JP2003105088A - 固体酸性酸化ジルコニア触媒を用いたポリオルガノシロキサンの製造方法 - Google Patents
固体酸性酸化ジルコニア触媒を用いたポリオルガノシロキサンの製造方法Info
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Abstract
装置の腐食性が少なく、製品中に残存する量も少なく、
仮に製品中に残存しても、製品の品質を落とすことが少
ない触媒によるオルガノポリシロキサンの製造方法の提
供。 【解決手段】 シロキサン単位を有する有機珪素化合物
及びアルコキシシランの一種以上を、酸性触媒存在下に
おける珪素−酸素結合の開裂及び再結合による平衡化反
応によりポリオルガノシロキサンを製造する方法におい
て、酸性触媒として固体酸性酸化ジルコニウム触媒を用
いることを特徴とするポリオルガノシロキサンの製造方
法にて提供。
Description
コニウム触媒を用いたポリオルガノシロキサンの製造方
法に関し、更に詳しくは、原料のシロキサン単位を有す
る有機珪素化合物及びアルコキシシランの一種以上を、
酸性触媒存在下における珪素−酸素結合の開裂及び再結
合による平衡化反応によりポリオルガノシロキサンを製
造する方法において、固体酸性酸化ジルコニウム触媒を
用いることにより、高純度のポリオルガノシロキサン
を、生産性がよく、高収率で得ることができる製造方法
に関する。
性、耐放射線線性、電気特性に優れ、また表面張力が低
いなど特異な界面特性から広く化学工業において使用さ
れている。ポリオルガノシロキサンの重合は一般に、環
状ポリオルガノシロキサン、低分子量鎖状ポリオルガノ
シロキサン及びオルガノアルコキシシランの酸触媒また
は塩基性触媒によるシロキサン鎖の開裂と再結合による
平衡化反応やジクロロジオルガノシラン又はジアルコキ
シジオルガノシラン等の加水分解反応及び引き続き起き
る脱水縮合反応による方法が用いられている。特に、原
料の危険性の少なさや重合度のコントロールのしやすさ
から前記平衡化反応が多く採用されている。また、この
平衡化反応は重合のみならず、ポリオルガノシロキサン
の低重合度化や官能基の導入等の様々な目的で広く使用
されている。例えば、ポリジメチルシロキサンとヘキサ
メチルジシロキサンとの平衡化反応により低重合度化が
可能である。また、ポリオルガノシロキサンの平衡化反
応中に加熱減圧することにより、環状ポリオルガノシロ
キサンの製造が可能である。更に、例えば、N−β−
(アミノエチル)−γ−アミノプロピルメチルジメトキ
シシランの加水分解縮合生成物とジメチルポリシロキサ
ンとのアルカリ触媒による平衡化反応により、アミノ変
性ポリシロキサンの製造が可能である。
される触媒として提案され使用されている。例えば硫
酸、塩酸、ルイス酸、水酸化ナトリウム、水酸化カリウ
ム、テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド、ブ
チルホスホニウムシラノレート、アミン類、ホスホニト
リルハライド触媒類等が挙げられる。しかし、これらの
触媒は、触媒の不活性化及び除去の為に中和工程と中和
物の除去工程が必要であり効率的でない。また、回収し
た中和物も濾過助剤やポリシロキサン等との不均一な混
合物状態の為、再生するのは極めて困難であり、廃棄さ
れ、焼却や埋め立てにより処分されているのが現状であ
る。
が発生する現在の製造方法に変わる製造方法が急望され
ている。特に、≡Si−Hを有するポリオルガノシロキ
サンの製造には、≡Si−Hは塩基性触媒では反応して
しまうため、酸性触媒の使用が必須であるが、酸性触媒
は実用的な反応速度を得るには原料100体積部に対し
て1〜5体積部程度もの使用が必要であり特に多くの廃
棄物が発生し問題である。また、前記の酸性触媒は金属
への腐食性が強い為、製造装置には高価な耐腐食性の材
料の使用やライニング処理が必要であった。
子材料用途等の高度に精製された原料が必要な用途にも
使用される様になってきた。しかし、従来の触媒は生成
物中に触媒、中和生成物、中和剤等が微量に残存するの
で、その用途が制限されていた。尚、固体の酸性触媒、
例えばゼオライト、イオン交換樹脂、酸活性化酸性白土
等の使用も提案されているが、従来の固体の酸性触媒で
