JP2003221474A - 導電性部材 - Google Patents
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Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【課題】 電気的特性が均一で、低抵抗化が可能であ
り、しかも、被帯電部材に近接または接触させて被帯電
部材を帯電処理する際のイオン導電剤等による被帯電部
材の汚染が抑制された導電性部材を提供する。 【解決手段】 導電性部材は、導電性の芯金上に少なく
とも弾性体層を有し、前記弾性体層が、溶解度定数（Ｓ
Ｐ値）が１７．８〜２１．５（ＭＰａ） 1/2の原料ゴム
と、式（１）で表されるイオン導電剤と、式（２）で表
されるエステル系化合物とを含有するゴム組成物にて形
成される。 （式（１）中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３のうち１個は炭素数５
〜２４のアルキル基を示し、他の２個はそれぞれ独立に
炭素数が１〜５のアルキル基を示す。ｎ1は１〜１５の
整数を示す。） （式（２）中、Ｒ４、Ｒ５はそれぞれ独立に炭素数が１
〜２０のアルキル基を示す。ｎ2、ｎ3はそれぞれ独立に
１〜１０の整数を示し、ｍは２〜２０の整数を示す。）
り、しかも、被帯電部材に近接または接触させて被帯電
部材を帯電処理する際のイオン導電剤等による被帯電部
材の汚染が抑制された導電性部材を提供する。 【解決手段】 導電性部材は、導電性の芯金上に少なく
とも弾性体層を有し、前記弾性体層が、溶解度定数（Ｓ
Ｐ値）が１７．８〜２１．５（ＭＰａ） 1/2の原料ゴム
と、式（１）で表されるイオン導電剤と、式（２）で表
されるエステル系化合物とを含有するゴム組成物にて形
成される。 （式（１）中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３のうち１個は炭素数５
〜２４のアルキル基を示し、他の２個はそれぞれ独立に
炭素数が１〜５のアルキル基を示す。ｎ1は１〜１５の
整数を示す。） （式（２）中、Ｒ４、Ｒ５はそれぞれ独立に炭素数が１
〜２０のアルキル基を示す。ｎ2、ｎ3はそれぞれ独立に
１〜１０の整数を示し、ｍは２〜２０の整数を示す。）
Description
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、画像形成装置に用
いられる帯電部材、現像部材、転写部材などに好適な導
電性部材に関する。 【０００２】 【従来の技術】従来、複写機や光プリンタ等の電子写真
装置、静電記録装置などの画像形成装置において、感光
体や誘電体などの像担持体面を帯電処理する手段として
は、コロナ放電装置が利用されてきた。 【０００３】しかしながら、コロナ放電方式は、像担持
体などの被帯電体面を所定の電位に均一に帯電処理する
手段として有効であるものの、高価な高圧電源を必要と
する、装置が大型になる、放電の際にオゾンなどのコロ
ナ生成物の発生が多い、異常放電により被帯電体面が破
壊される等の不具合が発生する場合があった。 【０００４】このようなコロナ放電方式に対して、近年
では接触帯電方式が採用されつつある。接触帯電方式
は、電圧を印加した帯電する部材（帯電部材とも記載す
る）を被帯電体面に近接または接触させて、被帯電体面
を帯電処理するものである。接触帯電方式は、コロナ放
電方式に対して、オゾンなどのコロナ生成物の発生が少
ない、構造が簡単で低コスト化や装置の小型化が図れ
る、異常放電による被帯電体面の破壊が少ない等の利点
がある。 【０００５】接触帯電方式において、一般的には、金属
製の芯金の軸上に半導電性の弾性体層が形成されたゴム
ローラ型の帯電部材が使用される。 【０００６】接触帯電方式で用いられる帯電部材には、
感光体などの被帯電体表面のピンホールや傷などにより
生じるリークを防止するために、適度な半導電性、具体
的には電気抵抗１×１０3〜１×１０10Ω程度の半導電
性が必要である。また、被帯電体を均一に帯電させるた
めには、帯電部材の弾性体層が体積固有抵抗率で１×１
０3〜１×１０10Ω・ｃｍ程度の均一な半導電性である
ことが重要である。 【０００７】このような電気特性を実現するために、従
来、弾性体層は、カーボンブラック等の導電粒子が配合
され半導電化された電子導電系の半導電性ゴム組成物を
用いて作製されている。しかしながら、このような電子
導電系ゴム組成物は、原料ゴムに配合する導電粒子の添
加量によって電気抵抗を調整することができるが、体積
固有抵抗率が１×１０3〜１×１０9Ω・ｃｍ程度の半導
電領域においては、導電粒子の配合量の僅かな変化によ
り電気抵抗が大きく変化する場合がある。この場合、半
導電領域において均質な所望の電気抵抗値を示す弾性体
層を作製することが困難となり、帯電部材内および帯電
部材間で電気抵抗のバラツキが生じやすい。 【０００８】電気抵抗が均一な半導電性の弾性体層を得
る方法としては、エピクロルヒドリンゴムやアクリロニ
トリル−ブタジエン共重合体（ＮＢＲ）等のそれ自身が
半導電性を有する極性ゴム（イオン導電系ゴム）、ある
いは、原料ゴムにイオン導電剤を添加して半導電性を付
与したイオン導電系ゴム等により弾性体層を構成する方
法が知られている。 【０００９】例えば、特許文献１には、電子写真式複写
装置またはレーザープリンタ等に使用される帯電、転写
（中間転写）、現像、クリーニング等のローラ、ベル
ト、ブレード等に好適な導電性部材として、基材がＮＢ
Ｒ系ゴムを含有し、これにイオン導電性物質を添加して
なる導電性部材が開示されている。同公報には、導電性
部材の基材がＮＢＲ系ゴムを含有し、これにイオン導電
性物質を添加することにより、カーボン等のフィラー系
導電性物質のみの場合に比べて所定の電気抵抗に調整す
ることが非常に容易となると記載されている。また、同
公報には、基材中にＮＢＲ系ゴムとイオン導電性物質が
共存する場合にのみ、通電による電気抵抗の上昇を抑制
することができると記載されている。 【００１０】特許文献２には、導電性付与剤として特定
構造をもった第４級アンモニウム塩化合物を含有してな
る導電性材料、さらには、この第４級アンモニウム化合
物をポリウレタン等の高分子材料に添加混合してなる導
電性材料が開示されている。また、同公報には、上記の
導電性材料を用いてなる、電子写真装置において他部材
の帯電を制御する帯電制御用部材（帯電部材、現像部
材、転写部材など）が開示されている。同公報には、こ
の導電性材料は、導電性付与剤として上記の特定構造を
もった第４級アンモニウム塩化合物を用いたことによ
り、電気抵抗のばらつきが少ない上、樹脂基材との相溶
性に優れ、しみ出しが生じにくく他部材を汚染するよう
なことのないものであると記載されている。 【００１１】特許文献３には、軸体の外周に導電性弾性
体層が形成され、この導電性弾性体層の外周に、抵抗調
整層が形成された導電性ロールであって、上記抵抗調整
層が、（Ａ）エピクロルヒドリン−エチレンオキシド共
重合体、（Ｂ）アクリロニトリル−ブタジエンゴムおよ
びアクリルゴムの少なくとも一方、（Ｃ）第四級アンモ
ニウム塩などのイオン導電剤を主体とする組成物によっ
て形成されていることを特徴とする導電性ロールが開示
されている。同公報には、この導電性ロールは、電気抵
抗が全体に均一であり、長期間の使用によっても電気抵
抗の上昇が抑制され、良好な複写画像が得られると記載
されている。 【００１２】しかしながら、近年、電子写真装置におけ
るプロセススピードの向上と画質の高精細化に伴い、帯
電部材には、被帯電体を均一に帯電させる帯電能力のさ
らなる向上が要求されている。この帯電能力の向上のた
めには、帯電部材の電気抵抗をさらに低抵抗化すること
が必要である。 【００１３】一方で、帯電部材の低抵抗化は、被帯電体
表面にピンホールや傷などが生じた場合、その部分に電
荷が集中することによって帯電部材への印加電圧が低下
し、被帯電体への帯電不良が生じる、所謂リークが発生
するといった問題を伴うことがある。これまでに、優れ
た帯電能力とリーク防止とを十分に両立している帯電部
材は得られていなかった。 【００１４】また、帯電部材の低抵抗化のために、イオ
ン導電剤を弾性体層に多量に配合した場合、導電剤が感
光体などの被帯電部材に移行して被帯電部材の汚染を引
起こし、画像不良が発生する場合があった。 【００１５】 【特許文献１】特開平８−３２８３５１号公報 【特許文献２】特開平１１−２０９６３３号公報 【特許文献３】特許第２９６４８２１号公報 【００１６】 【発明が解決しようとする課題】本発明は、電気的特性
が均一で、低抵抗化が可能であり、しかも、被帯電部材
に近接または接触させて被帯電部材を帯電処理する際の
イオン導電剤等による被帯電部材の汚染が抑制された導
電性部材を提供することを目的とする。 【００１７】 【課題を解決するための手段】上記目的は、以下の本発
明により達成される。 （Ｉ）導電性の芯金上に少なくとも弾性体層を有し、前
記弾性体層が、溶解度定数（ＳＰ値）が１７．８〜２
１．５（ＭＰａ）1/2の原料ゴムと、下記式（１）で表
されるイオン導電剤と、下記式（２）で表されるエステ
ル系化合物とを含有するゴム組成物にて形成されるもの
である導電性部材。 【００１８】 【化３】 【００１９】（式（１）中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３のうち１
個は炭素数５〜２４のアルキル基を示し、他の２個はそ
れぞれ独立に炭素数が１〜５のアルキル基を示す。ｎ1
は１〜１５の整数を示す。） 【００２０】 【化４】 【００２１】（式（２）中、Ｒ４、Ｒ５はそれぞれ独立
に炭素数が１〜２０のアルキル基を示す。ｎ2、ｎ3はそ
れぞれ独立に１〜１０の整数を示し、ｍは２〜２０の整
数を示す。） 本発明の導電性部材は、特定の溶解度定数（ＳＰ値）を
有するベースポリマーに、上記式（１）で表される特定
構造のイオン導電剤と、上記式（２）で表される特定構
造のエステル系化合物とを配合したゴム組成物により弾
性体層が形成されているため、電気的特性が均一で、低
抵抗化が可能であり、しかも、帯電部材として用いる場
合に感光体などの被帯電部材のイオン導電剤による汚染
が抑制される。 【００２２】 【発明の実施の形態】＜第１の実施形態＞本発明の第１
の実施形態の導電性部材は、導電性の芯金上に少なくと
も弾性体層を有し、この弾性体層が、溶解度定数（ＳＰ
値）が１７．８〜２１．５（ＭＰａ）1/2の原料ゴム
と、上記式（１）で表されるイオン導電剤と、上記式
（２）で表されるエステル系化合物とを含有するゴム組
成物にて形成されるものである。この導電性部材は、電
気的特性が均一で、低抵抗化が可能であり、しかも、帯
電部材として用いる場合に感光体などの被帯電部材のイ
オン導電剤による汚染が抑制される。 【００２３】本発明の第１の実施形態の導電性部材にお
いて、弾性体層は半導電性層であることが好ましく、そ
の体積固有抵抗率は１×１０3〜１×１０10Ω・ｃｍで
あることが好ましい。弾性体層の体積固有抵抗率は１×
１０5Ω・ｃｍ以上であることがより好ましく、また、
１×１０8Ω・ｃｍ以下であることがより好ましい。 【００２４】また、温度２３℃、相対湿度５０％ＲＨの
環境下で、この導電性部材に電圧１０Ｖ印加時の電気抵
抗値をΩ10とし、温度２３℃、相対湿度５０％ＲＨの環
境下で、この導電性部材に電圧４００Ｖ印加時の電気抵
抗値をΩ400としたときに、 Ｌｏｇ（Ω10）−Ｌｏｇ（Ω400）＜０．５ の関係を満足し、かつ、 Ｌｏｇ（Ω10）＜７ の関係を満足することが好ましい。これらの関係を満足
することにより、優れた帯電能力とリーク防止とをより
十分に両立することができる。 【００２５】半導電性ゴムには、カーボンなどの導電粒
子をゴム中に分散させた電子導電系ゴムと、エピクロル
ヒドリンゴム等のそれ自身が半導電性を有する極性ゴム
にイオン導電剤を添加して半導電性を付与したイオン導
電系ゴムとの２種類がある。電子導電系の半導電性ゴム
は、電気伝導性が導電粒子間距離に大きく依存してお
り、導電粒子間の電荷は印加電圧が大きいほど電場効果
により伝わりやすくなるので、電気抵抗値の電圧依存性
が大きく、好ましくない。一方、イオン導電系の半導電
性ゴムは、電子導電系ゴムと比較して電気抵抗の電圧依
存性が小さく、電気抵抗の均一性も良好である。 【００２６】ただし、イオン導電系ゴムによって弾性体
層を形成する場合、導電性部材の電気抵抗を１０Ｖ印加
時に１×１０7Ω未満とするためには、弾性体層にイオ
ン導電剤を添加することが必要である。 【００２７】イオン導電剤の添加による抵抗低減効果に
は、添加するイオン導電剤の化学構造が大きく寄与して
いると考えられる。また、添加されたイオン導電剤が表
面に移行することなく、長期間に渡って安定した電気特
性を維持するには、イオン導電剤と弾性体層のベースポ
リマーとの相溶性が良好である必要がある。したがっ
て、下記式（１）で表される特定構造のイオン導電剤
を、溶解度定数（ＳＰ値）が１７．８〜２１．５（ＭＰ
ａ）1/2である特定種のベースポリマーに添加した場合
に、電気的特性が均一で、低抵抗化が可能であり、感光
体などの被帯電部材の汚染が抑制された導電性部材が得
られる。 【００２８】 【化５】 【００２９】（式（１）中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３のうち１
個は炭素数５〜２４のアルキル基を示し、他の２個はそ
れぞれ独立に炭素数が１〜５のアルキル基を示す。ｎ1
は１〜１５の整数を示す。） また、本発明において、上記式（１）で表されるイオン
導電剤と下記式（２）で表されるエステル系化合物とを
併用してベースポリマーに添加することにより、上記式
（１）で表されるイオン導電剤のみを添加する場合と比
較して、抵抗低減効果が大きくなり、また、イオン導電
剤の表面への移行性も大幅に抑制される。 【００３０】 【化６】 【００３１】（式（２）中、Ｒ４、Ｒ５はそれぞれ独立
に炭素数が１〜２０のアルキル基を示す。ｎ2、ｎ3はそ
れぞれ独立に１〜１０の整数を示し、ｍは２〜２０の整
数を示す。） このような効果が得られる理由については定かではない
が、上記式（２）で表されるエステル系化合物を併用す
ることにより上記式（１）で表されるイオン導電剤の分
散性が向上するために抵抗低減効果が大きくなり、ま
た、上記式（２）で表されるエステル系化合物がベース
ポリマーと上記式（１）で表されるイオン導電剤との相
溶化剤のように振舞うために相溶性が高まり、イオン導
電剤の表面への移行、被帯電部材の汚染が抑制されるも
のと推測される。 【００３２】本発明において用いられる原料ゴム（弾性
体層のベースポリマー）は、溶解度定数（Ｓｏｌｕｂｉ
ｌｉｔｙ Ｐａｒａｍｅｔｅｒ：ＳＰ値）が１７．８〜
２１．５（ＭＰａ）1/2のものである。原料ゴムのＳＰ
値が１７．８未満の場合でも、原料ゴムのＳＰ値が２
１．５超の場合でも、上記式（１）で表されるイオン導
電剤との相溶性が低下して、イオン導電剤の表面への移
行、さらには被帯電部材の汚染が発生しやすくなる。原
料ゴムのＳＰ値は１８．５（ＭＰａ）1/2以上であるこ
とが好ましい。また、原料ゴムのＳＰ値は２０．７（Ｍ
Ｐａ）1/2以下であることが好ましい。 【００３３】なお、本発明におけるＳＰ値は物質固有の
値であり、分子構造から分子を構成する原子団のモル吸
引力より算出するＳｍａｌｌの計算法により求めること
ができる。 【００３４】また、原料ゴムは、導電剤を含まない状態
で体積固有抵抗率が１×１０12Ω・ｃｍ以下であること
が好ましく、１×１０11Ω・ｃｍ以下であることがより
好ましい。導電剤を含まない状態の原料ゴムの体積固有
抵抗率がこの範囲であれば、イオン導電剤の配合量を比
較的少なく抑えて所望の弾性体層の体積抵抗値が得られ
る。また、導電剤を含まない状態の原料ゴムの体積固有
抵抗率の下限は特に規定されないが、通常、１×１０6
Ω・ｃｍ程度である。 【００３５】体積固有抵抗率が１×１０12Ω・ｃｍ以下
で、ＳＰ値が１７．８〜２１．５（ＭＰａ）1/2の原料
ゴムとしては、例えば、エピクロルヒドリンホモポリマ
ー（ＣＨＣ）、エピクロルヒドリン−エチレンオキサイ
ド共重合体（ＣＨＲ）、エピクロルヒドリン−エチレン
オキサイド−アリルグリシジルエーテル３元共重合体
（ＣＨＲ−ＡＧＥ）、アクリロニトリル−ブタジエン共
重合体（ＮＢＲ）、アクリロニトリル−ブタジエン共重
合体の水素添加物（Ｈ−ＮＢＲ）、アクリルゴム（ＡＣ
Ｍ、ＡＮＭ）、ウレタンゴム（Ｕ）等や、これらの２種
以上のブレンド物が挙げられる。なお、原料ゴムはこれ
らに限られず、また、１種を用いても、２種以上を併用
してもよい。 【００３６】原料ゴムとしては、中でも、アクリロニト
リル−ブタジエン共重合体（ＮＢＲ）を用いることが好
ましい。導電性部材の低抵抗化による帯電能力の向上
と、リーク防止との両立には、導電性部材の電気抵抗の
電圧依存性を小さくする必要があり、この点からアクリ
ロニトリル−ブタジエン共重合体（ＮＢＲ）を原料ゴム
として使用することが好ましい。また、電気抵抗の電圧
依存性に影響を与えない程度に他のゴムをＮＢＲにブレ
ンドして使用することもできる。その場合、原料ゴム中
のＮＢＲの含有量は２０質量部以上が好ましい。 【００３７】用いる原料ゴムのムーニー粘度は特に限定
されないが、通常、２０〜９０である。 【００３８】上記式（１）で表されるイオン導電剤にお
いて、式（１）中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３のいずれか１つは
炭素数５〜２４のアルキル基であり、炭素数が８〜１８
のアルキル基であることが好ましい。アルキル基は直鎖
状であっても分岐していてもよい。 【００３９】また、式（１）中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３の残
りの２つは、炭素数が１〜５のアルキル基であり、炭素
数が１〜２のアルキル基、すなわちメチル基またはエチ
ル基であることが好ましい。この残りの２つは、同一の
ものであってもよいし、異なるものであってもよい。 【００４０】式（１）中、ｎ1は１〜１５の整数であ
り、１〜８の整数であることが好ましい。 【００４１】上記式（１）で表されるイオン導電剤の含
有量は、原料ゴム１００質量部に対して０．５質量部以
上であることが好ましく、１質量部以上であることがよ
り好ましい。また、上記式（１）で表されるイオン導電
剤の含有量は、原料ゴム１００質量部に対して２０質量
部以下であることが好ましく、１０質量部以下であるこ
とがより好ましい。上記式（１）で表されるイオン導電
剤の含有量が原料ゴム１００質量部に対して０．５質量
部未満の場合、抵抗低減効果が十分には得られにくくな
る場合がある。一方、上記式（１）で表されるイオン導
電剤の含有量が原料ゴム１００質量部に対して２０質量
部超の場合、配合する原料ゴムや他の配合剤にもよる
が、イオン導電剤の表面への移行の可能性が大きくな
り、被帯電部材の汚染が発生しやすくなる傾向がある。 【００４２】上記式（２）で表されるエステル系化合物
において、式（２）中、Ｒ４、Ｒ５は、炭素数が１〜２
０のアルキル基であり、炭素数が２〜１０のアルキル基
であることが好ましい。アルキル基は直鎖状であっても
分岐していてもよい。Ｒ４、Ｒ５は、同一のものであっ
てもよいし、異なるものであってもよい。 【００４３】式（２）中、ｎ2、ｎ3は１〜１０の整数で
あり、１〜５の整数であることが好ましい。ｎ2、ｎ
3は、同一のものであってもよいし、異なるものであっ
てもよい。 【００４４】式（２）中、ｍは２〜２０の整数であり、
２〜８の整数であることが好ましい。 【００４５】上記式（２）で表されるエステル系化合物
は、イオン導電剤の表面への移行、被帯電部材の汚染が
十分に抑制される点から、分子量が３５０以上であるこ
とが好ましく、４００以上であることがより好ましい。
また、上記式（２）で表されるエステル系化合物の分子
量の上限は特に規定されないが、通常、６００以下が好
ましい。 【００４６】上記式（２）で表されるエステル系化合物
の含有量は、原料ゴム１００質量部に対して０．２質量
部以上であることが好ましく、１質量部以上であること
がより好ましい。また、上記式（２）で表されるエステ
ル系化合物の含有量は、原料ゴム１００質量部に対して
５０質量部以下であることが好ましく、３０質量部以下
であることがより好ましい。上記式（２）で表されるエ
ステル系化合物の含有量が原料ゴム１００質量部に対し
て０．２質量部未満の場合、本発明の効果が十分には得
られにくくなる場合がある。一方、上記式（２）で表さ
れるエステル系化合物の含有量が原料ゴム１００質量部
に対して５０質量部超の場合、イオン導電剤の表面への
移行の可能性が大きくなり、被帯電部材の汚染が発生し
やすくなる傾向がある。 【００４７】本発明の導電性部材の弾性体層は、溶解度
定数（ＳＰ値）が１７．８〜２１．５（ＭＰａ）1/2の
原料ゴムと、上記式（１）で表されるイオン導電剤と、
上記式（２）で表されるエステル系化合物とを含有する
ゴム組成物にて形成される。弾性体層を形成する際、上
記式（１）で表されるイオン導電剤と上記式（２）で表
されるエステル系化合物とを各々別々に原料ゴムに配合
してゴム組成物を調製してもよいが、上記式（１）で表
されるイオン導電剤と上記式（２）で表されるエステル
系化合物とを予め十分に混合し、この混合物を原料ゴム
に混合してゴム組成物を調製する方がより一層良好な結
果が得られるので好ましい。 【００４８】本発明の導電性部材の弾性体層を形成する
ためのゴム組成物には、さらに、分子量２０００以上で
あるポリエステル系可塑剤を含有させてもよい。ポリエ
ステル系可塑剤は、例えば、アジピン酸やセバシン酸な
どの二塩基酸とグリコールの重縮合体を基本構造とする
ものである。分子量が２０００以上である高分子量ポリ
エステル系可塑剤を同時に含有させることにより、上記
式（１）で表されるイオン導電剤、上記式（２）で表さ
れるエステル系化合物と原料ゴムとの相溶性はより高ま
り、イオン導電剤の表面への移行性がより小さくなって
被帯電部材の汚染の発生がより抑制される。 【００４９】イオン導電剤の表面への移行性は、含有さ
せるポリエステル系可塑剤の分子量が大きいほど小さく
なる傾向がある。そのため、用いるポリエステル系可塑
剤の分子量は４０００以上であることがより好ましい。
また、用いるポリエステル系可塑剤の分子量の上限は特
に規定されないが、通常、１００００程度である。 【００５０】分子量２０００以上であるポリエステル系
可塑剤の含有量は、高分子量ポリエステル系可塑剤を同
時に含有させる効果が十分に得られる点から、原料ゴム
１００質量部に対して１質量部以上が好ましく、３質量
部以上がより好ましい。また、分子量２０００以上であ
るポリエステル系可塑剤の含有量は、圧縮永久歪が大き
くなりすぎるのを防止できる等の点から、原料ゴム１０
０質量部に対して５０質量部以下が好ましく、１５質量
部以下がより好ましい。 【００５１】本発明における導電性部材の弾性体層に
は、必要に応じて、ゴムの配合剤として一般に用いられ
ている充填剤、加工助剤、架橋助剤、架橋促進剤、架橋
促進助剤、架橋遅延剤、粘着付与剤、分散剤、発泡剤な
どを添加することができる。 【００５２】これらのブレンド方法としては、バンバリ
ーミキサーや加圧式ニーダーといった密閉型混合機を使
用した混合方法や、オープンロールのような開放型の混
合機を使用した混合方法などを例示することができる。 【００５３】図１に、本発明の第１の実施形態の導電性
部材の一例の模式的断面図を示す。図１に示す導電性部
材（帯電ローラ）１０は、金属製の芯金１１の外周に、
弾性体層１２および表面被覆層１３が積層されている。 【００５４】通常、弾性体層の体積固有抵抗率は、帯電
バイアス電圧を感光体に印加することができるよう、１
×１０3〜１×１０10Ω・ｃｍ程度とされる。 【００５５】弾性体層の厚さは適宜決めればよいが、通
常、０．５〜１０ｍｍ程度とする。 【００５６】弾性体層の形成方法としては、未加硫の半
導電性ゴム組成物を押出機によりチューブ状に押出成形
し、これを加硫缶で加硫成形したものに芯金を圧入後、
表面を研磨して所望の外径とする方法；加硫後の半導電
性ゴム組成物を、クロスヘッドを装着した押出機によ
り、芯金を中心に円筒形に共押出し、所望の外径の金型
内部に固定、加熱し、成形体を得る方法；加硫前の半導
電性ゴム組成物を、クロスヘッドを装着した押出機によ
り、芯金を中心に円筒形に共押出し、所望の外径の金型
内部に固定、加熱して加硫し、成形体を得る方法などを
挙げることができる。なお、加硫は公知の方法に従って
行えばよい。加硫温度は、例えば、１４０〜２００℃程
度とすることができる。 【００５７】本発明の導電性部材の表面被覆層は、トナ
ーや紙粉などが導電性部材（帯電部材）表面に付着し、
感光体などの被帯電部材への帯電不良が発生するのを防
止するためのものである。表面被覆層は、一般的には、
アクリル樹脂、ポリウレタン、ポリアミド、ポリエステ
ル、ポリオレフィン、シリコーン樹脂等のバインダー高
分子に導電フィラー、例えば、カーボンブラック、グラ
