JP2003238528A - ビタミンａの製造方法 - Google Patents
ビタミンａの製造方法Info
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- JP2003238528A JP2003238528A JP2002036394A JP2002036394A JP2003238528A JP 2003238528 A JP2003238528 A JP 2003238528A JP 2002036394 A JP2002036394 A JP 2002036394A JP 2002036394 A JP2002036394 A JP 2002036394A JP 2003238528 A JP2003238528 A JP 2003238528A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 ビタミンＡの製造方法を提供すること。
【解決手段】 一般式（１）
（式中、Ａｒは置換基を有していてもよいアリール基を
表わす。）で示されるスルホン類と一般式（２） （式中、Ｘ1、Ｘ2は同一または相異なりハロゲン原子を
示し、Ｒは水酸基の保護基を示し、波線は、その結合す
る二重結合の立体がＥ体、Ｚ体またはＥ／Ｚの混合物を
表わす。）で示されるアリルハライド誘導体とをアルカ
リ金属の水酸化物の存在下に反応させることを特徴とす
るビタミンＡの製造方法。
表わす。）で示されるスルホン類と一般式（２） （式中、Ｘ1、Ｘ2は同一または相異なりハロゲン原子を
示し、Ｒは水酸基の保護基を示し、波線は、その結合す
る二重結合の立体がＥ体、Ｚ体またはＥ／Ｚの混合物を
表わす。）で示されるアリルハライド誘導体とをアルカ
リ金属の水酸化物の存在下に反応させることを特徴とす
るビタミンＡの製造方法。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、医薬、飼料添加
物、食品添加物などの分野で重要なビタミンＡの製造方
法に関する。
物、食品添加物などの分野で重要なビタミンＡの製造方
法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、ビタミンＡの製造方法としてはβ
―イオノン（Ｃ１３）を出発物質として、側鎖を増炭す
る方法（Pure & Appl. Chem. 66, 1509 (1994)）やＣ１
０スルホン類とＣ１０アルデヒド類のカップリング後、
スルホニル基を脱離する方法(日本国特許公報 平5-6126
5)が知られている。しかし、前者は原料であるβ―イオ
ノン（Ｃ１３）が市場では非常に高価であり、後者は、
Ｃ１０アルデヒド類の製造工程、特に酸化工程（日本国
特許公報 平7-17555）で極めて高価なアセトアルデヒド
誘導体を酸化剤として用いるなど必ずしも工業的に優れ
た方法とは言い難いものであった。
―イオノン（Ｃ１３）を出発物質として、側鎖を増炭す
る方法（Pure & Appl. Chem. 66, 1509 (1994)）やＣ１
０スルホン類とＣ１０アルデヒド類のカップリング後、
スルホニル基を脱離する方法(日本国特許公報 平5-6126
5)が知られている。しかし、前者は原料であるβ―イオ
ノン（Ｃ１３）が市場では非常に高価であり、後者は、
Ｃ１０アルデヒド類の製造工程、特に酸化工程（日本国
特許公報 平7-17555）で極めて高価なアセトアルデヒド
誘導体を酸化剤として用いるなど必ずしも工業的に優れ
た方法とは言い難いものであった。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】このようなことから、
本発明者らは、安価な原料を用いたビタミンＡの製造方
法を開発すべく鋭意検討を重ねた結果、Ｃ１０アルコー
ル類であるゲラニオールやリナロールより容易にかつ安
価に誘導されるアリルハライド誘導体とスルホン類との
カップリング反応に安価なアルカリ金属の水酸化物を使
用することにより、スルホニル基の脱離も進行し、ビタ
ミンＡが製造できることを見出し、本発明に至った。
本発明者らは、安価な原料を用いたビタミンＡの製造方
法を開発すべく鋭意検討を重ねた結果、Ｃ１０アルコー
ル類であるゲラニオールやリナロールより容易にかつ安
