JP2003198357A - 半導体装置 - Google Patents
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Abstract
いて、インピーダンスの合わせ込みの精度を向上させる
こと。 【解決手段】 バッファサイズ決定回路21からバッフ
ァサイズ制御信号Pzとともに出力されたフィルター信
号filを、データ出力を制御するクロック信号CKに
同期させることでフィルター信号fckを生成する。こ
のクロック信号CKに同期したフィルター信号fckが
Lの期間はバッファサイズの更新を禁止し、フィルター
信号fckがHになってからバッファサイズを更新する
ことで、バッファサイズの更新もクロック信号CKに同
期して行わせる。
Description
特に、プログラマブルインピーダンス出力バッファ方式
におけるバッファサイズの更新制御に関する。
されるデータ転送速度は高速化され、その動作周波数は
数百MHzレベルに達している。
ブルインピーダンス(PI)回路技術というものが知ら
れている。以下にプログラマブルインピーダンス回路技
術について簡単に説明する。
速に行う場合、外部と接続されている配線の抵抗やイン
ダクタンス、接続先容量に起因するある一定のインピー
ダンスによりデータ信号の反射が起こり、正常なデータ
の送受信ができなくなることがある。このデータの反射
を解決するには、半導体装置内部と外部のインピーダン
スを一致させればよい。
圧、温度、といった外部要因の変化によって内部のイン
ピーダンスが容易に変化してしまうという特性をもつ。
半導体装置内部のインピーダンスを動作電圧や温度変化
に関わらず自動的に外部のインピーダンスに一致させる
ように制御する。
トランジスタの駆動力(バッファサイズ)を変化させる
ことにより、出力バッファのインピーダンスを外部のイ
ンピーダンス(通常はユーザが設定した抵抗値)に対し
て高精度で合わせ込み、使用環境の変化などによる回路
設計時からのズレを補正する。
(バッファサイズの更新)は、更新コントローラを用い
て書き込み動作時やNOP(no operation)状態のとき
に行われる。
スの合わせ込みを書き込み動作時やNOP状態のときに
行うため、従来の方式ではリード動作が連続するときに
はインピーダンスの合わせ込みは行われない。
導体装置内部のインピーダンスが変化すると、上記の通
り、データ信号の反射が起こるなどの問題が生じること
になる。
あり、プログラマブルインピーダンス回路技術におい
て、インピーダンスの合わせ込みの精度を向上させるこ
とを目的とする。
置は、例えば、それぞれデータを記憶する複数のメモリ
セルと、出力バッファを有し、第1のクロック信号に同
期して前記データを前記出力バッファへ入力させる出力
バッファ部と、前記出力バッファのバッファサイズを決
定するバッファサイズ決定信号、及び前記バッファサイ
ズ決定信号が遷移するタイミングに基づいた所定の期間
だけ所定値になるフィルター信号を生成し、前記出力バ
ッファ部に向けて出力するバッファサイズ決定回路と、
を具備し、前記出力バッファ部は、前記フィルター信号
を前記第1のクロック信号に同期させ、前記第1のクロ
ック信号に同期した前記フィルター信号が前記所定値で
ある期間には前記バッファサイズ決定信号に基づいたバ
ッファサイズの更新を禁止して、前記フィルター信号が
前記所定値以外である期間には前記バッファサイズ決定
信号に基づいたバッファサイズの更新を許容することを
特徴とする。
ば、それぞれデータを記憶する複数のメモリセルと、プ
ルアップ用出力トランジスタ群及びプルダウン用出力ト
ランジスタ群からなる出力バッファを有し、クロック信
号に同期して前記データを前記出力バッファへ入力させ
る出力バッファ部と、前記出力バッファのバッファサイ
ズを決定するバッファサイズ決定信号を生成し、前記出
力バッファ部に向けて出力するバッファサイズ決定回路
と、を具備し、前記出力バッファ部は、前記出力バッフ
ァがハイレベルを出力するときに前記プルダウン用出力
トランジスタ群のバッファサイズを更新し、前記出力バ
ッファがロウレベルを出力するときに前記プルアップ用
出力トランジスタ群のバッファサイズを更新することを
特徴とする。
面を参照して詳細に説明する。 ≪第1の実施の形態≫図1は本発明の第1の実施形態の
構成図である。
は、メモリチップ11が搭載されている。このメモリチ
ップ11のI/O端子12がデータバス13を介してM
PU14の入力端子15に接続されている。
示す。
リブロック23が配置され、それぞれのメモリブロック
23に対応してデータ出力部22が設けられている。こ
のデータ出力部22には、I/O端子や出力バッファな
どが含まれる。また、データ出力部22に含まれる出力
バッファのバッファサイズを決定するためのバッファサ
イズ決定回路21がメモリチップ11の中央部に設けら
れ、そのバッファサイズ決定回路21の出力は各データ
出力部22に接続されている。なお、バッファサイズ決
定回路21に接続された抵抗RQは、合わせ込むインピ