ファイト、酸化チタン、酸化錫等の酸化物；Ｃｕ、Ａｇ
等の金属；酸化物や金属を粒子表面に被覆して導電化し
た導電粒子などを適量分散させることにより、１×１０
6〜１×１０12Ω・ｃｍ程度の電気抵抗率としたものが
用いられる。 【００５８】表面被覆層の厚さは適宜決めればよいが、
通常、１〜１００μｍ程度とする。 【００５９】表面被覆層の形成方法としては、上記のよ
うなバインダー高分子を溶剤に溶解または分散し、これ
に導電フィラーを分散させた液を、ディッピング、ビー
ム塗工、ロールコーター等の塗工法によって、弾性体層
表面にコーティングする方法；バインダー高分子中に導
電フィラーを練り込み、それを押出機などによって円筒
形状に成形したものを弾性体層に被覆する方法などを挙
げることができる。 【００６０】本発明の導電性部材の芯金としては、導電
性を示すものであれば特に限定されず、例えば、鉄、ア
ルミニウム、チタン、銅およびニッケル等の金属やこれ
らの金属を含むステンレス、ジュラルミン、真鍮および
青銅等の合金、あるいは、カーボンブラックや炭素繊維
をプラスチックで固めた複合材料などが挙げられる。ま
た、芯金の形状は、必要に応じて適宜決めればよい。 【００６１】芯金の体積抵抗率は、通常、１×１０-6〜
１×１０2Ω・ｃｍである。 【００６２】なお、本発明の導電性部材には、必要に応
じて、弾性体層や表面被覆層以外に、接着層、拡散防止
層、下地層、プライマー層などの機能層を設けることも
できる。また、弾性体層や表面被覆層を２層以上設ける
こともできる。 【００６３】＜第２の実施形態＞優れた帯電能力とリー
ク防止との両立においては、帯電能力の向上の点から導
電性部材（帯電部材）への印加電圧が１０Ｖ程度の比較
的低電圧での電気抵抗が低く、また、リーク防止の点か
ら印加電圧が４００Ｖ程度の高電圧での電気抵抗が高い
ものが良好である。 【００６４】本発明の第２の実施形態の導電性部材は、
良導電性の芯体上に半導電性の弾性体層を有する導電性
部材であって、温度２３℃、相対湿度５０％ＲＨの環境
下で、この導電性部材に電圧１０Ｖ印加時の電気抵抗値
をΩ10とし、温度２３℃、相対湿度５０％ＲＨの環境下
で、この導電性部材に電圧４００Ｖ印加時の電気抵抗値
をΩ400としたときに、 Ｌｏｇ（Ω10）−Ｌｏｇ（Ω400）＜０．５ の関係を満足し、かつ、 Ｌｏｇ（Ω10）＜７ の関係を満足するものである。 【００６５】ここで、「良導電性」とは、体積固有抵抗
率で１×１０-6〜１×１０2Ω・ｃｍであることを言
う。また、「半導電性」とは、体積固有抵抗率で１×１
０3〜１×１０12Ω・ｃｍであることを言う。 【００６６】この本発明の第２の実施形態の導電性部材
は、優れた帯電能力とリーク防止とが両立されており、
電圧を印加した帯電部材を被帯電体に接触させることに
より該被帯電体を帯電する帯電部材として好適である。
前述のように、帯電能力の向上には、導電性部材（帯電
部材）への印加電圧が１０Ｖ程度の比較的低電圧での電
気抵抗が低いものが良好である。また、リーク防止に
は、印加電圧が４００Ｖ程度の高電圧での電気抵抗が高
いものが良好である。したがって、優れた帯電能力とリ
ーク防止との両立のためには、導電性部材の電気抵抗の
電圧依存性を小さくする必要があり、その範囲は０．５
オーダー未満である。一方、帯電能力の向上には、導電
性部材の電気抵抗が１０Ｖ印加時に１×１０7Ω未満で
あることが必要である。 【００６７】前述の通り、半導電性ゴムには、カーボン
などの導電粒子をゴム中に分散させた電子導電系ゴム
と、エピクロルヒドリンゴム等のそれ自身が半導電性を
有する極性ゴムにイオン導電剤を添加して半導電性を付
与したイオン導電系ゴムとの２種類がある。電子導電系
の半導電性ゴムは、電気伝導性が導電粒子間距離に大き
く依存しており、導電粒子間の電荷は印加電圧が大きい
ほど電場効果により伝わりやすくなるので、電気抵抗値
の電圧依存性が大きく、好ましくない。一方、イオン導
電系の半導電性ゴムは、電子導電系ゴムと比較して電気
抵抗の電圧依存性が小さく、電気抵抗の均一性も良好で
ある。 【００６８】ただし、イオン導電系ゴムによって半導電
性層を形成する場合、導電性部材の電気抵抗を１０Ｖ印
加時に１×１０7Ω未満とするためには、半導電性層に
イオン導電剤を添加することが必要である。 【００６９】本発明の第２の実施形態の導電性部材にお
いては、半導電性の弾性体層のベースポリマー（原料ゴ
ム）として、導電性部材の電気抵抗の電圧依存性をより
小さくすることができる点から、アクリロニトリル−ブ
タジエン共重合体（ＮＢＲ）を使用することが好まし
い。また、電気抵抗の電圧依存性に影響を与えない程度
に他のゴムをＮＢＲにブレンドして使用することもでき
る。その場合、原料ゴム中のＮＢＲの含有量は２０質量
部以上が好ましい。 【００７０】本発明の第２の実施形態の導電性部材とし
ては、本発明の第１の実施形態の導電性部材が好まし
い。なお、この場合、弾性体層が半導電性の弾性体層と
なる。 【００７１】また、本発明の第２の実施形態の導電性部
材としては、中でも、良導電性の芯金上に少なくとも半
導電性の弾性体層を有し、前記弾性体層が電極層と抵抗
調整層とからなり、前記抵抗調整層が、アクリロニトリ
ル−ブタジエン共重合体（ＮＢＲ）を含む原料ゴム１０
０質量部に対して、下記式（１）で表されるイオン導電
剤を０．５〜２０質量部含有し、下記式（２）で表され
るエステル系化合物を１〜５０質量部含有するゴム組成
物にて形成されるものである導電性部材が好ましい。 【００７２】 【化７】 【００７３】（式（１）中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３のうち１
個は炭素数５〜２４のアルキル基を示し、他の２個はそ
れぞれ独立に炭素数が１〜５のアルキル基を示す。ｎ1
は１〜１５の整数を示す。） 【００７４】 【化８】 【００７５】（式（２）中、Ｒ４、Ｒ５はそれぞれ独立
に炭素数が１〜２０のアルキル基を示す。ｎ2、ｎ3はそ
れぞれ独立に１〜１０の整数を示し、ｍは２〜２０の整
数を示す。） この場合も、原料ゴム中のＮＢＲの含有量は２０質量部
以上が好ましい。 【００７６】用いる原料ゴムのムーニー粘度は特に限定
されないが、通常、２０〜９０である。 【００７７】この導電性部材は、ベースポリマーである
ＮＢＲに、上記式（１）で表される特定構造のイオン導
電剤と、上記式（２）で表される特定構造のエステル系
化合物とを配合したゴム組成物により弾性体層の抵抗調
整層が形成されているため、優れた帯電能力とリーク防
止とを十分に両立している上、帯電部材として用いる場
合に感光体などの被帯電部材のイオン導電剤による汚染
がより十分に抑制される。また、この導電性部材は、電
気的特性が均一で、低抵抗化が可能である。 【００７８】イオン導電剤の添加による抵抗低減効果に
は、添加するイオン導電剤の化学構造が大きく寄与して
いると考えられる。また、添加されたイオン導電剤が表
面に移行することなく、長期間に渡って安定した電気特
性を維持するには、イオン導電剤と抵抗調整層のベース
ポリマーであるＮＢＲとの相溶性が良好である必要があ
る。したがって、上記式（１）で表される特定構造のイ
オン導電剤を、特定種のベースポリマー（ＮＢＲ）に添
加した場合に、電気的特性が均一で、低抵抗化が可能で
あり、感光体などの被帯電部材の汚染が抑制された導電
性部材が得られる。 【００７９】また、本発明において、上記式（１）で表
されるイオン導電剤と上記式（２）で表されるエステル
系化合物とを併用してベースポリマー（ＮＢＲ）に添加
することにより、上記式（１）で表されるイオン導電剤
のみを添加する場合と比較して、抵抗低減効果が大きく
なり、また、イオン導電剤の表面への移行性も大幅に抑
制される。 【００８０】このような効果が得られる理由については
定かではないが、上記式（２）で表されるエステル系化
合物を併用することにより上記式（１）で表されるイオ
ン導電剤の分散性が向上するために抵抗低減効果が大き
くなり、また、上記式（２）で表されるエステル系化合
物がベースポリマーと上記式（１）で表されるイオン導
電剤との相溶化剤のように振舞うために相溶性が高ま
り、イオン導電剤の表面への移行、被帯電部材の汚染が
抑制されるものと推測される。 【００８１】上記式（１）で表されるイオン導電剤は、
本発明の第１の実施形態の導電性部材の弾性体層におい
て用いられる式（１）で表されるイオン導電剤と同様の
ものであり、好ましいものも同様である。 【００８２】上記式（１）で表されるイオン導電剤の含
有量は、原料ゴム１００質量部に対して０．５質量部以
上であることが好ましく、１質量部以上であることがよ
り好ましい。また、上記式（１）で表されるイオン導電
剤の含有量は、原料ゴム１００質量部に対して２０質量
部以下であることが好ましく、１０質量部以下であるこ
とがより好ましい。上記式（１）で表されるイオン導電
剤の含有量が原料ゴム１００質量部に対して０．５質量
部未満の場合、抵抗低減効果が十分には得られにくくな
る場合がある。一方、上記式（１）で表されるイオン導
電剤の含有量が原料ゴム１００質量部に対して２０質量
部超の場合、配合する原料ゴムや他の配合剤にもよる
が、イオン導電剤の表面への移行の可能性が大きくな
り、被帯電部材の汚染が発生しやすくなる傾向がある。 【００８３】また、上記式（２）で表されるエステル系
化合物も、本発明の第１の実施形態の導電性部材の弾性
体層において用いられる式（２）で表されるエステル系
化合物と同様のものであり、好ましいものも同様であ
る。 【００８４】上記式（２）で表されるエステル系化合物
の含有量は、原料ゴム１００質量部に対して０．２質量
部以上であることが好ましく、１質量部以上であること
がより好ましい。また、上記式（２）で表されるエステ
ル系化合物の含有量は、原料ゴム１００質量部に対して
５０質量部以下であることが好ましく、３０質量部以下
であることがより好ましい。上記式（２）で表されるエ
ステル系化合物の含有量が原料ゴム１００質量部に対し
て０．２質量部未満の場合、本発明の効果が十分には得
られにくくなる場合がある。一方、上記式（２）で表さ
れるエステル系化合物の含有量が原料ゴム１００質量部
に対して５０質量部超の場合、イオン導電剤の表面への
移行の可能性が大きくなり、被帯電部材の汚染が発生し
やすくなる傾向がある。 【００８５】本発明の導電性部材の抵抗調整層は、アク
リロニトリル−ブタジエン共重合体（ＮＢＲ）を含む原
料ゴムと、上記式（１）で表されるイオン導電剤と、上
記式（２）で表されるエステル系化合物とを含有するゴ
ム組成物にて形成される。弾性体層を形成する際、上記
式（１）で表されるイオン導電剤と上記式（２）で表さ
れるエステル系化合物とを各々別々に原料ゴムに配合し
てゴム組成物を調製してもよいが、上記式（１）で表さ
れるイオン導電剤と上記式（２）で表されるエステル系
化合物とを予め十分に混合し、この混合物を原料ゴムに
混合してゴム組成物を調製する方がより一層良好な結果
が得られるので好ましい。 【００８６】本発明の導電性部材の抵抗調整層を形成す
るためのゴム組成物には、さらに、分子量２０００以上
であるポリエステル系可塑剤を含有させてもよい。ポリ
エステル系可塑剤は、例えば、アジピン酸やセバシン酸
などの二塩基酸とグリコールの重縮合体を基本構造とす
るものである。分子量が２０００以上である高分子量ポ
リエステル系可塑剤を同時に含有させることにより、上
記式（１）で表されるイオン導電剤、上記式（２）で表
されるエステル系化合物と原料ゴムとの相溶性はより高
まり、イオン導電剤の表面への移行性がより小さくなっ
て被帯電部材の汚染の発生がより抑制される。 【００８７】イオン導電剤の表面への移行性は、含有さ
せるポリエステル系可塑剤の分子量が大きいほど小さく
なる傾向がある。そのため、用いるポリエステル系可塑
剤の分子量は４０００以上であることがより好ましい。
また、用いるポリエステル系可塑剤の分子量の上限は特
に規定されないが、通常、１００００程度である。 【００８８】分子量２０００以上であるポリエステル系
可塑剤の含有量は、高分子量ポリエステル系可塑剤を同
時に含有させる効果が十分に得られる点から、原料ゴム
１００質量部に対して１質量部以上が好ましく、３質量
部以上がより好ましい。また、分子量２０００以上であ
るポリエステル系可塑剤の含有量は、圧縮永久歪が大き
くなりすぎるのを防止できる等の点から、原料ゴム１０
０質量部に対して５０質量部以下が好ましく、１５質量
部以下がより好ましい。 【００８９】抵抗調整層の厚さは適宜決めればよいが、
通常、５０〜１０００μｍ程度とする。 【００９０】本発明の導電性部材の電極層は、イソプレ
ンゴム、ブタジエンゴム、スチレン−ブタジエンゴム、
エチレンプロピレンゴム、ブチルゴム、ポリノルボルネ
ンゴム、シリコーンゴム等の高分子に導電粒子を適量分
散させたものである。 【００９１】導電粒子としては公知のものいずれも用い
ることができるが、カーボンブラックが好ましい。導電
粒子であるカーボンブラックの電極層中の含有量は、通
常、原料ゴム１００質量部に対して、５〜２００質量部
であることが好ましい。 【００９２】通常、電極層の体積固有抵抗率は１×１０
3〜１×１０5Ω・ｃｍであることが好ましい。 【００９３】導電性部材（帯電部材）の弾性体層は、感
光体などの被帯電体を均一に帯電させるために、均一な
半導電性を有することに加え、被帯電体への均一な接触
を確保するために、低硬度であることが望ましい。 【００９４】一般に、低硬度な弾性体層を得るためには
可塑剤を配合する方法が採られるが、可塑剤を多量に配
合した場合、弾性体層の表面にこれらの可塑剤がブルー
ムすることによって感光体を汚染する場合がある。 【００９５】本発明においては、抵抗調整層を耐油性が
良好なＮＢＲとした場合、電極層に可塑剤を多量に配合
することができる。これは、電極層に配合された可塑剤
の表面へのブルームが抵抗調整層のオイルバリアー効果
によって抑制されるためである。従って、本発明におい
ては、電極層に可塑剤を多量に配合して低硬度化した場
合においても、感光体などの被帯電体の汚染を抑制する
ことができる。 【００９６】本発明において、電極層が、可塑剤とし
て、ＮＢＲへの膨潤性が小さいパラフィンオイル、ナフ
テンオイル、アロマオイル等の鉱物油系軟化剤を含有す
ることが好ましい。可塑剤は１種を用いても、２種以上
を併用してもよい。これらの可塑剤の電極層中の含有量
は、通常、原料ゴム１００質量部に対して、５〜２００
質量部であることが好ましい。 【００９７】また、導電性部材（帯電部材）に交流電圧
（ＡＣ）を印加して使用する場合においては、電界強度
の変化に伴う帯電部材と感光体などの被帯電体との間の
振動によって発生する帯電音を抑制する点から、電極層
が発泡ゴムを主成分とすることが好ましい。 【００９８】なお、原料ゴムの発泡は公知の方法に従っ
て行えばよい。発泡剤としては、例えば、ジニトロソペ
ンタメチレンテトラミン、アゾジカルボンアミド、パラ
トルエンスルフォニルヒドラジン、アゾビスイソブチロ
ニトリル、４，４’−オキシビスベンゼンスルフォニル
ヒドラジン等の有機発泡剤、または、重炭酸ソーダ等の
無機発泡剤等を用いることができる。 【００９９】電極層の厚さは適宜決めればよいが、通
常、０．５〜１０ｍｍ程度とする。 【０１００】本発明における導電性部材の弾性体層（電
極層・抵抗調整層）には、必要に応じて、ゴムの配合剤
として一般に用いられている充填剤、加工助剤、架橋助
剤、架橋促進剤、架橋促進助剤、架橋遅延剤、粘着付与
剤、分散剤、発泡剤などを添加することができる。 【０１０１】これらのブレンド方法としては、バンバリ
ーミキサーや加圧式ニーダーといった密閉型混合機を使
用した混合方法や、オープンロールのような開放型の混
合機を使用した混合方法などを例示することができる。 【０１０２】図２に、本発明の第２の実施形態の導電性
部材の一例の模式的断面図を示す。図２に示す導電性部
材（帯電ローラ）１０は、弾性体層１２を二層構成とし
たものであり、金属製の芯金１１の外周に、弾性体層１
２である電極層１２１および抵抗調整層１２２の二層
と、表面被覆層１３とが積層されている。 【０１０３】弾性体層である電極層、抵抗調整層の形成
方法としては、例えば、（i）加硫剤と必要に応じて発
泡剤とを配合した未加硫未発泡の電極層形成用ゴム組成
物と、加硫剤を配合した未加硫非発泡の抵抗調整層形成
用ゴム組成物とを同時に押し出すことにより、芯金の外
周上に電極層形成用ゴム組成物層と、その外側の抵抗調
整層形成用ゴム組成物層とを一体的に形成し、（ii）電
極層形成用ゴム組成物層と抵抗調整層形成用ゴム組成物
層とが外周上に形成された前記芯金を、この芯金を成形
金型内周面と同心軸上に保持するための蓋体を両端に有
する円筒状の成形金型に挿入した後、（iii）前記成形
金型に挿入した、電極層形成用ゴム組成物層と抵抗調整
層形成用ゴム組成物層とが外周上に形成された芯金を加
熱することにより、前記電極層形成用ゴム組成物層の加
硫および発泡と、前記抵抗調整層形成用ゴム組成物層の
加硫とを同時に行って、前記芯金の外周面上に電極層を
形成し、この電極層の外周面上に抵抗調整層を形成する
方法が挙げられる。 【０１０４】加硫および発泡は公知の方法に従って行え
ばよい。加硫温度は、例えば、１４０〜２００℃程度と
することができる。 【０１０５】また、前述の通り、予め上記式（１）で表
されるイオン導電剤と上記式（２）で表されるエステル
系化合物とを混合し、この混合物をアクリロニトリル−
ブタジエン共重合体（ＮＢＲ）を含む原料ゴムに混合し
て抵抗調整層形成用ゴム組成物を調製することが好まし
い。 【０１０６】図３に、上記の方法において成形に使用さ
れるクロスヘッド押出し機の模式図を示す。未加硫の電
極層形成用ゴム組成物と未加硫の抵抗調整層形成用ゴム
組成物は、それぞれ別々の押出機２１，２２を用いて送
られ、押出ヘッド２３において芯金の外周に積層され
る。 【０１０７】図４に、図３の押出ヘッド２３の模式的断
面図を示す。未加硫の電極層形成用ゴム組成物は図中矢
印３２の経路を通り、未加硫の抵抗調整層形成用ゴム組
成物は図中矢印３１の経路を通り、図中矢印３３より挿
入される芯金の外周に積層される。 【０１０８】なお、得られる円筒状の積層体の外径は、
ダイス３４の径を変えることによって、所望の大きさに
調整することができる。また、内側の電極層の厚さと外
側の抵抗調整層の厚さとは、各押し出し機２１，２２の
ゴム吐出量（スクリュー回転数）の比率によって調整す
ることができる。 【０１０９】図５に、上記の方法において加硫成形する
際に使用する成形金型の模式的断面図を示す。未加硫の
電極層形成用ゴム組成物層と抵抗調整層形成用ゴム組成
物層とを有する未加硫積層体は、芯金を成形金型内周面
と同心軸上に保持するための蓋体４１を両端に有する円
筒状の成形金型４２に挿入され、加熱により加硫と発泡
とを同時に行うことで、芯金の外周面上に発泡ゴムから
なる電極層、さらにこの電極層の外周面上に非発泡抵抗
調整層が形成される。 【０１１０】本発明の導電性部材の表面被覆層は、トナ
ーや紙粉などが導電性部材（帯電部材）表面に付着し、
感光体などの被帯電部材への帯電不良が発生するのを防
止するためのものである。表面被覆層は、一般的には、
アクリル樹脂、ポリウレタン、ポリアミド、ポリエステ
ル、ポリオレフィン、シリコーン樹脂等のバインダー高
分子に導電フィラー、例えば、カーボンブラック、グラ
ファイト、酸化チタン、酸化錫等の酸化物；Ｃｕ、Ａｇ
等の金属；酸化物や金属を粒子表面に被覆して導電化し
た導電粒子などを適量分散させることにより、１×１０
6〜１×１０12Ω・ｃｍ程度の電気抵抗率としたものが
用いられる。 【０１１１】表面被覆層の厚さは適宜決めればよいが、
通常、１〜１００μｍ程度とする。 【０１１２】表面被覆層の形成方法としては、上記のよ
うなバインダー高分子を溶剤に溶解または分散し、これ
に導電フィラーを分散させた液を、ディッピング、ビー
ム塗工、ロールコーター等の塗工法によって、弾性体層
表面にコーティングする方法；バインダー高分子中に導
電フィラーを練り込み、それを押出機などによって円筒
形状に成形したものを弾性体層に被覆する方法などを挙
げることができる。 【０１１３】本発明の導電性部材の芯金としては、導電
性を示すものであれば特に限定されず、例えば、鉄、ア
ルミニウム、チタン、銅およびニッケル等の金属やこれ
らの金属を含むステンレス、ジュラルミン、真鍮および
青銅等の合金、あるいは、カーボンブラックや炭素繊維
をプラスチックで固めた複合材料などが挙げられる。ま
た、芯金の形状は、必要に応じて適宜決めればよい。 【０１１４】芯金の体積抵抗率は、通常、１×１０-6〜
１×１０2Ω・ｃｍである。 【０１１５】なお、本発明の導電性部材には、必要に応
じて、弾性体層や表面被覆層以外に、接着層、拡散防止
層、下地層、プライマー層などの機能層を設けることも
できる。また、弾性体層である電極層、抵抗調整層や表
面被覆層を２層以上設けることもできる。 【０１１６】＜本発明の導電性部材の用途＞本発明の導
電性部材は、電子写真装置などの画像形成装置や、感光
体および帯電部材を一体的にカートリッジ化し、画像形
成装置本体に対して着脱可能としたプロセスカートリッ
ジにおいて、感光体などの被帯電部材に当接してして使
用される導電性部材、すなわち帯電部材などとして好適
である。 【０１１７】具体的には、少なくとも像担持体と、前記
像担持体に接触し、電圧の印加により前記像担持体を帯
電する帯電部材とが一体的に設けられてカートリッジ化
されており、画像形成装置本体に対して着脱可能である
プロセスカートリッジにおいて、前記帯電部材として本
発明の導電性部材を用いることが好ましい。特に、前記
帯電部材が、前記像担持体に当接し、電圧の印加により
前記像担持体上に形成された静電潜像にトナーを付着さ
せて現像し、トナー像を形成する現像部材である場合
に、前記帯電部材、すなわち現像部材として本発明の導
電性部材を用いることが好ましい。 【０１１８】また、少なくとも像担持体と、前記像担持
体に接触し、電圧の印加により前記像担持体を帯電する
帯電部材とを有する画像形成装置において、前記帯電部
材として本発明の導電性部材を用いることが好ましい。 【０１１９】また、少なくとも像担持体と、前記像担持
体の表面に形成されたトナー像を転写材に転写する転写
部材とを有する画像形成装置において、前記転写部材と
して本発明の導電性部材を用いることが好ましい。 【０１２０】図６に、本発明の導電性部材（帯電部材）
を有する電子写真装置の概略構成図を示す。 【０１２１】５１は被帯電体としての像担持体であり、
本例のものは、アルミニウム等の導電性支持体５１ｂと
その外周面に形成した感光層５１ａとを基本構成とする
ドラム型の電子写真感光体である。感光体５１は、支軸
５１ｃを中心に、図面上時計方向に所定の周速度をもっ
て回転駆動される。 【０１２２】１０はこの感光体５１面に接して感光体面
を所定の極性・電位に一様に一次帯電処理する帯電部材
であり、本例はローラタイプのものである。帯電ローラ
１０は、中心芯金１１と、その外周に形成した下層の弾
性体層１２と、さらにその外周に形成した上層の表面被
覆層１３とから成る。帯電ローラ１０は、芯金１１の両
端部を不図示の押圧手段で、感光体５１の回転駆動に伴
い従動回転する。 【０１２３】そして、電源５３で摺擦電源５３ａによ
り、芯金１１に所定の直流（ＤＣ）バイアス、あるい
は、直流＋交流（ＤＣ＋ＡＣ）バイアスが印加されるこ
とで、回転駆動している感光体５１の周面が所定の極性
・電位に接触帯電される。 【０１２４】帯電部材１０で均一に帯電処理を受けた感
光体５１面は、露光手段５４により目的画像情報の露光
（レーザービーム走査露光、原稿画像のスリット露光
等）を受けることで、その周面に目的の画像情報に対応
した静電潜像が形成される。 【０１２５】その静電潜像は、現像手段５５によりトナ
ー画像として順次に可視像化されていく。 【０１２６】このトナー画像は、転写手段５６により不
図示の給紙手段部から感光体５１の回転と同期取りされ
て適正なタイミングをもって感光体５１と転写手段５６
との間の転写部へ搬送された転写材５７面に順次転写さ
れていく。本例の転写手段５６は転写ローラであり、転
写材５７の裏からトナーと逆極性の帯電を行うことで、
感光体５１面側のトナー画像が転写材５７の表面側に転
写されていく。 【０１２７】トナー画像の転写を受けた転写材５７は感
光体５１面から分離されて不図示の像定着手段へ搬送さ
れ、像定着を受けて画像形成物として出力される。ある
いは、裏面にも像形成するものでは、転写部への再搬送
手段へ搬送される。 【０１２８】像転写後の感光体５１面はクリーニング手
段５８で転写残りトナー等の付着汚染物の除去を受け、
洗浄面化されて繰り返して作像に供される。 【０１２９】本発明の導電性部材は、図６の画像形成装
置に像担持体５１の帯電処理手段（帯電部材１０）とし
て装置したようなローラタイプ以外にも、ブレード状タ
イプ、ブロック状タイプ、ベルト状タイプ等の形態に構
成することができる。 【０１３０】ローラタイプの帯電部材１０は、面移動駆
動される被帯電体５１に従動駆動させてもよいし、非回
