JP2003273227A - 半導体集積回路装置 - Google Patents

半導体集積回路装置

Info

Publication number
JP2003273227A
JP2003273227A JP2002067940A JP2002067940A JP2003273227A JP 2003273227 A JP2003273227 A JP 2003273227A JP 2002067940 A JP2002067940 A JP 2002067940A JP 2002067940 A JP2002067940 A JP 2002067940A JP 2003273227 A JP2003273227 A JP 2003273227A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
circuit
overvoltage
semiconductor integrated
terminals
integrated circuit
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2002067940A
Other languages
English (en)
Other versions
JP3966747B2 (ja
Inventor
Ko Takemura
興 竹村
Kenji Otani
憲司 大谷
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Rohm Co Ltd
Original Assignee
Rohm Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Rohm Co Ltd filed Critical Rohm Co Ltd
Priority to JP2002067940A priority Critical patent/JP3966747B2/ja
Priority to TW092104895A priority patent/TWI292618B/zh
Priority to US10/385,435 priority patent/US6924533B2/en
Publication of JP2003273227A publication Critical patent/JP2003273227A/ja
Priority to US11/165,181 priority patent/US7196888B2/en
Application granted granted Critical
Publication of JP3966747B2 publication Critical patent/JP3966747B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L27/00Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
    • H01L27/02Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers
    • H01L27/0203Particular design considerations for integrated circuits
    • H01L27/0248Particular design considerations for integrated circuits for electrical or thermal protection, e.g. electrostatic discharge [ESD] protection
    • H01L27/0251Particular design considerations for integrated circuits for electrical or thermal protection, e.g. electrostatic discharge [ESD] protection for MOS devices
    • H01L27/0255Particular design considerations for integrated circuits for electrical or thermal protection, e.g. electrostatic discharge [ESD] protection for MOS devices using diodes as protective elements
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L27/00Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
    • H01L27/02Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers
    • H01L27/0203Particular design considerations for integrated circuits
    • H01L27/0248Particular design considerations for integrated circuits for electrical or thermal protection, e.g. electrostatic discharge [ESD] protection
    • H01L27/0251Particular design considerations for integrated circuits for electrical or thermal protection, e.g. electrostatic discharge [ESD] protection for MOS devices
    • H01L27/0292Particular design considerations for integrated circuits for electrical or thermal protection, e.g. electrostatic discharge [ESD] protection for MOS devices using a specific configuration of the conducting means connecting the protective devices, e.g. ESD buses

