させられる（矢印６０４ま
たは６０５）。尚、この間ＦＯＵＰ５００ｃおよび５０
０ｄにあるウエハは、搬送ライン１２１により搬送さ
れ、その途中、処理装置１０２または１０３及び処理装
置１０４または１０６にて順次処理される。この処理ウ
エハは、ＦＯＵＰ５００ｃおよび５００ｄの元の位置に
戻される。その後、ＦＯＵＰ５００ｂ内の特急のウエハ
のベイ１００での処理が全て終了した時点で、特急のウ
エハに対応して選択された処理装置１０１と１０５の加
工条件がＦＯＵＰ５００ｃおよび５００ｄ内の加工条件
が元に戻される。その後、ＦＯＵＰ５００ｃおよび５０
０ｄ内の未処理のウエハは、搬入ライン１２１により搬
送され処理装置１０１〜１０６により処理される。処理
済のウエハはＦＯＵＰ５００ｃ、５００ｄの元の位置に
戻され回収される。
【００４６】以上、本発明の一実施例につき説明をし
た。このような一実施例では次のような効果が得られ
る。 １．処理時間が長いウエハと処理時間が短いウエハとが
同じベイ内の搬送ラインに混在したとしても、ベイ内搬
送ラインとして、この場合、並搬送可能に２つの搬送ラ
インを有しているため、処理時間が長いウエハの搬送・
処理と処理時間が短いウエハの搬送・処理とを別々に分
離して行うことができる。このように、ウエハの加工・
処理条件により２つの搬送ラインの使い分けができる、
つまり、処理時間が長いウエハと処理時間が短いウエハ
との搬送ラインの使い分けができるため、従来技術での
ように、ウエハの搬送・処理待ち時間が生じるのを防止
できる。つまり従来技術では、搬送時間は処理時間の長
い方に律速されるが、本実施例では２つの搬送ラインを
それぞれ個別に使用するため、このような律速が生じな
い。従って、処理時間が遅くなることがなく、全体のス
ピードが低下することがなく、ひいてはベイ全体のスル
ープットが低下するのを防ぐことができる。 ２．処理条件が同じで、処理時間が長いウエハと処理時
間が短いウエハとが同じベイ内の搬送ラインに混在した
としても、ベイ内搬送ラインとして、この場合、並搬送
可能に２つの搬送ラインを有しているため、処理時間が
長いウエハの搬送・処理と処理時間が短いウエハの搬送
・処理とを別々に分離して行うことができる。このよう
に、処理条件が同じでも処理時間が長いウエハと処理時
間が短いウエハとの搬送ラインの使い分けができるた
め、従来技術でのように、ウエハの搬送・処理待ち時間
が生じるのを防止できる。つまり従来技術では、搬送時
間は、処理時間の長い方に律速されるが、本実施例では
２つの搬送ラインをそれぞれ個別に使用するためこのよ
うな律速が生じない。従って、処理時間が遅くなること
がなく、全体のスピードが低下することがなく、ひいて
はベイ全体のスループットが低下するのを防ぐことがで
きる。 ３．処理条件が違うもので、処理時間が長いウエハと処
理時間が短いウエハとが同じベイ内の搬送ラインに混在
したとしても、ベイ内搬送ラインとして、この場合、並
搬送可能に２つの搬送ラインを有しているため、処理時
間が長いウエハの搬送・処理と処理時間が短いウエハの
搬送・処理とを別々に分離して行うことができる。この
ように、処理条件が違うもので、処理時間が長いウエハ
と処理時間が短いウエハとの搬送ラインの使い分けがげ
きるため、従来技術でのような、ウエハの搬送処理待ち
時間が生じるのを防止できる。つまり従来技術では、搬
送時間は処理時間の長い方に律速されるが、本実施例で
は２つの搬送ラインをそれぞれ個別に使用するためこの
ような律速が生じない。従って、処理時間が遅くなるこ
とがなく、全体のスピードが低下することがなく、ひい
てはベイ全体のスループットが低下するのを防ぐことが
できる。
【００４７】４．同一ＦＯＵＰ内に処理内容が違うウエ
ハが混在した場合で、処理時間が長いウエハと処理時間
が短いウエハとが同じベイ内の搬送ラインに混在したと
しても、ベイ内搬送ラインとして、この場合、並搬送可
能に２つの搬送ラインを有しているため、処理時間が長
いウエハの搬送・処理と処理時間が短いウエハの搬送・
処理とを別々に分離して行うことができる。このよう
に、同一ＦＯＵＰ内であって処理時間が違う処理時間が
長いウエハと処理時間が短いウエハとの搬送ラインの使
い分けを有するため、従来技術でのような、ウエハの搬
送処理待ち時間が生じるのを防止できる。つまり、従来
技術では、搬送時間は処理時間の長い方に律速される
が、本実施例では２つの搬送ラインをそれぞれ個別に使
用するため、このような律速が生じない。従って、処理
時間が遅くなることがなく、全体のスピードが低下する
ことがなく、ひいてはベイ全体のスループットが低下す
るのを防ぐことができる。 ５．特急のウエハ処理で、処理時間が長いウエハと処理
時間が短いウエハとが同じベイ内の搬送ラインに混在し
たとしても、ベイ内搬送ラインとして、この場合、並搬
送可能に２つの搬送ラインを有しているため、処理時間
が長いウエハの搬送・処理と処理時間が短いウエハの搬
送・処理とを別々に分離して行うことができる。このよ
うに、処理時間が長いウエハと処理時間が短いウエハと
の搬送ラインの使い分けができるため、従来技術でのよ
うな、ウエハの搬送処理待ち時間が生じるのを防止でき
る。つまり従来技術では、搬送時間は、処理時間の長い
方に律速されるが、本実施例では、２つの搬送ラインを
それぞれ個別に使用するためこのような律速が生じな
い。従って、処理時間が遅くなることがなく、全体のス
ピードが低下することがなく、ひいてはベイ全体のスル
ープットが低下するのを防ぐことができる。
【００４８】更に、このような一実施例では、次のよう
な効果も得られる。 ６．枚葉搬送ラインが、この場合、並搬送可能に２つの
搬送ラインで構成され、しかも、この２つの搬送ライン
が、上下位置でセットされた構造であるため、もう１つ
の搬送ラインに追設によるクリーンルーム占有床面積
（フットプリント）の増大も抑制することができる。こ
のため、フットプリント当りのスループットの低下を防
止することができる。 ７．枚葉搬送ラインを構成する、この場合、上下２つの
搬送ラインの搬送空間が、清浄ガス雰囲気に保持される
構造のため、これが設置されるクリーンルームの清浄度
をより低く緩和できる。このため、クリーンルームも建
造費を節減できる。 ８．ベイ間搬送ラインとベイ内搬送ライン（枚葉搬送ラ
イン）とを大気ローダタイプのベイストッカーで連結し
た構造であるため、ベイ間搬送ラインとベイストッカー
との間でのFOUPの取扱いを自動化・容易化できる。 ９．ベイストッカーを大気ローダ（大気−清浄ガス雰囲
気間ローダ）で構成すれば良く、ベイ内の各処理装置毎
に大気ローダ部を設ける必要がないため、装置構成を簡
略化でき、その設備費を低減することができる。
【００４９】１０．ベイストッカーの大気ローダ部の清
浄ガス雰囲気と枚葉搬送ラインの搬送空間の洗浄ガス雰
囲気とが連通しているため、これら空間に清浄ガスを供
給する装置を集約でき、これによる設備費及び運転費を
節減することができる。 １１．枚葉搬送ラインを構成する二つの搬送ラインが、
この場合上下位置でセットされ、そして、それぞれの搬
送ラインと対応する処理装置との間でウエハが独立して
受渡しできるため、それぞれの搬送ラインでのウエハの
搬送、それぞれの搬送ラインと対応する処理装置との間
でのウエハの受渡し及び各処理装置でのウエハの処理を
スムーズに行うことができる。これにより、処理時間が
違うウエハが混在した場合でも、特急処理が必要なウエ
ハが来た場合でもベイ内のスループット及び全体でのス
ループットの低下を抑制できる。 １２．本実施例では、枚葉搬送ラインの空間の高さと各
処理室のロック室の高さが略同一高さであるため、枚葉
搬送ラインに、各処理装置を特別なインターフェース部
を用いなくとも連設できる。したがって、各ベイの構築
が容易になり、各ベイの構築に要する時間を短縮でき、
その費用を節減できる。
【００５０】尚、上記の一実施例で、枚葉搬送ラインに
故障を検知する故障検知装置を取り付けるようにする
（図４）。このような構成で、例えば、搬送ライン１２
１が、何らかの原因で故障した場合、この故障が、故障
検知装置で直ちに検知される。この検知信号は、制御装
置（図示省略）に送られ、これにより、例えば、搬送ラ
イン１２２の作動が開始される。このため、このような
異常事態が発生しても、ベイ内でのウエハの枚葉搬送
は、停止されることなく継続される。従って、各処理装
置での処理を停止することなく継続して処理・搬送で
き、ベイ内での全ての作業がスムーズに実施される。さ
らに、このようにベイ内でのウエハの搬送・処理がスト
ップされることがないので、他の関係するベイでのウエ
ハの搬送・処理を全てストップさせずに実施することが
できる。
【００５１】また、上記の一実施例では、枚葉搬送ライ
ンを上下位置にそれぞれ配置された搬送ラインの組合わ
せで構成したが、この他に例えば、下側位置の搬送ライ
ンは一実施例と同じものを使用し、そして上側位置の搬
送ラインにＯＨＴを使用するようにしても良い。
【００５２】図１８、図１９は、本発明の第２の実施例
を示すものである。図１８、図１９で本発明の一実施例
を示す図４、図６、図７、図１４等と異なる点は、枚葉
搬送ライン１２０ｂが、この場合、ループ状の搬送ライ
ン１２１とその長手方向中央部に配置された直線上の搬
送ライン１２３とで構成されている点である。図１８で
処理装置１０１〜１０６が、搬送ライン１２１の長手搬
送方向並びに搬送ライン１２３の搬送方向に沿って、そ
の両側に各３台毎それぞれ配置されている。図１８で、
搬送ライン１２３にはウエハのすくい部を有するロボッ
ト１２３−１、１２３−２が、この場合、２台、搬送ラ
イン１２３の搬送方向の両サイドに１台ずつ可動に配置
されている。
【００５３】図１９で、搬送ライン１２１のループ状の
搬送室７００の底壁部には、例えば、上記一実施例と同
様にリニアレール１２１ａ−１、リニア台車１２１ａ−
２でなる移動体１２１ａが設けられている。この移動体
１２１ａのリニア台車１２１ａ−２にはウエハ保持台１
２１ｂが設けられている。ここで、移動体１２１ａ、ウ
エハ保持台１２１ｂは、上記一実施例のそれらと同様で
あるため、詳細な説明を省略する。図１９で、搬送室７
００の各々対面するサイドにはゲート７０１ａ、７０１
ｂが設けられている。そして、これとは反対サイドに
は、例えば、ロック室１０２ａ、１０５ａがゲート１０
２ｄ、１０５ｄを介してそれぞれ設けられている。ロッ
ク室１０２ａ、１０５ａの中にはすくい部１２−１、１
５−１を有したロボット１２、１５がそれぞれ配置され
ている。ロック室１０２ａ、１０５ａにはゲート１０２
ｃ、１０５ｃを介してそれぞれ処理室１０２ｂ、１０５
ｂが設けられている。尚、図１９で、その他の構成等に
ついては上記一実施例を示す図１３でのそれらと同様で
あり、詳細な説明を省略する。図１９で、搬送室７００
内には、清浄ガス、例えば窒素ガスが供給され、窒素ガ
ス雰囲気に保持されている。
【００５４】図１９で、搬送ライン１２３をその内部に
含む搬送室７０２が設けられている。搬送室７０２の、
この場合、頂壁部には搬送ライン１２３が設けられてい
る。つまり、搬送室７０２の頂壁部には移動体１２３ａ
が設けられている。この移動体１２３ａには非接触移動
体、この場合、リニアレール１２３ａ−１とリニア台車
１２３ａ−２とでなる移動体１２３ａが用いられる。搬
送室７０２の頂壁部には、リニアレール１２３ａ−１が
設けられている。リニア台車１２３ａ−２は、リニアレ
ール１２３ａ−１にガイドされ移動可能に設けられてい
る。リニア台車１２３ａ−２には、ウエハのすくい部を
有するロボット１２３−２が設けられている。搬送室７
０２内の雰囲気は大気雰囲気であっても清浄ガス雰囲気
であっても良い。
【００５５】図１８、図１９で、ベイストッカー部１３
０で所定のウエハを受け取った直線状の搬送ライン１２
３のロボット１２３−２は、リニア台車１２３ａ−２を
移動させることで搬送ライン１２３を直線状に移動させ
られる。その後、この移動は、所定の処理装置に対応す
る位置にリニア台車１２３ａ−２が到達した時点で停止
させられる。その後、すくい部にウエハを有するロボッ
ト１２３−２は搬送室７０２の底壁に向かって下降させ
られる。この下降は、ロック室１０２ａのロボット１２
のウエハのすくい部１２−１との間でウエハを受け渡し
可能な高さで停止させられる。その後、ゲート７０１ａ
が開けられ、ウエハを有するすくい部はゲート７０１ａ
を通して搬送室７００内に繰り出され停止させられる。
一方、ゲート１０２ｄが開けられ、ロック室１０２ａの
ロボット１２のすくい部１２−１がゲート１０２ｄを通
して搬送室７００内に繰り出され、ウエハの受け渡しの
ために停止させられる。すくい部からウエハを渡したロ
ボット１２３−２はゲート７０１ａを通って引き戻さ
れ、その後、元の位置（高さ）に戻されて待機させられ
る。ウエハを受け取ったロボット１２のすくい部１２−
１は、ゲート１０２ｄを通ってロック室１０２ａ内に引
き戻される。その後、ゲート１０２ｄが閉じられ、ロッ
ク室１０２ａ内は処理室１０２ｂ内と同圧力に減圧排気
される。その後、ゲート１０２ｃが開けられ、ウエハ
は、ロック室１０２ａから処理室１０２ｂへ搬送され、
ここで所定処理される。尚、処理後のウエハは上記操作
と逆操作によりベイストッカー部１３０に戻される。図
１８で直線状の搬送ライン１２３のもう一つのロボット
１２３−１も同様の構成、作用をなすので、詳細説明を
省略する。図１８で、例えば、左側に配置されたロボッ
ト１２３−１が、左辺部及び中央部に配置された処理装
置を受持ち、また、右側に配置されたロボット１２３−
２が右辺部及び中央部に配置された処理装置を受持つよ
う制御しても良い。
【００５６】図１８、図１９で、例えば、 ベイ内での各処理装置毎にウエハの処理が異なる場合
でも、ループ状の搬送ラインと直線状の搬送ラインとを
使い分けることで、ベイ内でのウエハの搬送及びウエハ
搬送装置と各処理装置とのウエハの取合いがウエハの処
理が異なることに律速されるのを防止でき、これによっ
てスループットの低下を抑制することができる。 ウエハの処理内容が、例えば、ＦＯＵＰ毎に異なって