転のものとしてもよいし、被帯電体５１の面移動方向に
対し順方向または逆方向に所定の周速度をもって積極的
に回転駆動させるようにしてもよい。 【０１３１】また、光像露光は、電子写真装置を複写機
プリンタとして使用する場合には、原稿からの反射光や
透過光、あるいは、原稿を読み取り信号化し、この信号
に基づいてレーザービームを走査したり、ＬＥＤアレイ
を駆動したり、または、液晶シャッターアレイを駆動し
たりすること等により行われる。 【０１３２】本発明の導電性部材（帯電部材）を使用で
きる電子写真装置としては、複写機、レーザービームプ
リンタ、ＬＥＤプリンタ、あるいは、電子写真製版シス
テム等の電子写真応用装置などが挙げられる。 【０１３３】本発明の導電性部材は、現像用、転写用、
１次帯電用、除電用の他、給紙用ローラなどの搬送用と
して用いることができる。 【０１３４】また、本発明においては、図７に示すよう
に、感光体、帯電部材、現像手段およびクリーニング手
段のような電子写真装置の複数の要素がプロセスカート
リッジに一体的に組み込まれるようにすることもでき
る。そうすることにより、プロセスカートリッジは装置
本体に対して着脱可能とすることができる。図７に示す
プロセスカートリッジは、本発明の帯電部材１０、現像
手段５５およびクリーニング手段５８を感光体５１とと
もにプロセスカートリッジに一体的に組み込み、装置本
体のレールなどの案内手段を用いて着脱自在に装着でき
るように構成されている。 【０１３５】 【実施例】以下、実施例によって本発明をさらに詳細に
説明するが、これらは本発明を何ら限定するものではな
い。なお、以下特に明記しない限り、「部」は「質量
部」を意味しており、試薬等は特に指定のないものは市
販の高純度品を用いた。 【０１３６】＜実施例１＞ ゴムローラ１、帯電ローラ１ 原料ゴムとしてエピクロルヒドリン−エチレンオキサイ
ド−アリルグリシジルエーテル３元共重合体（ダイソー
社製、商品名：エピクロマーＣＧ１０２）１００部、加
工助剤としてステアリン酸１部、加硫促進助剤として酸
化亜鉛５部、充填剤として炭酸カルシウム（白石工業社
製、商品名：シルバーＷ）６０部、老化防止剤として
２，２’−メチレン−ビス−（４−エチル−６−ｔｅｒ
ｔ−ブチルフェノール）（大内新興化学製、商品名：ノ
クラックＮＳ−５）１部、イオン導電剤として、下記式
（１−１）で表されるＮ−ジオキシエチレン−Ｎ，Ｎ，
Ｎ−モノオクタデシルジメチルアンモニウムパークロレ
ートと、下記式（２−１）で表されるエーテル系化合物
であるアジピン酸ジヘキソキシエチル（分子量：４０
２）とを１：５（重量比）で混合した混合物６部、架橋
剤として硫黄０．３部、加硫促進剤としてジペンタメチ
レンチウラムテトラスルフィド（ＤＰＴＴ）２部をオー
プンロールにて混合し、未加硫ゴム組成物を得た。原料
ゴムのＳＰ値は１８．５（ＭＰａ）1/2であり、導電剤
を含まない状態の体積固有抵抗率は５×１０7Ω・ｃｍ
である。 【０１３７】 【化９】 【０１３８】 【化１０】 【０１３９】得られた未加硫ゴム組成物を厚さ２ｍｍの
シート成形金型にて１８０℃、１５分間プレス加硫を行
い、成形シートを得た。そして、この成形シートを用い
て体積抵抗率の測定を行った。体積抵抗率の測定は、日
本ゴム協会標準規格「ゴムおよびゴム状類似物の体積抵
抗率測定方法 ＳＲＩＳ−２３０４」に準拠して行っ
た。その結果、このゴム材料の体積抵抗率は２×１０7
Ω・ｃｍであった。 【０１４０】さらに、上記の未加硫ゴム組成物を、クロ
スヘッドを用いた押出成形によって、芯金（ＳＵＳ製、
直径６ｍｍ、長さ２４０ｍｍ；体積固有抵抗率７．０×
１０ -5Ω・ｃｍ）を中心として同軸状に円筒形に押出
し、端部を切断して仕込み形状を作製した。得られた仕
込み形状を有する、弾性体層となる未加硫ゴム組成物層
が外周上に形成された芯金を成形金型（内径１５ｍｍ）
内部に固定し、１８０℃で１５分間プレス加硫を行っ
た。脱型後、さらに電気炉によって１８０℃、３０分間
２次加硫を行った。その後、表面を研磨し、肉厚３ｍｍ
の弾性体層が形成されたゴムローラ１を得た。 【０１４１】図８に、得られたゴムローラ（帯電部材）
の電気抵抗測定装置の概略図を示す。帯電ローラ１０は
芯金１１の両端部を不図示の押圧手段で円柱状のアルミ
ドラム８１に圧接され、アルミドラム８１の回転駆動に
伴い従動回転する。この状態で、電源８２を用いて帯電
ローラ１０の芯金部分１１に直流電圧を印加し、アルミ
ドラム８１に直列に接続した基準抵抗８３にかかる電圧
から、帯電ローラ１０の電気抵抗を計算する。 【０１４２】図８に示す装置を使用し、２３℃、５０％
Ｒ．Ｈ．（Ｎ／Ｎとも記載する）環境下で、芯金と金属
ドラムの間に直流１００Ｖの電圧を印加してゴムローラ
１の弾性体層の電気抵抗を測定した。また、ゴムローラ
１を１回転させ、その間の電気抵抗の最大値および最小
値を測定し、最大値／最小値を周ムラとして表した。そ
の結果、ゴムローラ１の弾性体層のＮ／Ｎでの電気抵抗
は４×１０5Ω、周ムラは１．１倍であった。 【０１４３】次に、水中に分散させたポリウレタン溶液
に、ｐＨ５．５に調整した水中にその界面の電気的反発
力で分散させた導電性酸化錫スラリーを固形分比で４０
質量％相当分散して塗料を調製した。そして、得られた
塗料をゴムローラ１の弾性体層上にディッピングによっ
てコーティングして、膜厚４０μｍの表面被覆層を形成
した。これを電気炉にて１２０℃で３０分間加熱乾燥
し、両端部を切断してゴム長２２４ｍｍの帯電ローラ１
を得た。なお、表面被覆層の電気抵抗率は８．０×１０
11Ω・ｃｍであった。 【０１４４】以上のようにして得られた帯電ローラ１を
プロセスカートリッジ（ローラ両端５Ｎ荷重でφ３０ｍ
ｍの感光体に同軸上で圧接）に装着し、電子写真装置
（キヤノン株式会社製、レーザーショットＬＢＰ−３２
０）に組込んで画像形成を行い、初期画像評価を行っ
た。その結果、均質で良好な画像が得られた。 【０１４５】次に、このカートリッジを４０℃、９５％
Ｒ．Ｈ．の環境下で３０日間放置した後、もう一度、電
子写真装置に組込み、画像形成を行い、過酷環境放置後
の画像評価を行った。その結果、帯電ローラ１から感光
体への汚染物質の移行は確認されず、品位良好な画像が
得られた。 【０１４６】＜実施例２＞ ゴムローラ２、帯電ローラ２ 原料ゴムとしてエピクロルヒドリン−エチレンオキサイ
ド−アリルグリシジルエーテル３元共重合体（ダイソー
社製、商品名：エピクロマーＣＧ１０２）１００部、加
工助剤としてステアリン酸１部、加硫促進助剤として酸
化亜鉛５部、充填剤として炭酸カルシウム（白石工業社
製、商品名：シルバーＷ）６０部、老化防止剤として
２，２’−メチレン−ビス−（4−エチル−６−ｔｅｒ
ｔ−ブチルフェノール）（大内新興化学製、商品名：ノ
クラックＮＳ−５）１部、イオン導電剤として、下記式
（１−２）で表されるＮ−ヘキサオキシエチレン−Ｎ，
Ｎ，Ｎ−モノドデシルジメチルアンモニウムパークロレ
ートと、上記式（２−１）で表されるエーテル系化合物
であるアジピン酸ジヘキソキシエチルとを１：５（重量
比）で混合した混合物６部、架橋剤として硫黄０．３
部、加硫促進剤としてジペンタメチレンチウラムテトラ
スルフィド（ＤＰＴＴ）２部をオープンロールにて混合
し、未加硫ゴム組成物を得た。原料ゴムのＳＰ値は１
８．５（ＭＰａ）1/ 2であり、導電剤を含まない状態の
体積固有抵抗率は５×１０7Ω・ｃｍである。 【０１４７】 【化１１】 【０１４８】得られた未加硫ゴム組成物を用い、実施例
１と同様にして成形シートを作製し、体積抵抗率の測定
を行った。その結果、このゴム材料の体積抵抗率は１×
１０ 7Ω・ｃｍであった。 【０１４９】また、得られた未加硫ゴム組成物を用い、
実施例１と同様にしてゴムローラ２を作製し、弾性体層
の電気抵抗を測定した。その結果、ゴムローラ２の弾性
体層のＮ／Ｎでの電気抵抗は２×１０5Ω、周ムラは
１．１倍であった。 【０１５０】さらに、実施例１と同様にして、ゴムロー
ラ２の弾性体層上に表面被覆層を形成し、帯電ローラ２
を作製した。 【０１５１】作製した帯電ローラ２を実施例１と同様に
プロセスカートリッジに装着し、電子写真装置に組込ん
で画像形成を行い、初期画像評価を行った。その結果、
均質で良好な画像が得られた。 【０１５２】次に、このカートリッジを４０℃、９５％
Ｒ．Ｈ．の環境下で３０日間放置した後、もう一度、電
子写真装置に組込み、画像形成を行い、過酷環境放置後
の画像評価を行った。その結果、帯電ローラ２から感光
体への汚染物質の移行は確認されず、品位良好な画像が
得られた。 【０１５３】＜実施例３＞ ゴムローラ３、帯電ローラ３ 原料ゴムとしてアクリロニトリル−ブタジエン共重合体
（ＪＳＲ社製、商品名：Ｎ２３０ＳＶ）１００部、加工
助剤としてステアリン酸１部、加硫促進助剤として酸化
亜鉛５部、充填剤として炭酸カルシウム（白石工業社
製、商品名：シルバーＷ）１００部、老化防止剤として
２，２’−メチレン−ビス−（4−エチル−６−ｔｅｒ
ｔ−ブチルフェノール）（大内新興化学製、商品名：ノ
クラックＮＳ−５）２部、イオン導電剤として、上記式
（１−１）で表されるＮ−ジオキシエチレン−Ｎ，Ｎ，
Ｎ−モノオクタデシルジメチルアンモニウムパークロレ
ートと、上記式（２−１）で表されるエーテル系化合物
であるアジピン酸ジヘキソキシエチルと、可塑剤として
下記式（３−１）で表されるジオクチルフタレートとを
１：２：２（重量比）で混合した混合物２５部、架橋剤
として硫黄０．３部、加硫促進剤としてジペンタメチレ
ンチウラムテトラスルフィド（ＤＰＴＴ）２部をオープ
ンロールにて混合し、未加硫ゴム組成物を得た。原料ゴ
ムのＳＰ値は２０．７（ＭＰａ）1/2であり、導電剤を
含まない状態の体積固有抵抗率は３×１０10Ω・ｃｍで
ある。 【０１５４】 【化１２】 【０１５５】得られた未加硫ゴム組成物を用い、実施例
１と同様にして成形シートを作製し、体積抵抗率の測定
を行った。その結果、このゴム材料の体積抵抗率は４×
１０ 7Ω・ｃｍであった。 【０１５６】また、得られた未加硫ゴム組成物を用い、
実施例１と同様にしてゴムローラ３を作製し、弾性体層
の電気抵抗を測定した。その結果、ゴムローラ３の弾性
体層のＮ／Ｎでの電気抵抗は６×１０5Ω、周ムラは
１．２倍であった。 【０１５７】さらに、実施例１と同様にして、ゴムロー
ラ３の弾性体層上に表面被覆層を形成し、帯電ローラ３
を作製した。 【０１５８】作製した帯電ローラ３を実施例１と同様に
プロセスカートリッジに装着し、電子写真装置に組込ん
で画像形成を行い、初期画像評価を行った。その結果、
均質で良好な画像が得られた。 【０１５９】次に、このカートリッジを４０℃、９５％
Ｒ．Ｈ．の環境下で３０日間放置した後、もう一度、電
子写真装置に組込み、画像形成を行い、過酷環境放置後
の画像評価を行った。その結果、帯電ローラ３から感光
体への汚染物質の移行は確認されず、品位良好な画像が
得られた。 【０１６０】＜実施例４＞ ゴムローラ４、帯電ローラ４ 原料ゴムとしてアクリロニトリル−ブタジエン共重合体
（ＪＳＲ社製、商品名：Ｎ２３０ＳＶ）１００部、加工
助剤としてステアリン酸１部、加硫促進助剤として酸化
亜鉛５部、充填剤として炭酸カルシウム（白石工業社
製、商品名：シルバーＷ）１００部、老化防止剤として
２，２’−メチレン−ビス−（4−エチル−６−ｔｅｒ
ｔ−ブチルフェノール）（大内新興化学製、商品名：ノ
クラックＮＳ−５）２部、イオン導電剤として、上記式
（１−２）で表されるＮ−ヘキサオキシエチレン−Ｎ，
Ｎ，Ｎ−モノドデシルジメチルアンモニウムパークロレ
ートと、上記式（２−１）で表されるエーテル系化合物
であるアジピン酸ジヘキソキシエチルと、可塑剤として
下記式（３−２）で表されるジオクチルセバケートとを
７：１０：１０（重量比）で混合した混合物２７部、架
橋剤として硫黄０．３部、加硫促進剤としてジペンタメ
チレンチウラムテトラスルフィド（ＤＰＴＴ）２部をオ
ープンロールにて混合し、未加硫ゴム組成物を得た。原
料ゴムのＳＰ値は２０．７（ＭＰａ）1/2であり、導電
剤を含まない状態の体積固有抵抗率は３×１０10Ω・ｃ
ｍである。 【０１６１】 【化１３】 【０１６２】得られた未加硫ゴム組成物を用い、実施例
１と同様にして成形シートを作製し、体積抵抗率の測定
を行った。その結果、このゴム材料の体積抵抗率は１×
１０ 7Ω・ｃｍであった。 【０１６３】また、得られた未加硫ゴム組成物を用い、
実施例１と同様にしてゴムローラ４を作製し、弾性体層
の電気抵抗を測定した。その結果、ゴムローラ４の弾性
体層のＮ／Ｎでの電気抵抗は２×１０5Ω、周ムラは
１．２倍であった。 【０１６４】さらに、実施例１と同様にして、ゴムロー
ラ４の弾性体層上に表面被覆層を形成し、帯電ローラ４
を作製した。 【０１６５】作製した帯電ローラ４を実施例１と同様に
プロセスカートリッジに装着し、電子写真装置に組込ん
で画像形成を行い、初期画像評価を行った。その結果、
均質で良好な画像が得られた。 【０１６６】次に、このカートリッジを４０℃、９５％
Ｒ．Ｈ．の環境下で３０日間放置した後、もう一度、電
子写真装置に組込み、画像形成を行い、過酷環境放置後
の画像評価を行った。その結果、帯電ローラ４から感光
体への汚染物質の移行は確認されず、品位良好な画像が
得られた。 【０１６７】＜実施例５＞ ゴムローラ５、帯電ローラ５ 原料ゴムとしてエピクロルヒドリン−エチレンオキサイ
ド−アリルグリシジルエーテル３元共重合体（ダイソー
社製、商品名：エピクロマーＣＧ１０２）１００部、加
工助剤としてステアリン酸１部、加硫促進助剤として酸
化亜鉛５部、充填剤として炭酸カルシウム（白石工業社
製、商品名：シルバーＷ）７０部、老化防止剤として
２，２’−メチレン−ビス−（4−エチル−６−ｔｅｒ
ｔ−ブチルフェノール）（大内新興化学製、商品名：ノ
クラックＮＳ−５）１部、イオン導電剤として、上記式
（１−１）で表されるＮ−ジオキシエチレン−Ｎ，Ｎ，
Ｎ−モノオクタデシルジメチルアンモニウムパークロレ
ートと、上記式（２−１）で表されるエーテル系化合物
であるアジピン酸ジヘキソキシエチルとを１：２（重量
比）で混合した混合物３部、セバシン酸系ポリエステル
可塑剤（大日本インキ社製、商品名：ポリサイザーＰ−
２０２；分子量約８０００）５部、架橋剤として硫黄
０．３部、加硫促進剤としてジペンタメチレンチウラム
テトラスルフィド（ＤＰＴＴ）２部をオープンロールに
て混合し、未加硫ゴム組成物を得た。原料ゴムのＳＰ値
は１８．５（ＭＰａ）1/2であり、導電剤を含まない状
態の体積固有抵抗率は５×１０7Ω・ｃｍである。 【０１６８】得られた未加硫ゴム組成物を用い、実施例
１と同様にして成形シートを作製し、体積抵抗率の測定
を行った。その結果、このゴム材料の体積抵抗率は２×
１０ 7Ω・ｃｍであった。 【０１６９】また、得られた未加硫ゴム組成物を用い、
実施例１と同様にしてゴムローラ５を作製し、弾性体層
の電気抵抗を測定した。その結果、ゴムローラ５の弾性
体層のＮ／Ｎでの電気抵抗は３×１０5Ω、周ムラは
１．１倍であった。 【０１７０】さらに、実施例１と同様にして、ゴムロー
ラ５の弾性体層上に表面被覆層を形成し、帯電ローラ５
を作製した。 【０１７１】作製した帯電ローラ５を実施例１と同様に
プロセスカートリッジに装着し、電子写真装置に組込ん
で画像形成を行い、初期画像評価を行った。その結果、
均質で良好な画像が得られた。 【０１７２】次に、このカートリッジを４０℃、９５％
Ｒ．Ｈ．の環境下で３０日間放置した後、もう一度、電
子写真装置に組込み、画像形成を行い、過酷環境放置後
の画像評価を行った。その結果、帯電ローラ５から感光
体への汚染物質の移行は確認されず、品位良好な画像が
得られた。 【０１７３】＜比較例１＞ ゴムローラ６、帯電ローラ６ 原料ゴムとしてポリイソプレンゴム（日本ゼオン社製、
商品名：ＩＲ２２００）１００部、加工助剤としてステ
アリン酸１部、加硫促進助剤として酸化亜鉛５部、充填
剤として炭酸カルシウム（白石工業社製、商品名：シル
バーＷ）６０部、老化防止剤として２，２’−メチレン
−ビス−（4−エチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノー
ル）（大内新興化学製、商品名：ノクラックＮＳ−５）
２部、イオン導電剤として、上記式（１−１）で表され
るＮ−ジオキシエチレン−Ｎ，Ｎ，Ｎ−モノオクタデシ
ルジメチルアンモニウムパークロレートと、上記式（２
−１）で表されるエーテル系化合物であるアジピン酸ジ
ヘキソキシエチルとを１：１（重量比）で混合した混合
物２０部、架橋剤として硫黄０．３部、加硫促進剤とし
てジペンタメチレンチウラムテトラスルフィド（ＤＰＴ
Ｔ）２部をオープンロールにて混合し、未加硫ゴム組成
物を得た。 【０１７４】得られた未加硫ゴム組成物を用い、実施例
１と同様にして成形シートを作製し、体積抵抗率の測定
を行った。その結果、このゴム材料の体積抵抗率は３×
１０ 8Ω・ｃｍであった。 【０１７５】また、得られた未加硫ゴム組成物を用い、
実施例１と同様にしてゴムローラ６を作製し、弾性体層
の電気抵抗を測定した。その結果、ゴムローラ６の弾性
体層のＮ／Ｎでの電気抵抗は５×１０6Ω、周ムラは
１．３倍であった。 【０１７６】さらに、実施例１と同様にして、ゴムロー
ラ６の弾性体層上に表面被覆層を形成し、帯電ローラ６
を作製した。 【０１７７】作製した帯電ローラ６を実施例１と同様に
プロセスカートリッジに装着し、電子写真装置に組込ん
で画像形成を行い、初期画像評価を行った。その結果、
ローラ抵抗が高いことによる帯電不良と思われる砂地状
の不均質画像が得られた。 【０１７８】＜比較例２＞ ゴムローラ７、帯電ローラ７ 原料ゴムとしてアクリロニトリル−ブタジエン共重合体
（ＪＳＲ社製、商品名：Ｎ２３０ＳＶ）１００部、加工
助剤としてステアリン酸１部、加硫促進助剤として酸化
亜鉛５部、充填剤として炭酸カルシウム（白石工業社
製、商品名：シルバーＷ）１００部、老化防止剤として
２，２’−メチレン−ビス−（4−エチル−６−ｔｅｒ
ｔ−ブチルフェノール）（大内新興化学製、商品名：ノ
クラックＮＳ−５）２部、イオン導電剤として、下記式
（４）で表されるステアリルトリメチルアンモニウムク
ロライドと、上記式（２−１）で表されるエーテル系化
合物であるアジピン酸ジヘキソキシエチルと、可塑剤と
して上記式（３−２）で表されるジオクチルセバケート
とを１：２：２（重量比）で混合した混合物２５部、架
橋剤として硫黄０．３部、加硫促進剤としてジペンタメ
チレンチウラムテトラスルフィド（ＤＰＴＴ）２部をオ
ープンロールにて混合し、未加硫ゴム組成物を得た。 【０１７９】 【化１４】【０１８０】得られた未加硫ゴム組成物を用い、実施例
１と同様にして成形シートを作製し、体積抵抗率の測定
を行った。その結果、このゴム材料の体積抵抗率は４×
１０ 8Ω・ｃｍであった。 【０１８１】また、得られた未加硫ゴム組成物を用い、
実施例１と同様にしてゴムローラ７を作製し、弾性体層
の電気抵抗を測定した。その結果、ゴムローラ７の弾性
体層のＮ／Ｎでの電気抵抗は７×１０6Ω、周ムラは
１．１倍であった。 【０１８２】さらに、実施例１と同様にして、ゴムロー
ラ７の弾性体層上に表面被覆層を形成し、帯電ローラ７
を作製した。 【０１８３】作製した帯電ローラ７を実施例１と同様に
プロセスカートリッジに装着し、電子写真装置に組込ん
で画像形成を行い、初期画像評価を行った。その結果、
ローラ抵抗が高いことによる帯電不良と思われる砂地状
の不均質画像が得られた。 【０１８４】＜比較例３＞ ゴムローラ８、帯電ローラ８ 原料ゴムとしてアクリロニトリル−ブタジエン共重合体
（ＪＳＲ社製、商品名：Ｎ２３０ＳＶ）１００部、加工
助剤としてステアリン酸１部、加硫促進助剤として酸化
亜鉛５部、充填剤として炭酸カルシウム（白石工業社
製、商品名：シルバーＷ）１００部、老化防止剤として
２，２’−メチレン−ビス−（4−エチル−６−ｔｅｒ
ｔ−ブチルフェノール）（大内新興化学製、商品名：ノ
クラックＮＳ−５）２部、イオン導電剤として、下記式
（５）で表されるトリフルオロメタンスルホン酸リチウ
ムと、上記式（２−１）で表されるエーテル系化合物で
あるアジピン酸ジヘキソキシエチルと、可塑剤として上
記式（３−２）で表されるジオクチルセバケートとを
１：２：２（重量比）で混合した混合物２５部、架橋剤
として硫黄０．３部、加硫促進剤としてジペンタメチレ
ンチウラムテトラスルフィド（ＤＰＴＴ）２部をオープ
ンロールにて混合し、未加硫ゴム組成物を得た。 【０１８５】 【化１５】 【０１８６】得られた未加硫ゴム組成物を用い、実施例
１と同様にして成形シートを作製し、体積抵抗率の測定
を行った。その結果、このゴム材料の体積抵抗率は１×
１０ 8Ω・ｃｍであった。 【０１８７】また、得られた未加硫ゴム組成物を用い、
実施例１と同様にしてゴムローラ８を作製し、弾性体層
の電気抵抗を測定した。その結果、ゴムローラ８の弾性
体層のＮ／Ｎでの電気抵抗は２×１０6Ω、周ムラは
１．２倍であった。 【０１８８】さらに、実施例１と同様にして、ゴムロー
ラ８の弾性体層上に表面被覆層を形成し、帯電ローラ８
を作製した。 【０１８９】作製した帯電ローラ８を実施例１と同様に
プロセスカートリッジに装着し、電子写真装置に組込ん
で画像形成を行い、初期画像評価を行った。その結果、
ローラ抵抗が高いことによる帯電不良と思われる砂地状
の不均質画像が得られた。 【０１９０】＜比較例４＞ ゴムローラ９、帯電ローラ９ 原料ゴムとしてエチレン−プロピレン−ジエン３元共重
合体（三井石油化学社製、商品名：ＥＰＴ４０４５）１
００部、加工助剤としてステアリン酸１部、加硫促進助
剤として酸化亜鉛５部、充填剤としてＳＲＦカーボンブ
ラック（旭カーボン社製、商品名：旭#３５）４０部、
導電剤としてケッチェンブラック（ケッチェンブラック
インターナショナル社製、商品名：ケッチェンブラック
ＥＣ６００ＪＤ）７部、可塑剤としてパラフィンオイル
（出光興産社製、商品名：ＰＷ−３８０）５０部、架橋
剤として硫黄０．５部、加硫促進剤としてジペンタメチ
レンチウラムテトラスルフィド（ＤＰＴＴ）１部、２−
メルカプトベンゾチアゾール（ＭＢＴ）２部をオープン
ロールにて混合し、未加硫ゴム組成物を得た。 【０１９１】得られた未加硫ゴム組成物を用い、実施例
１と同様にして成形シートを作製し、体積抵抗率の測定
を行った。その結果、このゴム材料の体積抵抗率は１×
１０ 7Ω・ｃｍであった。 【０１９２】また、得られた未加硫ゴム組成物を用い、
実施例１と同様にしてゴムローラ９を作製し、弾性体層
の電気抵抗を測定した。その結果、ゴムローラ９の弾性
体層のＮ／Ｎでの電気抵抗は２×１０5Ω、周ムラは
１．８倍であった。 【０１９３】さらに、実施例１と同様にして、ゴムロー
ラ９の弾性体層上に表面被覆層を形成し、帯電ローラ９
を作製した。 【０１９４】作製した帯電ローラ９を実施例１と同様に
プロセスカートリッジに装着し、電子写真装置に組込ん
で画像形成を行い、初期画像評価を行った。その結果、
ローラの電気抵抗に周ムラが大きいことによると思われ
るローラ周ピッチの不均質画像が得られた。 【０１９５】＜比較例５＞ ゴムローラ１０、帯電ローラ１０ 原料ゴムとしてエピクロルヒドリン−エチレンオキサイ
ド−アリルグリシジルエーテル３元共重合体（ダイソー
社製、商品名：エピクロマーＣＧ１０２）１００部、加
工助剤としてステアリン酸１部、加硫促進助剤として酸
化亜鉛５部、充填剤として炭酸カルシウム（白石工業社
製、商品名：シルバーＷ）６０部、老化防止剤として
２，２’−メチレン−ビス−（4−エチル−６−ｔｅｒ
ｔ−ブチルフェノール）（大内新興化学製、商品名：ノ
クラックＮＳ−５）１部、イオン導電剤として、上記式
（５）で表されるトリフルオロメタンスルホン酸リチウ
ムと、上記式（２−１）で表されるエーテル系化合物で
あるアジピン酸ジヘキソキシエチルとを１：５（重量
比）で混合した混合物６部、架橋剤として硫黄０．３
部、加硫促進剤としてジペンタメチレンチウラムテトラ
スルフィド（ＤＰＴＴ）２部をオープンロールにて混合
し、未加硫ゴム組成物を得た。 【０１９６】得られた未加硫ゴム組成物を用い、実施例
１と同様にして成形シートを作製し、体積抵抗率の測定
を行った。その結果、このゴム材料の体積抵抗率は２×
１０ 7Ω・ｃｍであった。 【０１９７】また、得られた未加硫ゴム組成物を用い、
実施例１と同様にしてゴムローラ１０を作製し、弾性体
層の電気抵抗を測定した。その結果、ゴムローラ１０の
弾性体層のＮ／Ｎでの電気抵抗は４×１０5Ω、周ムラ
は１．２倍であった。 【０１９８】さらに、実施例１と同様にして、ゴムロー
ラ１０の弾性体層上に表面被覆層を形成し、帯電ローラ
１０を作製した。 【０１９９】作製した帯電ローラ１０を実施例１と同様
にプロセスカートリッジに装着し、電子写真装置に組込
んで画像形成を行い、初期画像評価を行った。その結
果、均質で良好な画像が得られた。 【０２００】次に、このカートリッジを４０℃、９５％
Ｒ．Ｈ．の環境下で３０日間放置した後、もう一度、電
子写真装置に組込み、画像形成を行い、過酷環境放置後
の画像評価を行った。その結果、帯電ローラ１０から感
光体への汚染物質の移行と思われる画像不良が見られ
