JP4224467B2 - 半導体製造ライン - Google Patents

Description

本発明は、半導体基板、液晶基板または部品基板などの基板（以下、ウエハという。）を処理する装置間において、ウエハを一枚毎搬送（枚葉搬送）するのに好適な枚葉搬送方法及びその装置に関するものである。

ウエハを処理する装置間でウエハを枚葉搬送する従来技術として、下記の技術が挙げられる（例えば、非特許文献１参照）。
この従来技術は、特につぎのようなことを開示している。
１．枚葉式処理装置やクラスタツールを効率的に利用できる自動化ライン。
２．ベイ内搬送を枚葉化して多品種変量生産を可能にする生産ラインの構想。
３．枚葉搬送で品種や生産量を可変にできる。
４．枚葉処理装置との組合わせでウエハの仕掛り枚数を削減できる。
５．ベイ間はロット搬送を使用する。
６．量産開始時点では１台のクラスタツールに異なるプロセス処理チャンバをつなぐ。
装置台数が少なければ生産能力も低く抑えられる。単独のクラスタツールでも同一の処理チャンバを複数接続したり、複数のプロセスの処理ができるモジュールを付加して処理能力をアナログ的に増やしていく。

さらに、次のことが図示されている。
平面形状が変形Ｕ字形のウエハ搬送システムの両サイドにマルチプロセス装置が複数台配置され、ベイが構成されている。つまり、ベイ内のＵ字形のウエハ搬送システムの二列の平行搬送ラインにそれぞれ沿ってマルチプロセス装置が複数台配置されている。ウエハ搬送システムには数ヶ所、ロボットを持ったシャトルが設けられている。この搬送ラインとそれぞれの処理装置の間にはＩ／Ｏが設けられている。また、このようなベイ間でのウエハの搬送にはロット搬送システムが採用されている。

図１に第２の従来技術を示す。図２は、ＩＴＲＳ（International Technology Roadmap for Semiconductors）が示したウエハ枚葉生産システムのモジュールオートメーション例である（例えば、非特許文献２参照）。工程間は、ＦＯＵＰを採用した２５枚単位搬送で、工程内をウエハ枚葉単位でダイレクト搬送している。図の黒い丸がウエハを表しており、プロセス装置内やプロセス装置間をウエハ単位で処理や搬送が行われる。このシステムによれば、ウエハ枚葉単位での処理やダイレクト搬送により、従来のＦＯＵＰ搬送による２５枚までのウエハの待ち時間がゼロとなり、ＦＯＵＰオープナーやＥＦＥＭといった付属装置が不要となる。
尚、このような事例は、他にも同様に開示されている例えば、（非特許文献３参照）。

図２に第３の従来技術例を示す。図２で、被処理基板に対してレジスト塗布および露光後の現像を行うとともに、現像後の被処理基板をエッチングするための一連の処理を行う複数の処理ユニットを搬送路の両側に配置した処理部と、搬送路に沿って移動し、各処理ユニットとの間で基板の受渡しを行う主搬送装置と、主搬送装置に対して被処理基板を受渡しする搬送機構を有する搬入出部とを備え、これが処理部の各処理ユニットおよび搬送路ならびに搬入出部が一体的に設けられている。

図３に第４の従来技術例を示す。図３で、例えば液晶ディスプレイ（Liquid Crystal Display : LCD）に使われるTFTアレイが形成されるガラス基板を搬送する搬送装置が走行する搬送路に沿って、ガラス基板の一のレイヤを形成するためのエッチング装置、第１の検査装置、レジスト剥離装置、基板待機用のバッファ、洗浄装置、成膜装置、第２の検査装置を配置し、搬送路の一端に基板搬入部を配置し、搬送路の他端に基板搬出部には、カセットを多段に収容し、かつ搬送装置が各カセットに対してアクセス可能となるように棚が昇降する昇降機構を設けた。
野崎勝弘「特集 LSIラインの生産技術革命」、NIKKEI MICRODEVICES 1993年8月号、25-32頁 半導体産業新聞2001年12月5日 林 武秀、「システムＬＳＩ製造は"俊敏さ"が命 枚葉生産・搬送でＴＡＴを大幅短縮」、Electronic Journal 2002年2月号、PP95〜99

上記の従来技術では、ベイの構成はそれぞれ異なるものの、ウエハ、ウエハ、被処理基板、ガラス基板をそれぞれのベイ内で搬送するためのウエハ搬送システム、ウエハ枚葉ダイレクト搬送システム、搬送路が、いずれの場合でも共通して単一体であるため、依然として次のような解決しなければならない課題を有している。
１．ベイ内でのウエハの搬送及びウエハの搬送手段と各処理装置とのウエハの取合いが、各処理装置でのウエハの処理時間（並びに処理装置内でのウエハ搬送時間）の中で最も長い時間に律速される。このため、ベイ内でのウエハの搬送及び各処理装置とのウエハの取合いに待ち時間が生じ、ベイ内でのスループットが低下する。このようなことは、上記従来技術例の、特に図１から図３に示した第２から第４の従来技術例のように、各処理装置ごとでウエハの処理が異なる場合においては顕著に生じる。
２．例えば、２個のＦＯＵＰ内のウエハの処理内容が、ＦＯＵＰごとに異なっている場合、例えば、一方のＦＯＵＰ内のウエハがプラズマエッチング処理、他方のＦＯＵＰ内のウエハがプラズマＣＶＤ処理のように異なっている場合、それらの処理に処理時間の長短が存在する。このため、ベイ内でのウエハの搬送、及びウエハの搬送手段と各処理装置とのウエハの取合いが処理時間の長い、この場合、プラズマＣＶＤ処理に律速される。このため、ベイ内でのウエハ、特にプラズマエッチング処理されるウエハの搬送及び各エッチング装置とのウエハの取合いに待ち時間が生じ、ベイ内でのスループットが低下する。
３．ベイ内での各処理装置でのウエハの処理が同一（例えば、処理内容、条件等）であったとしても、ベイ内搬送手段でのウエハの搬送時間と、各処理装置での処理時間＋処理装置内でのウエハの搬送時間とが異なるため、ベイ内搬送手段と各処理装置とのウエハの取合い、及びベイ内でのウエハの搬送に混乱が生じる危険性があり、これによってベイ内でのスループットの低下が懸念される。
４．処理時間が長いウエハと処理時間が短いウエハとがベイ内搬送ラインに混在する場合、処理時間が短いウエハはその処理が終了しても、搬送ラインでその前にある処理時間が長いウエハの処理が終っていないために、処理装置から搬送ラインへ、そして、搬送ラインでの次の処理装置への搬送が出来ない。つまり、待ち時間が生じることになる。このような従来技術では、処理時間の短いウエハと処理時間の長いウエハとの搬送ラインの使い分けをするといった認識がない。従って、このような従来技術では、搬送時間は処理時間の長い方に律速されることになる。そのため処理時間も遅くなり、全体のスピードが低下する、ひいてはベイ全体のスループットが低下する。
５．多品種少量生産の場合、一つのウエハ搬送ラインで特急を要するウエハがきた場合、その前に通常の処理のウエハを有するロボットを持ったシャトルがあると、これが邪魔になり指定された装置に直ちに移動できない。このため特急を要するウエハにとって待ち時間が生じる。このため結果として、このウエハの処理に時間がかかり多品種少量生産に対応できずスループットが低下する。
６．ウエハ搬送ラインのロボットを持っているシャトルが、例えば、一つ故障するとベイ内の搬送ラインがストップし、ウエハをマルチプロセス装置に運ぶことが出来なくなる。そのためウエハをマルチプロセス装置で処理することが出来ず、ベイ内の各ウエハの処理がストップする。また、このベイ内の搬送ライン、各マルチプロセス装置のストップにより、このベイから他のベイへのウエハの搬送が出来なくなり、この他のベイでのウエハ処理もストップする。ひいては関連するベイでのウエハ処理が全てストップする。
本発明は、上記の問題点を解決し、次のような目的を達成しようとするものである。

本発明の第一の目的は、ベイ内での各処理装置ごとにウエハの処理が異なる場合でも、ベイ内でのウエハの搬送、及びウエハ搬送手段と各処理装置とのウエハの取合いが、これに律速されるのを防止でき、これによってスループットの低下を防ぐことができる枚葉搬送方法及びその装置を提供することにある。
また、本発明の第二の目的は、ウエハの処理内容が、ウエハを保持する手段ごとに異なっている場合でも、ベイ内でのウエハの搬送、及びウエハ搬送手段と各処理装置とのウエハの取合いが、これに律速されるのを防止でき、これによってスループットの低下を防ぐことができる枚葉搬送手段及びその装置を提供することにある。
また、本発明の第三の目的は、ベイ内でのウエハの処理が同一の場合に生じる危険性があるベイ内搬送手段と各処理装置とのウエハの取合い、及びベイ内でのウエハの搬送の混乱を防止でき、これによってベイ内でのスループットの低下を防ぐことができる枚葉搬送方法及びその装置を提供することにある。

本発明の第四の目的は、処理時間の違うウエハが混在した場合でも、処理時間の短いウエハと処理時間の長いウエハとの使い分けができ、スループットの低下を防ぐ枚葉搬送方法及びその装置を提供することにある。
また、本発明の第五の目的は、多品種少量生産の場合、特急を要するウエハがきた場合でも、そのウエハの処理に時間がかかるのを防止でき、スループットの低下を防ぐ枚葉搬送方法及びその装置を提供することにある。
本発明の第六の目的は、ウエハ搬送ラインが故障してもベイ内処理や他のベイでの処理がストップするのを防止できる枚葉搬送方法及びその装置を提供することにある。

第一〜第三の目的は、ベイ内に少なくとももう一つ別の搬送ラインを並搬送可能に設けることによって達成することができる。つまり、ベイ内の各処理装置ごとにウエハの処理が異なる場合でも、並搬送可能な複数のベイ内搬送ラインを使い分けることで、ベイ内でのウエハの搬送及びウエハ搬送手段と各処理装置とのウエハの取合いが各処理装置ごとにウエハの処理が異なることで律速されるのを抑制できる。
また、ウエハの処理内容が、ウエハを保持する手段ごとに異なっている場合でも、これらに対応してベイ内搬送ラインの並搬送可能な搬送ラインを使い分けることで、それぞれのウエハ保持手段に収納されているウエハの処理内容に対応して、ベイ内でのウエハの搬送及びウエハ搬送手段と各処理装置とのウエハの取合いをスムーズに実施することができる。
さらに、ベイ内搬送ラインの並搬送可能な搬送ラインを使い分けることで、ベイ内でのウエハの処理が同一の場合に生じる危険性があるベイ内搬送手段と各処理装置とのウエハの取合い、及びベイ内でのウエハの搬送の混乱を防止することができる。

第四の目的は、ベイ内搬送ラインの並搬送可能な搬送ラインとして、ウエハ普通搬送ラインに他のウエハ特急搬送ラインを設けることによって達成することが出来る。ここで、ウエハ普通搬送ラインとは、処理装置での処理時間の長いウエハを枚葉搬送する搬送ラインのことを示す。ウエハ特急搬送ラインとは、処理装置での処理時間の短いウエハを枚葉搬送する搬送ラインを示す。つまり、処理時間の短いウエハと処理時間の長いウエハが混在した場合、処理時間の短いウエハはウエハ特急搬送ラインとし、処理時間の長いウエハはウエハ普通搬送ラインを使用するという使い分けによって達成することが出来る。
尚、処理速度の長短とは、定量的なものでなく、例えば、あるウエハの処理速度と他のウエハの処理速度の比較、また、あるウエハ収容手段に収容されているウエハの処理速度と他のウエハ収容手段に収容されている他のウエハの処理速度との比較によって決められるものである。このような処理速度の差異が制御装置により比較演算され、この結果に基づいてウエハ普通搬送ラインを使用するか、ウエハ特急搬送ラインを使用するかが選択される。

第五の目的は、ベイ内にスキップ対応の別の枚葉搬送ラインを設けることで達成することが出来る。つまり、多品種少量生産の場合、特急を要するウエハがきた場合に、指定された装置にスキップラインを使うことによって移動することが出来る。
第六の目的に対して、ベイ内に別の枚葉搬送のラインを設けることによって達成することが出来る。つまり、ベイ内の枚葉搬送ラインが何らかの原因で故障した場合、その故障が直ちに検知され別の枚葉搬送ラインが作動を開始する。これによりベイ内のウエハはその搬送を停止されることがない。従って各処理装置での処理を停止することなく継続して処理、搬送され、ベイ内での全ての作業がスムーズに実施される。さらに、このようにベイ内のウエハの搬送・処理がストップされることがないので、他の関係するベイでもウエハの搬送・処理を全てストップさせずに実施することが出来る。

以上、説明したように本発明によれば、ベイ内に並搬送可能に少なくとももう一つの別の搬送ラインを設けることで、ベイ内でのウエハ搬送に係り生じる問題を解決することができ、ベイ内でのスループットの低下、ひいてはベイ全体のスループットの低下を防止することができる。

以下、本発明にかかる実施例を図面に基づいて説明する。
図４から図１７までは、本発明の一実施例を示す。
図４で、複数のベイ１００、２００、３００……を有する半導体製造ラインを部分的に示す。各ベイ１００、２００、３００……は、各々がベイストッカー１３０、２３０、３３０……を介し、ベイ間搬送ライン４００に接続されている。
以下、図４で、ベイ１００を代表例にとりその構成・作用を詳細に説明する。尚、他のベイ２００、３００……は、それらの構成・作用が、ベイ１００のそれと略同じであるため、説明を省略する。
図４で、ベイ１００は、この場合、平面形状がループ状の枚葉搬送ライン１２０と、それの長手搬送方向（ベイ間搬送ライン４００の搬送方向と交差する方向）に沿って配置、並設された処理装置１０１〜１０６で構成されている。この場合、処理装置１０１〜１０３は、枚葉搬送ライン１２０の一方側に一台毎それぞれ隣接して配置、並設されている。また、残りの処理装置１０４〜１０６は、その他方側に一台毎それぞれ隣接して配置、並設されている。処理装置１０１〜１０６は搬送ロボット１１〜１６をそれぞれ備えている。尚、処理装置１０１〜１０６はウエハＷを一枚毎、つまり枚葉で処理するチャンバー（図示省略）を備えている。この例では、処理装置を６台用い配置しているが、この台数には、特に限定されない。枚葉搬送ライン１２０に沿って配置される装置の種類、台数及び装置配列は、先に従来技術例で示したようにウエハＷのプロセス・フローによって選択、決定される。

図４で、枚葉搬送ライン１２０は、ウエハＷを枚葉搬送する搬送ライン１２１と、この搬送ライン１２１と並搬送可能に設けられウエハＷを枚葉搬送する他の搬送ライン１２２との組合わせで構成されている。この場合、各搬送ラインは上下の位置関係にあり、搬送ライン１２１が下側位置、搬送ライン１２２は上側位置にセットされた構造になっている。この場合、搬送ライン１２２は、搬送ライン１２１のウエハ搬送面と相対するウエハ搬送面を有している。更に、この場合、搬送ライン１２１は、略水平面のウエハ搬送面を有し、搬送ライン１２２は、搬送ライン１２１のウエハ搬送面と上下方向に相対する略水平面のウエハ搬送面を有する。つまり、搬送ライン１２１、１２２は、ウエハＷを水平面保持して搬送するようになっている。
以下の説明では、搬送ライン１２１、１２２のそれぞれのウエハ搬送面が、上下方向に相対する例につき説明するが、しかし、この関係は、これに特に限定されない。例えば、搬送ライン１２１、１２２両方のウエハ搬送面が、左右方向に相対するようになっていても良い。この場合、搬送ライン１２１、１２２でウエハＷは、それらの構造上、被処理面縦型姿勢でそれぞれ搬送されることになる。尚、各処理装置とのウエハＷの受け渡しは、縦型姿勢から姿勢変換して被処理面水平姿勢で実施するように構成しても、また、そのままの姿勢で実施するようにしても、本発明を実施する上で、特に問題を生じない。

さらに、図４で、処理装置１０１〜１０６の搬送ロボット１１〜１６と搬送ライン１２１、１２２との間でウエハＷを１枚、つまり、枚葉で受渡し可能となっている。さらに、ベイストッカー１３０のストッカー（図示省略）と搬送ライン１２１、１２２との間でウエハＷを受渡し可能となっている。
図４で、ベイ１００、２００、３００……間でのウエハの搬送は、ベイストッカー１３０、２３０、３３０……を利用しベイ間搬送ライン４００で実施される。

図５、図６は、枚葉搬送ライン１２０の詳細構造を示す。図５は、枚葉搬送ライン１２０のベイストッカー１３０とは反対側の部分の斜視外観図である。図６は、図５のＩ−Ｉ視断面図である。
図６で、搬送ライン１２１は移動体１２１ａとウエハ保持台１２１ｂを備えている。ウエハ保持台１２１ｂは移動体１２１ａに設けられている。ウエハ保持台１２１ｂは、その上表面をウエハ保持面とし、その上にウエハＷを１枚保持するようになっている。ウエハＷは水平姿勢でそのウエハ保持台１２１ｂの上表面にコンタクトして置かれる。搬送ライン１２２は移動体１２２ａとウエハ保持具１２２ｂを備えている。ウエハ保持具１２２ｂは、移動体１２２ａに設けられている。ウエハ保持具１２２ｂは、ウエハＷを水平姿勢で１枚保持するようになっている。図６でウエハ保持台１２１ｂのウエハ載置面とウエハ保持具１２２ｂとウエハ保持部との間隔Ｈは各処理処置の構造により決定される。これについては後述する。

図７で、例えば、移動体１２１ａには、非接触移動体、この場合、リニアレール１２１ａ−１とリニア台車１２１ａ−２とでなるリニア移動体が用いられる。ウエハ保持台１２１ｂは、移動体１２１ａのリニア台車１２１ａ−２に設けられている。ウエハ保持台１２１ｂは、その上表面をウエハ保持面とし、その上にウエハＷを１枚保持するようになっている。ウエハＷは水平姿勢でそのウエハ保持台１２１ｂの上表面にコンタクトして置かれる。
図７で、移動体１２２ａには、非接触移動体、この場合、リニアレール１２２ａ−１とリニア台車１２２ａ−２とでなるリニア移動体が用いられる。ウエハ保持具１２２ｂは、移動体１２２ａのリニア台車１２２ａ−２に設けられている。ウエハ保持具１２２ｂは、ウエハＷの外周部であって、その裏面部分をコンタクトして、この場合、１枚保持するようになっている。