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
  • Bipolar Integrated Circuits (AREA)
  • Static Random-Access Memory (AREA)
  • Bipolar Transistors (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 素子数を減少させることによりチップサイズ
の縮小とコストの低減を可能にし、端子毎の保護電圧と
検出電圧のばらつきを押さえた過電圧検出回路を有する
半導体集積回路装置を提供する。 【解決手段】 過電圧が印加されると第1の電流Iが流
れる第1の負荷部と、第1の電流に比例した第2の電流
が流れる第2の負荷部とを持つカレントミラー回路を複
数の端子a〜端子mに接続し、この複数の端子の一つに
接続されたカレントミラー回路の第1の負荷部を、その
他の複数の端子に接続されたカレントミラー回路の第1
の負荷部として共用するとともに、この第1の負荷部を
過電圧保護回路とし、複数の端子に接続されたカレント
ミラー回路のそれぞれの第2の負荷部に、第2の電流を
検出する過電圧検出回路を個々に備える。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は半導体集積回路装置
の端子に過電圧や各種サージが侵入した場合に半導体集
積回路装置やその内部回路を保護する保護回路とその過
電圧検出回路を有する半導体集積回路装置に関する。
【0002】
【従来の技術】半導体集積回路装置を使用した電子機器
が多様化とその利用形態の多様化に伴い、ノイズ、サー
ジ、静電気などの様々な形の過電圧が直接的に、或いは
人体などを通して間接的に電気回路に流入し、これらの
電子機器を破壊したり著しい障害を与えるケースが増加
している。又、これらの電子機器の製造現場にあっても
その対策は万全ではなく不良率を増加させる一要因とな
っている。
【0003】そのため、電子回路や半導体集積回路で
は、過電圧が印加される危険性のある端子に保護回路を
設けることにより、本来の機能回路に過電圧が印加され
ないようにしている。
【0004】図6と図7にそのような従来の過電圧保護
回路を示す。図6は従来の過電圧保護回路で、図7は従
来の過電圧保護回路に過電圧検出回路を付加したもので
ある。尚、図6と図7で同一の機能を持つものには同一
記号を付与している。
【0005】図6で10は端子a〜mを持つ半導体集積
回路装置を示し、端子a〜mにはそれぞれ直列に接続さ
れたn個のツェナーダイオードZD1〜ZD(n)から
なる保護回路が接続され、最終のツェナーダイオードの
アノードは接地されている。又、図示していないが、そ
れぞれの端子には本来の内部回路の一端が保護回路の一
端と共に接続されている。
【0006】このような構成において、半導体集積回路
装置10の内部回路を、ある所定の電圧以上の電圧から
保護するためには、ツェナーダイオードの特性、すなわ
ちツェナー電圧とツェナーダイオードの個数を決定する
ことにより保護電圧を設定することができる。半導体集
積回路装置の内部回路を100V以上の過電圧から保護
するためには、例えば、ツェナー電圧が10Vのツェナ
ーダイオード10個を端子a〜mにそれぞれ直列接続す
ることにより、端子a〜mに100V以上の過電圧が印
加されても、ツェナーダイオードZD1〜ZD(n)を
介してグランドに逆電流が流れ、不図示の内部回路に1
00Vより高い過電圧が流入することはない。又、端子
a〜端子mを介して不図示の内部回路に供給される本来
の信号電圧は、設定した保護電圧よりも低いので、例え
ば、5Vの信号電圧が端子aに供給されても、ツェナー
ダイオードに逆電流が流れることはなく、信号電圧は本
来の内部回路に供給されることになる。
【0007】次に、図7に図6の従来の保護回路に過電
圧検出回路を付加した回路を示す。11は端子a〜mを
持つ半導体集積回路装置を示している。端子aにはn個
のツェナーダイオードZD1〜ZD(n)が直列に接続
され、保護回路を構成し、最終のツェナーダイオードの
アノードは抵抗R1を介して接地されていると同時に、
抵抗R1はその一端と他端がNPNトランジスタQ1の
ベースとエミッタにそれぞれ接続されている。又、図示
していないが、トランジスタQ1のコレクタは、例えば
半導体集積回路装置の内部回路に接続されている。他の
端子も同様である。
【0008】このような構成において、過電圧に対して
内部回路をツェナーダイオードで保護する仕組みについ
ては図6と同じなのでその説明は省略し、ここでは、抵
抗R1とトランジスタQ1とにより構成される過電圧検
出回路について説明する。過電圧が逆電流I1となって
ツェナーダイオードZD1〜ZD(n)と抵抗R1を介
してグランドに流れる時、抵抗R1の両端にはI1×R
1の電圧降下が発生して、トランジスタQ1をONの状
態にする。従って、そのコレクタを図示しない半導体集