ーダンス値を決めるために接続されたものである。
をより詳細にした構成図である(各構成要素の配置は実
際のものと異なることに留意する)。
は、行列状に配置された複数のメモリセルを有するメモ
リアレイ31と、所望のメモリセルを選択するロウセレ
クタ32及びカラムセレクタ33と、センスアンプ34
と、ライトバッファ35と、アドレスデータが入力され
るアドレス端子36と、アドレス端子36とロウセレク
タ32及びカラムセレクタ33との間に接続されたアド
レスバッファ37と、データバスに接続された入力バッ
ファ部39及び出力バッファ部40と、入力バッファ部
39及び出力バッファ部40に接続されたI/O端子1
2と、出力バッファ40のインピーダンス(バッファサ
イズ)を自動調整するバッファサイズ決定回路21と、
書き込み時または読み出し時における動作タイミングの
コントロールを行うタイミングコントロール回路41
と、そのタイミングコントロール回路41からの出力を
受けるバッファ42とを有する。
る。
ら入力され、アドレスバッファ37を介してロウセレク
タ32及びカラムセレクタ33へ供給される。このアド
レス信号に基づいて、メモリアレイ31中の所望のメモ
リセルが選択される。
に、アドレス端子36及びアドレスバッファ37をそれ
ぞれ1つずつ示した。しかし実際のアドレス信号は、n
ビットのロウアドレス信号とmビットのカラムアドレス
信号とで構成されている。従って、アドレス端子36は
n+m個存在し、アドレスバッファ37はn個のロウア
ドレスバッファとm個のカラムアドレスバッファとから
構成される。そして、n個のロウアドレスバッファがロ
ウセレクタ32に接続され、m個のカラムアドレスバッ
ファがカラムセレクタ33に接続される。
2、入力バッファ部39、及び出力バッファ部40を1
つづづ示した。しかし実際には、データバスがkビット
であるとすると、これに対応して、I/O端子12、入
力バッファ部39、及び出力バッファ部40はそれぞれ
k個ずつ存在することになる。
ら入力された書き込みデータが、入力バッファ部39を
介してライトバッファ35へ与えられ、メモリアレイ3
1中の所望のメモリセルに書き込まれる。
メモリセルから読み出された出力データDATAが、セ
ンスアンプ34を介して出力バッファ部40へ伝送さ
れ、出力バッファ部40からI/O端子12を介してメ
モリチップ11外部へ出力される。なお、タイミング制
御信号が、タイミングコントロール回路41からバッフ
ァ42を介してロウセレクタ32、カラムセレクタ3
3、センスアンプ34、及びライトバッファ35に供給
されて、書き込み時または読み出し時における動作タイ
ミングの制御が行われる。
ファ部40と同様の回路形式を持つ(あるいはサイズが
定数倍の)ダミーバッファ回路と、外部端子ZQとを有
する。外部端子ZQには、マッチングすべきインピーダ
ンスを指定するための外部抵抗RQが接続されている。
そして、バッファサイズ決定回路21はダミーバッファ
回路のインピーダンスが外部抵抗RQと等しくなるよう
なトランジスタサイズを自動的に探す。そして、バッフ
ァサイズ決定回路21はバッファサイズを決定するため
のバッファサイズ決定信号Pzをシステムのクロック信
号CKに同期したクロック信号CK’に基づいて出力す
る。このバッファサイズ決定信号Pzにより出力バッフ
ァ部40のバッファサイズが制御される。なお、このバ
ッファサイズ決定回路21は、例えばシステムのクロッ
ク信号CKの64サイクルに1サイクルであるといった
ように、クロック信号CKのサイクルより大きいサイク
ルでバッファサイズ決定信号Pzを出力する。<データ
出力に関係する部分の説明>次に、図3に示したメモリ
チップ11のうち、データ出力に関係する部分(出力バ
ッファ部40、バッファサイズ決定回路21)を図4に
抜き出して説明する。
TAが入力される出力レジスタ53、バッファサイズ更
新制御回路54、及び出力バッファ52が含まれる。ま
た、バッファサイズ更新制御回路54には、出力バッフ
ァ52のインピーダンス(バッファサイズ)を決定する
バッファサイズ決定回路21が接続されている。
から読み出された出力データDATAはシステムのクロ
ック信号CKの反転クロック信号CKBに同期して出力
レジスタ53に取り込まれ、クロック信号CKに同期し
て出力レジスタ53から出力バッファ52及びバッファ
サイズ更新制御回路54に向けて出力される。
力されたバッファサイズ決定信号Pz(Pz(Pi)、
Pz(Ni))は中間バッファ51で増幅され、バッフ
ァサイズ更新制御回路54に入力される。このバッファ
サイズ決定信号Pzは、出力バッファ52のバッファサ
イズを決定するための信号である。
はバッファサイズ決定信号Pz及び出力データDATA
の値に基づき、出力バッファ52のバッファサイズ(イ
ンピーダンス)を更新する。 <バッファサイズ更新制御回路54及び出力バッファ5
2の説明>図5は図4のうちバッファサイズ更新制御回
路54及び出力バッファ52をより詳細に示したもので
ある。
御回路54は、PMOSゲート制御回路61とNMOS