次に、搬送ライン１２１から搬送ライン１２２へウエハＷの受渡しをする場合につき説明する。
図７で、まず、搬送ライン１２１のウエハ保持台１２１ｂにウエハＷが１枚載置保持されている。一方、搬送ライン１２２のウエハ保持具１２２ｂはウエハを保持していない状態である。この状態でウエハ保持台１２１ｂとウエハ保持具１２２ｂの位置関係がウエハの受渡し可能な位置関係に調整される。次ぎに、ウエハ保持台１２１ｂのウエハＷがウエハ保持具１２２ｂに向って上昇（矢印６００）させられる。その上昇は、ウエハ保持具１２２ｂでウエハを受取り可能な位置に達した時点で停止される。この前に図１０に示すように、ウエハ保持具１２２ｂは半径方向に開いた状態（矢印６０２）になっている。ウエハＷが、その部位に来た時点で開いているウエハ保持具１２２ｂが半径方向に閉じられる（矢印６０２）。それによってウエハＷはその外周裏面部をウエハ保持具１２２ｂのすくい部によってすくわれて受取られる。その後、ウエハＷを上昇させた部材（図示省略）は下降させられて、例えば、ウエハ保持台１２１ｂ内に収納される。

図８に搬送ライン１２１の部分平面図を示す。
図８で、枚葉搬送ラインに沿ってその底面にリニアレール１２１ａ−１が設けられている。リニアレール１２１ａ−１には、この場合３個のリニア台車が走行可能（矢印６０３）にそれぞれ設けられている。それぞれのリニア台車１２１ａ−２には、ウエハ保持台１２１ｂが１個設けられている。
図８で、リニア台車１２１ａ−２の平面形状は、例えば、矩形となっている。ウエハ保持台１２１ｂの形状は、例えば、略円形である。このウエハ保持台１２１ｂの大きさは、ウエハの大きさによって選択される。例えば、ウエハの直径が８インチ、１２インチ、１４インチ……と変わって行く場合は、このウエハの直径によってウエハ保持台１２１ｂの大きさもそれに応じて変わる。リニア台車１２１ａ−２には前後の間隔を検知するセンサー（図示省略）がそれぞれ備えられている。これらのセンサーは、制御装置（図示省略）にそれぞれ接続されている。また、リニア台車１２１ａ−２またはウエハ保持台１２１ｂには、センサー（図示省略）が設けられている。このセンサーは、ウエハの有無とウエハ情報を検知する機能を有する。このセンサーは、制御装置（図示省略）に接続されている。このセンサーは、一つのセンサーが、ウエハの有無検知とウエハ情報検知の両方の検知機能を有しても良い。また、別々の機能を有しても良い。
さらに、リニア台車１２１ａ−２は、搬送ライン１２１における自身の位置情報を確認するためのセンサー（図示省略）をそれぞれ備えている。このセンサーは、制御装置（図示省略）に接続されている。例えば、このセンサーは、所定の処理装置に対応した位置にリニア台車１２１ａ−２が来たかどうかを検知する機能を有する。尚、このような検知機能を有するセンサーをそれぞれの処理装置が備えても良いし、また、それぞれのリニア台車、処理装置の双方で備えても良い。

図９に搬送ライン１２２の部分平面図を示す。
図９で、枚葉搬送ラインに沿ってその底面にリニアレール１２２ａ−１が設けられている。リニアレール１２２ａ−１には、この場合、３個のリニア台車１２２ａ−２が走行可能（矢印６０４）にそれぞれ設けられている。それぞれのリニア台車１２２ａ−２には、ウエハ保持具１２２ｂが設けられている。例えば、図１０に示すようにウエハ保持具１２２ｂは、３個のすくい部１２２ｂ−１を有している。このすくい部１２２ｂ−１は円周上、１２０°間隔で配置されており、ウエハＷの外周部分に位置する。このウエハ保持具１２２ｂはウエハＷの受取りのためにウエハの半径方向（矢印６０２）に開閉することができる。

図９で、リニア台車１２２ａ−２の平面形状は、例えば、矩形となっている。また、リニア台車１２２ａ−２には、前後の間隔を検知するセンサー（図示省略）がそれぞれ備えられている。このセンサーは、制御装置（図示省略）にそれぞれ接続されている。さらに、リニア台車１２２ａ−２には、ウエハの有無とウエハ情報を検知する機能を有するセンサー（図示省略）が設けられている。このセンサーは、制御装置（図示省略）にそれぞれ接続されている。このセンサーは、一つのセンサーが、ウエハ有無検知とウエハ情報検知の両方の検知機能を有しても良い。また、別々の機能を有しても良い。
さらに、各リニア台車１２２ａ−２は、搬送ライン１２２における自身の位置情報を確認するためのセンサー（図示省略）を備えている。このセンサーは、制御装置（図示省略）にそれぞれ接続されている。例えば、このセンサーは、所定の処理装置に対応した位置にリニア台車１２２ａ−２が来たかどうかを検知する機能を有する。尚、このような検知機能を有するセンサーをそれぞれの処理装置が備えても良いし、また、それぞれのリニア台車、処理装置の双方で備えても良い。

図８、図９で、搬送ライン１２１でのリニア台車１２１ａ−２のリニアレール１２１ａ−１への設置台数と、搬送ライン１２２でのリニア台車１２２ａ−２のリニアレール１２２ａ−１への設置台数とは、同一であっても異なる台数であっても良い。図８、図９で、リニア台車がそれぞれ３台設けられた例を示したが、このリニア台車の台数は、適宜決められれば良い。また、それぞれのセンサー等が接続される制御装置は、個別のものであっても良いし、１台の装置あってもよい。
搬送ライン１２１のリニア台車１２１ａ−２と搬送ライン１２２のリニア台車１２２ａ−２との位置関係の制御がそれぞれのセンサーと制御装置の作用によって適宜実施される。

図１１、図１２で、ベイストッカー１３０は、ベイ間搬送ライン４００に接続されている。ベイ間搬送ライン４００としてはこの場合ＡＧＶ（Ａｕｔｏｍａｔｉｃ Ｇｕｉｄｅｄ Ｖｅｈｉｃｌｅ）４１０が採用されている。ＡＧＶ４１０は、ロボット４１１、台４１２、レール４１３、走行フレーム４１４を有している。走行レール４１３は、ベイ間搬送ライン４００に設置されている。走行フレーム４１４がレール４１３に移動可能に設けられている。走行フレーム４１４にはロボット４１１と台４１２とが設けられている。走行フレーム４１４は、駆動装置（図示省略）を有している。この駆動装置は、制御装置（図示省略）に接続されている。走行フレーム４１４はベイストッカー１３０との位置検知センサーを備えている。このセンサーはベイストッカー１３０が備えていても良い。
図１１、図１２で、台４１２は、ウエハ収納手段、例えば、ＦＯＵＰ（Ｆｒｏｎｔ Ｏｐｅｎｉｎｇ Ｕｎｉｆｉｅｄ Ｐｏｄ）５００が、この場合、２個（５００ａ、５００ｂ）載置可能な平面を有する。ＦＯＵＰ５００は、その中に収納されているウエハの被処理面を水平姿勢で保持するように台４１２の載置面に置かれる。ロボット４１１は、この場合、例えば、その先端にＦＯＵＰの握み部を握むアーム４１６を有している。このロボット４１１は、アーム４１６を旋回動、左右往復動及び昇降動させる駆動手段（図示省略）を有する。この駆動手段は、制御装置（図示省略）に接続されている。尚、ウエハ収納装置としてはＦＯＵＰの他にオープンカセット等の他の収納装置も支障なく採用される。

図１１、図１２で、ベイストッカー１３０は、台１３１、ゲート１３２、ロボット１３３、レール１３４を有している。ベイストッカー１３０は、この場合、台１３１部分と搬送ロボット部分１３６とに分れている。台１３１部分と搬送ロボット部分１３６とはゲート１３２で仕切られている。ゲート１３２のＡＧＶ４１０サイドに台１３１が設置されている。ゲート１３２の搬送ライン１２１サイドに搬送ロボット部分１３６が配置されている。台１３１は、ＦＯＵＰ５００が、この場合３個載置可能な平面を有する。ＦＯＵＰは、その中に収納されている複数個のウエハの被処理面を水平姿勢で保持するように台１３１の載置面に置かれる。台１３１の載置面は、ＡＧＶ４１０の走行方向に沿ってＦＯＵＰ５００が隣接して置かれるようになっている。この場合、ゲート１３２が３個備えられ、それぞれのゲート１３２ａ〜１３２ｃは、ＦＯＵＰ５００にそれぞれ対応して配設されている。搬送ロボット１３６のレール台１３７には、レール１３４が設けられている。レール１３４は、台１３１でのＦＯＵＰ５００の載置面に平行に置かれている。ロボット１３３が、レール１３４に載せられている。ロボット１３３は、レール１３４上を走行させる駆動手段（図示省略）を有している。この駆動手段は、制御装置（図示省略）に接続されている。このロボット１３３は、アーム１３８を有している。アーム１３８は、このアーム１３８を旋回動、左右往復動、及び昇降動させる駆動手段（図示省略）を有する。この駆動手段は制御装置（図示省略）に接続される。この場合、このアーム１３８は、ウエハの有無検知とウエハ情報検知の両方の検知機能を有するセンサー（図示省略）を備えている。このセンサーは制御装置（図示省略）に接続されている。

このように構成されている装置システムでは、次のようなウエハの操作・処理がなされる。
図４〜図１２で、ベイ１００の上流側から、ベイ間搬送ライン４００を通ってウエハがベイ１００に搬送されてくる。具体的には、ＡＧＶ４１０の台４１２の載置面にＦＯＵＰ５００ａ、５００ｂが並んで置かれる。例えば、ＦＯＵＰ５００ｂの中には処理速度の速いウエハが収納されている。ＦＯＵＰ５００ａ、５００ｂが台４１２に載置されたかどうかセンサーで検知する。この検知情報は、制御装置に送られる。これによって台４１２にＦＯＵＰ５００ａ、５００ｂがそれぞれ適正に置かれたことが確認される。その後、制御装置から駆動手段に操作信号が出力され、駆動手段の作動が開始される。これによってＡＧＶ４１０は、ベイ間搬送ライン４００の中をベイ１００のベイストッカー１３０に向って走行させられる。その後、ＡＧＶ４１０が、ベイストッカー１３０の所定位置に対応する場所に来たことを位置検知センサーで検知される。この検知信号は、制御装置に送られ、制御装置から停止信号が出力される。これによりＡＧＶ４１０は、停止させられる。この場合、台１３１のＦＯＵＰ載置面には、ＦＯＵＰ５００ｃ、５００ｄが載置されている。そして残されたＦＯＵＰ載置面一ヶ所にはＦＯＵＰは載置されていない。この場合、ベイストッカー１３０の台１３１に置かれているＦＯＵＰ５００ｄのウエハ処理がほぼ終了状態にある。残りのＦＯＵＰ５００ｃ内のウエハの処理は中途段階である。また、例えば、ＦＯＵＰ５００ｄのウエハは、ＦＯＵＰ５００ｂのウエハとは異なり、処理速度が遅いものである。台１３１のＦＯＵＰの載置面であって、残された１ヶ所の載置面、この場合ＦＯＵＰ５００ｄのゲート１３２ｂに向って右側に位置する載置面にＦＯＵＰがあるか無いかセンサー（図示省略）で検知される。センサーでＦＯＵＰ無しと検知された時点で制御装置からロボット４１１の駆動手段に操作信号が出力される。この操作信号を受けてロボット４１１が作動開始される。この作動は、図１１のアーム４１６の状態からＦＯＵＰ５００ｂに対応する位置にアーム４１６が旋回させられた時点で停止される。その後アーム４１６がＦＯＵＰ５００ｂを掴持可能な間隔に広げられる。その後、アーム４１６がＦＯＵＰ５００ｂの握み部に対応する位置まで下降される。その後アーム４１６は閉じられ、これによってＦＯＵＰ５００ｂがアーム４１６に掴持される。アーム４１６がＦＯＵＰ５００ｂを掴持したことが、センサーで検知されて、この信号が制御装置に出力される。その後、ＦＯＵＰ５００ｂはこの状態で台１３１の残りの載置面まで搬送される。この結果、ＦＯＵＰ５００ｂはこの載置面に載置される。この載置された信号はセンサーから制御装置に出力される。一方、ＦＯＵＰ５００ｄのウエハの処理が終了したことが制御装置に送信される。これを受けて、ロボット４１１のアーム４１６はＦＯＵＰ５００ｄを回収可能な位置まで移動させられて停止させられる。その後、ロボット４１１のアーム４１６は、その間隔を開いた状態でＦＯＵＰ５００ｄに向って移動させられる。この移動はアーム４１６でＦＯＵＰ５００ｄを側面キャッチできるようになった時点で制御装置によって停止させられる。その後、アーム４１６が閉じられ、これによってＦＯＵＰ５００ｄはアーム４１６に掴持される。この状態でＦＯＵＰ５００ｄは、もともとＦＯＵＰ５００ｂが載置されていた台４１２の載置面に載置される。つまり、この状態では台１３１のもともとＦＯＵＰ５００ｂが載置された面が、次のＦＯＵＰ受取り面となる。ＦＯＵＰ５００ａ、ＦＯＵＰ５００ｄを保持したＡＧＶ４１０は次のベイ方向矢印６０５又は上流方向矢印６０６に移動されられる。

次に制御装置の指令によりゲート１３２ｃが開かれる。この時、ＦＯＵＰ５００ｂのドアも開かれる。これによりＦＯＵＰ５００ｂ内は、搬送ロボット部１３６、枚葉搬送ライン１２０の雰囲気と連通状態となる。この状態で、制御装置の指令により、ロボット１３３がゲート１３２ｃに対応した位置まで移動されられて停止させられる。ＦＯＵＰ５００ｂ内に収納されているウエハの情報がアーム入１３８のセンサーにより読取られる。読取られた情報は制御装置に出力される。この情報信号により、ＦＯＵＰ５００ｂ内のウエハのどのウエハを次の処理に出すかが選択される。その選択された信号が、ロボット１３３に出力される。これによりロボット１３３はアーム１３８が所定の高さの位置になるよう調節される。その後、アーム１３８がゲート１３２ｃを通ってＦＯＵＰ５００ｂ内に挿入される。このアーム１３８の動きはＦＯＵＰ５００ｂ内の所定のウエハの裏面に、このアーム１３８のすくい部が到達した時点で制御装置により停止される。その後、このアーム１３８のすくい部は少しだけ上昇させられる。この上昇によってウエハはアーム１３８のすくい部に受取られる。その後、このアーム１３８は元の位置まで待避される。一方、枚葉搬送ライン１２０の上側位置にある搬送ライン１２２のリニア台車１２２ａ−２がウエハ受渡し可能な位置に停止させられる。この停止位置と情報はセンサーから制御装置に出力される。リニア台車１２２ａ−２のウエハ保持具１２２ｂは半径方向に開いた状態になっている。尚、この場合、このリニア台車１２２ａ−２の下側位置にリニア台車１２１ａ−２が有るか無いかは問題ではない。アーム１３８のすくい部にウエハを有するロボット１３３は、リニア台車１２２ａ−２に対応する位置までレール１３４上を走行させられる。この走行は、ロボット１３３がリニア台車１２２ａ−２に対応した位置に到達した時点で制御装置により停止させられる。この間、ウエハを有するアーム１３８は、そのすくい部を１８０°旋回させられる。その後、アーム１３８のすくい部はリニア台車１２２ａ−２に向って移動させられる。リニア台車１２１ａ−２の下方位置にアーム１３８のすくい部にすくわれたウエハが到達した時点で、このアーム１３８の移動は停止させられる。その後、アーム１３８のすくい部は上昇させられる。この上昇はアーム１３８のすくい部のウエハがリニア台車１２２ａ−２のウエハ保持具１２２ｂですくい可能な位置にきた時点で制御装置により停止させられる。この状態でウエハ保持具１２２ｂは半径方向に閉じられる（矢印６０２）。これによりウエハは、アーム１３８のすくい部からウエハ保持具１２２ｂに渡される。ウエハを渡したアーム１３８は元の位置に待避して待機させられる。

図４でＦＯＵＰ５００ｂが、例えば、ベイストッカー１３０の台１３１にセットされた時点で、制御装置により処理装置の内１０３、１０６が処理速度の速いウエハの処理ができるように加工条件をセッティングされている。尚、残りの処理装置１０１、１０２、１０４、１０５では処理速度の遅いウエハの処理が続行される。

図１３は、図４における枚葉搬送ライン１２０における処理装置１０１及び処理装置１０３の部分の詳細構成図である。図１３で枚葉搬送ライン１２０の下側の搬送ライン１２１を示す。処理装置１０１の前方部分に位置するところにリニア台車１２１ａ−２がある。処理装置１０１の搬送ライン１２１側からゲート１０１ｄ、ロック室１０１ａ、ゲート１０１ｃ、処理室１０１ｂが順次配置されている。ロック室１０１ａの中にはすくい部１１−１を有したロボット１１が配置されている。このすくい部１１−１は、例えばゲート１０１ｄを通ってウエハの受渡しをするリンク機構と旋回してゲート１０１ｃを通って処理室１０１ｂにウエハを受渡しする機能を有する。
また、図１３で枚葉搬送ライン１２０の上側の搬送ライン１２２を示す。処理装置１０３の前方部分に位置するところにリニア台車１２２ａ−２がある。処理装置１０３の搬送ライン１２２側からゲート１０３ｄ、ロック室１０３ａ、ゲート１０３ｃ、処理室１０３ｂが順次配置されている。ロック室１０３ａの中にはすくい部１３−１を有したロボット１３が配置されている。このすくい部１３−１は、例えばゲート１０３ｄを通ってウエハの受渡しをするリンク機構と旋回してゲート１０３ｃを通って処理室１０３ｂにウエハを受渡しする機能を有する。
この他に処理速度の遅いウエハを処理する処理装置１０２、１０４、１０５と搬送ライン１２１との取合い構造は、処理装置１０１と搬送ライン１２１との取合い構造と略同一であり、図示、説明を省略する。また、処理速度の速いウエハを処理する処理装置１０６と搬送ライン１２２との取合い構造は処理装置１０３と搬送ライン１２２との取合い構造と略同一のため、図示、説明を省略する。