積回路装置の内部回路に接続することにより、コレクタ
から過電圧検出信号を取り出して、該当する内部回路の
動作を一時的に、或いは、回路全体のリセットがされる
まで不能にしたりすることができる。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】前述の如く、従来の技
術では、過電圧が印加される可能性のある端子毎に多数
のツェナーダイオードを接続することが必要となり半導
体集積回路装置が大型化する。同時に、製造時の工数も
増加しコストアップの要因にもなる。更に、素子のばら
つきにより端子毎に保護する電圧に差異が生じる欠点も
ある。
【0010】本発明は、かかる実情に鑑み、従来技術の
課題を克服し、素子数を減少させることによりチップサ
イズを縮小し、コストの低減を可能にしつつ、端子毎の
保護電圧のばらつきを押さえた過電圧検出回路を有する
半導体集積回路装置を提供しようとするものである。
【0011】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明においては複数の端子に対する過電圧保護回
路と過電圧検出回路を備えた半導体集積回路装置であっ
て、過電圧が印加されると第1の電流が流れる第1の負
荷部と該第1の電流に比例した第2の電流が流れる第2
の負荷部を持つカレントミラー回路を前記複数の端子に
それぞれ接続し、前記複数の端子の一つに接続されたカ
レントミラー回路の第1の負荷部をその他の前記複数の
端子に接続されたカレントミラー回路の第1の負荷部と
して共用するとともに、この第1の負荷部を前記過電圧
保護回路とし、前記複数の端子に接続されたカレントミ
ラー回路のそれぞれの第2の負荷部を第2の電流を検出
する過電圧検出回路としたことを特徴とする半導体集積
回路装置である。
【0012】さらに、本発明においては過電圧保護用ダ
イオードと、ベースとエミッタがそれぞれ共通接続され
該過電圧保護用ダイオードのアノードにエミッタが接続
された第1と第2のトランジスタとからなるカレントミ
ラー回路で構成される回路を1つ以上の端子に備えた半
導体集積回路装置において、半導体集積回路上で前記過
電圧保護用ダイオードのカソードをアノードを囲むよう
に形成するとともに、前記カソードで囲まれた領域内に
おいて、前記アノードを囲むように前記第1と第2トラ
ンジスタのそれぞれのコレクタを形成し、これらのコレ
クタに略平行になるように前記第1と第2トランジスタ
の共通ベースを形成することを特徴とする半導体集積回
路装置である。
【0013】上記発明によれば、複数の端子に過電圧が
印加される可能性がある場合でも、過電圧に対する保護
回路を共通にすることで、各端子毎の過電圧の保護と検
出出力が可能となり、更に、素子数の低減、半導体集積
回路装置の小型化、コストの低減、素子のばらつきに起
因する検出電圧のばらつきの低減を図ることができる。
【0014】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を添付
図面を参照して説明する。図1は本発明の第1の実施形
態の一例であって、同図の中で図6及び図7と同一の符
号を付した部分は同一物または同一機能を表わし、基本
的な説明は省略する。
【0015】図1に本発明の第1の実施形態に係る過電
圧検出回路を付加した過電圧保護回路を示す。20は過
電圧が印加される可能性のある端子a〜mを持つ半導体
集積回路装置で、その端子aには、エミッタとベースが
それぞれ共通接続されたPNPトランジスタQa1とQ
a2のエミッタが接続され、共通接続されたベースがト
ランジスタQa1のコレクタに接続され、それぞれのト
ランジスタのコレクタの下流に第1と第2の負荷部を有
するカレントミラー回路を構成している。端子aは更
に、配線を介して図示しない内部回路に接続されてい
る。また、D1やD2で示される保護ダイオードや寄生
ダイオードを介して、電源またはグランドに接続されて
いる。
【0016】又、一方のトランジスタQa1のコレクタ
には3個のツェナーダイオードZD1〜ZD3が直列に
接続され、その下流、すなわち第1の負荷部には、それ
ぞれのコレクタとベースが共通接続されたNPNトラン
ジスタTr4とTr5が直列接続にして配され、Tr5
のエミッタが接地されている。又、他方のトランジスタ
Qa2は、下流にあたる第2の負荷部において、そのコ
レクタが抵抗Raを介して接地されている。抵抗Raの
一端にはNPNトランジスタQaのベースが、他端には
トランジスタQaのエミッタが接続され、過電圧を検出
した場合、コレクタから検出信号aが出力される。
【0017】端子b〜mには、端子iを代表として説明
すると、端子aの時と同様にPNPトランジスタQi1
とQi2で構成されるカレントミラー回路の共通エミッ
タが接続されており、両者の共通ベースとトランジスタ
Qi1コレクタが接続されて、他の端子a〜h、j〜m
の同じ個所に共通接続されている。一方、トランジスタ
Qi2のコレクタは端子aの時と同様に抵抗Riを介し