ゲート制御回路62とを有する。また、出力バッファ5
2は、プルアップ用トランジスタ群(P0〜P5)と、
プルダウン用トランジスタ群(N0〜N5)とを有す
る。
5)は、所定の単位チャネル幅Wの1倍、2倍、4倍、
8倍、16倍、32倍のチャネル幅をそれぞれ有する6
個のPMOSトランジスタからなる。各PMOSトラン
ジスタの電流経路の一端がI/O端子12に接続され、
各PMOSトランジスタの電流経路の他端に高レベル電
源電位(VDDQ)が印加されている。
5)は、所定の単位チャネル幅W’の1倍、2倍、4
倍、8倍、16倍、32倍のチャネル幅をそれぞれ有す
る6個のNMOSトランジスタからなる。各NMOSト
ランジスタの電流経路の一端がI/O端子12に接続さ
れ、各NMOSトランジスタの電流経路の他端に低レベ
ル電源電位(VSSQ)が印加されている。通常、この
低レベル電源電位(VSSQ)は接地電位となる。
5)のそれぞれのゲートにはPMOSゲート制御回路6
1が接続される。それぞれのPMOSゲート制御回路6
1には、出力レジスタ53から出力された出力データD
ATAとそれぞれに対応するバッファサイズ決定信号P
z(Pi(i=0〜5))が入力される。なお、図5に
はPMOSトランジスタP5のゲートに接続されるPM
OSゲート制御回路61しか図示していないが、同じ構
成のPMOSゲート制御回路61がPMOSトランジス
タP0〜P4のゲートにそれぞれ接続される。
5)のそれぞれのゲートにはNMOSゲート制御回路6
2が接続される。それぞれのNMOSゲート制御回路6
2には、出力レジスタ53から出力された出力データD
ATAとそれぞれに対応するバッファサイズ決定信号P
z(Ni(i=0〜5))が入力される。なお、図5に
はNMOSトランジスタN5のゲートに接続されるNM
OSゲート制御回路62しか開示していないが、NMO
SトランジスタN0〜N4のゲートにはそれぞれNMO
Sゲート制御回路62が接続される。
タDATAに応じて開閉されるスイッチ65と、ラッチ
回路63を有する。
出力データDATAに応じて開閉されるスイッチ66
と、ラッチ回路64を有する。
0〜P5)とプルダウン用トランジスタ群(N0〜N
5)とからなる出力トランジスタ群60は、ラッチ回路
63、64にそれぞれラッチされたデータに従って、そ
の一部が閉じたままになる。そのため、ラッチ回路6
3、64にラッチされたデータに基づいて出力インピー
ダンス(バッファサイズ)を制御することができる。
ファサイズは以下の通り制御される。
〜P5)のインピーダンスの合わせ込みについて説明す
る。
路63にラッチされているデータにかかわらず、PMO
Sゲート制御回路61の出力はHとなる。これにより、
対応するPMOSトランジスタP0〜P5はオフとな
る。
ッチ回路63にラッチされているデータがHであればP
MOSゲート制御回路61の出力はLとなり、対応する
PMOSトランジスタP0〜P5はオンとなる。また、
ラッチ回路63にラッチされているデータがLであれ
ば、PMOSゲート制御回路61の出力はHとなり、対
応するPMOSトランジスタP0〜P5はオフとなる。
ズ決定信号Pz(Pi)は出力データDATAがLであ
るときにラッチ回路63に取り込まれることになる。出
力データDATAがLであれば、ラッチ回路63の出力
が変化しても、PMOSゲート制御回路61の出力はH
のままで不定にならないからである。また、出力データ
DATAがLからHに変わるときにPMOSトランジス
タP0〜P5のインピーダンス(バッファサイズ)を外
部抵抗RQに合わせ込んでおくことが重要であり、出力
データDATAとして連続してHを出力しているときに
インピーダンスを合わせ込むと、それにより生じたノイ
ズが出力に乗ってしまうからである。
〜N5)のインピーダンスの合わせ込みについて説明す
る。
路64にラッチされているデータがHであればNMOS
ゲート制御回路62の出力はLとなり、対応するNMO
SトランジスタN0〜N5はオフとなる。また、ラッチ
回路64にラッチされているデータがLであれば、NM
OSゲート制御回路62の出力はHとなり、対応するN
MOSトランジスタN0〜N5はオンとなる。
ッチ回路64にラッチされているデータにかかわらず、
NMOSゲート制御回路62の出力はHとなる。これに
より、対応するNMOSトランジスタN0〜N5はオフ
となる。
ズ決定信号Pz(Ni)は、出力データDATAがHで
あるときにラッチ回路109に取り込まれることにな
る。出力データDATAがHであれば、ラッチ回路10
9の出力が変化しても、NMOSゲート制御回路107
の出力はLのままで、不定にならないからである。ま
た、出力データDATAがHからLに変わるときにNM
OSトランジスタN0〜N5のインピーダンス(バッフ
ァサイズ)を外部抵抗RQに合わせ込んでおくことが重
要であり、出力データDATAとして連続してLを出力
しているときにインピーダンスを合わせ込むと、それに
より生じたノイズが出力に乗ってしまうからである。
動作電圧や温度といった外部要因の変化がシステムのク