は反応速度が非常に遅く、実用には適さないため、広く
使用されるのには至っていない。
点に鑑み、シリコーン化合物を用いてポリオルガノシロ
キサンを製造する方法において、生産性がよく、高収率
で製品が得られ、製造装置の腐食性が少なく、製品中に
残存する量も少なく、仮に製品中に残存しても、製品の
品質を落とすことが少ない触媒と反応条件を見出すこと
を課題とする。
を解決すべく鋭意研究を重ねた結果、酸性触媒の存在下
に、シリコーン化合物を用いてポリオルガノシロキサン
を製造する方法において、酸性触媒として数多くの触媒
を用いて実験を行ったところ、特定の固体触媒を用いる
と良好な結果が得られることを見出し、こうした知見に
基づき本発明を完成させるに至った。
シロキサン単位を有する有機珪素化合物及びアルコキシ
シランの一種以上を、酸性触媒存在下における珪素−酸
素結合の開裂及び再結合による平衡化反応によりポリオ
ルガノシロキサンを製造する方法において、酸性触媒と
して固体酸性酸化ジルコニウム触媒を用いることを特徴
とするポリオルガノシロキサンの製造方法が提供され
る。
の発明において、上記平衡化反応時の温度が10〜80
℃であることを特徴とするポリオルガノシロキサンの製
造方法が提供される。
又は2のいづれかの発明において、上記シロキサン単位
を有する有機珪素化合物及びアルコキシシランの一種以
上がヒドロシリル基を含むことを特徴とするポリオルガ
ノシロキサンの製造方法が提供される。
〜3のいづれかの発明において、上記固体酸性酸化ジル
コニウム触媒の添加量が、シロキサン単位を有する有機
珪素化合物及びアルコキシシランの一種以上に対して
0.1〜40重量%であることを特徴とするポリオルガ
ノシロキサンの製造方法が提供される。
1〜4のいづれかの発明において、上記固体酸性酸化ジ
ルコニウム触媒が、(a)アルミニウム水酸化物および
/または水和酸化物、ジルコニウム水酸化物および/ま
たは水和酸化物、並びに、硫酸分含有化合物を混練し、
(b)成形し、(c)得られた成形物を正方晶構造のジ
ルコニアが得られる温度で焼成することにより得たもの
であることを特徴とするポリオルガノシロキサンの製造
方法が提供される。
〜5のいづれかの発明において、上記固体酸性酸化ジル
コニウム触媒を含む反応器中に、シロキサン単位を有す
る有機珪素化合物及びアルコキシシランの一種以上を連
続的に通過させることを特徴とするポリオルガノシロキ
サンの製造方法が提供される。
ルコニウム触媒を用いたオルガノポリシロキサンの製造
方法について、各項目毎に、詳細に説明する。
は、固体酸性酸化ジルコニウム触媒を用いてオルガノポ
リシロキサンを製造するときの原料となるものであり、
環状シロキサン及び直鎖状ポリシロキサンがあげられ
る。
[(CH3)HSiO]3−7、[(C6H5)2Si
O]3−7、[(CH3)(C6H5)Si
O]3−7、[(CH2=CH)(CH3)SiO]
3−7等の化学式で表されるものであり、本発明におい
て用いる固体酸性酸化ジルコニウム触媒によって開環重
合し、直鎖状ポリオルガノシロキサンとなる。環状シロ
キサンのみでは、理論的には無限に重合度が上がり、目
的の重合度のものを得るには平衡化する前に反応を終了
させる必要がある。また、環状シロキサンは、固体酸性
酸化ジルコニウム触媒の存在下にポリシロキサンを加熱
減圧下に平衡化反応により得られる目的の製品でもあ
る。環状シロキサンの具体例としては、ヘキサメチルシ
クロトリシロキサン、オクタメチルシクロテトラシロキ
サン、デカメチルシクロペンタシロキサン、ドデカメチ
ルシクロヘキサシロキサン、ヘキサデカメチルシクロオ
クタシロキサン等が挙げられる。
基含有シクロテトラシロキサンも変性ポリシロキサンの
原料モノマーとして有用である。
学式9で表されるものである。
シ基、アリール基、−H基、−OH基、−SH基を表
し、nは、1≦n≦1000000の範囲の整数であ
る。)
基、プロピル基、ブチル基及びオクチル基等が挙げら
れ、アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、
プロポキシ基、ブトキシ基等が挙げられ、アリール基と
しては、フェニル基、トリル基、ベンジル基、フェニル
エチル基等が挙げられる。上記直鎖状ポリシロキサン
は、環状ポリシロキサンとの平衡化反応により高重合度
化が可能である。また、異なった重合度の2種の直鎖状
ポリシロキサンの平衡化反応により中間の重合度の直鎖
状ポリシロキサンを得ることができる。例えば高重合度
の直鎖状ポリシロキサンをヘキサメチルジシロキサン等
の低重合度のポリシロキサンと平衡化反応させることに
より低重合度化することができる。また、直鎖状ポリシ
ロキサンを加熱減圧下で平衡化反応させることにより、
環状ポリシロキサンと低重合度化された直鎖状ポリシロ
キサンを得ることができる。これらの様に、本発明にお
いて直鎖状ポリシロキサンは原料であると共に目的物で
もある。
理論的には無限に重合度が上がり、目的の重合度のもの
を得るには平衡化する前に反応を終了させる必要があり
コントロールが難しい。そこで、末端停止基成分とし
て、ヘキサメチルジシロキサン、1,1,3,3−テト
ラメチルジシロキサン、1,3−ジビニル−1,1,
3,3−テトラメチルジシロキサン等のシロキサン類が
使用される。これらの原料はジクロロジオルガノシラ
ン、ジクロロオルガノシラン、クロロトリオルガノシラ
ン及びクロロジオルガノシラン等の加水分解縮合反応物
の蒸留により得られる。また、日本ユニカー株式会社製
のL−45(10)(粘度が10mm2/秒のポリジメ
チルシロキサン、珪素原子数の数平均は約14)として
市販のものも使用可能である。
シロキサンも、末端停止機能を有する。シラノール連鎖
停止ジオルガノポリシロキサンとは、上記の化学式
(9)で表される、25℃で5〜900センチポイズ程
度の粘度を有し、両末端基として水酸基を有する数百か
ら数千程度の分子量を有する直鎖状シリコーン系ポリマ
ーである。
Rで表されるトリオルガノモノアルコキシシラン、R2
−Si−(OR)2で表されるジオルガノジアルコキシ
シラン、R−Si−(OR)3で表されるモノオルガノ
トリアルコキシシラン、Si−(OR)4で表されるテ
トラアルコキシシラン等を意味する。
理剤(Mで表される基を生成する。)であり、これと環
状シロキサンとを平衡反応させると直鎖状分子のポリオ
ルガノシロキサンを製造できる。トリオルガノモノアル
コキシシランの具体例としては、トリメチルメトキシシ
ラン、トリエチルエトキシシラン、トリフェニルメトキ
シシラン、トリフェニルエトキシシラン等が挙げられ
る。
で表される基を生成する。)であり環状シロキサンと共
重合するモノマーとなる。ジオルガノジアルコキシシラ
ンの具体例としては、ジメチルジメトキシシラン、ジエ
チルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジ
エチルジエトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラ
ン、ジフェニルジエトキシシラン、メチルフェニルジメ
トキシシラン、メチルフェニルジエトキシシラン、エチ
ルフェニルジメトキシシラン、エチルフェニルジエトキ
シシラン等が挙げられる。
官能基含有ジアルコキシシランも変性ポリシロキサンの
原料モノマーとして有用である。
(Tで表される基を生成する。)であり、これと環状シ
ロキサンとを平衡反応させることにより分枝状のポリジ
オルガノシロキサンを製造できる。モノオルガノトリア
ルコキシシランとしては、メチルトリメトキシシラン、
エチルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラ
ン、フェニルトリエトキシシラン等が挙げられる。
れる基を生成する。)であり、これと環状シロキサンを
平衡反応させると、分岐状のポリオルガノシロキサンを
製造できる。テトラアルコキシシランとしては、テトラ
メトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラブトキ
シシラン、テトラプロポキシシラン等が挙げられる。
は、公知の固体酸性酸化ジルコニウム触媒が使用可能で
ある。例えば、ジルコニウム水酸化物を硫酸で処理した
後300℃以上で焼成することにより調製した固体酸性
酸化ジルコニウム触媒を用いることができるが、特に、
(a)アルミニウム水酸化物および/または水和酸化
物、ジルコニウム水酸化物および/または水和酸化物、
並びに、硫酸分含有化合物を混練し、(b)成形し、
(c)得られた成形物を正方晶構造のジルコニアが得ら
れる温度で焼成することにより得た固体酸性酸化ジルコ
ニウム触媒を用いると、その触媒活性の高さ及び反応後
の分離の容易さから特に有利である。該触媒の製造方法
は公知であり、例えばWO98/09727号公報に詳
記されている。特に、1mm程度の粒状又はペレット状
に成形されたものが好適である。この様な触媒は、株式
会社ジャパンエナジーからSZA−60として市販され
ているものが好適に使用可能である。
できる。バッチ方式で行う場合は、ポリオルガノシロキ
サンの原料および触媒をそれぞれ適量、反応器に仕込み
攪拌しながら反応を維持する。反応終了後、触媒を反応
混合物から分離し、さらに生成物を該反応混合物から分
離する。連続方式で行う場合は、バックミックス付きス
ラリー反応器を用い、連続的に攪拌し、連続的に反応体
を添加し、連続的に生成物を除去しながら行うことがで
きる。その他、この方法をパイプライン反応器中で行う
こともできる。その場合、プラグフロー(plugfl
ow)条件下で行われ、これにより反応体が触媒の詰め
られた反応器を通って移動する。この移動は供給体と部
分的に変換した反応生成物との混合が殆どない状態で連
続的であり、移動に伴って反応体の反応が進行する。
たものが好ましい。この場合、反応体は触媒を通って上
昇し、反応体の流れをより自由にする。反応体を反応器
を下に向かって移動させることもできるが、これは触媒
を圧縮することになり、反応体の流れが制約される。ス
ラリー反応器またはパイプライン反応器のいずれにして
も、反応域の温度、反応域の反応体の濃度および反応域
からの、または反応域への反応体の流量を調整すること
が好ましい。この調整により、反応域の温度、反応域の
反応体の濃度および反応域からの、または反応域への反
応体の流量の調整により、連続的反応器において反応体
の滞留時間が10分ないし2時間、好ましくは15ない
し60分、より好ましくは20ないし45分で操作する
ことができる。この滞留時間(分)は、反応域の自由容
積(ミリリッター)を測定し、これを反応器を通過する
反応体の流量(1分当たりのミリリッター)で割ること
により決定することができる。スラリー反応器の場合、
反応域は反応混合物の全体の容積であり、パイプライン
反応器の場合の反応域は触媒を収容した区域である。
この方法を通常、大気圧で行うことができるが、反応条
件、例えば反応の間、反応混合物温度などを制御するた
め、減圧または加圧して行うこともできる。一般に反応
混合物の温度は10ないし80℃、好ましくは20ない
し65℃に維持される。バッチ方式においては、反応は
1ないし24時間で行われる。重合反応が終了したと
き、触媒は濾過、デカンテーション、遠心分離により反
応混合物から分離され、再使用される。触媒を連続方式
で用いる場合、触媒は単に反応器内にそのまま留めら
れ、その間、新たな反応体が供給され、生成物が除去さ
れる。バッチ方式、連続方式のいずれの場合も、触媒の
除去後、必要に応じて残留未反応原料を蒸留、またはス
チームあるいは窒素などの不活性ガスによるストリッピ
ングにより抽出することにより反応混合物から分離して
もよい。
が、本発明はこれらに限定されるものではない。
を備えた500ml三角フラスコを順につなげ、圧力計
を備えた流通反応器を組み立てた。反応塔の内部には、
両端をガラスウールで塞ぎ、その中に触媒である硫酸ジ
ルコニア(ジャパンエナジー製、SZA−60)を20
ml充填した。硫酸ジルコニアは乳鉢でわずかに砕き1
0〜20meshの大きさに揃え、実験直前に350℃
のオーブンで2時間焼成した。三角フラスコの中に、あ
らかじめ均一に混合した原料[ヘキサメチルジシロキサ
ン(Me3SiOSiMe3)7.87質量%、メチル
ハイドロジェンポリシロキサン:Me3Si[OSi
(H)(Me)]37SiMe3(日本ユニカー社製、
商品名L−31)42.86質量%、オクタメチルシク
ロテトラシロキサン:(SiMe2O)4(日本ユニカ
ー社製、商品名Y−7175)49.27質量%]を2
90ml入れ、撹拌しながら、流量67g/hrで、こ
の反応装置に循環させて流通させた。数時間ごとに三角
フラスコの中からシリンジで約3ml抜き取り、屈折率