て接地され、抵抗Riの両端はそれぞれNPNトランジ
スタQiのベースとエミッタに接続されている。この場
合、そのコレクタから過電圧の検出信号iが出力され
る。
【0018】次にその動作を説明する。今、トランジス
タQi1、Tr4,Tr5がそれぞれONできる電圧V
q1、VT4、VT5と、ツェナーダイオードZD1〜
ZD3がそれぞれONできるツェナー電圧VD1、VD
2、VD3の総和を超える電圧Viが端子i印加される
と、電流IがトランジスタQi1のコレクタからツェナ
ーダイオードZD1〜ZD3、トランジスタTr4、T
r5を介してグランドに流れる。この時、カレントミラ
ー回路を構成している他方のトランジスタQi2のコレ
クタから抵抗Riを介して電流Iに比例した電流がグラ
ンドに流れ、抵抗Riの両端に電圧降下が発生してトラ
ンジスタQiをONすることにより検出信号iが出力さ
れる。
【0019】このように、本発明の第1の実施形態で
は、半導体集積回路装置の一つの端子に接続されたカレ
ントミラー回路の第1の負荷部にツェナーダイオードで
構成される過電圧保護回路を設けて、その他の端子に接
続されたカレントミラー回路の第1の負荷部として共用
するとともに、全てのカレントミラー回路の第2の負荷
部に、抵抗とトランジスタで構成される過電圧の検出回
路を配することにより、端子毎に多数のツェナーダイオ
ードを必要とせず、ある端子に過電圧が印加された場
合、その端子に接続される内部回路が確実に保護される
と共に、端子毎に過電圧検出を行うことが可能となる。
また、保護電圧も端子毎にばらつかず精度の高い過電圧
保護と検出を行うことができる。
【0020】次に、図2と図3を参照し本発明の第2の
実施形態を説明する。図2は過電圧検出信号を出力する
回路に替えてヒューズを使用した構成である。
【0021】図2で示す回路は本発明の第2の実施形態
に係る第1の回路構成であり、第1の実施形態において
抵抗RiとトランジスタQiがヒューズFiに置き換え
られた構成である。例えば、端子iに過電圧が印加され
た場合、カレントミラー回路を構成するトランジスタQ
i1とQi2、ツェナーダイオードZD1〜ZD3、ト
ランジスタTr4とTr5に係る動作は前述したとおり
である。この時、トランジスタQi2のコレクタに流れ
る電流により溶断されるヒューズをその下流の第2の負
荷部に配することにより、過電圧が検出されたかどうか
の記憶手段として利用でき、後で端子毎の検査を行うこ
とにより過電圧が印加された端子を特定することができ
る。
【0022】図3は本発明の第2の実施形態の第2の回
路例で、検出出力iが半導体集積回路装置22の内部に
設けられた記憶手段のメモリーセルに入力されることを
除き、その構成と動作は本発明の第1の実施形態による
ものと、同じである。この場合、トランジスタQiから
の過電圧の検出信号iの出力が、端子iに印加された過
電圧の履歴情報としてメモリーセルに蓄積され、後で端
子毎の検査を行うことにより過電圧が印加された端子を
特定することができる。更に、端子毎の過電圧検出回
数、カレンダー機能付きのメモリーセルの場合は過電圧
の検出の日時をも履歴として記憶することが可能とな
り、図示しない読み出し回路により履歴情報を外部に取
り出すことも可能となる。
【0023】尚、第1と第2の実施形態において、NP
NとPNPバイポーラトランジスタとツェナーダイオー
ド3個を使用する回路について説明したが、本実施形態
はこれらに限定されるものではなく、半導体集積回路の
種類によりPチャネルやNチャネルのMOSトランジス
タや、任意の数のツェナーダイオードやダイオードを使
用することができる。
【0024】次に、図4と図5を参照し、本発明の第3
の実施形態を説明する。図4は半導体集積回路装置の電
源電圧に印加される過電圧に対する保護用のダイオード
を示し、同図の(A)に等価回路、(B)に半導体集積
回路装置の断面図、(C)にその上面図を示す。図5
は、図4で示したダイオードの構成の中に、カレントミ
ラー回路を構成する2つのトランジスタを形成した構成
を示している。同図の(A)に等価回路、(B)に半導
体集積回路装置の断面図、(C)にその上面図、(D)
に応用回路例1、(E)に応用回路例2を示す。
【0025】半導体集積回路装置の場合、静電気などに
よるサージ電圧が任意の端子と電源またはグランド端子
に発生することがあり、通常、従来の回路では、図4
(A)に示すような保護ダイオードD1のカソードを電
源端子Vccやサージ電圧が印加される可能性のある端
子に接続し、アノードを抵抗などを介して接地させて、
ダイオードの降伏電圧以上のサージ電圧を吸収するよう
にしている。この保護ダイオードを半導体集積回路に形
成した構造例を図4の(B)と(C)とに示す。この例
の場合、P型半導体基板上に、N+の埋め込み層を設け
てからN-層を設け、更に、このN-層上にP型の保護ダ
イオードD1のアノード電極が形成され、その周囲を囲
むように電源端子Vccに接続されるN型のカソード電
極が形成されている。
【0026】本発明の第3の実施形態では、上記のよう