図１４に処理装置１０３と枚葉搬送ライン１２２の取合い詳細を示す。図１４で、枚葉搬送ライン１２０の空間とロック室１０３ａは、ゲート１０３ｄで仕切られている。この場合、枚葉搬送ライン１２０とロック室１０３ａの高さは略同一の高さである。ロック室１０３ａ内と処理室１０３ｂ内とは、ゲート１０３ｃで仕切られている。
ロボット１３３のアーム１３８からＦＯＵＰ５００ｂ内のウエハＷｂ１を受取ったリニア台車１２２ａ−２は、図１１の位置から図４の処理装置１０３に対応する位置まで移動させられる。この移動は、所定位置にリニア台車１２２ａ−２が来たことをセンサーで検知されることで制御装置で制御される（図１４）。図１４でロック室１０３ａ内は、清浄ガス、例えば、窒素ガスが導入され、これによりロック室１０３ａ内の圧力は枚葉搬送ライン１２０の雰囲気圧力とほぼ同圧力に調節される。その後、ゲート１０３ｄが開けられる。その後、ロボット１３のすくい部１３−１が、開けられているゲート１０３ｄを通って枚葉搬送ライン１２０へ繰り出される（矢印６０７）。このすくい部１３−１が、ウエハ保持具１２２ｂに保持されているウエハＷｂ１の下方位置に達した時点で、すくい部１３−１の動きは停止される。その後、ウエハ保持具１２２ｂは下降させられる（矢印６０１）。この下降はウエハＷｂ１の裏面がすくい部１３−１に当接した時点で停止される（図１５）。その後、ウエハ保持具１２２ｂが半径方向に開かれる（矢印６０２）。これによりウエハＷｂ１はウエハ保持具１２２ｂからすくい部１３−１に渡される。ウエハＷｂ１を受取ったすくい部１３−１はゲート１０３ｄを通ってロック室１０３ａの元の位置に引戻される。その後、図１５（ｂ）に示すようにゲート１０３ｄが閉じられロック室１０３ａ内は減圧排気される。ロック室１０３ａの圧力が処理室１０３ｂの圧力とほぼ同圧になった時点でゲート１０３ｃが開かれる。この状態でロボット１３のすくい部１３−１はロック室１０３ａから処理室１０３ｂへ移動させられる。これによりウエハＷｂ１はすくい部１３−１ですくわれた状態で処理室１０３ｂに搬入させられる。さらに、このウエハＷｂ１は処理室１０３ｂに内設されている試料台（図示省略）上に渡される。ウエハＷｂ１を渡したすくい部１３−１は、ゲート１０３ｃを通ってロック室１０３ａに待避させられて、ロック室１０３ａの元の位置に待機させられる。その後、ゲート１０３ｃが閉じられる。この状態で処理室１０３ｂ内の試料台に載置されたウエハＷｂ１は、処理室１０３ｂで所定処理、例えばプラズマエッチング処理される。処理室１０３ｂでプラズマエッチング処理が終ったウエハＷｂ１は上述した搬入操作とは逆の操作によりゲート１０３ｃ、ロック室１０３ａ、ゲート１０３ｄを順次通過し、枚葉搬送ライン１２０に搬出されてウエハ保持具１２２ｂに渡される。処理室１０３ｂでプラズマエッチング処理が終ったウエハＷｂ１を保持したリニア台車１２２ａ−２はリニアレール１２２ａ−１にガイドされて搬送ライン１２２を処理装置１０６方向へ移動させられる。

図１１、１２でＦＯＵＰ５００ｂ内の次に選択されたウエハＷｂ２が、上述した操作と同様の操作によりロボット１３３のアーム１３８のすくい部にすくわれてＦＯＵＰ５００ｂから抜出される。この抜出された第２のウエハＷｂ２は上述した操作と同様の操作によりロボット１３３のアーム１３８のすくい部からリニア台車１２２ａ−２のウエハ保持具１２２ｂに渡される。ウエハ保持具１２２ｂにウエハＷｂ２を受け取ったリニア台車１２２ａ−２は、上述した操作と同様の操作により処理装置１０３に対応する位置に移動させられて停止される。尚、処理装置１０３での処理と処理装置１０６の処理とでは、この場合異なっている。処理装置１０３でプラズマエッチング処理されたウエハＷｂ１を保持したリニア台車１２２ａ−２は、搬送ライン１２２を処理装置１０６方向へ向って移動させられる。その後、リニア台車１２２ａ−２が処理装置１０６に達した時点で停止される。このリニア台車１２２ａ−２に保持されているウエハＷｂ１は、処理装置１０３同様の操作により、処理装置１０６の処理室（図示省略）に、搬入される。この処理装置に搬入されたウエハＷｂ１はここで所定処理、例えば成膜処理（ＣＶＤ、ＰＶＤ等）される。成膜処理済のウエハＷｂ１は処理室からゲート（図示省略）、ロック室（図示省略）、ゲート（図示省略）を順次通って枚葉搬送ライン１２０に搬出される。この搬出されたウエハＷｂ１はリニア台車１２２ａ−２のウエハ保持具１２２ｂに保持されて、ロボット１３３のアーム１３８にウエハを受渡し可能な位置にまで移動させられる。その後、リニア台車１２２ａ−２のウエハ保持具１２２ｂに保持されているウエハＷｂ１は、上述した操作とは逆操作によりロボット１３３を介してＦＯＵＰ５００ｂの元の位置に回収される。

一方、処理装置１０３に対応する位置まで移動させられて停止されたリニア台車１２２ａ−２のウエハ保持具１２２ｂに保持されているウエハＷｂ２は、上述したウエハＷｂ１の場合と同様な操作により、処理装置１０３の処理室１０３ｂに搬入され、ここでプラズマエッチング処理される。その後、処理済ウエハＷｂ１は処理室１０３ｂから枚葉搬送ライン１２０に搬出され、リニア台車１２２ａ−２のウエハ保持具１２２ｂに渡されて保持される。その後、このリニア台車１２２ａ−２は処理装置１０６に向って走行させられる。
このような操作が繰返し実施される。これによりＦＯＵＰ５００ｂ内のウエハＷｂ１、Ｗｂ２、……Ｗｂｎは、搬送ライン１２２により処理装置１０３、１０６に順次送られる。処理装置１０３、１０６で処理されたウエハＷｂ１、Ｗｂ２、……ＷｂｎはＦＯＵＰ５００ｂに順次戻され、そしてＦＯＵＰ５００ｂの所定の位置に回収される。

図１６に処理装置１０１と枚葉搬送ライン１２１の取合い詳細を示す。図１６で、枚葉搬送ライン１２０の空間とロック室１０１ａは、ゲート１０１ｄで仕切られている。この場合、枚葉搬送ライン１２０とロック室１０１ａの高さは略同一の高さである。ロック室１０１ａ内と処理室１０１ｂ内とは、ゲート１０１ｃで仕切られている。
ＦＯＵＰ５００ｃ内に収納されているウエハの情報が、センサーにより読み取られる。読み取られた情報は制御装置に出力される。この場合、ＦＯＵＰ５００ｃ内のウエハは、処理速度の遅いウエハである。従って、この場合、処理速度が遅いとの情報がセンサーにより読み取られ、この読み取られた情報が制御装置に出力される。一方、枚葉搬送ライン１２０ａの下側位置にある搬送ライン１２１のリニア台車１２１ａ−２が、ウエハ受け渡し可能な位置に停止させられる。この停止位置と情報はセンサーから制御装置に出力される。リニア台車１２１ａ−２のウエハ保持台１２１ｂのウエハ押し上げピン１２１ｃは、この場合、ウエハ保持台１２１ｂ内に収納された状態となっている。尚、ウエハ押し上げピンは、この場合３本あり、それぞれはウエハ保持台１２１ｂの中心を中心として１２０°間隔でウエハ保持台１２１ｂに配設されている。また、これらピンは所定間隔で昇降動可能となっている。アーム１３８のすくい部にウエハを有するロボット１３３は、リニア台車１２１ａ−２に対応する位置までレール１３４上を走行させられる。この走行はロボット１３３がリニア台車１２１ａ−２に対応した位置に到達した時点で、制御装置により停止させられる。この間、ウエハを有するアーム１３８の、そのすくい部は、リニア台車１２１ａ−２に向って移動させられる。リニア台車１２１ａ−２の上方位置にアーム１３８のすくい部にすくわれたウエハＷｃｎが到達した時点で、このアーム１３８の移動は停止させられる。その後、ウエハ押し上げピン１２１ｃが上昇させられる。この上昇は、アーム１３８のすくい部のウエハＷｃｎの裏面にその頂点が当接した時点で、このウエハ押し上げピンの上昇は停止させられる。これによりウエハＷｃｎは、アーム１３８のすくい部からウエハ押し上げピンに受け渡される。その後アーム１３８は、元の位置に戻されて待機させられる。
ロボット１３３のアーム１３８からウエハＷｃｎを受け取ったリニア台車１２１ａ−２は、処理装置１０１に対応する位置まで移動させられる。この移動は所定位置にリニア台車１２１ａ−２が来たことをセンサーで検知され、制御装置により制御される。

図１６で、ロック室１０１ａ内は、清浄ガス、例えば、窒素ガスが導入され、これによりロック室１０１ａ内の圧力は、枚葉搬送ライン１２０とほぼ同圧に調節される。その後、ゲート１０１ｄが開けられる。その後、ロボット１１のすくい部１１−１が開けられているゲート１０１ｄを通って、枚葉搬送ライン１２０へ繰り出される（矢印６０７）。一方、処理装置１０１に対応する位置にあるリニア台車１２１ａ−２のウエハ保持台１２１ｂに保持されているウエハＷｃｎは、ウエハ押し上げピンの上昇によりウエハ保持台１２１ｂからウエハ押し上げピン１２１ｃに渡されて保持される。
この状態で、ロボット１１のすくい部１１−１が、ウエハ押し上げピン１２１ｃに保持されているウエハＷｃｎの下方位置に達した時点で、すくい部１１−１の動きは停止される（図１７（ａ））。その後、ウエハ押し上げピン１２１ｃは下降させられる。この下降により、ウエハＷｃｎはウエハ押し上げピン１２１ｃからすくい部１１−１に渡される。ウエハＷｃｎを受取ったすくい部１１−１は、ゲート１０１ｄを通ってロック室１０１ａの元に位置に引き戻される。その後、ゲート１０１ｄが閉じられ、ロック室１０１ａ内は減圧排気される（図１７（ｂ））。ロック室１０１ａの圧力が、処理室１０１ｂの圧力とほぼ同圧になった時点でゲート１０１ｃが開かれる。この状態でロボット１１のすくい部１１−１は、ロック室１０１ａから処理室１０１ｂへ移動させられる。これによりウエハＷｃｎは、すくい部１１−１ですくわれた状態で処理室１０１ｂに搬入させられる。さらに、ウエハＷｃｎは処理室１０１ｂに内設されている試料台上に渡される。ウエハＷｃｎを渡したすくい部１１−１は、ゲート１０１ｃを通ってロック室１０１ａに退避させられてロック室１０１ａの元の位置に待機させられる。その後、ゲート１０１ｃが閉じられる。この状態で処理室１０１ｂ内の試料台に載置されたウエハＷｃｎは、処理室１０１ｂで所定処理、例えばプラズマエッチング処理される。

尚、先に説明した処理室１０３ｂ内でのウエハＷｂのプラズマエッチング処理条件と、この場合、処理室１０１ｂ内でのウエハＷｃのプラズマエッチング処理条件とは当然異なっている。つまり、処理室１０３ｂ内でのウエハＷｂのプラズマエッチング処理条件は、その処理時間が短いような条件であり、一方、処理室１０１ｂ内でのウエハＷｃのプラズマエッチング処理条件は、その処理時間が長いようになっている。処理室１０１ｂでプラズマエッチング処理が終ったウエハＷｃｎは、上述した搬入操作とは逆の操作により、ゲート１０１ｃ、ロック室１０１ａ，、ゲート１０１ｄを順次通過し、枚葉搬送ライン１２０に搬出されてウエハ押し上げピン１２１ｃを介してウエハ保持台１２１ｂに受け渡される。
処理室１０１ｂでプラズマエッチング処理が終ったウエハＷｃｎを保持したリニア台車１２１ａ−２はリニアレール１２１ａ−１にガイドされて搬送ライン１２１を処理室１０５の方向へ移動させられる。

図１１、１２で、ＦＯＵＰ５００ｃ内の次に選択されたウエハＷｃｎ＋１が、上述した操作と同様の操作によりロボット１３３のアーム１３８ａのすくい部にすくわれてＦＯＵＰ５００ｃから抜き出される。この抜き出されたウエハＷｃｎ＋１は上述した操作と同様の操作によりロボット１３３のアーム１３８のすくい部からリニア台車１２１ａ−２のウエハ保持台１２１ｂに渡される。ウエハ保持台１２１ｂにウエハＷｃｎ＋１を受け取ったリニア台車１２１ａ−２は、上述した同様の操作により処理装置１０１に対応する位置に移動させられて停止される。尚，処理装置１０１での処理と処理装置１０５の処理とでは、この場合異なっている。処理装置１０１でプラズマエッチング処理されたウエハＷｃｎを保持したリニア台車１２１ａ−２は、搬送ライン１２１を処理装置１０５の方向へ向かって移動させられる。その後、リニア台車１２１ａ−２が処理装置１０５に対応する位置に達した時点で、この移動は停止させられる。リニア台車１２１ａ−２に保持されているウエハＷｃｎは処理装置１０１と同様の操作により、処理装置１０５の処理室（図示省略）に搬入される。この処理装置に搬入されたウエハＷｃｎは、ここで所定処理、例えば成膜処理（ＣＶＤ、ＰＶＤ等）される。成膜処理済のウエハＷｃｎは処理室からゲート（図示省略）、ロック室（図示省略）、ゲート（図示省略）を順次通って枚葉搬送ライン１２０に搬出される。この搬出されたウエハＷｃｎはリニア台車１２１ａ−２のウエハ保持台１２１ｂに保持されてロボット１３３のアーム１３８にウエハＷｃｎを受け渡し可能な位置にまで移動させられる。その後、リニア台車１２１ａ−２のウエハ保持台１２１ｂに保持されているウエハＷｃｎは、上述した操作とは逆操作によりロボット１３３を介してＦＯＵＰ５００ｃの元の位置に回収される。一方、処理装置１０１に対応する位置まで移動させられて停止されたリニア台車１２１ａ−２のウエハ保持台１２１ｂに保持されている次のウエハＷｃｎ＋１は、上述したウエハＷｃｎの場合と同様の操作により処理装置１０１の処理室１０１ｂに搬入され、ここでプラズマエッチング処理される。その後、処理済ウエハＷｃｎ＋１は、処理室１０１ｂから枚葉搬送ライン１２０に搬出されリニア台車１２１ａ−２のウエハ保持台１２１ｂのウエハ保持台１２１ｂに渡されて保持される。その後、このリニア台車１２１ａ−２は、処理装置１０５に向かって移動させられる。このようにして、ＦＯＵＰ５００ｃ内のウエハは、上述したＦＯＵＰ５００ｂ内のウエハの搬送・処理と平行して、搬送ライン１２１、処理装置１０１、１０２、１０４、１０５により１枚ごと順次処理される。この処理済ウエハはＦＯＵＰ５００ｃに１枚ごと戻され、そして所定の位置に回収される。
以上、ＦＯＵＰ５００ｂ内のウエハとＦＯＵＰ５００ｃ内のウエハとの処理装置での処理条件が異なる例につき説明をした。次にＦＯＵＰ５００ｂ、５００ｃ内のウエハの処理条件が同じ場合につき説明する。

図４で、処理装置１０１〜１０３が同一の処理装置、例えばプラズマエッチング装置、処理装置１０４〜１０６は、例えばプラズマＣＶＤ装置とする。処理装置１０１〜１０３は同じウエハの処理条件で運転される。処理装置１０４〜１０６は同じウエハの処理条件で運転される。図１１で、ＦＯＵＰ５００ｂには処理速度の速いウエハが収納されている。またＦＯＵＰ５００ｃ、５００ｄには処理速度の遅いウエハが収納されている。ＦＯＵＰ５００ｂから５００ｄにそれぞれ収納されているウエハの処理装置１０１〜１０３及び処理装置１０４〜１０６での処理条件等は同じである。

まず図１１、１２の状態から先述した操作と同様の操作で、台４１２のＦＯＵＰ５００ｂは、台１３１の空いている載置面にロボット４１１により搬送されて載置される。次にＦＯＵＰ５００ｄに収納されているウエハの処理が終了した時点で、このＦＯＵＰ５００ｄはロボット４１１により台１３１から台４１２の載置面に搬送されて載置される。その後、このＡＧＶ４１０は矢印６０４又は６０５方向に移動させられる。ＦＯＵＰ５００ｂに収納されているウエハＷｂ１が上述したような操作によりロボット１３３で取出され、搬送ライン１２２のリニア台車１２２ａ−２のウエハ保持具１２２ｂに渡される。一方、ＦＯＵＰ５００ｂの搬送、載置により処理装置１０１〜１０３の中で処理待ちの状態にある処理装置がセンサーにより検知され、この信号は制御装置に出力される。例えば、処理装置１０１〜１０３で処理装置１０２が処理待ち状態にあると検知された場合、先程のウエハＷｂ１を保持したリニア台車１２２ａ−２は、処理装置１０２に対応した位置まで走行させられて停止させられる。このウエハＷｂ１はその後、処理装置１０２の処理室に搬入され、ここでプラズマエッチング処理される。エッチング処理済のウエハＷｂ１は処理装置１０２外へ取出されてリニア台車１２２ａ−２のウエハ保持具１２２ｂに戻される。尚、処理装置１０１、１０３ではＦＯＵＰ５００ｃの処理速度の遅いウエハＷｃｎ…の処理が並行して実施される。

次に、処理装置１０４〜１０６で処理待ち状態にある処理装置がセンサーにより検知され、制御装置に出力される。処理装置１０４〜１０６の中で、例えば、処理装置１０４が処理待ちと検知された場合、先程のウエハＷｂ１を保持したリニア台車１２２ａ−２は、処理装置１０４に対応した位置まで走行させられて停止させられる。このウエハＷｂ１は、その後、処理装置１０４の処理室に搬入され、ここでプラズマＣＶＤ処理される。ＣＶＤ処理済のウエハＷｂ１は処理装置１０４外へ取出され、リニア台車１２２ａ−２のウエハ保持具１２２ｂに戻される。

