JP2014216519A - 加工装置及びウエーハの輸送方法 - Google Patents
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Abstract
Description
図1に示す加工装置1は、ウエーハなどの板状の被加工物を収容するカセットユニット10Aと、直線的にウエーハを輸送する輸送ユニット20Aと、輸送ユニット20Aの輸送方向(Y軸方向)に並行して設置されウエーハに加工処理を施す処理ユニット30Aと、を含んで構成されている。
ウエーハを輸送テーブル21に搬送すると、センタリング機構9が径方向に移動し、ウエーハの中心と輸送テーブル21の中心とが一致するように位置合わせする。次いで、輸送手段22が作動することにより、一対のガイドレール23に沿って輸送テーブル21を矢印Y1方向に走行させ、例えば、研削手段32の近傍にある指定位置P1に移動させる。この指定位置P1は、処理ユニット30Aによってあらかじめ指定されている。
第1の輸送工程を実施した後、搬送手段40によって輸送テーブル21から処理テーブル31aにウエーハを搬送する。具体的には、搬送手段40のハンドリング部41によって、輸送テーブル21からウエーハを搬出するとともに、旋回手段43が旋回することによりハンドリング部41を処理テーブル31aの上方に移動させる。そして、ハンドリング部41は、処理テーブル31aにウエーハを搬送する。このようにして、輸送テーブル21からウエーハが搬出された後、輸送テーブル21は指定位置P1で待機する。
研削終了後、ターンテーブル33aがさらに矢印A方向に回転し、処理テーブル31aを搬送手段40の可動範囲に移動させる。搬送手段40は、ハンドリング部41によって処理テーブル31aから研削後のウエーハを搬出し、指定位置P1で待機する輸送テーブル21に研削後のウエーハを搬送する。なお、ウエーハを搬出した後は、洗浄部34aによって処理テーブル31aを洗浄することが望ましい。
搬出工程を実施した後、輸送手段22が作動することにより、一対のガイドレール23に沿って輸送テーブル21を矢印Y2方向に走行させ、研磨手段35の近傍の位置まで移動させる。その後、搬送手段40は輸送テーブル21から処理テーブル31bにウエーハを搬送する。
図2に示す加工装置2は、ウエーハを収容するカセットユニット10Bと、直線的にウエーハを輸送する輸送ユニット20Bと、ウエーハに加工処理を施す処理ユニット30Bとを含んで構成されている。なお、カセットユニット10Bは、上記カセットユニット10Aと同様の構成となっており、処理ユニット30Bについても上記処理ユニット30Aと同様の構成となっている。
上段輸送テーブル24にウエーハを搬送したら、センタリング機構9が径方向に移動し、ウエーハの中心と上段輸送テーブル24の中心とが一致するように位置合わせする。次に、図3に示した上段輸送手段29aが作動し、上段輸送テーブル24をガイドレール27に沿って矢印Y1方向に走行させ、例えば、研削手段32の近傍にある指定位置P2に移動させる。この指定位置P2は、処理ユニット30Bによってあらかじめ指定されている。
第1の輸送工程を実施した後、搬送手段40によって上段輸送テーブル24から処理テーブル31aにウエーハを搬送する。また、下段輸送テーブル25でウエーハを輸送した場合には、搬送手段40によって下段輸送テーブル25から処理テーブル31aにウエーハを搬送する。このように上段輸送テーブル24もしくは下段輸送テーブル25からウエーハが搬出された後、上段輸送テーブル24は指定位置P2で待機し、下段輸送テーブル25は指定位置P3で待機する。なお、上段輸送テーブル24と下段輸送テーブル25とが同じ位置、つまり上段輸送テーブル24と下段輸送テーブル25とが上下に重なる位置で待機するようにしてもよい。
研削終了後、ターンテーブル33aがさらに矢印A方向に回転し、処理テーブル31aを搬送手段40の可動範囲に移動させる。搬送手段40は、ハンドリング部41によって処理テーブル31aから研削後のウエーハを搬出し、指定位置P2で待機する上段輸送テーブル24もしくは指定位置P3で待機する下段輸送テーブル25に研削後のウエーハを搬送する。
搬出工程を実施した後、図3に示した輸送手段29aが作動することにより、ガイドレール27に沿って上段輸送テーブル24を矢印Y2方向に走行させ、研磨手段35の近傍の位置まで移動させる。また、ウエーハを下段輸送テーブル25に搬送した場合は、図3に示した輸送手段29bが作動することにより、ガイドレール27に沿って下段輸送テーブル25を矢印Y2方向に走行させ、研磨手段35の近傍の位置まで移動させる。その後、搬送手段40によって上段輸送テーブル24もしくは下段輸送テーブル25から処理テーブル31bにウエーハを搬送し、研磨手段35によって処理テーブル31bに保持されたウエーハに研磨を施す。
図4に示す加工装置3は、ウエーハを収容する小型のカセットユニット10Cと、直線的にウエーハを輸送する輸送ユニット20Cと、ウエーハに加工処理を施す処理ユニット30Cと、を含んで構成されている。カセットユニット10Cは、支持台8aの前部に連結された2つのカセットステージ11と、カセットステージ11のそれぞれに載置され加工前のウエーハを収容するロードカセット12及び加工後のウエーハを収容するアンロードカセット13と、ロボット15とを備えている。