価に誘導されるアリルハライド誘導体とスルホン類との
カップリング反応に安価なアルカリ金属の水酸化物を使
用することにより、スルホニル基の脱離も進行し、ビタ
ミンＡが製造できることを見出し、本発明に至った。
【０００４】
【課題を解決するための手段】すなわち、本発明は、一
般式（１） （式中、Ａｒは置換基を有していてもよいアリール基を
表わす。）で示されるスルホン類と一般式（２） （式中、Ｘ1、Ｘ2は同一または相異なりハロゲン原子を
示し、Ｒは水酸基の保護基を示し、波線は、その結合す
る二重結合の立体がＥ体、Ｚ体またはＥ／Ｚの混合物を
表わす。）で示されるアリルハライド誘導体とをアルカ
リ金属の水酸化物の存在下に反応させることを特徴とす
るビタミンＡの製造方法を提供するものである。
般式（１） （式中、Ａｒは置換基を有していてもよいアリール基を
表わす。）で示されるスルホン類と一般式（２） （式中、Ｘ1、Ｘ2は同一または相異なりハロゲン原子を
示し、Ｒは水酸基の保護基を示し、波線は、その結合す
る二重結合の立体がＥ体、Ｚ体またはＥ／Ｚの混合物を
表わす。）で示されるアリルハライド誘導体とをアルカ
リ金属の水酸化物の存在下に反応させることを特徴とす
るビタミンＡの製造方法を提供するものである。
【０００５】
【発明の実施の形態】以下、本発明について詳細に説明
する。一般式（２）で示されるアリルハライド誘導体に
おける置換基Ｒは水素原子または水酸基の保護基を示
し、水酸基の保護基としては、例えばアセチル、ピバロ
イル、ベンゾイル、ｐ−ニトロベンゾイルなどのアシル
基、トリメチルシリル、ｔ−ブチルジメチルシリル、ｔ
−ブチルジフェニルシリルなどのシリル基、テトラヒド
ロピラニル、メトキシメチル、メトキシエトキシメチ
ル、１−エトキシエチルなどのアルコキシメチル基、ベ
ンジル基、ｐ−メトキシベンジル基、ｔ−ブチル基、ト
リチル基、トリクロロエトキシカルボニル基、アリルオ
キシカルボニル基等が挙げられ、通常、アシル基が好ま
しく、アセチル基がより好ましく用いられる。一般式
（１）で示されるスルホン類における置換基Ａｒは、置
換基を有していてもよいアリール基を示し、アリール基
としてはフェニル基、ナフチル基等が挙げられ、置換基
としては、Ｃ１からＣ５の直鎖または分枝状のアルキル
基、Ｃ１からＣ５の直鎖または分枝状のアルコキシ基、
ハロゲン、ニトロ基等が挙げられる。置換基Ａｒの具体
例としては、フェニル、ナフチル、ｏ−トリル，ｍ−ト
リル，ｐ−トリル、ｏ−メトキシフェニル、ｍ−メトキ
シフェニル、ｐ−メトキシフェニル、ｏ−クロロフェニ
ル、ｍ−クロロフェニル、ｐ−クロロフェニル、ｏ−ブ
ロモフェニル、ｍ−ブロモフェニル、ｐ−ブロモフェニ
ル、ｏ−ヨードフェニル、ｍ−ヨードフェニル、ｐ−ヨ
ードフェニル、ｏ−フルオロフェニル、ｍ−フルオロフ
ェニル、ｐ−フルオロフェニル、ｏ−ニトロフェニル、
ｍ−ニトロフェニル、ｐ−ニトロフェニル等が挙げられ
る。
する。一般式（２）で示されるアリルハライド誘導体に
おける置換基Ｒは水素原子または水酸基の保護基を示
し、水酸基の保護基としては、例えばアセチル、ピバロ
イル、ベンゾイル、ｐ−ニトロベンゾイルなどのアシル
基、トリメチルシリル、ｔ−ブチルジメチルシリル、ｔ
−ブチルジフェニルシリルなどのシリル基、テトラヒド
ロピラニル、メトキシメチル、メトキシエトキシメチ
ル、１−エトキシエチルなどのアルコキシメチル基、ベ
ンジル基、ｐ−メトキシベンジル基、ｔ−ブチル基、ト
リチル基、トリクロロエトキシカルボニル基、アリルオ
キシカルボニル基等が挙げられ、通常、アシル基が好ま
しく、アセチル基がより好ましく用いられる。一般式
（１）で示されるスルホン類における置換基Ａｒは、置
換基を有していてもよいアリール基を示し、アリール基
としてはフェニル基、ナフチル基等が挙げられ、置換基
としては、Ｃ１からＣ５の直鎖または分枝状のアルキル
基、Ｃ１からＣ５の直鎖または分枝状のアルコキシ基、
ハロゲン、ニトロ基等が挙げられる。置換基Ａｒの具体
例としては、フェニル、ナフチル、ｏ−トリル，ｍ−ト
リル，ｐ−トリル、ｏ−メトキシフェニル、ｍ−メトキ
シフェニル、ｐ−メトキシフェニル、ｏ−クロロフェニ
ル、ｍ−クロロフェニル、ｐ−クロロフェニル、ｏ−ブ