ロック信号CKの周波数に比べて十分遅いため、クロッ
ク信号CKに対して十分低速に設定されている。
れば、リード動作が連続した場合でも、出力データDA
TAに応じて出力トランジスタ群60のバッファサイズ
を更新できることになり、インピーダンスの合わせ込み
の精度を向上させることが可能となる。 ≪本発明の第2の実施形態≫ <第1の実施形態の問題点>まず、本発明の第1の実施
形態の問題点について説明する。
かかる半導体装置の動作タイミングチャートを示す。
同期して出力レジスタ53から出力バッファ52へ出力
される。バッファサイズ決定信号Pzはクロック信号C
K’に同期してバッファサイズ決定回路21から出力さ
れる。クロック信号CK’はシステムのクロック信号C
Kに同期しているが、図2に示したように、バッファサ
イズ決定回路21から出力バッファ52までは長い配線
を通る必要がある。その配線遅延などにより、バッファ
サイズ決定信号Pzが出力バッファ52に入力されるま
でに所定の遅延時間が生じる。
較的遅い場合は、図6に示したように、バッファサイズ
決定回路21から出力バッファ52までの配線遅延やス
キューをクロック周期内に収めることができた。
図7に示したように、この配線遅延やスキューがクロッ
ク周期内に収まらなくなってしまう。
号CKに同期して出力レジスタ53から出力バッファ5
2に出力されるが、バッファサイズの更新中(つまり、
バッファサイズ決定信号Pzをラッチ回路63、64に
取り込んでいるとき)に、出力データDATAが遷移す
ると、バッファサイズ決定信号Pzの一部を誤ラッチし
てしまい、バッファサイズの更新を正常にできなくなっ
てしまう恐れがある。逆に言うと、出力データDATA
が遷移している期間にバッファサイズの更新が行われる
と、バッファサイズ決定信号Pzの一部を誤ラッチして
しまい、バッファサイズの更新を正常にできなくなって
しまう恐れがある。
ata−Rate)方式では、クロックの立ち上がり、
立ち下がりの両方でデータ出力が変化する。そのため、
バッファサイズの更新に許容される期間はクロックの半
周期に制限されてしまい、タイミング条件は一層厳しく
なっている。
2の実施形態について、第1の実施形態と同じ構成の部
分については説明を省略し(第1の実施形態における図
1〜3に相当する部分)、相違点を中心に説明する(図
4及び図5に相当する部分)。 <データ出力に関係する部分の説明>図8は、本発明の
第2の実施形態にかかる半導体装置のデータ出力に関係
する部分を抜き出したものである。つまり、図3に示し
たメモリチップ11のうち、データ出力に関係する部分
(出力バッファ部40、バッファサイズ決定回路21)
を抜き出したものである。
3、第1のレジスタ73、第2のレジスタ74、バッフ
ァサイズ更新制御回路75、及び出力バッファ52が含
まれる。
力バッファ52のバッファサイズ(インピーダンス)を
決定するバッファサイズ決定回路21が接続されてい
る。第1のレジスタ73は、バッファサイズ決定回路2
1と中間バッファ72を介して接続されている。第2の
レジスタ74は、バッファサイズ決定回路21と中間バ
ッファ71を介して接続されている。出力レジスタ40
及び第2のレジスタ44は出力バッファ45に接続され
ている。出力バッファ45はI/O端子12に接続され
ている。
図9に示したタイミングチャート図を参照して説明す
る。
信号CK’に同期して、例えば12ビットのバッファサ
イズ決定信号Pz(Pz(P0)〜Pz(P5)、Pz
(N0)〜Pz(N5))及びバッファサイズの更新制
御を行うフィルター信号filを出力する。ここで、フ
ィルター信号filは例えばバッファサイズ決定信号P
zがバッファサイズ決定回路21から出力される前後2
クロック分ずつの幅でLとなるパルス信号であり、この
フィルター信号filがLの期間はバッファサイズの更
新が禁止される。バッファサイズ決定信号Pzは、中間
バッファ71で増幅され、第2のレジスタ74に入力さ
れる。フィルター信号filは、中間バッファ72で増
幅され、第1のレジスタ73に入力される。
の反転クロック信号CKBに同期してフィルター信号f
ilを取り込み、クロック信号CKに同期して出力す
る。このクロック信号CKに同期されたフィルター信号
をfckと図示してある。
タ74に入力される。第2のレジスタ74は、フィルタ
ー信号fckに同期してバッファサイズ決定信号Pzを
取り込み、バッファサイズ更新制御回路75に入力され
る。
信号CKに同期しているため、バッファサイズ決定信号
Pzもクロック信号CKに同期してバッファサイズ更新
制御回路75に入力されることになる。また、図示せぬ
メモリセルから読み出された出力データDATAは、ク
ロック信号CKの反転信号CKBに同期して出力レジス
タ53に取り込まれ、クロック信号CKに同期して出力
バッファ52に向けて出力される。
力バッファ52への入力とバッファサイズ更新制御回路
75による出力バッファ52のバッファサイズの更新と
が同期して行われることになる。
ィルター信号filとは、出力バッファ部40まではほ