な構成において、図5(A)に示すように、過電圧を検
出するため、カレントミラー回路を構成するPNPトラ
ンジスタQ1とQ2を、ダイオードD1のカソード電極
が囲む領域の中に形成している。
【0027】図5の(B)と(C)に、半導体集積回路
装置の構造例を示す。この例の場合、図4で説明した電
源端子Vccに接続される保護ダイオードD1のカソー
ド電極が囲む領域内に、保護ダイオードD1のアノード
電極Aを更に囲むように2つの独立したP型のトランジ
スタQ1とQ2のそれぞれのコレクタ電極CaとCbを
形成し、それぞれのコレクタ電極と並列に配するように
N型のトランジスタQ1とQ2の共通ベース電極Bを形
成することにより、共通ベースと共通エミッタを持った
トランジスタQ1とQ2を形成することができる。
【0028】図5(A)は図5(B)と(C)の等価回
路であり、実際の使用にあっては、保護電圧を上げるた
めに、図1で示したように、Caから下流にツェナーダ
イオードやトランジスタを接続したり、過電圧検出を出
力するためCbに抵抗とトランジスタで構成される出力
回路を接続することもでき、目的に応じて回路を構成す
るようにしてもよい。その場合、過電圧が端子Aや電源
端子Vccを介して印加されると、保護ダイオードD1
と、トランジスタQ1のコレクタの下流に接続された図
示しない素子を介して、過電圧による電流がグランドに
流れる。同時にトランジスタQ2のコレクタにもその電
流に比例した電流が、図示しない素子を介してグランド
に流れるので、その電流を検出して過電圧検出の出力を
することができる。
【0029】更に、図5(D)の応用回路例のように、
過電圧が印加される可能性のある複数の端子に本実施形
態に係る回路を使用することも可能である。ZDnは過
電圧の大きさに応じてn個のツェナーダイオードが接続
されることを表している。更に、保護ダイオードとして
作用するD2は、この場合寄生ダイオードとして表して
いるので、破線で図示している。また図5(E)の応用
回路例のように、本発明の実施形態1と同様に、一つの
端子に接続されたカレントミラー回路の第1の負荷部
に、過電圧を吸収するツェナーダイオードを挿入して他
の端子に接続されたカレントミラー回路の第1の負荷部
として共用することも可能である。
【0030】本発明の第3の実施形態によれば、保護用
のダイオードを半導体集積回路に形成する場合、形成す
る領域内にカレントミラー回路を構成するトランジスタ
を同時に形成することにより、半導体集積回路装置の端
子を介して印加される過電圧に対して内部回路を保護す
る保護回路とカレントミラー回路とを小さい面積で形成
することが可能となり、半導体集積回路装置の小型化に
寄与することができる。
【0031】
【発明の効果】以上、説明したように本発明の過電圧検
出回路を有する半導体集積回路装置によれば、複数の端
子に過電圧が印加される可能性がある場合でも、過電圧
に対する保護回路を共通にすることで、各端子毎の過電
圧の保護と検出出力が少ない素子数で可能となり、更
に、半導体集積回路装置の小型化、コストの低減、素子
のばらつきに起因する検出電圧のばらつきの低減を図る
ことができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の第1の実施形態に係る過電圧検出回
路を付加した過電圧保護回路である。
【図2】 本発明の第2の実施形態に係る過電圧溶断ヒ
ューズ付きの過電圧保護回路である。
【図3】 本発明の第2の実施形態に係る過電圧の履歴
を記憶するメモリーセル付きの過電圧保護回路である。
【図4】 過電圧保護用ダイオードを示す図である。
【図5】 本発明の第3の実施形態に係る過電圧保護用
ダイオードとカレントミラー回路を示す図である。
【図6】 従来の過電圧保護回路である。
【図7】 従来の過電圧検出回路付きの過電圧保護回路
である。
【符号の説明】
10 半導体集積回路装置 22 半導体集積回路装置 A アノード電極 B 共通ベース電極 Ca、Cb コレクタ電極 D1、D2 保護ダイオード Fa、Fb、Fi、Fm ヒューズ I、I1 電流 Q1、Q2、Qa、Qa1、Qa2、Qb、Qb1、Q
b2、Qi、Qi1、Qi2、Qm、Qm1、Qm2、
Tr4、Tr5 トランジスタ R1、R2、Ra、Rb、Ri、Rm 抵抗 Vcc 電源端子 ZD1、ZD2、ZD3、ZD(n) ツェナーダイオ
ード
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) H01L 29/73 Fターム(参考) 5B015 JJ44 KB73 KB91 QQ04 QQ08 5F003 BF01 BF03 BH01 BJ01 BJ03 BJ12 BJ90 BN01 5F038 BB03 BH02 BH04 BH06 BH12 BH13 BH15 DF01 DF05 DT17 EZ20 5F082 AA33 BA11 BC03 BC04 BC11 BC15 FA16 GA02 GA04