図5に示す加工装置4は、ウエーハを収容するカセットユニット10Dと、直線的にウエーハを輸送する輸送ユニット20Dと、ウエーハに加工処理を施す処理ユニット30Dと、を含んで構成されている。なお、カセットユニット10Dは、上記カセットユニット10Aと同様の構成となっており、輸送ユニット20Dについても上記輸送ユニット20Aと同様の構成となっている。
10A,10B,10C,10D:カセットユニット
11:カセットステージ 12:ロードカセット 13:アンロードカセット
14:ガイドレール 15:ロボット 16:ハンドリング部
20A,20B,20C,20D:輸送ユニット 21:輸送テーブル
22:輸送手段 23:ガイドレール 24:上段輸送テーブル
25:下段輸送テーブル 26:移動基台 260:コイル 27:ガイドレール
28:永久磁石29a:上段輸送手段 29b:下段輸送手段
30A,30B,30C,30D:処理ユニット
31a,31b,31c:処理テーブル 32a,32b:研削手段
33a,33b:ターンテーブル 34a,34b:洗浄部 35:研磨手段
36:洗浄手段 37:ノズル 38:切削手段 40:搬送手段
41:ハンドリング部 42:昇降手段 43:旋回手段 44:伸縮手段
50:接続部 51:ガイドレール
Claims (4)
- 直線的に板状のウエーハを輸送する輸送ユニットと、該輸送ユニットの輸送方向に並んで設置されウエーハを処理する複数の処理ユニットと、ウエーハを収容するカセットユニットとを含んで構成される加工装置であって、
該輸送ユニットは、ウエーハを保持する輸送テーブルと、該輸送テーブルを直線的に輸送する輸送手段と、を少なくとも備え、
該処理ユニットは、ウエーハを保持する処理テーブルと、該処理テーブルが保持するウエーハを処理する処理手段と、該処理ユニットが指定する指定位置に位置づけた該輸送テーブルと該処理テーブルとの間でウエーハを搬送する搬送手段と、を少なくとも備え、
該カセットユニットは、ウエーハを収容した該カセットが載置されるカセットステージと、該カセットユニットが指定する指定位置に位置づけた該輸送テーブルと該カセットとの間でウエーハを搬送するロボットと、を少なくとも備える加工装置。 - 前記輸送ユニットは、ウエーハを保持する上段の輸送テーブルと、
該上段の輸送テーブルと上下方向に離間して位置しウエーハを保持する下段の輸送テーブルと、
該上段の輸送テーブルを複数の処理ユニットに輸送する上段の輸送手段と、
該下段の輸送テーブルを複数の処理ユニットに輸送する下段の輸送手段と、を備え、
該上段の輸送テーブルと該下段の輸送テーブルとが離合可能な請求項1記載の加工装置。 - 前記輸送ユニットは、輸送方向と平行に配置する第1の輸送ユニットと第2の輸送ユニットとを含み、
該第1の輸送ユニットと該第2の輸送ユニットとを挟んで前記処理ユニットが配設される請求項1,2記載の加工装置。 - 請求項1ないし3のいずれかに記載された加工装置を用いてウエーハを輸送するウエーハの輸送方法であって、
前記輸送テーブルがウエーハを保持し、前記輸送手段によって前記処理ユニットの所定位置にウエーハを輸送する第1の輸送工程と、
前記搬送手段によって該輸送テーブルから前記処理テーブルに該第1の輸送工程で輸送されたウエーハを搬送する搬入工程と、
該搬送手段によって該処理テーブルから該輸送テーブルに前記処理手段で処理されたウエーハを搬送する搬出工程と、
該搬出工程で搬出され該輸送テーブルが保持するウエーハを該第1の輸送工程で輸送した該処理ユニットとは異なる該処理ユニットの所定位置に該輸送手段によって輸送する第2の輸送工程とにより構成されるウエーハ輸送方法。
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Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20180008714A (ko) * | 2015-05-24 | 2018-01-24 | 상하이 마이크로 일렉트로닉스 이큅먼트(그룹) 컴퍼니 리미티드 | 실리콘 웨이퍼 이송 시스템 |
CN112207655A (zh) * | 2020-10-12 | 2021-01-12 | 华海清科股份有限公司 | 一种具有移动机械手的晶圆磨削设备 |
WO2021156985A1 (ja) * | 2020-02-05 | 2021-08-12 | 株式会社安川電機 | 搬送システム、搬送方法および搬送装置 |
WO2021234928A1 (ja) * | 2020-05-21 | 2021-11-25 | 株式会社安川電機 | 搬送装置、搬送方法および搬送システム |
WO2022172373A1 (ja) * | 2021-02-10 | 2022-08-18 | ヤマハ発動機株式会社 | 加工装置 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003197709A (ja) * | 2001-12-25 | 2003-07-11 | Tokyo Electron Ltd | 被処理体の搬送機構及び処理システム |
