JP2015065195A - ウエーハ加工装置 - Google Patents

ウエーハ加工装置 Download PDF

Info

Publication number
JP2015065195A
JP2015065195A JP2013196472A JP2013196472A JP2015065195A JP 2015065195 A JP2015065195 A JP 2015065195A JP 2013196472 A JP2013196472 A JP 2013196472A JP 2013196472 A JP2013196472 A JP 2013196472A JP 2015065195 A JP2015065195 A JP 2015065195A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
wafer
transfer robot
processing
module
positioning means
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2013196472A
Other languages
English (en)
Inventor
祐樹 安田
Yuki Yasuda
祐樹 安田
毅 北浦
Takeshi Kitaura
毅 北浦
寛 吉村
Hiroshi Yoshimura
寛 吉村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Disco Corp
Original Assignee
Disco Abrasive Systems Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Disco Abrasive Systems Ltd filed Critical Disco Abrasive Systems Ltd
Priority to JP2013196472A priority Critical patent/JP2015065195A/ja
Publication of JP2015065195A publication Critical patent/JP2015065195A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Grinding-Machine Dressing And Accessory Apparatuses (AREA)
  • Mechanical Treatment Of Semiconductor (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Abstract

【課題】ウエーハの搬送中にウエーハに対する異物の付着を防止すること。
【解決手段】本発明のウエーハ加工装置(1)は、ウエーハ(W)に加工を施す複数の加工モジュール(14、15、16、17)と、加工モジュール間でウエーハを搬送する搬送モジュール(13)とを備えている。搬送モジュールは、搬送ロボット(61a、61b)を走行させる位置付け手段(62a、62b)の構成部品、この構成部品を包囲する包囲ボックス(76)を有している。包囲ボックス内はファンモータ(82)の回転によって吸気口(77)からフィルタ(81)に向かう空気の流れが形成され、フィルタを通じて包囲ボックス外にきれいな空気が排出させる構成にした。
【選択図】図3