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 複数の端子に対する過電圧保護回路と過
    電圧検出回路を備えた半導体集積回路装置であって、 過電圧が印加されると第1の電流が流れる第1の負荷部
    と該第1の電流に比例した第2の電流が流れる第2の負
    荷部を持つカレントミラー回路を前記複数の端子にそれ
    ぞれ接続し、前記複数の端子の一つに接続されたカレン
    トミラー回路の第1の負荷部をその他の前記複数の端子
    に接続されたカレントミラー回路の第1の負荷部として
    共用するとともに、この第1の負荷部を前記過電圧保護
    回路とし、前記複数の端子に接続されたカレントミラー
    回路のそれぞれの第2の負荷部を第2の電流を検出する
    過電圧検出回路としたことを特徴とする半導体集積回路
    装置。
  2. 【請求項2】 過電圧保護用ダイオードと、ベースとエ
    ミッタがそれぞれ共通接続され該過電圧保護用ダイオー
    ドのアノードにエミッタが接続された第1と第2のトラ
    ンジスタとからなるカレントミラー回路で構成される回
    路を1つ以上の端子に備えた半導体集積回路装置におい
    て、 半導体集積回路上で前記過電圧保護用ダイオードのカソ
    ードをアノードを囲むように形成するとともに、前記カ
    ソードで囲まれた領域内において、前記アノードを囲む
    ように前記第1と第2トランジスタのそれぞれのコレク
    タを形成し、これらのコレクタに略平行になるように前
    記第1と第2トランジスタの共通ベースを形成すること
    を特徴とした半導体集積回路装置。
JP2002067940A 2002-03-13 2002-03-13 半導体集積回路装置 Expired - Fee Related JP3966747B2 (ja)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2002067940A JP3966747B2 (ja) 2002-03-13 2002-03-13 半導体集積回路装置
TW092104895A TWI292618B (en) 2002-03-13 2003-03-07 Semiconductor integrated circuit device
US10/385,435 US6924533B2 (en) 2002-03-13 2003-03-12 Semiconductor integrated circuit device incorporating overvoltage protection circuit
US11/165,181 US7196888B2 (en) 2002-03-13 2005-06-24 Method of fabricating semiconductor integrated circuit device having protection circuit