ロモフェニル、ｍ−ブロモフェニル、ｐ−ブロモフェニ
ル、ｏ−ヨードフェニル、ｍ−ヨードフェニル、ｐ−ヨ
ードフェニル、ｏ−フルオロフェニル、ｍ−フルオロフ
ェニル、ｐ−フルオロフェニル、ｏ−ニトロフェニル、
ｍ−ニトロフェニル、ｐ−ニトロフェニル等が挙げられ
る。
【０００６】Ｘ1、Ｘ2のハロゲン原子としては、塩素原
子、臭素原子、沃素原子等が挙げられ、好ましくは臭素
原子が挙げられる。
子、臭素原子、沃素原子等が挙げられ、好ましくは臭素
原子が挙げられる。
【０００７】本発明に用いられる原料化合物である一般
式（２）で示されるアリルハライド誘導体はスキーム１
に示す反応式に従って、ゲラニオールもしくはリナロー
ルより容易に製造できる。それらは、ＥまたはＺの幾何
異性体のいずれであってもよく、その混合物であっても
よい。本発明のもう一方の原料化合物である一般式
（１）で示されるスルホン類は、Chemistry Letters 47
9 (1975)に示される方法により合成することができる。 スキーム１
式（２）で示されるアリルハライド誘導体はスキーム１
に示す反応式に従って、ゲラニオールもしくはリナロー
ルより容易に製造できる。それらは、ＥまたはＺの幾何
異性体のいずれであってもよく、その混合物であっても
よい。本発明のもう一方の原料化合物である一般式
（１）で示されるスルホン類は、Chemistry Letters 47
9 (1975)に示される方法により合成することができる。 スキーム１
【０００８】ビタミンＡは、一般式（１）で示されるス
ルホン類と一般式（２）で示されるアリルハライド誘導
体とをアルカリ金属水酸化物の存在下、反応させること
によって得ることができる。使用するアリルハライド誘
導体（２）は、ＥまたはＺ幾何異性体、光学活性体、ラ
セミ体のいずれであっても、またその混合物であっても
よい。
ルホン類と一般式（２）で示されるアリルハライド誘導
体とをアルカリ金属水酸化物の存在下、反応させること
によって得ることができる。使用するアリルハライド誘
導体（２）は、ＥまたはＺ幾何異性体、光学活性体、ラ
セミ体のいずれであっても、またその混合物であっても
よい。
【０００９】本反応に用いるアルカリ金属水酸化物とし
ては、具体的には、水酸化カリウム、水酸化ナトリウ
ム、水酸化リチウム等が挙げられる。かかるアルカリ金
属水酸化物の使用量はスルホン類（１）に対して通常、
１〜２０モル倍程度である。
ては、具体的には、水酸化カリウム、水酸化ナトリウ
ム、水酸化リチウム等が挙げられる。かかるアルカリ金
属水酸化物の使用量はスルホン類（１）に対して通常、
１〜２０モル倍程度である。
【００１０】上記反応はアルカリ金属の水酸化物のみで
も進行するが、より反応を促進するために相間移動触媒
を添加してもよい。
も進行するが、より反応を促進するために相間移動触媒
を添加してもよい。
【００１１】上記反応に用いる相間移動触媒としては第
４級アンモニウム塩、第４級ホスホニウム塩、スルホニ
ウム塩等が挙げられ、好ましくは、第４級アンモニウム
塩が挙げられる。
４級アンモニウム塩、第４級ホスホニウム塩、スルホニ
ウム塩等が挙げられ、好ましくは、第４級アンモニウム
塩が挙げられる。
【００１２】第４級アンモニウム塩としては、例えば、
塩化テトラメチルアンモニウム、塩化テトラエチルアン
モニウム、塩化テトラプロピルアンモニウム、塩化テト
ラブチルアンモニウム、塩化テトラペンチルアンモニウ
ム、塩化テトラヘキシルアンモニウム、塩化テトラヘプ
チルアンモニウム、塩化テトラオクチルアンモニウム、
塩化テトラヘキサデシルアンモニウム、塩化テトラオク
タデシルアンモニウム、塩化ベンジルトリメチルアンモ
ニウム、塩化ベンジルトリエチルアンモニウム、塩化ベ
ンジルトリブチルアンモニウム、塩化１−メチルピリジ
ニウム、塩化１−ヘキサデシルピリジニウム、塩化１，
４−ジメチルピリジニウム、塩化テトラメチルー２−ブ
チルアンモニウム、塩化トリメチルシクロプロピルアン
モニウム、臭化テトラメチルアンモニウム、臭化テトラ
エチルアンモニウム、臭化テトラプロピルアンモニウ
ム、臭化テトラブチルアンモニウム、臭化テトラペンチ
ルアンモニウム、臭化テトラヘキシルアンモニウム、臭
化テトラヘプチルアンモニウム、臭化テトラオクチルア