いる場合でも、ループ状の搬送ラインと直線状の搬送ラ
インとを使い分けることで、ベイ内でのウエハの搬送及
びウエハ搬送装置と各処理装置とのウエハの取合いがＦ
ＯＵＰ毎にウエハの処理内容が異なっていたとしても、
これに律速されるのを防止でき、これによりスループッ
トの低下を抑制することができる。 ベイ内でのウエハの処理が同一の場合に生じる危険性
がある、ベイ内搬送装置と各処理装置とのウエハの取合
い及びベイ内でのウエハの搬送の混乱を、ループ状の搬
送ラインと直線状の搬送ラインとを使い分けることで防
止でき、これによってベイ内でのスループットの低下を
抑制することができる。
【００５７】処理時間の違うウエハが混在した場合で
も、ループ状の搬送ラインと直線状の搬送ラインとを使
い分けることで、処理時間の短いウエハと処理時間の長
いウエハとの使い分けができるため、スループットの低
下を抑制することができる。 多品種少量生産の場合、特急を要するウエハが来た場
合、例えば、直線状の搬送ラインを活用することで、特
急を要するウエハの搬送処理を普通に処理されるウエハ
の搬送処理と独立して行うことができるため、そのウエ
ハの処理に時間がかかるのを防止でき、スループットの
低下を抑制することができる。 ウエハ搬送ラインが故障してもループ状の搬送ライン
と直線状の搬送ラインとのどちらかを使用できるので、
ベイ内処理や他のベイでの処理がストップするのを防止
できる。 枚葉搬送ラインが、この場合、ループ状の搬送ライン
と直線状の搬送ラインの二つの搬送ラインで構成され、
しかも、直線状の搬送ラインをループ状搬送ラインの設
置範囲内で追設できるため、フットプリントの増大を抑
制でき、フットプリント当たりのスループットの低下を
防止することができる。また、本実施例では、上記一実
施例に比べ、直線状の搬送ラインとしたため、枚葉搬送
ラインの構成、構造がより簡単となり、その追設費用を
削減することができる。尚、その他、上記一実施例の効
果と同様の効果を得ることができる。
【００５８】図２０、図２１は本発明の第３の実施例を
示すものである。図２０、図２１で、本発明の一実施例
を示す図４、図６、図７、図１４等と異なる点は、枚葉
搬送ラインが、この場合、直線状の搬送ラインと、同じ
く直線状の搬送ラインとで構成されている点である。図
２０、図２１で、この場合、各搬送ライン１２４、１２
５は上下の位置関係にあり、搬送ライン１２５が下側位
置、搬送ライン１２４が上側位置にセットされた構造と
なっている。更に、図２０で、このような枚葉搬送ライ
ン１２０ｂはベイ間搬送ライン４００ａ、４００ｂに挟
まれて設置されており、それぞれと対応にその両端部に
はベイストッカー部１３０ａ、１３０ｂが設けられてい
る。図２０、図２１で、このような枚葉搬送ライン１２
０ｂの具体的な構造は、先の一実施例を示した図６、図
７と略同様であり、詳細な説明を省略する。また、図２
０で、この場合、６台の処理装置１０１〜１０６が枚葉
搬送ラインにそれの搬送方向に対してその両側に各３台
それぞれ配置されている。更に、ベイ間搬送ライン、ベ
イストッカー部の構成、これと枚葉搬送ラインとの取り
合い構造、及び枚葉搬送ラインと各処理装置との取り合
い構造は、例えば、先に説明した一実施例のそれらと略
同様であり、詳細説明を省略する。
【００５９】図２０、図２１で、例えば、 ベイ内での各処理装置毎にウエハの処理が異なる場合
でも、二つの直線状の搬送ラインを使い分けることで、
ベイ内でのウエハの搬送及びウエハ搬送装置と各処理装
置とのウエハの取り合いが、ウエハの処理が異なること
により律速されるのを防止でき、これによってスループ
ットの低下を抑制することができる。 ウエハの処理室内が、例えば、ＦＯＵＰ毎に異なって
いる場合でも、二つの直線状の搬送ラインを使い分ける
ことで、ベイ内でのウエハの搬送、及びウエハ搬送装置
と各処理装置とのウエハの取り合いが、ＦＯＵＰ毎にウ
エハの処理内容が異なっていたとしても、これによって
律速されるのを防止でき、これによってベイ内でのスル
ープットの低下を抑制することができる。 ベイ内でのウエハの処理が同一の場合に生じる危険性
があるベイ内搬送装置と各処理装置とのウエハの取り合
い及びベイ内でのウエハの搬送の混乱を、二つの直線状
の搬送ラインを使い分けることで防止でき、これによっ
てベイ内でのスループットの低下を抑制することができ
る。
【００６０】処理時間の違うウエハが混在した場合で
も、二つの直線状の搬送ラインを使い分けることで、処
理時間の短いウエハと処理時間の長いウエハとの使い分
けができるため、スループットの低下を抑制することが
できる。 多品種少量生産の場合、特急を要するウエハが来た場
合、例えば、直線状の搬送ラインのいずれか一方を活用
することで、特急を要するウエハの搬送処理を普通に処
理されるウエハの搬送処理と独立して行うことができる
ため、そのウエハの処理に時間がかかるのを防止でき、
スループットの低下を抑制することができる。 ウエハ搬送ラインが故障しても直線状の搬送ラインの
どちらかを使用できるので、ベイ内でのウエハの搬送、
処理や他のベイでの処理がストップするのを防止でき
る。
【００６１】また、本実施例では、上記一実施例、第２
の実施例に比べ、枚葉搬送ラインを、この場合、二つの
直線状の搬送ラインで構成できるため、フットプリント
の増大を更に抑制でき、フットプリント当たりのスルー
プットの低下を更に防止することができる。また、枚葉
搬送ラインを、この場合、二つの直線状の搬送ラインで
構成できるため、枚葉搬送ラインの構成、構造をより簡
単化でき、費用を削減することができる。更に、図２０
に示すようなベイからベイ間搬送ラインを横切り隣り合
った他のベイへウエハを搬送する場合、どちらかの対応
するベイストッカー部を使用することで、最短搬送距離
でベイから他のベイへウエハを搬送することができる。
このため、ウエハの搬送時間を短縮できスループットを
向上させることができる。
【００６２】図２２〜図２５は、本発明の第4の実施例
を示すものである。図２２〜図２５で、本発明の一実施
例を示す図１３〜１７と異なる点は、枚葉搬送ライン１
２０の下方位置に処理装置１０７のロック室１０７ａを
配置したことにある。
【００６３】図２２、図２３は、枚葉搬送ライン１２０
の上方搬送ライン１２２と例えば処理装置１０７との取
合い構造およびウエハの搬送例を示すものである。ま
た、図２４、図２５は、枚葉搬送ライン１２０の下方位
置にある搬送ライン１２６と例えば処理装置１０７との
取合い構造およびウエハの搬送例を示すものである。図
２２、図２３で、枚葉搬送ライン１２０の空間の下方位
置に処理装置１０７のロック室１０７ａが配置されてい
る。枚葉搬送ラインの空間とロック室１０７ａとはゲー
ト１０７ｅで仕切られている。この場合、ウエハ保持台
１２２ａ−２とウエハ保持具１２２ｂとの中心とゲート
１０７ｅの開口部中心とは、垂直位置で一致させられて
いる。ゲート１０７ｅの開口部の大きさは、少なくとも
ウエハＷの大きさよりも大きい、つまりウエハＷが通過
可能な大きさとなっている。この場合、搬送ライン１２
６のリニアレール１２６ａ−１は、二つに分離されてい
る。このリニアレールは、ゲート１０７ｅをまたぎ配置
されている。尚、搬送ライン１２２の構成は、一実施例
の場合と同様であり、説明を省略する。ロック室１０７
ａの底壁部には、ウエハ保持台１０７ｇが設けられてい
る。ウエハ保持台１０７ｇの上表面がウエハ保持面とな
り、そのウエハ保持面は、ゲート１０７ｅの開口部に対
応している。ロック室１０７ａにはゲート１０７ｃを介
して搬送室１０７ｆが連設され、また、搬送室１０７ｆ
には、ゲート１０７ｄを介して処理室１０７ｂが連設さ
れている。搬送室１０７ｆには、ロボット１０７ｈが設
けられている。
【００６４】図２２で、ウエハ保持具１２２ｂにウエハ
Ｗが保持され、この状態でウエハ保持台１２２ａ−２は
処理装置１０７に向って搬送ライン１２２を移動させら
れる。このウエハ保持台１２２ａ−２が図２２に示すよ
うに処理装置１０７に対応する位置に到着した時点でウ
エハ保持台１２２ａ−２の移動は停止させられる（図２
３（ａ））。その後、ロック室１０７ａ内に清浄ガス、
例えば、窒素ガスが導入され、これによりロック室１０
７ａ内は、枚葉搬送ラインの空間の圧力、略大気圧に調
整される。その後、ゲート１０７ｅが開かれる。その
後、ロック室１０７ａのウエハ保持台１０７ｇに収納さ
れていたウエハ押し上げピン１０７ｊが上昇させられ
る。このウエハ押し上げピン１０７ｊの上昇は、ゲート
１０７ｅの開口部を通過しその先端がウエハ保持具１２
２ｂに外周面を保持されているウエハＷの裏面に到達す
る状態まで続けられる（図２３（ｂ））。その後、ウエ
ハ保持具１２２ｂを半径方向に開くことでウエハＷは、
ウエハ保持具１２２ｂからウエハ押上げピン１０７ｊに
受け渡される。その後、ウエハＷを受取ったウエハ押し
上げピン１０７ｊは下降させられる。この下降は、ウエ
ハ保持台１０７ｇにウエハＷを渡した時点で停止させら
れる。その後、ゲート１０７ｅが閉じられる（図２３
（ｃ））。この状態で、ロック室１０７ａ内は減圧排気
される。搬送室１０７ｆと同圧力となった時点でゲート
１０７ｃが開かれる。その後、押し上げピン１０７ｊが
再起動され、これによりウエハＷはウエハ保持台１０７
ｇより浮かされた状態となる。その後、ロボット１０７
ｈのすくい部が、ゲート１０７ｃの開口部を通ってロッ
ク室１０７ａ内に繰り出される。ロック室１０７ａ内に
繰り出されたロボット１０７ｈのすくい部が、ウエハＷ
の裏面に到達された時点で移動が停止される（図２３
（ｄ））。その後、ウエハ押上げピン１０７ｊは、下降
させられてウエハ保持台１０７ｇに収納させられる。そ
の後、すくい部にウエハＷを受取ったロボット１０７ｈ
は、ゲート１０７ｃを通って搬送室１０７ｆ内に引き戻
される。その後、ゲート１０７ｃは閉じられる（図２３
（ｅ））。尚、その後の運転操作は、一実施例と同様で
あり説明を省略する。また、処理室１０７ｂで処理され
たウエハは、上記操作と逆の操作により処理室１０７ｂ
から１０７ｈ、搬送室１０７ｈからロック室１０７ａそ
してロック室１０７ａから枚葉搬送ラインの空間に戻さ
れ搬送ライン１２２のウエハ保持具１２２ｂに受け渡さ
れ保持される。その後、このウエハは別の処理装置また
は、ＦＯＵＰに搬送される。
【００６５】図２４、図２５でゲート１０７ｅをまたぎ
配置されたリニアレール１２６ａ−１にウエハ保持台が
移動可能に設けられている。ウエハ保持台には、ウエハ
保持具が設けられている。この場合、ウエハ保持具はウ
エハの裏面外周辺部をすくう、すくい具を有している。
すくい具は１２０°間隔で３個配置され、半径方向に開
閉動可能となっている。この場合、ウエハ保持台、ウエ
ハ保持具の中心とゲート１０７ｅの開口部中心とは垂直
位置で一致させられている。尚、その他の構造は図２
２、図２３と略同様であり説明を省略する。図２４で、
ウエハ保持台のウエハ保持具にウエハＷが保持され、こ
の状態でウエハ保持台は処理装置１０７に向かって搬送
ラインを移動させられる。このウエハ保持台が図２４に
示すように処理装置１０７に対応する位置に到着した時
点でウエハ保持台の移動は停止させられる（図２５
（ａ））。その後、ロック室１０７ａ内に清浄ガス例え
ば窒素ガスが導入され、これによりロック室１０７ａ内
は枚葉搬送ラインの空間の圧力、略大気圧に調整され
る。その後、ゲート１０７ｅが開かれる。その後、ロッ
ク室１０７ａのウエハ保持台１０７ｇに収納されていた
ウエハ押し上げピン１０７ｊが上昇させられる。このウ
エハ押し上げピン１０７ｊの上昇は、ゲート１０７ｅの
開口部を通過し、その先端がウエハ保持具に外周面を保
持されているウエハＷの裏面に到達する状態まで続けら
れる。その後、ウエハ保持具を半径方向に開くことで、
ウエハＷは、ウエハ保持具からウエハ押し上げピン１０
７ｊに受け渡される。（図２５（ｂ））その後、ウエハ
Ｗを受け取ったウエハ押し上げピン１０７ｊは下降させ
られる。その後、ゲート１０７ｅが閉じられる（図２５
（ｃ））。尚、その後のウエハの搬送・処理は図２３
（ｄ）（ｅ）と略同様であるため説明を省略する。
【００６６】このような本実施例では、上記一実施例で
の効果の他に次のような効果が得られる。 １．真空処理室のロック室を枚葉搬送ラインの下方位置
に直接配置した構造であるため、この分真空処理装置の
奥行寸法を小さくでき、フットプリントをこの分、狭小
化でき、フットプリント当たりのスループットを更に向
上できる。 ２．真空処理装置の真空搬送室の搬送ロボットの動作か
ら上下動作を省略できるため、その価格の低減と共に故
障等の発生率を低下させることができる。尚、本実施例
では、処理装置のロック室を枚葉搬送ラインの下方位置
に配置した例につき説明したが、この他に処理装置のロ
ック室を枚葉搬送ラインの上方位置に配置した構造とし
ても良い。この場合も、本実施例での効果と同様の効果
を得ることができる。
【００６７】図２６は、本発明の第５の実施例を示すも
ので、ベイ間搬送ラインとベイストッカー部と枚葉搬送
ラインとの取合い構成に係わるものである。本発明の一
実施例を示す図１１と異なる点は次の通りである。ま
ず、本実施例と一実施例との大きな相違点は、ベイ間搬
送ライン４００ｃ、ベイストッカー部１３０ｃ、枚葉搬
送ライン１２０ｄでのウエハの搬送が全て枚葉で実施さ
れるように構成された点にある。図２６で、ベイ間搬送
ライン４００ｃは、ウエハが枚葉で搬送されるように構
成されている。例えば、ベイ間搬送ライン４００ｃは、
清浄ガス雰囲気または減圧雰囲気の空間を形成するトン
ネル状の搬送室（図示省略）と、該搬送室内に設置され
ウエハを一枚毎保持し搬送する手段（図示省略）を有し
ている。このウエハ搬送手段は、例えば、先に一実施例
で説明したようなリニア移動体と、このリニア移動体に
設けられたウエハ保持具を有している。ウエハは、例え
ば、被処理面上向き姿勢にてウエハ保持具に保持され
る。複数台のウエハ保持具が連動して、または、独立し
て移動可能にリニア移動体に設けられている。
【００６８】図２６で、このベイ間搬送ライン４００ｃ
の搬送室及びリニア移動体はベイストッカー部１３０ｃ