ぼ同じ経路で接続され、ほぼ等しいRC遅延を有する配
線を経由して伝播される。そのため、バッファサイズ決
定信号Pzとフィルター信号filとは出力バッファ部
40においても、タイミング関係は保存されている。し
かし、配線遅延やスキューにより、出力データDATA
の出力から数えてクロックCKの半周期分の時間内に収
まらない可能性がある。
レジスタ73によりクロック信号CKに同期して出力さ
れる(フィルター信号fck)。上述の通り、フィルタ
ー信号filはバッファサイズ決定信号Pzがバッファ
サイズ決定回路21から出力される前後2クロック分ず
つの幅でLとなるパルス信号であり、このフィルター信
号filがLの期間はバッファサイズの更新が禁止され
る。つまり、第2のレジスタ74は、フィルター信号f
ckがLの期間はバッファサイズ決定信号Pzを取り込
まず、フィルター信号fckがHになってからバッファ
サイズ決定信号Pzを取り込む。このように、クロック
信号CKに同期したフィルター信号fckがHとなって
からバッファサイズの更新が行われるため、クロック信
号CKに同期して出力される出力データDATAが遷移
しているときにバッファサイズの更新をしてしまうこと
を防止でき、バッファサイズ決定信号Pzの誤ラッチを
防止することが可能となる。 <出力バッファ52、バッファサイズ更新制御回路7
5、及び第2のレジスタ74についての説明>次に、図
8に示した出力バッファ部40のうち、出力バッファ5
2、バッファサイズ更新制御回路75、及び第2のレジ
スタ74の部分76を図10に抜き出して詳細に説明す
る。
制御回路75は、PMOSゲート制御回路81とNMO
Sゲート制御回路82とを有する。また、出力バッファ
52は、プルアップ用トランジスタ群(P0〜P5)
と、プルダウン用トランジスタ群(N0〜N5)とを有
する。
5)は、所定の単位チャネル幅Wの1倍、2倍、4倍、
8倍、16倍、32倍のチャネル幅をそれぞれ有する6
個のPMOSトランジスタからなる。各PMOSトラン
ジスタの電流経路の一端がI/O端子12に接続され、
各PMOSトランジスタの電流経路の他端に高レベル電
源電位(VDDQ)が印加されている。
5)は、所定の単位チャネル幅W’の1倍、2倍、4
倍、8倍、16倍、32倍のチャネル幅をそれぞれ有す
る6個のNMOSトランジスタからなる。各NMOSト
ランジスタの電流経路の一端がI/O端子12に接続さ
れ、各NMOSトランジスタの電流経路の他端に低レベ
ル電源電位(VSSQ)が印加されている。通常、この
低レベル電源電位(VSSQ)は接地電位とする。
5)のそれぞれのゲートにはPMOSゲート制御回路8
1が接続される。それぞれのPMOSゲート制御回路8
1には、出力データDATAとそれぞれに対応するバッ
ファサイズ決定信号Pz(Pi(i=0〜5))が入力
される。なお、図10にはPMOSトランジスタP5の
ゲートに接続されるPMOSゲート制御回路81しか図
示していないが、同じ構成のPMOSゲート制御回路8
1がPMOSトランジスタP0〜P4のゲートにそれぞ
れ接続される。
5)のそれぞれのゲートにはNMOSゲート制御回路8
2が接続される。それぞれのNMOSゲート制御回路8
2には、出力データDATAとそれぞれに対応するバッ
ファサイズ決定信号Pz(Ni(i=0〜5))が入力
される。なお、図10にはNMOSトランジスタN5の
ゲートに接続されるNMOSゲート制御回路82しか図
示していないが、同じ構成のNMOSゲート制御回路8
2がNMOSトランジスタN0〜N4のゲートにそれぞ
れ接続される。
タDATAに応じて開閉されるスイッチ83及びラッチ
回路85を有する。
タDATAに応じて開閉されるスイッチ84及びラッチ
回路86を有する。
0〜P5)とプルダウン用トランジスタ群(N0〜N
5)とからなる出力トランジスタ群60は、ラッチ回路
85、86にそれぞれラッチされたデータに従って、そ
の一部が閉じたままになる。そのため、ラッチ回路8
5、86にラッチされたデータに基づいて出力インピー
ダンス(バッファサイズ)を制御することができる。
ファサイズは以下の通り制御される。
〜P5)のインピーダンスの合わせ込みについて説明す
る。
路85にラッチされているデータにかかわらず、PMO
Sゲート制御回路81の出力はHとなる。これにより、
対応するPMOSトランジスタP0〜P5はオフとな
る。
路85にラッチされているデータがHであればPMOS
ゲート制御回路81の出力はLとなり、対応するPMO
SトランジスタP0〜P5はオンとなる。逆に、ラッチ
回路85にラッチされているデータがLであれば、PM
OSゲート制御回路81の出力はHとなり、対応するP
MOSトランジスタP0〜P5はオフとなる。
i)は、フィルター信号fckがHの期間にラッチ回路
74Pに取り込まれ、フィルター信号fckがLの期間
にはラッチ回路74Pへ取り込まれない(取り込みが禁
止される)。
と、ラッチ回路74Pに取り込まれていたバッファサイ
ズ決定信号Pz(Pi)はスイッチ83を介してラッチ
回路85に取り込まれることになる。出力データDAT