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2002067940A JP3966747B2 (ja) 2002-03-13 2002-03-13 半導体集積回路装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2003273227A true JP2003273227A (ja) 2003-09-26
JP3966747B2 JP3966747B2 (ja) 2007-08-29

Family

ID=28034963

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2002067940A Expired - Fee Related JP3966747B2 (ja) 2002-03-13 2002-03-13 半導体集積回路装置

Country Status (3)

Country Link
US (2) US6924533B2 (ja)
JP (1) JP3966747B2 (ja)
TW (1) TWI292618B (ja)

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007129044A (ja) * 2005-11-02 2007-05-24 Denso Corp 半導体装置の過電圧印加監視回路
WO2007138710A1 (ja) * 2006-06-01 2007-12-06 Mitsubishi Electric Corporation 半導体装置
JP2008124442A (ja) * 2006-09-25 2008-05-29 Agere Systems Inc 過電圧検出回路のための方法と装置
JP2009254067A (ja) * 2008-04-03 2009-10-29 Denso Corp 過電圧保護回路
CN102412248A (zh) * 2010-12-09 2012-04-11 江苏东光微电子股份有限公司 Esd保护的功率mosfet或igbt及制备方法
JP2014032210A (ja) * 2009-03-09 2014-02-20 Qualcomm Inc 半導体チップ接合のために静電放電(esd)イベントの大きさを測定するための回路

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4429987B2 (ja) * 2005-07-29 2010-03-10 株式会社ジェイテクト 安全plc
CN101140301B (zh) * 2006-09-08 2010-09-29 深圳赛意法微电子有限公司 零等待电流精确过电压比较器
US7869176B2 (en) * 2007-03-30 2011-01-11 Hamilton Sundstrand Corporation Surge protected power supply
US8154320B1 (en) * 2009-03-24 2012-04-10 Lockheed Martin Corporation Voltage level shifter
US10128229B1 (en) 2017-11-13 2018-11-13 Micron Technology, Inc. Semiconductor devices with package-level configurability
US10483241B1 (en) 2018-06-27 2019-11-19 Micron Technology, Inc. Semiconductor devices with through silicon vias and package-level configurability
US10867991B2 (en) * 2018-12-27 2020-12-15 Micron Technology, Inc. Semiconductor devices with package-level configurability