の前流側で分岐させられ、そして、その後流側でベイ間
搬送ライン４００ｃの搬送室及びリニア移動体にそれぞ
れ合流連結されている。また、この場合、ループ状の枚
葉搬送ライン１２０ｄのベイストッカーサイド部分が、
ベイストッカー部１３０ｃの分岐搬送ライン１３０ｃ−
１に連結されている。枚葉搬送ライン１２０ｄは、ルー
プ状の搬送室（図示省略）と、この搬送室内に設置され
ウエハを一枚毎保持し搬送する手段（図示省略）であっ
て、この場合、上下方向の２ヶ所に設置された搬送手段
とを有している。ループ状の搬送室内は、清浄ガス雰囲
気または減圧雰囲気に調整される。この場合の２セット
のウエハ搬送手段は、先に説明したようなリニア移動体
と、このリニア移動体に設けられたウエハ保持具を有し
ている。下側のウエハ保持具では、ウエハは、例えば、
被処理面上向き水平姿勢にて保持される。また、上側の
ウエハ保持具では、ウエハは、例えば、被処理面上向き
水平姿勢、または、被処理面下向き水平姿勢にて保持さ
れる。下側には、複数台のウエハ保持具が連動して、ま
たは、独立して移動可能に下側のリニア移動体に設けら
れている。また、上側には複数台のウエハ保持具が連動
して、または、独立して移動可能に上側のリニア移動体
に取り付けられている。
【００６９】図２６で、枚葉搬送ライン１２０ｄの搬送
室及びリニア移動体は、ベイストッカー部１３０ｃの分
岐搬送ライン１３０ｃ−１の搬送室及びリニア移動体に
それぞれ連結されている。枚葉搬送ライン１２０ｄの搬
送室とベイストッカー部１３０ｃの分岐搬送ライン１３
０ｃ−１の搬送室とは連通状態となっている。図２６
で、枚葉搬送ライン１２０ｄの例えば、上側位置の搬送
ラインのリニア移動体が、分岐搬送ライン１３０ｃ−１
のリニア移動体にウエハを受渡し可能に連結されてい
る。この場合、分岐搬送ライン１３０ｃ−１と枚葉搬送
ライン１２０ｄとの間でのウエハ受渡しは、上側位置の
搬送ラインを用いて実施される。また、上側位置の搬送
ラインと下側位置の搬送ラインとの間で、ウエハの受け
渡しが可能な構造となっている。つまり、このような場
合、分岐搬送ライン１３０ｃ−１を搬送されてきたウエ
ハは、分岐搬送ライン１３０ｃ−１から上側位置の搬送
ラインに渡される。その後、ウエハが有する処理情報に
より、このウエハはそのまま上側位置の搬送ラインを搬
送されて、所定の処理装置に搬送されたり、また、上側
位置の搬送ラインから下側位置の搬送ラインに渡され、
その後、この搬送ラインを搬送されて所定の処理装置に
搬送される。その後、ベイ内での所定処理が終了したウ
エハは、上側位置の搬送ラインを搬送された後に、この
搬送ラインからベイストッカー部１３０ｃに渡された
り、また、下側位置の搬送ラインを搬送された後に、こ
の搬送ラインから上側位置の搬送ラインへ、そして、こ
の搬送ラインからベイストッカー部１３０ｃに渡され
る。尚、このような搬送ラインの使い分けの制御は、例
えば、上記一実施例の場合と略同様にして実施されるの
で、その詳細は省略する。
【００７０】図２６で、更に、ベイストッカー部１３０
ｃにおいて分岐搬送ライン１３０ｃ−１の後流サイドか
ら分岐された搬送ラインが、その後、分岐搬送ラインの
前流側で分岐搬送ラインに合流連結されている。この搬
送ライン１３０ｃ−２は、トンネル状の搬送室（図示省
略）と、この搬送室内に設置され、先に説明したリニア
移動体のリニアレールとを有している。この場合、搬送
室は分岐搬送室に、また、リニアレールは分岐搬送ライ
ンのリニアレールにそれぞれ連結されている。搬送室と
分岐搬送室とは連通状態となっている。この場合、搬送
室内がストッカ的機能及び搬送を整理するためのバッフ
ァ機能を有している。
【００７１】図２６で、ベイ間搬送ライン４００ｃを一
枚毎搬送されてきたウエハの内でベイでの処理が必要と
判断されたウエハは、ベイ間搬送ライン４００ｃから分
岐搬送ライン１３０ｃ−１に分流搬送される。この分岐
搬送ライン１３０ｃ−１に搬送されてきたウエハは、そ
の処理内容等により枚葉搬送ライン１２０ｄの上側、ま
たは、下側に配置されて搬送ラインを一枚毎搬送され
る。このようにしてウエハは一枚毎、所定の処理装置に
搬送され、そして所定処理される。処理済みのウエハ
は、枚葉搬送ライン１２０ｄの搬送ラインを一枚毎搬送
されベイストッカー部１３０ｃを介してベイ間搬送ライ
ン４００ｃに搬送合流させられる。その後、このウエハ
は、ベイ間搬送ライン４００ｃにより別のベイ等へ搬送
される。図２６で、必要に応じ処理前または処理済みの
ウエハはベイストッカー部１３０ｃに一時保管されるよ
うになっている。図２６では２枚のウエハを一時保管可
能となっているが、この枚数については適宜決められ
る。
【００７２】以上のような実施例では、上記一実施例で
の効果を得ることができると共に、更に次のような効果
を得ることができる。 １．ベイ間搬送ラインと枚葉搬送ラインとがウエハを一
枚毎搬送するラインであるため、これらラインと連結す
るベイストッカー部の構成、構造を一実施例に比べ大幅
に簡素化、小型化できる。このため、一実施例に比べ、
搬送ラインの構築費用を節減できる。また、フットプリ
ントを狭小化できるので、フットプリント当たりのスル
ープットを向上させることができる。 ２．ベイ間搬送ライン、ベイストッカー部、枚葉搬送ラ
インを清浄ガス雰囲気、または減圧雰囲気とするため、
これらが設置されるクリーンルームの清浄度をより緩や
かなものとすることができ、この面での設備費等の費用
を節減することができる。
【００７３】以上の実施例ではウエハ自体を一枚毎搬送
し処理する例について説明したが、この他に、例えば、
清浄ガス雰囲気又は減圧雰囲気を保持された空間であっ
て、ウエハを一枚のみ収容可能な空間を備えたウエハ保
持具を用い、ウエハを一枚毎搬送し処理するように構成
しても良い。この場合、図１６を用いて説明した搬送
室、つまりベイ間搬送ライン、ベイストッカー部、ベイ
内の枚葉搬送ラインを構成する搬送室は、特に必要とさ
れない。ただし、ウエハ保持具を移動させる移動体、例
えば、リニアレールとリニア台車とでなるリニア移動体
の設置は、勿論、この場合も必要である。更に、この場
合、各処理装置の、例えば、ロック室内とウエハ保持具
内とを連通させ、及びその連通を遮断する手段が必要と
なる。
【００７４】例えば、ウエハを一枚収容したウエハ保持
具は、ベイ間搬送ライン、ベイストッカー部、ベイ内の
搬送ラインのどちらかの搬送ラインのリニアレール上を
リニア台車に載せられて所定の処理装置の所まで搬送さ
れる。その後、ウエハ保持具内とロック室内とは連通さ
せられ、ウエハ保持具内のウエハはロック室内に搬入さ
れ、その後、ロック室から処理室に搬入されてここで所
定処理される。処理済みのウエハは処理室からロック室
へ搬出され、ウエハ保持具内に戻されて収容される。そ
の後、ウエハ保持具内とロック室内との連通は遮断さ
れ、ウエハ保持具はロック室から分離させられる。その
後、このウエハ保持具は、例えば、他の処理装置やベイ
ストッカー部に向かって搬送される。ベイストッカー部
に搬送されてきたウエハ保持具は、その後、ベイ間搬送
ラインにより他のベイ等へ搬送される。
【００７５】このような例の場合、図２６を用いて説明
した実施例での効果の他に、更に、次のような効果を得
ることができる。 １．ベイ間搬送ライン、ベイストッカー部、ベイ内の枚
葉搬送ラインを全て開放構造とできるため、これらの構
成、構造を更に簡素化でき、それらの構築費を節減する
ことができる。 ２．ベイ間搬送ライン、ベイストッカー部、ベイ内の枚
葉搬送ラインを全て開放構造とでき、ウエハはウエハ保
持具に収容して搬送するため、これら搬送室内の清浄度
をより緩やかなものとすることができ、この面での設備
費等の費用を節減することができる。 ３．ベイ間搬送ライン、ベイストッカー部、ベイ内の枚
葉搬送ラインを全て開放構造、つまり、クリーンルーム
内に開放構造にできるため、メンテナンス、修理を容易
に行うことができる。
【００７６】図２７は、本発明の第６の実施例を示すも
のである。図２７で、本発明の一実施例を示す図４、図
１３等と異なる点は、次のとおりである。図２７で、枚
葉搬送ライン１２０に沿って配置された処理装置１０８
は次のような構成となっている。図２７で、この場合、
共通の真空搬送室１０８ｃを備え、これに、真空処理
室、例えば、ウエハが一枚毎処理される枚葉タイプの真
空処理室１０８ｄが複数室設けられている。図２７で、
真空搬送室１０８ｃの形状は、例えば、六角形である。
真空処理室１０８ｄが４室、この場合、各辺に対応し、
それぞれゲート１０８ｈを介して真空搬送室１０８ｃ
の、この場合、側壁部に設けられている。真空搬送室内
１０８ｃには、ウエハの搬送ロボット、この場合、２つ
のウエハすくい部を別々に有するダブルアームタイプの
ロボット１０８ｉが設けられている。
【００７７】図２７で、その左辺部、つまり、ベイ間搬
送ライン４００側に配置された処理装置１０８は、真空
搬送室１０８ｃの残された二辺の側壁部に対応しそれぞ
れゲート１０８ｇを介してウエハ保持室１０８ｂが２室
設けられている。それぞれのウエハ保持室１０８ｂに
は、それぞれゲート１０８ｆを介してロック室１０８ａ
が設けられている。それぞれのロック室１０８ａ内に
は、ウエハ搬送用のロボット１０８ｊが設けられてい
る。また、それぞれのロック室１０８ａと枚葉搬送ライ
ン１２０とはゲート１０８ｅを介してウエハを、この場
合は、一枚毎に受渡し可能な取合い構造となっている。
この取合い構造等は上記の一実施例の場合と略同様であ
り説明を省略する。図２７で、その左辺部に配置された
処理装置１０８では、枚葉搬送ライン１２０の搬送ライ
ンのいずれかを搬送されてきたウエハは、開けられてい
るゲート１０８ｅを通してロック室１０８ａのロボット
１０８ｊにより受取られ（ゲート１０８ｅ閉）、ウエハ
保持室１０８ｂにて一時保持される。このウエハ保持室
１０８ｂでは、真空処理室１０８ｄでのウエハの処理内
容によるが、ウエハの清浄処理、ベーク処理、加熱等が
実施される。その後、このウエハは、開けられているゲ
ート１０８ｈを通して真空搬送室１０８ｃのロボット１
０８ｉによりウエハ保持室１０８ｂから真空搬送室１０
８ｃへ、そして、真空搬送室１０８ｃから真空処理室１
０８ｄのいずれかへ搬送されて処理される。このように
して各真空処理室でのウエハの処理が実施される。真空
処理室１０８ｄでの処理が終了したウエハは開けられて
いるゲート１０８ｈを通して真空搬送室１０８ｃのロボ
ット１０８ｉによりウエハ保持室１０８ｂに搬送され、
ここで一時保持される（ゲート１０８ｈ閉）。例えば、
ウエハが加熱処理された場合は、このウエハ保持室１０
８ｂが冷却室として使用される。その後、このウエハ
は、開けられているゲート１０８ｆを通してロボット１
０８ｊによりウエハ保持室１０８ｂからロック室１０８
ａへ搬送される（ゲート１０８ｆ閉）。その後、このウ
エハは、開けられるゲート１０８ｅを通してロック室１
０８ａから枚葉搬送ライン１２０の搬送ラインのいずれ
かに渡され、別の場所、例えば、別の処理装置やＦＯＵ
Ｐ等に搬送される。
【００７８】このような構成では、ウエハ保持室を備え
ているため、本発明の一実施例の構成に比べ、真空搬送
室、各真空処理室内の汚染を防止することができ、汚染
によるスループットの低下を抑制することができる。ま
た、例えば、左側のロック室１０８ａを枚葉搬送ライン
１２０の、例えば、下側位置の搬送ライン１２１にゲー
ト１０８ｅを介して取合いとし、また、右側のロック室
１０８ａと枚葉搬送ライン１２０の上側位置の搬送ライ
ン１２２にゲート１０８ｅを介して取合いをすることも
できる。このように構成した場合、搬送処理ラインを、
下側位置の搬送ライン１２１⇔左側のロック室１０８ａ
⇔左側のウエハ保持室１０８ｂ⇔真空搬送室１０８ｃ⇔
左側の２つの真空処理室１０８ｄと、上側位置の搬送ラ
イン１２２⇔右側のロック室１０８ａ⇔右側のウエハ保
持室１０８ｂ⇔真空搬送室１０８ｃ⇔右側の２つの真空
処理室１０８ｄとの２つのラインに分離し使い分けする
ことができる。このため、２つのラインで異なるウエハ
の処理を並列にて実施でき、ウエハの処理にとって裕度
を更に確保することができる。また、２つのラインの
内、どちらかのラインが故障等により停止したとしても
残りのラインによりウエハの搬送・処理を続行させるこ
とができ、ウエハの生産性の低下を抑制することができ
る。
【００７９】また、図２７で、その中央部に配置された
処理装置１０９では、真空搬送室１０９ｃの残されたニ
辺の側壁部に対応してそれぞれゲート１０９ｇを介して
ロック室１０９ａが設けられている。それぞれのロック
室１０９ａ内にはウエハ搬送用のロボット１０９ｊが設
けられている。また、それぞれのロック室１０９ａと枚
葉搬送ライン１２０とはゲート１０９ｅをそれぞれ介し
ウエハを、この場合、一枚毎に受渡し可能な取合い構造
となっている。この取合い構造、その他の構造について
は左辺部の処理装置１０８と同様であり説明を省略す
る。図２７で、その中央部に配置された処理装置１０９
では、枚葉搬送ライン１２０の搬送ラインのいずれかを
搬送されてきたウエハは、開けられているゲート１０９
ｅを通ってロック室１０９ａに受け取られる（ゲート１
０９ｅ開）。その後、このウエハは、開けられているゲ
ート１０９ｇを通ってロック室１０９ａから真空搬送室
１０９ｃへ、そして真空搬送室１０９ｃのロボット１０
９ｊにより真空搬送室１０９ｃから真空処理室１０９ｄ
のいずれかに搬送される。このようにして、各真空処理
室１０９ｄでのウエハの処理が実施される。真空処理室
１０９ｄでの処理が終了したウエハは、真空搬送室１０
９ｃのロボット１０９ｉにより開いているゲート１０９
ｇを通って真空搬送室１０９ｃからロック室１０９ａに
搬送される（ゲート閉）。その後、このウエハは、開か
れているゲート１０９ｅを通ってロボット１０９ｊによ
りロック室１０９ａから枚葉搬送ライン１２０の搬送ラ
インのいずれかに渡され、別の場所、例えば、別の処理
装置やＦＯＵＰ等に搬送される。このような構成では、
先述した左辺部に配置した例に比べ、ウエハ保持室１０
