JP2003160535A - 不飽和二塩基酸ジエステルの製造方法 - Google Patents
不飽和二塩基酸ジエステルの製造方法Info
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- JP2003160535A JP2003160535A JP2001363062A JP2001363062A JP2003160535A JP 2003160535 A JP2003160535 A JP 2003160535A JP 2001363062 A JP2001363062 A JP 2001363062A JP 2001363062 A JP2001363062 A JP 2001363062A JP 2003160535 A JP2003160535 A JP 2003160535A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 色相がAPHA100以下である不飽和二塩
基酸ジエステルを、高純度、高収量で製造する方法を提
供する。 【解決手段】 アルコールと不飽和二塩基酸又は不飽和
二塩基酸無水物とからAPHA100以下の不飽和二塩
基酸ジエステルを製造するにあたり、以下の工程を含む
ことを特徴とする製造方法。 工程1:酸触媒を用いてエステル化反応する工程。 工程2:工程1で得られた反応液を5〜30重量%のア
ルカリ水溶液と接触させ洗浄し、分層する工程。
基酸ジエステルを、高純度、高収量で製造する方法を提
供する。 【解決手段】 アルコールと不飽和二塩基酸又は不飽和
二塩基酸無水物とからAPHA100以下の不飽和二塩
基酸ジエステルを製造するにあたり、以下の工程を含む
ことを特徴とする製造方法。 工程1:酸触媒を用いてエステル化反応する工程。 工程2:工程1で得られた反応液を5〜30重量%のア
ルカリ水溶液と接触させ洗浄し、分層する工程。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、色相がAPHA1
00以下の不飽和二塩基酸ジエステルを高収率で得る製
造方法に関する。
00以下の不飽和二塩基酸ジエステルを高収率で得る製
造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】不飽和二塩基酸ジエステルは、モノマー
原料として広く使用されているが、最近では、可塑剤の
フタル酸ジエステルの代替化合物、光学材料の原料、ト
イレタリー分野の添加剤等のより高い安全性、より好ま
しい外観が求められる分野で使用されるようになってき
たため、色相がAPHA100以下の不飽和二塩基酸ジ
エステルの需要が増大している。不飽和二塩基酸ジエス
テルの製造方法として、例えば、不飽和二塩基酸とアル
コールとを、溶剤の存在下硫酸を酸触媒として用いてエ
ステル化反応し、これを中和洗浄した後に蒸留精製、又
は再結晶精製して得る方法が知られている(例えば、O
rg.Syn.、10巻、48頁(1930年);Ch
em.Ber.、35巻、4087頁(1902
年))。この方法は、ジエステルを製造し、蒸留精製、
再結晶精製により容易に色相の優れたジエステルを得る
方法である。しかしながら、高沸点のアルコールを原料
とした場合、目的のジエステルが蒸留精製に適さない。
また、不飽和二塩基酸のジエステルは融点が低いことが
多く、再結晶精製に適さないことになる。
原料として広く使用されているが、最近では、可塑剤の
フタル酸ジエステルの代替化合物、光学材料の原料、ト
イレタリー分野の添加剤等のより高い安全性、より好ま
しい外観が求められる分野で使用されるようになってき
たため、色相がAPHA100以下の不飽和二塩基酸ジ
エステルの需要が増大している。不飽和二塩基酸ジエス
テルの製造方法として、例えば、不飽和二塩基酸とアル
コールとを、溶剤の存在下硫酸を酸触媒として用いてエ
ステル化反応し、これを中和洗浄した後に蒸留精製、又
は再結晶精製して得る方法が知られている(例えば、O
rg.Syn.、10巻、48頁(1930年);Ch
em.Ber.、35巻、4087頁(1902
年))。この方法は、ジエステルを製造し、蒸留精製、
再結晶精製により容易に色相の優れたジエステルを得る
方法である。しかしながら、高沸点のアルコールを原料
とした場合、目的のジエステルが蒸留精製に適さない。
また、不飽和二塩基酸のジエステルは融点が低いことが
多く、再結晶精製に適さないことになる。
【0003】そこで、硫酸使用による着色を防止するた
めに、より酸性の低い触媒、例えばパラトルエンスルホ
ン酸や酸型イオン交換樹脂等を用いる方法がある(例え
ば、米国特許3,078,302号明細書;高分子論文
集、54巻、69頁(1997年))。しかし、この場
合も着色しAPHA100以下のジエステルを直接に製
造することはできない。他の方法としては、不飽和二塩
基酸の酸ハロゲン化物とアルコールから、脱塩酸剤とし
てトリエチルアミンやピリジン等のアミンを用いて比較
的低温で反応させる方法がある。しかし、この方法は原
料の酸クロライドの変性や脱塩酸用に使用するアミンの
ため、エステル化反応時に反応液の着色は著しくなる。
反応液を脱色する方法として、活性白土、活性炭等の吸
着剤の使用がなされる。しかし、これらの方法を使用し
ても着色度の高いエステルの脱色には適さない。
めに、より酸性の低い触媒、例えばパラトルエンスルホ
ン酸や酸型イオン交換樹脂等を用いる方法がある(例え