た。 【０２０１】＜比較例６＞ ゴムローラ１１、帯電ローラ１１ 原料ゴムとしてアクリロニトリル−ブタジエン共重合体
（ＪＳＲ社製、商品名：Ｎ２３０ＳＶ）１００部、加工
助剤としてステアリン酸１部、加硫促進助剤として酸化
亜鉛５部、充填剤として炭酸カルシウム（白石工業社
製、商品名：シルバーＷ）１００部、老化防止剤として
２，２’−メチレン−ビス−（4−エチル−６−ｔｅｒ
ｔ−ブチルフェノール）（大内新興化学製、商品名：ノ
クラックＮＳ−５）２部、イオン導電剤として、上記式
（１−１）で表されるＮ−ジオキシエチレン−Ｎ，Ｎ，
Ｎ−モノオクタデシルジメチルアンモニウムパークロレ
ートと、可塑剤として上記式（３−２）で表されるジオ
クチルセバケートとを７：２０（重量比）で混合した混
合物２７部、架橋剤として硫黄０．３部、加硫促進剤と
してジペンタメチレンチウラムテトラスルフィド（ＤＰ
ＴＴ）２部をオープンロールにて混合し、未加硫ゴム組
成物を得た。 【０２０２】得られた未加硫ゴム組成物を用い、実施例
１と同様にして成形シートを作製し、体積抵抗率の測定
を行った。その結果、このゴム材料の体積抵抗率は１×
１０ 7Ω・ｃｍであった。 【０２０３】また、得られた未加硫ゴム組成物を用い、
実施例１と同様にしてゴムローラ１１を作製し、弾性体
層の電気抵抗を測定した。その結果、ゴムローラ１１の
弾性体層のＮ／Ｎでの電気抵抗は２×１０5Ω、周ムラ
は１．２倍であった。 【０２０４】さらに、実施例１と同様にして、ゴムロー
ラ１１の弾性体層上に表面被覆層を形成し、帯電ローラ
１１を作製した。 【０２０５】作製した帯電ローラ１１を実施例１と同様
にプロセスカートリッジに装着し、電子写真装置に組込
んで画像形成を行い、初期画像評価を行った。その結
果、均質で良好な画像が得られた。 【０２０６】次に、このカートリッジを４０℃、９５％
Ｒ．Ｈ．の環境下で３０日間放置した後、もう一度、電
子写真装置に組込み、画像形成を行い、過酷環境放置後
の画像評価を行った。その結果、帯電ローラ１１から感
光体への汚染物質の移行と思われる画像不良が見られ
た。 【０２０７】以上の評価結果を表１、２にまとめて示
す。 【０２０８】 【表１】【０２０９】 【表２】 【０２１０】なお、表中の初期画像評価・過酷放置後の
画像評価については、良好な画像が得られたものを○；
画像不良が見られたものを×とした。また、表中の総合
評価については、ゴムローラの弾性層の電気抵抗の周ム
ラが１．２倍以下で、初期画像評価・過酷放置後の画像
評価が共に良好なものを○；それ以外のものを×とし
た。 【０２１１】比較例１の帯電ローラ６は、原料ゴムがＳ
Ｐ値の低いイソプレンゴム（ＳＰ値：１７．０（ＭＰ
ａ）1/2））であるため、イオン導電剤を多量に配合し
てもローラの電気抵抗が高く、帯電能力が低い。 【０２１２】比較例２の帯電ローラ７、比較例３の帯電
ローラ８は、イオン導電剤が本発明の構造とは異なって
いるため、ローラの電気抵抗が高く、帯電能力が低い。 【０２１３】比較例４の帯電ローラ９は、絶縁性のＥＰ
ＤＭにカーボンブラックを添加して電気抵抗の調整を行
った電子導電系ゴムによる帯電ローラであるため、ロー
ラの電気抵抗に周ムラが大きいことによる、ローラ周ピ
ッチの不均質画像が発生した。 【０２１４】比較例５の帯電ローラ１０は、イオン導電
剤の構造が本発明の構造とは異なっているため、感光体
への移行物質による画像不良が認められた。 【０２１５】比較例６の帯電ローラ１１は、エステル系
化合物の構造が本発明の構造とは異なっているため、感
光体への移行物質による画像不良が認められた。 【０２１６】表１、２から明らかなように、本発明のゴ
ムローラ１〜５、帯電ローラ１〜５については、弾性層
の電気抵抗の周ムラは１．２倍以下、初期画像・過酷放
置後の画像評価は共に良好であった。 【０２１７】＜実施例６＞ 帯電ローラ１２ 原料ゴムとしてエチレン−プロピレン−ジエン３元共重
合体（三井石油化学社製、商品名：ＥＰＴ４０４５）１
００部、加工助剤としてステアリン酸１部、加硫促進助
剤として酸化亜鉛５部、充填剤としてＳＲＦカーボンブ
ラック（旭カーボン社製、商品名：旭#３５）５０部、
導電剤としてケッチェンブラック（ケッチェンブラック
インターナショナル社製、商品名：ケッチェンブラック
ＥＣ６００ＪＤ）１０部、可塑剤としてパラフィンオイ
ル（出光興産社製、商品名：ＰＷ−３８０）５０部、架
橋剤として硫黄０．５部、加硫促進剤として２−メルカ
プトベンゾチアゾール（ＭＢＴ）２部、テトラメチルチ
ウラムジスルフィド（ＴＭＴＤ）１部、ジブチルジチオ
カルバミン酸亜鉛（ＺｎＢＤＣ）１部、発泡剤としてア
ゾジカルボンアミド（ＡＤＣＡ）４部と４，４’−オキ
シビスベンゼンスルフォニルヒドラジン（ＯＢＳＨ）４
部をオープンロールにて混合し、電極層形成用未加硫ゴ
ム組成物を得た。 【０２１８】原料ゴムとしてアクリロニトリル−ブタジ
エン共重合体（ＪＳＲ社製、商品名：Ｎ２３０ＳＶ）１
００部、加工助剤としてステアリン酸１部、加硫促進助
剤として酸化亜鉛５部、充填剤として炭酸カルシウム
（白石工業社製、商品名：シルバーＷ）１００部、老化
防止剤として２，２’−メチレン−ビス−（4−エチル
−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）（大内新興化学
製、商品名：ノクラックＮＳ−５）２部、イオン導電剤
として、上記式（１−１）で表されるＮ−ジオキシエチ
レン−Ｎ，Ｎ，Ｎ−モノオクタデシルジメチルアンモニ
ウムパークロレートと、上記式（２−１）で表されるエ
ーテル系化合物であるアジピン酸ジヘキソキシエチルと
を１：４（重量比）で混合した混合物２５部、架橋剤と
して硫黄０．３部、加硫促進剤としてジペンタメチレン
チウラムテトラスルフィド（ＤＰＴＴ）２部をオープン
ロールにて混合し、抵抗調整層形成用未加硫ゴム組成物
を得た。 【０２１９】得られた２種類の未加硫ゴム組成物を、図
３に示したクロスヘッドを用いた押出成形によって、芯
金（ＳＵＳ製、直径６ｍｍ、長さ２４０ｍｍ；体積固有
抵抗率７×１０-5Ω・ｃｍ）を中心として同軸状に円筒
形に同時に押出し、端部を切断して、芯金の外周に未加
硫の電極層と抵抗調整層を積層した仕込み形状を作製し
た。得られた仕込み形状を有する、電極層形成用ゴム組
成物層と抵抗調整層形成用ゴム組成物層とが外周上に形
成された芯金を、図５に示した成形金型（内径１２ｍ
ｍ）内部に固定し、１８０℃で１５分間加硫を行った。
脱型後、さらに電気炉によって１８０℃、３０分間２次
加硫を行い、肉厚３ｍｍの弾性体層が形成されたゴムロ
ーラを得た。この時、弾性体層の断面より測定した抵抗
調整層の厚さは４００μｍであった。なお、抵抗調整層
の体積固有抵抗率は８．０×１０6Ω・ｃｍであり、電
極層の体積固有抵抗率は１×１０4Ω・ｃｍであった。 【０２２０】次に、水中に分散させたポリウレタン溶液
に、ｐＨ５．５に調整した水中にその界面の電気的反発
力で分散させた導電性酸化錫スラリーを固形分比で４０
質量％相当分散して塗料を調製した。そして、得られた
塗料をゴムローラの弾性体層上にディッピングによって
コーティングして、膜厚４０μｍの表面被覆層を形成し
た。これを電気炉にて１２０℃で３０分間加熱乾燥し、
両端部を切断してゴム長２２４ｍｍの帯電ローラ１２を
得た。なお、表面被覆層の電気抵抗率は８．０×１０11
Ω・ｃｍであった。 【０２２１】図８に示した電気抵抗測定装置を使用し、
２３℃、５０％Ｒ．Ｈ．（Ｎ／Ｎとも記載する）環境下
で、芯金と金属ドラムの間に直流１０Ｖおよび４００Ｖ
の電圧を印加して帯電ローラ１２の電気抵抗を測定し
た。その結果、帯電ローラ１２のＮ／Ｎでの電気抵抗は
１０Ｖ印加時で３×１０6Ω、４００Ｖ印加時で２×１
０6Ωであった。 【０２２２】また、得られた帯電ローラ１２をプロセス
カートリッジ（ローラ両端５Ｎ荷重でφ３０ｍｍの感光
体に同軸上で圧接）に装着し、電子写真装置（キヤノン
株式会社製、レーザーショットＬＢＰ−４７０）に組込
んで画像形成を行い、初期画像評価を行った。その結
果、均質で良好な画像が得られた。 【０２２３】次に、このカートリッジのＯＰＣ感光体に
約φ０．３ｍｍのピンホールを形成した物を用いて画像
形成・評価を行い、リーク性の評価を行った。その結
果、リークによる画像不良は認められなかった。 【０２２４】また、初期画像評価を実施した物と同様の
カートリッジを４０℃、９５％Ｒ．Ｈ．の環境下で３０
日間放置した後、もう一度、電子写真装置に組込み、画
像形成を行い、過酷環境放置後の画像評価を行った。そ
の結果、帯電ローラ１２から感光体への汚染物質の移行
は確認されず、品位良好な画像が得られた。 【０２２５】＜実施例７＞ 帯電ローラ１３ 原料ゴムとしてアクリロニトリル−ブタジエン共重合体
（ＪＳＲ社製、商品名：Ｎ２３０ＳＶ）１００部、加工
助剤としてステアリン酸１部、加硫促進助剤として酸化
亜鉛５部、充填剤として炭酸カルシウム（白石工業社
製、商品名：シルバーＷ）１００部、老化防止剤として
２，２’−メチレン−ビス−（4−エチル−６−ｔｅｒ
ｔ−ブチルフェノール）（大内新興化学製、商品名：ノ
クラックＮＳ−５）２部、イオン導電剤として、上記式
（１−２）で表されるＮ−ヘキサオキシエチレン−Ｎ，
Ｎ，Ｎ−モノドデシルジメチルアンモニウムパークロレ
ートと、上記式（２−１）で表されるエーテル系化合物
であるアジピン酸ジヘキソキシエチルとを１：４（重量
比）で混合した混合物２５部、架橋剤として硫黄０．３
部、加硫促進剤としてジペンタメチレンチウラムテトラ
スルフィド（ＤＰＴＴ）２部をオープンロールにて混合
し、抵抗調整層形成用未加硫ゴム組成物を得た。 【０２２６】得られた抵抗調整層形成用未加硫ゴム組成
物を使用した以外は、実施例６と同様にして帯電ローラ
１３を作製した。なお、抵抗調整層の体積固有抵抗率は
１×１０7Ω・ｃｍであった。 【０２２７】実施例６と同様にして、作製した帯電ロー
ラ１３の電気抵抗を測定した結果、Ｎ／Ｎでの電気抵抗
は１０Ｖ印加時で４×１０6Ω、４００Ｖ印加時で３×
１０6Ωであった。 【０２２８】さらに、実施例６と同様にして、この帯電
ローラ１３をプロセスカートリッジに装着し、電子写真
装置に組込んで画像形成を行い、初期画像評価を行っ
た。その結果、均質で良好な画像が得られた。 【０２２９】次に、このカートリッジのＯＰＣ感光体に
約φ０．３ｍｍのピンホールを形成した物を用いて画像
形成・評価を行い、リーク性の評価を行った。その結
果、リークによる画像不良は認められなかった。 【０２３０】また、初期画像評価を実施した物と同様の
カートリッジを４０℃、９５％Ｒ．Ｈ．の環境下で３０
日間放置した後、もう一度、電子写真装置に組込み、画
像形成を行い、過酷環境放置後の画像評価を行った。そ
の結果、帯電ローラ１３から感光体への汚染物質の移行
は確認されず、品位良好な画像が得られた。 【０２３１】＜実施例８＞ 帯電ローラ１４ 原料ゴムとしてアクリロニトリル−ブタジエン共重合体
（ＪＳＲ社製、商品名：Ｎ２３０ＳＶ）８０部、エピク
ロルヒドリン−エチレンオキサイド−アリルグリシジル
エーテル３元共重合体（ダイソー社製、商品名：エピク
ロマーＣＧ１０２）２０部、加工助剤としてステアリン
酸１部、加硫促進助剤として酸化亜鉛５部、充填剤とし
て炭酸カルシウム（白石工業社製、商品名：シルバー
Ｗ）６０部、老化防止剤として２，２’−メチレン−ビ
ス−（4−エチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）
（大内新興化学製、商品名：ノクラックＮＳ−５）１
部、イオン導電剤として、上記式（１−１）で表される
Ｎ−ジオキシエチレン−Ｎ，Ｎ，Ｎ−モノオクタデシル
ジメチルアンモニウムパークロレートと、上記式（２−
１）で表されるエーテル系化合物であるアジピン酸ジヘ
キソキシエチルとを３：５（重量比）で混合した混合物
８部、架橋剤として硫黄０．３部、加硫促進剤としてジ
ペンタメチレンチウラムテトラスルフィド（ＤＰＴＴ）
２部をオープンロールにて混合し、抵抗調整層形成用未
加硫ゴム組成物を得た。 【０２３２】得られた抵抗調整層形成用未加硫ゴム組成
物を使用した以外は、実施例６と同様にして帯電ローラ
１４を作製した。なお、抵抗調整層の体積固有抵抗率は
９．０×１０6Ω・ｃｍであった。 【０２３３】実施例６と同様にして、作製した帯電ロー
ラ１４の電気抵抗を測定した結果、Ｎ／Ｎでの電気抵抗
は１０Ｖ印加時で４×１０6Ω、４００Ｖ印加時で２×
１０6Ωであった。 【０２３４】さらに、実施例６と同様にして、この帯電
ローラ１４をプロセスカートリッジに装着し、電子写真
装置に組込んで画像形成を行い、初期画像評価を行っ
た。その結果、均質で良好な画像が得られた。 【０２３５】次に、このカートリッジのＯＰＣ感光体に
約φ０．３ｍｍのピンホールを形成した物を用いて画像
形成・評価を行い、リーク性の評価を行った。その結
果、リークによる画像不良は認められなかった。 【０２３６】また、初期画像評価を実施した物と同様の
カートリッジを４０℃、９５％Ｒ．Ｈ．の環境下で３０
日間放置した後、もう一度、電子写真装置に組込み、画
像形成を行い、過酷環境放置後の画像評価を行った。そ
の結果、帯電ローラ１４から感光体への汚染物質の移行
は確認されず、品位良好な画像が得られた。 【０２３７】＜実施例９＞ 帯電ローラ１５ 原料ゴムとしてアクリロニトリル−ブタジエン共重合体
（ＪＳＲ社製、商品名：Ｎ２３０ＳＶ）６０部、エピク
ロルヒドリン−エチレンオキサイド−アリルグリシジル
エーテル３元共重合体（ダイソー社製、商品名：エピク
ロマーＣＧ１０２）４０部、加工助剤としてステアリン
酸１部、加硫促進助剤として酸化亜鉛５部、充填剤とし
て炭酸カルシウム（白石工業社製、商品名：シルバー
Ｗ）６０部、老化防止剤として２，２’−メチレン−ビ
ス−（4−エチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）
（大内新興化学製、商品名：ノクラックＮＳ−５）１
部、イオン導電剤として、上記式（１−２）で表される
Ｎ−ヘキサオキシエチレン−Ｎ，Ｎ，Ｎ−モノドデシル
ジメチルアンモニウムパークロレートと、上記式（２−
１）で表されるエーテル系化合物であるアジピン酸ジヘ
キソキシエチルとを２：５（重量比）で混合した混合物
７部、架橋剤として硫黄０．３部、加硫促進剤としてジ
ペンタメチレンチウラムテトラスルフィド（ＤＰＴＴ）
２部をオープンロールにて混合し、抵抗調整層形成用未
加硫ゴム組成物を得た。 【０２３８】得られた抵抗調整層形成用未加硫ゴム組成
物を使用した以外は、実施例６と同様にして帯電ローラ
１５を作製した。なお、抵抗調整層の体積固有抵抗率は
８×１０6Ω・ｃｍであった。 【０２３９】実施例６と同様にして、作製した帯電ロー
ラ１５の電気抵抗を測定した結果、Ｎ／Ｎでの電気抵抗
は１０Ｖ印加時で５×１０6Ω、４００Ｖ印加時で２×
１０6Ωであった。 【０２４０】さらに、実施例６と同様にして、この帯電
ローラ１５をプロセスカートリッジに装着し、電子写真
装置に組込んで画像形成を行い、初期画像評価を行っ
た。その結果、均質で良好な画像が得られた。 【０２４１】次に、このカートリッジのＯＰＣ感光体に
約φ０．３ｍｍのピンホールを形成した物を用いて画像
形成・評価を行い、リーク性の評価を行った。その結
果、リークによる画像不良は認められなかった。 【０２４２】また、初期画像評価を実施した物と同様の
カートリッジを４０℃、９５％Ｒ．Ｈ．の環境下で３０
日間放置した後、もう一度、電子写真装置に組込み、画
像形成を行い、過酷環境放置後の画像評価を行った。そ
の結果、帯電ローラ１５から感光体への汚染物質の移行
は確認されず、品位良好な画像が得られた。 【０２４３】＜比較例７＞ 帯電ローラ１６ 原料ゴムとしてアクリロニトリル−ブタジエン共重合体
（ＪＳＲ社製、商品名：Ｎ２３０ＳＶ）１００部、加工
助剤としてステアリン酸１部、加硫促進助剤として酸化
亜鉛５部、充填剤として炭酸カルシウム（白石工業社
製、商品名：シルバーＷ）１００部、老化防止剤として
２，２’−メチレン−ビス−（4−エチル−６−ｔｅｒ
ｔ−ブチルフェノール）（大内新興化学製、商品名：ノ
クラックＮＳ−５）２部、イオン導電剤として、上記式
（４）で表されるステアリルトリメチルアンモニウムク
ロライドと、上記式（２−１）で表されるエーテル系化
合物であるアジピン酸ジヘキソキシエチルとを１：４
（重量比）で混合した混合物２５部、架橋剤として硫黄
０．３部、加硫促進剤としてジペンタメチレンチウラム
テトラスルフィド（ＤＰＴＴ）２部をオープンロールに
て混合し、抵抗調整層形成用未加硫ゴム組成物を得た。 【０２４４】得られた抵抗調整層形成用未加硫ゴム組成
物を使用した以外は、実施例６と同様にして帯電ローラ
１６を作製した。 【０２４５】実施例６と同様にして、作製した帯電ロー
ラ１６の電気抵抗を測定した結果、Ｎ／Ｎでの電気抵抗
は１０Ｖ印加時で５×１０7Ω、４００Ｖ印加時で３×
１０7Ωであった。 【０２４６】さらに、実施例６と同様にして、この帯電
ローラ１６をプロセスカートリッジに装着し、電子写真
装置に組込んで画像形成を行い、初期画像評価を行っ
た。その結果、低電圧抵抗が高いことによる帯電不良と
思われる砂地状の不均質画像が得られた。 【０２４７】＜比較例８＞ 帯電ローラ１７ 原料ゴムとしてアクリロニトリル−ブタジエン共重合体
（ＪＳＲ社製、商品名：Ｎ２３０ＳＶ）１００部、加工
助剤としてステアリン酸１部、加硫促進助剤として酸化
亜鉛５部、充填剤として炭酸カルシウム（白石工業社
製、商品名：シルバーＷ）１００部、老化防止剤として
２，２’−メチレン−ビス−（4−エチル−６−ｔｅｒ
ｔ−ブチルフェノール）（大内新興化学製、商品名：ノ
クラックＮＳ−５）２部、イオン導電剤として、上記式
（１−１）で表されるＮ−ジオキシエチレン−Ｎ，Ｎ，
Ｎ−モノオクタデシルジメチルアンモニウムパークロレ
ートと、可塑剤として上記式（３−２）で表されるジオ
クチルセバケートとを１：４（重量比）で混合した混合
物２５部、架橋剤として硫黄０．３部、加硫促進剤とし
てジペンタメチレンチウラムテトラスルフィド（ＤＰＴ
Ｔ）２部をオープンロールにて混合し、抵抗調整層形成
用未加硫ゴム組成物を得た。 【０２４８】得られた抵抗調整層形成用未加硫ゴム組成
物を使用した以外は、実施例６と同様にして帯電ローラ
１７を作製した。 【０２４９】実施例６と同様にして、作製した帯電ロー
ラ１７の電気抵抗を測定した結果、Ｎ／Ｎでの電気抵抗
は１０Ｖ印加時で５×１０6Ω、４００Ｖ印加時で３×
１０6Ωであった。 【０２５０】さらに、実施例６と同様にして、この帯電
ローラ１７をプロセスカートリッジに装着し、電子写真
装置に組込んで画像形成を行い、初期画像評価を行っ
た。その結果、均質で良好な画像が得られた。 【０２５１】次に、このカートリッジのＯＰＣ感光体に
約φ０．３ｍｍのピンホールを形成した物を用いて画像
形成・評価を行い、リーク性の評価を行った。その結
果、リークによる画像不良は認められなかった。 【０２５２】また、初期画像評価を実施した物と同様の
カートリッジを４０℃、９５％Ｒ．Ｈ．の環境下で３０
日間放置した後、もう一度、電子写真装置に組込み、画
像形成を行い、過酷環境放置後の画像評価を行った。そ
の結果、帯電ローラ１７から感光体への汚染物質の移行
と思われる画像不良が見られた。 【０２５３】＜比較例９＞ 帯電ローラ１８ 原料ゴムとしてエピクロルヒドリン−エチレンオキサイ
ド−アリルグリシジルエーテル３元共重合体（ダイソー
社製、商品名：エピクロマーＣＧ１０２）１００部、加
工助剤としてステアリン酸１部、加硫促進助剤として酸
化亜鉛５部、充填剤として炭酸カルシウム（白石工業社
製、商品名：シルバーＷ）６０部、老化防止剤として
２，２’−メチレン−ビス−（4−エチル−６−ｔｅｒ
ｔ−ブチルフェノール）（大内新興化学製、商品名：ノ
クラックＮＳ−５）１部、イオン導電剤として、上記式
（５）で表されるトリフルオロメタンスルホン酸リチウ
ムと、上記式（２−１）で表されるエーテル系化合物で
あるアジピン酸ジヘキソキシエチルとを３：５（重量
比）で混合した混合物８部、架橋剤として硫黄０．３
部、加硫促進剤としてジペンタメチレンチウラムテトラ
スルフィド（ＤＰＴＴ）２部をオープンロールにて混合
し、抵抗調整層形成用未加硫ゴム組成物を得た。 【０２５４】得られた抵抗調整層形成用未加硫ゴム組成
物を使用した以外は、実施例６と同様にして帯電ローラ
１８を作製した。 【０２５５】実施例６と同様にして、作製した帯電ロー
ラ１８の電気抵抗を測定した結果、Ｎ／Ｎでの電気抵抗
は１０Ｖ印加時で６×１０5Ω、４００Ｖ印加時で９×
１０4Ωであった。 【０２５６】さらに、実施例６と同様にして、この帯電
ローラ１８をプロセスカートリッジに装着し、電子写真
装置に組込んで画像形成を行い、初期画像評価を行っ
た。その結果、均質で良好な画像が得られた。 【０２５７】次に、このカートリッジのＯＰＣ感光体に
約φ０．３ｍｍのピンホールを形成した物を用いて画像
形成・評価を行い、リーク性の評価を行った。その結
果、リークによる画像不良が見られた。 【０２５８】以上の評価結果を表３、４にまとめて示
す。 【０２５９】 【表３】【０２６０】 【表４】 【０２６１】なお、表中の初期画像評価・過酷放置後の
画像評価については、良好な画像が得られたものを○；
画像不良が見られたものを×とした。表中のリーク評価
については、リークによる画像不良が認められなかった
ものを○；リークによる画像不良が見られたものを×と
した。また、表中の総合評価については、初期画像評価
・リーク評価・過酷放置後の画像評価がいずれも良好な
ものを○；それ以外のものを×とした。 【０２６２】比較例７の帯電ローラ１６は、イオン導電
剤が本発明の構造とは異なっているため、低電圧抵抗が
高く、帯電能力が低く、初期画像評価が悪かった。 【０２６３】比較例８の帯電ローラ１７は、エステル系
化合物の構造が本発明の構造とは異なっているため、感
光体への移行物質による画像不良が認められた。 【０２６４】比較例９の帯電ローラ１８は、Ｌｏｇ（Ω
10）−Ｌｏｇ（Ω400）＞０．５であるため、電気抵抗
の電圧依存性が大きく、帯電能力とリークとの両立が達
成できていない。 【０２６５】表３、４から明らかなように、本発明の帯
電ローラ１２〜１５については、１０Ｖ印加時の電気抵
抗が１×１０7Ω未満で、１０Ｖ印加時の電気抵抗と４
００Ｖ印加時の電気抵抗の差が０．５オーダー以内であ
り、優れた帯電能力とリーク防止とが両立されており、
過酷放置後の感光体汚染による画像不良も見られなかっ
た。 【０２６６】 【発明の効果】以上のように、本発明によれば、電気的
特性が均一で、低抵抗化が可能であり、しかも、被帯電
部材に近接または接触させて被帯電部材を帯電処理する
際のイオン導電剤等による被帯電部材の汚染が抑制され
た導電性部材を提供することができる。
いられる帯電部材、現像部材、転写部材などに好適な導
電性部材に関する。 【０００２】 【従来の技術】従来、複写機や光プリンタ等の電子写真
装置、静電記録装置などの画像形成装置において、感光
体や誘電体などの像担持体面を帯電処理する手段として
は、コロナ放電装置が利用されてきた。 【０００３】しかしながら、コロナ放電方式は、像担持
体などの被帯電体面を所定の電位に均一に帯電処理する
手段として有効であるものの、高価な高圧電源を必要と
する、装置が大型になる、放電の際にオゾンなどのコロ
ナ生成物の発生が多い、異常放電により被帯電体面が破
壊される等の不具合が発生する場合があった。 【０００４】このようなコロナ放電方式に対して、近年
では接触帯電方式が採用されつつある。接触帯電方式
は、電圧を印加した帯電する部材（帯電部材とも記載す
る）を被帯電体面に近接または接触させて、被帯電体面
を帯電処理するものである。接触帯電方式は、コロナ放
電方式に対して、オゾンなどのコロナ生成物の発生が少
ない、構造が簡単で低コスト化や装置の小型化が図れ
る、異常放電による被帯電体面の破壊が少ない等の利点
がある。 【０００５】接触帯電方式において、一般的には、金属
製の芯金の軸上に半導電性の弾性体層が形成されたゴム
ローラ型の帯電部材が使用される。 【０００６】接触帯電方式で用いられる帯電部材には、
感光体などの被帯電体表面のピンホールや傷などにより
生じるリークを防止するために、適度な半導電性、具体
的には電気抵抗１×１０3〜１×１０10Ω程度の半導電
性が必要である。また、被帯電体を均一に帯電させるた
めには、帯電部材の弾性体層が体積固有抵抗率で１×１
０3〜１×１０10Ω・ｃｍ程度の均一な半導電性である
ことが重要である。 【０００７】このような電気特性を実現するために、従
来、弾性体層は、カーボンブラック等の導電粒子が配合
され半導電化された電子導電系の半導電性ゴム組成物を
用いて作製されている。しかしながら、このような電子
導電系ゴム組成物は、原料ゴムに配合する導電粒子の添
加量によって電気抵抗を調整することができるが、体積
固有抵抗率が１×１０3〜１×１０9Ω・ｃｍ程度の半導
電領域においては、導電粒子の配合量の僅かな変化によ
り電気抵抗が大きく変化する場合がある。この場合、半
導電領域において均質な所望の電気抵抗値を示す弾性体
層を作製することが困難となり、帯電部材内および帯電