Description

本発明は、研削装置や研磨装置等の複数の加工モジュール間で、ウエーハを搬送する搬送ロボットを備えたウエーハ加工装置に関する。
半導体デバイスの製造工程においては、ウエーハの表面に格子状に分割予定ラインが形成されており、分割予定ラインにより区画された領域にIC、LSI等の回路が形成されている。ウエーハは切削装置によって裏面が研削されて所定の厚さに形成された後、切削装置やレーザー加工装置等の加工装置に搬入され、分割予定ラインに沿って個々のデバイスに分割される。このようにして分割されたデバイスは、携帯電話やパソコン等の電気機器に広く利用されている。
従来、研削装置として、ウエーハの研削加工だけでなく、ウエーハの搬入及び搬出、ウエーハの洗浄を実施するものが知られている(例えば、特許文献1参照)。特許文献1に記載の研削装置では、カセット内からウエーハが取り出されてチャックテーブルに搬送され、研削ホイールによってウエーハが所定の厚さまで研削される。その後、加工済みのウエーハが洗浄手段によって洗浄された後に、洗浄手段からカセット内にウエーハが搬送される。また、研削装置として、ウエーハの被研削面から研削痕を除去する研磨手段をさらに備えたものも知られている(例えば、特許文献2参照)。
特開2002−319559号公報 特開2011−101913号公報
近年、ユーザの要望が多岐わたり、これに対応するために多種類の加工モジュールをユーザの用途に合わせて設置できるようにしたウエーハ加工装置が提案されている。この場合、搬送モジュールによって複数の加工モジュール間でウエーハが搬送されるが、搬送モジュールの構成部品であるキャタピラ等が擦れることで発塵して、搬送中にウエーハに異物が付着するという問題があった。
本発明はこのような点に鑑みてなされたものであり、ウエーハの搬送中にウエーハに対する異物の付着を防止することができるウエーハ加工装置を提供することを目的とする。
本発明のウエーハ加工装置は、複数枚のウエーハが収容可能なカセットを載置するカセット載置ユニットと、カセット載置ユニットに載置されるカセットからウエーハを搬出および搬入するカセットロボットと、から少なくとも構成されるカセットモジュールと、ウエーハを保持する加工テーブルと、該加工テーブルに保持されるウエーハを加工する加工手段と、から少なくとも構成される加工モジュールと、該カセットモジュールから搬出されるウエーハを該加工モジュールの該加工テーブルに搬送する搬送ロボットと、該加工モジュールに対応した所定位置に該搬送ロボットを位置付ける位置付け手段と、から少なくとも構成される搬送モジュールと、を備え、該位置付け手段による該搬送ロボットの走行方向に平行に該加工モジュールを複数配設されるウエーハ加工装置であって、該位置付け手段は、該搬送ロボットの該走行方向を案内するガイドレールと、該搬送ロボットを該ガイドレールに沿って走行させる駆動源と、該搬送ロボットを駆動させる配線を収容し該走行方向に延在するキャタピラと、から少なくとも構成され、該ガイドレールと該駆動源と該キャタピラとを包囲して該位置付け手段からの発塵を防止する位置付け手段無塵設備を含み、該位置付け手段無塵設備は、該位置付け手段を包囲する包囲ボックスと、第1のファンモータと、第1のフィルタと、該包囲ボックス内部に空気を取り込む第1の吸気口と、で少なくとも構成され、該第1のファンモータを回転させ該第1の吸気口から該包囲ボックス内に空気を取り込み、該第1のフィルタを通過して該包囲ボックス外にきれいな空気を排出させることを特徴とする。
この構成によれば、位置付け手段の構成部品であるガイドレール、駆動源、キャタピラが包囲ボックスに包囲されており、包囲ボックス内は第1のファンモータの回転によって第1の吸気口から第1のフィルタに向かう空気の流れが形成される。よって、位置付け手段の各構成部品の擦れによって発塵しても、第1のフィルタによって包囲ボックス内から塵が取り除かれた状態で空気が外部に排出される。包囲ボックス外に塵等の異物が排出されることが抑制されるため、位置付け手段で発塵した異物が搬送中のウエーハに付着することが防止される。
本発明の上記ウエーハ加工装置において、該搬送モジュールは、該搬送ロボットとして、上下に対向して配設され下側となる第1の搬送ロボットと上側となる第2の搬送ロボットを備え、該位置付け手段として、該第1の搬送ロボットを該加工モジュールの所定位置に位置付ける第1の搬送ロボット位置付け手段と、該第2の搬送ロボットを該加工モジュールの所定位置に位置付ける第2の搬送ロボット位置付け手段とを備える。
本発明の上記ウエーハ加工装置において、該搬送ロボットには、第2のファンモータと、第2のフィルタと、該搬送ロボット内部に空気を取り込む第2の吸気口とを備え、該第2のファンモータを回転させ該第2の吸気口から空気を取り込み、該第2のフィルタを経て該搬送ロボット外にきれいな空気を排出させる。
本発明によれば、位置付け手段の構成部品が包囲ボックスに包囲され、包囲ボックス内に第1の吸気口から第1のフィルタに向かう空気の流れが形成されることで、包囲ボックス外への異物の排出が抑えられてウエーハに対する異物の付着を防止することができる。