ンモニウム、臭化テトラヘキサデシルアンモニウム、臭
化テトラオクタデシルアンモニウム、臭化ベンジルトリ
メチルアンモニウム、臭化ベンジルトリエチルアンモニ
ウム、臭化ベンジルトリブチルアンモニウム、臭化１―
メチルピリジニウム、臭化１−ヘキサデシルピリジニウ
ム、臭化１，４−ジメチルピリジニウム、臭化テトラメ
チル−２−ブチルアンモニウム、臭化トリメチルシクロ
プロピルアンモニウム、沃化テトラメチルアンモニウ
ム、沃化テトラブチルアンモニウム、沃化テトラオクチ
ルアンモニウム、沃化ｔ―ブチルエチルジメチルアンモ
ニウム、沃化テトラデシルトリメチルアンモニウム、沃
化ヘキサデシルトリメチルアンモニウム、沃化オクタデ
シルトリメチルアンモニウム、沃化ベンジルトリメチル
アンモニウム、沃化ベンジルトリエチルアンモニウム、
沃化ベンジルトリブチルアンモニウム、硫酸水素テトラ
ブチルアンモニウム等が挙げられる。
塩化テトラメチルアンモニウム、塩化テトラエチルアン
モニウム、塩化テトラプロピルアンモニウム、塩化テト
ラブチルアンモニウム、塩化テトラペンチルアンモニウ
ム、塩化テトラヘキシルアンモニウム、塩化テトラヘプ
チルアンモニウム、塩化テトラオクチルアンモニウム、
塩化テトラヘキサデシルアンモニウム、塩化テトラオク
タデシルアンモニウム、塩化ベンジルトリメチルアンモ
ニウム、塩化ベンジルトリエチルアンモニウム、塩化ベ
ンジルトリブチルアンモニウム、塩化１−メチルピリジ
ニウム、塩化１−ヘキサデシルピリジニウム、塩化１，
４−ジメチルピリジニウム、塩化テトラメチルー２−ブ
チルアンモニウム、塩化トリメチルシクロプロピルアン
モニウム、臭化テトラメチルアンモニウム、臭化テトラ
エチルアンモニウム、臭化テトラプロピルアンモニウ
ム、臭化テトラブチルアンモニウム、臭化テトラペンチ
ルアンモニウム、臭化テトラヘキシルアンモニウム、臭
化テトラヘプチルアンモニウム、臭化テトラオクチルア
ンモニウム、臭化テトラヘキサデシルアンモニウム、臭
化テトラオクタデシルアンモニウム、臭化ベンジルトリ
メチルアンモニウム、臭化ベンジルトリエチルアンモニ
ウム、臭化ベンジルトリブチルアンモニウム、臭化１―
メチルピリジニウム、臭化１−ヘキサデシルピリジニウ
ム、臭化１，４−ジメチルピリジニウム、臭化テトラメ
チル−２−ブチルアンモニウム、臭化トリメチルシクロ
プロピルアンモニウム、沃化テトラメチルアンモニウ
ム、沃化テトラブチルアンモニウム、沃化テトラオクチ
ルアンモニウム、沃化ｔ―ブチルエチルジメチルアンモ
ニウム、沃化テトラデシルトリメチルアンモニウム、沃
化ヘキサデシルトリメチルアンモニウム、沃化オクタデ
シルトリメチルアンモニウム、沃化ベンジルトリメチル
アンモニウム、沃化ベンジルトリエチルアンモニウム、
沃化ベンジルトリブチルアンモニウム、硫酸水素テトラ
ブチルアンモニウム等が挙げられる。
【００１３】第４級ホスホニウム塩としては、例えば、
塩化トリブチルメチルホスホニウム、塩化トリエチルメ
チルホスホニウム、塩化メチルトリフェノキシホスホニ
ウム、塩化ブチルトリフェニルホスホニウム、塩化テト
ラブチルホスホニウム、塩化ベンジルトリフェニルホス
ホニウム、塩化ヘキサデシルトリメチルホスホニウム、
塩化ヘキサデシルトリブチルホスホニウム、塩化ヘキサ
デシルジメチルエチルホスホニウム、塩化テトラフェニ
ルホスホニウム、臭化トリブチルメチルホスホニウム、
臭化トリエチルメチルホスホニウム、臭化メチルトリフ
ェノキシホスホニウム、臭化ブチルトリフェニルホスホ
ニウム、臭化テトラブチルホスホニウム、臭化ベンジル
トリフェニルホスホニウム、臭化ヘキサデシルトリメチ
ルホスホニウム、臭化ヘキサデシルトリブチルホスホニ
ウム、臭化ヘキサデシルジメチルエチルホスホニウム、
臭化テトラフェニルホスホニウム、沃化トリブチルメチ
ルホスホニウム、沃化トリエチルメチルホスホニウム、
沃化メチルトリフェノキシホスホニウム、沃化ブチルト
リフェニルホスホニウム、沃化テトラブチルホスホニウ
ム、沃化ベンジルトリフェニルホスホニウム、沃化ヘキ
サデシルトリメチルホスホニウム等が挙げられる。
塩化トリブチルメチルホスホニウム、塩化トリエチルメ
チルホスホニウム、塩化メチルトリフェノキシホスホニ
ウム、塩化ブチルトリフェニルホスホニウム、塩化テト