部材間で電気抵抗のバラツキが生じやすい。 【０００８】電気抵抗が均一な半導電性の弾性体層を得
る方法としては、エピクロルヒドリンゴムやアクリロニ
トリル−ブタジエン共重合体（ＮＢＲ）等のそれ自身が
半導電性を有する極性ゴム（イオン導電系ゴム）、ある
いは、原料ゴムにイオン導電剤を添加して半導電性を付
与したイオン導電系ゴム等により弾性体層を構成する方
法が知られている。 【０００９】例えば、特許文献１には、電子写真式複写
装置またはレーザープリンタ等に使用される帯電、転写
（中間転写）、現像、クリーニング等のローラ、ベル
ト、ブレード等に好適な導電性部材として、基材がＮＢ
Ｒ系ゴムを含有し、これにイオン導電性物質を添加して
なる導電性部材が開示されている。同公報には、導電性
部材の基材がＮＢＲ系ゴムを含有し、これにイオン導電
性物質を添加することにより、カーボン等のフィラー系
導電性物質のみの場合に比べて所定の電気抵抗に調整す
ることが非常に容易となると記載されている。また、同
公報には、基材中にＮＢＲ系ゴムとイオン導電性物質が
共存する場合にのみ、通電による電気抵抗の上昇を抑制
することができると記載されている。 【００１０】特許文献２には、導電性付与剤として特定
構造をもった第４級アンモニウム塩化合物を含有してな
る導電性材料、さらには、この第４級アンモニウム化合
物をポリウレタン等の高分子材料に添加混合してなる導
電性材料が開示されている。また、同公報には、上記の
導電性材料を用いてなる、電子写真装置において他部材
の帯電を制御する帯電制御用部材（帯電部材、現像部
材、転写部材など）が開示されている。同公報には、こ
の導電性材料は、導電性付与剤として上記の特定構造を
もった第４級アンモニウム塩化合物を用いたことによ
り、電気抵抗のばらつきが少ない上、樹脂基材との相溶
性に優れ、しみ出しが生じにくく他部材を汚染するよう
なことのないものであると記載されている。 【００１１】特許文献３には、軸体の外周に導電性弾性
体層が形成され、この導電性弾性体層の外周に、抵抗調
整層が形成された導電性ロールであって、上記抵抗調整
層が、（Ａ）エピクロルヒドリン−エチレンオキシド共
重合体、（Ｂ）アクリロニトリル−ブタジエンゴムおよ
びアクリルゴムの少なくとも一方、（Ｃ）第四級アンモ
ニウム塩などのイオン導電剤を主体とする組成物によっ
て形成されていることを特徴とする導電性ロールが開示
されている。同公報には、この導電性ロールは、電気抵
抗が全体に均一であり、長期間の使用によっても電気抵
抗の上昇が抑制され、良好な複写画像が得られると記載
されている。 【００１２】しかしながら、近年、電子写真装置におけ
るプロセススピードの向上と画質の高精細化に伴い、帯
電部材には、被帯電体を均一に帯電させる帯電能力のさ
らなる向上が要求されている。この帯電能力の向上のた
めには、帯電部材の電気抵抗をさらに低抵抗化すること
が必要である。 【００１３】一方で、帯電部材の低抵抗化は、被帯電体
表面にピンホールや傷などが生じた場合、その部分に電
荷が集中することによって帯電部材への印加電圧が低下
し、被帯電体への帯電不良が生じる、所謂リークが発生
するといった問題を伴うことがある。これまでに、優れ
た帯電能力とリーク防止とを十分に両立している帯電部
材は得られていなかった。 【００１４】また、帯電部材の低抵抗化のために、イオ
ン導電剤を弾性体層に多量に配合した場合、導電剤が感
光体などの被帯電部材に移行して被帯電部材の汚染を引
起こし、画像不良が発生する場合があった。 【００１５】 【特許文献１】特開平８−３２８３５１号公報 【特許文献２】特開平１１−２０９６３３号公報 【特許文献３】特許第２９６４８２１号公報 【００１６】 【発明が解決しようとする課題】本発明は、電気的特性
が均一で、低抵抗化が可能であり、しかも、被帯電部材
に近接または接触させて被帯電部材を帯電処理する際の
イオン導電剤等による被帯電部材の汚染が抑制された導
電性部材を提供することを目的とする。 【００１７】 【課題を解決するための手段】上記目的は、以下の本発
明により達成される。 （Ｉ）導電性の芯金上に少なくとも弾性体層を有し、前
記弾性体層が、溶解度定数（ＳＰ値）が１７．８〜２
１．５（ＭＰａ）1/2の原料ゴムと、下記式（１）で表
されるイオン導電剤と、下記式（２）で表されるエステ
ル系化合物とを含有するゴム組成物にて形成されるもの
である導電性部材。 【００１８】 【化３】 【００１９】（式（１）中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３のうち１
個は炭素数５〜２４のアルキル基を示し、他の２個はそ
れぞれ独立に炭素数が１〜５のアルキル基を示す。ｎ1
は１〜１５の整数を示す。） 【００２０】 【化４】 【００２１】（式（２）中、Ｒ４、Ｒ５はそれぞれ独立
に炭素数が１〜２０のアルキル基を示す。ｎ2、ｎ3はそ
れぞれ独立に１〜１０の整数を示し、ｍは２〜２０の整
数を示す。） 本発明の導電性部材は、特定の溶解度定数（ＳＰ値）を
有するベースポリマーに、上記式（１）で表される特定
構造のイオン導電剤と、上記式（２）で表される特定構
造のエステル系化合物とを配合したゴム組成物により弾
性体層が形成されているため、電気的特性が均一で、低
抵抗化が可能であり、しかも、帯電部材として用いる場
合に感光体などの被帯電部材のイオン導電剤による汚染
が抑制される。 【００２２】 【発明の実施の形態】＜第１の実施形態＞本発明の第１
の実施形態の導電性部材は、導電性の芯金上に少なくと
も弾性体層を有し、この弾性体層が、溶解度定数（ＳＰ
値）が１７．８〜２１．５（ＭＰａ）1/2の原料ゴム
と、上記式（１）で表されるイオン導電剤と、上記式
（２）で表されるエステル系化合物とを含有するゴム組
成物にて形成されるものである。この導電性部材は、電
気的特性が均一で、低抵抗化が可能であり、しかも、帯
電部材として用いる場合に感光体などの被帯電部材のイ
オン導電剤による汚染が抑制される。 【００２３】本発明の第１の実施形態の導電性部材にお
いて、弾性体層は半導電性層であることが好ましく、そ
の体積固有抵抗率は１×１０3〜１×１０10Ω・ｃｍで
あることが好ましい。弾性体層の体積固有抵抗率は１×
１０5Ω・ｃｍ以上であることがより好ましく、また、
１×１０8Ω・ｃｍ以下であることがより好ましい。 【００２４】また、温度２３℃、相対湿度５０％ＲＨの
環境下で、この導電性部材に電圧１０Ｖ印加時の電気抵
抗値をΩ10とし、温度２３℃、相対湿度５０％ＲＨの環
境下で、この導電性部材に電圧４００Ｖ印加時の電気抵
抗値をΩ400としたときに、 Ｌｏｇ（Ω10）−Ｌｏｇ（Ω400）＜０．５ の関係を満足し、かつ、 Ｌｏｇ（Ω10）＜７ の関係を満足することが好ましい。これらの関係を満足
することにより、優れた帯電能力とリーク防止とをより
十分に両立することができる。 【００２５】半導電性ゴムには、カーボンなどの導電粒
子をゴム中に分散させた電子導電系ゴムと、エピクロル
ヒドリンゴム等のそれ自身が半導電性を有する極性ゴム
にイオン導電剤を添加して半導電性を付与したイオン導
電系ゴムとの２種類がある。電子導電系の半導電性ゴム
は、電気伝導性が導電粒子間距離に大きく依存してお
り、導電粒子間の電荷は印加電圧が大きいほど電場効果
により伝わりやすくなるので、電気抵抗値の電圧依存性
が大きく、好ましくない。一方、イオン導電系の半導電
性ゴムは、電子導電系ゴムと比較して電気抵抗の電圧依
存性が小さく、電気抵抗の均一性も良好である。 【００２６】ただし、イオン導電系ゴムによって弾性体
層を形成する場合、導電性部材の電気抵抗を１０Ｖ印加
時に１×１０7Ω未満とするためには、弾性体層にイオ
ン導電剤を添加することが必要である。 【００２７】イオン導電剤の添加による抵抗低減効果に
は、添加するイオン導電剤の化学構造が大きく寄与して
いると考えられる。また、添加されたイオン導電剤が表
面に移行することなく、長期間に渡って安定した電気特
性を維持するには、イオン導電剤と弾性体層のベースポ
リマーとの相溶性が良好である必要がある。したがっ
て、下記式（１）で表される特定構造のイオン導電剤
を、溶解度定数（ＳＰ値）が１７．８〜２１．５（ＭＰ
ａ）1/2である特定種のベースポリマーに添加した場合
に、電気的特性が均一で、低抵抗化が可能であり、感光
体などの被帯電部材の汚染が抑制された導電性部材が得
られる。 【００２８】 【化５】 【００２９】（式（１）中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３のうち１
個は炭素数５〜２４のアルキル基を示し、他の２個はそ
れぞれ独立に炭素数が１〜５のアルキル基を示す。ｎ1
は１〜１５の整数を示す。） また、本発明において、上記式（１）で表されるイオン
導電剤と下記式（２）で表されるエステル系化合物とを
併用してベースポリマーに添加することにより、上記式
（１）で表されるイオン導電剤のみを添加する場合と比
較して、抵抗低減効果が大きくなり、また、イオン導電
剤の表面への移行性も大幅に抑制される。 【００３０】 【化６】 【００３１】（式（２）中、Ｒ４、Ｒ５はそれぞれ独立
に炭素数が１〜２０のアルキル基を示す。ｎ2、ｎ3はそ
れぞれ独立に１〜１０の整数を示し、ｍは２〜２０の整
数を示す。） このような効果が得られる理由については定かではない
が、上記式（２）で表されるエステル系化合物を併用す
ることにより上記式（１）で表されるイオン導電剤の分
散性が向上するために抵抗低減効果が大きくなり、ま
た、上記式（２）で表されるエステル系化合物がベース
ポリマーと上記式（１）で表されるイオン導電剤との相
溶化剤のように振舞うために相溶性が高まり、イオン導
電剤の表面への移行、被帯電部材の汚染が抑制されるも
のと推測される。 【００３２】本発明において用いられる原料ゴム（弾性
体層のベースポリマー）は、溶解度定数（Ｓｏｌｕｂｉ
ｌｉｔｙ Ｐａｒａｍｅｔｅｒ：ＳＰ値）が１７．８〜
２１．５（ＭＰａ）1/2のものである。原料ゴムのＳＰ
値が１７．８未満の場合でも、原料ゴムのＳＰ値が２
１．５超の場合でも、上記式（１）で表されるイオン導
電剤との相溶性が低下して、イオン導電剤の表面への移
行、さらには被帯電部材の汚染が発生しやすくなる。原
料ゴムのＳＰ値は１８．５（ＭＰａ）1/2以上であるこ
とが好ましい。また、原料ゴムのＳＰ値は２０．７（Ｍ
Ｐａ）1/2以下であることが好ましい。 【００３３】なお、本発明におけるＳＰ値は物質固有の
値であり、分子構造から分子を構成する原子団のモル吸
引力より算出するＳｍａｌｌの計算法により求めること
ができる。 【００３４】また、原料ゴムは、導電剤を含まない状態
で体積固有抵抗率が１×１０12Ω・ｃｍ以下であること
が好ましく、１×１０11Ω・ｃｍ以下であることがより
好ましい。導電剤を含まない状態の原料ゴムの体積固有
抵抗率がこの範囲であれば、イオン導電剤の配合量を比
較的少なく抑えて所望の弾性体層の体積抵抗値が得られ
る。また、導電剤を含まない状態の原料ゴムの体積固有
抵抗率の下限は特に規定されないが、通常、１×１０6
Ω・ｃｍ程度である。 【００３５】体積固有抵抗率が１×１０12Ω・ｃｍ以下
で、ＳＰ値が１７．８〜２１．５（ＭＰａ）1/2の原料
ゴムとしては、例えば、エピクロルヒドリンホモポリマ
ー（ＣＨＣ）、エピクロルヒドリン−エチレンオキサイ
ド共重合体（ＣＨＲ）、エピクロルヒドリン−エチレン
オキサイド−アリルグリシジルエーテル３元共重合体
（ＣＨＲ−ＡＧＥ）、アクリロニトリル−ブタジエン共
重合体（ＮＢＲ）、アクリロニトリル−ブタジエン共重
合体の水素添加物（Ｈ−ＮＢＲ）、アクリルゴム（ＡＣ
Ｍ、ＡＮＭ）、ウレタンゴム（Ｕ）等や、これらの２種
以上のブレンド物が挙げられる。なお、原料ゴムはこれ
らに限られず、また、１種を用いても、２種以上を併用
してもよい。 【００３６】原料ゴムとしては、中でも、アクリロニト
リル−ブタジエン共重合体（ＮＢＲ）を用いることが好
ましい。導電性部材の低抵抗化による帯電能力の向上
と、リーク防止との両立には、導電性部材の電気抵抗の
電圧依存性を小さくする必要があり、この点からアクリ
ロニトリル−ブタジエン共重合体（ＮＢＲ）を原料ゴム
として使用することが好ましい。また、電気抵抗の電圧
依存性に影響を与えない程度に他のゴムをＮＢＲにブレ
ンドして使用することもできる。その場合、原料ゴム中
のＮＢＲの含有量は２０質量部以上が好ましい。 【００３７】用いる原料ゴムのムーニー粘度は特に限定
されないが、通常、２０〜９０である。 【００３８】上記式（１）で表されるイオン導電剤にお
いて、式（１）中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３のいずれか１つは
炭素数５〜２４のアルキル基であり、炭素数が８〜１８
のアルキル基であることが好ましい。アルキル基は直鎖
状であっても分岐していてもよい。 【００３９】また、式（１）中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３の残
りの２つは、炭素数が１〜５のアルキル基であり、炭素
数が１〜２のアルキル基、すなわちメチル基またはエチ
ル基であることが好ましい。この残りの２つは、同一の
ものであってもよいし、異なるものであってもよい。 【００４０】式（１）中、ｎ1は１〜１５の整数であ
り、１〜８の整数であることが好ましい。 【００４１】上記式（１）で表されるイオン導電剤の含
有量は、原料ゴム１００質量部に対して０．５質量部以
上であることが好ましく、１質量部以上であることがよ
り好ましい。また、上記式（１）で表されるイオン導電
剤の含有量は、原料ゴム１００質量部に対して２０質量
部以下であることが好ましく、１０質量部以下であるこ
とがより好ましい。上記式（１）で表されるイオン導電
剤の含有量が原料ゴム１００質量部に対して０．５質量
部未満の場合、抵抗低減効果が十分には得られにくくな
る場合がある。一方、上記式（１）で表されるイオン導
電剤の含有量が原料ゴム１００質量部に対して２０質量
部超の場合、配合する原料ゴムや他の配合剤にもよる
が、イオン導電剤の表面への移行の可能性が大きくな
り、被帯電部材の汚染が発生しやすくなる傾向がある。 【００４２】上記式（２）で表されるエステル系化合物
において、式（２）中、Ｒ４、Ｒ５は、炭素数が１〜２
０のアルキル基であり、炭素数が２〜１０のアルキル基
であることが好ましい。アルキル基は直鎖状であっても
分岐していてもよい。Ｒ４、Ｒ５は、同一のものであっ
てもよいし、異なるものであってもよい。 【００４３】式（２）中、ｎ2、ｎ3は１〜１０の整数で
あり、１〜５の整数であることが好ましい。ｎ2、ｎ
3は、同一のものであってもよいし、異なるものであっ
てもよい。 【００４４】式（２）中、ｍは２〜２０の整数であり、
２〜８の整数であることが好ましい。 【００４５】上記式（２）で表されるエステル系化合物
は、イオン導電剤の表面への移行、被帯電部材の汚染が
十分に抑制される点から、分子量が３５０以上であるこ
とが好ましく、４００以上であることがより好ましい。
また、上記式（２）で表されるエステル系化合物の分子
量の上限は特に規定されないが、通常、６００以下が好
ましい。 【００４６】上記式（２）で表されるエステル系化合物
の含有量は、原料ゴム１００質量部に対して０．２質量
部以上であることが好ましく、１質量部以上であること
がより好ましい。また、上記式（２）で表されるエステ
ル系化合物の含有量は、原料ゴム１００質量部に対して
５０質量部以下であることが好ましく、３０質量部以下
であることがより好ましい。上記式（２）で表されるエ
ステル系化合物の含有量が原料ゴム１００質量部に対し
て０．２質量部未満の場合、本発明の効果が十分には得
られにくくなる場合がある。一方、上記式（２）で表さ
れるエステル系化合物の含有量が原料ゴム１００質量部
に対して５０質量部超の場合、イオン導電剤の表面への
移行の可能性が大きくなり、被帯電部材の汚染が発生し
やすくなる傾向がある。 【００４７】本発明の導電性部材の弾性体層は、溶解度
定数（ＳＰ値）が１７．８〜２１．５（ＭＰａ）1/2の
原料ゴムと、上記式（１）で表されるイオン導電剤と、
上記式（２）で表されるエステル系化合物とを含有する
ゴム組成物にて形成される。弾性体層を形成する際、上
記式（１）で表されるイオン導電剤と上記式（２）で表
されるエステル系化合物とを各々別々に原料ゴムに配合
してゴム組成物を調製してもよいが、上記式（１）で表
されるイオン導電剤と上記式（２）で表されるエステル
系化合物とを予め十分に混合し、この混合物を原料ゴム
に混合してゴム組成物を調製する方がより一層良好な結
果が得られるので好ましい。 【００４８】本発明の導電性部材の弾性体層を形成する
ためのゴム組成物には、さらに、分子量２０００以上で
あるポリエステル系可塑剤を含有させてもよい。ポリエ
ステル系可塑剤は、例えば、アジピン酸やセバシン酸な
どの二塩基酸とグリコールの重縮合体を基本構造とする
ものである。分子量が２０００以上である高分子量ポリ
エステル系可塑剤を同時に含有させることにより、上記
式（１）で表されるイオン導電剤、上記式（２）で表さ
れるエステル系化合物と原料ゴムとの相溶性はより高ま
り、イオン導電剤の表面への移行性がより小さくなって
被帯電部材の汚染の発生がより抑制される。 【００４９】イオン導電剤の表面への移行性は、含有さ
せるポリエステル系可塑剤の分子量が大きいほど小さく
なる傾向がある。そのため、用いるポリエステル系可塑
剤の分子量は４０００以上であることがより好ましい。
また、用いるポリエステル系可塑剤の分子量の上限は特
に規定されないが、通常、１００００程度である。 【００５０】分子量２０００以上であるポリエステル系
可塑剤の含有量は、高分子量ポリエステル系可塑剤を同
時に含有させる効果が十分に得られる点から、原料ゴム
１００質量部に対して１質量部以上が好ましく、３質量
部以上がより好ましい。また、分子量２０００以上であ
るポリエステル系可塑剤の含有量は、圧縮永久歪が大き
くなりすぎるのを防止できる等の点から、原料ゴム１０
０質量部に対して５０質量部以下が好ましく、１５質量
部以下がより好ましい。 【００５１】本発明における導電性部材の弾性体層に
は、必要に応じて、ゴムの配合剤として一般に用いられ
ている充填剤、加工助剤、架橋助剤、架橋促進剤、架橋
促進助剤、架橋遅延剤、粘着付与剤、分散剤、発泡剤な
どを添加することができる。 【００５２】これらのブレンド方法としては、バンバリ
ーミキサーや加圧式ニーダーといった密閉型混合機を使
用した混合方法や、オープンロールのような開放型の混
合機を使用した混合方法などを例示することができる。 【００５３】図１に、本発明の第１の実施形態の導電性
部材の一例の模式的断面図を示す。図１に示す導電性部
材（帯電ローラ）１０は、金属製の芯金１１の外周に、
弾性体層１２および表面被覆層１３が積層されている。 【００５４】通常、弾性体層の体積固有抵抗率は、帯電
バイアス電圧を感光体に印加することができるよう、１
×１０3〜１×１０10Ω・ｃｍ程度とされる。 【００５５】弾性体層の厚さは適宜決めればよいが、通
常、０．５〜１０ｍｍ程度とする。 【００５６】弾性体層の形成方法としては、未加硫の半
導電性ゴム組成物を押出機によりチューブ状に押出成形
し、これを加硫缶で加硫成形したものに芯金を圧入後、
表面を研磨して所望の外径とする方法；加硫後の半導電
性ゴム組成物を、クロスヘッドを装着した押出機によ
り、芯金を中心に円筒形に共押出し、所望の外径の金型
内部に固定、加熱し、成形体を得る方法；加硫前の半導
電性ゴム組成物を、クロスヘッドを装着した押出機によ
り、芯金を中心に円筒形に共押出し、所望の外径の金型
内部に固定、加熱して加硫し、成形体を得る方法などを
挙げることができる。なお、加硫は公知の方法に従って
行えばよい。加硫温度は、例えば、１４０〜２００℃程
度とすることができる。 【００５７】本発明の導電性部材の表面被覆層は、トナ
ーや紙粉などが導電性部材（帯電部材）表面に付着し、
感光体などの被帯電部材への帯電不良が発生するのを防
止するためのものである。表面被覆層は、一般的には、
アクリル樹脂、ポリウレタン、ポリアミド、ポリエステ
ル、ポリオレフィン、シリコーン樹脂等のバインダー高
分子に導電フィラー、例えば、カーボンブラック、グラ
ファイト、酸化チタン、酸化錫等の酸化物；Ｃｕ、Ａｇ
等の金属；酸化物や金属を粒子表面に被覆して導電化し
た導電粒子などを適量分散させることにより、１×１０
6〜１×１０12Ω・ｃｍ程度の電気抵抗率としたものが
用いられる。 【００５８】表面被覆層の厚さは適宜決めればよいが、
通常、１〜１００μｍ程度とする。 【００５９】表面被覆層の形成方法としては、上記のよ
うなバインダー高分子を溶剤に溶解または分散し、これ
に導電フィラーを分散させた液を、ディッピング、ビー
ム塗工、ロールコーター等の塗工法によって、弾性体層
表面にコーティングする方法；バインダー高分子中に導
電フィラーを練り込み、それを押出機などによって円筒
形状に成形したものを弾性体層に被覆する方法などを挙
げることができる。 【００６０】本発明の導電性部材の芯金としては、導電
性を示すものであれば特に限定されず、例えば、鉄、ア
ルミニウム、チタン、銅およびニッケル等の金属やこれ
らの金属を含むステンレス、ジュラルミン、真鍮および
青銅等の合金、あるいは、カーボンブラックや炭素繊維
をプラスチックで固めた複合材料などが挙げられる。ま
た、芯金の形状は、必要に応じて適宜決めればよい。 【００６１】芯金の体積抵抗率は、通常、１×１０-6〜
１×１０2Ω・ｃｍである。 【００６２】なお、本発明の導電性部材には、必要に応
じて、弾性体層や表面被覆層以外に、接着層、拡散防止
層、下地層、プライマー層などの機能層を設けることも
できる。また、弾性体層や表面被覆層を２層以上設ける
こともできる。 【００６３】＜第２の実施形態＞優れた帯電能力とリー
ク防止との両立においては、帯電能力の向上の点から導
電性部材（帯電部材）への印加電圧が１０Ｖ程度の比較
的低電圧での電気抵抗が低く、また、リーク防止の点か
ら印加電圧が４００Ｖ程度の高電圧での電気抵抗が高い
ものが良好である。 【００６４】本発明の第２の実施形態の導電性部材は、
良導電性の芯体上に半導電性の弾性体層を有する導電性
部材であって、温度２３℃、相対湿度５０％ＲＨの環境
下で、この導電性部材に電圧１０Ｖ印加時の電気抵抗値
をΩ10とし、温度２３℃、相対湿度５０％ＲＨの環境下
で、この導電性部材に電圧４００Ｖ印加時の電気抵抗値
をΩ400としたときに、 Ｌｏｇ（Ω10）−Ｌｏｇ（Ω400）＜０．５ の関係を満足し、かつ、 Ｌｏｇ（Ω10）＜７ の関係を満足するものである。 【００６５】ここで、「良導電性」とは、体積固有抵抗
率で１×１０-6〜１×１０2Ω・ｃｍであることを言
う。また、「半導電性」とは、体積固有抵抗率で１×１
０3〜１×１０12Ω・ｃｍであることを言う。 【００６６】この本発明の第２の実施形態の導電性部材
は、優れた帯電能力とリーク防止とが両立されており、
電圧を印加した帯電部材を被帯電体に接触させることに
より該被帯電体を帯電する帯電部材として好適である。
前述のように、帯電能力の向上には、導電性部材（帯電
部材）への印加電圧が１０Ｖ程度の比較的低電圧での電
気抵抗が低いものが良好である。また、リーク防止に
は、印加電圧が４００Ｖ程度の高電圧での電気抵抗が高
いものが良好である。したがって、優れた帯電能力とリ
ーク防止との両立のためには、導電性部材の電気抵抗の
電圧依存性を小さくする必要があり、その範囲は０．５
オーダー未満である。一方、帯電能力の向上には、導電
性部材の電気抵抗が１０Ｖ印加時に１×１０7Ω未満で
あることが必要である。 【００６７】前述の通り、半導電性ゴムには、カーボン
などの導電粒子をゴム中に分散させた電子導電系ゴム
と、エピクロルヒドリンゴム等のそれ自身が半導電性を
有する極性ゴムにイオン導電剤を添加して半導電性を付
与したイオン導電系ゴムとの２種類がある。電子導電系
の半導電性ゴムは、電気伝導性が導電粒子間距離に大き
く依存しており、導電粒子間の電荷は印加電圧が大きい
ほど電場効果により伝わりやすくなるので、電気抵抗値
の電圧依存性が大きく、好ましくない。一方、イオン導
電系の半導電性ゴムは、電子導電系ゴムと比較して電気
抵抗の電圧依存性が小さく、電気抵抗の均一性も良好で
ある。 【００６８】ただし、イオン導電系ゴムによって半導電
性層を形成する場合、導電性部材の電気抵抗を１０Ｖ印
加時に１×１０7Ω未満とするためには、半導電性層に
イオン導電剤を添加することが必要である。 【００６９】本発明の第２の実施形態の導電性部材にお
いては、半導電性の弾性体層のベースポリマー（原料ゴ
ム）として、導電性部材の電気抵抗の電圧依存性をより
小さくすることができる点から、アクリロニトリル−ブ
タジエン共重合体（ＮＢＲ）を使用することが好まし
い。また、電気抵抗の電圧依存性に影響を与えない程度
に他のゴムをＮＢＲにブレンドして使用することもでき
る。その場合、原料ゴム中のＮＢＲの含有量は２０質量
部以上が好ましい。 【００７０】本発明の第２の実施形態の導電性部材とし