AがLであれば、ラッチ回路85の出力が変化しても、
PMOSゲート制御回路81の出力はHのままで、不定
にならないからである。また、出力データDATAがL
からHに変わるときにPMOSトランジスタP0〜P5
のインピーダンス(バッファサイズ)を外部抵抗RQに
合わせ込んでおくことが重要であり、出力データDAT
Aとして連続してHを出力しているときは、インピーダ
ンスを合わせ込む必要性は高くないからである。
〜N5)のインピーダンスの合わせ込みについて説明す
る。
路86にラッチされているデータがHであればNMOS
ゲート制御回路82の出力はLとなり、対応するNMO
SトランジスタN0〜N5はオフとなる。また、ラッチ
回路86にラッチされているデータがLであれば、NM
OSゲート制御回路82の出力はHとなり、対応するN
MOSトランジスタN0〜N5はオンとなる。
ッチ回路86にラッチされているデータにかかわらず、
NMOSゲート制御回路82の出力はHとなる。これに
より、対応するNMOSトランジスタN0〜N5はオフ
となる。
i)は、フィルター信号fckがHの期間にラッチ回路
74Nに取り込まれ、フィルター信号fckがLの期間
にはレジスタ74Nに取り込まれない(取り込みが禁止
される)。
と、ラッチ回路74Nに取り込まれていたバッファサイ
ズ決定信号Pz(Ni)はスイッチ84を介してラッチ
回路86に取り込まれることになる。出力データDAT
AがLであれば、ラッチ回路86の出力が変化しても、
PMOSゲート制御回路82の出力はHのままで、不定
にならないからである。また、出力データDATAがH
からLに変わるときにNMOSトランジスタP0〜P5
のインピーダンス(バッファサイズ)を外部抵抗RQに
合わせ込んでおくことが重要であり、出力データDAT
Aとして連続してLを出力しているときは、インピーダ
ンスを合わせ込む必要性は高くないからである。
P0〜P5及び各NMOSトランジスタN0〜N5は、
バッファサイズ決定回路21から出力されるバッファサ
イズ決定信号Pzによって導通/非導通が制御される。
そして、各PMOSトランジスタ及び各NMOSトラン
ジスタの導通/非導通によって、出力バッファ52のバ
ッファサイズ(インピーダンス)が制御される。 <バッファサイズ決定回路21の説明>次に、図11及
び図12を参照して、バッファサイズ決定回路21の詳
細を説明する。
サイズ決定信号Pzを生成するバッファサイズ決定信号
生成部90と、フィルター信号filを生成するフィル
ター信号生成部100とを有する。図11にバッファサ
イズ決定信号生成部90を示し、図12にフィルター信
号生成部100を示す。
定信号生成部90について説明する。
ルダウン用トランジスタ群(N100〜N105)のイ
ンピーダンスを整合するためのプルダウン制御系91
と、プルアップ用トランジスタ群(P100〜P10
5)のインピーダンスを整合するためのプルアップ制御
系92とを有する。このバッファサイズ決定信号生成部
90は、バッファサイズ決定信号Pzとして、プルアッ
プ側のバッファサイズ決定信号Pz(Pi(i=0〜
5))及びプルダウン側のバッファサイズ決定信号Pz
(Ni(i=0〜5))を出力する。
i)を出力するプルダウン側のバッファサイズ制御につ
いてのみ説明し、プルアップ側についての説明を省略す
る。
Q端子に直列接続されたPMOSトランジスタP111
と、PMOSトランジスタP111とゲート及びソース
をそれぞれ共通としたPMOSトランジスタP112と
を備える。PMOSトランジスタP111のゲートレベ
ルは、ZQ端子の電位VZQが高レベル側電源電圧VD
DQの二分の一になるように、オペアンプOP1によっ
てレベル制御される。ここで、高レベル側電源電圧VD
DQは出力バッファ52を駆動する高レベル側電源電圧
である。
ドレイン(ノードREFIU)はオペアンプOP2の反
転入力端子に接続され、VDDQ/2が供給される。一
方、オペアンプOP2の非反転入力端子には電圧VZQ
が供給される。U/Dカウンタ93は、出力信号D0,
D1,…D5により、ダミーバッファ回路NdmのNM
OSトランジスタ群N100,N101,…,N105
に対して選択的に導通、非導通を制御する。NMOSト
ランジスタ群N100,N101,…,N105のドレ
インは、オペアンプOP2の反転入力端子(ノードRE
FIU)に帰還されている。
REFIUの電圧が基準電圧a1(=VDDQ/2)に
一致するように、ダミーバッファ回路NdmのNMOS
トランジスタN100,N101,…,N105の導通
/非道通を決定し、これによって、ダミーバッファ回路
Ndmのバッファサイズ(インピーダンス)が決定され
る。さらに、U/Dカウンタ93の出力信号D0,D
1,…D5に基づいて、バッファサイズ決定信号Pz
(Ni)が出力される。
バッファサイズ決定信号Pz(Pi)を出力する。
ーダンスを指定するための外部抵抗RQをZQ端子に接
続することにより、バッファサイズ決定信号生成部90
は、出力バッファ52のインピーダンスが外部抵抗RQ
の値(あるいはその定数倍)になるように、バッファサ