本実施の形態に係るウエーハ加工装置の平面模式図である。 本実施の形態に係る搬送モジュールの側面模式図である。 本実施の形態に係る搬送モジュールの正面模式図である。 本実施の形態に係る搬送ロボットの側面模式図である。 本実施の形態に係るガイドレールの平面模式図である。 本実施の形態に係るガイドレールの断面模式図である。
以下、添付図面を参照して、本実施の形態に係るウエーハ加工装置について説明する。図1は、本実施の形態に係るウエーハ加工装置の平面模式図である。なお、本実施の形態では、粗研削加工、仕上げ研削加工、研磨加工、レーザー加工を実施する複数の加工モジュールを備えたウエーハ加工装置について説明するが、この構成に限定されない。ウエーハ加工装置は、加工モジュールの加工内容は特に限定されず、ユーザの要望に合わせた多種類の加工モジュールを備えていればよい。また、図1では、説明の便宜上、操作モジュールを除いて各モジュールのハウジングを省略して記載している。
図1に示すように、ウエーハ加工装置1は、フルオートタイプの加工装置であり、ウエーハWに対する搬入処理、研削処理、研磨処理、レーザー加工処理、洗浄処理、搬出処理からなる一連の作業を全自動で実施するように構成されている。ウエーハWは、円板状に形成されており、表面側には保護テープ(不図示)が貼着されている。なお、ウエーハWは、シリコン、ガリウムヒ素等の半導体ウエーハでもよいし、セラミック、ガラス、サファイア等の無機材料基板でもよいし、さらに半導体製品のパッケージ等でもよい。なお、ウエーハWは、保護テープを介して環状フレームに貼着された状態で搬入されてもよい。
ウエーハ加工装置1は、装置手前側に複数のカセットCが載置されたカセットモジュール11が配置されている。カセットモジュール11の隣には、装置各部への指示を受け付ける操作モジュール12が配置されている。カセットモジュール11の後方には、複数のモジュール間でウエーハWを搬送する搬送モジュール13が装置手前側から装置奥側に向かって直線状に延在している。搬送モジュール13の図示左側には、粗研削モジュール14、レーザー加工モジュール15が配置されている。また、搬送モジュール13の図示右側には、仕上げ研削モジュール16、研磨モジュール17が配置されている。
カセットモジュール11と粗研削モジュール14の間には、ウエーハWのセンタリングを行うセンタリングモジュール18が配置されている。また、粗研削モジュール14とレーザー加工モジュール15との間には、加工済みのウエーハWを洗浄する洗浄モジュール19が配置されている。このようにウエーハ加工装置1は、後述する第1、第2の搬送ロボット61a、61bの走行方向(Y軸方向)に平行に複数のモジュールが配設されて構成されている。操作モジュール12では、正面に設けられたタッチパネル式の表示モニタ(不図示)により、ウエーハ加工装置1の各種設定等が実施される。表示モニタには、ウエーハ加工装置1の各種処理に関する設定画像等が表示されている。
カセットモジュール11では、複数枚のウエーハWが収容可能なカセットCがカセット載置ユニット21上に横並び(X軸方向)に載置され、カセットロボット22によってカセットCに対するウエーハWの搬入及び搬出が行われる。カセットロボット22は、多節リンクからなるアーム部23の先端にハンド部24を設け、リニアモータ式の移動機構25によってX軸方向に移動するように構成されている。カセットロボット22は、カセットCからセンタリングモジュール18に加工前のウエーハWを搬入する他、センタリングモジュール18からカセットCに加工済みのウエーハWを搬出する。
センタリングモジュール18では、仮置きテーブル27にウエーハWが仮置きされ、仮置きテーブル27の周囲に複数(本実施の形態では4つ)の突き当てピン28が配置されている。複数の突き当てピン28は仮置きテーブル27の中心に対して進退可能であり、複数の突き当てピン28がウエーハWの外周面に突き当たることで、ウエーハWの中心が仮置きテーブル27の中心に位置決め(センタリング)される。
粗研削モジュール14では、門型の立壁部31に粗研削手段32が上下方向に移動可能に支持されており、この立壁部31の隣に一対の加工テーブル33が配置されたターンテーブル34が設けられている。一対の加工テーブル33はターンテーブル34の回転軸を中心とした点対称位置に配置されており、ターンテーブル34は180度間隔で間欠回転するように構成されている。このため、一対の加工テーブル33がウエーハWの載せ換え位置とウエーハWが粗研削手段32に対峙する研削位置との間で交互に移動される。研削位置では、加工テーブル33上のウエーハWと粗研削手段32の研削ホイール(不図示)とが相対回転することで、ウエーハWが所定の厚みまで粗研削される。
仕上げ研削モジュール16では、門型の立壁部36に仕上げ研削手段37が上下方向に移動可能に支持されており、この立壁部36の隣に一対の加工テーブル38が配置されたターンテーブル39が設けられている。仕上げ研削モジュール16においても、粗研削モジュール14と同様に、一対の加工テーブル38がウエーハWの載せ換え位置とウエーハWが仕上げ研削手段37に対峙する研削位置との間で交互に移動される。研削位置では、加工テーブル38上のウエーハWと仕上げ研削手段37の研削ホイール(不図示)とが相対回転することで、ウエーハWが所定の厚みまで仕上げ研削される。