ては、本発明の第１の実施形態の導電性部材が好まし
い。なお、この場合、弾性体層が半導電性の弾性体層と
なる。 【００７１】また、本発明の第２の実施形態の導電性部
材としては、中でも、良導電性の芯金上に少なくとも半
導電性の弾性体層を有し、前記弾性体層が電極層と抵抗
調整層とからなり、前記抵抗調整層が、アクリロニトリ
ル−ブタジエン共重合体（ＮＢＲ）を含む原料ゴム１０
０質量部に対して、下記式（１）で表されるイオン導電
剤を０．５〜２０質量部含有し、下記式（２）で表され
るエステル系化合物を１〜５０質量部含有するゴム組成
物にて形成されるものである導電性部材が好ましい。 【００７２】 【化７】 【００７３】（式（１）中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３のうち１
個は炭素数５〜２４のアルキル基を示し、他の２個はそ
れぞれ独立に炭素数が１〜５のアルキル基を示す。ｎ1
は１〜１５の整数を示す。） 【００７４】 【化８】 【００７５】（式（２）中、Ｒ４、Ｒ５はそれぞれ独立
に炭素数が１〜２０のアルキル基を示す。ｎ2、ｎ3はそ
れぞれ独立に１〜１０の整数を示し、ｍは２〜２０の整
数を示す。） この場合も、原料ゴム中のＮＢＲの含有量は２０質量部
以上が好ましい。 【００７６】用いる原料ゴムのムーニー粘度は特に限定
されないが、通常、２０〜９０である。 【００７７】この導電性部材は、ベースポリマーである
ＮＢＲに、上記式（１）で表される特定構造のイオン導
電剤と、上記式（２）で表される特定構造のエステル系
化合物とを配合したゴム組成物により弾性体層の抵抗調
整層が形成されているため、優れた帯電能力とリーク防
止とを十分に両立している上、帯電部材として用いる場
合に感光体などの被帯電部材のイオン導電剤による汚染
がより十分に抑制される。また、この導電性部材は、電
気的特性が均一で、低抵抗化が可能である。 【００７８】イオン導電剤の添加による抵抗低減効果に
は、添加するイオン導電剤の化学構造が大きく寄与して
いると考えられる。また、添加されたイオン導電剤が表
面に移行することなく、長期間に渡って安定した電気特
性を維持するには、イオン導電剤と抵抗調整層のベース
ポリマーであるＮＢＲとの相溶性が良好である必要があ
る。したがって、上記式（１）で表される特定構造のイ
オン導電剤を、特定種のベースポリマー（ＮＢＲ）に添
加した場合に、電気的特性が均一で、低抵抗化が可能で
あり、感光体などの被帯電部材の汚染が抑制された導電
性部材が得られる。 【００７９】また、本発明において、上記式（１）で表
されるイオン導電剤と上記式（２）で表されるエステル
系化合物とを併用してベースポリマー（ＮＢＲ）に添加
することにより、上記式（１）で表されるイオン導電剤
のみを添加する場合と比較して、抵抗低減効果が大きく
なり、また、イオン導電剤の表面への移行性も大幅に抑
制される。 【００８０】このような効果が得られる理由については
定かではないが、上記式（２）で表されるエステル系化
合物を併用することにより上記式（１）で表されるイオ
ン導電剤の分散性が向上するために抵抗低減効果が大き
くなり、また、上記式（２）で表されるエステル系化合
物がベースポリマーと上記式（１）で表されるイオン導
電剤との相溶化剤のように振舞うために相溶性が高ま
り、イオン導電剤の表面への移行、被帯電部材の汚染が
抑制されるものと推測される。 【００８１】上記式（１）で表されるイオン導電剤は、
本発明の第１の実施形態の導電性部材の弾性体層におい
て用いられる式（１）で表されるイオン導電剤と同様の
ものであり、好ましいものも同様である。 【００８２】上記式（１）で表されるイオン導電剤の含
有量は、原料ゴム１００質量部に対して０．５質量部以
上であることが好ましく、１質量部以上であることがよ
り好ましい。また、上記式（１）で表されるイオン導電
剤の含有量は、原料ゴム１００質量部に対して２０質量
部以下であることが好ましく、１０質量部以下であるこ
とがより好ましい。上記式（１）で表されるイオン導電
剤の含有量が原料ゴム１００質量部に対して０．５質量
部未満の場合、抵抗低減効果が十分には得られにくくな
る場合がある。一方、上記式（１）で表されるイオン導
電剤の含有量が原料ゴム１００質量部に対して２０質量
部超の場合、配合する原料ゴムや他の配合剤にもよる
が、イオン導電剤の表面への移行の可能性が大きくな
り、被帯電部材の汚染が発生しやすくなる傾向がある。 【００８３】また、上記式（２）で表されるエステル系
化合物も、本発明の第１の実施形態の導電性部材の弾性
体層において用いられる式（２）で表されるエステル系
化合物と同様のものであり、好ましいものも同様であ
る。 【００８４】上記式（２）で表されるエステル系化合物
の含有量は、原料ゴム１００質量部に対して０．２質量
部以上であることが好ましく、１質量部以上であること
がより好ましい。また、上記式（２）で表されるエステ
ル系化合物の含有量は、原料ゴム１００質量部に対して
５０質量部以下であることが好ましく、３０質量部以下
であることがより好ましい。上記式（２）で表されるエ
ステル系化合物の含有量が原料ゴム１００質量部に対し
て０．２質量部未満の場合、本発明の効果が十分には得
られにくくなる場合がある。一方、上記式（２）で表さ
れるエステル系化合物の含有量が原料ゴム１００質量部
に対して５０質量部超の場合、イオン導電剤の表面への
移行の可能性が大きくなり、被帯電部材の汚染が発生し
やすくなる傾向がある。 【００８５】本発明の導電性部材の抵抗調整層は、アク
リロニトリル−ブタジエン共重合体（ＮＢＲ）を含む原
料ゴムと、上記式（１）で表されるイオン導電剤と、上
記式（２）で表されるエステル系化合物とを含有するゴ
ム組成物にて形成される。弾性体層を形成する際、上記
式（１）で表されるイオン導電剤と上記式（２）で表さ
れるエステル系化合物とを各々別々に原料ゴムに配合し
てゴム組成物を調製してもよいが、上記式（１）で表さ
れるイオン導電剤と上記式（２）で表されるエステル系
化合物とを予め十分に混合し、この混合物を原料ゴムに
混合してゴム組成物を調製する方がより一層良好な結果
が得られるので好ましい。 【００８６】本発明の導電性部材の抵抗調整層を形成す
るためのゴム組成物には、さらに、分子量２０００以上
であるポリエステル系可塑剤を含有させてもよい。ポリ
エステル系可塑剤は、例えば、アジピン酸やセバシン酸
などの二塩基酸とグリコールの重縮合体を基本構造とす
るものである。分子量が２０００以上である高分子量ポ
リエステル系可塑剤を同時に含有させることにより、上
記式（１）で表されるイオン導電剤、上記式（２）で表
されるエステル系化合物と原料ゴムとの相溶性はより高
まり、イオン導電剤の表面への移行性がより小さくなっ
て被帯電部材の汚染の発生がより抑制される。 【００８７】イオン導電剤の表面への移行性は、含有さ
せるポリエステル系可塑剤の分子量が大きいほど小さく
なる傾向がある。そのため、用いるポリエステル系可塑
剤の分子量は４０００以上であることがより好ましい。
また、用いるポリエステル系可塑剤の分子量の上限は特
に規定されないが、通常、１００００程度である。 【００８８】分子量２０００以上であるポリエステル系
可塑剤の含有量は、高分子量ポリエステル系可塑剤を同
時に含有させる効果が十分に得られる点から、原料ゴム
１００質量部に対して１質量部以上が好ましく、３質量
部以上がより好ましい。また、分子量２０００以上であ
るポリエステル系可塑剤の含有量は、圧縮永久歪が大き
くなりすぎるのを防止できる等の点から、原料ゴム１０
０質量部に対して５０質量部以下が好ましく、１５質量
部以下がより好ましい。 【００８９】抵抗調整層の厚さは適宜決めればよいが、
通常、５０〜１０００μｍ程度とする。 【００９０】本発明の導電性部材の電極層は、イソプレ
ンゴム、ブタジエンゴム、スチレン−ブタジエンゴム、
エチレンプロピレンゴム、ブチルゴム、ポリノルボルネ
ンゴム、シリコーンゴム等の高分子に導電粒子を適量分
散させたものである。 【００９１】導電粒子としては公知のものいずれも用い
ることができるが、カーボンブラックが好ましい。導電
粒子であるカーボンブラックの電極層中の含有量は、通
常、原料ゴム１００質量部に対して、５〜２００質量部
であることが好ましい。 【００９２】通常、電極層の体積固有抵抗率は１×１０
3〜１×１０5Ω・ｃｍであることが好ましい。 【００９３】導電性部材（帯電部材）の弾性体層は、感
光体などの被帯電体を均一に帯電させるために、均一な
半導電性を有することに加え、被帯電体への均一な接触
を確保するために、低硬度であることが望ましい。 【００９４】一般に、低硬度な弾性体層を得るためには
可塑剤を配合する方法が採られるが、可塑剤を多量に配
合した場合、弾性体層の表面にこれらの可塑剤がブルー
ムすることによって感光体を汚染する場合がある。 【００９５】本発明においては、抵抗調整層を耐油性が
良好なＮＢＲとした場合、電極層に可塑剤を多量に配合
することができる。これは、電極層に配合された可塑剤
の表面へのブルームが抵抗調整層のオイルバリアー効果
によって抑制されるためである。従って、本発明におい
ては、電極層に可塑剤を多量に配合して低硬度化した場
合においても、感光体などの被帯電体の汚染を抑制する
ことができる。 【００９６】本発明において、電極層が、可塑剤とし
て、ＮＢＲへの膨潤性が小さいパラフィンオイル、ナフ
テンオイル、アロマオイル等の鉱物油系軟化剤を含有す
ることが好ましい。可塑剤は１種を用いても、２種以上
を併用してもよい。これらの可塑剤の電極層中の含有量
は、通常、原料ゴム１００質量部に対して、５〜２００
質量部であることが好ましい。 【００９７】また、導電性部材（帯電部材）に交流電圧
（ＡＣ）を印加して使用する場合においては、電界強度
の変化に伴う帯電部材と感光体などの被帯電体との間の
振動によって発生する帯電音を抑制する点から、電極層
が発泡ゴムを主成分とすることが好ましい。 【００９８】なお、原料ゴムの発泡は公知の方法に従っ
て行えばよい。発泡剤としては、例えば、ジニトロソペ
ンタメチレンテトラミン、アゾジカルボンアミド、パラ
トルエンスルフォニルヒドラジン、アゾビスイソブチロ
ニトリル、４，４’−オキシビスベンゼンスルフォニル
ヒドラジン等の有機発泡剤、または、重炭酸ソーダ等の
無機発泡剤等を用いることができる。 【００９９】電極層の厚さは適宜決めればよいが、通
常、０．５〜１０ｍｍ程度とする。 【０１００】本発明における導電性部材の弾性体層（電
極層・抵抗調整層）には、必要に応じて、ゴムの配合剤
として一般に用いられている充填剤、加工助剤、架橋助
剤、架橋促進剤、架橋促進助剤、架橋遅延剤、粘着付与
剤、分散剤、発泡剤などを添加することができる。 【０１０１】これらのブレンド方法としては、バンバリ
ーミキサーや加圧式ニーダーといった密閉型混合機を使
用した混合方法や、オープンロールのような開放型の混
合機を使用した混合方法などを例示することができる。 【０１０２】図２に、本発明の第２の実施形態の導電性
部材の一例の模式的断面図を示す。図２に示す導電性部
材（帯電ローラ）１０は、弾性体層１２を二層構成とし
たものであり、金属製の芯金１１の外周に、弾性体層１
２である電極層１２１および抵抗調整層１２２の二層
と、表面被覆層１３とが積層されている。 【０１０３】弾性体層である電極層、抵抗調整層の形成
方法としては、例えば、（i）加硫剤と必要に応じて発
泡剤とを配合した未加硫未発泡の電極層形成用ゴム組成
物と、加硫剤を配合した未加硫非発泡の抵抗調整層形成
用ゴム組成物とを同時に押し出すことにより、芯金の外
周上に電極層形成用ゴム組成物層と、その外側の抵抗調
整層形成用ゴム組成物層とを一体的に形成し、（ii）電
極層形成用ゴム組成物層と抵抗調整層形成用ゴム組成物
層とが外周上に形成された前記芯金を、この芯金を成形
金型内周面と同心軸上に保持するための蓋体を両端に有
する円筒状の成形金型に挿入した後、（iii）前記成形
金型に挿入した、電極層形成用ゴム組成物層と抵抗調整
層形成用ゴム組成物層とが外周上に形成された芯金を加
熱することにより、前記電極層形成用ゴム組成物層の加
硫および発泡と、前記抵抗調整層形成用ゴム組成物層の
加硫とを同時に行って、前記芯金の外周面上に電極層を
形成し、この電極層の外周面上に抵抗調整層を形成する
方法が挙げられる。 【０１０４】加硫および発泡は公知の方法に従って行え
ばよい。加硫温度は、例えば、１４０〜２００℃程度と
することができる。 【０１０５】また、前述の通り、予め上記式（１）で表
されるイオン導電剤と上記式（２）で表されるエステル
系化合物とを混合し、この混合物をアクリロニトリル−
ブタジエン共重合体（ＮＢＲ）を含む原料ゴムに混合し
て抵抗調整層形成用ゴム組成物を調製することが好まし
い。 【０１０６】図３に、上記の方法において成形に使用さ
れるクロスヘッド押出し機の模式図を示す。未加硫の電
極層形成用ゴム組成物と未加硫の抵抗調整層形成用ゴム
組成物は、それぞれ別々の押出機２１，２２を用いて送
られ、押出ヘッド２３において芯金の外周に積層され
る。 【０１０７】図４に、図３の押出ヘッド２３の模式的断
面図を示す。未加硫の電極層形成用ゴム組成物は図中矢
印３２の経路を通り、未加硫の抵抗調整層形成用ゴム組
成物は図中矢印３１の経路を通り、図中矢印３３より挿
入される芯金の外周に積層される。 【０１０８】なお、得られる円筒状の積層体の外径は、
ダイス３４の径を変えることによって、所望の大きさに
調整することができる。また、内側の電極層の厚さと外
側の抵抗調整層の厚さとは、各押し出し機２１，２２の
ゴム吐出量（スクリュー回転数）の比率によって調整す
ることができる。 【０１０９】図５に、上記の方法において加硫成形する
際に使用する成形金型の模式的断面図を示す。未加硫の
電極層形成用ゴム組成物層と抵抗調整層形成用ゴム組成
物層とを有する未加硫積層体は、芯金を成形金型内周面
と同心軸上に保持するための蓋体４１を両端に有する円
筒状の成形金型４２に挿入され、加熱により加硫と発泡
とを同時に行うことで、芯金の外周面上に発泡ゴムから
なる電極層、さらにこの電極層の外周面上に非発泡抵抗
調整層が形成される。 【０１１０】本発明の導電性部材の表面被覆層は、トナ
ーや紙粉などが導電性部材（帯電部材）表面に付着し、
感光体などの被帯電部材への帯電不良が発生するのを防
止するためのものである。表面被覆層は、一般的には、
アクリル樹脂、ポリウレタン、ポリアミド、ポリエステ
ル、ポリオレフィン、シリコーン樹脂等のバインダー高
分子に導電フィラー、例えば、カーボンブラック、グラ
ファイト、酸化チタン、酸化錫等の酸化物；Ｃｕ、Ａｇ
等の金属；酸化物や金属を粒子表面に被覆して導電化し
た導電粒子などを適量分散させることにより、１×１０
6〜１×１０12Ω・ｃｍ程度の電気抵抗率としたものが
用いられる。 【０１１１】表面被覆層の厚さは適宜決めればよいが、
通常、１〜１００μｍ程度とする。 【０１１２】表面被覆層の形成方法としては、上記のよ
うなバインダー高分子を溶剤に溶解または分散し、これ
に導電フィラーを分散させた液を、ディッピング、ビー
ム塗工、ロールコーター等の塗工法によって、弾性体層
表面にコーティングする方法；バインダー高分子中に導
電フィラーを練り込み、それを押出機などによって円筒
形状に成形したものを弾性体層に被覆する方法などを挙
げることができる。 【０１１３】本発明の導電性部材の芯金としては、導電
性を示すものであれば特に限定されず、例えば、鉄、ア
ルミニウム、チタン、銅およびニッケル等の金属やこれ
らの金属を含むステンレス、ジュラルミン、真鍮および
青銅等の合金、あるいは、カーボンブラックや炭素繊維
をプラスチックで固めた複合材料などが挙げられる。ま
た、芯金の形状は、必要に応じて適宜決めればよい。 【０１１４】芯金の体積抵抗率は、通常、１×１０-6〜
１×１０2Ω・ｃｍである。 【０１１５】なお、本発明の導電性部材には、必要に応
じて、弾性体層や表面被覆層以外に、接着層、拡散防止
層、下地層、プライマー層などの機能層を設けることも
できる。また、弾性体層である電極層、抵抗調整層や表
面被覆層を２層以上設けることもできる。 【０１１６】＜本発明の導電性部材の用途＞本発明の導
電性部材は、電子写真装置などの画像形成装置や、感光
体および帯電部材を一体的にカートリッジ化し、画像形
成装置本体に対して着脱可能としたプロセスカートリッ
ジにおいて、感光体などの被帯電部材に当接してして使
用される導電性部材、すなわち帯電部材などとして好適
である。 【０１１７】具体的には、少なくとも像担持体と、前記
像担持体に接触し、電圧の印加により前記像担持体を帯
電する帯電部材とが一体的に設けられてカートリッジ化
されており、画像形成装置本体に対して着脱可能である
プロセスカートリッジにおいて、前記帯電部材として本
発明の導電性部材を用いることが好ましい。特に、前記
帯電部材が、前記像担持体に当接し、電圧の印加により
前記像担持体上に形成された静電潜像にトナーを付着さ
せて現像し、トナー像を形成する現像部材である場合
に、前記帯電部材、すなわち現像部材として本発明の導
電性部材を用いることが好ましい。 【０１１８】また、少なくとも像担持体と、前記像担持
体に接触し、電圧の印加により前記像担持体を帯電する
帯電部材とを有する画像形成装置において、前記帯電部
材として本発明の導電性部材を用いることが好ましい。 【０１１９】また、少なくとも像担持体と、前記像担持
体の表面に形成されたトナー像を転写材に転写する転写
部材とを有する画像形成装置において、前記転写部材と
して本発明の導電性部材を用いることが好ましい。 【０１２０】図６に、本発明の導電性部材（帯電部材）
を有する電子写真装置の概略構成図を示す。 【０１２１】５１は被帯電体としての像担持体であり、
本例のものは、アルミニウム等の導電性支持体５１ｂと
その外周面に形成した感光層５１ａとを基本構成とする
ドラム型の電子写真感光体である。感光体５１は、支軸
５１ｃを中心に、図面上時計方向に所定の周速度をもっ
て回転駆動される。 【０１２２】１０はこの感光体５１面に接して感光体面
を所定の極性・電位に一様に一次帯電処理する帯電部材
であり、本例はローラタイプのものである。帯電ローラ
１０は、中心芯金１１と、その外周に形成した下層の弾
性体層１２と、さらにその外周に形成した上層の表面被
覆層１３とから成る。帯電ローラ１０は、芯金１１の両
端部を不図示の押圧手段で、感光体５１の回転駆動に伴
い従動回転する。 【０１２３】そして、電源５３で摺擦電源５３ａによ
り、芯金１１に所定の直流（ＤＣ）バイアス、あるい
は、直流＋交流（ＤＣ＋ＡＣ）バイアスが印加されるこ
とで、回転駆動している感光体５１の周面が所定の極性
・電位に接触帯電される。 【０１２４】帯電部材１０で均一に帯電処理を受けた感
光体５１面は、露光手段５４により目的画像情報の露光
（レーザービーム走査露光、原稿画像のスリット露光
等）を受けることで、その周面に目的の画像情報に対応
した静電潜像が形成される。 【０１２５】その静電潜像は、現像手段５５によりトナ
ー画像として順次に可視像化されていく。 【０１２６】このトナー画像は、転写手段５６により不
図示の給紙手段部から感光体５１の回転と同期取りされ
て適正なタイミングをもって感光体５１と転写手段５６
との間の転写部へ搬送された転写材５７面に順次転写さ
れていく。本例の転写手段５６は転写ローラであり、転
写材５７の裏からトナーと逆極性の帯電を行うことで、
感光体５１面側のトナー画像が転写材５７の表面側に転
写されていく。 【０１２７】トナー画像の転写を受けた転写材５７は感
光体５１面から分離されて不図示の像定着手段へ搬送さ
れ、像定着を受けて画像形成物として出力される。ある
いは、裏面にも像形成するものでは、転写部への再搬送
手段へ搬送される。 【０１２８】像転写後の感光体５１面はクリーニング手
段５８で転写残りトナー等の付着汚染物の除去を受け、
洗浄面化されて繰り返して作像に供される。 【０１２９】本発明の導電性部材は、図６の画像形成装
置に像担持体５１の帯電処理手段（帯電部材１０）とし
て装置したようなローラタイプ以外にも、ブレード状タ
イプ、ブロック状タイプ、ベルト状タイプ等の形態に構
成することができる。 【０１３０】ローラタイプの帯電部材１０は、面移動駆
動される被帯電体５１に従動駆動させてもよいし、非回
転のものとしてもよいし、被帯電体５１の面移動方向に
対し順方向または逆方向に所定の周速度をもって積極的
に回転駆動させるようにしてもよい。 【０１３１】また、光像露光は、電子写真装置を複写機
プリンタとして使用する場合には、原稿からの反射光や
透過光、あるいは、原稿を読み取り信号化し、この信号
に基づいてレーザービームを走査したり、ＬＥＤアレイ
を駆動したり、または、液晶シャッターアレイを駆動し
たりすること等により行われる。 【０１３２】本発明の導電性部材（帯電部材）を使用で
きる電子写真装置としては、複写機、レーザービームプ
リンタ、ＬＥＤプリンタ、あるいは、電子写真製版シス
テム等の電子写真応用装置などが挙げられる。 【０１３３】本発明の導電性部材は、現像用、転写用、
１次帯電用、除電用の他、給紙用ローラなどの搬送用と
して用いることができる。 【０１３４】また、本発明においては、図７に示すよう
に、感光体、帯電部材、現像手段およびクリーニング手
段のような電子写真装置の複数の要素がプロセスカート
リッジに一体的に組み込まれるようにすることもでき
る。そうすることにより、プロセスカートリッジは装置
本体に対して着脱可能とすることができる。図７に示す
プロセスカートリッジは、本発明の帯電部材１０、現像
手段５５およびクリーニング手段５８を感光体５１とと
もにプロセスカートリッジに一体的に組み込み、装置本
体のレールなどの案内手段を用いて着脱自在に装着でき
るように構成されている。 【０１３５】 【実施例】以下、実施例によって本発明をさらに詳細に
説明するが、これらは本発明を何ら限定するものではな
い。なお、以下特に明記しない限り、「部」は「質量
部」を意味しており、試薬等は特に指定のないものは市
販の高純度品を用いた。 【０１３６】＜実施例１＞ ゴムローラ１、帯電ローラ１ 原料ゴムとしてエピクロルヒドリン−エチレンオキサイ
ド−アリルグリシジルエーテル３元共重合体（ダイソー
社製、商品名：エピクロマーＣＧ１０２）１００部、加
工助剤としてステアリン酸１部、加硫促進助剤として酸
化亜鉛５部、充填剤として炭酸カルシウム（白石工業社
製、商品名：シルバーＷ）６０部、老化防止剤として
２，２’−メチレン−ビス−（４−エチル−６−ｔｅｒ
ｔ−ブチルフェノール）（大内新興化学製、商品名：ノ
クラックＮＳ−５）１部、イオン導電剤として、下記式
（１−１）で表されるＮ−ジオキシエチレン−Ｎ，Ｎ，
Ｎ−モノオクタデシルジメチルアンモニウムパークロレ
ートと、下記式（２−１）で表されるエーテル系化合物
であるアジピン酸ジヘキソキシエチル（分子量：４０
２）とを１：５（重量比）で混合した混合物６部、架橋
剤として硫黄０．３部、加硫促進剤としてジペンタメチ
レンチウラムテトラスルフィド（ＤＰＴＴ）２部をオー
プンロールにて混合し、未加硫ゴム組成物を得た。原料
ゴムのＳＰ値は１８．５（ＭＰａ）1/2であり、導電剤
を含まない状態の体積固有抵抗率は５×１０7Ω・ｃｍ
である。 【０１３７】 【化９】 【０１３８】 【化１０】 【０１３９】得られた未加硫ゴム組成物を厚さ２ｍｍの
シート成形金型にて１８０℃、１５分間プレス加硫を行
い、成形シートを得た。そして、この成形シートを用い
て体積抵抗率の測定を行った。体積抵抗率の測定は、日
本ゴム協会標準規格「ゴムおよびゴム状類似物の体積抵
抗率測定方法 ＳＲＩＳ−２３０４」に準拠して行っ
た。その結果、このゴム材料の体積抵抗率は２×１０7
Ω・ｃｍであった。 【０１４０】さらに、上記の未加硫ゴム組成物を、クロ
スヘッドを用いた押出成形によって、芯金（ＳＵＳ製、
直径６ｍｍ、長さ２４０ｍｍ；体積固有抵抗率７．０×
１０ -5Ω・ｃｍ）を中心として同軸状に円筒形に押出
し、端部を切断して仕込み形状を作製した。得られた仕
込み形状を有する、弾性体層となる未加硫ゴム組成物層
が外周上に形成された芯金を成形金型（内径１５ｍｍ）
内部に固定し、１８０℃で１５分間プレス加硫を行っ
た。脱型後、さらに電気炉によって１８０℃、３０分間
２次加硫を行った。その後、表面を研磨し、肉厚３ｍｍ
の弾性体層が形成されたゴムローラ１を得た。 【０１４１】図８に、得られたゴムローラ（帯電部材）
の電気抵抗測定装置の概略図を示す。帯電ローラ１０は
芯金１１の両端部を不図示の押圧手段で円柱状のアルミ
ドラム８１に圧接され、アルミドラム８１の回転駆動に
伴い従動回転する。この状態で、電源８２を用いて帯電
ローラ１０の芯金部分１１に直流電圧を印加し、アルミ
ドラム８１に直列に接続した基準抵抗８３にかかる電圧
から、帯電ローラ１０の電気抵抗を計算する。 【０１４２】図８に示す装置を使用し、２３℃、５０％
Ｒ．Ｈ．（Ｎ／Ｎとも記載する）環境下で、芯金と金属
ドラムの間に直流１００Ｖの電圧を印加してゴムローラ
１の弾性体層の電気抵抗を測定した。また、ゴムローラ
１を１回転させ、その間の電気抵抗の最大値および最小