ラブチルホスホニウム、塩化ベンジルトリフェニルホス
ホニウム、塩化ヘキサデシルトリメチルホスホニウム、
塩化ヘキサデシルトリブチルホスホニウム、塩化ヘキサ
デシルジメチルエチルホスホニウム、塩化テトラフェニ
ルホスホニウム、臭化トリブチルメチルホスホニウム、
臭化トリエチルメチルホスホニウム、臭化メチルトリフ
ェノキシホスホニウム、臭化ブチルトリフェニルホスホ
ニウム、臭化テトラブチルホスホニウム、臭化ベンジル
トリフェニルホスホニウム、臭化ヘキサデシルトリメチ
ルホスホニウム、臭化ヘキサデシルトリブチルホスホニ
ウム、臭化ヘキサデシルジメチルエチルホスホニウム、
臭化テトラフェニルホスホニウム、沃化トリブチルメチ
ルホスホニウム、沃化トリエチルメチルホスホニウム、
沃化メチルトリフェノキシホスホニウム、沃化ブチルト
リフェニルホスホニウム、沃化テトラブチルホスホニウ
ム、沃化ベンジルトリフェニルホスホニウム、沃化ヘキ
サデシルトリメチルホスホニウム等が挙げられる。
【００１４】スルホニウム塩としては、例えば、塩化ジ
ブチルメチルスルホニウム、塩化トリメチルスルホニウ
ム、塩化トリエチルスルホニウム、臭化ジブチルメチル
スルホニウム、臭化トリメチルスルホニウム、臭化トリ
エチルスルホニウム、沃化ジブチルメチルスルホニウ
ム、沃化トリメチルスルホニウム、沃化トリエチルスル
ホニウム等が挙げられる。
ブチルメチルスルホニウム、塩化トリメチルスルホニウ
ム、塩化トリエチルスルホニウム、臭化ジブチルメチル
スルホニウム、臭化トリメチルスルホニウム、臭化トリ
エチルスルホニウム、沃化ジブチルメチルスルホニウ
ム、沃化トリメチルスルホニウム、沃化トリエチルスル
ホニウム等が挙げられる。
【００１５】特に第４級アンモニウム塩が好ましく用い
られる。
られる。
【００１６】上記反応には、通常、有機溶媒が用いら
れ、かかる溶媒としては、 Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムア
ミド、ジメチルスルホキシド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセト
アミド、アセトニトリル、ヘキサメチルホスホリックト
リアミド等の非プロトン性極性溶媒、ｎ−ヘキサン、ｎ
―ヘプタン、シクロヘキサン、ｎ−ペンタン、トルエ
ン、キシレン等の炭化水素系溶媒、またはジエチルエー
テル、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、アニ
ソール等のエーテル系溶媒が挙げられる。また２種以上
の溶媒を混合して使用してもよい。
れ、かかる溶媒としては、 Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムア
ミド、ジメチルスルホキシド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセト
アミド、アセトニトリル、ヘキサメチルホスホリックト
リアミド等の非プロトン性極性溶媒、ｎ−ヘキサン、ｎ
―ヘプタン、シクロヘキサン、ｎ−ペンタン、トルエ
ン、キシレン等の炭化水素系溶媒、またはジエチルエー
テル、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、アニ
ソール等のエーテル系溶媒が挙げられる。また２種以上
の溶媒を混合して使用してもよい。
【００１７】反応温度は、通常、−７８℃から使用する
溶媒の沸点の範囲であり、−１０℃〜５０℃がより好ま
しい。また、反応時間は、反応で用いる塩基の種類なら
びに反応温度によって異なるが、通常５分から２４時間
程度の範囲である。反応後、通常の後処理、例えば抽
出、各種クロマトグラフィーなどの操作をすることによ
りビタミンＡを得ることが出来る。
溶媒の沸点の範囲であり、−１０℃〜５０℃がより好ま
しい。また、反応時間は、反応で用いる塩基の種類なら
びに反応温度によって異なるが、通常５分から２４時間
程度の範囲である。反応後、通常の後処理、例えば抽
出、各種クロマトグラフィーなどの操作をすることによ
りビタミンＡを得ることが出来る。
【００１８】また、得られたビタミンＡは常法に従い水
酸基の保護基を導入することができ、例えばアセチル化
することによりビタミンＡアセテートを得ることができ
る。
酸基の保護基を導入することができ、例えばアセチル化
することによりビタミンＡアセテートを得ることができ
る。
【００１９】
【発明の効果】かくして、本発明の方法によれば、医
薬、飼料添加物、食品添加物などの分野で重要なビタミ
ンＡを安価な原料を用いて製造することができ有利であ
る。
薬、飼料添加物、食品添加物などの分野で重要なビタミ
ンＡを安価な原料を用いて製造することができ有利であ
る。
【００２０】
【実施例】以下、実施例により、本発明をさらに詳細に
説明するが、本発明はこれらに限定されるものではな
い。
説明するが、本発明はこれらに限定されるものではな
い。
【００２１】（実施例１）微粉末状の水酸化カリウム88
5.95mg(15mmol)、硫酸水素テトラブチルアンモニム33.9
mg(0.1mmol)をフラスコに仕込み テトラヒドロフラン4m
lでスラリーにし、0℃に冷却した。そこへ、化合物
（I）298.1mg(1mmol) と化合物（II）708.16mg(2mmol)
をテトラヒドロフラン3mlに溶解した溶液を微量滴下ロ
ートを用いて30分かけて滴下した。滴下後、0℃で30分
攪拌したが、ほとんど原料回収であったので、20℃まで
自然昇温して4時間攪拌した。反応後、飽和塩化アンモ
ニウム水溶液に注加し、酢酸エチルにて抽出した。得ら
れた有機層は飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩
水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒
を留去することによりビタミンAを含む粗生成物を得
た。得られたビタミンAの粗生成物をトルエン3mlに溶解
し、0℃に冷却した。そこへ、ピリジン158.20mg(2.0mmo
l)と４−ジメチルアミノピリジン 24.4mg(0.1mmol)を
仕込み、次いで無水酢酸204.2mg(2.0mmol)をゆっくりと
滴下し、0〜5℃で1時間保温した。反応後、反応後、飽
和炭酸水素ナトリウム水溶液に注加し、酢酸エチルにて
抽出した。得られた有機層は飽和塩化アンモニウム水溶
液、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで
乾燥後、溶媒を留去することにより黄色オイルの粗生成
物を得た。得られた粗生成物を液体クロマトグラフィー
にて定量したところ、ビタミンAアセテートの収量は56
ｍｇであった。
5.95mg(15mmol)、硫酸水素テトラブチルアンモニム33.9
mg(0.1mmol)をフラスコに仕込み テトラヒドロフラン4m
lでスラリーにし、0℃に冷却した。そこへ、化合物
（I）298.1mg(1mmol) と化合物（II）708.16mg(2mmol)
をテトラヒドロフラン3mlに溶解した溶液を微量滴下ロ
ートを用いて30分かけて滴下した。滴下後、0℃で30分
攪拌したが、ほとんど原料回収であったので、20℃まで
自然昇温して4時間攪拌した。反応後、飽和塩化アンモ
ニウム水溶液に注加し、酢酸エチルにて抽出した。得ら
れた有機層は飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩
水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒
を留去することによりビタミンAを含む粗生成物を得
た。得られたビタミンAの粗生成物をトルエン3mlに溶解
し、0℃に冷却した。そこへ、ピリジン158.20mg(2.0mmo
l)と４−ジメチルアミノピリジン 24.4mg(0.1mmol)を
仕込み、次いで無水酢酸204.2mg(2.0mmol)をゆっくりと
滴下し、0〜5℃で1時間保温した。反応後、反応後、飽
和炭酸水素ナトリウム水溶液に注加し、酢酸エチルにて
抽出した。得られた有機層は飽和塩化アンモニウム水溶
液、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで
乾燥後、溶媒を留去することにより黄色オイルの粗生成
物を得た。得られた粗生成物を液体クロマトグラフィー
にて定量したところ、ビタミンAアセテートの収量は56
ｍｇであった。
【００２２】以下に実施例の化合物の構造式を記す。
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(72)発明者 世古 信三
大阪府高槻市塚原２丁目10番１号 住友化
学工業株式会社内
Ｆターム(参考） 4H006 AA02 AC24 BA65 BA92 BB25
BE10 UC12
4H039 CA29 CA40 CD20 CD90
Claims (9)
- 【請求項１】一般式（１） （式中、Ａｒは置換基を有していてもよいアリール基を
表わす。）で示されるスルホン類と一般式（２） （式中、Ｘ1、Ｘ2は同一または相異なりハロゲン原子を
示し、Ｒは水酸基の保護基を示し、波線は、その結合す
る二重結合の立体がＥ体、Ｚ体またはＥ／Ｚの混合物を
表わす。）で示されるアリルハライド誘導体とをアルカ
リ金属の水酸化物の存在下に反応させることを特徴とす
るビタミンＡの製造方法。 - 【請求項２】アルカリ金属の水酸化物が水酸化カリウム
である請求項１に記載の製造方法。 - 【請求項３】アルカリ金属の水酸化物が微粉末状である
請求項１に記載の製造方法。 - 【請求項４】アルカリ金属の水酸化物を有機溶媒中、ス
ラリー系にて反応させることを特徴とする請求項１−３
のいずれかに記載の製造方法。 - 【請求項５】相間移動触媒を共存させることを特徴とす
る請求項１−４のいずれかに記載の製造方法。 - 【請求項６】アリルハライド誘導体のＸ1とＸ2が同一で
ある請求項１−５のいずれかに記載の製造方法。 - 【請求項７】アリルハライド誘導体のＸ1とＸ2が共に臭
素原子である請求項１項１−５のいずれかに記載の製造
方法。 - 【請求項８】Ｒがアシル基である請求項１−６のいずれ
かに記載の製造方法。 - 【請求項９】Ｒがアセチル基である請求項１−６のいず
れかにに記載の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002036394A JP2003238528A (ja) | 2002-02-14 | 2002-02-14 | ビタミンａの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002036394A JP2003238528A (ja) | 2002-02-14 | 2002-02-14 | ビタミンａの製造方法 |
Publications (1)
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|---|---|
| JP2003238528A true JP2003238528A (ja) | 2003-08-27 |
Family
ID=27778291
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2002036394A Pending JP2003238528A (ja) | 2002-02-14 | 2002-02-14 | ビタミンａの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2003238528A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN114031534A (zh) * | 2021-11-19 | 2022-02-11 | 万华化学集团股份有限公司 | 一种高稳定性维生素a及其制备方法 |
-
2002
- 2002-02-14 JP JP2002036394A patent/JP2003238528A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN114031534A (zh) * | 2021-11-19 | 2022-02-11 | 万华化学集团股份有限公司 | 一种高稳定性维生素a及其制备方法 |
| CN114031534B (zh) * | 2021-11-19 | 2023-09-19 | 万华化学集团股份有限公司 | 一种高稳定性维生素a及其制备方法 |
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