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0670548A1 (en) * 1994-02-28 1995-09-06 STMicroelectronics, Inc. Method and structure for recovering smaller density memories from larger density memories
WO1997035345A1 (en) * 1996-03-20 1997-09-25 National Semiconductor Corporation Mosfet ic with on-chip protection against oxide damage caused by plasma-induced electrical charges
KR100565941B1 (ko) * 1997-06-16 2006-03-30 가부시키가이샤 히타치세이사쿠쇼 반도체집적회로장치
US6525609B1 (en) * 1998-11-12 2003-02-25 Broadcom Corporation Large gain range, high linearity, low noise MOS VGA
JP2000306382A (ja) * 1999-02-17 2000-11-02 Hitachi Ltd 半導体集積回路装置
US6236238B1 (en) * 1999-05-13 2001-05-22 Honeywell International Inc. Output buffer with independently controllable current mirror legs
JP3628587B2 (ja) * 2000-04-24 2005-03-16 シャープ株式会社 電流スイッチ回路およびそれを用いるd/aコンバータ

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007129044A (ja) * 2005-11-02 2007-05-24 Denso Corp 半導体装置の過電圧印加監視回路
JP4710553B2 (ja) * 2005-11-02 2011-06-29 株式会社デンソー 半導体装置の過電圧印加監視回路
WO2007138710A1 (ja) * 2006-06-01 2007-12-06 Mitsubishi Electric Corporation 半導体装置
JP2008124442A (ja) * 2006-09-25 2008-05-29 Agere Systems Inc 過電圧検出回路のための方法と装置
JP2009254067A (ja) * 2008-04-03 2009-10-29 Denso Corp 過電圧保護回路
JP2014032210A (ja) * 2009-03-09 2014-02-20 Qualcomm Inc 半導体チップ接合のために静電放電(esd)イベントの大きさを測定するための回路
CN102412248A (zh) * 2010-12-09 2012-04-11 江苏东光微电子股份有限公司 Esd保护的功率mosfet或igbt及制备方法

Also Published As

Publication number Publication date
US6924533B2 (en) 2005-08-02
US20030173623A1 (en) 2003-09-18
JP3966747B2 (ja) 2007-08-29
US20050237683A1 (en) 2005-10-27
TWI292618B (en) 2008-01-11
TW200305289A (en) 2003-10-16
US7196888B2 (en) 2007-03-27

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7196888B2 (en) Method of fabricating semiconductor integrated circuit device having protection circuit
JP3773506B2 (ja) 半導体集積回路装置
JP4806540B2 (ja) 半導体集積回路装置
US6385021B1 (en) Electrostatic discharge (ESD) protection circuit
US5781389A (en) Transistor protection circuit
JP3901671B2 (ja) 半導体集積回路装置
US6989980B2 (en) Semiconductor device having a protection circuit
US7768753B2 (en) Circuit arrangement for protection against electrostatic discharges and method for diverting electrostatic discharges
US6337787B2 (en) Gate-voltage controlled electrostatic discharge protection circuit
JPH0350423B2 (ja)
US8194372B1 (en) Systems and methods for electrostatic discharge protection
US5942931A (en) Circuit for protecting an IC from noise
JP3943109B2 (ja) 静電放電から集積回路を保護する回路構造
JP2009302367A (ja) 半導体素子の静電保護回路
US6433407B2 (en) Semiconductor integrated circuit
JP4822686B2 (ja) 保護回路及びこれを搭載した半導体集積回路
JPH10214905A (ja) 信号入力回路
JPH11113169A (ja) 半導体回路の保護装置
JP2006261233A (ja) 入力保護回路
JP4110701B2 (ja) 過電圧保護回路
JPH0575031A (ja) 半導体装置
JP2871329B2 (ja) 半導体集積回路
JPH06178445A (ja) 半導体装置の入出力保護回路
JPH0964281A (ja) 集積回路の静電気保護回路
JP2004079717A (ja) 静電保護回路及び同静電保護回路を有する半導体装置

Legal Events

Date Code Title Description
A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20040514

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20060822

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20061020

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20061226

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20070223

A911 Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911

Effective date: 20070507

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20070529

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20070529

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110608

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120608

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130608

Year of fee payment: 6

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees