JP2003183399A - 無機・有機ハイブリット材料とその製造方法 - Google Patents

無機・有機ハイブリット材料とその製造方法

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JP2003183399A
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Takashi Aitoku
孝志 相徳
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Nippon Electric Glass Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 無色透明であり、しかも、乾燥工程でクラッ
クが発生しにくい無機・有機ハイブリット材料と、その
製造方法を提供することにある。 【構成】 本発明の無機・有機ハイブリット材料は、オ
ルガノアルコキシシランの重合体と、末端シラノール型
ジアルキルシロキサンと水との反応により得られる無機
・有機ハイブリット材料であって、可視域の平均透過率
が厚さ2mmで85%以上であることを特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、無機・有機ハイブ
リット材料とその製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】セラミックスやガラスなどの無機材料に
有機物を分子レベルで導入できれば、得られる材料には
無機材料の性質を有し、更に無機材料に無い新たな性質
が期待できる。
【0003】シュミット(Schmidt)は、この期
待に応えるべく研究した結果、テトラエトキシシランと
末端シラノール型ポリジメチルシロキサンとの反応によ
って得られる、オモシル(ORMOSIL)と称する無
機・有機ハイブリット材料を公表した。(ノンクリスタ
リンソリッド 1985年第73巻第681頁)。オモ
シルは、その無機成分(Si)と有機成分(CH3)と
の比率を変えることによって弾性を調整できる点で優れ
た材料である。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】オモシルの作製方法
は、テトラヒドロフラン(THF)とイソプロピルアル
コール(IPA)等の低級アルコールの混合溶液に、水
と酸触媒(塩酸等)を添加した後、テトラエトキシシラ
ン(TEOS)等のオルガノアルコキシシラン[Si
R’n(OR)4−n、ここでR及びR’はアルキル基
を表す]を加えて均一に混合し、最後に末端シラノール
型ポリジメチルシロキサン(PDMS)等の末端シラノ
ール型ジアルキルシロキサン[(HO(Si(R)
2O)nH、ここでRはアルキル基を表す]を含む溶液を
添加して室温以上の温度(例えば60乃至80℃)で反
応させ、熟成、乾燥させる方法が一般的である(図
2)。
【0005】しかし、上記方法で合成された従来のオモ
シルは、着色したり、白濁して、透明なバルク体を得る
ことは困難であった。しかも、単量体のTEOSを使用
しているため、ゲルが乾燥する過程で収縮が大きく、ク
ラックによる割れが発生しやすいという問題があった。
【0006】また、クラックの発生を抑えるには、ゲル
の乾燥工程で、ゲルをゆっくり乾燥温度まで昇温させれ
ばよいが、乾燥工程に時間がかかりすぎて実用的でな
い。
【0007】本発明の目的は、無色透明であり、しか
も、乾燥工程でクラックが発生しにくい無機・有機ハイ
ブリット材料と、その製造方法を提供することにある。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明の無機・有機ハイ
ブリット材料は、オルガノアルコキシシランの重合体
と、末端シラノール型ジアルキルシロキサンと水との反
応により得られる無機・有機ハイブリット材料であっ
て、可視域の平均透過率が厚さ2mmで85%以上であ
ることを特徴とする。
【0009】また、本発明の無機・有機ハイブリット材
料の製造方法は、オルガノアルコキシシランの重合体と
末端シラノール型ジアルキルシロキサンを、溶媒に均一
に分散させた後、酸触媒下で水を添加し、加水分解、重
縮合反応させ、調製したゲルを乾燥させることを特徴と
する。
【0010】
【発明の実施の形態】無機骨格成分となるオルガノアル
コキシシランは反応性が高く、水と酸触媒が存在すると
直ちに加水分解と縮合重合反応を開始する。このため、
上記反応の開始後に、有機骨格成分となる末端シラノー
ル型ジアルキルシロキサンを添加しても、無機骨格成分
と有機骨格成分が均一な構造をとれずに相分離が起こ
り、乳白色の不透明なバルク体が形成され易くなる。ま
た、オルガノアルコキシシランに単量体を使用すると、
乾燥時の体積収縮が大きく、40℃以上の乾燥でバルク
体が割れ易くなる。
【0011】そこで、本発明では、無機骨格成分にオル
ガノアルコキシシランの重合体を用いることにより、加
水分解・縮重合反応を制御し、無機骨格成分と有機骨格
成分の縮合反応を起こりやすくしている。その理由は、
重合体は単量体よりも反応性が低く、有機骨格成分と分
散状態を保持できるためである。この結果、より分散度
・均質性の高いバルク体を得ることが可能となる。ま
た、乾燥時の体積収縮も低減でき、より割れにくいバル
ク体を得ることができるようになる。そのため、ゲルを
乾燥させる際、昇温速度を速めてもクラックの発生を抑
えることができ、ゲルの乾燥時間を大幅に短縮すること
が可能である。また、200℃以上の乾燥温度でも割れ
ないバルク体を作製することができる。
【0012】また、本発明では、水を添加する前に、予
め、溶媒とオルガノアルコキシシランの重合体と末端シ
ラノール型ジアルキルシロキサンを均一に混合しておく
ことにより、水を添加した際の有機骨格成分と無機骨格
成分の分離を防ぎ、無色透明なバルク体を作製すること
ができる。
【0013】更に、水の添加量と添加スピード、反応温
度を適切に調整することにより、加水分解・縮合反応の
進行とともに発生する分相を抑制することができる。こ
れは、オルガノアルコキシシランの重合体の局所的な加
水分解、縮合重合反応を抑えて、徐々に反応を起こさせ
ることで、分散させた無機骨格成分が均一に有機骨格成
分と縮合重合反応し易くなるためと考えられる。
【0014】以下、無機・有機ハイブリット材料を製造
する方法を詳述する(図1)。
【0015】まず、溶媒と酸触媒を用意し、これらを調
合する。次に、オルガノアルコキシシランの重合体と末
端シラノール型ジアルキルシロキサンを、酸触媒を含む
溶媒に添加し、撹拌して均一に混合する。このとき、有
機骨格成分の添加量は、無機骨格成分に対して、質量%
で、30〜90%になるように混合割合を調整すること
が望ましい。有機骨格成分の添加量が30質量%より少
ないと、ゲル骨格が固くて脆くなり、乾燥工程で割れや
すくなる傾向にあり、90質量%より多いと反応速度が
遅くなり、かつ水添加時に分相しやすくなる傾向にあ
る。また、酸触媒は、水と一緒に加えても良い。
【0016】溶媒としては、テトラヒドロフラン(TH
F)に、イソプロピルアルコール(IPA)、エタノー
ル、メタノール等の低級アルコールを混合したものを使
用することが好ましい。また、酸触媒としては塩酸等を
使用することが好ましい。
【0017】オルガノアルコキシシランの重合体として
は、常温で安定な液体であり、適当な速度で加水分解す
るテトラメトキシシラン(TMOS)4重合体やテトラ
エトキシシラン(TEOS)6重合体を使用することが
好ましい。
【0018】末端シラノール型ジアルキルシロキサンと
しては、末端シラノール型ポリジメチルシロキサン(P
DMS)を使用することが好ましい。末端シラノール型
ジアルキルシロキサンに含まれるアルキル基が高級アル
キル基であれば、分子鎖の変角運動に対して立体障害と
なり、バルク体の強度が低くなり、逆に低級アルキル基
であれば、バルク体の強度は高くなる。PDMSは最も
低級なアルキル基であるメチル基を持つため強度の高い
バルク体を得ることができる。しかも、オルガノアルコ
キシシランの重合体との相性が良いため好適である。な
お熱安定性が必要な場合は、PDMSのメチル基の一部
をベンゼン環に置換したものを使用すればよい。
【0019】次に、上記溶媒、酸触媒、オルガノアルコ
キシシランの重合体、末端シラノール型ジアルキルシロ
キサンの混合溶液を攪拌する。尚、攪拌は、40〜90
℃(好ましくは、60〜85℃)の温浴中で行うことが
好ましい。温浴中で攪拌することで、酸触媒、溶媒、オ
ルガノアルコキシシランの重合体及び末端シラノール型
ジアルキルシロキサンの分散性が向上し、均一に混合す
ることができる。また、水を添加した時の分散性も向上
する。さらに、半開放状態で反応させた場合、75℃以
上の温度では、反応中に溶液が揮発するため、ゲルを乾
燥させる時間をさらに短縮することができる。また、組
成中の有機骨格成分や、加水分解時に添加する水の量が
多い場合、より均質な混合溶液を得るために、超音波
(20kHz、)を照射してもよい。
【0020】次に、上記混合溶液に水を添加し、撹拌混
合する。水を添加すると、オルガノアルコキシシランが
加水分解され、引き続き縮合反応が起こる。このような
反応が起こることにより、ゲル化が進行する。一部で末
端シラノール型ジアルキルシロキサンとの縮合重合反応
が起こり、無機・有機ハイブリット材料が形成される。
ここで水の添加量及び添加スピードを適切に調整するこ
とで、無機骨格成分を緩やかに加水分解させ、有機骨格
成分との縮合重合反応を均一に起こすことが可能にな
る。尚、水の添加量は、無機骨格成分となるオルガノア
ルコキシシランの重合体1molに対して2〜17.5
molに調整することで、無機骨格成分の加水分解と、
有機骨格成分との縮合重合反応を均一に起こすことが可
能となる。水の添加量がオルガノアルコキシシランの重
合体に対して17.5molを超えると相分離が起こり
やすく、白濁したバルク体となりやすく、2mol未満
ではゲル化が進行しにくくなり、かつ加水分解反応が不
十分のため、強度の低いバルク体しか得られなる。特に
水の総量を5〜14molに制限することにより、ある
程度の強度と85%以上の高い透過率を有するバルク体
を得ることが可能になる。また、水の添加スピードを
0.1〜100ml/分(好ましくは0.2〜50ml
/分)に調整することで、無機骨格成分を緩やかに加水
分解させることが容易になる。水の添加スピードが10
0ml/分を超えると反応が早すぎて、白濁したバルク
体となりやすく、0.1ml/分未満では、水を添加し
終わるまで時間がかかり効率が悪く、不均一反応を起こ
しやすい。また、オルガノアルコキシシランの重合体の
加水分解、縮合重合反応を緩やかにするために、水にイ
ソプロピルアルコール(IPA)、エタノール、メタノ
ール等の低級アルコールを混合してもよい。
【0021】続いて、この反応溶液を氷冷し、室温まで
冷却した後、容器に移し、ゲル化を進行させる。
【0022】その後、このゲル溶液を乾燥させて無機・
有機ハイブリット材料を得る。乾燥させるに当たって
は、40〜60℃程度で1〜2日保持してゲル溶液を固
化させた後、引き続き150〜300℃の温度まで徐々
に昇温した後、この温度で1〜5日程度加熱すればよ
い。尚、反応容器には、材料との反応が起こらないプラ
スチック容器を使用すればよいが、ゲルの取り出しや乾
燥温度等を考慮するとテフロン(登録商標)製の容器を
選択することが望ましい。
【0023】このようにして、均一で透明性が高く、可
視域の平均透過率が厚さ2mmで85%以上である無機
・有機ハイブリット材料を得ることができる。
【0024】
【実施例】以下、実施例に基づいて本発明を説明する。
【0025】表1は、本発明の実施例(試料No.1〜
6)を、表2は、比較例(試料No.7、8)を示すも
のである。尚、試料No.8は、図2に示す従来の方法
で作製したオモシルである。
【0026】
【表1】
【0027】
【表2】
【0028】[試料の調製]無機骨格成分としてTMO
S4重合体(比較例はTEOS単量体)を、また有機骨
格成分としてPDMSを用い、また酸触媒として塩酸
を、水には蒸留水を使用した。
【0029】まず、表中の組成になるようTHFとIP
Aと塩酸を調合し、撹拌しながらTMOS4重合体とP
DMSをこの混合溶液に投入し、10分間撹拌して均一
組成にした。尚、混合溶液の調製は80℃の温浴中で超
音波を照射しながら行った。
【0030】次に、0.4ml/分の添加スピードで蒸
留水を80℃の湯浴中で超音波照射中の混合溶液中に添
加し、1時間撹拌した。尚、このときの反応溶液のpH
は4以下であった。
【0031】続いて、反応溶液を氷冷し、室温まで冷却
して、蓋付きのテフロン容器に入れて60℃の乾燥器中
で1日静置固化させた。その後40℃で乾燥させ、引き
続き250℃まで徐々に昇温した後、3日間保持するこ
とによって乾燥を進行させ、平坦な円盤状のバルク体
(直径35〜75mm、厚さ3〜7mm)を得た。バル
ク寸法は、容器に入れた溶液の量で変化させた。
【0032】[分析と測定]得られた試料について白濁
やクラックの確認、透過率及び密度を評価して表1、2
に示した。
【0033】白濁やクラックの確認は目視で観察して評
価した。
【0034】透過率は、前記各円盤試料から30×30
×2mmの大きさに切り出し、鏡面研磨した後、分光光
度計で測定した。
【0035】密度は、前記各円盤試料から5mm角の試
料片を切り出し、20×20mmのサンプルケースに詰
め込み、ヘリウムガスを用いた乾式比重計によって測定
した。
【0036】[結果]表から明らかなように実施例であ
る試料No.1〜6は、無機骨格成分にオルガノアルコ
キシシランの重合体を使用しているため、白濁やクラッ
クの発生も認められなかった。また、透過率は90%以
上と高く、密度は1.29g/cm3以下で一般のガラ
スより軽かった。また、ゲルの乾燥時間は、2週間以内
と短時間で行えた。
【0037】一方、比較例である試料No.7は無機骨
格成分にオルガノアルコキシシランの単量体を用いてい
るため、得られたゲルは白濁が認められ、透過率は79
%と低かった。また、クラックも認められた。試料N
o.8は、従来の方法で作製したため、きつく白濁した
バルク体しか得られなかった。また、ゲルの乾燥時間は
2ヶ月とかなり時間が掛かった。
【0038】
【発明の効果】本発明によれば、乾燥収縮時にクラック
の発生が少なく、無色透明な無機・有機ハイブリット材
料が短時間で製造できる。そのため、特に眼鏡レンズや
コンタクトレンズのように光透過性が要求される材料
や、光情報分野の関連部品のようにかなりの透明性が必
要とされる材料に有益である。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の製造方法を示す工程図である。
【図2】従来の製造方法を示す工程図である。

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 オルガノアルコキシシランの重合体と、
    末端シラノール型ジアルキルシロキサンと水との反応に
    より得られる無機・有機ハイブリット材料であって、可
    視域の平均透過率が厚さ2mmで85%以上であること
    を特徴とする無機・有機ハイブリット材料。
  2. 【請求項2】 200℃以上の耐熱温度を有することを
    特徴とする請求項1記載の無機・有機ハイブリット材
    料。
  3. 【請求項3】 オルガノアルコキシシランの重合体と末
    端シラノール型ジアルキルシロキサンを、溶媒に均一に
    分散させた後、酸触媒下で水を添加し、加水分解、重縮
    合反応させ、調製したゲルを乾燥させることを特徴とす
    る無機・有機ハイブリット材料の製造方法。
  4. 【請求項4】 水の添加量が、オルガノアルコキシシラ
    ンの重合体1molに対し、2〜17.5molであ
    り、且つ、水の添加スピードが0.1〜100ml/分
    であることを特徴とする請求項2の無機・有機ハイブリ
    ット材料の製造方法。
  5. 【請求項5】 オルガノアルコキシシランの重合体が、
    テトラメトキシシラン4重合体又はテトラエトキシシラ
    ン6重合体であることを特徴とする請求項2の無機・有
    機ハイブリット材料の製造方法。
  6. 【請求項6】 末端シラノール型ジアルキルシロキサン
    が、末端シラノール型ポリジメチルシロキサンであるこ
    とを特徴とする請求項2の無機・有機ハイブリット材料
    の製造方法。
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Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006102099A (ja) * 2004-10-05 2006-04-20 Nippon Sherwood Medical Industries Ltd 気管切開チューブ
JP2006299251A (ja) * 2005-03-22 2006-11-02 Jsr Corp 高屈折材料形成用組成物およびその硬化体、ならびに高屈折材料形成用組成物の製造方法
JP2007238794A (ja) * 2006-03-09 2007-09-20 Matsushita Electric Ind Co Ltd シリカ乾燥ゲル
JP2008069326A (ja) * 2006-09-15 2008-03-27 Suzuka Fuji Xerox Co Ltd 有機−無機ハイブリッドポリマー及びその製造方法
JP2008231403A (ja) * 2007-02-20 2008-10-02 Suzuka Fuji Xerox Co Ltd 二液型熱硬化性樹脂組成物及び耐熱性透明樹脂成形物の製造方法
WO2010090280A1 (ja) * 2009-02-09 2010-08-12 荒川化学工業株式会社 透明封止材組成物および光半導体素子
JP2011023698A (ja) * 2009-06-17 2011-02-03 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd ナノインプリント用組成物およびパターン形成方法
WO2011125832A1 (ja) * 2010-03-31 2011-10-13 日本山村硝子株式会社 有機-無機ハイブリッドプレポリマーおよびその製造方法
WO2012023618A1 (ja) * 2010-08-20 2012-02-23 日本山村硝子株式会社 フェニル基含有有機-無機ハイブリッドプレポリマー及び耐熱性有機-無機ハイブリッド材料並びに素子封止構造
JP2017043708A (ja) * 2015-08-27 2017-03-02 日立化成株式会社 エアロゲル

Citations (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS53147730A (en) * 1977-05-30 1978-12-22 Kansai Paint Co Ltd Preparation of vehicle for heat-resistant coating
JPH0227305A (ja) * 1988-07-18 1990-01-30 Mitsubishi Rayon Co Ltd 耐熱性光学繊維
JPH0264131A (ja) * 1988-08-31 1990-03-05 Mitsubishi Rayon Co Ltd 透明円柱状組成物
JPH02102229A (ja) * 1988-10-07 1990-04-13 Mitsubishi Rayon Co Ltd 透明、耐熱性組成物の製造方法
JPH0598011A (ja) * 1991-10-11 1993-04-20 Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd ケイ素系ハイブリツド材料
JPH05105759A (ja) * 1991-10-17 1993-04-27 Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd ケイ素系ハイブリツド材料
JPH05105761A (ja) * 1991-09-30 1993-04-27 Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd ケイ素系ハイブリツド材料
JPH07113011A (ja) * 1993-10-18 1995-05-02 Nippon Sheet Glass Co Ltd 多孔質体及びこれを充填材とするカラム及びこれらの製造方法
US5525643A (en) * 1995-07-28 1996-06-11 Armstrong World Industries, Inc. Thermally insulative, microporous xerogels and aerogels
JPH0926514A (ja) * 1995-07-12 1997-01-28 Nippon Steel Corp 三次元光導波路用薄膜材料およびその作製方法
JPH09255782A (ja) * 1996-03-25 1997-09-30 Nippon Steel Corp 光硬化型無機・有機ハイブリッド材料とそれより成る三次元光導波路
JPH1095852A (ja) * 1996-09-25 1998-04-14 Nippon Steel Corp 無機・有機ハイブリッド型エラストマー及びその製造方法
JPH10197734A (ja) * 1997-01-09 1998-07-31 Nippon Steel Corp 柔軟性を有する三次元光導波路
JPH11246661A (ja) * 1998-03-04 1999-09-14 Nippon Steel Corp 透光性無機・有機ハイブリッド
JP2000129127A (ja) * 1998-10-23 2000-05-09 Nichias Corp 多孔質シリカ・シリコーン複合材及びその製造方法

Patent Citations (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS53147730A (en) * 1977-05-30 1978-12-22 Kansai Paint Co Ltd Preparation of vehicle for heat-resistant coating
JPH0227305A (ja) * 1988-07-18 1990-01-30 Mitsubishi Rayon Co Ltd 耐熱性光学繊維
JPH0264131A (ja) * 1988-08-31 1990-03-05 Mitsubishi Rayon Co Ltd 透明円柱状組成物
JPH02102229A (ja) * 1988-10-07 1990-04-13 Mitsubishi Rayon Co Ltd 透明、耐熱性組成物の製造方法
JPH05105761A (ja) * 1991-09-30 1993-04-27 Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd ケイ素系ハイブリツド材料
JPH0598011A (ja) * 1991-10-11 1993-04-20 Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd ケイ素系ハイブリツド材料
JPH05105759A (ja) * 1991-10-17 1993-04-27 Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd ケイ素系ハイブリツド材料
JPH07113011A (ja) * 1993-10-18 1995-05-02 Nippon Sheet Glass Co Ltd 多孔質体及びこれを充填材とするカラム及びこれらの製造方法
JPH0926514A (ja) * 1995-07-12 1997-01-28 Nippon Steel Corp 三次元光導波路用薄膜材料およびその作製方法
US5525643A (en) * 1995-07-28 1996-06-11 Armstrong World Industries, Inc. Thermally insulative, microporous xerogels and aerogels
JPH09255782A (ja) * 1996-03-25 1997-09-30 Nippon Steel Corp 光硬化型無機・有機ハイブリッド材料とそれより成る三次元光導波路
JPH1095852A (ja) * 1996-09-25 1998-04-14 Nippon Steel Corp 無機・有機ハイブリッド型エラストマー及びその製造方法
JPH10197734A (ja) * 1997-01-09 1998-07-31 Nippon Steel Corp 柔軟性を有する三次元光導波路
JPH11246661A (ja) * 1998-03-04 1999-09-14 Nippon Steel Corp 透光性無機・有機ハイブリッド
JP2000129127A (ja) * 1998-10-23 2000-05-09 Nichias Corp 多孔質シリカ・シリコーン複合材及びその製造方法

Cited By (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4539974B2 (ja) * 2004-10-05 2010-09-08 日本シャーウッド株式会社 気管切開チューブ
JP2006102099A (ja) * 2004-10-05 2006-04-20 Nippon Sherwood Medical Industries Ltd 気管切開チューブ
JP2006299251A (ja) * 2005-03-22 2006-11-02 Jsr Corp 高屈折材料形成用組成物およびその硬化体、ならびに高屈折材料形成用組成物の製造方法
JP2007238794A (ja) * 2006-03-09 2007-09-20 Matsushita Electric Ind Co Ltd シリカ乾燥ゲル
JP2008069326A (ja) * 2006-09-15 2008-03-27 Suzuka Fuji Xerox Co Ltd 有機−無機ハイブリッドポリマー及びその製造方法
JP2008231403A (ja) * 2007-02-20 2008-10-02 Suzuka Fuji Xerox Co Ltd 二液型熱硬化性樹脂組成物及び耐熱性透明樹脂成形物の製造方法
WO2010090280A1 (ja) * 2009-02-09 2010-08-12 荒川化学工業株式会社 透明封止材組成物および光半導体素子
JPWO2010090280A1 (ja) * 2009-02-09 2012-08-09 荒川化学工業株式会社 透明封止材組成物および光半導体素子
TWI487747B (zh) * 2009-02-09 2015-06-11 Arakawa Chem Ind 透明密封材組合物及光半導體元件
JP2011023698A (ja) * 2009-06-17 2011-02-03 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd ナノインプリント用組成物およびパターン形成方法
WO2011125832A1 (ja) * 2010-03-31 2011-10-13 日本山村硝子株式会社 有機-無機ハイブリッドプレポリマーおよびその製造方法
CN102884108A (zh) * 2010-03-31 2013-01-16 日本山村硝子株式会社 有机-无机混合预聚物及其制作方法
JP5465781B2 (ja) * 2010-03-31 2014-04-09 日本山村硝子株式会社 有機−無機ハイブリッドプレポリマーの製造方法
WO2012023618A1 (ja) * 2010-08-20 2012-02-23 日本山村硝子株式会社 フェニル基含有有機-無機ハイブリッドプレポリマー及び耐熱性有機-無機ハイブリッド材料並びに素子封止構造
JP2017043708A (ja) * 2015-08-27 2017-03-02 日立化成株式会社 エアロゲル

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