イズ決定信号Pzを生成することができる。
成部100について説明する。
ク信号CKをそれぞれ2,4,8,16,32,64分
周するためのレジスタ回路121〜126と、クロック
信号CKを8分周した信号の位相を半周期ずらした信号
8K2を出力するレジスタ回路127と、クロック信号
CKを32分周した信号32Kとクロック信号CKを6
4分周した信号64Kとレジスタ127から出力される
信号8K2とが入力されるNAND回路128とを有す
る。このNAND回路128の出力がフィルター信号f
ilとなる。
から出力された信号2Kを反転クロック信号CKBのH
に同期して入力端子Dから取り込み、クロック信号CK
のHに同期して信号2Kを2分周した信号2KBを出力
端子Qから出力する。ここで、信号2Kと信号2KBと
は相補信号である。
から出力された信号4Kをレジスタ回路121の出力端
子Qから出力された信号2KBのHに同期して入力端子
Dから取り込み、レジスタ回路121の出力端子QBか
ら出力された信号2KのHに同期して信号2Kを2分周
した信号4KB(クロック信号CKを4分周した信号)
を出力端子Qから出力する。ここで、信号4Kと信号4
KBとは相補信号である。
クロック信号CKを8分周した信号8Kを生成し、レジ
スタ回路124はクロック信号CKを16分周した信号
16Kを生成し、レジスタ回路125はクロック信号C
Kを32分周した信号32Kを生成し、レジスタ回路1
26はクロック信号CKを64分周した信号64Kを生
成する。また、レジスタ127は、クロック信号CKを
8分周した信号8Kの位相を半周期ずらした信号8K2
を出力する。
Kを8分周した信号の位相を半周期ずらした信号8K2
と、クロック信号CKを32分周した信号32Kと、ク
ロック信号CKを64分周した信号64Kとが入力され
る。そのため、図9に示したように、NAND回路12
8はクロック信号CKの64周期目にあたるパルスの前
後2クロック分だけLを出力し、これがフィルター信号
filとなる。
ロック信号CKの64周期目のパルスの前後2クロック
分だけLになるような信号とした。
信号CKの64周期目のパルスの前後4クロック分だけ
Lになるような信号とするのであれば、図12に示した
レジスタ回路127がクロック信号CKを16分周した
信号16Kの位相が半周期ずれた信号16K2を出力す
るように設計すればよい。
ロック信号CKの128クロックに1回とするのであれ
ば、図12のNAND回路128に入力される信号を全
て2分周したものとすればよい。
フィルター信号filのパルス幅に応じてフィルター信
号生成部100を変更すればよい。
回路21はクロック信号CKを64分周したクロック信
号CK’により制御されることとした。その場合、図1
3に示したように、図12のレジスタ回路124〜12
6の各出力信号16K(クロック信号CKを16分周し
たもの),32K(クロック信号CKを32分周したも
の),64K(クロック信号CKを64分周したもの)
がNAND回路131に入力されて、そのNAND回路
131の出力がクロック信号CK’となる。
号CKに同期したフィルター信号fckがHとなってか
らバッファサイズの更新が行われるため、クロック信号
CKに同期して出力される出力データDATAが遷移し
ているときにバッファサイズの更新をしてしまうことを
防止でき、バッファサイズ決定信号Pzの誤ラッチを防
止することが可能となる。
比べてバッファサイズの更新が2クロック分遅れること
になるが、バッファサイズの更新サイクルはこの2クロ
ックに比べて十分大きいので(例えば64クロックに1
回更新)、問題とはならない。
するクロック信号CK’と、出力データDATAの出力
制御をするクロック信号CKとを、同じクロック信号に
しても構わない。
や、図8で示した中間バッファ71、72は省略しても
構わない。これにより、バッファの個数を減らすことが
でき、レイアウト面積の削減を図ることができる。
ス回路技術において、インピーダンスの合わせ込みの精
度を向上させることが可能となる。
プの配置図。
図。
る部分を抜き出した図。
4及び出力バッファ52をより詳細に示した図。
の動作タイミングチャート図。
の動作タイミングチャート図。
のデータ出力に関係する部分を抜き出した図。
ャート図。
出力バッファ52、バッファサイズ更新制御回路75、
及び第2のレジスタ74の部分76を抜き出した図。
イズ決定信号生成部90の構成図。
信号filを生成するフィルター信号生成部100の構
成図。
するクロック信号CK’を生成する回路図。
I/O端子、13…データバス、14…MPU、15…
入力端子、21…バッファサイズ決定回路、22…デー
タ出力部、23…メモリブロック、31…メモリアレ
イ、32…ロウセレクタ、33…カラムセレクタ、34
…センスアンプ、35…ライトバッファ、36…アドレ
ス端子、37…アドレスバッファ、39…入力バッファ
部、40…出力バッファ部、41…タイミングコントロ
ール部、42…バッファ、52…出力バッファ、53…