尚、処理装置１０５、１０６ではＦＯＵＰ５００ｃの処理速度の遅いウエハＷｃｎ…の処理が並行して実施される。処理装置１０４で処理が終ったウエハＷｂ１は搬送ライン１２２、ロボット１３３によりＦＯＵＰ５００ｂの元の位置に戻され回収される。これとともに処理装置１０５、１０６でそれぞれ処理が終ったウエハＷｃｎ…は、搬送ライン１２１、ロボット１３３により、ＦＯＵＰ５００ｃの元の位置に戻されて回収される。ＦＯＵＰ５００ｂから次のウエハＷｂ２が選択される。一方、処理装置１０１〜１０３で処理装置１０１が処理待ちの状態にある場合、ウエハＷｂ２はロボット１３３、搬送ライン１２２により処理装置１０１の処理室に搬入されてプラズマエッチング処理される。処理装置１０１での処理が終了したウエハＷｂ２は処理室１０１外へ取出される。ここで処理装置１０４〜１０６の中で、例えば処理装置１０５が処理待ち状態にある場合、処理装置１０１で処理が終了したウエハＷｂ２は搬送ライン１２２により処理装置１０５まで搬送される。このウエハＷｂ２は処理装置１０５の処理室内に搬入され、ここでプラズマＣＶＤ処理される。処理済のウエハＷｂ２は処理装置１０５外へ取出され、搬送ライン１２２、ロボット１３３によりＦＯＵＰ５００ｂの元の位置に戻されて回収される。これとともに処理装置１０４、１０６では、処理速度の遅いウエハＷｃｎ＋１…に対するプラズマＣＶＤ処理が実施される。これらの処理が終了したウエハＷｃｎ＋１…は処理装置１０４、１０６からそれぞれ取出され、搬送ライン１２１、ロボット１３３によりＦＯＵＰ５００ｃ内の所定の位置に戻されて回収される。このようにＦＯＵＰ５００ｂ内のウエハＷｂ１，Ｗｂ２……Ｗｂｎは処理装置１０１〜１０３で処理待ち状態にある処理装置で１枚ごと順次処理される。これらの処理装置で処理が終了したウエハＷｂ１，Ｗｂ２……Ｗｂｎは、次に処理装置１０４〜１０６の中で処理待ち状態にあるいずれかの処理装置でプラズマＣＶＤ処理される。これらウエハＷｂ１，Ｗｂ２……Ｗｂｎのベイ内における搬送は搬送ライン１２２により実施される。処理装置１０４〜１０６のいずれかで処理が終了したウエハＷｂ１，Ｗｂ２……Ｗｂｎは１枚ごと搬送ライン１２２、ロボット１３３によりＦＯＵＰ５００ｂ内の所定の位置に戻され回収される。これとともに、ＦＯＵＰ５００ｃ内の処理速度の遅いウエハＷｃｎ＋１…Ｗｃｍの処理が処理装置１０１〜１０３のいずれかの装置及び処理装置１０４〜１０６のいずれかの装置で順次実施される。この場合、ベイ内でのウエハの搬送は搬送ライン１２１により行われる。処理装置１０４〜１０６のいずれかの装置でプラズマＣＶＤ処理が終了したウエハＷｃｎ、Ｗｃｎ＋１……Ｗｃｍは、搬送ライン１２１、ロボット１３３によりＦＯＵＰ５００ｃ内の元の位置に戻されて回収される。

図１１、１２で、ＦＯＵＰ５００ｃが台１３１のＦＯＵＰ載置面にＡＧＶ４１０のロボット４１１により載置されたものとする。ＦＯＵＰ５００ｃ内には処理速度が速いウエハ、すなわち処理時間が短いウエハと処理速度が遅いウエハ、すなわち処理時間が長いウエハとが混在されている。ここで、それぞれのウエハの処理室での処理条件は異なっているものとする。まず、図４で処理装置１０１〜１０３はプラズマエッチング装置、処理装置１０４〜１０６はプラズマＣＶＤ装置とする。さらに、プラズマエッチング装置１０１〜１０３で、処理装置１０３が処理時間が短いウエハの処理条件に設定されている。処理装置１０１、１０２は、処理時間が長いウエハの処理条件に設定されている。また、処理装置１０４〜１０６で、この場合、処理装置１０４が、処理時間が短いウエハの処理条件に設定されている。処理装置１０５、１０６は、処理時間の長いウエハの処理条件に設定されている。また、搬送ライン１２１が処理時間が長いウエハの搬送に使用され、搬送ライン１２２が処理時間が短いウエハの搬送に使用される。

図１１〜図１７で、ＦＯＵＰ ５００ｃ内にロボット１３３のアーム１３８が挿入される。この時点で、アーム１３８の上方に位置するウエハ情報がセンサーにより検知され、これは制御装置に出力される。これにより制御装置では、このウエハは、例えば、処理時間が短いウエハＷｃＳ１と判定される。この処理時間が短いウエハＷｃＳ１は、その後、ロボット１３３により搬送ライン１２２のリニア台車１２２ａ−２のウエハ保持具１２２ｂに渡される。ウエハ保持具１２２ｂでウエハＷｃＳ１を受け取ったリニア台車１２２ａ−２は、搬送ライン１２２を処理装置１０３に向かって走行させられる。その後、ウエハＷｃＳ１を有するリニア台車１２２ａ−２が、処理装置１０３に対応する位置に到達したことがセンサーで検知され、この走行は停止される。その後、このウエハＷｃＳ１は、処理装置１０３に搬入されプラズマエッチング処理される。プラズマエッチング処理済のＷｃＳ１は処理装置１０３外へ取り出され、リニア台車１２２ａ−２のウエハ保持具１２２ｂに渡される。その後、そのウエハＷｃＳ１を受け取ったリニア台車１２２ａ−２は、搬送ライン１２２より処理装置１０４に向かって走行させられる。一方、ＦＯＵＰ ５００Ｃ内にロボット１３３のアーム１３８が挿入される。この時点で、アーム１３８の上方に位置するウエハ情報はセンサーにより検知され、これは制御装置に出力される。これにより制御装置では、このウエハは、例えば、処理速度が遅いウエハと判定される。この処理速度の遅いウエハＷｃＬ１は、その後、ロボット１３３により搬送ライン１２１のリニア台車１２１ａ−２のウエハ保持台１２１ｂに渡される。ウエハ保持台１２１ｂでウエハＷｃＬ１を受け取ったリニア台車１２１ａ−２は、搬送ライン１２１を処理装置１０２に向かって走行させられる。その後、ウエハＷｃＬ１を有するリニア台車１２１ａ−２が処理装置１０２に対応する位置に到着したことがセンサーで検知され、この走行は停止される。その後、このウエハＷｃＬ１は、処理装置１０２に搬入されプラズマエッチング処理される。プラズマエッチング処理済のウエハＷｃＬ１は、処理装置１０２外へ取り出され、リニア台車１２１ａ−２のウエハ保持台１２１ｂに渡される。その後、そのウエハＷｃＬ１を受け取ったリニア台車１２１ａ−２は、搬送ライン１２１より処理装置１０５に向かって走行させられる。その後、ウエハＷｃＬ１は、処理装置１０５に搬入されプラズマＣＶＤ処理される。プラズマＣＶＤ処理済のウエハＷｃＬ１は、処理装置１０５外へ取り出され、リニア台車１２１ａ−２のウエハ保持具１２１ｂに渡される。その後、そのウエハＷｃＬ１は、ＦＯＵＰ ５００ｃの元の位置に戻される。一方、ＦＯＵＰ ５００ｃ内に、ロボット１３３のアーム１３８が挿入される。この時点で、アーム１３８の上方に位置するウエハ情報はセンサーにより検知され、これは制御装置に出力される。これにより制御装置では、このウエハは、例えば、処理時間が長いウエハと判定される。この処理時間が長いウエハＷｃＬ２は、その後、ロボット１３３により搬送ライン１２１のリニア台車１２１ａ−２のウエハ保持台１２１ｂに渡される。ウエハ保持台１２１ｂでウエハＷｃＬ２を受け取ったリニア台車１２１ａ−２は、搬送ライン１２１を処理装置１０１に向かって走行させられる。その後、ウエハＷｃＬ２を有するリニア台車１２１ａ−２が処理装置１０１に対応する位置に到着したことがセンサーで検知され、この走行は停止される。その後、このウエハＷｃＬ２は、処理装置１０１に搬入されプラズマエッチング処理される。プラズマエッチング処理済のウエハＷｃＬ２は、処理装置１０１外へ取り出され、リニア台車１２１ａ−２のウエハ保持台１２１ｂに渡される。その後、そのウエハＷｃＬ２を受け取ったリニア台車１２１ａ−２は、搬送ライン１２１より処理装置１０６に向かって走行させられる。その後、ウエハＷｃＬ２は、処理装置１０６に搬入されプラズマＣＶＤ処理される。プラズマＣＶＤ処理済のウエハＷｃＬ２は、処理装置１０６外へ取り出され、リニア台車１２１ａ−２のウエハ保持具１２１ｂに渡される。その後、そのウエハＷｃＬ２はＦＯＵＰ ５００ｃの元の位置に戻される。一方、ＦＯＵＰ ５００ｃ内にロボット１３３のアーム１３８が挿入される。この時点で、アーム１３８の上方に位置するウエハ情報はセンサーにより検知され、これは制御装置に出力される。これにより制御装置では、ウエハは、例えば、処理時間が短いウエハと判定される。この処理時間が短いウエハＷｃＳ２は、その後、ロボット１３３により搬送ライン１２２のリニア台車１２２ａ−２のウエハ保持具１２２ｂに渡される。ウエハ保持具１２２ｂでウエハＷｃＳ２を受け取ったリニア台車１２２ａ−２は、搬送ライン１２２を処理装置１０３に向かって走行させられる。その後、ウエハＷｃＳ２を有するリニア台車１２２ａ−２が処理装置１０３に対応する位置に到達したことがセンサーで検知され、この走行は停止される。その後、このウエハＷｃＳ２は、処理装置１０３に搬入されプラズマエッチング処理される。このとき、ウエハＷｃＳ１は、処理装置１０４に搬入されプラズマＣＶＤ処理される。プラズマＣＶＤ処理済のウエハＷｃＳ１は、処理装置１０４外へ取り出され、リニア台車１２２ａ−２のウエハ保持具１２２ｂに渡される。その後、そのウエハＷｃＳ１はＦＯＵＰ ５００ｃの元の位置に戻される。その後、プラズマエッチング処理済のウエハＷｃＳ２は、処理装置１０３外へ取り出され、リニア台車１２２ａ−２のウエハ保持具１２２ｂに渡される。その後そのウエハＷｃＳ１を受け取ったリニア台車１２２ａ−２は、搬送ライン１２２より処理装置１０４に向かって走行させられる。この後、ウエハＷｃＳ２は、処理装置１０４に搬入されプラズマＣＶＤ処理される。プラズマＣＶＤ処理済のウエハＷｃＳ２は、処理装置１０４外へ取り出され、リニア台車１２２ａ−２のウエハ保持具１２２ｂに渡される。その後、そのウエハＷｃＳ２は、ＦＯＵＰ ５００Ｃの元の位置に戻される。
このようにして、ＦＯＵＰ ５００ｃの内の処理時間が短いウエハＷｃＳ１、ＷｃＳ２…ＷｃＳｎならびに、処理時間が長いウエハＷｃＬ１、ＷｃＬ２…ＷｃＬｎの枚葉搬送ライン１２０での搬送処理装置１０１〜１０６での処理が順次実施され、そしてＦＯＵＰ ５００Ｃの元の位置に戻され回収される。

図１１〜図１４で、ＡＧＶ ４１０の台４１２に、ＦＯＵＰ ５００ａ、５００ｂが載置されている。この状態でＡＧＶ ４１０は矢印６０４方向に走行させられる。ベイ１００のベイストッカー１３０に対応した位置に到着した時点でこのＡＧＶ ４１０の走行は停止される。ＦＯＵＰ ５００ｂ内には、特急仕様のウエハＷｈｂ１、Ｗｈｂ２…Ｗｂｈｎが収納されている。このウエハの情報にもとづき図４での、処理装置１０１〜１０６でこのウエハを処理する装置が選択され加工条件が設定される。この場合、例えば、処理装置１０１、１０５は、この特急ウエハの処理に使用される装置として選択される。尚、残りの処理装置１０２、１０３、１０４、１０６は、ＦＯＵＰ ５００ｃ、５００ｄ内の処理に継続して使用される。また、枚葉搬送ライン１２０で特急ウエハを搬送するラインとして、この場合、搬送ライン１２２が選択される。搬送ライン１２１では、ＦＯＵＰ ５００ｃ、５００ｄ内のウエハの搬送が行われる。

図１１〜図１４でＦＯＵＰ ５００ｂは、ベイストッカー１３０の台１３１のＦＯＵＰ ５００ｄの右横側のＦＯＵＰ 載置面に載置される。このＦＯＵＰ ５００ｂに対応するゲート１３２ｃが開けられ、これに伴いＦＯＵＰ ５００ｂのドア（図示省略）も開けられる。ＦＯＵＰ ５００ｂ内にロボット１３３のアーム１３８が挿入される。この時点で、アーム１３８の上方に位置するウエハ情報はセンサーにより検知され、これは制御装置に出力される。これにより制御装置では、このウエハは、例えば、処理速度が特急のウエハと判定される。この処理速度の特急のウエハＷｂｈ１は、その後、ロボット１３３により搬送ライン１２２のリニア台車１２２ａ−２のウエハ保持具１２２ｂに渡される。このウエハ保持具１２２ｂでウエハＷｂｈ１を受け取ったリニア台車１２２ａ−２には、搬送ライン１２２を処理装置１０１に向かって走行させられる。その後、ウエハＷｂｈ１を有するリニア台車１２２ａ−２が処理装置１０１に対応する位置に到達したことがセンサーで検知され、この走行は停止される。その後、このウエハＷｂｈ１は、処理装置１０１に搬入され、ここで、プラズマエッチング処理される。エッチング処理済みのウエハＷｂｈ１は、処理装置１０１外へ取り出され、リニア台車１２２ａ−２のウエハ保持具１２２ｂに渡される。その後、そのウエハＷｂｈ１を受け取ったリニア台車１２２ａ−２は、搬送ライン１２２より処理装置１０５に向かって走行させられる。この後、ウエハＷｂｈ１は、処理装置１０５に搬入されプラズマＣＶＤ処理される。プラズマＣＶＤ処理済のウエハＷｂｈ１は、処理装置１０５外へ取り出され、リニア台車１２２ａ−２のウエハ保持具１２２ｂに渡される。その後、そのウエハＷｂｈ１はＦＯＵＰ ５００ｂの元の位置に戻される。その後、ＦＯＵＰ ５００ｂ内にロボット１３３のアーム１３８が挿入される。この時点でアーム１３８の上方に位置するウエハ情報はセンサーにより検知され、これは制御装置に出力される。これにより制御装置では、このウエハは、例えば、処理速度が特急のウエハと判定される。この処理速度の特急のウエハＷｂｈ２は、その後、ロボット１３３により搬送ライン１２２のリニア台車１２２ａ−２のウエハ保持具１２２ｂに渡される。このウエハ保持具１２２ｂでウエハＷｂｈ２を受け取ったリニア台車１２２ａ−２は、搬送ライン１２２を処理装置１０１に向かって走行させられる。その後、ウエハＷｂｈ２を有するリニア台車１２２ａ−２が、処理装置１０１に対応する位置に到達したことがセンサーで検知され、この走行は停止される。その後、このウエハＷｂｈ２は、処理装置１０１に搬入されプラズマエッチング処理される。エッチング処理済みのウエハＷｂｈ２は、処理装置１０１外へ取り出され、リニア台車１２２ａ−２のウエハ保持具１２２ｂに渡される。その後、そのウエハＷｂｈ２を受け取ったリニア台車１２２ａ−２は、搬送ライン１２２より処理装置１０５に向かって走行させられる。この後、ウエハＷｂｈ２は、処理装置１０５に搬入されプラズマＣＶＤ処理される。プラズマＣＶＤ処理済のウエハＷｂｈ２は、処理装置１０５外へ取り出され、リニア台車１２２ａ−２のウエハ保持具１２２ｂに渡される。その後、そのウエハＷｂｈ２は、ＦＯＵＰ ５００ｂの元の位置に戻される。ＦＯＵＰ ５００ｂには、これらの特急のウエハが５枚収納されているものとする。残りの３枚の特急のウエハは、先程のウエハＷｂｈ１、Ｗｂｈ２と同様に搬送処理されてＦＯＵＰ ５００ｂの元の位置に戻される。

尚、ここでＦＯＵＰ５００ｄに先程の処理速度が速い、すなわち処理時間が短いウエハか、または、処理速度が遅い、すなわち処理時間が長いウエハのどちらかが収納されているものとする。例えば、処理時間が短いウエハが収納されている場合、このウエハＷｄＳは搬送ライン１２２で搬送され処理装置１０３でプラズマエッチング処理、引続き処理装置１０５でプラズマＣＶＤ処理される。その後、処理済ウエハはＦＯＵＰ５００ｄの元の位置に戻されて回収される。一方、処理時間が長いウエハが収納されている場合、このウエハＷｄＬ１は、搬送ライン１２１で搬送され処理装置１０１、１０２でプラズマエッチング処理、引続き処理装置１０４、１０６でプラズマＣＶＤ処理される。その後、処理済みウエハＦＯＵＰ５００ｄの元の位置に戻されて回収される。尚、このような処理は、上述したＦＯＵＰ５００ｃ内のウエハの処理の合間（待ち時間）を利用して実施される。この様なことはセンサー、制御装置により円滑に処理される。

この様にして処理が完了したウエハを全て回収したＦＯＵＰ ５００ｂは、その後、ＡＧＶ ４１０の台４１２に載置される。その後、このＡＧＶ ４１０は、別のベイ等、別の場所へ移動させられる（矢印６０４または６０５）。尚、この間ＦＯＵＰ ５００ｃおよび５００ｄにあるウエハは、搬送ライン１２１により搬送され、その途中、処理装置１０２または１０３及び処理装置１０４または１０６にて順次処理される。この処理ウエハは、ＦＯＵＰ ５００ｃおよび５００ｄの元の位置に戻される。その後、ＦＯＵＰ ５００ｂ内の特急のウエハのベイ１００での処理が全て終了した時点で、特急のウエハに対応して選択された処理装置１０１と１０５の加工条件がＦＯＵＰ ５００ｃおよび５００ｄ内の加工条件が元に戻される。その後、ＦＯＵＰ ５００ｃおよび５００ｄ内の未処理のウエハは、搬入ライン１２１により搬送され処理装置１０１〜１０６により処理される。処理済のウエハはＦＯＵＰ ５００ｃ、５００ｄの元の位置に戻され回収される。

以上、本発明の一実施例につき説明をした。
このような一実施例では次のような効果が得られる。
１．処理時間が長いウエハと処理時間が短いウエハとが同じベイ内の搬送ラインに混在したとしても、ベイ内搬送ラインとして、この場合、並搬送可能に２つの搬送ラインを有しているため、処理時間が長いウエハの搬送・処理と処理時間が短いウエハの搬送・処理とを別々に分離して行うことができる。このように、ウエハの加工・処理条件により２つの搬送ラインの使い分けができる、つまり、処理時間が長いウエハと処理時間が短いウエハとの搬送ラインの使い分けができるため、従来技術でのように、ウエハの搬送・処理待ち時間が生じるのを防止できる。つまり従来技術では、搬送時間は処理時間の長い方に律速されるが、本実施例では２つの搬送ラインをそれぞれ個別に使用するため、このような律速が生じない。従って、処理時間が遅くなることがなく、全体のスピードが低下することがなく、ひいてはベイ全体のスループットが低下するのを防ぐことができる。
２．処理条件が同じで、処理時間が長いウエハと処理時間が短いウエハとが同じベイ内の搬送ラインに混在したとしても、ベイ内搬送ラインとして、この場合、並搬送可能に２つの搬送ラインを有しているため、処理時間が長いウエハの搬送・処理と処理時間が短いウエハの搬送・処理とを別々に分離して行うことができる。このように、処理条件が同じでも処理時間が長いウエハと処理時間が短いウエハとの搬送ラインの使い分けができるため、従来技術でのように、ウエハの搬送・処理待ち時間が生じるのを防止できる。つまり従来技術では、搬送時間は、処理時間の長い方に律速されるが、本実施例では２つの搬送ラインをそれぞれ個別に使用するためこのような律速が生じない。従って、処理時間が遅くなることがなく、全体のスピードが低下することがなく、ひいてはベイ全体のスループットが低下するのを防ぐことができる。
３．処理条件が違うもので、処理時間が長いウエハと処理時間が短いウエハとが同じベイ内の搬送ラインに混在したとしても、ベイ内搬送ラインとして、この場合、並搬送可能に２つの搬送ラインを有しているため、処理時間が長いウエハの搬送・処理と処理時間が短いウエハの搬送・処理とを別々に分離して行うことができる。このように、処理条件が違うもので、処理時間が長いウエハと処理時間が短いウエハとの搬送ラインの使い分けがげきるため、従来技術でのような、ウエハの搬送処理待ち時間が生じるのを防止できる。つまり従来技術では、搬送時間は処理時間の長い方に律速されるが、本実施例では２つの搬送ラインをそれぞれ個別に使用するためこのような律速が生じない。従って、処理時間が遅くなることがなく、全体のスピードが低下することがなく、ひいてはベイ全体のスループットが低下するのを防ぐことができる。

４．同一ＦＯＵＰ内に処理内容が違うウエハが混在した場合で、処理時間が長いウエハと処理時間が短いウエハとが同じベイ内の搬送ラインに混在したとしても、ベイ内搬送ラインとして、この場合、並搬送可能に２つの搬送ラインを有しているため、処理時間が長いウエハの搬送・処理と処理時間が短いウエハの搬送・処理とを別々に分離して行うことができる。このように、同一ＦＯＵＰ内であって処理時間が違う処理時間が長いウエハと処理時間が短いウエハとの搬送ラインの使い分けを有するため、従来技術でのような、ウエハの搬送処理待ち時間が生じるのを防止できる。つまり、従来技術では、搬送時間は処理時間の長い方に律速されるが、本実施例では２つの搬送ラインをそれぞれ個別に使用するため、このような律速が生じない。従って、処理時間が遅くなることがなく、全体のスピードが低下することがなく、ひいてはベイ全体のスループットが低下するのを防ぐことができる。
５．特急のウエハ処理で、処理時間が長いウエハと処理時間が短いウエハとが同じベイ内の搬送ラインに混在したとしても、ベイ内搬送ラインとして、この場合、並搬送可能に２つの搬送ラインを有しているため、処理時間が長いウエハの搬送・処理と処理時間が短いウエハの搬送・処理とを別々に分離して行うことができる。このように、処理時間が長いウエハと処理時間が短いウエハとの搬送ラインの使い分けができるため、従来技術でのような、ウエハの搬送処理待ち時間が生じるのを防止できる。つまり従来技術では、搬送時間は、処理時間の長い方に律速されるが、本実施例では、２つの搬送ラインをそれぞれ個別に使用するためこのような律速が生じない。従って、処理時間が遅くなることがなく、全体のスピードが低下することがなく、ひいてはベイ全体のスループットが低下するのを防ぐことができる。

更に、このような一実施例では、次のような効果も得られる。
６．枚葉搬送ラインが、この場合、並搬送可能に２つの搬送ラインで構成され、しかも、この２つの搬送ラインが、上下位置でセットされた構造であるため、もう１つの搬送ラインに追設によるクリーンルーム占有床面積（フットプリント）の増大も抑制することができる。このため、フットプリント当りのスループットの低下を防止することができる。
７．枚葉搬送ラインを構成する、この場合、上下２つの搬送ラインの搬送空間が、清浄ガス雰囲気に保持される構造のため、これが設置されるクリーンルームの清浄度をより低く緩和できる。このため、クリーンルームも建造費を節減できる。
８．ベイ間搬送ラインとベイ内搬送ライン（枚葉搬送ライン）とを大気ローダタイプのベイストッカーで連結した構造であるため、ベイ間搬送ラインとベイストッカーとの間でのFOUPの取扱いを自動化・容易化できる。
９．ベイストッカーを大気ローダ（大気−清浄ガス雰囲気間ローダ）で構成すれば良く、ベイ内の各処理装置毎に大気ローダ部を設ける必要がないため、装置構成を簡略化でき、その設備費を低減することができる。

１０．ベイストッカーの大気ローダ部の清浄ガス雰囲気と枚葉搬送ラインの搬送空間の洗浄ガス雰囲気とが連通しているため、これら空間に清浄ガスを供給する装置を集約でき、これによる設備費及び運転費を節減することができる。
１１．枚葉搬送ラインを構成する二つの搬送ラインが、この場合上下位置でセットされ、そして、それぞれの搬送ラインと対応する処理装置との間でウエハが独立して受渡しできるため、それぞれの搬送ラインでのウエハの搬送、それぞれの搬送ラインと対応する処理装置との間でのウエハの受渡し及び各処理装置でのウエハの処理をスムーズに行うことができる。これにより、処理時間が違うウエハが混在した場合でも、特急処理が必要なウエハが来た場合でもベイ内のスループット及び全体でのスループットの低下を抑制できる。
１２．本実施例では、枚葉搬送ラインの空間の高さと各処理室のロック室の高さが略同一高さであるため、枚葉搬送ラインに、各処理装置を特別なインターフェース部を用いなくとも連設できる。したがって、各ベイの構築が容易になり、各ベイの構築に要する時間を短縮でき、その費用を節減できる。

尚、上記の一実施例で、枚葉搬送ラインに故障を検知する故障検知装置を取り付けるようにする（図４）。このような構成で、例えば、搬送ライン１２１が、何らかの原因で故障した場合、この故障が、故障検知装置で直ちに検知される。この検知信号は、制御装置（図示省略）に送られ、これにより、例えば、搬送ライン１２２の作動が開始される。このため、このような異常事態が発生しても、ベイ内でのウエハの枚葉搬送は、停止されることなく継続される。従って、各処理装置での処理を停止することなく継続して処理・搬送でき、ベイ内での全ての作業がスムーズに実施される。さらに、このようにベイ内でのウエハの搬送・処理がストップされることがないので、他の関係するベイでのウエハの搬送・処理を全てストップさせずに実施することができる。

また、上記の一実施例では、枚葉搬送ラインを上下位置にそれぞれ配置された搬送ラインの組合わせで構成したが、この他に例えば、下側位置の搬送ラインは一実施例と同じものを使用し、そして上側位置の搬送ラインにＯＨＴを使用するようにしても良い。

図１８、図１９は、本発明の第２の実施例を示すものである。図１８、図１９で本発明の一実施例を示す図４、図６、図７、図１４等と異なる点は、枚葉搬送ライン１２０ｂが、この場合、ループ状の搬送ライン１２１とその長手方向中央部に配置された直線上の搬送ライン１２３とで構成されている点である。
図１８で処理装置１０１〜１０６が、搬送ライン１２１の長手搬送方向並びに搬送ライン１２３の搬送方向に沿って、その両側に各３台毎それぞれ配置されている。
図１８で、搬送ライン１２３にはウエハのすくい部を有するロボット１２３−１、１２３−２が、この場合、２台、搬送ライン１２３の搬送方向の両サイドに１台ずつ可動に配置されている。

図１９で、搬送ライン１２１のループ状の搬送室７００の底壁部には、例えば、上記一実施例と同様にリニアレール１２１ａ−１、リニア台車１２１ａ−２でなる移動体１２１ａが設けられている。この移動体１２１ａのリニア台車１２１ａ−２にはウエハ保持台１２１ｂが設けられている。ここで、移動体１２１ａ、ウエハ保持台１２１ｂは、上記一実施例のそれらと同様であるため、詳細な説明を省略する。
図１９で、搬送室７００の各々対面するサイドにはゲート７０１ａ、７０１ｂが設けられている。そして、これとは反対サイドには、例えば、ロック室１０２ａ、１０５ａがゲート１０２ｄ、１０５ｄを介してそれぞれ設けられている。ロック室１０２ａ、１０５ａの中にはすくい部１２−１、１５−１を有したロボット１２、１５がそれぞれ配置されている。ロック室１０２ａ、１０５ａにはゲート１０２ｃ、１０５ｃを介してそれぞれ処理室１０２ｂ、１０５ｂが設けられている。尚、図１９で、その他の構成等については上記一実施例を示す図１３でのそれらと同様であり、詳細な説明を省略する。図１９で、搬送室７００内には、清浄ガス、例えば窒素ガスが供給され、窒素ガス雰囲気に保持されている。

図１９で、搬送ライン１２３をその内部に含む搬送室７０２が設けられている。搬送室７０２の、この場合、頂壁部には搬送ライン１２３が設けられている。つまり、搬送室７０２の頂壁部には移動体１２３ａが設けられている。この移動体１２３ａには非接触移動体、この場合、リニアレール１２３ａ−１とリニア台車１２３ａ−２とでなる移動体１２３ａが用いられる。搬送室７０２の頂壁部には、リニアレール１２３ａ−１が設けられている。リニア台車１２３ａ−２は、リニアレール１２３ａ−１にガイドされ移動可能に設けられている。リニア台車１２３ａ−２には、ウエハのすくい部を有するロボット１２３−２が設けられている。搬送室７０２内の雰囲気は大気雰囲気であっても清浄ガス雰囲気であっても良い。

図１８、図１９で、ベイストッカー部１３０で所定のウエハを受け取った直線状の搬送ライン１２３のロボット１２３−２は、リニア台車１２３ａ−２を移動させることで搬送ライン１２３を直線状に移動させられる。その後、この移動は、所定の処理装置に対応する位置にリニア台車１２３ａ−２が到達した時点で停止させられる。その後、すくい部にウエハを有するロボット１２３−２は搬送室７０２の底壁に向かって下降させられる。この下降は、ロック室１０２ａのロボット１２のウエハのすくい部１２−１との間でウエハを受け渡し可能な高さで停止させられる。その後、ゲート７０１ａが開けられ、ウエハを有するすくい部はゲート７０１ａを通して搬送室７００内に繰り出され停止させられる。一方、ゲート１０２ｄが開けられ、ロック室１０２ａのロボット１２のすくい部１２−１がゲート１０２ｄを通して搬送室７００内に繰り出され、ウエハの受け渡しのために停止させられる。すくい部からウエハを渡したロボット１２３−２はゲート７０１ａを通って引き戻され、その後、元の位置（高さ）に戻されて待機させられる。ウエハを受け取ったロボット１２のすくい部１２−１は、ゲート１０２ｄを通ってロック室１０２ａ内に引き戻される。その後、ゲート１０２ｄが閉じられ、ロック室１０２ａ内は処理室１０２ｂ内と同圧力に減圧排気される。その後、ゲート１０２ｃが開けられ、ウエハは、ロック室１０２ａから処理室１０２ｂへ搬送され、ここで所定処理される。尚、処理後のウエハは上記操作と逆操作によりベイストッカー部１３０に戻される。
図１８で直線状の搬送ライン１２３のもう一つのロボット１２３−１も同様の構成、作用をなすので、詳細説明を省略する。
図１８で、例えば、左側に配置されたロボット１２３−１が、左辺部及び中央部に配置された処理装置を受持ち、また、右側に配置されたロボット１２３−２が右辺部及び中央部に配置された処理装置を受持つよう制御しても良い。

図１８、図１９で、例えば、
Ａ．ベイ内での各処理装置毎にウエハの処理が異なる場合でも、ループ状の搬送ラインと直線状の搬送ラインとを使い分けることで、ベイ内でのウエハの搬送及びウエハ搬送装置と各処理装置とのウエハの取合いがウエハの処理が異なることに律速されるのを防止でき、これによってスループットの低下を抑制することができる。
Ｂ．ウエハの処理内容が、例えば、ＦＯＵＰ毎に異なっている場合でも、ループ状の搬送ラインと直線状の搬送ラインとを使い分けることで、ベイ内でのウエハの搬送及びウエハ搬送装置と各処理装置とのウエハの取合いがＦＯＵＰ毎にウエハの処理内容が異なっていたとしても、これに律速されるのを防止でき、これによりスループットの低下を抑制することができる。
Ｃ．ベイ内でのウエハの処理が同一の場合に生じる危険性がある、ベイ内搬送装置と各処理装置とのウエハの取合い及びベイ内でのウエハの搬送の混乱を、ループ状の搬送ラインと直線状の搬送ラインとを使い分けることで防止でき、これによってベイ内でのスループットの低下を抑制することができる。

Ｄ．処理時間の違うウエハが混在した場合でも、ループ状の搬送ラインと直線状の搬送ラインとを使い分けることで、処理時間の短いウエハと処理時間の長いウエハとの使い分けができるため、スループットの低下を抑制することができる。
Ｅ．多品種少量生産の場合、特急を要するウエハが来た場合、例えば、直線状の搬送ラインを活用することで、特急を要するウエハの搬送処理を普通に処理されるウエハの搬送処理と独立して行うことができるため、そのウエハの処理に時間がかかるのを防止でき、スループットの低下を抑制することができる。
Ｆ．ウエハ搬送ラインが故障してもループ状の搬送ラインと直線状の搬送ラインとのどちらかを使用できるので、ベイ内処理や他のベイでの処理がストップするのを防止できる。
Ｇ．枚葉搬送ラインが、この場合、ループ状の搬送ラインと直線状の搬送ラインの二つの搬送ラインで構成され、しかも、直線状の搬送ラインをループ状搬送ラインの設置範囲内で追設できるため、フットプリントの増大を抑制でき、フットプリント当たりのスループットの低下を防止することができる。
また、本実施例では、上記一実施例に比べ、直線状の搬送ラインとしたため、枚葉搬送ラインの構成、構造がより簡単となり、その追設費用を削減することができる。
尚、その他、上記一実施例の効果と同様の効果を得ることができる。

図２０、図２１は本発明の第３の実施例を示すものである。図２０、図２１で、本発明の一実施例を示す図４、図６、図７、図１４等と異なる点は、枚葉搬送ラインが、この場合、直線状の搬送ラインと、同じく直線状の搬送ラインとで構成されている点である。
図２０、図２１で、この場合、各搬送ライン１２４、１２５は上下の位置関係にあり、搬送ライン１２５が下側位置、搬送ライン１２４が上側位置にセットされた構造となっている。更に、図２０で、このような枚葉搬送ライン１２０ｂはベイ間搬送ライン４００ａ、４００ｂに挟まれて設置されており、それぞれと対応にその両端部にはベイストッカー部１３０ａ、１３０ｂが設けられている。
図２０、図２１で、このような枚葉搬送ライン１２０ｂの具体的な構造は、先の一実施例を示した図６、図７と略同様であり、詳細な説明を省略する。また、図２０で、この場合、６台の処理装置１０１〜１０６が枚葉搬送ラインにそれの搬送方向に対してその両側に各３台それぞれ配置されている。
更に、ベイ間搬送ライン、ベイストッカー部の構成、これと枚葉搬送ラインとの取り合い構造、及び枚葉搬送ラインと各処理装置との取り合い構造は、例えば、先に説明した一実施例のそれらと略同様であり、詳細説明を省略する。

図２０、図２１で、例えば、
Ａ．ベイ内での各処理装置毎にウエハの処理が異なる場合でも、二つの直線状の搬送ラインを使い分けることで、ベイ内でのウエハの搬送及びウエハ搬送装置と各処理装置とのウエハの取り合いが、ウエハの処理が異なることにより律速されるのを防止でき、これによってスループットの低下を抑制することができる。
Ｂ．ウエハの処理室内が、例えば、ＦＯＵＰ毎に異なっている場合でも、二つの直線状の搬送ラインを使い分けることで、ベイ内でのウエハの搬送、及びウエハ搬送装置と各処理装置とのウエハの取り合いが、ＦＯＵＰ毎にウエハの処理内容が異なっていたとしても、これによって律速されるのを防止でき、これによってベイ内でのスループットの低下を抑制することができる。
Ｃ．ベイ内でのウエハの処理が同一の場合に生じる危険性があるベイ内搬送装置と各処理装置とのウエハの取り合い及びベイ内でのウエハの搬送の混乱を、二つの直線状の搬送ラインを使い分けることで防止でき、これによってベイ内でのスループットの低下を抑制することができる。

Ｄ．処理時間の違うウエハが混在した場合でも、二つの直線状の搬送ラインを使い分けることで、処理時間の短いウエハと処理時間の長いウエハとの使い分けができるため、スループットの低下を抑制することができる。
Ｅ．多品種少量生産の場合、特急を要するウエハが来た場合、例えば、直線状の搬送ラインのいずれか一方を活用することで、特急を要するウエハの搬送処理を普通に処理されるウエハの搬送処理と独立して行うことができるため、そのウエハの処理に時間がかかるのを防止でき、スループットの低下を抑制することができる。
Ｆ．ウエハ搬送ラインが故障しても直線状の搬送ラインのどちらかを使用できるので、ベイ内でのウエハの搬送、処理や他のベイでの処理がストップするのを防止できる。