研磨モジュール17では、門型の立壁部41に研磨手段42が上下方向に移動可能に支持されており、この立壁部41の隣に一対の加工テーブル43が配置されたターンテーブル44が設けられている。研磨モジュール17においても、粗研削モジュール14と同様に、一対の加工テーブル43がウエーハWの載せ換え位置とウエーハWが研磨手段42に対峙する研磨位置との間で交互に移動される。研磨位置では、加工テーブル43上のウエーハWと研磨手段42の研磨パッド(不図示)とが相対回転することで、ウエーハWが研磨されてウエーハWの被研削面から研削痕が除去される。
レーザー加工モジュール15では、門型の立壁部46にレーザー加工手段47が支持されており、レーザー加工手段47の下方に加工テーブル48が配置されている。レーザー加工手段47には加工ヘッド49がY軸方向に移動可能に設置されており、加工テーブル48はX軸方向に移動可能に設置されている。そして、ウエーハWを保持した加工テーブル48と加工ヘッド49とが相対移動することで、ウエーハWが分割予定ラインに沿ってレーザー加工される。
洗浄モジュール19では、ウエーハWを保持したスピンナテーブル51が基台52内に降下され、基台52内で洗浄水が噴射されてウエーハWが洗浄された後、乾燥エアが吹き付けられてウエーハWが乾燥される。搬送モジュール13では、第1、第2の搬送ロボット61a、61bによって複数の加工モジュール間のウエーハWの搬送が行われる。第1、第2の搬送ロボット61a、61bは上下に対向して配置されており、それぞれ第1、第2の搬送ロボット位置付け手段62a、62bによりY軸方向に移動される。なお、搬送モジュール13の詳細については後述する。
このように構成されたウエーハ加工装置1では、カセットC内のウエーハWがカセットロボット22によって仮置きテーブル27に搬送されてウエーハWがセンタリングされる。次に、搬送モジュール13によって粗研削モジュール14、仕上げ研削モジュール16、研磨モジュール17、レーザー加工モジュール15の順にウエーハWが投入され、各加工モジュールでウエーハWが加工される。次に、洗浄モジュール19においてウエーハWが洗浄された後に、再び仮置きテーブル27にウエーハWが搬送される。そして、カセットロボット22によって仮置きテーブル27からカセットC内にウエーハWが収容される。
図2から図4を参照して、搬送モジュールについて詳細に説明する。図2は、本実施の形態に係る搬送モジュールの側面模式図である。図3は、本実施の形態に係る搬送モジュールの正面模式図である。図4は、本実施の形態に係る搬送ロボットの側面模式図である。なお、図2においては、説明の便宜上、搬送モジュールから位置付け手段無塵設備を省略して記載している。
図2に示すように、搬送モジュール13のハウジング63内には、下側に第1の搬送ロボット61a、第1の搬送ロボット位置付け手段62aが配置され、上側に第2の搬送ロボット61b、第2の搬送ロボット位置付け手段62bが配置されている。第1、第2の搬送ロボット61a、61bは、多節リンクからなるアーム部64の先端にエッジクランプ式の保持部65を設けて構成される。また、アーム部64は、スライドヘッドとなる搬送基台66内に設けられた昇降手段67(図4参照)によって昇降可能に支持されている。第1、第2の搬送ロボット61a、61bは、アーム部64及び昇降手段67によって水平方向及び上下方向に保持部65を移動させている。
第1、第2の搬送ロボット位置付け手段62a、62bは、第1、第2の搬送ロボット61a、61bを走行方向(Y軸方向)に案内する一対のガイドレール71と、第1、第2の搬送ロボット61a、61bを一対のガイドレール71に沿って走行させる駆動源72とを備えている。駆動源72はリニアモータであり、一対のガイドレール71と並行にY軸方向に延在している。また、第1、第2の搬送ロボット61a、61bからは各種配線が伸びており、第1、第2の搬送ロボット位置付け手段62a、62bには、これら配線を第1、第2の搬送ロボット61a、61bの走行に追従させるようにキャタピラ73が設けられている。
キャタピラ73は、多数の枠体を回転可能に連結して長鎖状にしたものであり、第1、第2の搬送ロボット61a、61bの走行方向に延在している。キャタピラ73は、多数の枠体の回転により円弧状に湾曲して第1、第2の搬送ロボット61a、61bの走行に追従するように構成されている。このため、キャタピラ73の枠体同士の擦れやキャタピラ73内の配線の擦れによって発塵するおそれがある。そこで、本実施の形態では、図3に示すように、第1、第2の搬送ロボット位置付け手段62a、62bのそれぞれに位置付け手段無塵設備75を設けて、第1、第2の搬送ロボット位置付け手段62a、62bからの発塵を防止している。
図3に示すように、各位置付け手段無塵設備75は、第1、第2の搬送ロボット位置付け手段62a、62bを包囲する包囲ボックス76を有している。包囲ボックス76には、包囲ボックス76内に空気を取り込む吸気口77(第1の吸気口)と、フィルタ81(第1のフィルタ)を介して包囲ボックス76外に空気を排出する排気口とが形成されている。包囲ボックス76内には、フィルタ81側に向けて風を起こすようにファンモータ82(第1のファンモータ)が収容されている。
ファンモータ82が回転されると、フィルタ81を通じて包囲ボックス76の空気が排出され、吸気口77を通じて包囲ボックス76内に新たな空気が取り込まれる。これにより、包囲ボックス76内では吸気口77からフィルタ81に向かう空気の流れが形成される。よって、第1、第2の搬送ロボット位置付け手段62a、62bで発塵しても、包囲ボックス76内の空気はフィルタ81を経て異物が取り除かれて、包囲ボックス76外にきれいな空気が排出される。このため、搬送ロボット第1、第2の位置付け手段62a、62bで発生した塵等の異物が搬送中のウエーハWに付着することが防止される。
図4に示すように、第1の搬送ロボット61aにも、ロボット内の発塵を抑えるように無塵設備が設けられている。ここでは、第1の搬送ロボット61aに無塵設備が設けられた例について説明するが、第2の搬送ロボット61bにも同様な無塵設備が設けられている。第1の搬送ロボット61aのアーム部64は、複数のリンク部材84、85、86を連結部87、88によって回転可能に連結して構成されている。最下段のリンク部材86の基端には、アーム部64を水平方向に旋回させる旋回軸89が設けられており、旋回軸89は搬送基台66の上面開口79に差し込まれている。旋回軸89は、搬送基台66内の昇降手段67によって上下方向に昇降される。
最上段のリンク部材84の先端には、保持部65の取り付け位置の近傍に、搬送ロボット内に空気を取り込む吸気口92(第2の吸気口)が形成されている。複数のリンク部材84、85、86、連結部87、88及び旋回軸89には、蛇行するようにして吸気口92から旋回軸89の下端に向かって流路91が形成されている。搬送基台66には、フィルタ95(第2のフィルタ)を介して搬送基台66外に空気を排出する排気口が形成されている。搬送基台66内には、フィルタ95側に向けて風を起こすようにファンモータ96(第2のファンモータ)が収容されている。
ファンモータ96が回転されると、フィルタ95を通じて搬送基台66内の空気が排出され、吸気口92や上面開口79と旋回軸89の隙間等から搬送基台66内に新たな空気が取り込まれる。これにより、アーム部64の吸気口92から搬送基台66のフィルタ95に向かう空気の流れが形成される。よって、第1の搬送ロボット61aの内部で発塵しても、ロボット内の空気はフィルタ95を経て異物が取り除かれて、第1の搬送ロボット61a外にきれいな空気が排出される。このため、第1の搬送ロボット61aで発生した塵等の異物が搬送中のウエーハWに付着することが防止される。また、吸気口92が保持部65の取り付け位置近傍から空気を取り込むため、ウエーハWを保持する保持部65周辺が清浄に保たれる。
ところで、ウエーハ加工装置1は、ユーザの要望に応じて加工モジュールを追加できるように構成されている。この場合、搬送モジュール13は、ガイドレール71を追加することで、第1、第2の搬送ロボット61a、61bの搬送範囲を延長している。しかしながら、ガイドレール71を追加する場合には、レールの連結部分に隙間107を設けなければならない(図5参照)。この場合、第1、第2の搬送ロボット61a、61bの搬送基台66が連結部分の隙間107を乗り移る際にガタツキが生じる可能性がある。そこで、本実施の形態では、ガイドレール71の溝106(図6参照)の深さを調整することで搬送時のガタツキを抑えるようにしている。
以下、図5及び図6を参照して、ガイドレールの連結部分について説明する。図5は、本実施の形態に係るガイドレールの平面模式図である。図6は、本実施の形態に係るガイドレールの断面模式図である。なお、図6Aは図5のA−A線に沿う断面図、図6Bは図5のB−B線に沿う断面図、図6Cは図5のC−C線に沿う断面図を示している。なお、図5においては、説明の便宜上、搬送基台を二点鎖線で示している。
図5及び図6に示すように、ガイドレール71は、設置面101に敷設される基端部102よりも、搬送基台66をガイドする先端部103が幅広となるように断面視略T字状に形成されている。また、搬送基台66にはガイドレール71の先端部103を収容するように収容部104が形成されており、収容部104の角部分には転がり玉105が保持されている。ガイドレール71の先端部103の角部分には、搬送基台66の転がり玉105を受けるように、ガイドレール71の延在方向に沿って溝106が形成されている。このように、搬送基台66は、転がり玉105を溝106に転接させてガイドレール71にガイドされている。
複数のガイドレール71は隙間107を空けて連結されており、搬送基台66の走行範囲が延長されている。図5の破線Dに示す各ガイドレール71の連結部分においては、端部に向かって溝106が深くなるように形成されている。図5のA−A線に示す位置では、図6Aに示すように示すように転がり玉105が溝106に転接されている。図5のB−B線に示す位置では、図6Bに示すように溝106が深くなって転がり玉105が溝106から離れ始めている。図5のC−C線に示す位置では、図6Cに示すように溝106が最も深くなって転がり玉105が溝106から完全に離れている。
このため、搬送基台66がガイドレール71の端部に近づくにつれて、転がり玉105がガイドレール71の溝106から離されている。ガイドレール71の隙間107では転がり玉105が浮いた状態となるため、転がり玉105がガイドレール71の端面に衝突することがない。よって、搬送基台66がガイドレール71の連結部分の隙間107を乗り移る際に、搬送基台66の走行時のガタツキが抑えられる。ガイドレール71が延長された場合であっても、加工モジュール間で第1、第2の搬送ロボット61a、61bをスムーズに走行させることができる。
以上のように、本実施の形態に係るウエーハ加工装置1によれば、第1、第2の搬送ロボット位置付け手段62a、62bの構成部品が包囲ボックス76に包囲されており、包囲ボックス76内はファンモータ82の回転によって吸気口77からフィルタ81に向かう空気の流れが形成される。よって、第1、第2の搬送ロボット位置付け手段62a、62bの各構成部品の擦れよって発塵しても、フィルタ81によって包囲ボックス76内から塵等が取り除かれた状態で空気が外部に排出される。包囲ボックス76外に異物が排出されることが抑制されるため、第1、第2の搬送ロボット位置付け手段62a、62bで発塵した異物が搬送中のウエーハWに付着することが防止される。
なお、本発明は上記実施の形態に限定されず、種々変更して実施することが可能である。上記実施の形態において、添付図面に図示されている大きさや形状などについては、これに限定されず、本発明の効果を発揮する範囲内で適宜変更することが可能である。その他、本発明の目的の範囲を逸脱しない限りにおいて適宜変更して実施することが可能である。
例えば、上記した実施の形態において、搬送モジュール13が第1、第2の搬送ロボット61a、61bと、第1、第2の搬送ロボット位置付け手段62a、62bとを有する構成としたが、この構成に限定されない。搬送モジュール13は、単一の搬送ロボットと、単一の搬送ロボット位置付け手段とを有する構成でもよいし、3つ以上の搬送ロボットと、3つ以上の搬送ロボット位置付け手段とを有する構成でもよい。
また、上記した実施の形態において、第1、第2の搬送ロボット61a、61bが多節リンクからなるアーム部64の先端に保持部65を設ける構成としたが、この構成に限定されない。アーム部64は、水平方向に保持部65を移動させることができれば、どのように構成されてもよい。また保持部65はエッジクランプ式に限定されず、ウエーハWを保持できる構成であれば、どのように構成されてもよい。
また、上記した実施の形態において、第1、第2の搬送ロボット位置付け手段62a、62bの駆動源72としてリニアモータを使用する構成としたが、この構成に限定されない。駆動源72は、第1、第2の搬送ロボット61a、61bを加工モジュールの所定位置に位置付け可能な構成であればよく、例えばボールねじ機構で構成されてもよい。
また、上記した実施の形態において、第1、第2の搬送ロボット位置付け手段62a、62bに位置付け手段無塵設備75を設け、第1、第2の搬送ロボット61a、61bにも無塵設備を設ける構成としたが、この構成に限定されない。第1、第2の搬送ロボット61a、61bには無塵設備を設けなくてもよい。
また、上記した実施の形態において、複数の加工モジュールが搬送モジュール13の左右両側に配設される構成としたが、この構成に限定さない。複数の加工モジュールは、搬送モジュール13に平行に配設される構成であればよく、搬送モジュール13の片側に配設される構成でもよい。
以上説明したように、本発明は、ウエーハの搬送中にウエーハに対する異物の付着を防止することができるという効果を有し、特に、ユーザに応じて多種類の加工モジュールを選択的に設置可能なウエーハ加工装置に有用である。
1 ウエーハ加工装置
11 カセットモジュール
13 搬送モジュール
14 粗研削モジュール(加工モジュール)
15 レーザー加工モジュール(加工モジュール)
16 研削モジュール(加工モジュール)
17 研磨モジュール(加工モジュール)
21 カセット載置ユニット
22 カセットロボット
32 粗研削手段(加工手段)
33、38、43、48 加工テーブル
37 仕上げ研削手段(加工手段)
42 研磨手段(加工手段)
47 レーザー加工手段(加工手段)
61a 第1の搬送ロボット(搬送ロボット)
61b 第2の搬送ロボット(搬送ロボット)
62a 第1の搬送ロボット位置付け手段(搬送ロボット位置付け手段)
62b 第2の搬送ロボット位置付け手段(搬送ロボット位置付け手段)
71 ガイドレール
72 駆動源
73 キャタピラ
75 位置付け手段無塵設備
76 包囲ボックス
77、92 吸気口(第1の吸気口、第2の吸気口)
81、95 フィルタ(第1のフィルタ、第2のフィルタ)
82、96 ファンモータ(第1のファンモータ、第2のファンモータ)
W ウエーハ
C カセット