値を測定し、最大値／最小値を周ムラとして表した。そ
の結果、ゴムローラ１の弾性体層のＮ／Ｎでの電気抵抗
は４×１０5Ω、周ムラは１．１倍であった。 【０１４３】次に、水中に分散させたポリウレタン溶液
に、ｐＨ５．５に調整した水中にその界面の電気的反発
力で分散させた導電性酸化錫スラリーを固形分比で４０
質量％相当分散して塗料を調製した。そして、得られた
塗料をゴムローラ１の弾性体層上にディッピングによっ
てコーティングして、膜厚４０μｍの表面被覆層を形成
した。これを電気炉にて１２０℃で３０分間加熱乾燥
し、両端部を切断してゴム長２２４ｍｍの帯電ローラ１
を得た。なお、表面被覆層の電気抵抗率は８．０×１０
11Ω・ｃｍであった。 【０１４４】以上のようにして得られた帯電ローラ１を
プロセスカートリッジ（ローラ両端５Ｎ荷重でφ３０ｍ
ｍの感光体に同軸上で圧接）に装着し、電子写真装置
（キヤノン株式会社製、レーザーショットＬＢＰ−３２
０）に組込んで画像形成を行い、初期画像評価を行っ
た。その結果、均質で良好な画像が得られた。 【０１４５】次に、このカートリッジを４０℃、９５％
Ｒ．Ｈ．の環境下で３０日間放置した後、もう一度、電
子写真装置に組込み、画像形成を行い、過酷環境放置後
の画像評価を行った。その結果、帯電ローラ１から感光
体への汚染物質の移行は確認されず、品位良好な画像が
得られた。 【０１４６】＜実施例２＞ ゴムローラ２、帯電ローラ２ 原料ゴムとしてエピクロルヒドリン−エチレンオキサイ
ド−アリルグリシジルエーテル３元共重合体（ダイソー
社製、商品名：エピクロマーＣＧ１０２）１００部、加
工助剤としてステアリン酸１部、加硫促進助剤として酸
化亜鉛５部、充填剤として炭酸カルシウム（白石工業社
製、商品名：シルバーＷ）６０部、老化防止剤として
２，２’−メチレン−ビス−（4−エチル−６−ｔｅｒ
ｔ−ブチルフェノール）（大内新興化学製、商品名：ノ
クラックＮＳ−５）１部、イオン導電剤として、下記式
（１−２）で表されるＮ−ヘキサオキシエチレン−Ｎ，
Ｎ，Ｎ−モノドデシルジメチルアンモニウムパークロレ
ートと、上記式（２−１）で表されるエーテル系化合物
であるアジピン酸ジヘキソキシエチルとを１：５（重量
比）で混合した混合物６部、架橋剤として硫黄０．３
部、加硫促進剤としてジペンタメチレンチウラムテトラ
スルフィド（ＤＰＴＴ）２部をオープンロールにて混合
し、未加硫ゴム組成物を得た。原料ゴムのＳＰ値は１
８．５（ＭＰａ）1/ 2であり、導電剤を含まない状態の
体積固有抵抗率は５×１０7Ω・ｃｍである。 【０１４７】 【化１１】 【０１４８】得られた未加硫ゴム組成物を用い、実施例
１と同様にして成形シートを作製し、体積抵抗率の測定
を行った。その結果、このゴム材料の体積抵抗率は１×
１０ 7Ω・ｃｍであった。 【０１４９】また、得られた未加硫ゴム組成物を用い、
実施例１と同様にしてゴムローラ２を作製し、弾性体層
の電気抵抗を測定した。その結果、ゴムローラ２の弾性
体層のＮ／Ｎでの電気抵抗は２×１０5Ω、周ムラは
１．１倍であった。 【０１５０】さらに、実施例１と同様にして、ゴムロー
ラ２の弾性体層上に表面被覆層を形成し、帯電ローラ２
を作製した。 【０１５１】作製した帯電ローラ２を実施例１と同様に
プロセスカートリッジに装着し、電子写真装置に組込ん
で画像形成を行い、初期画像評価を行った。その結果、
均質で良好な画像が得られた。 【０１５２】次に、このカートリッジを４０℃、９５％
Ｒ．Ｈ．の環境下で３０日間放置した後、もう一度、電
子写真装置に組込み、画像形成を行い、過酷環境放置後
の画像評価を行った。その結果、帯電ローラ２から感光
体への汚染物質の移行は確認されず、品位良好な画像が
得られた。 【０１５３】＜実施例３＞ ゴムローラ３、帯電ローラ３ 原料ゴムとしてアクリロニトリル−ブタジエン共重合体
（ＪＳＲ社製、商品名：Ｎ２３０ＳＶ）１００部、加工
助剤としてステアリン酸１部、加硫促進助剤として酸化
亜鉛５部、充填剤として炭酸カルシウム（白石工業社
製、商品名：シルバーＷ）１００部、老化防止剤として
２，２’−メチレン−ビス−（4−エチル−６−ｔｅｒ
ｔ−ブチルフェノール）（大内新興化学製、商品名：ノ
クラックＮＳ−５）２部、イオン導電剤として、上記式
（１−１）で表されるＮ−ジオキシエチレン−Ｎ，Ｎ，
Ｎ−モノオクタデシルジメチルアンモニウムパークロレ
ートと、上記式（２−１）で表されるエーテル系化合物
であるアジピン酸ジヘキソキシエチルと、可塑剤として
下記式（３−１）で表されるジオクチルフタレートとを
１：２：２（重量比）で混合した混合物２５部、架橋剤
として硫黄０．３部、加硫促進剤としてジペンタメチレ
ンチウラムテトラスルフィド（ＤＰＴＴ）２部をオープ
ンロールにて混合し、未加硫ゴム組成物を得た。原料ゴ
ムのＳＰ値は２０．７（ＭＰａ）1/2であり、導電剤を
含まない状態の体積固有抵抗率は３×１０10Ω・ｃｍで
ある。 【０１５４】 【化１２】 【０１５５】得られた未加硫ゴム組成物を用い、実施例
１と同様にして成形シートを作製し、体積抵抗率の測定
を行った。その結果、このゴム材料の体積抵抗率は４×
１０ 7Ω・ｃｍであった。 【０１５６】また、得られた未加硫ゴム組成物を用い、
実施例１と同様にしてゴムローラ３を作製し、弾性体層
の電気抵抗を測定した。その結果、ゴムローラ３の弾性
体層のＮ／Ｎでの電気抵抗は６×１０5Ω、周ムラは
１．２倍であった。 【０１５７】さらに、実施例１と同様にして、ゴムロー
ラ３の弾性体層上に表面被覆層を形成し、帯電ローラ３
を作製した。 【０１５８】作製した帯電ローラ３を実施例１と同様に
プロセスカートリッジに装着し、電子写真装置に組込ん
で画像形成を行い、初期画像評価を行った。その結果、
均質で良好な画像が得られた。 【０１５９】次に、このカートリッジを４０℃、９５％
Ｒ．Ｈ．の環境下で３０日間放置した後、もう一度、電
子写真装置に組込み、画像形成を行い、過酷環境放置後
の画像評価を行った。その結果、帯電ローラ３から感光
体への汚染物質の移行は確認されず、品位良好な画像が
得られた。 【０１６０】＜実施例４＞ ゴムローラ４、帯電ローラ４ 原料ゴムとしてアクリロニトリル−ブタジエン共重合体
（ＪＳＲ社製、商品名：Ｎ２３０ＳＶ）１００部、加工
助剤としてステアリン酸１部、加硫促進助剤として酸化
亜鉛５部、充填剤として炭酸カルシウム（白石工業社
製、商品名：シルバーＷ）１００部、老化防止剤として
２，２’−メチレン−ビス−（4−エチル−６−ｔｅｒ
ｔ−ブチルフェノール）（大内新興化学製、商品名：ノ
クラックＮＳ−５）２部、イオン導電剤として、上記式
（１−２）で表されるＮ−ヘキサオキシエチレン−Ｎ，
Ｎ，Ｎ−モノドデシルジメチルアンモニウムパークロレ
ートと、上記式（２−１）で表されるエーテル系化合物
であるアジピン酸ジヘキソキシエチルと、可塑剤として
下記式（３−２）で表されるジオクチルセバケートとを
７：１０：１０（重量比）で混合した混合物２７部、架
橋剤として硫黄０．３部、加硫促進剤としてジペンタメ
チレンチウラムテトラスルフィド（ＤＰＴＴ）２部をオ
ープンロールにて混合し、未加硫ゴム組成物を得た。原
料ゴムのＳＰ値は２０．７（ＭＰａ）1/2であり、導電
剤を含まない状態の体積固有抵抗率は３×１０10Ω・ｃ
ｍである。 【０１６１】 【化１３】 【０１６２】得られた未加硫ゴム組成物を用い、実施例
１と同様にして成形シートを作製し、体積抵抗率の測定
を行った。その結果、このゴム材料の体積抵抗率は１×
１０ 7Ω・ｃｍであった。 【０１６３】また、得られた未加硫ゴム組成物を用い、
実施例１と同様にしてゴムローラ４を作製し、弾性体層
の電気抵抗を測定した。その結果、ゴムローラ４の弾性
体層のＮ／Ｎでの電気抵抗は２×１０5Ω、周ムラは
１．２倍であった。 【０１６４】さらに、実施例１と同様にして、ゴムロー
ラ４の弾性体層上に表面被覆層を形成し、帯電ローラ４
を作製した。 【０１６５】作製した帯電ローラ４を実施例１と同様に
プロセスカートリッジに装着し、電子写真装置に組込ん
で画像形成を行い、初期画像評価を行った。その結果、
均質で良好な画像が得られた。 【０１６６】次に、このカートリッジを４０℃、９５％
Ｒ．Ｈ．の環境下で３０日間放置した後、もう一度、電
子写真装置に組込み、画像形成を行い、過酷環境放置後
の画像評価を行った。その結果、帯電ローラ４から感光
体への汚染物質の移行は確認されず、品位良好な画像が
得られた。 【０１６７】＜実施例５＞ ゴムローラ５、帯電ローラ５ 原料ゴムとしてエピクロルヒドリン−エチレンオキサイ
ド−アリルグリシジルエーテル３元共重合体（ダイソー
社製、商品名：エピクロマーＣＧ１０２）１００部、加
工助剤としてステアリン酸１部、加硫促進助剤として酸
化亜鉛５部、充填剤として炭酸カルシウム（白石工業社
製、商品名：シルバーＷ）７０部、老化防止剤として
２，２’−メチレン−ビス−（4−エチル−６−ｔｅｒ
ｔ−ブチルフェノール）（大内新興化学製、商品名：ノ
クラックＮＳ−５）１部、イオン導電剤として、上記式
（１−１）で表されるＮ−ジオキシエチレン−Ｎ，Ｎ，
Ｎ−モノオクタデシルジメチルアンモニウムパークロレ
ートと、上記式（２−１）で表されるエーテル系化合物
であるアジピン酸ジヘキソキシエチルとを１：２（重量
比）で混合した混合物３部、セバシン酸系ポリエステル
可塑剤（大日本インキ社製、商品名：ポリサイザーＰ−
２０２；分子量約８０００）５部、架橋剤として硫黄
０．３部、加硫促進剤としてジペンタメチレンチウラム
テトラスルフィド（ＤＰＴＴ）２部をオープンロールに
て混合し、未加硫ゴム組成物を得た。原料ゴムのＳＰ値
は１８．５（ＭＰａ）1/2であり、導電剤を含まない状
態の体積固有抵抗率は５×１０7Ω・ｃｍである。 【０１６８】得られた未加硫ゴム組成物を用い、実施例
１と同様にして成形シートを作製し、体積抵抗率の測定
を行った。その結果、このゴム材料の体積抵抗率は２×
１０ 7Ω・ｃｍであった。 【０１６９】また、得られた未加硫ゴム組成物を用い、
実施例１と同様にしてゴムローラ５を作製し、弾性体層
の電気抵抗を測定した。その結果、ゴムローラ５の弾性
体層のＮ／Ｎでの電気抵抗は３×１０5Ω、周ムラは
１．１倍であった。 【０１７０】さらに、実施例１と同様にして、ゴムロー
ラ５の弾性体層上に表面被覆層を形成し、帯電ローラ５
を作製した。 【０１７１】作製した帯電ローラ５を実施例１と同様に
プロセスカートリッジに装着し、電子写真装置に組込ん
で画像形成を行い、初期画像評価を行った。その結果、
均質で良好な画像が得られた。 【０１７２】次に、このカートリッジを４０℃、９５％
Ｒ．Ｈ．の環境下で３０日間放置した後、もう一度、電
子写真装置に組込み、画像形成を行い、過酷環境放置後
の画像評価を行った。その結果、帯電ローラ５から感光
体への汚染物質の移行は確認されず、品位良好な画像が
得られた。 【０１７３】＜比較例１＞ ゴムローラ６、帯電ローラ６ 原料ゴムとしてポリイソプレンゴム（日本ゼオン社製、
商品名：ＩＲ２２００）１００部、加工助剤としてステ
アリン酸１部、加硫促進助剤として酸化亜鉛５部、充填
剤として炭酸カルシウム（白石工業社製、商品名：シル
バーＷ）６０部、老化防止剤として２，２’−メチレン
−ビス−（4−エチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノー
ル）（大内新興化学製、商品名：ノクラックＮＳ−５）
２部、イオン導電剤として、上記式（１−１）で表され
るＮ−ジオキシエチレン−Ｎ，Ｎ，Ｎ−モノオクタデシ
ルジメチルアンモニウムパークロレートと、上記式（２
−１）で表されるエーテル系化合物であるアジピン酸ジ
ヘキソキシエチルとを１：１（重量比）で混合した混合
物２０部、架橋剤として硫黄０．３部、加硫促進剤とし
てジペンタメチレンチウラムテトラスルフィド（ＤＰＴ
Ｔ）２部をオープンロールにて混合し、未加硫ゴム組成
物を得た。 【０１７４】得られた未加硫ゴム組成物を用い、実施例
１と同様にして成形シートを作製し、体積抵抗率の測定
を行った。その結果、このゴム材料の体積抵抗率は３×
１０ 8Ω・ｃｍであった。 【０１７５】また、得られた未加硫ゴム組成物を用い、
実施例１と同様にしてゴムローラ６を作製し、弾性体層
の電気抵抗を測定した。その結果、ゴムローラ６の弾性
体層のＮ／Ｎでの電気抵抗は５×１０6Ω、周ムラは
１．３倍であった。 【０１７６】さらに、実施例１と同様にして、ゴムロー
ラ６の弾性体層上に表面被覆層を形成し、帯電ローラ６
を作製した。 【０１７７】作製した帯電ローラ６を実施例１と同様に
プロセスカートリッジに装着し、電子写真装置に組込ん
で画像形成を行い、初期画像評価を行った。その結果、
ローラ抵抗が高いことによる帯電不良と思われる砂地状
の不均質画像が得られた。 【０１７８】＜比較例２＞ ゴムローラ７、帯電ローラ７ 原料ゴムとしてアクリロニトリル−ブタジエン共重合体
（ＪＳＲ社製、商品名：Ｎ２３０ＳＶ）１００部、加工
助剤としてステアリン酸１部、加硫促進助剤として酸化
亜鉛５部、充填剤として炭酸カルシウム（白石工業社
製、商品名：シルバーＷ）１００部、老化防止剤として
２，２’−メチレン−ビス−（4−エチル−６−ｔｅｒ
ｔ−ブチルフェノール）（大内新興化学製、商品名：ノ
クラックＮＳ−５）２部、イオン導電剤として、下記式
（４）で表されるステアリルトリメチルアンモニウムク
ロライドと、上記式（２−１）で表されるエーテル系化
合物であるアジピン酸ジヘキソキシエチルと、可塑剤と
して上記式（３−２）で表されるジオクチルセバケート
とを１：２：２（重量比）で混合した混合物２５部、架
橋剤として硫黄０．３部、加硫促進剤としてジペンタメ
チレンチウラムテトラスルフィド（ＤＰＴＴ）２部をオ
ープンロールにて混合し、未加硫ゴム組成物を得た。 【０１７９】 【化１４】【０１８０】得られた未加硫ゴム組成物を用い、実施例
１と同様にして成形シートを作製し、体積抵抗率の測定
を行った。その結果、このゴム材料の体積抵抗率は４×
１０ 8Ω・ｃｍであった。 【０１８１】また、得られた未加硫ゴム組成物を用い、
実施例１と同様にしてゴムローラ７を作製し、弾性体層
の電気抵抗を測定した。その結果、ゴムローラ７の弾性
体層のＮ／Ｎでの電気抵抗は７×１０6Ω、周ムラは
１．１倍であった。 【０１８２】さらに、実施例１と同様にして、ゴムロー
ラ７の弾性体層上に表面被覆層を形成し、帯電ローラ７
を作製した。 【０１８３】作製した帯電ローラ７を実施例１と同様に
プロセスカートリッジに装着し、電子写真装置に組込ん
で画像形成を行い、初期画像評価を行った。その結果、
ローラ抵抗が高いことによる帯電不良と思われる砂地状
の不均質画像が得られた。 【０１８４】＜比較例３＞ ゴムローラ８、帯電ローラ８ 原料ゴムとしてアクリロニトリル−ブタジエン共重合体
（ＪＳＲ社製、商品名：Ｎ２３０ＳＶ）１００部、加工
助剤としてステアリン酸１部、加硫促進助剤として酸化
亜鉛５部、充填剤として炭酸カルシウム（白石工業社
製、商品名：シルバーＷ）１００部、老化防止剤として
２，２’−メチレン−ビス−（4−エチル−６−ｔｅｒ
ｔ−ブチルフェノール）（大内新興化学製、商品名：ノ
クラックＮＳ−５）２部、イオン導電剤として、下記式
（５）で表されるトリフルオロメタンスルホン酸リチウ
ムと、上記式（２−１）で表されるエーテル系化合物で
あるアジピン酸ジヘキソキシエチルと、可塑剤として上
記式（３−２）で表されるジオクチルセバケートとを
１：２：２（重量比）で混合した混合物２５部、架橋剤
として硫黄０．３部、加硫促進剤としてジペンタメチレ
ンチウラムテトラスルフィド（ＤＰＴＴ）２部をオープ
ンロールにて混合し、未加硫ゴム組成物を得た。 【０１８５】 【化１５】 【０１８６】得られた未加硫ゴム組成物を用い、実施例
１と同様にして成形シートを作製し、体積抵抗率の測定
を行った。その結果、このゴム材料の体積抵抗率は１×
１０ 8Ω・ｃｍであった。 【０１８７】また、得られた未加硫ゴム組成物を用い、
実施例１と同様にしてゴムローラ８を作製し、弾性体層
の電気抵抗を測定した。その結果、ゴムローラ８の弾性
体層のＮ／Ｎでの電気抵抗は２×１０6Ω、周ムラは
１．２倍であった。 【０１８８】さらに、実施例１と同様にして、ゴムロー
ラ８の弾性体層上に表面被覆層を形成し、帯電ローラ８
を作製した。 【０１８９】作製した帯電ローラ８を実施例１と同様に
プロセスカートリッジに装着し、電子写真装置に組込ん
で画像形成を行い、初期画像評価を行った。その結果、
ローラ抵抗が高いことによる帯電不良と思われる砂地状
の不均質画像が得られた。 【０１９０】＜比較例４＞ ゴムローラ９、帯電ローラ９ 原料ゴムとしてエチレン−プロピレン−ジエン３元共重
合体（三井石油化学社製、商品名：ＥＰＴ４０４５）１
００部、加工助剤としてステアリン酸１部、加硫促進助
剤として酸化亜鉛５部、充填剤としてＳＲＦカーボンブ
ラック（旭カーボン社製、商品名：旭#３５）４０部、
導電剤としてケッチェンブラック（ケッチェンブラック
インターナショナル社製、商品名：ケッチェンブラック
ＥＣ６００ＪＤ）７部、可塑剤としてパラフィンオイル
（出光興産社製、商品名：ＰＷ−３８０）５０部、架橋
剤として硫黄０．５部、加硫促進剤としてジペンタメチ
レンチウラムテトラスルフィド（ＤＰＴＴ）１部、２−
メルカプトベンゾチアゾール（ＭＢＴ）２部をオープン
ロールにて混合し、未加硫ゴム組成物を得た。 【０１９１】得られた未加硫ゴム組成物を用い、実施例
１と同様にして成形シートを作製し、体積抵抗率の測定
を行った。その結果、このゴム材料の体積抵抗率は１×
１０ 7Ω・ｃｍであった。 【０１９２】また、得られた未加硫ゴム組成物を用い、
実施例１と同様にしてゴムローラ９を作製し、弾性体層
の電気抵抗を測定した。その結果、ゴムローラ９の弾性
体層のＮ／Ｎでの電気抵抗は２×１０5Ω、周ムラは
１．８倍であった。 【０１９３】さらに、実施例１と同様にして、ゴムロー
ラ９の弾性体層上に表面被覆層を形成し、帯電ローラ９
を作製した。 【０１９４】作製した帯電ローラ９を実施例１と同様に
プロセスカートリッジに装着し、電子写真装置に組込ん
で画像形成を行い、初期画像評価を行った。その結果、
ローラの電気抵抗に周ムラが大きいことによると思われ
るローラ周ピッチの不均質画像が得られた。 【０１９５】＜比較例５＞ ゴムローラ１０、帯電ローラ１０ 原料ゴムとしてエピクロルヒドリン−エチレンオキサイ
ド−アリルグリシジルエーテル３元共重合体（ダイソー
社製、商品名：エピクロマーＣＧ１０２）１００部、加
工助剤としてステアリン酸１部、加硫促進助剤として酸
化亜鉛５部、充填剤として炭酸カルシウム（白石工業社
製、商品名：シルバーＷ）６０部、老化防止剤として
２，２’−メチレン−ビス−（4−エチル−６−ｔｅｒ
ｔ−ブチルフェノール）（大内新興化学製、商品名：ノ
クラックＮＳ−５）１部、イオン導電剤として、上記式
（５）で表されるトリフルオロメタンスルホン酸リチウ
ムと、上記式（２−１）で表されるエーテル系化合物で
あるアジピン酸ジヘキソキシエチルとを１：５（重量
比）で混合した混合物６部、架橋剤として硫黄０．３
部、加硫促進剤としてジペンタメチレンチウラムテトラ
スルフィド（ＤＰＴＴ）２部をオープンロールにて混合
し、未加硫ゴム組成物を得た。 【０１９６】得られた未加硫ゴム組成物を用い、実施例
１と同様にして成形シートを作製し、体積抵抗率の測定
を行った。その結果、このゴム材料の体積抵抗率は２×
１０ 7Ω・ｃｍであった。 【０１９７】また、得られた未加硫ゴム組成物を用い、
実施例１と同様にしてゴムローラ１０を作製し、弾性体
層の電気抵抗を測定した。その結果、ゴムローラ１０の
弾性体層のＮ／Ｎでの電気抵抗は４×１０5Ω、周ムラ
は１．２倍であった。 【０１９８】さらに、実施例１と同様にして、ゴムロー
ラ１０の弾性体層上に表面被覆層を形成し、帯電ローラ
１０を作製した。 【０１９９】作製した帯電ローラ１０を実施例１と同様
にプロセスカートリッジに装着し、電子写真装置に組込
んで画像形成を行い、初期画像評価を行った。その結
果、均質で良好な画像が得られた。 【０２００】次に、このカートリッジを４０℃、９５％
Ｒ．Ｈ．の環境下で３０日間放置した後、もう一度、電
子写真装置に組込み、画像形成を行い、過酷環境放置後
の画像評価を行った。その結果、帯電ローラ１０から感
光体への汚染物質の移行と思われる画像不良が見られ
た。 【０２０１】＜比較例６＞ ゴムローラ１１、帯電ローラ１１ 原料ゴムとしてアクリロニトリル−ブタジエン共重合体
（ＪＳＲ社製、商品名：Ｎ２３０ＳＶ）１００部、加工
助剤としてステアリン酸１部、加硫促進助剤として酸化
亜鉛５部、充填剤として炭酸カルシウム（白石工業社
製、商品名：シルバーＷ）１００部、老化防止剤として
２，２’−メチレン−ビス−（4−エチル−６−ｔｅｒ
ｔ−ブチルフェノール）（大内新興化学製、商品名：ノ
クラックＮＳ−５）２部、イオン導電剤として、上記式
（１−１）で表されるＮ−ジオキシエチレン−Ｎ，Ｎ，
Ｎ−モノオクタデシルジメチルアンモニウムパークロレ
ートと、可塑剤として上記式（３−２）で表されるジオ
クチルセバケートとを７：２０（重量比）で混合した混
合物２７部、架橋剤として硫黄０．３部、加硫促進剤と
してジペンタメチレンチウラムテトラスルフィド（ＤＰ
ＴＴ）２部をオープンロールにて混合し、未加硫ゴム組
成物を得た。 【０２０２】得られた未加硫ゴム組成物を用い、実施例
１と同様にして成形シートを作製し、体積抵抗率の測定
を行った。その結果、このゴム材料の体積抵抗率は１×
１０ 7Ω・ｃｍであった。 【０２０３】また、得られた未加硫ゴム組成物を用い、
実施例１と同様にしてゴムローラ１１を作製し、弾性体
層の電気抵抗を測定した。その結果、ゴムローラ１１の
弾性体層のＮ／Ｎでの電気抵抗は２×１０5Ω、周ムラ
は１．２倍であった。 【０２０４】さらに、実施例１と同様にして、ゴムロー
ラ１１の弾性体層上に表面被覆層を形成し、帯電ローラ
１１を作製した。 【０２０５】作製した帯電ローラ１１を実施例１と同様
にプロセスカートリッジに装着し、電子写真装置に組込
んで画像形成を行い、初期画像評価を行った。その結
果、均質で良好な画像が得られた。 【０２０６】次に、このカートリッジを４０℃、９５％
Ｒ．Ｈ．の環境下で３０日間放置した後、もう一度、電
子写真装置に組込み、画像形成を行い、過酷環境放置後
の画像評価を行った。その結果、帯電ローラ１１から感
光体への汚染物質の移行と思われる画像不良が見られ
た。 【０２０７】以上の評価結果を表１、２にまとめて示
す。 【０２０８】 【表１】【０２０９】 【表２】 【０２１０】なお、表中の初期画像評価・過酷放置後の
画像評価については、良好な画像が得られたものを○；
画像不良が見られたものを×とした。また、表中の総合
評価については、ゴムローラの弾性層の電気抵抗の周ム
ラが１．２倍以下で、初期画像評価・過酷放置後の画像
評価が共に良好なものを○；それ以外のものを×とし
た。 【０２１１】比較例１の帯電ローラ６は、原料ゴムがＳ
Ｐ値の低いイソプレンゴム（ＳＰ値：１７．０（ＭＰ
ａ）1/2））であるため、イオン導電剤を多量に配合し
てもローラの電気抵抗が高く、帯電能力が低い。 【０２１２】比較例２の帯電ローラ７、比較例３の帯電
ローラ８は、イオン導電剤が本発明の構造とは異なって
いるため、ローラの電気抵抗が高く、帯電能力が低い。 【０２１３】比較例４の帯電ローラ９は、絶縁性のＥＰ
ＤＭにカーボンブラックを添加して電気抵抗の調整を行
った電子導電系ゴムによる帯電ローラであるため、ロー
ラの電気抵抗に周ムラが大きいことによる、ローラ周ピ
ッチの不均質画像が発生した。 【０２１４】比較例５の帯電ローラ１０は、イオン導電
剤の構造が本発明の構造とは異なっているため、感光体
への移行物質による画像不良が認められた。 【０２１５】比較例６の帯電ローラ１１は、エステル系
化合物の構造が本発明の構造とは異なっているため、感
光体への移行物質による画像不良が認められた。 【０２１６】表１、２から明らかなように、本発明のゴ
ムローラ１〜５、帯電ローラ１〜５については、弾性層
の電気抵抗の周ムラは１．２倍以下、初期画像・過酷放
置後の画像評価は共に良好であった。 【０２１７】＜実施例６＞ 帯電ローラ１２ 原料ゴムとしてエチレン−プロピレン−ジエン３元共重
合体（三井石油化学社製、商品名：ＥＰＴ４０４５）１
００部、加工助剤としてステアリン酸１部、加硫促進助
剤として酸化亜鉛５部、充填剤としてＳＲＦカーボンブ
ラック（旭カーボン社製、商品名：旭#３５）５０部、
導電剤としてケッチェンブラック（ケッチェンブラック
インターナショナル社製、商品名：ケッチェンブラック
ＥＣ６００ＪＤ）１０部、可塑剤としてパラフィンオイ
ル（出光興産社製、商品名：ＰＷ−３８０）５０部、架
橋剤として硫黄０．５部、加硫促進剤として２−メルカ
プトベンゾチアゾール（ＭＢＴ）２部、テトラメチルチ
ウラムジスルフィド（ＴＭＴＤ）１部、ジブチルジチオ
カルバミン酸亜鉛（ＺｎＢＤＣ）１部、発泡剤としてア
ゾジカルボンアミド（ＡＤＣＡ）４部と４，４’−オキ
シビスベンゼンスルフォニルヒドラジン（ＯＢＳＨ）４
部をオープンロールにて混合し、電極層形成用未加硫ゴ
ム組成物を得た。 【０２１８】原料ゴムとしてアクリロニトリル−ブタジ