８ｂを備えていないため、この分、処理装置の奥行寸法
を小さくでき、フットプリントを減少させることができ
る。従って、このような構成では、左辺部に配置した例
に比べ、フットプリント当りのスループットを向上させ
ることができる。尚、このような作用効果は、本発明の
一実施例でのそれと略同様である。
【００８０】図２７で、ベイ間搬送ライン４００から最
も離れたサイド、つまり、その右辺部に配置された処理
装置１１０では、それぞれのロック室１１０ｂにはそれ
ぞれゲート１１０ｆを介してウエハ搬送室１１０ａが設
けられている。それぞれのウエハ搬送室１１０ａには、
ウエハ搬送用のロボット１１０ｊが設けられている。こ
の場合、ウエハ搬送室１１０ａはロック機能を有してお
らず枚葉搬送ライン１２０の空間と常に連通状態となっ
ている。
【００８１】図２７で、その右辺部に配置された処理装
置１１０では、枚葉搬送ライン１２０の搬送ラインのい
ずれかを搬送されてきたウエハは、ウエハ搬送室１１０
ａのロボット１１０ｊにより受取られ、開かれたゲート
１１０ｆを通ってロック室１１０ｂ内に搬入される（ゲ
ート１１０ｆ閉）。その後、ロック室１１０ｂ内のウエ
ハは、開かれたゲート１１０ｇを通って真空搬送室１１
０ｃのロボット１１０ｉにより真空搬送室１１０ｃへ搬
送され、更に、真空搬送室１１０ｃから真空処理室１１
０ｄのいずれかに搬送されて処理される。真空処理室１
１０ｄでの処理が終了したウエハは、開かれたゲート１
１０ｈを通って真空搬送室１１０ｄのロボット１１０ｉ
により真空搬送室１１０ｃからロック室１１０ｂに搬送
される（ゲート閉１１０ｇ）。その後、このウエハは、
ウエハ搬送室１１０ａのロボット１１０ｊによりロック
室１１０ｂから枚葉搬送ライン１２０の搬送ラインのい
ずれかに渡されて別の場所、例えば、別の処理装置やＦ
ＯＵＰ等に搬送される。
【００８２】このような構成では、ウエハ搬送室１１０
ａが枚葉搬送ライン１２０と各処理装置とのインターフ
ェースとしての機能を有するため、ベイ内での各処理装
置の据付け工事が容易となる。例えば、各処理装置は、
各処理装置の製造メーカでロック室を含む範囲で製造さ
れるため、ベイ内での枚葉搬送ラインとの取合いにおい
て寸法的なずれや誤差を生じ、据付けが極めて困難なも
のとなる。しかし、本実施例のように、それらのインタ
ーフェース部を設けることで、この問題を解決すること
ができる。また、このような構成では、ロック室を備え
ているため、本発明の一実施例の構成に比べ、真空搬送
室、各真空処理室内の汚染を防止でき、汚染によるスル
ープットの低下を抑制することができる。また、例え
ば、左側のウエハ搬送室を枚葉搬送ラインの、例えば、
下側位置の搬送ラインと取合いとし、また、右側のウエ
ハ搬送室を枚葉搬送ラインの上側位置の搬送ラインと取
合いとすることもできる。
【００８３】このように構成した場合、搬送処理ライン
を、下側位置の搬送ライン１２１⇔左側のウエハ搬送室
１１０ａ⇔左側のロック室１１０ｂ⇔真空搬送室１１０
ｃ⇔左側の２つの真空処理室１１０ｄと、上側位置の搬
送ライン１２２⇔右側のウエハ搬送室１１０ａ⇔右側の
ロック室１１０ｂ⇔真空搬送室１１０ｃ⇔右側の２つの
真空処理室１１０ｃとの２つのラインに分離し使い分け
することができる。このため、左辺部に配置された例の
場合の作用効果と同様の作用効果を得ることができる。
尚、このような構成の場合、ウエハ搬送室に減圧手段を
設ける必要はなく、枚葉搬送ラインの空間雰囲気が清浄
ガス雰囲気である場合はこれと連通するウエハ搬送室内
に清浄ガスを供給する手段を設ければ良い。また、枚葉
搬送ラインの空間が開放空間である場合には、これと同
じく開放構造とすれば良い。
【００８４】以上、図２７を用い本発明の第７の実施例
を説明したが、図２７で、本発明の一実施例を示す図
４、図１３等と同様の構成、作用等については説明を省
略した。更に、図２７での実施例に対し、次のような変
形、改良を行うことができる。 図２７では、共通の真空搬送室に複数室の枚葉処理用
の真空処理室を設けたタイプの処理装置を例にとり説明
したが、特にこれには限定されない。例えば、真空処理
室が複数のウエハを同時に処理する、つまり、バッチ処
理室のみであったり、このようなバッチ処理室と枚葉処
理室との組合わせであったりしても、本発明を実施する
上で、特に問題を生じない。 ベイを、枚葉マルチタイプの処理装置やバッチ処理装
置や、（バッチ処理＋枚葉処理）装置や真空処理室が１
室である単一処理装置等の組合わせで構成しても、本発
明を実施する上で、特に問題を生じない。 ベイを、このような真空処理装置とそれ以外の処理装
置、例えば、常圧でウエハが処理される処理装置や、加
圧状態でウエハが処理される処理装置等の組合わせで構
成しても、本発明を実施する上で、特に問題を生じな
い。
【００８５】例えば、リソグラフィ、プラズマＣＶＤ装
置、スパッタ装置、プラズマエッチング装置、検査・評
価装置、ＣＭＰ（Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｍｅｃｈａｎｉｃ
ａｌＰｏｌｉｓｈｅｒ）、真空蒸着装置、メッキ装置等
がベイの構成に採用される。尚、このような処理装置と
しては、ベイでのウエハの処理に必要な処理装置が、実
用上、選択されて配置されることは言うまでもない。
【００８６】図２８は本発明の第７の実施例を示すもの
である。図２８は枚葉搬送ライン部を横切った状態の断
面図である。図２８で左側の搬送室７０３には、その左
方向でロック室、処理室がゲートを介して順次連設され
ている。図２８で右側の搬送室７０３には、その右方向
でロック室、処理室がゲートを介して順次連設されてい
る。図２８で、この場合、搬送室７０３、例えば、ロッ
ク室１０２ａ、処理室１０２ｃのそれぞれの底壁面は略
同一高さである。この場合、基礎（床）面からの高さＨ
１である。一方、図２８で、この場合、搬送室７０３、
例えば、ロック室１０５ａ’、処理室１０５ｂ’のそれ
ぞれの頂壁面は、略同一高さである。この場合、基礎
（床）面からの高さＨ２である。従って、図２８で搬送
室７０３の高さＨ３は、Ｈ２−Ｈ１となる。
【００８７】図２８でこのような搬送室７０３内には、
下側の搬送ライン１２１の、例えば、、非接触移動体の
リニアレール１２１ａ−１が、その底壁面に設けられ、
上側の搬送ライン１２２の、例えば、非接触移動体のリ
ニアレール１２２ａ−２が、その頂壁部に設けられてい
る。ここで、各搬送ライン１２１、１２２の構成、構造
は、先の一実施例と略同様であり、詳細説明を省略す
る。また、各搬送室７０３内は、先の一実施例と同様に
清浄ガス雰囲気となっている。図２８で、左側及び右側
のロック室１０２ａ、１０５ａ’内には、一実施例と同
様のウエハすくい部１２−１、１５−１’を有する搬送
用のロボット１２、１５’が設けられている。一般的に
ロック室１０２ａ、１０５ａ’までを含む処理装置が装
置メーカによって別々に製造され、例えば、半導体工場
のベイに各々搬入、設置される。ここで、例えば、ロッ
ク室の高さがそれぞれの装置に係わらず略同一高さに統
一されている場合には、特に問題ない。しかし多くの場
合、それぞれの装置においてロック室の高さが異なって
いる。
【００８８】図２８に示す実施例では、このような点を
考慮したもので、枚葉搬送ラインをインターフェイス部
とすることで、先述したように装置毎にロック室の高さ
が異なっていても、これによる問題を解決でき、ベイの
構築をスムーズに行うことができる。図２８で、例え
ば、左側の搬送室７０３で、下側の搬送ライン１２１を
搬送されてきた、または、搬送されるウエハのロック室
１０２ａのロボット１２との受け渡しは、先の一実施例
での場合と同様に行われる。一方、上側の搬送ライン１
２２を搬送されてきたウエハのロック室１０２ａのロボ
ット１２との受け渡しは、次のようにして実施される。
まず、ウエハを保持している状態でウエハ保持具１２２
ｂが下降させられる。この下降は、ロック室１０２ａの
ロボット１２の間でウエハ受け渡し可能な高さ（位置）
で停止させられる。その後、ゲート１０２ｄが開けら
れ、ロック室１０２ａのロボット１２のウエハのすくい
部１２−１がウエハ保持具１２２ｂに向かって繰り出さ
れ、その結果、ウエハ保持具１２２ｂのウエハはロボッ
ト１２のすくい部１２−１にすくい渡される。その後、
このウエハは先の一実施例での場合と同様に、処理室１
０２ｂで所定処理される。この間、ウエハを渡したウエ
ハ保持具１２２ｂは、下側の搬送ライン１２１でのウエ
ハの搬送を阻害しないように元の高さの所に戻されて待
機させられる。処理室１０２ｂでの処理が終了したウエ
ハは処理室１０２ｂからロック室１０２ａへ戻される。
また、待機させられているウエハ保持具１２２ｂは下降
させられ、所定の高さ（位置）で停止させられる。その
後、ロック室１０２ａ内は圧力をリークされてゲート１
０２ｄが開けられる。この状態でロック室１０２ａ内の
処理済みのウエハはロボット１２を繰り出すことでロッ
ク室１０２ａ内から搬送室７０３内に搬送され、そし
て、ウエハ保持具１２２ｂに再び渡される。その後、こ
のウエハはウエハ保持具１２２ｂに保持されて、例え
ば、搬送室内を右側のロック室１０５ａ’に対応する位
置まで搬送される。このウエハは、ウエハ保持具１２２
ｂからロック室１０５ａ’のロボット１５’のウエハす
くい部１５−１’に渡される。その後、このウエハは先
の一実施例と同様に処理室１０５ｂ’で所定処理され
る。処理室１０５ｂ’での処理が終了したウエハは処理
室１０５ｂ’からロック室１０５ａ’へ戻される。その
後、ロック室１０５ａ’内は圧力をリークされてゲート
が開けられる。この状態で、ロック室１０５ａ’内の処
理済みのウエハはロボット１５’を繰り出すことでロッ
ク室１０５ａ’から搬送室７０３内に搬送され、そして
ウエハ保持具１２２ｂに再び渡される。その後、このウ
エハは搬送室７０３内を、例えば、他の処理装置で処理
するために搬送されたり、例えば、ベイストッカー部の
ＦＯＵＰに戻すために搬送される。
【００８９】図２８で、更に下側の搬送ライン１２１を
搬送されてきたウエハのロック室１２２ａのロボット１
２との受け渡しは、次のようにして実施される。まず、
下側の搬送ライン１２１でウエハを保持するウエハ保持
台１２１ｂが搬送され、この搬送は、所定の処理装置１
０２のロック室１０２ａに対応する位置に到着した時点
で停止させられる。その後、ゲート１０２ｄが開けら
れ、ロック室１０２ａのロボット１２のウエハすくい部
１２−１がウエハ保持台１２１ｂに向かって繰り出さ
れ、その結果、ウエハ保持台１２１ｂのウエハは、ロボ
ット１２のすくい部１２−１にすくい渡される。その
後、このウエハは先の一実施例での場合と同様に処理室
１０２ｂで所定処理される。この間、例えば、ウエハを
渡したウエハ保持台１２１ｂは、次のウエハの搬送を阻
害しないように、搬送室７０３内を前に進められる。処
理室１０２ｂでの処理が終了したウエハは、処理室１０
２ｂからロック室１０２ａへ戻される。一方、このロッ
ク室１０２ａに対応した位置には、ウエハ受け取りのた
めのウエハ保持台１２１ｂが移動させられている。その
後、ロック室１０２ａ内は圧力をリークされてゲート１
０２ｄが開けられる。この状態で、ロック室１０２ａ内
の処理済みのウエハはロボット１２を繰り出すことで、
ロック室１０２ａ内から搬送室７０３内に搬送され、そ
して、ウエハ保持台１２１ｂに渡される。その後、この
ウエハはウエハ保持台１２１ｂに保持されて、例えば、
搬送室７０３内を右側のロック室１０５ａ’に対応する
位置まで搬送される。その後、このウエハは一実施例で
の場合と同様に押し上げピンにより搬送室７０３内をそ
の頂壁部に向かって上昇させられる。この上昇は、所定
の高さに達した時点で停止させられる。その後、ゲート
１０５ｄ’が開けられ、ロック室１０５ａ’のロボット
１５’のウエハのすくい部１５−１’がウエハ保持台１
２１ｂに向かって繰り出され、その結果、ウエハ保持台
１２１ｂのウエハは、ロボット１５’のすくい部１５−
１’にすくい渡される。その後、このウエハは、先の一
実施例での場合と同様に処理室１０５ｂ’で所定処理さ
れる。この間、例えば、ウエハを渡したウエハ保持台１
２１ｂは、次のウエハの搬送を阻害しないように、搬送
室７０３内を更に前へ進められる。処理室１０５ｂ’で
の処理が終了したウエハは、処理室１０５ｂ’からロッ
ク室１０５ａ’へ戻される。一方、このロック室１０５
ａ’に対応した位置には、ウエハ受け取りのためのウエ
ハ保持台１２１ｂが移動させられている。その後、ロッ
ク室１０５ａ’内は圧力をリークされてゲートが開けら
れる。この状態で、ロック室１０５ａ’内の処理済みの
ウエハはロボット１５’を繰り出すことで、ロック室１
０５ａ’内から搬送室７０３内へ搬送され、そして、ウ
エハ保持台１２１ｂに渡される。その後、このウエハは
搬送室７０３内を、例えば、他の処理装置で処理するた
めに搬送されたり、例えば、ベイストッカー部のＦＯＵ
Ｐに戻すために搬送される。
【００９０】このような実施例では、上記の一実施例で
の効果と同様の効果が得られると共に、更に次のような
効果が得られる。１．ベイ内に設置される各処理装置
の、例えば、ロック室の高さが異なっていたとしても、
このような枚葉搬送ラインをインターフェイス部とする
ことで、ベイの構築をスムーズに行うことができる。こ
れによってベイの構築工程を短縮でき、ベイの構築費用
を節減することができる。また、ベイの立ち上げ時間を
短縮することができ、スループットを向上させることが
できる。このような本実施例では、処理装置のロック室
で、高さが低いロック室に搬送室の底壁の高さを合わ
せ、処理装置のロック室で高さの高いロック室に搬送室
の頂壁の高さを合わせるように構成しているが、このよ
うなことは、本実施例に特に限定されない。つまり、各
処理装置の高さに対応するインターフェイス部を持つよ
うに枚葉搬送ラインを構成すれば、いかなる構造であっ
ても良い。
【００９１】図２９、図３０は本発明の第８の実施例を
示すものである。図２９、図３０は、特に図２２、２３
で示し説明した実施例、つまり、枚葉搬送ライン１２０
の空間の下方位置に処理装置のロック室７０４が配置さ
れた構成の、また、別の実施例を示すものである。
【００９２】図２９、図３０で、先の実施例を示した図
２２、図２３と異なる点は、次の通りである。この異な
る点は、特に図２９により明らかに説明される。図２９
で枚葉搬送ライン１２０、この場合、下の搬送ライン１
２６の下方位置に配置されているロック室７０４が、１
つの処理装置のみでなく、複数の処理装置（１０１、１
０２）、この場合、二台の処理装置に共通して構成され
ている。ロック室７０４内には、ウエハの搬送手段が設
けられている。搬送手段には、この場合、非接触移動
体、この場合、リニアレール１２７ａ−１とリニア台車
１２７ａ−２とでなる移動体１２７ａが用いられる。ロ
ック室７０４の底壁部には、リニアレール１２７ａ−１
が設けられている。リニアレール１２７ａ−１はロック
室７０４の長手方向で処理装置が並べられている方向に
設けられている。リニアレール１２７ａ−１には、少な
くとも１台、リニア台車１２７ａ−２が移動可能に設け
られている。このリニア台車１２７ａ−２のウエハ保持
台１２７ｂは、ロック室７０４と搬送室１０１ａとの間
に設けられたゲート１０１ｄの開口部に対応させられて
いる。この場合、このゲート１０７ｅは処理装置１台、
この場合、左側の処理装置１台にのみ対応して設けられ
ている。尚、図２９、図３０で、先の実施例を示した図
２２、図２３と同様の構成、構造は同一符号で示し説明
を省略した。
【００９３】図２９、図３０で、枚葉搬送ライン１２０
の、例えば、下側の搬送ライン１２６で搬送されてきた
ウエハは、ロック室７０４に搬入される。このロック室
７０４内に搬入されたウエハは、この中のウエハ保持台
１２７ｂに渡される。ウエハを受け取ったウエハ保持台
１２７ｂは、例えば、右側に配置された処理装置１０２
の搬送室１０２ａに向かってロック室７０４内を移動さ
せられる。このウエハ保持台１２７ｂの移動は、このウ
エハ保持台１２７ｂが、右側に配置された処理装置１０
２のゲート１０２ｄに対応する位置に到着した時点で停
止される。その後、ゲート１０２ｄが開かれ、ウエハ保
持台１２７ｂのウエハは、搬送室１０２ａそして処理室
１０２ｂへ搬送されて所定処理される。処理済みのウエ
ハは、先程の操作と逆操作により処理室１０２ｂ→搬送
室１０２ａ→ロック室７０４、そして下側の搬送ライン
１２６に搬送されてウエハ保持台１２６ｂに渡される。
処理済みのウエハを受け取ったウエハ保持台１２６ｂ
は、下側の搬送ライン１２６を別の処理装置やベイスト
ッカー部等へ向かって搬送される。
【００９４】図２９、図３０で、枚葉搬送ライン１２０
の、例えば、下側の搬送ライン１２６で搬送されてきた
次のウエハは、ロック室７０４内に搬入される。このロ
ック室７０４内に搬入されたウエハは、この中のウエハ
保持台１２７ｂに渡される。ウエハを受け取ったウエハ
保持台１２７ｂは、この場合、移動させられない。つま
り、このウエハは、この場合、左側の処理装置１０１で
処理される必要があり、このゲート１０１ｄに対応した
位置にウエハ保持台１２７ｂが停止されている。その
後、ゲート１０１ｄが開けられ、ウエハ保持台１２７ｂ
のウエハは搬送室１０１ａ、そして処理室１０１ｂへ搬
送されて所定処理される。処理済みのウエハは、先程の
操作と逆操作により処理室１０１ｂ→搬送室１０１ａ→
ロック室７０４、そして下側の搬送ライン１２６に搬送
されウエハ保持台１２６ｂに渡される。この処理済みの
ウエハを受け取ったウエハ保持台１２６ｂは、下側の搬
送ライン１２６を別の処理装置やベイストッカー部へ向
かって搬送される。
【００９５】図２９、図３０で、図２２、図２３の実施
例に比べ、処理装置毎に枚葉搬送ラインとのゲート等の
取り合いを少なくして簡素化できるため、ベイの構築費
を節減することができる。尚、図２９、図３０で枚葉搬
送ラインで、下側の搬送ラインを使用する場合につき説
明したが、上側の搬送ラインを使用、また、上側、下側
の搬送ラインを使用する場合も同様に操作でき、特に問
題は生じない。図２９、図３０で次のような使用も有効
である。 処理装置内のウエハの搬送をロック室を介して実施す
る。例えば、左側の処理装置で所定処理されたウエハ
を、ロック室内を搬送して右側の処理装置の処理室へ搬
送し、ここで、次の所定処理する。また、この逆操作も
実施できる。
【００９６】図３１、図３２は、本発明の第９の実施例
を示すものである。図３１、図３２は特に図２２、図２
３で示し説明した実施例、つまり、枚葉搬送ラインの空
間の下方位置に処理装置のロック室が配置された構成
の、更に別の実施例を示すものである。図３１、図３２
で、先の実施例を示す図２２、図２３と異なる点は、処
理装置の搬送室１０１ａ、１０２ａが、ゲート８００を
介して連設された点である。尚、この他、図２２、図２
３と同様の構成は同一符号で示し説明を省略する。図３
１、図３２で、このような構成は、 矢印６１０で示すように処理装置毎に独立してウエハ
を搬送、処理する。 矢印６１１で示すように、他の装置のロック室、搬送
室を介して一方の搬送室、処理室へウエハを搬送し処理
できる。このような場合は、ウエハを所定処理装置に搬
送または処理済みのウエハを枚葉搬送ライン１２０に取
り出す場合、搬送ラインの都合による悪影響を小さく抑
制できる。例えば、搬送ラインのリニア台車がウエハを
保持した状態で右側の処理装置１０２のロック室７０６
に対応した場所に何等かの原因で停止した場合、左側の
搬送室１０１ａ、ロック室７０５を使用することで、右
側の処理装置１０２の処理室１０２ｂからの処理済みウ
エハを枚葉搬送ライン１２０にスムーズに受け渡しする
ことができる。また、例えば、同様の状態で、搬送ライ
ンで搬送されてきたウエハを右側の処理装置１０２の処
理室１０２ｂに搬送する必要が生じた場合、左側のロッ
ク室７０６、搬送室１０１ａを使用することで、右側の
処理装置１０２の処理室１０２ｂにウエハを搬送するこ
とができる。 更に、処理装置が３台並設されたものでは、例えば、
中央部の処理装置のロック室に対応した位置に何等かの
原因で、リニア台車が停止した場合、左側のロック室→
左側の搬送室→中央部搬送室→右側搬送室→右側のロッ
ク室→リニア台車のウエハ保持台というように、この停
止したリニア台車をスキップしてウエハを搬送すること
ができる。
【００９７】また、一方の処理装置で処理されたウエ
ハをこの搬送室→ゲート→他方の搬送室→他方の処理室
に搬送し、同一ウエハを連続して処理することができ
る。 尚、のようなウエハのパラレル搬送処理、のよう
なウエハのシリーズ搬送処理を、それぞれ独立して実施
できるように構成しても、また、併せて実施できるよう
に構成しても良い。
【００９８】以上の本実施例においては、搬送ラインと
して移動体とウエハ保持台（具）とを備えたものを用
い、移動体に、スループットに影響を及ぼすパーティク
ル発生を抑制するため、リニアレールとリニア台車とで
なるリニア移動体を用いているが、特にこれに限定され
ない。例えば、移動体に、ガイドテープとこのガイドテ
ープを検知し移動する手段とでなるものを用いて良い。
また、枚葉搬送ラインの搬送空間の雰囲気を、以上の実
施例では清浄ガス、例えば、窒素ガス雰囲気として説明
しているが、本発明の主旨、目的からしてこれは必要な
要件ではない。例えば、この搬送空間の雰囲気は、減圧
雰囲気であっても良い。このような場合、ベイストッカ
ー部での取り合い構造がやや複雑になる。例えば、ＦＯ
ＵＰとこの搬送空間とをロック室で連結する必要が生じ
る。一方、この搬送空間と各処理装置との取り合い構造
は、これらの処理装置が真空処理装置（例えば、プラズ
マエッチング装置、プラズマＣＶＤ装置、スパッタ装置
等）である場合、ロック室等が不要になり、より構造を
簡素化できる。ただし、これらの処理装置の内で大気雰
囲気での処理装置（例えば、リソグラフィ、ＣＭＰ、検
査・評価装置等）がある場合は、逆にロック室等の連設
用の手段が必要となる。更にこの搬送空間を減圧雰囲気
とするための減圧排気装置等の設置が必要となり、ま
た、これら設備の運転費用が必要である。
【００９９】例えば、この搬送空間の雰囲気は、例え
ば、クリーンルーム内と同様の雰囲気、つまり、特段の
対応をしない雰囲気であっても良い。このような場合、
ＦＯＵＰと、この搬送空間とをお互いの雰囲気調整用の
ロック室で連結する必要が生じる。ただ、この搬送空間
と各処理装置との取り合い構造は、上記実施例の場合と
同じようにすることができる。また、このような搬送空
間の場合、清浄ガスの供給手段や低圧排気手段等の設置
が不要であり、従って運転費用も不要にできる。
【０１００】以上、枚葉搬送ラインの搬送空間の雰囲気
の各種例について述べたが、処理装置が真空処理装置、
大気雰囲気での処理装置等であった場合、これらの装置
への搬送途中において、ウエハへのパーティクルの付着
が生じ、これによる歩留まり低下を防止するためには、
この搬送空間の雰囲気は、清浄ガス雰囲気か減圧雰囲気
に制御されるのが好ましい。ただし、一枚のみウエハを
収容できるＦＯＵＰを用いてウエハを搬送する場合は、
先に説明したようにこの限りではない。また、上記の実
施例では、ベイ間搬送ラインにＡＧＶを使用した例を説
明したが、この他にＯＨＴ（Ｏｖｅｒ Ｈｅａｄ Ｔｒ
ａｎｓｆｅｒ） 等の搬送手段を使用しても良い。
【０１０１】
【発明の効果】以上、説明したように本発明によれば、
ベイ内に並搬送可能に少なくとももう一つの別の搬送ラ
インを設けることで、ベイ内でのウエハ搬送に係り生じ
る問題を解決することができ、ベイ内でのスループット
の低下、ひいてはベイ全体のスループットの低下を防止
することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】第２の従来技術を示すウエハ枚葉生産システム
の平面図。
【図２】第３の従来技術を示す露光後の被処理基板の処
理ラインの平面図。
【図３】第４の従来技術を示すＴＦＴアレイ形成ライン
の平面図。
【図４】本発明による半導体製造ラインの一実施例を部
分的に示す平面図。
【図５】図４の一実施例の枚葉搬送ラインのベイストッ
カーとは反対側の部分の斜視外観図。
【図６】図５のＩ−Ｉ視断面図。
【図７】図５の詳細な縦断面図。
【図８】図４の本発明の一実施例の枚葉搬送ラインの下
側位置の搬送ラインの部分平面図。
【図９】図４の本発明の一実施例の枚葉搬送ラインの上
側位置の搬送ラインの部分平面図。
【図１０】図９のウエハ保持部分のウエハ保持具及びそ
の作用を説明するための平面図。
【図１１】図４の本発明の一実施例の枚葉搬送ラインを
説明するもので、ベイ間搬送ラインとベイ内の枚葉搬送
ラインとの取合いを示す部分的な平面図。
【図１２】図１１の正面図。
【図１３】図４の本発明の一実施例の枚葉搬送ラインと
真空処理装置との取合い例を示す部分的な平面図。
【図１４】図１３の上側位置の搬送ラインと真空処理装
置との取合い構造を示す縦断面図。
【図１５】図１４のウエハの搬送状況を模式的に示した
縦断面図。
【図１６】図１３の下側位置の搬送ラインと真空処理装
置との取合い例を示す部分的な平面図。
【図１７】図１６のウエハの搬送状況を模式的に示した
縦断面図。
【図１８】本発明による半導体製造ラインの第２の実施
例を部分的に示す平面図。
【図１９】図１８の要部の縦断面図。
【図２０】本発明による半導体製造ラインの第３の実施
例を部分的に示す平面図。
【図２１】図２０の要部の縦断面図。
【図２２】本発明による半導体製造ラインの第４の実施
例を示すもので、上側位置の搬送ラインと真空処理装置
との取合い構造の第２の実施例を示す縦断面図。
【図２３】図２２のウエハの搬送状況を模式的に示した
縦断面図。
【図２４】本発明による半導体製造ラインの第４の実施
例を示すもので、下側位置の搬送ラインを真空搬送装置
との取合い構造の第２の実施例を示す縦断面図。
【図２５】図２４のウエハの搬送状況を模式的に示した
縦断面図。
【図２６】本発明による半導体製造ラインの第５の実施
例を示すもので、ベイ間搬送ラインとベイ内の枚葉搬送
ラインとの取合いを示す部分的な平面図。
【図２７】本発明による半導体製造ラインの第６の実施
例を示すもので、ベイ内枚葉搬送ラインと各処理装置と
の取合いを示すベイ部分の平面図。
【図２８】本発明による半導体製造ラインの第７の実施
例を示すもので、枚葉搬送ライン部を横切った状態の断
面図。
【図２９】本発明による半導体製造ラインの第８の実施
例を示すもので、枚葉搬送ラインと各処理装置との取合
いの別の実施例を示す部分的な平面図。
【図３０】図２９の要部の縦断面図。
【図３１】本発明による半導体製造ラインの第９の実施
例を示すもので、枚葉搬送ラインと各処理装置との取合
いの更に別の実施例を示す部分的な平面図。
【図３２】図３１の要部の縦断面図。
【符号の説明】
１００、２００、３００……ベイ、１０１〜１１１……
処理装置、１０７ａ、７０４〜７０６……ロック室、１
２０、１２０ａ、１０２ｂ……枚葉搬送ライン、１２１
〜１２６……搬送ライン、１３０、１３０ａ〜１３０
ｃ、２３０、３３０……ベイストッカー、４００、４０
０ａ〜４００ｃ……ベイ間搬送ライン、４１０……ＡＧ
Ｖ、５００ａ〜５００ｄ……ＦＯＵＰ、１１０ａ、１０
１ａ、１０２ａ、７００、７０２、７０３……搬送室、
８００……ゲート、９００〜９０２……故障検知装置
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 江川 優子 山口県下松市東豊井794番地 日立笠戸エ ンジニアリング株式会社内 (72)発明者 加治 哲徳 山口県下松市東豊井794番地 日立笠戸エ ンジニアリング株式会社内 Ｆターム(参考） 3F022 AA08 CC02 EE05 KK20 LL12 LL31 5F031 CA02 CA05 DA01 DA08 DA17 EA14 FA01 FA02 FA03 FA07 FA11 FA12 FA14 FA15 GA06 GA43 GA47 GA48 GA49 GA50 GA59 GA65 JA22 JA50 JA51 LA04 MA04 MA07 MA09 MA13 MA16 MA22 MA23 MA24 MA26 MA27 MA28 MA29 MA32 MA33 NA02 NA04 NA05 NA09 PA03 PA10