Claims (3)

  1. 複数枚のウエーハが収容可能なカセットを載置するカセット載置ユニットと、カセット載置ユニットに載置されるカセットからウエーハを搬出および搬入するカセットロボットと、から少なくとも構成されるカセットモジュールと、
    ウエーハを保持する加工テーブルと、該加工テーブルに保持されるウエーハを加工する加工手段と、から少なくとも構成される加工モジュールと、
    該カセットモジュールから搬出されるウエーハを該加工モジュールの該加工テーブルに搬送する搬送ロボットと、該加工モジュールに対応した所定位置に該搬送ロボットを位置付ける位置付け手段と、から少なくとも構成される搬送モジュールと、を備え、
    該位置付け手段による該搬送ロボットの走行方向に平行に該加工モジュールを複数配設されるウエーハ加工装置であって、
    該位置付け手段は、該搬送ロボットの該走行方向を案内するガイドレールと、該搬送ロボットを該ガイドレールに沿って走行させる駆動源と、該搬送ロボットを駆動させる配線を収容し該走行方向に延在するキャタピラと、から少なくとも構成され、
    該ガイドレールと該駆動源と該キャタピラとを包囲して該位置付け手段からの発塵を防止する位置付け手段無塵設備を含み、
    該位置付け手段無塵設備は、該位置付け手段を包囲する包囲ボックスと、第1のファンモータと、第1のフィルタと、該包囲ボックス内部に空気を取り込む第1の吸気口と、で少なくとも構成され、
    該第1のファンモータを回転させ該第1の吸気口から該包囲ボックス内に空気を取り込み、該第1のフィルタを通過して該包囲ボックス外にきれいな空気を排出させることを特徴とするウエーハ加工装置。
  2. 該搬送モジュールは、該搬送ロボットとして、上下に対向して配設され下側となる第1の搬送ロボットと上側となる第2の搬送ロボットを備え、該位置付け手段として、該第1の搬送ロボットを該加工モジュールの所定位置に位置付ける第1の搬送ロボット位置付け手段と、該第2の搬送ロボットを該加工モジュールの所定位置に位置付ける第2の搬送ロボット位置付け手段とを備えた請求項1記載のウエーハ加工装置。
  3. 該搬送ロボットには、第2のファンモータと、第2のフィルタと、該搬送ロボット内部に空気を取り込む第2の吸気口とを備え、該第2のファンモータを回転させ該第2の吸気口から空気を取り込み、該第2のフィルタを経て該搬送ロボット外にきれいな空気を排出させることを特徴とする請求項1記載のウエーハ加工装置。
JP2013196472A 2013-09-24 2013-09-24 ウエーハ加工装置 Pending JP2015065195A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2013196472A JP2015065195A (ja) 2013-09-24 2013-09-24 ウエーハ加工装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2013196472A JP2015065195A (ja) 2013-09-24 2013-09-24 ウエーハ加工装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2015065195A true JP2015065195A (ja) 2015-04-09