JP2005197761A (ja) * | 2005-03-01 | 2005-07-21 | Hitachi High-Technologies Corp | 半導体ウエハ製造ラインのベイおよび半導体製造ラインおよび液晶製造ラインのベイならびに液晶製造装置 |
WO2013072760A2 (en) * | 2011-10-26 | 2013-05-23 | Brooks Automation, Inc. | Semiconductor wafer handling and transport |
JP2014068009A (ja) * | 2012-09-12 | 2014-04-17 | Lam Research Corporation | 半導体処理装置に関する方法およびシステム |
-
2013
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Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003197709A (ja) * | 2001-12-25 | 2003-07-11 | Tokyo Electron Ltd | 被処理体の搬送機構及び処理システム |
JP2005197761A (ja) * | 2005-03-01 | 2005-07-21 | Hitachi High-Technologies Corp | 半導体ウエハ製造ラインのベイおよび半導体製造ラインおよび液晶製造ラインのベイならびに液晶製造装置 |
WO2013072760A2 (en) * | 2011-10-26 | 2013-05-23 | Brooks Automation, Inc. | Semiconductor wafer handling and transport |
JP2014068009A (ja) * | 2012-09-12 | 2014-04-17 | Lam Research Corporation | 半導体処理装置に関する方法およびシステム |
Cited By (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2018517308A (ja) * | 2015-05-24 | 2018-06-28 | シャンハイ マイクロ エレクトロニクス イクイプメント(グループ)カンパニー リミティド | シリコンウエハ搬送システム |
KR102050004B1 (ko) * | 2015-05-24 | 2019-11-28 | 상하이 마이크로 일렉트로닉스 이큅먼트(그룹) 컴퍼니 리미티드 | 실리콘 웨이퍼 이송 시스템 |
KR20180008714A (ko) * | 2015-05-24 | 2018-01-24 | 상하이 마이크로 일렉트로닉스 이큅먼트(그룹) 컴퍼니 리미티드 | 실리콘 웨이퍼 이송 시스템 |
WO2021156985A1 (ja) * | 2020-02-05 | 2021-08-12 | 株式会社安川電機 | 搬送システム、搬送方法および搬送装置 |
JP6985531B1 (ja) * | 2020-02-05 | 2021-12-22 | 株式会社安川電機 | 搬送システム、搬送方法および搬送装置 |
US11417550B2 (en) | 2020-02-05 | 2022-08-16 | Kabushiki Kaisha Yaskawa Denki | Transfer system, transfer method, and transfer apparatus |
JP7279858B2 (ja) | 2020-05-21 | 2023-05-23 | 株式会社安川電機 | 搬送装置、搬送方法および搬送システム |
WO2021234928A1 (ja) * | 2020-05-21 | 2021-11-25 | 株式会社安川電機 | 搬送装置、搬送方法および搬送システム |
JPWO2021234928A1 (ja) * | 2020-05-21 | 2021-11-25 | ||
US11701785B2 (en) | 2020-05-21 | 2023-07-18 | Kabushiki Kaisha Yaskawa Denki | Substrate transport with mobile buffer |
CN112207655A (zh) * | 2020-10-12 | 2021-01-12 | 华海清科股份有限公司 | 一种具有移动机械手的晶圆磨削设备 |
TWI800128B (zh) * | 2021-02-10 | 2023-04-21 | 日商山葉發動機股份有限公司 | 加工裝置 |
WO2022172373A1 (ja) * | 2021-02-10 | 2022-08-18 | ヤマハ発動機株式会社 | 加工装置 |
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