Claims (48)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 搬送ラインにより基板を枚葉搬送するス
    テップと、 前記搬送ラインと並搬送可能に設けた他の搬送ラインに
    より前記基板を枚葉搬送するステップと、 前記搬送ライン、他の搬送ラインに沿って配置された複
    数の処理装置と、前記搬送ライン、他の搬送ラインとの
    間で前記基板を枚葉で受け渡し搬送するステップと、 前記基板の枚葉搬送を、前記搬送ラインと前記他の搬送
    ラインとを使い分けて実施するステップとを備える基板
    の搬送方法。
  2. 【請求項２】 搬送ラインにより基板を枚葉搬送するス
    テップと、 前記搬送ラインと並搬送可能に設けた他の搬送ラインに
    より前記基板を枚葉搬送するステップと、 前記搬送ライン、他の搬送ラインに沿って配置された複
    数の処理装置と、前記搬送ライン、他の搬送ラインとの
    間で前記基板を枚葉で受け渡し搬送するステップと、 前記基板の枚葉搬送を、前記基板の処理情報により前記
    搬送ラインと前記他の搬送ラインとを使い分けて実施す
    るステップとを備える基板の搬送方法。
  3. 【請求項３】 搬送ラインにより基板を枚葉搬送するス
    テップと、 前記搬送ラインの基板搬送面と相対する基板搬送面を有
    する他の搬送ラインにより前記基板を枚葉搬送するステ
    ップと、 前記搬送ライン、他の搬送ラインの基板搬送面に沿って
    配置された複数の処理装置と、前記搬送ライン、他の搬
    送ラインとの間で前記基板を枚葉で受け渡し搬送するス
    テップと、 前記基板の枚葉搬送を、前記搬送ラインと前記他の搬送
    ラインとを使い分けて実施するステップとを備える基板
    の搬送方法。
  4. 【請求項４】 搬送ラインにより基板を枚葉搬送するス
    テップと、 前記搬送ラインの基板搬送面と相対する基板搬送面を有
    する他の搬送ラインにより前記基板を枚葉搬送するステ
    ップと、 前記搬送ライン、他の搬送ラインの基板搬送面に沿って
    配置された複数の処理装置と、前記搬送ライン、他の搬
    送ラインとの間で前記基板を枚葉で受け渡し搬送するス
    テップと、 前記基板の枚葉搬送を、前記基板の処理情報により前記
    搬送ラインと前記他の搬送ラインとを使い分けて実施す
    るステップとを備える基板の搬送方法。
  5. 【請求項５】 略水平面の基板搬送面を有する搬送ライ
    ンにより基板を枚葉搬送するステップと、 前記搬送ラインの基板搬送面と上下方向に相対する基板
    搬送面を有する他の搬送ラインにより前記基板を枚葉搬
    送するステップと、 前記搬送ライン、他の搬送ラインの基板搬送面に沿って
    配置された複数の処理装置と、前記搬送ライン、他の搬
    送ラインとの間で前記基板を枚葉で受け渡し搬送するス
    テップと、 前記基板の枚葉搬送を、前記搬送ラインと前記他の搬送
    ラインとを使い分けて実施するステップとを備える基板
    の搬送方法。
  6. 【請求項６】 略水平面の基板搬送面を有する搬送ライ
    ンにより基板を枚葉搬送するステップと、 前記搬送ラインの基板搬送面と上下方向に相対する基板
    搬送面を有する他の搬送ラインにより前記基板を枚葉搬
    送するステップと、 前記搬送ライン、他の搬送ラインの基板搬送面に沿って
    配置された複数の処理装置と、前記搬送ライン、他の搬
    送ラインとの間で前記基板を枚葉で受け渡し搬送するス
    テップと、 前記基板の枚葉搬送を、前記基板の処理情報により前記
    搬送ラインと前記他の搬送ラインとを使い分けて実施す
    るステップとを備える基板の搬送方法。
  7. 【請求項７】 複数の処理装置と、該処理装置で処理さ
    れる基板を枚葉で搬送する搬送ラインと前記基板を枚葉
    で並搬送する他の搬送ラインとで構成された枚葉搬送ラ
    インとを有し、及び前記複数の処理装置を並設し、該並
    設された複数の処理装置に沿って前記枚葉搬送ラインが
    配設されてなるベイで前記基板を枚葉搬送する方法で、 前記基板を前記搬送ラインにより枚葉搬送するステップ
    と、 前記基板を前記他の搬送ラインにより枚葉搬送するステ
    ップと、 前記搬送ラインと前記処理装置との間で前記基板を枚葉
    で受け渡し搬送するステップと、 前記他の搬送ラインと前記処理装置との間で前記基板を
    枚葉で受け渡し搬送するステップと、 前記基板の枚葉搬送を、前記搬送ラインと前記他の搬送
    ラインとを使い分けて前記ベイ内で実施するステップと
    を備える基板の搬送方法。
  8. 【請求項８】 複数の処理装置と、該処理装置で処理さ
    れる基板を枚葉で搬送する枚葉搬送ラインとを有し、及
    び前記複数の処理装置を並設し、該並設された複数の処
    理装置に沿って前記枚葉搬送ラインが配設されてなるベ
    イで前記基板を枚葉搬送する方法で、 前記枚葉搬送ラインを構成する搬送ラインにより、前記
    基板を枚葉搬送するステップと、 前記枚葉搬送ラインを前記搬送ラインと共に構成し該搬
    送ラインと並搬送可能に設けた他の搬送ラインにより、
    前記基板を枚葉搬送するステップと、 前記搬送ラインと前記処理装置との間で前記基板を枚葉
    で受け渡し搬送するステップと、 前記他の搬送ラインと前記処理装置との間で前記基板を
    枚葉で受け渡し搬送するステップと、 前記基板の枚葉搬送を、前記搬送ラインと前記他の搬送
    ラインとを使い分けて前記ベイ内で実施するステップと
    を備える基板の搬送方法。
  9. 【請求項９】 複数の処理装置と、該処理装置で処理さ
    れる基板を枚葉で搬送する枚葉搬送ラインとを有し、及
    び前記複数の処理装置を並設し、該並設された複数の処
    理装置に沿って前記枚葉搬送ラインが配設されてなるベ
    イで前記基板を枚葉搬送する方法で、 前記枚葉搬送ラインを構成する搬送ラインにより、前記
    基板を枚葉搬送するステップと、 前記枚葉搬送ラインを前記搬送ラインと共に構成し該搬
    送ラインと並搬送可能に設けた他の搬送ラインにより、
    前記基板を枚葉搬送するステップと、 前記搬送ラインと前記処理装置との間で前記基板を枚葉
    で受け渡し搬送するステップと、 前記他の搬送ラインと前記処理装置との間で前記基板を
    枚葉で受け渡し搬送するステップと、 前記基板の枚葉搬送を、前記基板の処理情報により前記
    搬送ラインと前記他の搬送ラインとを使い分けて前記ベ
    イ内で実施するステップとを備える基板の搬送方法。
  10. 【請求項１０】 複数の処理装置と、該処理装置で処理
    される基板を枚葉で搬送する枚葉搬送ラインとを有し、
    及び前記複数の処理装置を並設し、該並設された複数の
    処理装置に沿って前記枚葉搬送ラインが配設されてなる
    ベイで前記基板を枚葉搬送する方法で、 前記枚葉搬送ラインを構成する搬送ラインにより、前記
    基板を枚葉搬送するステップと、 前記枚葉搬送ラインを前記搬送ラインと共に構成し該搬
    送ラインの基板搬送面と相対する基板搬送面を有する他
    の搬送ラインにより、前記基板を枚葉搬送するステップ
    と、 前記搬送ラインと前記処理装置との間で前記基板を枚葉
    で受け渡し搬送するステップと、 前記他の搬送ラインと前記処理装置との間で前記基板を
    枚葉で受け渡し搬送するステップと、 前記基板の枚葉搬送を、前記搬送ラインと前記他の搬送
    ラインとを使い分けて前記ベイ内で実施するステップと
    を備える基板の搬送方法。
  11. 【請求項１１】 複数の処理装置と、該処理装置で処理
    される基板を枚葉で搬送する枚葉搬送ラインとを有し、
    及び前記複数の処理装置を並設し、該並設された複数の
    処理装置に沿って前記枚葉搬送ラインが配設されてなる
    ベイで前記基板を枚葉搬送する方法で、 前記枚葉搬送ラインを構成する搬送ラインにより、前記
    基板を枚葉搬送するステップと、 前記枚葉搬送ラインを前記搬送ラインと共に構成し該搬
    送ラインの基板搬送面と相対する基板搬送面を有する他
    の搬送ラインにより、前記基板を枚葉搬送するステップ
    と、 前記搬送ラインと前記処理装置との間で前記基板を枚葉
    で受け渡し搬送するステップと、 前記他の搬送ラインと前記処理装置との間で前記基板を
    枚葉で受け渡し搬送するステップと、 前記基板の枚葉搬送を、前記基板の処理情報により前記
    搬送ラインと前記他の搬送ラインとを使い分けて前記ベ
    イ内で実施するステップとを備える基板の搬送方法。
  12. 【請求項１２】 複数の処理装置と、該処理装置で処理
    される基板を枚葉で搬送する枚葉搬送ラインとを有し、
    及び前記複数の処理装置を並設し、該並設された複数の
    処理装置に沿って前記枚葉搬送ラインが配設されてなる
    ベイで前記基板を枚葉搬送する方法で、 前記枚葉搬送ラインを構成し、略水平面の基板搬送面を
    有する搬送ラインにより、前記基板を枚葉搬送するステ
    ップと、 前記枚葉搬送ラインを前記搬送ラインと共に構成し該搬
    送ラインの基板搬送面と上下方向に相対する基板搬送面
    を有する他の搬送ラインにより、前記基板を枚葉搬送す
    るステップと、 前記搬送ラインと前記処理装置との間で前記基板を枚葉
    で受け渡し搬送するステップと、 前記他の搬送ラインと前記処理装置との間で前記基板を
    枚葉で受け渡し搬送するステップと、 前記基板の枚葉搬送を、前記搬送ラインと前記他の搬送
    ラインとを使い分けて前記ベイ内で実施するステップと
    を備える基板の搬送方法。
  13. 【請求項１３】 複数の処理装置と、該処理装置で処理
    される基板を枚葉で搬送する枚葉搬送ラインとを有し、
    及び前記複数の処理装置を並設し、該並設された複数の
    処理装置に沿って前記枚葉搬送ラインが配設されてなる
    ベイで前記基板を枚葉搬送する方法で、 前記枚葉搬送ラインを構成し、略水平面の基板搬送面を
    有する搬送ラインにより、前記基板を枚葉搬送するステ
    ップと、 前記枚葉搬送ラインを前記搬送ラインと共に構成し該搬
    送ラインの基板搬送面と上下方向に相対する基板搬送面
    を有する他の搬送ラインにより、前記基板を枚葉搬送す
    るステップと、 前記搬送ラインと前記処理装置との間で前記基板を枚葉
    で受け渡し搬送するステップと、 前記他の搬送ラインと前記処理装置との間で前記基板を
    枚葉で受け渡し搬送するステップと、 前記基板の枚葉搬送を、前記基板の処理情報により前記
    搬送ラインと前記他の搬送ラインとを使い分けて前記ベ
    イ内で実施するステップとを備える基板の搬送方法。
  14. 【請求項１４】 複数の処理装置と、基板を枚葉で搬送
    する枚葉搬送ラインとを有し、及び前記複数の処理装置
    を並設し、該並設された複数の処理装置に沿って前記枚
    葉搬送ラインが配設されてなるベイで、該ベイ外から前
    記ベイに枚葉搬送されてきた前記基板を枚葉搬送する方
    法で、 前記枚葉搬送ラインを構成する搬送ラインにより、前記
    基板を枚葉搬送するステップと、 前記枚葉搬送ラインを前記搬送ラインと共に構成し該搬
    送ラインと並搬送可能に設けた他の搬送ラインにより、
    前記基板を枚葉搬送するステップと、 前記搬送ラインと前記処理装置との間で前記基板を枚葉
    で受け渡し搬送するステップと、 前記他の搬送ラインと前記処理装置との間で前記基板を
    枚葉で受け渡し搬送するステップと、 前記基板の枚葉搬送を、前記搬送ラインと前記他の搬送
    ラインとを使い分けて前記ベイ内で実施するステップと
    を備える基板の搬送方法。
  15. 【請求項１５】 複数の処理装置と、基板を枚葉で搬送
    する枚葉搬送ラインとを有し、及び前記複数の処理装置
    を並設し、該並設された複数の処理装置に沿って前記枚
    葉搬送ラインが配設されてなるベイが、複数ベイ設置さ
    れ、該ベイ内、並びにベイ間で前記基板を搬送する方法
    で、 前記ベイ内で、前記枚葉搬送ラインを構成する搬送ライ
    ンと、該搬送ラインと並搬送可能に設けた他の搬送ライ
    ンとを使い分けて前記基板を枚葉搬送し、前記搬送ライ
    ンと他の搬送ラインとを使い分けて前記搬送ライン、他
    の搬送ラインと前記処理装置との間で前記基板を枚葉で
    受け渡し搬送し、 前記ベイ間で、前記基板を搬送する基板の搬送方法。
  16. 【請求項１６】 複数の処理装置と、基板を枚葉で搬送
    する枚葉搬送ラインとを有し、及び前記複数の処理装置
    を並設し、該並設された複数の処理装置に沿って前記枚
    葉搬送ラインが配設されてなるベイが、複数ベイ設置さ
    れ、該ベイ内、並びにベイ間で前記基板を搬送する方法
    で、 前記ベイ内で、前記枚葉搬送ラインを構成する搬送ライ
    ンと、該搬送ラインと並搬送可能に設けた他の搬送ライ
    ンとを、前記基板の処理情報により使い分けて前記基板
    を枚葉搬送し、前記搬送ラインと他の搬送ラインとを、
    前記基板の処理情報により使い分けて前記搬送ライン、
    他の搬送ラインと前記処理装置との間で前記基板を枚葉
    で受け渡し搬送し、 前記ベイ間で、前記基板の処理情報により前記基板を搬
    送する基板の搬送方法。
  17. 【請求項１７】 a. 基板収納装置をベイストッカー部
    に配置するステップと、 b. 該基板収納装置から基板を枚葉で取り出すステップ
    と、 c. 搬送ラインにより前記基板を枚葉搬送するステップ