とGPCの測定を行った。屈折率を図1に、0、6、3
0時間のGPCチャートを図2に示す。図1および図2
より、ほぼ6時間で平衡に達していることが判った。
1A)を用いた以外は実施例1と同様に実験を行い、屈
折率とGPCの測定を行った。屈折率を図1に示す。図
1に示される通り、33時間かけてもほとんど反応の兆
候が見られないので実験を終了した。0、27、33時
間のGPCチャートを図3に示すが、やはり殆ど変化が
無かった。
リスト36)を用いた以外は実施例1と同様に実験を行
い、屈折率とGPCの測定を行った。屈折率を図2に、
0、195、267時間のGPCチャートを図4に示
す。図1および図4より、この製造方法では、反応は進
行するものの、反応速度が遅く、平衡に達するにはかな
りの時間(約300時間)が必要であることが判った。
れ、窒素雰囲気下、触媒として濃硫酸を25.0g
(2.5pph)投入し、25℃、1気圧で12時間撹
拌した。その後、中和のため、炭酸水素ナトリウムNa
HCO3を125g(12.5pph)投入し、4時間
撹拌した。濾紙を用いて加圧濾過し、濾液を生成物とし
た。屈折率は1.3974、分子量は、2700であっ
た。0時間、4時間のGPCチャートを図5に示す。こ
の製造方法は反応速度的には実施例1とほぼ同様である
が、多量の廃棄物が発生した。
トグラフィー(GPC)により測定した。 装 置:GPC測定システム(日本分光株式会社製) カラム:昭和電工株式会社製Shodex−803L 検出器:屈折率(RI)検出器RL540R(GLサイ
エンス株式会社製) 検量線:昭和電工株式会社製の10種類の標準ポリスチ
レン(分子量1.2×103〜2.75×106)を用
いて作成 測 定:温度40℃において、クロロホルムを1.0m
l/分で流し、これに試料(濃度0.3wt%)を10
0μl注入した。
速く、生産性がよく、高収率で製品が得られ、製造装置
の腐食性が少なく、装置を停めて補修する必要がすくな
く、触媒を長期間取り替えなくともよいので、コストダ
ウンに繋がり、また製品中に残存する不純物の量も少な
く、高品質のオルガノポリシロキサンが得られる効果が
ある。
す図
サン)のGPCチャートを示す図
サン)のGPCチャートを示す図
サン)のGPCチャートを示す図
サン)のGPCチャートを示す図
Claims (6)
- 【請求項1】 シロキサン単位を有する有機珪素化合物
及びアルコキシシランの一種以上を、酸性触媒存在下に
おける珪素−酸素結合の開裂及び再結合による平衡化反
応によりポリオルガノシロキサンを製造する方法におい
て、酸性触媒として固体酸性酸化ジルコニウム触媒を用
いることを特徴とするポリオルガノシロキサンの製造方
法。 - 【請求項2】 上記平衡化反応時の温度が10〜80℃
であることを特徴とする請求項1に記載のポリオルガノ
シロキサンの製造方法。 - 【請求項3】 上記シロキサン単位を有する有機珪素化
合物及びアルコキシシランの一種以上がヒドロシリル基
を含むことを特徴とする請求項1又は2のいづれかの項
に記載のポリオルガノシロキサンの製造方法。 - 【請求項4】 上記固体酸性酸化ジルコニウム触媒の添
加量が、シロキサン単位を有する有機珪素化合物及びア
ルコキシシランの一種以上に対して0.1〜40重量%
であることを特徴とする請求項1〜3のいづれかの項に
記載に記載のポリオルガノシロキサンの製造方法。 - 【請求項5】 上記固体酸性酸化ジルコニウム触媒が、
(a)アルミニウム水酸化物および/または水和酸化
物、ジルコニウム水酸化物および/または水和酸化物、
並びに、硫酸分含有化合物を混練し、(b)成形し、
(c)得られた成形物を正方晶構造のジルコニアが得ら
れる温度で焼成することにより得たものであることを特
徴とする請求項1〜4のいづれかの項に記載に記載のポ
リオルガノシロキサンの製造方法。 - 【請求項6】 上記固体酸性酸化ジルコニウム触媒を含
む反応器中に、シロキサン単位を有する有機珪素化合物
及びアルコキシシランの一種以上を連続的に通過させる
ことを特徴とする請求項1〜5のいづれかの項に記載に
記載のポリオルガノシロキサンの製造方法。
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