Family

ID=52832874

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2013196472A Pending JP2015065195A (ja) 2013-09-24 2013-09-24 ウエーハ加工装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2015065195A (ja)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105538081A (zh) * 2015-12-09 2016-05-04 无锡西源电力装备厂 一种车辆配件打磨机
JP2020174091A (ja) * 2019-04-09 2020-10-22 株式会社荏原製作所 搬送装置、ワーク処理装置、搬送装置の制御方法、プログラムを記憶する記録媒体
JP2020203338A (ja) * 2019-06-17 2020-12-24 株式会社ディスコ 加工装置
CN112207655A (zh) * 2020-10-12 2021-01-12 华海清科股份有限公司 一种具有移动机械手的晶圆磨削设备

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10150097A (ja) * 1996-11-21 1998-06-02 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 基板処理装置のスピンチャック
JPH1187462A (ja) * 1997-09-11 1999-03-30 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 基板処理ユニットおよびそれを用いた基板処理装置
JP2000077499A (ja) * 1998-09-03 2000-03-14 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 基板処理装置
JP2003072944A (ja) * 2001-09-03 2003-03-12 Hirata Corp ワーク搬送装置およびワーク搬送装置における走行路のシール構造
JP2005101080A (ja) * 2003-09-22 2005-04-14 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 基板搬送装置および基板処理装置
JP2006088293A (ja) * 2004-09-27 2006-04-06 Nidec Sankyo Corp ロボットステーション
JP2006228974A (ja) * 2005-02-17 2006-08-31 Tokyo Electron Ltd 半導体製造装置及び半導体製造方法
JP2011101913A (ja) * 2009-11-10 2011-05-26 Disco Abrasive Syst Ltd ウエーハの加工装置

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10150097A (ja) * 1996-11-21 1998-06-02 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 基板処理装置のスピンチャック
JPH1187462A (ja) * 1997-09-11 1999-03-30 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 基板処理ユニットおよびそれを用いた基板処理装置
JP2000077499A (ja) * 1998-09-03 2000-03-14 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 基板処理装置
JP2003072944A (ja) * 2001-09-03 2003-03-12 Hirata Corp ワーク搬送装置およびワーク搬送装置における走行路のシール構造
JP2005101080A (ja) * 2003-09-22 2005-04-14 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 基板搬送装置および基板処理装置
JP2006088293A (ja) * 2004-09-27 2006-04-06 Nidec Sankyo Corp ロボットステーション
JP2006228974A (ja) * 2005-02-17 2006-08-31 Tokyo Electron Ltd 半導体製造装置及び半導体製造方法
JP2011101913A (ja) * 2009-11-10 2011-05-26 Disco Abrasive Syst Ltd ウエーハの加工装置

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105538081A (zh) * 2015-12-09 2016-05-04 无锡西源电力装备厂 一种车辆配件打磨机
JP2020174091A (ja) * 2019-04-09 2020-10-22 株式会社荏原製作所 搬送装置、ワーク処理装置、搬送装置の制御方法、プログラムを記憶する記録媒体
JP2020203338A (ja) * 2019-06-17 2020-12-24 株式会社ディスコ 加工装置
JP7323342B2 (ja) 2019-06-17 2023-08-08 株式会社ディスコ 加工装置
CN112207655A (zh) * 2020-10-12 2021-01-12 华海清科股份有限公司 一种具有移动机械手的晶圆磨削设备

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI462169B (zh) 基板處理裝置
US8757026B2 (en) Clean transfer robot
TWI613749B (zh) 基板處理裝置及基板處理方法
JP2015065195A (ja) ウエーハ加工装置
JPWO2019102868A1 (ja) 基板搬送装置、基板処理システム、基板処理方法及びコンピュータ記憶媒体
JP4855142B2 (ja) 処理システム,搬送アームのクリーニング方法及び記録媒体
JP7076557B2 (ja) 基板処理システム
US20150298283A1 (en) Substrate treatment device
TWI699826B (zh) 基板輸送方法及基板輸送機
JP2011035281A (ja) ワーク収納機構および研削装置
CN213635912U (zh) 基板磨削系统
TW201943627A (zh) 搬送機構
TW201700926A (zh) 基板搬送裝置、基板處理裝置及基板搬送方法
JP2015207622A (ja) 搬送機構
US20080196658A1 (en) Substrate processing apparatus including a substrate reversing region
JP7080330B2 (ja) 基板処理システムおよび基板処理方法
JP6037685B2 (ja) 研削装置
JP5238331B2 (ja) 基板処理装置および基板処理システム
JP2012064735A (ja) ウエーハの研削方法
JP2010010267A (ja) 半導体ウエーハの加工装置
JP5014964B2 (ja) 研削装置における被加工物の保持機構
JP2020031158A (ja) 基板処理システム
JP2007281491A (ja) 基板洗浄装置
JP2017069488A (ja) 搬送機構
JP2023074695A (ja) 加工装置、及び加工方法

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20160719

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20170424

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20170516

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20170714

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20180109