また、本実施例では、上記一実施例、第２の実施例に比べ、枚葉搬送ラインを、この場合、二つの直線状の搬送ラインで構成できるため、フットプリントの増大を更に抑制でき、フットプリント当たりのスループットの低下を更に防止することができる。また、枚葉搬送ラインを、この場合、二つの直線状の搬送ラインで構成できるため、枚葉搬送ラインの構成、構造をより簡単化でき、費用を削減することができる。
更に、図２０に示すようなベイからベイ間搬送ラインを横切り隣り合った他のベイへウエハを搬送する場合、どちらかの対応するベイストッカー部を使用することで、最短搬送距離でベイから他のベイへウエハを搬送することができる。このため、ウエハの搬送時間を短縮できスループットを向上させることができる。

図２２〜図２５は、本発明の第４の実施例を示すものである。
図２２〜図２５で、本発明の一実施例を示す図１３〜１７と異なる点は、枚葉搬送ライン１２０の下方位置に処理装置１０７のロック室１０７ａを配置したことにある。

図２２、図２３は、枚葉搬送ライン１２０の上方搬送ライン１２２と例えば処理装置１０７との取合い構造およびウエハの搬送例を示すものである。また、図２４、図２５は、枚葉搬送ライン１２０の下方位置にある搬送ライン１２６と例えば処理装置１０７との取合い構造およびウエハの搬送例を示すものである。
図２２、図２３で、枚葉搬送ライン１２０の空間の下方位置に処理装置１０７のロック室１０７ａが配置されている。枚葉搬送ラインの空間とロック室１０７ａとはゲート１０７ｅで仕切られている。この場合、ウエハ保持台１２２ａ−２とウエハ保持具１２２ｂとの中心とゲート１０７ｅの開口部中心とは、垂直位置で一致させられている。ゲート１０７ｅの開口部の大きさは、少なくともウエハＷの大きさよりも大きい、つまりウエハＷが通過可能な大きさとなっている。この場合、搬送ライン１２６のリニアレール１２６ａ−１は、二つに分離されている。このリニアレールは、ゲート１０７ｅをまたぎ配置されている。尚、搬送ライン１２２の構成は、一実施例の場合と同様であり、説明を省略する。ロック室１０７ａの底壁部には、ウエハ保持台１０７ｇが設けられている。ウエハ保持台１０７ｇの上表面がウエハ保持面となり、そのウエハ保持面は、ゲート１０７ｅの開口部に対応している。ロック室１０７ａにはゲート１０７ｃを介して搬送室１０７ｆが連設され、また、搬送室１０７ｆには、ゲート１０７ｄを介して処理室１０７ｂが連設されている。搬送室１０７ｆには、ロボット１０７ｈが設けられている。

図２２で、ウエハ保持具１２２ｂにウエハＷが保持され、この状態でウエハ保持台１２２ａ−２は処理装置１０７に向って搬送ライン１２２を移動させられる。このウエハ保持台１２２ａ−２が図２２に示すように処理装置１０７に対応する位置に到着した時点でウエハ保持台１２２ａ−２の移動は停止させられる（図２３（ａ））。その後、ロック室１０７ａ内に清浄ガス、例えば、窒素ガスが導入され、これによりロック室１０７ａ内は、枚葉搬送ラインの空間の圧力、略大気圧に調整される。その後、ゲート１０７ｅが開かれる。その後、ロック室１０７ａのウエハ保持台１０７ｇに収納されていたウエハ押し上げピン１０７ｊが上昇させられる。このウエハ押し上げピン１０７ｊの上昇は、ゲート１０７ｅの開口部を通過しその先端がウエハ保持具１２２ｂに外周面を保持されているウエハＷの裏面に到達する状態まで続けられる（図２３（ｂ））。その後、ウエハ保持具１２２ｂを半径方向に開くことでウエハＷは、ウエハ保持具１２２ｂからウエハ押上げピン１０７ｊに受け渡される。その後、ウエハＷを受取ったウエハ押し上げピン１０７ｊは下降させられる。この下降は、ウエハ保持台１０７ｇにウエハＷを渡した時点で停止させられる。その後、ゲート１０７ｅが閉じられる（図２３（ｃ））。この状態で、ロック室１０７ａ内は減圧排気される。搬送室１０７ｆと同圧力となった時点でゲート１０７ｃが開かれる。その後、押し上げピン１０７ｊが再起動され、これによりウエハＷはウエハ保持台１０７ｇより浮かされた状態となる。その後、ロボット１０７ｈのすくい部が、ゲート１０７ｃの開口部を通ってロック室１０７ａ内に繰り出される。ロック室１０７ａ内に繰り出されたロボット１０７ｈのすくい部が、ウエハＷの裏面に到達された時点で移動が停止される（図２３（ｄ））。その後、ウエハ押上げピン１０７ｊは、下降させられてウエハ保持台１０７ｇに収納させられる。その後、すくい部にウエハＷを受取ったロボット１０７ｈは、ゲート１０７ｃを通って搬送室１０７ｆ内に引き戻される。その後、ゲート１０７ｃは閉じられる（図２３（ｅ））。尚、その後の運転操作は、一実施例と同様であり説明を省略する。また、処理室１０７ｂで処理されたウエハは、上記操作と逆の操作により処理室１０７ｂから１０７ｈ、搬送室１０７ｈからロック室１０７ａそしてロック室１０７ａから枚葉搬送ラインの空間に戻され搬送ライン１２２のウエハ保持具１２２ｂに受け渡され保持される。その後、このウエハは別の処理装置または、ＦＯＵＰに搬送される。

図２４、図２５でゲート１０７ｅをまたぎ配置されたリニアレール１２６ａ−１にウエハ保持台が移動可能に設けられている。ウエハ保持台には、ウエハ保持具が設けられている。この場合、ウエハ保持具はウエハの裏面外周辺部をすくう、すくい具を有している。すくい具は１２０°間隔で３個配置され、半径方向に開閉動可能となっている。この場合、ウエハ保持台、ウエハ保持具の中心とゲート１０７ｅの開口部中心とは垂直位置で一致させられている。尚、その他の構造は図２２、図２３と略同様であり説明を省略する。図２４で、ウエハ保持台のウエハ保持具にウエハＷが保持され、この状態でウエハ保持台は処理装置１０７に向かって搬送ラインを移動させられる。このウエハ保持台が図２４に示すように処理装置１０７に対応する位置に到着した時点でウエハ保持台の移動は停止させられる（図２５（ａ））。その後、ロック室１０７ａ内に清浄ガス例えば窒素ガスが導入され、これによりロック室１０７ａ内は枚葉搬送ラインの空間の圧力、略大気圧に調整される。その後、ゲート１０７ｅが開かれる。その後、ロック室１０７ａのウエハ保持台１０７ｇに収納されていたウエハ押し上げピン１０７ｊが上昇させられる。このウエハ押し上げピン１０７ｊの上昇は、ゲート１０７ｅの開口部を通過し、その先端がウエハ保持具に外周面を保持されているウエハＷの裏面に到達する状態まで続けられる。その後、ウエハ保持具を半径方向に開くことで、ウエハＷは、ウエハ保持具からウエハ押し上げピン１０７ｊに受け渡される。（図２５（ｂ））その後、ウエハＷを受け取ったウエハ押し上げピン１０７ｊは下降させられる。その後、ゲート１０７ｅが閉じられる（図２５（ｃ））。
尚、その後のウエハの搬送・処理は図２３（ｄ）（ｅ）と略同様であるため説明を省略する。

このような本実施例では、上記一実施例での効果の他に次のような効果が得られる。
１．真空処理室のロック室を枚葉搬送ラインの下方位置に直接配置した構造であるため、この分真空処理装置の奥行寸法を小さくでき、フットプリントをこの分、狭小化でき、フットプリント当たりのスループットを更に向上できる。
２．真空処理装置の真空搬送室の搬送ロボットの動作から上下動作を省略できるため、その価格の低減と共に故障等の発生率を低下させることができる。
尚、本実施例では、処理装置のロック室を枚葉搬送ラインの下方位置に配置した例につき説明したが、この他に処理装置のロック室を枚葉搬送ラインの上方位置に配置した構造としても良い。この場合も、本実施例での効果と同様の効果を得ることができる。

図２６は、本発明の第５の実施例を示すもので、ベイ間搬送ラインとベイストッカー部と枚葉搬送ラインとの取合い構成に係わるものである。
本発明の一実施例を示す図１１と異なる点は次の通りである。
まず、本実施例と一実施例との大きな相違点は、ベイ間搬送ライン４００ｃ、ベイストッカー部１３０ｃ、枚葉搬送ライン１２０ｄでのウエハの搬送が全て枚葉で実施されるように構成された点にある。
図２６で、ベイ間搬送ライン４００ｃは、ウエハが枚葉で搬送されるように構成されている。例えば、ベイ間搬送ライン４００ｃは、清浄ガス雰囲気または減圧雰囲気の空間を形成するトンネル状の搬送室（図示省略）と、該搬送室内に設置されウエハを一枚毎保持し搬送する手段（図示省略）を有している。このウエハ搬送手段は、例えば、先に一実施例で説明したようなリニア移動体と、このリニア移動体に設けられたウエハ保持具を有している。ウエハは、例えば、被処理面上向き姿勢にてウエハ保持具に保持される。複数台のウエハ保持具が連動して、または、独立して移動可能にリニア移動体に設けられている。

図２６で、このベイ間搬送ライン４００ｃの搬送室及びリニア移動体はベイストッカー部１３０ｃの前流側で分岐させられ、そして、その後流側でベイ間搬送ライン４００ｃの搬送室及びリニア移動体にそれぞれ合流連結されている。また、この場合、ループ状の枚葉搬送ライン１２０ｄのベイストッカーサイド部分が、ベイストッカー部１３０ｃの分岐搬送ライン１３０ｃ−１に連結されている。枚葉搬送ライン１２０ｄは、ループ状の搬送室（図示省略）と、この搬送室内に設置されウエハを一枚毎保持し搬送する手段（図示省略）であって、この場合、上下方向の２ヶ所に設置された搬送手段とを有している。ループ状の搬送室内は、清浄ガス雰囲気または減圧雰囲気に調整される。この場合の２セットのウエハ搬送手段は、先に説明したようなリニア移動体と、このリニア移動体に設けられたウエハ保持具を有している。下側のウエハ保持具では、ウエハは、例えば、被処理面上向き水平姿勢にて保持される。また、上側のウエハ保持具では、ウエハは、例えば、被処理面上向き水平姿勢、または、被処理面下向き水平姿勢にて保持される。下側には、複数台のウエハ保持具が連動して、または、独立して移動可能に下側のリニア移動体に設けられている。また、上側には複数台のウエハ保持具が連動して、または、独立して移動可能に上側のリニア移動体に取り付けられている。

図２６で、枚葉搬送ライン１２０ｄの搬送室及びリニア移動体は、ベイストッカー部１３０ｃの分岐搬送ライン１３０ｃ−１の搬送室及びリニア移動体にそれぞれ連結されている。枚葉搬送ライン１２０ｄの搬送室とベイストッカー部１３０ｃの分岐搬送ライン１３０ｃ−１の搬送室とは連通状態となっている。
図２６で、枚葉搬送ライン１２０ｄの例えば、上側位置の搬送ラインのリニア移動体が、分岐搬送ライン１３０ｃ−１のリニア移動体にウエハを受渡し可能に連結されている。この場合、分岐搬送ライン１３０ｃ−１と枚葉搬送ライン１２０ｄとの間でのウエハ受渡しは、上側位置の搬送ラインを用いて実施される。また、上側位置の搬送ラインと下側位置の搬送ラインとの間で、ウエハの受け渡しが可能な構造となっている。つまり、このような場合、分岐搬送ライン１３０ｃ−１を搬送されてきたウエハは、分岐搬送ライン１３０ｃ−１から上側位置の搬送ラインに渡される。その後、ウエハが有する処理情報により、このウエハはそのまま上側位置の搬送ラインを搬送されて、所定の処理装置に搬送されたり、また、上側位置の搬送ラインから下側位置の搬送ラインに渡され、その後、この搬送ラインを搬送されて所定の処理装置に搬送される。その後、ベイ内での所定処理が終了したウエハは、上側位置の搬送ラインを搬送された後に、この搬送ラインからベイストッカー部１３０ｃに渡されたり、また、下側位置の搬送ラインを搬送された後に、この搬送ラインから上側位置の搬送ラインへ、そして、この搬送ラインからベイストッカー部１３０ｃに渡される。
尚、このような搬送ラインの使い分けの制御は、例えば、上記一実施例の場合と略同様にして実施されるので、その詳細は省略する。

図２６で、更に、ベイストッカー部１３０ｃにおいて分岐搬送ライン１３０ｃ−１の後流サイドから分岐された搬送ラインが、その後、分岐搬送ラインの前流側で分岐搬送ラインに合流連結されている。この搬送ライン１３０ｃ−２は、トンネル状の搬送室（図示省略）と、この搬送室内に設置され、先に説明したリニア移動体のリニアレールとを有している。この場合、搬送室は分岐搬送室に、また、リニアレールは分岐搬送ラインのリニアレールにそれぞれ連結されている。搬送室と分岐搬送室とは連通状態となっている。
この場合、搬送室内がストッカ的機能及び搬送を整理するためのバッファ機能を有している。

図２６で、ベイ間搬送ライン４００ｃを一枚毎搬送されてきたウエハの内でベイでの処理が必要と判断されたウエハは、ベイ間搬送ライン４００ｃから分岐搬送ライン１３０ｃ−１に分流搬送される。この分岐搬送ライン１３０ｃ−１に搬送されてきたウエハは、その処理内容等により枚葉搬送ライン１２０ｄの上側、または、下側に配置されて搬送ラインを一枚毎搬送される。このようにしてウエハは一枚毎、所定の処理装置に搬送され、そして所定処理される。処理済みのウエハは、枚葉搬送ライン１２０ｄの搬送ラインを一枚毎搬送されベイストッカー部１３０ｃを介してベイ間搬送ライン４００ｃに搬送合流させられる。その後、このウエハは、ベイ間搬送ライン４００ｃにより別のベイ等へ搬送される。
図２６で、必要に応じ処理前または処理済みのウエハはベイストッカー部１３０ｃに一時保管されるようになっている。図２６では２枚のウエハを一時保管可能となっているが、この枚数については適宜決められる。

以上のような実施例では、上記一実施例での効果を得ることができると共に、更に次のような効果を得ることができる。
１．ベイ間搬送ラインと枚葉搬送ラインとがウエハを一枚毎搬送するラインであるため、これらラインと連結するベイストッカー部の構成、構造を一実施例に比べ大幅に簡素化、小型化できる。このため、一実施例に比べ、搬送ラインの構築費用を節減できる。また、フットプリントを狭小化できるので、フットプリント当たりのスループットを向上させることができる。
２．ベイ間搬送ライン、ベイストッカー部、枚葉搬送ラインを清浄ガス雰囲気、または減圧雰囲気とするため、これらが設置されるクリーンルームの清浄度をより緩やかなものとすることができ、この面での設備費等の費用を節減することができる。

以上の実施例ではウエハ自体を一枚毎搬送し処理する例について説明したが、この他に、例えば、清浄ガス雰囲気又は減圧雰囲気を保持された空間であって、ウエハを一枚のみ収容可能な空間を備えたウエハ保持具を用い、ウエハを一枚毎搬送し処理するように構成しても良い。
この場合、図１６を用いて説明した搬送室、つまりベイ間搬送ライン、ベイストッカー部、ベイ内の枚葉搬送ラインを構成する搬送室は、特に必要とされない。ただし、ウエハ保持具を移動させる移動体、例えば、リニアレールとリニア台車とでなるリニア移動体の設置は、勿論、この場合も必要である。更に、この場合、各処理装置の、例えば、ロック室内とウエハ保持具内とを連通させ、及びその連通を遮断する手段が必要となる。

例えば、ウエハを一枚収容したウエハ保持具は、ベイ間搬送ライン、ベイストッカー部、ベイ内の搬送ラインのどちらかの搬送ラインのリニアレール上をリニア台車に載せられて所定の処理装置の所まで搬送される。その後、ウエハ保持具内とロック室内とは連通させられ、ウエハ保持具内のウエハはロック室内に搬入され、その後、ロック室から処理室に搬入されてここで所定処理される。処理済みのウエハは処理室からロック室へ搬出され、ウエハ保持具内に戻されて収容される。その後、ウエハ保持具内とロック室内との連通は遮断され、ウエハ保持具はロック室から分離させられる。その後、このウエハ保持具は、例えば、他の処理装置やベイストッカー部に向かって搬送される。ベイストッカー部に搬送されてきたウエハ保持具は、その後、ベイ間搬送ラインにより他のベイ等へ搬送される。

このような例の場合、図２６を用いて説明した実施例での効果の他に、更に、次のような効果を得ることができる。
１．ベイ間搬送ライン、ベイストッカー部、ベイ内の枚葉搬送ラインを全て開放構造とできるため、これらの構成、構造を更に簡素化でき、それらの構築費を節減することができる。
２．ベイ間搬送ライン、ベイストッカー部、ベイ内の枚葉搬送ラインを全て開放構造とでき、ウエハはウエハ保持具に収容して搬送するため、これら搬送室内の清浄度をより緩やかなものとすることができ、この面での設備費等の費用を節減することができる。
３．ベイ間搬送ライン、ベイストッカー部、ベイ内の枚葉搬送ラインを全て開放構造、つまり、クリーンルーム内に開放構造にできるため、メンテナンス、修理を容易に行うことができる。

図２７は、本発明の第６の実施例を示すものである。図２７で、本発明の一実施例を示す図４、図１３等と異なる点は、次のとおりである。
図２７で、枚葉搬送ライン１２０に沿って配置された処理装置１０８は次のような構成となっている。図２７で、この場合、共通の真空搬送室１０８ｃを備え、これに、真空処理室、例えば、ウエハが一枚毎処理される枚葉タイプの真空処理室１０８ｄが複数室設けられている。図２７で、真空搬送室１０８ｃの形状は、例えば、六角形である。真空処理室１０８ｄが４室、この場合、各辺に対応し、それぞれゲート１０８ｈを介して真空搬送室１０８ｃの、この場合、側壁部に設けられている。真空搬送室内１０８ｃには、ウエハの搬送ロボット、この場合、２つのウエハすくい部を別々に有するダブルアームタイプのロボット１０８ｉが設けられている。

図２７で、その左辺部、つまり、ベイ間搬送ライン４００側に配置された処理装置１０８は、真空搬送室１０８ｃの残された二辺の側壁部に対応しそれぞれゲート１０８ｇを介してウエハ保持室１０８ｂが２室設けられている。それぞれのウエハ保持室１０８ｂには、それぞれゲート１０８ｆを介してロック室１０８ａが設けられている。それぞれのロック室１０８ａ内には、ウエハ搬送用のロボット１０８ｊが設けられている。また、それぞれのロック室１０８ａと枚葉搬送ライン１２０とはゲート１０８ｅを介してウエハを、この場合は、一枚毎に受渡し可能な取合い構造となっている。この取合い構造等は上記の一実施例の場合と略同様であり説明を省略する。
図２７で、その左辺部に配置された処理装置１０８では、枚葉搬送ライン１２０の搬送ラインのいずれかを搬送されてきたウエハは、開けられているゲート１０８ｅを通してロック室１０８ａのロボット１０８ｊにより受取られ（ゲート１０８ｅ閉）、ウエハ保持室１０８ｂにて一時保持される。このウエハ保持室１０８ｂでは、真空処理室１０８ｄでのウエハの処理内容によるが、ウエハの清浄処理、ベーク処理、加熱等が実施される。その後、このウエハは、開けられているゲート１０８ｈを通して真空搬送室１０８ｃのロボット１０８ｉによりウエハ保持室１０８ｂから真空搬送室１０８ｃへ、そして、真空搬送室１０８ｃから真空処理室１０８ｄのいずれかへ搬送されて処理される。このようにして各真空処理室でのウエハの処理が実施される。真空処理室１０８ｄでの処理が終了したウエハは開けられているゲート１０８ｈを通して真空搬送室１０８ｃのロボット１０８ｉによりウエハ保持室１０８ｂに搬送され、ここで一時保持される（ゲート１０８ｈ閉）。例えば、ウエハが加熱処理された場合は、このウエハ保持室１０８ｂが冷却室として使用される。その後、このウエハは、開けられているゲート１０８ｆを通してロボット１０８ｊによりウエハ保持室１０８ｂからロック室１０８ａへ搬送される（ゲート１０８ｆ閉）。その後、このウエハは、開けられるゲート１０８ｅを通してロック室１０８ａから枚葉搬送ライン１２０の搬送ラインのいずれかに渡され、別の場所、例えば、別の処理装置やＦＯＵＰ等に搬送される。

このような構成では、ウエハ保持室を備えているため、本発明の一実施例の構成に比べ、真空搬送室、各真空処理室内の汚染を防止することができ、汚染によるスループットの低下を抑制することができる。
また、例えば、左側のロック室１０８ａを枚葉搬送ライン１２０の、例えば、下側位置の搬送ライン１２１にゲート１０８ｅを介して取合いとし、また、右側のロック室１０８ａと枚葉搬送ライン１２０の上側位置の搬送ライン１２２にゲート１０８ｅを介して取合いをすることもできる。
このように構成した場合、搬送処理ラインを、下側位置の搬送ライン１２１⇔左側のロック室１０８ａ⇔左側のウエハ保持室１０８ｂ⇔真空搬送室１０８ｃ⇔左側の２つの真空処理室１０８ｄと、上側位置の搬送ライン１２２⇔右側のロック室１０８ａ⇔右側のウエハ保持室１０８ｂ⇔真空搬送室１０８ｃ⇔右側の２つの真空処理室１０８ｄとの２つのラインに分離し使い分けすることができる。このため、２つのラインで異なるウエハの処理を並列にて実施でき、ウエハの処理にとって裕度を更に確保することができる。また、２つのラインの内、どちらかのラインが故障等により停止したとしても残りのラインによりウエハの搬送・処理を続行させることができ、ウエハの生産性の低下を抑制することができる。

また、図２７で、その中央部に配置された処理装置１０９では、真空搬送室１０９ｃの残されたニ辺の側壁部に対応してそれぞれゲート１０９ｇを介してロック室１０９ａが設けられている。それぞれのロック室１０９ａ内にはウエハ搬送用のロボット１０９ｊが設けられている。また、それぞれのロック室１０９ａと枚葉搬送ライン１２０とはゲート１０９ｅをそれぞれ介しウエハを、この場合、一枚毎に受渡し可能な取合い構造となっている。この取合い構造、その他の構造については左辺部の処理装置１０８と同様であり説明を省略する。
図２７で、その中央部に配置された処理装置１０９では、枚葉搬送ライン１２０の搬送ラインのいずれかを搬送されてきたウエハは、開けられているゲート１０９ｅを通ってロック室１０９ａに受け取られる（ゲート１０９ｅ開）。その後、このウエハは、開けられているゲート１０９ｇを通ってロック室１０９ａから真空搬送室１０９ｃへ、そして真空搬送室１０９ｃのロボット１０９ｊにより真空搬送室１０９ｃから真空処理室１０９ｄのいずれかに搬送される。このようにして、各真空処理室１０９ｄでのウエハの処理が実施される。真空処理室１０９ｄでの処理が終了したウエハは、真空搬送室１０９ｃのロボット１０９ｉにより開いているゲート１０９ｇを通って真空搬送室１０９ｃからロック室１０９ａに搬送される（ゲート閉）。その後、このウエハは、開かれているゲート１０９ｅを通ってロボット１０９ｊによりロック室１０９ａから枚葉搬送ライン１２０の搬送ラインのいずれかに渡され、別の場所、例えば、別の処理装置やＦＯＵＰ等に搬送される。
このような構成では、先述した左辺部に配置した例に比べ、ウエハ保持室１０８ｂを備えていないため、この分、処理装置の奥行寸法を小さくでき、フットプリントを減少させることができる。従って、このような構成では、左辺部に配置した例に比べ、フットプリント当りのスループットを向上させることができる。尚、このような作用効果は、本発明の一実施例でのそれと略同様である。

図２７で、ベイ間搬送ライン４００から最も離れたサイド、つまり、その右辺部に配置された処理装置１１０では、それぞれのロック室１１０ｂにはそれぞれゲート１１０ｆを介してウエハ搬送室１１０ａが設けられている。それぞれのウエハ搬送室１１０ａには、ウエハ搬送用のロボット１１０ｊが設けられている。この場合、ウエハ搬送室１１０ａはロック機能を有しておらず枚葉搬送ライン１２０の空間と常に連通状態となっている。

図２７で、その右辺部に配置された処理装置１１０では、枚葉搬送ライン１２０の搬送ラインのいずれかを搬送されてきたウエハは、ウエハ搬送室１１０ａのロボット１１０ｊにより受取られ、開かれたゲート１１０ｆを通ってロック室１１０ｂ内に搬入される（ゲート１１０ｆ閉）。その後、ロック室１１０ｂ内のウエハは、開かれたゲート１１０ｇを通って真空搬送室１１０ｃのロボット１１０ｉにより真空搬送室１１０ｃへ搬送され、更に、真空搬送室１１０ｃから真空処理室１１０ｄのいずれかに搬送されて処理される。真空処理室１１０ｄでの処理が終了したウエハは、開かれたゲート１１０ｈを通って真空搬送室１１０ｄのロボット１１０ｉにより真空搬送室１１０ｃからロック室１１０ｂに搬送される（ゲート閉１１０ｇ）。その後、このウエハは、ウエハ搬送室１１０ａのロボット１１０ｊによりロック室１１０ｂから枚葉搬送ライン１２０の搬送ラインのいずれかに渡されて別の場所、例えば、別の処理装置やＦＯＵＰ等に搬送される。

このような構成では、ウエハ搬送室１１０ａが枚葉搬送ライン１２０と各処理装置とのインターフェースとしての機能を有するため、ベイ内での各処理装置の据付け工事が容易となる。例えば、各処理装置は、各処理装置の製造メーカでロック室を含む範囲で製造されるため、ベイ内での枚葉搬送ラインとの取合いにおいて寸法的なずれや誤差を生じ、据付けが極めて困難なものとなる。しかし、本実施例のように、それらのインターフェース部を設けることで、この問題を解決することができる。また、このような構成では、ロック室を備えているため、本発明の一実施例の構成に比べ、真空搬送室、各真空処理室内の汚染を防止でき、汚染によるスループットの低下を抑制することができる。また、例えば、左側のウエハ搬送室を枚葉搬送ラインの、例えば、下側位置の搬送ラインと取合いとし、また、右側のウエハ搬送室を枚葉搬送ラインの上側位置の搬送ラインと取合いとすることもできる。

このように構成した場合、搬送処理ラインを、下側位置の搬送ライン１２１⇔左側のウエハ搬送室１１０ａ⇔左側のロック室１１０ｂ⇔真空搬送室１１０ｃ⇔左側の２つの真空処理室１１０ｄと、上側位置の搬送ライン１２２⇔右側のウエハ搬送室１１０ａ⇔右側のロック室１１０ｂ⇔真空搬送室１１０ｃ⇔右側の２つの真空処理室１１０ｃとの２つのラインに分離し使い分けすることができる。このため、左辺部に配置された例の場合の作用効果と同様の作用効果を得ることができる。
尚、このような構成の場合、ウエハ搬送室に減圧手段を設ける必要はなく、枚葉搬送ラインの空間雰囲気が清浄ガス雰囲気である場合はこれと連通するウエハ搬送室内に清浄ガスを供給する手段を設ければ良い。また、枚葉搬送ラインの空間が開放空間である場合には、これと同じく開放構造とすれば良い。

以上、図２７を用い本発明の第７の実施例を説明したが、図２７で、本発明の一実施例を示す図４、図１３等と同様の構成、作用等については説明を省略した。
更に、図２７での実施例に対し、次のような変形、改良を行うことができる。
Ａ．図２７では、共通の真空搬送室に複数室の枚葉処理用の真空処理室を設けたタイプの処理装置を例にとり説明したが、特にこれには限定されない。例えば、真空処理室が複数のウエハを同時に処理する、つまり、バッチ処理室のみであったり、このようなバッチ処理室と枚葉処理室との組合わせであったりしても、本発明を実施する上で、特に問題を生じない。
Ｂ．ベイを、枚葉マルチタイプの処理装置やバッチ処理装置や、（バッチ処理＋枚葉処理）装置や真空処理室が１室である単一処理装置等の組合わせで構成しても、本発明を実施する上で、特に問題を生じない。
Ｃ．ベイを、このような真空処理装置とそれ以外の処理装置、例えば、常圧でウエハが処理される処理装置や、加圧状態でウエハが処理される処理装置等の組合わせで構成しても、本発明を実施する上で、特に問題を生じない。

例えば、リソグラフィ、プラズマＣＶＤ装置、スパッタ装置、プラズマエッチング装置、検査・評価装置、ＣＭＰ（Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｍｅｃｈａｎｉｃａｌ Ｐｏｌｉｓｈｅｒ）、真空蒸着装置、メッキ装置等がベイの構成に採用される。
尚、このような処理装置としては、ベイでのウエハの処理に必要な処理装置が、実用上、選択されて配置されることは言うまでもない。

図２８は本発明の第７の実施例を示すものである。図２８は枚葉搬送ライン部を横切った状態の断面図である。
図２８で左側の搬送室７０３には、その左方向でロック室、処理室がゲートを介して順次連設されている。図２８で右側の搬送室７０３には、その右方向でロック室、処理室がゲートを介して順次連設されている。図２８で、この場合、搬送室７０３、例えば、ロック室１０２ａ、処理室１０２ｃのそれぞれの底壁面は略同一高さである。この場合、基礎（床）面からの高さＨ_１である。一方、図２８で、この場合、搬送室７０３、例えば、ロック室１０５ａ’、処理室１０５ｂ’のそれぞれの頂壁面は、略同一高さである。この場合、基礎（床）面からの高さＨ_２である。従って、図２８で搬送室７０３の高さＨ_３は、Ｈ_２−Ｈ_１となる。

図２８でこのような搬送室７０３内には、下側の搬送ライン１２１の、例えば、、非接触移動体のリニアレール１２１ａ−１が、その底壁面に設けられ、上側の搬送ライン１２２の、例えば、非接触移動体のリニアレール１２２ａ−２が、その頂壁部に設けられている。ここで、各搬送ライン１２１、１２２の構成、構造は、先の一実施例と略同様であり、詳細説明を省略する。また、各搬送室７０３内は、先の一実施例と同様に清浄ガス雰囲気となっている。
図２８で、左側及び右側のロック室１０２ａ、１０５ａ’内には、一実施例と同様のウエハすくい部１２−１、１５−１’を有する搬送用のロボット１２、１５’が設けられている。一般的にロック室１０２ａ、１０５ａ’までを含む処理装置が装置メーカによって別々に製造され、例えば、半導体工場のベイに各々搬入、設置される。ここで、例えば、ロック室の高さがそれぞれの装置に係わらず略同一高さに統一されている場合には、特に問題ない。しかし多くの場合、それぞれの装置においてロック室の高さが異なっている。

図２８に示す実施例では、このような点を考慮したもので、枚葉搬送ラインをインターフェイス部とすることで、先述したように装置毎にロック室の高さが異なっていても、これによる問題を解決でき、ベイの構築をスムーズに行うことができる。
図２８で、例えば、左側の搬送室７０３で、下側の搬送ライン１２１を搬送されてきた、または、搬送されるウエハのロック室１０２ａのロボット１２との受け渡しは、先の一実施例での場合と同様に行われる。一方、上側の搬送ライン１２２を搬送されてきたウエハのロック室１０２ａのロボット１２との受け渡しは、次のようにして実施される。まず、ウエハを保持している状態でウエハ保持具１２２ｂが下降させられる。この下降は、ロック室１０２ａのロボット１２の間でウエハ受け渡し可能な高さ（位置）で停止させられる。その後、ゲート１０２ｄが開けられ、ロック室１０２ａのロボット１２のウエハのすくい部１２−１がウエハ保持具１２２ｂに向かって繰り出され、その結果、ウエハ保持具１２２ｂのウエハはロボット１２のすくい部１２−１にすくい渡される。その後、このウエハは先の一実施例での場合と同様に、処理室１０２ｂで所定処理される。この間、ウエハを渡したウエハ保持具１２２ｂは、下側の搬送ライン１２１でのウエハの搬送を阻害しないように元の高さの所に戻されて待機させられる。処理室１０２ｂでの処理が終了したウエハは処理室１０２ｂからロック室１０２ａへ戻される。また、待機させられているウエハ保持具１２２ｂは下降させられ、所定の高さ（位置）で停止させられる。その後、ロック室１０２ａ内は圧力をリークされてゲート１０２ｄが開けられる。この状態でロック室１０２ａ内の処理済みのウエハはロボット１２を繰り出すことでロック室１０２ａ内から搬送室７０３内に搬送され、そして、ウエハ保持具１２２ｂに再び渡される。その後、このウエハはウエハ保持具１２２ｂに保持されて、例えば、搬送室内を右側のロック室１０５ａ’に対応する位置まで搬送される。このウエハは、ウエハ保持具１２２ｂからロック室１０５ａ’のロボット１５’のウエハすくい部１５−１’に渡される。その後、このウエハは先の一実施例と同様に処理室１０５ｂ’で所定処理される。処理室１０５ｂ’での処理が終了したウエハは処理室１０５ｂ’からロック室１０５ａ’へ戻される。その後、ロック室１０５ａ’内は圧力をリークされてゲートが開けられる。この状態で、ロック室１０５ａ’内の処理済みのウエハはロボット１５’を繰り出すことでロック室１０５ａ’から搬送室７０３内に搬送され、そしてウエハ保持具１２２ｂに再び渡される。その後、このウエハは搬送室７０３内を、例えば、他の処理装置で処理するために搬送されたり、例えば、ベイストッカー部のＦＯＵＰに戻すために搬送される。

図２８で、更に下側の搬送ライン１２１を搬送されてきたウエハのロック室１２２ａのロボット１２との受け渡しは、次のようにして実施される。まず、下側の搬送ライン１２１でウエハを保持するウエハ保持台１２１ｂが搬送され、この搬送は、所定の処理装置１０２のロック室１０２ａに対応する位置に到着した時点で停止させられる。その後、ゲート１０２ｄが開けられ、ロック室１０２ａのロボット１２のウエハすくい部１２−１がウエハ保持台１２１ｂに向かって繰り出され、その結果、ウエハ保持台１２１ｂのウエハは、ロボット１２のすくい部１２−１にすくい渡される。その後、このウエハは先の一実施例での場合と同様に処理室１０２ｂで所定処理される。この間、例えば、ウエハを渡したウエハ保持台１２１ｂは、次のウエハの搬送を阻害しないように、搬送室７０３内を前に進められる。処理室１０２ｂでの処理が終了したウエハは、処理室１０２ｂからロック室１０２ａへ戻される。一方、このロック室１０２ａに対応した位置には、ウエハ受け取りのためのウエハ保持台１２１ｂが移動させられている。その後、ロック室１０２ａ内は圧力をリークされてゲート１０２ｄが開けられる。この状態で、ロック室１０２ａ内の処理済みのウエハはロボット１２を繰り出すことで、ロック室１０２ａ内から搬送室７０３内に搬送され、そして、ウエハ保持台１２１ｂに渡される。その後、このウエハはウエハ保持台１２１ｂに保持されて、例えば、搬送室７０３内を右側のロック室１０５ａ’に対応する位置まで搬送される。その後、このウエハは一実施例での場合と同様に押し上げピンにより搬送室７０３内をその頂壁部に向かって上昇させられる。この上昇は、所定の高さに達した時点で停止させられる。その後、ゲート１０５ｄ’が開けられ、ロック室１０５ａ’のロボット１５’のウエハのすくい部１５−１’がウエハ保持台１２１ｂに向かって繰り出され、その結果、ウエハ保持台１２１ｂのウエハは、ロボット１５’のすくい部１５−１’にすくい渡される。その後、このウエハは、先の一実施例での場合と同様に処理室１０５ｂ’で所定処理される。この間、例えば、ウエハを渡したウエハ保持台１２１ｂは、次のウエハの搬送を阻害しないように、搬送室７０３内を更に前へ進められる。処理室１０５ｂ’での処理が終了したウエハは、処理室１０５ｂ’からロック室１０５ａ’へ戻される。一方、このロック室１０５ａ’に対応した位置には、ウエハ受け取りのためのウエハ保持台１２１ｂが移動させられている。その後、ロック室１０５ａ’内は圧力をリークされてゲートが開けられる。この状態で、ロック室１０５ａ’内の処理済みのウエハはロボット１５’を繰り出すことで、ロック室１０５ａ’内から搬送室７０３内へ搬送され、そして、ウエハ保持台１２１ｂに渡される。その後、このウエハは搬送室７０３内を、例えば、他の処理装置で処理するために搬送されたり、例えば、ベイストッカー部のＦＯＵＰに戻すために搬送される。