    と、 d. 前記搬送ライン、該搬送ラインと並搬送可能に設け
    た他の搬送ラインに沿って配置された複数の処理装置と
    前記搬送ラインとの間で前記基板を枚葉で受け渡しする
    ステップと、 e. 前記処理装置で処理済みの前記基板を、前記搬送ラ
    インにより枚葉搬送し前記基板収納装置に回収するステ
    ップと、 f. 前記他の搬送ラインにより前記基板を枚葉搬送する
    ステップと、 g. 前記処理装置と前記他の搬送ラインとの間で前記基
    板を枚葉で受け渡しするステップと、 h. 前記処理装置で処理済みの前記基板を、前記他の搬
    送ラインにより枚葉搬送し前記基板回収装置に回収する
    ステップと、 i. 前記c〜eのステップと、f〜hのステップとを、前記
    基板の処理情報によりそれぞれ実施するステップとを備
    える基板の搬送方法。
  18. 【請求項１８】 並設される複数の処理装置に沿って配
    設され、該処理装置で処理される基板を枚葉搬送する装
    置であって、 前記基板を枚葉搬送する搬送ラインと、該搬送ラインと
    並搬送可能に設けた前記基板を枚葉搬送する他の搬送ラ
    インとで構成した枚葉搬送ラインと、 前記枚葉搬送ラインの内で、前記搬送ラインと前記他の
    搬送ラインとの使い分けを制御する制御系とを備えた基
    板の搬送装置。
  19. 【請求項１９】 並設される複数の処理装置に沿って配
    設され、該処理装置で処理される基板を枚葉搬送する装
    置であって、 前記基板を枚葉搬送する搬送ラインと、該搬送ラインと
    並搬送可能に設けた前記基板を枚葉搬送する他の搬送ラ
    インとで構成した枚葉搬送ラインと、 前記枚葉搬送ラインの内で、前記搬送ラインと前記他の
    搬送ラインとの使い分けを前記基板の処理情報で制御す
    る制御系とを備えた基板の搬送装置。
  20. 【請求項２０】 並設される複数の処理装置に沿って配
    設され、該処理装置で処理される基板を枚葉搬送する装
    置であって、 前記基板を枚葉搬送する搬送ラインと、該搬送ラインと
    並搬送可能に設けた前記基板を枚葉搬送する他の搬送ラ
    インとで構成し、前記処理装置との間で前記基板を枚葉
    で受け渡し搬送するようにした枚葉搬送ラインと、 前記枚葉搬送ラインの内で前記搬送ラインと前記他の搬
    送ラインとの使い分けを前記基板の処理情報で制御する
    制御系とを備えた基板の搬送装置。
  21. 【請求項２１】 並設される複数の処理装置に沿って配
    設され、該処理装置で処理される基板を枚葉搬送する装
    置であって、 前記基板を枚葉搬送する搬送ラインと、該搬送ラインの
    基板搬送面と相対する基板搬送面を有し前記基板を枚葉
    搬送する他の搬送ラインとで構成した枚葉搬送ライン
    と、 前記枚葉搬送ラインの内で、前記搬送ラインと前記他の
    搬送ラインとの使い分けを制御する制御系とを備えた基
    板の搬送装置。
  22. 【請求項２２】 並設される複数の処理装置に沿って配
    設され、該処理装置で処理される基板を枚葉搬送する装
    置であって、 前記基板を枚葉搬送する搬送ラインと、該搬送ラインの
    基板搬送面と相対する基板搬送面を有し前記基板を枚葉
    搬送する他の搬送ラインとで構成した枚葉搬送ライン
    と、 前記枚葉搬送ラインの内で、前記搬送ラインと前記他の
    搬送ラインとの使い分けを前記基板の処理情報で制御す
    る制御系とを備えた基板の搬送装置。
  23. 【請求項２３】 並設される複数の処理装置に沿って配
    設され、該処理装置で処理される基板を枚葉搬送する装
    置であって、 前記基板を枚葉搬送する搬送ラインと、該搬送ラインの
    基板搬送面と相対する基板搬送面を有し前記基板を枚葉
    搬送する他の搬送ラインとで構成し、前記処理装置との
    間で前記基板を枚葉で受け渡し搬送するようにした枚葉
    搬送ラインと、 前記枚葉搬送ラインの内で、前記搬送ラインと前記他の
    搬送ラインとの使い分けを前記基板の処理情報で制御す
    る制御系とを備えた基板の搬送装置。
  24. 【請求項２４】 並設される複数の処理装置に沿って配
    設され、該処理装置で処理される基板を枚葉搬送する装
    置であって、 略水平面の基板搬送面を有し前記基板を枚葉搬送する搬
    送ラインと、該搬送ラインの基板搬送面と上下方向に相
    対する基板搬送面を有し前記基板を枚葉搬送する他の搬
    送ラインとで構成した枚葉搬送ラインと、 前記枚葉搬送ラインの内で、前記搬送ラインと前記他の
    搬送ラインとの使い分けを制御する制御系とを備えた基
    板の搬送装置。
  25. 【請求項２５】 並設される複数の処理装置に沿って配
    設され、該処理装置で処理される基板を枚葉搬送する装
    置であって、 略水平面の基板搬送面を有し前記基板を枚葉搬送する搬
    送ラインと、該搬送ラインの基板搬送面と上下方向に相
    対する基板搬送面を有し前記基板を枚葉搬送する他の搬
    送ラインとで構成した枚葉搬送ラインと、 前記枚葉搬送ラインの内で、前記搬送ラインと前記他の
    搬送ラインとの使い分けを前記基板の処理情報で制御す
    る制御系とを備えた基板の搬送装置。
  26. 【請求項２６】 並設される複数の処理装置に沿って配
    設され、該処理装置で処理される基板を枚葉搬送する装
    置であって、 略水平面の基板搬送面を有し前記基板を枚葉搬送する搬
    送ラインと、該搬送ラインの基板搬送面と上下方向に相
    対する基板搬送面を有し前記基板を枚葉搬送する他の搬
    送ラインとで構成し、前記処理装置との間で前記基板を
    枚葉で受け渡し搬送するようにした枚葉搬送ラインと、 前記枚葉搬送ラインの内で、前記搬送ラインと前記他の
    搬送ラインとの使い分けを前記基板の処理情報で制御す
    る制御系とを備えた基板の搬送装置。
  27. 【請求項２７】 複数の処理装置と、該処理装置で処理
    される基板を枚葉で搬送する枚葉搬送ラインとを有し、
    及び前記複数の処理装置を並設し、並設された複数の処
    理装置に沿って前記枚葉搬送ラインが配設されてなるベ
    イであって、 前記枚葉搬送ラインを、前記基板を枚葉搬送する搬送ラ
    インと、該搬送ラインと並搬送可能に設けた前記基板を
    枚葉搬送する他の搬送ラインとで構成し、 前記枚葉搬送ラインの内で、前記搬送ラインと前記他の
    搬送ラインとの使い分けを制御する制御系と、 前記搬送ライン、前記他の搬送ラインと、前記処理装置
    との間で前記基板を枚葉で受け渡し搬送する搬送装置と
    を備えたベイ。
  28. 【請求項２８】 複数の処理装置と、該処理装置で処理
    される基板を枚葉で搬送する枚葉搬送ラインとを有し、
    及び前記複数の処理装置を並設し、並設された複数の処
    理装置に沿って前記枚葉搬送ラインが配設されてなるベ
    イであって、 前記枚葉搬送ラインを、前記基板を枚葉搬送する搬送ラ
    インと、該搬送ラインと並搬送可能に設けた前記基板を
    枚葉搬送する他の搬送ラインとで構成し、 前記枚葉搬送ラインの内で、前記搬送ラインと前記他の
    搬送ラインとの使い分けを前記基板の処理情報により制
    御する制御系と、 前記搬送ライン、前記他の搬送ラインと、前記処理装置
    との間で前記基板を枚葉で受け渡し搬送する搬送装置と
    を備えたベイ。
  29. 【請求項２９】 複数の処理装置と、該処理装置で処理
    される基板を枚葉で搬送する枚葉搬送ラインとを有し、
    及び前記複数の処理装置を並設し、並設された複数の処
    理装置に沿って前記枚葉搬送ラインが配設されてなるベ
    イであって、 前記枚葉搬送ラインを、前記基板を枚葉搬送する搬送ラ
    インと、該搬送ラインの基板搬送面と相対する基板搬送
    面を有し前記基板を枚葉搬送する他の搬送ラインとで構
    成し、 前記枚葉搬送ラインの内で、前記搬送ラインと前記他の
    搬送ラインとの使い分けを前記基板の処理情報により制
    御する制御系と、 前記搬送ライン、前記他の搬送ラインと、前記処理装置
    との間で前記基板を枚葉で受け渡し搬送する搬送装置と
    を備えたベイ。
  30. 【請求項３０】 複数の処理装置と、該処理装置で処理
    される基板を枚葉で搬送する枚葉搬送ラインとを有し、
    及び前記複数の処理装置を並設し、並設された複数の処
    理装置に沿って前記枚葉搬送ラインが配設されてなるベ
    イであって、 前記枚葉搬送ラインを、略水平面の基板搬送面を有し前
    記基板を枚葉搬送する搬送ラインと、該搬送ラインの基
    板搬送面と上下方向に相対する基板搬送面を有し前記基
    板を枚葉搬送する他の搬送ラインとで構成し、 前記枚葉搬送ラインの内で、前記搬送ラインと前記他の
    搬送ラインとの使い分けを前記基板の処理情報により制
    御する制御系と、 前記搬送ライン、前記他の搬送ラインと、前記処理装置
    との間で前記基板を枚葉で受け渡し搬送する搬送装置と
    を備えたベイ。
  31. 【請求項３１】 複数の処理装置と、該処理装置で処理
    される基板を枚葉で搬送する枚葉搬送ラインとを有し、
    及び前記複数の処理装置を並設し、並設された複数の処
    理装置に沿って前記枚葉搬送ラインが配設されてなるベ
    イであって、 前記枚葉搬送ラインを、前記基板を枚葉搬送する搬送ラ
    インと、該搬送ラインと並搬送可能に設けた前記基板を
    枚葉搬送する他の搬送ラインとで構成し、 前記枚葉搬送ラインの内で、前記搬送ラインと前記他の
    搬送ラインとの使い分けを前記基板の処理情報で制御す
    る制御系と、 前記搬送ライン、前記他の搬送ラインと、前記処理装置
    との間で前記基板を枚葉で受け渡し搬送する搬送装置
    と、 前記ベイ外と前記枚葉搬送ラインとの間で前記基板を受
    け渡し搬送するベイストッカー部とを備えたベイ。
  32. 【請求項３２】 複数の処理装置と、該処理装置で処理
    される基板を枚葉で搬送する枚葉搬送ラインとを有し、
    及び前記複数の処理装置を並設し、並設された複数の処
    理装置に沿って前記枚葉搬送ラインが配設されてなるベ
    イであって、 前記枚葉搬送ラインを、前記基板を枚葉搬送する搬送ラ
    インと、該搬送ラインの基板搬送面と相対する基板搬送
    面を有し前記基板を枚葉搬送する他の搬送ラインとで構
    成し、 前記枚葉搬送ラインの内で、前記搬送ラインと前記他の
    搬送ラインとの使い分けを前記基板の処理情報で制御す
    る制御系と、 前記搬送ライン、前記他の搬送ラインと、前記処理装置
    との間で前記基板を枚葉で受け渡し搬送する搬送装置
    と、 前記ベイ外と前記枚葉搬送ラインとの間で前記基板を受
    け渡し搬送するベイストッカー部とを備えたベイ。
  33. 【請求項３３】 複数の処理装置と、該処理装置で処理
    される基板を枚葉で搬送する枚葉搬送ラインとを有し、
    及び前記複数の処理装置を並設し、並設された複数の処
    理装置に沿って前記枚葉搬送ラインが配設されてなるベ
    イであって、 前記枚葉搬送ラインを、略水平面の基板搬送面を有し前
    記基板を枚葉搬送する搬送ラインと、該搬送ラインの基
    板搬送面と上下方向に相対する基板搬送面を有し前記基
    板を枚葉搬送する他の搬送ラインとで構成し、 前記枚葉搬送ラインの内で、前記搬送ラインと前記他の
    搬送ラインとの使い分けを前記基板の処理情報で制御す
    る制御系と、 前記搬送ライン、前記他の搬送ラインと、前記処理装置
    との間で前記基板を枚葉で受け渡し搬送する搬送装置
    と、 前記ベイ外と前記枚葉搬送ラインとの間で前記基板を受
    け渡し搬送するベイストッカー部とを備えたベイ。
  34. 【請求項３４】 半導体ウエハを所定処理する処理装置
    と、前記半導体ウエハを枚葉で搬送する枚葉搬送ライン
    とを有し、及び前記処理装置を複数並設し、並設された
    複数の処理装置に沿って前記枚葉搬送ラインが配設され
    てなる半導体ウエハ製造ラインのベイであって、 前記枚葉搬送ラインを、前記半導体ウエハを枚葉搬送す
    る搬送ラインと、該搬送ラインと並搬送可能に設けた前
    記半導体ウエハを枚葉搬送する他の搬送ラインとで構成
    し、 前記枚葉搬送ラインの内で、前記搬送ラインと前記他の
    搬送ラインとの使い分けを前記半導体ウエハの処理情報
    で制御する制御系と、 前記搬送ライン、前記他の搬送ラインと、前記処理装置
    との間で前記半導体ウエハを枚葉で受け渡し搬送する搬
    送装置とを備えた半導体製造ラインのベイ。
  35. 【請求項３５】 半導体ウエハを所定処理する処理装置
    と、前記半導体ウエハを枚葉で搬送する枚葉搬送ライン
    とを有し、及び前記処理装置を複数並設し、並設された
    複数の処理装置に沿って前記枚葉搬送ラインが配設され
    てなる半導体ウエハ製造ラインのベイであって、 前記枚葉搬送ラインを、前記半導体ウエハを枚葉搬送す
    る搬送ラインと、該搬送ラインの半導体ウエハ搬送面と
    相対する半導体ウエハ搬送面を有し前記半導体ウエハを
    枚葉搬送する他の搬送ラインとで構成し、 前記枚葉搬送ラインの内で、前記搬送ラインと前記他の
    搬送ラインとの使い分けを前記半導体ウエハの処理情報
    で制御する制御系と、 前記搬送ライン、前記他の搬送ラインと、前記処理装置
    との間で前記半導体ウエハを枚葉で受け渡し搬送する搬
    送装置とを備えた半導体製造ラインのベイ。
  36. 【請求項３６】 半導体ウエハを所定処理する処理装置
    と、前記半導体ウエハを枚葉で搬送する枚葉搬送ライン