エン共重合体（ＪＳＲ社製、商品名：Ｎ２３０ＳＶ）１
００部、加工助剤としてステアリン酸１部、加硫促進助
剤として酸化亜鉛５部、充填剤として炭酸カルシウム
（白石工業社製、商品名：シルバーＷ）１００部、老化
防止剤として２，２’−メチレン−ビス−（4−エチル
−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）（大内新興化学
製、商品名：ノクラックＮＳ−５）２部、イオン導電剤
として、上記式（１−１）で表されるＮ−ジオキシエチ
レン−Ｎ，Ｎ，Ｎ−モノオクタデシルジメチルアンモニ
ウムパークロレートと、上記式（２−１）で表されるエ
ーテル系化合物であるアジピン酸ジヘキソキシエチルと
を１：４（重量比）で混合した混合物２５部、架橋剤と
して硫黄０．３部、加硫促進剤としてジペンタメチレン
チウラムテトラスルフィド（ＤＰＴＴ）２部をオープン
ロールにて混合し、抵抗調整層形成用未加硫ゴム組成物
を得た。 【０２１９】得られた２種類の未加硫ゴム組成物を、図
３に示したクロスヘッドを用いた押出成形によって、芯
金（ＳＵＳ製、直径６ｍｍ、長さ２４０ｍｍ；体積固有
抵抗率７×１０-5Ω・ｃｍ）を中心として同軸状に円筒
形に同時に押出し、端部を切断して、芯金の外周に未加
硫の電極層と抵抗調整層を積層した仕込み形状を作製し
た。得られた仕込み形状を有する、電極層形成用ゴム組
成物層と抵抗調整層形成用ゴム組成物層とが外周上に形
成された芯金を、図５に示した成形金型（内径１２ｍ
ｍ）内部に固定し、１８０℃で１５分間加硫を行った。
脱型後、さらに電気炉によって１８０℃、３０分間２次
加硫を行い、肉厚３ｍｍの弾性体層が形成されたゴムロ
ーラを得た。この時、弾性体層の断面より測定した抵抗
調整層の厚さは４００μｍであった。なお、抵抗調整層
の体積固有抵抗率は８．０×１０6Ω・ｃｍであり、電
極層の体積固有抵抗率は１×１０4Ω・ｃｍであった。 【０２２０】次に、水中に分散させたポリウレタン溶液
に、ｐＨ５．５に調整した水中にその界面の電気的反発
力で分散させた導電性酸化錫スラリーを固形分比で４０
質量％相当分散して塗料を調製した。そして、得られた
塗料をゴムローラの弾性体層上にディッピングによって
コーティングして、膜厚４０μｍの表面被覆層を形成し
た。これを電気炉にて１２０℃で３０分間加熱乾燥し、
両端部を切断してゴム長２２４ｍｍの帯電ローラ１２を
得た。なお、表面被覆層の電気抵抗率は８．０×１０11
Ω・ｃｍであった。 【０２２１】図８に示した電気抵抗測定装置を使用し、
２３℃、５０％Ｒ．Ｈ．（Ｎ／Ｎとも記載する）環境下
で、芯金と金属ドラムの間に直流１０Ｖおよび４００Ｖ
の電圧を印加して帯電ローラ１２の電気抵抗を測定し
た。その結果、帯電ローラ１２のＮ／Ｎでの電気抵抗は
１０Ｖ印加時で３×１０6Ω、４００Ｖ印加時で２×１
０6Ωであった。 【０２２２】また、得られた帯電ローラ１２をプロセス
カートリッジ（ローラ両端５Ｎ荷重でφ３０ｍｍの感光
体に同軸上で圧接）に装着し、電子写真装置（キヤノン
株式会社製、レーザーショットＬＢＰ−４７０）に組込
んで画像形成を行い、初期画像評価を行った。その結
果、均質で良好な画像が得られた。 【０２２３】次に、このカートリッジのＯＰＣ感光体に
約φ０．３ｍｍのピンホールを形成した物を用いて画像
形成・評価を行い、リーク性の評価を行った。その結
果、リークによる画像不良は認められなかった。 【０２２４】また、初期画像評価を実施した物と同様の
カートリッジを４０℃、９５％Ｒ．Ｈ．の環境下で３０
日間放置した後、もう一度、電子写真装置に組込み、画
像形成を行い、過酷環境放置後の画像評価を行った。そ
の結果、帯電ローラ１２から感光体への汚染物質の移行
は確認されず、品位良好な画像が得られた。 【０２２５】＜実施例７＞ 帯電ローラ１３ 原料ゴムとしてアクリロニトリル−ブタジエン共重合体
（ＪＳＲ社製、商品名：Ｎ２３０ＳＶ）１００部、加工
助剤としてステアリン酸１部、加硫促進助剤として酸化
亜鉛５部、充填剤として炭酸カルシウム（白石工業社
製、商品名：シルバーＷ）１００部、老化防止剤として
２，２’−メチレン−ビス−（4−エチル−６−ｔｅｒ
ｔ−ブチルフェノール）（大内新興化学製、商品名：ノ
クラックＮＳ−５）２部、イオン導電剤として、上記式
（１−２）で表されるＮ−ヘキサオキシエチレン−Ｎ，
Ｎ，Ｎ−モノドデシルジメチルアンモニウムパークロレ
ートと、上記式（２−１）で表されるエーテル系化合物
であるアジピン酸ジヘキソキシエチルとを１：４（重量
比）で混合した混合物２５部、架橋剤として硫黄０．３
部、加硫促進剤としてジペンタメチレンチウラムテトラ
スルフィド（ＤＰＴＴ）２部をオープンロールにて混合
し、抵抗調整層形成用未加硫ゴム組成物を得た。 【０２２６】得られた抵抗調整層形成用未加硫ゴム組成
物を使用した以外は、実施例６と同様にして帯電ローラ
１３を作製した。なお、抵抗調整層の体積固有抵抗率は
１×１０7Ω・ｃｍであった。 【０２２７】実施例６と同様にして、作製した帯電ロー
ラ１３の電気抵抗を測定した結果、Ｎ／Ｎでの電気抵抗
は１０Ｖ印加時で４×１０6Ω、４００Ｖ印加時で３×
１０6Ωであった。 【０２２８】さらに、実施例６と同様にして、この帯電
ローラ１３をプロセスカートリッジに装着し、電子写真
装置に組込んで画像形成を行い、初期画像評価を行っ
た。その結果、均質で良好な画像が得られた。 【０２２９】次に、このカートリッジのＯＰＣ感光体に
約φ０．３ｍｍのピンホールを形成した物を用いて画像
形成・評価を行い、リーク性の評価を行った。その結
果、リークによる画像不良は認められなかった。 【０２３０】また、初期画像評価を実施した物と同様の
カートリッジを４０℃、９５％Ｒ．Ｈ．の環境下で３０
日間放置した後、もう一度、電子写真装置に組込み、画
像形成を行い、過酷環境放置後の画像評価を行った。そ
の結果、帯電ローラ１３から感光体への汚染物質の移行
は確認されず、品位良好な画像が得られた。 【０２３１】＜実施例８＞ 帯電ローラ１４ 原料ゴムとしてアクリロニトリル−ブタジエン共重合体
（ＪＳＲ社製、商品名：Ｎ２３０ＳＶ）８０部、エピク
ロルヒドリン−エチレンオキサイド−アリルグリシジル
エーテル３元共重合体（ダイソー社製、商品名：エピク
ロマーＣＧ１０２）２０部、加工助剤としてステアリン
酸１部、加硫促進助剤として酸化亜鉛５部、充填剤とし
て炭酸カルシウム（白石工業社製、商品名：シルバー
Ｗ）６０部、老化防止剤として２，２’−メチレン−ビ
ス−（4−エチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）
（大内新興化学製、商品名：ノクラックＮＳ−５）１
部、イオン導電剤として、上記式（１−１）で表される
Ｎ−ジオキシエチレン−Ｎ，Ｎ，Ｎ−モノオクタデシル
ジメチルアンモニウムパークロレートと、上記式（２−
１）で表されるエーテル系化合物であるアジピン酸ジヘ
キソキシエチルとを３：５（重量比）で混合した混合物
８部、架橋剤として硫黄０．３部、加硫促進剤としてジ
ペンタメチレンチウラムテトラスルフィド（ＤＰＴＴ）
２部をオープンロールにて混合し、抵抗調整層形成用未
加硫ゴム組成物を得た。 【０２３２】得られた抵抗調整層形成用未加硫ゴム組成
物を使用した以外は、実施例６と同様にして帯電ローラ
１４を作製した。なお、抵抗調整層の体積固有抵抗率は
９．０×１０6Ω・ｃｍであった。 【０２３３】実施例６と同様にして、作製した帯電ロー
ラ１４の電気抵抗を測定した結果、Ｎ／Ｎでの電気抵抗
は１０Ｖ印加時で４×１０6Ω、４００Ｖ印加時で２×
１０6Ωであった。 【０２３４】さらに、実施例６と同様にして、この帯電
ローラ１４をプロセスカートリッジに装着し、電子写真
装置に組込んで画像形成を行い、初期画像評価を行っ
た。その結果、均質で良好な画像が得られた。 【０２３５】次に、このカートリッジのＯＰＣ感光体に
約φ０．３ｍｍのピンホールを形成した物を用いて画像
形成・評価を行い、リーク性の評価を行った。その結
果、リークによる画像不良は認められなかった。 【０２３６】また、初期画像評価を実施した物と同様の
カートリッジを４０℃、９５％Ｒ．Ｈ．の環境下で３０
日間放置した後、もう一度、電子写真装置に組込み、画
像形成を行い、過酷環境放置後の画像評価を行った。そ
の結果、帯電ローラ１４から感光体への汚染物質の移行
は確認されず、品位良好な画像が得られた。 【０２３７】＜実施例９＞ 帯電ローラ１５ 原料ゴムとしてアクリロニトリル−ブタジエン共重合体
（ＪＳＲ社製、商品名：Ｎ２３０ＳＶ）６０部、エピク
ロルヒドリン−エチレンオキサイド−アリルグリシジル
エーテル３元共重合体（ダイソー社製、商品名：エピク
ロマーＣＧ１０２）４０部、加工助剤としてステアリン
酸１部、加硫促進助剤として酸化亜鉛５部、充填剤とし
て炭酸カルシウム（白石工業社製、商品名：シルバー
Ｗ）６０部、老化防止剤として２，２’−メチレン−ビ
ス−（4−エチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）
（大内新興化学製、商品名：ノクラックＮＳ−５）１
部、イオン導電剤として、上記式（１−２）で表される
Ｎ−ヘキサオキシエチレン−Ｎ，Ｎ，Ｎ−モノドデシル
ジメチルアンモニウムパークロレートと、上記式（２−
１）で表されるエーテル系化合物であるアジピン酸ジヘ
キソキシエチルとを２：５（重量比）で混合した混合物
７部、架橋剤として硫黄０．３部、加硫促進剤としてジ
ペンタメチレンチウラムテトラスルフィド（ＤＰＴＴ）
２部をオープンロールにて混合し、抵抗調整層形成用未
加硫ゴム組成物を得た。 【０２３８】得られた抵抗調整層形成用未加硫ゴム組成
物を使用した以外は、実施例６と同様にして帯電ローラ
１５を作製した。なお、抵抗調整層の体積固有抵抗率は
８×１０6Ω・ｃｍであった。 【０２３９】実施例６と同様にして、作製した帯電ロー
ラ１５の電気抵抗を測定した結果、Ｎ／Ｎでの電気抵抗
は１０Ｖ印加時で５×１０6Ω、４００Ｖ印加時で２×
１０6Ωであった。 【０２４０】さらに、実施例６と同様にして、この帯電
ローラ１５をプロセスカートリッジに装着し、電子写真
装置に組込んで画像形成を行い、初期画像評価を行っ
た。その結果、均質で良好な画像が得られた。 【０２４１】次に、このカートリッジのＯＰＣ感光体に
約φ０．３ｍｍのピンホールを形成した物を用いて画像
形成・評価を行い、リーク性の評価を行った。その結
果、リークによる画像不良は認められなかった。 【０２４２】また、初期画像評価を実施した物と同様の
カートリッジを４０℃、９５％Ｒ．Ｈ．の環境下で３０
日間放置した後、もう一度、電子写真装置に組込み、画
像形成を行い、過酷環境放置後の画像評価を行った。そ
の結果、帯電ローラ１５から感光体への汚染物質の移行
は確認されず、品位良好な画像が得られた。 【０２４３】＜比較例７＞ 帯電ローラ１６ 原料ゴムとしてアクリロニトリル−ブタジエン共重合体
（ＪＳＲ社製、商品名：Ｎ２３０ＳＶ）１００部、加工
助剤としてステアリン酸１部、加硫促進助剤として酸化
亜鉛５部、充填剤として炭酸カルシウム（白石工業社
製、商品名：シルバーＷ）１００部、老化防止剤として
２，２’−メチレン−ビス−（4−エチル−６−ｔｅｒ
ｔ−ブチルフェノール）（大内新興化学製、商品名：ノ
クラックＮＳ−５）２部、イオン導電剤として、上記式
（４）で表されるステアリルトリメチルアンモニウムク
ロライドと、上記式（２−１）で表されるエーテル系化
合物であるアジピン酸ジヘキソキシエチルとを１：４
（重量比）で混合した混合物２５部、架橋剤として硫黄
０．３部、加硫促進剤としてジペンタメチレンチウラム
テトラスルフィド（ＤＰＴＴ）２部をオープンロールに
て混合し、抵抗調整層形成用未加硫ゴム組成物を得た。 【０２４４】得られた抵抗調整層形成用未加硫ゴム組成
物を使用した以外は、実施例６と同様にして帯電ローラ
１６を作製した。 【０２４５】実施例６と同様にして、作製した帯電ロー
ラ１６の電気抵抗を測定した結果、Ｎ／Ｎでの電気抵抗
は１０Ｖ印加時で５×１０7Ω、４００Ｖ印加時で３×
１０7Ωであった。 【０２４６】さらに、実施例６と同様にして、この帯電
ローラ１６をプロセスカートリッジに装着し、電子写真
装置に組込んで画像形成を行い、初期画像評価を行っ
た。その結果、低電圧抵抗が高いことによる帯電不良と
思われる砂地状の不均質画像が得られた。 【０２４７】＜比較例８＞ 帯電ローラ１７ 原料ゴムとしてアクリロニトリル−ブタジエン共重合体
（ＪＳＲ社製、商品名：Ｎ２３０ＳＶ）１００部、加工
助剤としてステアリン酸１部、加硫促進助剤として酸化
亜鉛５部、充填剤として炭酸カルシウム（白石工業社
製、商品名：シルバーＷ）１００部、老化防止剤として
２，２’−メチレン−ビス−（4−エチル−６−ｔｅｒ
ｔ−ブチルフェノール）（大内新興化学製、商品名：ノ
クラックＮＳ−５）２部、イオン導電剤として、上記式
（１−１）で表されるＮ−ジオキシエチレン−Ｎ，Ｎ，
Ｎ−モノオクタデシルジメチルアンモニウムパークロレ
ートと、可塑剤として上記式（３−２）で表されるジオ
クチルセバケートとを１：４（重量比）で混合した混合
物２５部、架橋剤として硫黄０．３部、加硫促進剤とし
てジペンタメチレンチウラムテトラスルフィド（ＤＰＴ
Ｔ）２部をオープンロールにて混合し、抵抗調整層形成
用未加硫ゴム組成物を得た。 【０２４８】得られた抵抗調整層形成用未加硫ゴム組成
物を使用した以外は、実施例６と同様にして帯電ローラ
１７を作製した。 【０２４９】実施例６と同様にして、作製した帯電ロー
ラ１７の電気抵抗を測定した結果、Ｎ／Ｎでの電気抵抗
は１０Ｖ印加時で５×１０6Ω、４００Ｖ印加時で３×
１０6Ωであった。 【０２５０】さらに、実施例６と同様にして、この帯電
ローラ１７をプロセスカートリッジに装着し、電子写真
装置に組込んで画像形成を行い、初期画像評価を行っ
た。その結果、均質で良好な画像が得られた。 【０２５１】次に、このカートリッジのＯＰＣ感光体に
約φ０．３ｍｍのピンホールを形成した物を用いて画像
形成・評価を行い、リーク性の評価を行った。その結
果、リークによる画像不良は認められなかった。 【０２５２】また、初期画像評価を実施した物と同様の
カートリッジを４０℃、９５％Ｒ．Ｈ．の環境下で３０
日間放置した後、もう一度、電子写真装置に組込み、画
像形成を行い、過酷環境放置後の画像評価を行った。そ
の結果、帯電ローラ１７から感光体への汚染物質の移行
と思われる画像不良が見られた。 【０２５３】＜比較例９＞ 帯電ローラ１８ 原料ゴムとしてエピクロルヒドリン−エチレンオキサイ
ド−アリルグリシジルエーテル３元共重合体（ダイソー
社製、商品名：エピクロマーＣＧ１０２）１００部、加
工助剤としてステアリン酸１部、加硫促進助剤として酸
化亜鉛５部、充填剤として炭酸カルシウム（白石工業社
製、商品名：シルバーＷ）６０部、老化防止剤として
２，２’−メチレン−ビス−（4−エチル−６−ｔｅｒ
ｔ−ブチルフェノール）（大内新興化学製、商品名：ノ
クラックＮＳ−５）１部、イオン導電剤として、上記式
（５）で表されるトリフルオロメタンスルホン酸リチウ
ムと、上記式（２−１）で表されるエーテル系化合物で
あるアジピン酸ジヘキソキシエチルとを３：５（重量
比）で混合した混合物８部、架橋剤として硫黄０．３
部、加硫促進剤としてジペンタメチレンチウラムテトラ
スルフィド（ＤＰＴＴ）２部をオープンロールにて混合
し、抵抗調整層形成用未加硫ゴム組成物を得た。 【０２５４】得られた抵抗調整層形成用未加硫ゴム組成
物を使用した以外は、実施例６と同様にして帯電ローラ
１８を作製した。 【０２５５】実施例６と同様にして、作製した帯電ロー
ラ１８の電気抵抗を測定した結果、Ｎ／Ｎでの電気抵抗
は１０Ｖ印加時で６×１０5Ω、４００Ｖ印加時で９×
１０4Ωであった。 【０２５６】さらに、実施例６と同様にして、この帯電
ローラ１８をプロセスカートリッジに装着し、電子写真
装置に組込んで画像形成を行い、初期画像評価を行っ
た。その結果、均質で良好な画像が得られた。 【０２５７】次に、このカートリッジのＯＰＣ感光体に
約φ０．３ｍｍのピンホールを形成した物を用いて画像
形成・評価を行い、リーク性の評価を行った。その結
果、リークによる画像不良が見られた。 【０２５８】以上の評価結果を表３、４にまとめて示
す。 【０２５９】 【表３】【０２６０】 【表４】 【０２６１】なお、表中の初期画像評価・過酷放置後の
画像評価については、良好な画像が得られたものを○；
画像不良が見られたものを×とした。表中のリーク評価
については、リークによる画像不良が認められなかった
ものを○；リークによる画像不良が見られたものを×と
した。また、表中の総合評価については、初期画像評価
・リーク評価・過酷放置後の画像評価がいずれも良好な
ものを○；それ以外のものを×とした。 【０２６２】比較例７の帯電ローラ１６は、イオン導電
剤が本発明の構造とは異なっているため、低電圧抵抗が
高く、帯電能力が低く、初期画像評価が悪かった。 【０２６３】比較例８の帯電ローラ１７は、エステル系
化合物の構造が本発明の構造とは異なっているため、感
光体への移行物質による画像不良が認められた。 【０２６４】比較例９の帯電ローラ１８は、Ｌｏｇ（Ω
10）−Ｌｏｇ（Ω400）＞０．５であるため、電気抵抗
の電圧依存性が大きく、帯電能力とリークとの両立が達
成できていない。 【０２６５】表３、４から明らかなように、本発明の帯
電ローラ１２〜１５については、１０Ｖ印加時の電気抵
抗が１×１０7Ω未満で、１０Ｖ印加時の電気抵抗と４
００Ｖ印加時の電気抵抗の差が０．５オーダー以内であ
り、優れた帯電能力とリーク防止とが両立されており、
過酷放置後の感光体汚染による画像不良も見られなかっ
た。 【０２６６】 【発明の効果】以上のように、本発明によれば、電気的
特性が均一で、低抵抗化が可能であり、しかも、被帯電
部材に近接または接触させて被帯電部材を帯電処理する
際のイオン導電剤等による被帯電部材の汚染が抑制され
た導電性部材を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の導電性部材の一例を説明するための模
式的断面図である。 【図２】本発明の導電性部材の一例を説明するための模
式的断面図である。 【図３】本発明において用いるクロスヘッド押出し機の
例を説明するための模式図である。 【図４】図３のクロスヘッド押出し機のクロスヘッドを
説明するための模式的断面図である。 【図５】本発明において用いる成形金型の例を説明する
ための模式的断面図である。 【図６】本発明における電子写真装置の例を説明するた
めの模式的断面図である。 【図７】本発明におけるプロセスカートリッジの例を説
明するための模式的断面図である。 【図８】本発明における導電性部材の電気抵抗の測定例
を説明するための模式図である。 【符号の説明】 １０ 導電性部材（帯電部材） １１ 芯金 １２ 弾性体層 １２１ 電極層 １２２ 抵抗調整層 １３ 表面被覆層 ２１ 押出し機 ２２ 押出し機 ２３ クロスヘッド ３１ 未加硫の抵抗調整層形成用ゴム組成物の経路 ３２ 未加硫の電極層形成用ゴム組成物の経路 ３３ 芯金の挿入経路 ３４ ダイス ４１ 蓋体 ４２ 成形金型 ５１ 像担持体 ５１ａ 感光層 ５１ｂ 導電性支持体 ５１ｃ 支軸 ５３ 電源 ５３ａ 摺擦電源 ５４ 露光手段 ５５ 現像手段 ５６ 転写ローラ ５７ 転写材 ５８ クリーニング手段 ８１ アルミドラム ８２ 外部電源 ８３ 基準抵抗
式的断面図である。 【図２】本発明の導電性部材の一例を説明するための模
式的断面図である。 【図３】本発明において用いるクロスヘッド押出し機の
例を説明するための模式図である。 【図４】図３のクロスヘッド押出し機のクロスヘッドを
説明するための模式的断面図である。 【図５】本発明において用いる成形金型の例を説明する
ための模式的断面図である。 【図６】本発明における電子写真装置の例を説明するた
めの模式的断面図である。 【図７】本発明におけるプロセスカートリッジの例を説
明するための模式的断面図である。 【図８】本発明における導電性部材の電気抵抗の測定例
を説明するための模式図である。 【符号の説明】 １０ 導電性部材（帯電部材） １１ 芯金 １２ 弾性体層 １２１ 電極層 １２２ 抵抗調整層 １３ 表面被覆層 ２１ 押出し機 ２２ 押出し機 ２３ クロスヘッド ３１ 未加硫の抵抗調整層形成用ゴム組成物の経路 ３２ 未加硫の電極層形成用ゴム組成物の経路 ３３ 芯金の挿入経路 ３４ ダイス ４１ 蓋体 ４２ 成形金型 ５１ 像担持体 ５１ａ 感光層 ５１ｂ 導電性支持体 ５１ｃ 支軸 ５３ 電源 ５３ａ 摺擦電源 ５４ 露光手段 ５５ 現像手段 ５６ 転写ローラ ５７ 転写材 ５８ クリーニング手段 ８１ アルミドラム ８２ 外部電源 ８３ 基準抵抗
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(51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考）
Ｇ０３Ｇ 15/08 ５０１ Ｇ０３Ｇ 15/08 ５０１Ｄ
15/16 １０３ 15/16 １０３
Ｈ０１Ｂ 1/20 Ｈ０１Ｂ 1/20 Ｚ
//(Ｃ０８Ｌ 21/00 Ｃ０８Ｌ 71:02
71:02）
Ｆターム(参考） 2H077 AC04 AD06 AD35 EA12 EA13
EA14 FA12 FA16 FA22 FA27
2H171 FA07 FA11 FA13 FA15 FA22
FA25 FA26 FA27 FA30 GA15
GA40 JA04 JA06 JA08 JA17
PA04 PA09 PA14 QB03 QB41
QB42 QC03 SA31 TA15 TA17
TB02 TB13 UA03 UA05 UA06
UA08 UA10 UA23 UA28 VA04
VA06 XA02 XA12 XA15
2H200 FA08 FA13 FA18 FA19 HA03
HA28 HB12 HB22 HB43 HB45
HB46 JA02 JA23 JA25 JA26
LC03 MA03 MA08 MA11 MA12
MA14 MA17 MA20 MB02 MB04
NA02
4J002 AC001 CH052 EH047 EN136
FD206 FD207
5G301 DA17 DA42
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 【請求項１】 導電性の芯金上に少なくとも弾性体層を
有し、 前記弾性体層が、溶解度定数（ＳＰ値）が１７．８〜２
１．５（ＭＰａ）1/2の原料ゴムと、下記式（１）で表
されるイオン導電剤と、下記式（２）で表されるエステ
ル系化合物とを含有するゴム組成物にて形成されるもの
である導電性部材。 【化１】 （式（１）中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３のうち１個は炭素数５
〜２４のアルキル基を示し、他の２個はそれぞれ独立に
炭素数が１〜５のアルキル基を示す。ｎ1は１〜１５の
整数を示す。） 【化２】 （式（２）中、Ｒ４、Ｒ５はそれぞれ独立に炭素数が１
〜２０のアルキル基を示す。ｎ2、ｎ3はそれぞれ独立に
１〜１０の整数を示し、ｍは２〜２０の整数を示す。）
Priority Applications (1)
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|---|---|---|---|
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|---|---|---|---|
| JP2001-343865 | 2001-11-08 | ||
| JP2001343865 | 2001-11-08 | ||
| JP2002325603A JP2003221474A (ja) | 2001-11-08 | 2002-11-08 | 導電性部材 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003221474A true JP2003221474A (ja) | 2003-08-05 |
Family
ID=27759071
Family Applications (1)
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|---|---|---|---|
| JP2002325603A Pending JP2003221474A (ja) | 2001-11-08 | 2002-11-08 | 導電性部材 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2003221474A (ja) |
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-
2002
- 2002-11-08 JP JP2002325603A patent/JP2003221474A/ja active Pending
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