このような実施例では、上記の一実施例での効果と同様の効果が得られると共に、更に次のような効果が得られる。
１．ベイ内に設置される各処理装置の、例えば、ロック室の高さが異なっていたとしても、このような枚葉搬送ラインをインターフェイス部とすることで、ベイの構築をスムーズに行うことができる。これによってベイの構築工程を短縮でき、ベイの構築費用を節減することができる。また、ベイの立ち上げ時間を短縮することができ、スループットを向上させることができる。
このような本実施例では、処理装置のロック室で、高さが低いロック室に搬送室の底壁の高さを合わせ、処理装置のロック室で高さの高いロック室に搬送室の頂壁の高さを合わせるように構成しているが、このようなことは、本実施例に特に限定されない。つまり、各処理装置の高さに対応するインターフェイス部を持つように枚葉搬送ラインを構成すれば、いかなる構造であっても良い。

図２９、図３０は本発明の第８の実施例を示すものである。図２９、図３０は、特に図２２、２３で示し説明した実施例、つまり、枚葉搬送ライン１２０の空間の下方位置に処理装置のロック室７０４が配置された構成の、また、別の実施例を示すものである。

図２９、図３０で、先の実施例を示した図２２、図２３と異なる点は、次の通りである。
この異なる点は、特に図２９により明らかに説明される。図２９で枚葉搬送ライン１２０、この場合、下の搬送ライン１２６の下方位置に配置されているロック室７０４が、１つの処理装置のみでなく、複数の処理装置（１０１、１０２）、この場合、二台の処理装置に共通して構成されている。ロック室７０４内には、ウエハの搬送手段が設けられている。搬送手段には、この場合、非接触移動体、この場合、リニアレール１２７ａ−１とリニア台車１２７ａ−２とでなる移動体１２７ａが用いられる。ロック室７０４の底壁部には、リニアレール１２７ａ−１が設けられている。リニアレール１２７ａ−１はロック室７０４の長手方向で処理装置が並べられている方向に設けられている。リニアレール１２７ａ−１には、少なくとも１台、リニア台車１２７ａ−２が移動可能に設けられている。このリニア台車１２７ａ−２のウエハ保持台１２７ｂは、ロック室７０４と搬送室１０１ａとの間に設けられたゲート１０１ｄの開口部に対応させられている。この場合、このゲート１０７ｅは処理装置１台、この場合、左側の処理装置１台にのみ対応して設けられている。尚、図２９、図３０で、先の実施例を示した図２２、図２３と同様の構成、構造は同一符号で示し説明を省略した。

図２９、図３０で、枚葉搬送ライン１２０の、例えば、下側の搬送ライン１２６で搬送されてきたウエハは、ロック室７０４に搬入される。このロック室７０４内に搬入されたウエハは、この中のウエハ保持台１２７ｂに渡される。ウエハを受け取ったウエハ保持台１２７ｂは、例えば、右側に配置された処理装置１０２の搬送室１０２ａに向かってロック室７０４内を移動させられる。このウエハ保持台１２７ｂの移動は、このウエハ保持台１２７ｂが、右側に配置された処理装置１０２のゲート１０２ｄに対応する位置に到着した時点で停止される。その後、ゲート１０２ｄが開かれ、ウエハ保持台１２７ｂのウエハは、搬送室１０２ａそして処理室１０２ｂへ搬送されて所定処理される。処理済みのウエハは、先程の操作と逆操作により処理室１０２ｂ→搬送室１０２ａ→ロック室７０４、そして下側の搬送ライン１２６に搬送されてウエハ保持台１２６ｂに渡される。処理済みのウエハを受け取ったウエハ保持台１２６ｂは、下側の搬送ライン１２６を別の処理装置やベイストッカー部等へ向かって搬送される。

図２９、図３０で、枚葉搬送ライン１２０の、例えば、下側の搬送ライン１２６で搬送されてきた次のウエハは、ロック室７０４内に搬入される。このロック室７０４内に搬入されたウエハは、この中のウエハ保持台１２７ｂに渡される。ウエハを受け取ったウエハ保持台１２７ｂは、この場合、移動させられない。つまり、このウエハは、この場合、左側の処理装置１０１で処理される必要があり、このゲート１０１ｄに対応した位置にウエハ保持台１２７ｂが停止されている。その後、ゲート１０１ｄが開けられ、ウエハ保持台１２７ｂのウエハは搬送室１０１ａ、そして処理室１０１ｂへ搬送されて所定処理される。処理済みのウエハは、先程の操作と逆操作により処理室１０１ｂ→搬送室１０１ａ→ロック室７０４、そして下側の搬送ライン１２６に搬送されウエハ保持台１２６ｂに渡される。この処理済みのウエハを受け取ったウエハ保持台１２６ｂは、下側の搬送ライン１２６を別の処理装置やベイストッカー部へ向かって搬送される。

図２９、図３０で、図２２、図２３の実施例に比べ、処理装置毎に枚葉搬送ラインとのゲート等の取り合いを少なくして簡素化できるため、ベイの構築費を節減することができる。
尚、図２９、図３０で枚葉搬送ラインで、下側の搬送ラインを使用する場合につき説明したが、上側の搬送ラインを使用、また、上側、下側の搬送ラインを使用する場合も同様に操作でき、特に問題は生じない。
図２９、図３０で次のような使用も有効である。
Ａ．処理装置内のウエハの搬送をロック室を介して実施する。例えば、左側の処理装置で所定処理されたウエハを、ロック室内を搬送して右側の処理装置の処理室へ搬送し、ここで、次の所定処理する。また、この逆操作も実施できる。

図３１、図３２は、本発明の第９の実施例を示すものである。図３１、図３２は特に図２２、図２３で示し説明した実施例、つまり、枚葉搬送ラインの空間の下方位置に処理装置のロック室が配置された構成の、更に別の実施例を示すものである。
図３１、図３２で、先の実施例を示す図２２、図２３と異なる点は、処理装置の搬送室１０１ａ、１０２ａが、ゲート８００を介して連設された点である。尚、この他、図２２、図２３と同様の構成は同一符号で示し説明を省略する。
図３１、図３２で、このような構成は、
Ａ．矢印６１０で示すように処理装置毎に独立してウエハを搬送、処理する。
Ｂ．矢印６１１で示すように、他の装置のロック室、搬送室を介して一方の搬送室、処理室へウエハを搬送し処理できる。このような場合は、ウエハを所定処理装置に搬送または処理済みのウエハを枚葉搬送ライン１２０に取り出す場合、搬送ラインの都合による悪影響を小さく抑制できる。例えば、搬送ラインのリニア台車がウエハを保持した状態で右側の処理装置１０２のロック室７０６に対応した場所に何等かの原因で停止した場合、左側の搬送室１０１ａ、ロック室７０５を使用することで、右側の処理装置１０２の処理室１０２ｂからの処理済みウエハを枚葉搬送ライン１２０にスムーズに受け渡しすることができる。また、例えば、同様の状態で、搬送ラインで搬送されてきたウエハを右側の処理装置１０２の処理室１０２ｂに搬送する必要が生じた場合、左側のロック室７０６、搬送室１０１ａを使用することで、右側の処理装置１０２の処理室１０２ｂにウエハを搬送することができる。
Ｃ．更に、処理装置が３台並設されたものでは、例えば、中央部の処理装置のロック室に対応した位置に何等かの原因で、リニア台車が停止した場合、左側のロック室→左側の搬送室→中央部搬送室→右側搬送室→右側のロック室→リニア台車のウエハ保持台というように、この停止したリニア台車をスキップしてウエハを搬送することができる。

Ｄ．また、一方の処理装置で処理されたウエハをこの搬送室→ゲート→他方の搬送室→他方の処理室に搬送し、同一ウエハを連続して処理することができる。
Ｅ．尚、Ａ．のようなウエハのパラレル搬送処理、Ｄ．のようなウエハのシリーズ搬送処理を、それぞれ独立して実施できるように構成しても、また、併せて実施できるように構成しても良い。

以上の本実施例においては、搬送ラインとして移動体とウエハ保持台（具）とを備えたものを用い、移動体に、スループットに影響を及ぼすパーティクル発生を抑制するため、リニアレールとリニア台車とでなるリニア移動体を用いているが、特にこれに限定されない。例えば、移動体に、ガイドテープとこのガイドテープを検知し移動する手段とでなるものを用いて良い。
また、枚葉搬送ラインの搬送空間の雰囲気を、以上の実施例では清浄ガス、例えば、窒素ガス雰囲気として説明しているが、本発明の主旨、目的からしてこれは必要な要件ではない。例えば、この搬送空間の雰囲気は、減圧雰囲気であっても良い。このような場合、ベイストッカー部での取り合い構造がやや複雑になる。例えば、ＦＯＵＰとこの搬送空間とをロック室で連結する必要が生じる。一方、この搬送空間と各処理装置との取り合い構造は、これらの処理装置が真空処理装置（例えば、プラズマエッチング装置、プラズマＣＶＤ装置、スパッタ装置等）である場合、ロック室等が不要になり、より構造を簡素化できる。ただし、これらの処理装置の内で大気雰囲気での処理装置（例えば、リソグラフィ、ＣＭＰ、検査・評価装置等）がある場合は、逆にロック室等の連設用の手段が必要となる。更にこの搬送空間を減圧雰囲気とするための減圧排気装置等の設置が必要となり、また、これら設備の運転費用が必要である。

例えば、この搬送空間の雰囲気は、例えば、クリーンルーム内と同様の雰囲気、つまり、特段の対応をしない雰囲気であっても良い。このような場合、ＦＯＵＰと、この搬送空間とをお互いの雰囲気調整用のロック室で連結する必要が生じる。ただ、この搬送空間と各処理装置との取り合い構造は、上記実施例の場合と同じようにすることができる。また、このような搬送空間の場合、清浄ガスの供給手段や低圧排気手段等の設置が不要であり、従って運転費用も不要にできる。

以上、枚葉搬送ラインの搬送空間の雰囲気の各種例について述べたが、処理装置が真空処理装置、大気雰囲気での処理装置等であった場合、これらの装置への搬送途中において、ウエハへのパーティクルの付着が生じ、これによる歩留まり低下を防止するためには、この搬送空間の雰囲気は、清浄ガス雰囲気か減圧雰囲気に制御されるのが好ましい。ただし、一枚のみウエハを収容できるＦＯＵＰを用いてウエハを搬送する場合は、先に説明したようにこの限りではない。
また、上記の実施例では、ベイ間搬送ラインにＡＧＶを使用した例を説明したが、この他にＯＨＴ（Ｏｖｅｒ Ｈｅａｄ Ｔｒａｎｓｆｅｒ） 等の搬送手段を使用しても良い。

第２の従来技術を示すウエハ枚葉生産システムの平面図。 第３の従来技術を示す露光後の被処理基板の処理ラインの平面図。 第４の従来技術を示すＴＦＴアレイ形成ラインの平面図。 本発明による半導体製造ラインの一実施例を部分的に示す平面図。 図４の一実施例の枚葉搬送ラインのベイストッカーとは反対側の部分の斜視外観図。 図５のＩ−Ｉ視断面図。 図５の詳細な縦断面図。 図４の本発明の一実施例の枚葉搬送ラインの下側位置の搬送ラインの部分平面図。 図４の本発明の一実施例の枚葉搬送ラインの上側位置の搬送ラインの部分平面図。 図９のウエハ保持部分のウエハ保持具及びその作用を説明するための平面図。 図４の本発明の一実施例の枚葉搬送ラインを説明するもので、ベイ間搬送ラインとベイ内の枚葉搬送ラインとの取合いを示す部分的な平面図。 図１１の正面図。 図４の本発明の一実施例の枚葉搬送ラインと真空処理装置との取合い例を示す部分的な平面図。 図１３の上側位置の搬送ラインと真空処理装置との取合い構造を示す縦断面図。 図１４のウエハの搬送状況を模式的に示した縦断面図。 図１３の下側位置の搬送ラインと真空処理装置との取合い例を示す部分的な平面図。 図１６のウエハの搬送状況を模式的に示した縦断面図。 本発明による半導体製造ラインの第２の実施例を部分的に示す平面図。 図１８の要部の縦断面図。 本発明による半導体製造ラインの第３の実施例を部分的に示す平面図。 図２０の要部の縦断面図。 本発明による半導体製造ラインの第４の実施例を示すもので、上側位置の搬送ラインと真空処理装置との取合い構造の第２の実施例を示す縦断面図。 図２２のウエハの搬送状況を模式的に示した縦断面図。 本発明による半導体製造ラインの第４の実施例を示すもので、下側位置の搬送ラインを真空搬送装置との取合い構造の第２の実施例を示す縦断面図。 図２４のウエハの搬送状況を模式的に示した縦断面図。 本発明による半導体製造ラインの第５の実施例を示すもので、ベイ間搬送ラインとベイ内の枚葉搬送ラインとの取合いを示す部分的な平面図。 本発明による半導体製造ラインの第６の実施例を示すもので、ベイ内枚葉搬送ラインと各処理装置との取合いを示すベイ部分の平面図。 本発明による半導体製造ラインの第７の実施例を示すもので、枚葉搬送ライン部を横切った状態の断面図。 本発明による半導体製造ラインの第８の実施例を示すもので、枚葉搬送ラインと各処理装置との取合いの別の実施例を示す部分的な平面図。 図２９の要部の縦断面図。 本発明による半導体製造ラインの第９の実施例を示すもので、枚葉搬送ラインと各処理装置との取合いの更に別の実施例を示す部分的な平面図。 図３１の要部の縦断面図。

符号の説明

１００、２００、３００……ベイ、１０１〜１１１……処理装置、１０７ａ、７０４〜７０６……ロック室、１２０、１２０ａ、１０２ｂ……枚葉搬送ライン、１２１〜１２６……搬送ライン、１３０、１３０ａ〜１３０ｃ、２３０、３３０……ベイストッカー、４００、４００ａ〜４００ｃ……ベイ間搬送ライン、４１０……ＡＧＶ、５００ａ〜５００ｄ……ＦＯＵＰ、１１０ａ、１０１ａ、１０２ａ、７００、７０２、７０３……搬送室、８００……ゲート、９００〜９０２……故障検知装置

Claims (3)

1. 複数のベイ間をＦＯＵＰを搬送するベイ間搬送ラインで結んだ半導体製造ラインであり、半導体ウエハを所定処理する複数の並設された処理装置と、前記ベイ内で前記半導体ウエハを枚葉で搬送するループ状の枚葉搬送ラインとを有し、該枚葉搬送ラインが前記並設された複数の処理装置に沿って配設されてなるベイを複数備えた半導体製造ラインであって、
   前記複数のベイ間で前記半導体ウエハを収容したＦＯＵＰを搬送するベイ間搬送装置と、
   前記それぞれのベイ内にそれぞれ独立して配置された略水平面の半導体ウエハ搬送面を有し前記半導体ウエハを枚葉搬送するループ状の第１の搬送ラインおよび該第１の搬送ラインの半導体ウエハ搬送面と上下方向に相対する半導体ウエハ搬送面を有し前記半導体ウエハを枚葉搬送するループ状の第２の搬送ラインとで構成した前記枚葉搬送ラインと、
   該枚葉搬送ラインの内で、任意の前記半導体ウエハを搬送する際の前記第１の搬送ラインと前記第２の搬送ラインとの使い分けを、前記ベイ間搬送装置で当該ベイに搬送された前記半導体ウエハの処理情報で制御する制御系と、
   前記第１の搬送ラインまたは前記第２の搬送ラインと、前記処理装置との間で前記半導体ウエハを枚葉で受け渡し搬送する搬送装置と、
   を備えた半導体製造ライン。
2. 複数のベイ間をＦＯＵＰを搬送するベイ間搬送ラインで結んだ半導体製造ラインであり、半導体ウエハを所定処理する複数の並設された処理装置と、前記ベイ内で前記半導体ウエハを枚葉で搬送するループ状の枚葉搬送ラインとを有し、該枚葉搬送ラインが前記並設された複数の処理装置に沿って配設されてなるベイを複数備えた半導体製造ラインであって、
   前記複数のベイ間で前記半導体ウエハを収容したＦＯＵＰを搬送するベイ間搬送装置と、
   前記それぞれのベイ内にそれぞれ独立して配置された略水平面の半導体ウエハ搬送面を有し前記半導体ウエハを枚葉搬送するループ状の第１の搬送ラインおよび該第１の搬送ラインの半導体ウエハ搬送面と上下方向に相対する半導体ウエハ搬送面を有し前記半導体ウエハを枚葉搬送するループ状の第２の搬送ラインとで構成した前記枚葉搬送ラインと、
   前記ベイ間搬送装置と前記枚葉搬送ラインとの間で前記任意の基板を受け渡し搬送するベイストッカー部と、
   前記枚葉搬送ラインの内で、任意の前記半導体ウエハを搬送する際の前記第１の搬送ラインと前記第２の搬送ラインとの使い分けを、前記ベイ間搬送装置から前記ベイストッカー部に搬送された前記半導体ウエハの処理情報で制御する制御系と、
   前記第１の搬送ラインまたは前記第２の搬送ラインと、前記処理装置との間で前記半導体ウエハを枚葉で受け渡し搬送する搬送装置と、
   を備えた半導体製造ライン。
3. 複数のベイ間をＦＯＵＰを搬送するベイ間搬送ラインで結んだ半導体製造ラインであり、半導体ウエハを所定処理する複数の並設された処理装置と、前記ベイ内で前記半導体ウエハを枚葉で搬送するループ状の枚葉搬送ラインとを有し、該枚葉搬送ラインが前記並設された複数の処理装置に沿って配設されてなるベイを備えた半導体製造ラインであって、
   前記それぞれのベイ内にそれぞれ独立して配置された前記半導体ウエハを枚葉搬送するループ状の第１の搬送ラインおよび該第１の搬送ラインと並搬送可能に設けた前記半導体ウエハを枚葉搬送するループ状の第２の搬送ラインとで構成した前記枚葉搬送ラインと、
   該枚葉搬送ラインの内で、任意の前記半導体ウエハを搬送する際の前記第１の搬送ラインと前記第２の搬送ラインとの使い分けを、当該ベイに搬送された前記半導体ウエハの処理情報で制御する制御系と、
   前記第１の搬送ラインまたは前記第２の搬送ラインと、前記処理装置との間で前記半導体ウエハを枚葉で受け渡し搬送する搬送装置と、
   を備えた半導体製造ライン。

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