    とを有し、及び前記処理装置を複数並設し、並設された
    複数の処理装置に沿って前記枚葉搬送ラインが配設され
    てなる半導体ウエハ製造ラインのベイであって、 前記枚葉搬送ラインを、略水平面の半導体ウエハ搬送面
    を有し前記半導体ウエハを枚葉搬送する搬送ラインと、
    該搬送ラインの半導体ウエハ搬送面と上下方向で相対す
    る半導体ウエハ搬送面を有し前記半導体ウエハを枚葉搬
    送する他の搬送ラインとで構成し、 前記枚葉搬送ラインの内で、前記搬送ラインと前記他の
    搬送ラインとの使い分けを前記半導体ウエハの処理情報
    で制御する制御系と、 前記搬送ライン、前記他の搬送ラインと、前記処理装置
    との間で前記半導体ウエハを枚葉で受け渡し搬送する搬
    送装置とを備えた半導体製造ラインのベイ。
  37. 【請求項３７】 半導体ウエハを所定処理する処理装置
    と、前記半導体ウエハを枚葉で搬送する枚葉搬送ライン
    とを有し、及び前記処理装置を複数並設し、並設された
    複数の処理装置に沿って前記枚葉搬送ラインが配設され
    てなるベイを複数備えた半導体製造ラインであって、 前記ベイ間で前記半導体ウエハを搬送するベイ間搬送装
    置と、 前記半導体ウエハを枚葉搬送する搬送ラインと、該搬送
    ラインと並搬送可能に設けた前記半導体ウエハを枚葉搬
    送する他の搬送ラインとで構成した前記枚葉搬送ライン
    と、 該枚葉搬送ラインの内で、前記搬送ラインと前記他の搬
    送ラインとの使い分けを、前記ベイ間搬送装置で当該ベ
    イに搬送された前記半導体ウエハの処理情報で制御する
    制御系と、 前記搬送ライン、前記他の搬送ラインと、前記処理装置
    との間で前記半導体ウエハを枚葉で受け渡し搬送する搬
    送装置と、 を備えた半導体製造ライン。
  38. 【請求項３８】 半導体ウエハを所定処理する処理装置
    と、前記半導体ウエハを枚葉で搬送する枚葉搬送ライン
    とを有し、及び前記処理装置を複数並設し、並設された
    複数の処理装置に沿って前記枚葉搬送ラインが配設され
    てなるベイを複数備えた半導体製造ラインであって、 前記ベイ間で前記半導体ウエハを搬送するベイ間搬送装
    置と、 前記半導体ウエハを枚葉搬送する搬送ラインと、該搬送
    ラインの半導体ウエハ搬送面と相対する半導体ウエハ搬
    送面を有し前記半導体ウエハを枚葉搬送する他の搬送ラ
    インとで構成した前記枚葉搬送ラインと、 該枚葉搬送ラインの内で、前記搬送ラインと前記他の搬
    送ラインとの使い分けを、前記ベイ間搬送装置で当該ベ
    イに搬送された前記半導体ウエハの処理情報で制御する
    制御系と、 前記搬送ライン、前記他の搬送ラインと、前記処理装置
    との間で前記半導体ウエハを枚葉で受け渡し搬送する搬
    送装置と、 を備えた半導体製造ライン。
  39. 【請求項３９】 半導体ウエハを所定処理する処理装置
    と、前記半導体ウエハを枚葉で搬送する枚葉搬送ライン
    とを有し、及び前記処理装置を複数並設し、並設された
    複数の処理装置に沿って前記枚葉搬送ラインが配設され
    てなるベイを複数備えた半導体製造ラインであって、 前記ベイ間で前記半導体ウエハを搬送するベイ間搬送装
    置と、 略水平面の半導体ウエハ搬送面を有し前記半導体ウエハ
    を枚葉搬送する搬送ラインと、該搬送ラインの半導体ウ
    エハ搬送面と上下方向に相対する半導体ウエハ搬送面を
    有し前記半導体ウエハを枚葉搬送する他の搬送ラインと
    で構成した前記枚葉搬送ラインと、 該枚葉搬送ラインの内で、前記搬送ラインと前記他の搬
    送ラインとの使い分けを、前記ベイ間搬送装置で当該ベ
    イに搬送された前記半導体ウエハの処理情報で制御する
    制御系と、 前記搬送ライン、前記他の搬送ラインと、前記処理装置
    との間で前記半導体ウエハを枚葉で受け渡し搬送する搬
    送装置と、 を備えた半導体製造ライン。
  40. 【請求項４０】 半導体ウエハを所定処理する処理装置
    と、前記半導体ウエハを枚葉で搬送する枚葉搬送ライン
    とを有し、及び前記処理装置を複数並設し、並設された
    複数の処理装置に沿って前記枚葉搬送ラインが配設され
    てなるベイを複数備えた半導体製造ラインであって、 前記ベイ間で前記半導体ウエハを搬送するベイ間搬送装
    置と、 前記半導体ウエハを枚葉搬送する搬送ラインと、該搬送
    ラインと並搬送可能に設けた前記半導体ウエハを枚葉搬
    送する他の搬送ラインとで構成した前記枚葉搬送ライン
    と、 前記ベイ間搬送装置と前記枚葉搬送ラインとの間で前記
    基板を受け渡し搬送するベイストッカー部と、 前記枚葉搬送ラインの内で、前記搬送ラインと前記他の
    搬送ラインとの使い分けを、前記ベイ間搬送装置から前
    記ベイストッカー部に搬送された前記半導体ウエハの処
    理情報で制御する制御系と、 前記搬送ライン、前記他の搬送ラインと、前記処理装置
    との間で前記半導体ウエハを枚葉で受け渡し搬送する搬
    送装置と、 を備えた半導体製造ライン。
  41. 【請求項４１】 半導体ウエハを所定処理する処理装置
    と、前記半導体ウエハを枚葉で搬送する枚葉搬送ライン
    とを有し、及び前記処理装置を複数並設し、並設された
    複数の処理装置に沿って前記枚葉搬送ラインが配設され
    てなるベイを複数備えた半導体製造ラインであって、 前記ベイ間で前記半導体ウエハを搬送するベイ間搬送装
    置と、 前記半導体ウエハを枚葉搬送する搬送ラインと、該搬送
    ラインの半導体ウエハ搬送面と相対する半導体ウエハ搬
    送面を有し前記半導体ウエハを枚葉搬送する他の搬送ラ
    インとで構成した前記枚葉搬送ラインと、 前記ベイ間搬送装置と前記枚葉搬送ラインとの間で前記
    基板を受け渡し搬送するベイストッカー部と、 前記枚葉搬送ラインの内で、前記搬送ラインと前記他の
    搬送ラインとの使い分けを、前記ベイ間搬送装置から前
    記ベイストッカー部に搬送された前記半導体ウエハの処
    理情報で制御する制御系と、 前記搬送ライン、前記他の搬送ラインと、前記処理装置
    との間で前記半導体ウエハを枚葉で受け渡し搬送する搬
    送装置と、 を備えた半導体製造ライン。
  42. 【請求項４２】 半導体ウエハを所定処理する処理装置
    と、前記半導体ウエハを枚葉で搬送する枚葉搬送ライン
    とを有し、及び前記処理装置を複数並設し、並設された
    複数の処理装置に沿って前記枚葉搬送ラインが配設され
    てなるベイを複数備えた半導体製造ラインであって、 前記ベイ間で前記半導体ウエハを搬送するベイ間搬送装
    置と、 略水平面の半導体ウエハ搬送面を有し前記半導体ウエハ
    を枚葉搬送する搬送ラインと、該搬送ラインの半導体ウ
    エハ搬送面と上下方向に相対する半導体ウエハ搬送面を
    有し前記半導体ウエハを枚葉搬送する他の搬送ラインと
    で構成した前記枚葉搬送ラインと、 前記ベイ間搬送装置と前記枚葉搬送ラインとの間で前記
    基板を受け渡し搬送するベイストッカー部と、 前記枚葉搬送ラインの内で、前記搬送ラインと前記他の
    搬送ラインとの使い分けを、前記ベイ間搬送装置から前
    記ベイストッカー部に搬送された前記半導体ウエハの処
    理情報で制御する制御系と、 前記搬送ライン、前記他の搬送ラインと、前記処理装置
    との間で前記半導体ウエハを枚葉で受け渡し搬送する搬
    送装置と、 を備えた半導体製造ライン。
  43. 【請求項４３】 半導体ウエハを所定処理する処理装置
    と、前記半導体ウエハを枚葉で搬送する枚葉搬送ライン
    とを有し、及び前記処理装置を複数並設し、並設された
    複数の処理装置に沿って前記枚葉搬送ラインが配設され
    てなるベイを備えた半導体製造ラインであって、 前記半導体ウエハを枚葉搬送する搬送ラインと、該搬送
    ラインと並搬送可能に設けた前記半導体ウエハを枚葉搬
    送する他の搬送ラインとで構成した前記枚葉搬送ライン
    と、 該枚葉搬送ラインの内で、前記搬送ラインと前記他の搬
    送ラインとの使い分けを、当該ベイに搬送された前記半
    導体ウエハの処理情報で制御する制御系と、 前記搬送ライン、前記他の搬送ラインと、前記処理装置
    との間で前記半導体ウエハを枚葉で受け渡し搬送する搬
    送装置と、 を備えた半導体製造ライン。
  44. 【請求項４４】 液晶基板を所定処理する処理装置と、
    前記液晶基板を枚葉で搬送する枚葉搬送ラインとを有
    し、及び前記処理装置を複数並設し、並設された複数の
    処理装置に沿って前記枚葉搬送ラインが配設されてなる
    液晶製造ラインのベイであって、 前記枚葉搬送ラインを、前記液晶基板を枚葉搬送する搬
    送ラインと、該搬送ラインと並搬送可能に設けた前記液
    晶基板を枚葉搬送する他の搬送ラインとで構成し、 前記枚葉搬送ラインの内で、前記搬送ラインと前記他の
    搬送ラインとの使い分けを前記液晶基板の処理情報で制
    御する制御系と、 前記搬送ライン、前記他の搬送ラインと、前記処理装置
    との間で前記液晶基板を枚葉で受け渡し搬送する搬送装
    置とを備えた液晶製造ラインのベイ。
  45. 【請求項４５】 液晶基板を所定処理する処理装置と、
    前記液晶基板を枚葉で搬送する枚葉搬送ラインとを有
    し、及び前記処理装置を複数並設し、並設された複数の
    処理装置に沿って前記枚葉搬送ラインが配設されてなる
    ベイを複数備えた液晶製造ラインで、 前記ベイ間で前記液晶基板を搬送するベイ間搬送装置
    と、 該ベイ間搬送装置と前記枚葉搬送ラインとの間で前記液
    晶基板を受け渡し搬送するベイストッカー部と、 前記液晶基板」を枚葉搬送する搬送ラインと、該搬送ラ
    インと並搬送可能に設けた前記液晶基板を枚葉搬送する
    他の搬送ラインとで構成した前記枚葉搬送ラインと、 前記枚葉搬送ラインの内で、前記搬送ラインと前記他の
    搬送ラインとの使い分けを、前記ベイ間搬送装置から前
    記ベイストッカー部に搬送された前記液晶基板の処理情
    報で制御する制御系と、 前記搬送ライン、前記他の搬送ラインと、前記処理装置
    との間で前記液晶基板を枚葉で受け渡し搬送する搬送装
    置と、 を備えた液晶製造ライン。
  46. 【請求項４６】 液晶基板を所定処理する処理装置と、
    前記液晶基板を枚葉で搬送する枚葉搬送ラインとを有
    し、及び前記処理装置を複数並設し、並設された複数の
    処理装置に沿って前記枚葉搬送ラインが配設されてなる
    ベイを備えた液晶製造ラインで、 前記液晶基板を枚葉搬送する搬送ラインと、該搬送ライ
    ンと並搬送可能に設けた前記液晶基板を枚葉搬送する他
    の搬送ラインとで構成した前記枚葉搬送ラインと、 該枚葉搬送ラインとの間で前記液晶基板を受け渡し搬送
    するベイストッカー部と、 前記枚葉搬送ラインの内で、前記搬送ラインと前記他の
    搬送ラインとの使い分けを、前記ベイストッカー部での
    前記液晶基板の処理情報で制御する制御系と、 前記搬送ライン、前記他の搬送ラインと、前記処理装置
    との間で前記液晶基板を枚葉で受け渡し搬送する搬送装
    置と、 を備えた液晶製造ライン。
  47. 【請求項４７】 半導体ウエハを所定処理する処理装置
    と、前記半導体ウエハを枚葉で搬送する枚葉搬送ライン
    とを有し、及び前記処理装置を複数並設し、並設された
    複数の処理装置に沿って前記枚葉搬送ラインが配設され
    てなるベイを複数、隣合って備えた半導体製造ライン
    で、 前記ベイを挟んだ状態で設けられ、前記ベイ間で前記半
    導体ウエハを搬送するベイ間搬送装置と、 前記半導体ウエハを枚葉搬送する搬送ラインと、該搬送
    ラインと並搬送可能に設けた前記半導体ウエハを枚葉搬
    送する他の搬送ラインとで構成した枚葉搬送ラインと、 前記ベイ間搬送装置のそれぞれと前記枚葉搬送ラインと
    の間で前記半導体ウエハを受け渡し搬送するベイストッ
    カー部と、 前記枚葉搬送ラインの内で、前記搬送ラインと前記他の
    搬送ラインとの使い分けを、前記ベイ間搬送装置から前
    記ベイストッカー部に搬送された前記半導体ウエハの処
    理情報で制御する制御系と、 前記搬送ライン、前記他の搬送ラインと、前記処理装置
    との間で前記半導体ウエハを枚葉で受け渡し搬送する搬
    送装置と、 を備えた半導体製造ライン。
  48. 【請求項４８】 液晶基板を所定処理する処理装置と、
    前記液晶基板を枚葉で搬送する枚葉搬送ラインとを有
    し、及び前記処理装置を複数並設し、並設された複数の
    処理装置に沿って前記枚葉搬送ラインが配設されてなる
    ベイを複数、隣合って備えた液晶製造ラインで、 前記ベイを挟んだ状態で設けられ、前記ベイ間で前記液
    晶基板を搬送するベイ間搬送装置と、 前記液晶基板を枚葉搬送する搬送ラインと、該搬送ライ
    ンと並搬送可能に設けた前記液晶基板を枚葉搬送する他
    の搬送ラインとで構成した前記枚葉搬送ラインと、 該ベイ間搬送装置のそれぞれと前記枚葉搬送ラインとの
    間で前記液晶基板を受け渡し搬送するベイストッカー部
    と、 前記枚葉搬送ラインの内で、前記搬送ラインと前記他の
    搬送ラインとの使い分けを、前記ベイ間搬送装置から前
    記ベイストッカー部に搬送された前記液晶基板の処理情
    報で制御する制御系と、 前記搬送ライン、前記他の搬送ラインと、前記処理装置
    との間で前記液晶基板を枚葉で受け渡し搬送する搬送装
    置と、 を備えた液晶製造ライン。
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