出力レジスタ、54…バッファサイズ更新制御回路、6
0…出力トランジスタ群、61…PMOSゲート制御回
路、62…NMOSゲート制御回路、63…ラッチ回
路、64…ラッチ回路、65…スイッチ、66…スイッ
チ、71…中間バッファ、72…中間バッファ、73…
第1のレジスタ、74…第2のレジスタ、74P…ラッ
チ回路、74N…ラッチ回路、75…バッファサイズ更
新制御回路、81…PMOSゲート制御回路、82…N
MOSゲート制御回路、83…スイッチ、84…スイッ
チ、85…ラッチ回路、86…ラッチ回路、90…バッ
ファサイズ決定信号生成部、91…プルダウン制御系、
92…プルアップ制御系、93…U/Dカウンタ、94
…U/Dカウンタ、100…フィルター信号生成部、1
21〜127…レジスタ回路、128…NAND回路、
131…NAND回路。
Claims (9)
- 【請求項1】 それぞれデータを記憶する複数のメモリ
セルと、 出力バッファを有し、第1のクロック信号に同期して前
記データを前記出力バッファへ入力させる出力バッファ
部と、 前記出力バッファのバッファサイズを決定するバッファ
サイズ決定信号、及び前記バッファサイズ決定信号が遷
移するタイミングに基づいた所定の期間だけ所定値にな
るフィルター信号を生成し、前記出力バッファ部に向け
て出力するバッファサイズ決定回路と、 を具備し、 前記出力バッファ部は、前記フィルター信号を前記第1
のクロック信号に同期させ、前記第1のクロック信号に
同期した前記フィルター信号が前記所定値である期間に
は前記バッファサイズ決定信号に基づいたバッファサイ
ズの更新を禁止して、前記フィルター信号が前記所定値
以外である期間には前記バッファサイズ決定信号に基づ
いたバッファサイズの更新を許容することを特徴とする
半導体装置。 - 【請求項2】 前記フィルター信号は、前記バッファサ
イズ決定信号が遷移するタイミングの前後の所定クロッ
ク数分だけ所定値とされることを特徴とする請求項1記
載の半導体装置。 - 【請求項3】 前記出力バッファ部はさらに、第1のレ
ジスタ回路及び第2のレジスタ回路を有し、 前記第1のレジスタ回路は、前記フィルター信号が入力
され、前記第1のクロック信号に同期して前記フィルタ
ー信号を出力し、 前記第2のレジスタ回路は、前記バッファサイズ決定信
号が入力され、前記第1のレジスタから出力された前記
フィルター信号が前記所定値である期間には、前記出力
バッファへの前記バッファサイズ決定信号の出力を禁止
して、前記フィルター信号が前記所定値である期間以外
には、前記出力バッファへの前記バッファサイズ決定信
号の出力を許容する、 ことを特徴とする請求項1又は2記載の半導体装置。 - 【請求項4】 前記第1のレジスタ回路及び前記第2の
レジスタ回路は前記第1のクロック信号に同期して出力
制御されることを特徴とする請求項3記載の半導体装
置。 - 【請求項5】 前記第1のレジスタ回路及び前記第2の
レジスタ回路は前記第1のクロック信号に同期して出力
制御され、前記バッファサイズ決定回路は前記第1のク
ロック信号と異なる第2のクロック信号に同期して出力
制御されることを特徴とする請求項3又は4記載の半導
体装置。 - 【請求項6】 前記バッファサイズ決定回路と前記第1
のレジスタ回路とを接続する第1の配線と、前記バッフ
ァサイズ決定回路と前記第2のレジスタ回路とを接続す
る第2の配線とは、ほぼ同じだけの配線遅延量を有する
ことを特徴とする請求項3乃至5記載の半導体装置。 - 【請求項7】 前記バッファサイズ決定回路は、前記出
力バッファが前記半導体装置の外部に取りつけられた外
部抵抗と同じインピーダンスを有するように、前記出力
バッファのバッファサイズを決定するものであることを
特徴とする請求項1乃至6記載の半導体装置。 - 【請求項8】 前記出力バッファはプルアップ用出力ト
ランジスタ群及びプルダウン用出力トランジスタ群を有
し、前記出力バッファがハイレベルを出力するときに前
記プルダウン用出力トランジスタ群のバッファサイズを
更新し、前記出力バッファがロウレベルを出力するとき
に前記プルアップ用出力トランジスタ群のバッファサイ
ズを更新することを特徴とする請求項1乃至7記載の半
導体装置。 - 【請求項9】 それぞれデータを記憶する複数のメモリ
セルと、 プルアップ用出力トランジスタ群及びプルダウン用出力
トランジスタ群からなる出力バッファを有し、クロック
信号に同期して前記データを前記出力バッファへ入力さ
せる出力バッファ部と、 前記出力バッファのバッファサイズを決定するバッファ
サイズ決定信号を生成し、前記出力バッファ部に向けて
出力するバッファサイズ決定回路と、 を具備し、 前記出力バッファ部は、前記出力バッファがハイレベル
を出力するときに前記プルダウン用出力トランジスタ群
のバッファサイズを更新し、前記出力バッファがロウレ
ベルを出力するときに前記プルアップ用出力トランジス
タ群のバッファサイズを更新することを特徴とする半導
体装置。
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