ば、米国特許3,078,302号明細書;高分子論文
集、54巻、69頁(1997年))。しかし、この場
合も着色しAPHA100以下のジエステルを直接に製
造することはできない。他の方法としては、不飽和二塩
基酸の酸ハロゲン化物とアルコールから、脱塩酸剤とし
てトリエチルアミンやピリジン等のアミンを用いて比較
的低温で反応させる方法がある。しかし、この方法は原
料の酸クロライドの変性や脱塩酸用に使用するアミンの
ため、エステル化反応時に反応液の着色は著しくなる。
反応液を脱色する方法として、活性白土、活性炭等の吸
着剤の使用がなされる。しかし、これらの方法を使用し
ても着色度の高いエステルの脱色には適さない。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、蒸留や再結
晶等の精製方法での精製が難しい不飽和二塩基酸ジエス
テルについてAPHA100以下とし、高純度で、しか
も高収量で製造する方法を提供する。
晶等の精製方法での精製が難しい不飽和二塩基酸ジエス
テルについてAPHA100以下とし、高純度で、しか
も高収量で製造する方法を提供する。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明は以下の発明であ
る。 (1)アルコールと不飽和二塩基酸又は不飽和二塩基酸
無水物とからAPHA100以下の不飽和二塩基酸ジエ
ステルを製造するにあたり、以下の工程を含むことを特
徴とする製造方法。 工程1:酸触媒を用いてエステル化反応する工程。 工程2:工程1で得られた反応液を5〜30重量%のア
ルカリ水溶液と接触させ洗浄し、分層する工程。 (2)前記(1)の発明において、アルコールが110
℃以上の沸点のアルコールである製造方法。 (3)工程1において、酸触媒として有機スルホン酸を
用いる前記(1)又は(2)の発明の製造方法。 (4)アルカリ水溶液が苛性ソーダ水、苛性カリ水であ
る前記(1)〜(3)の発明のいずれかの製造方法。
る。 (1)アルコールと不飽和二塩基酸又は不飽和二塩基酸
無水物とからAPHA100以下の不飽和二塩基酸ジエ
ステルを製造するにあたり、以下の工程を含むことを特
徴とする製造方法。 工程1:酸触媒を用いてエステル化反応する工程。 工程2:工程1で得られた反応液を5〜30重量%のア
ルカリ水溶液と接触させ洗浄し、分層する工程。 (2)前記(1)の発明において、アルコールが110
℃以上の沸点のアルコールである製造方法。 (3)工程1において、酸触媒として有機スルホン酸を
用いる前記(1)又は(2)の発明の製造方法。 (4)アルカリ水溶液が苛性ソーダ水、苛性カリ水であ
る前記(1)〜(3)の発明のいずれかの製造方法。
【0006】
【発明の実施の形態】本発明における不飽和二塩基酸又
は不飽和二塩基酸無水物とは、不飽和二重結合と2つの
カルボン酸基又は1つの無水環を有する化合物で、例え
ばフマル酸、マレイン酸、イタコン酸、メサコン酸、シ
トラコン酸等の不飽和二塩基酸、無水マレイン酸、無水
イタコン酸等の不飽和二塩基酸無水物が挙げられる。
は不飽和二塩基酸無水物とは、不飽和二重結合と2つの
カルボン酸基又は1つの無水環を有する化合物で、例え
ばフマル酸、マレイン酸、イタコン酸、メサコン酸、シ
トラコン酸等の不飽和二塩基酸、無水マレイン酸、無水
イタコン酸等の不飽和二塩基酸無水物が挙げられる。
【0007】本発明の前記化合物とエステル化反応する
アルコールの種類は、特に限定はない。しかし、本発明
は沸点が110℃以上のアルコールから構成されるジエ
ステルで、高沸点のジエステルの製造に適用できる。例
えば構成アルコールをn−ブタノ−ル、n−アミルアル
コール、イソアミルアルコール、s−アミルアルコー
ル、n−ヘキサノール、2−エチル−1−ブタノ−ル、
n−ヘプタノール、2−ヘプタノ−ル、n−オクタノ−
ル、2−オクタノ−ル、2−エチルヘキサノ−ル、ノナ
ノ−ル、n−デカノ−ル、ウンデカノ−ル、シクロヘキ
サノ−ル、2−メチルシクロヘキサノ−ル、ベンジルア
ルコール、グリシドール、フルフリルアルコール、テト
ラヒドロフルフリルアルコール等のアルコール類;エチ
レングリコール、エチレングリコールモノメチルエーテ
ル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレン
グリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモ
ノアセテート、ジエチレングリコール、ジエチレングリ
コールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノ
エチルエーテル、トリエチレングリコール、トリエチレ
ングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコー
ル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、1,3
−ブタンジオール、1,4−ブタンジオール、グリセリ
ン、グリセリンモノアセテート等の多価アルコール及び
その誘導体類としたジエステルの製造に実施できる。
アルコールの種類は、特に限定はない。しかし、本発明
は沸点が110℃以上のアルコールから構成されるジエ
ステルで、高沸点のジエステルの製造に適用できる。例
えば構成アルコールをn−ブタノ−ル、n−アミルアル
コール、イソアミルアルコール、s−アミルアルコー
ル、n−ヘキサノール、2−エチル−1−ブタノ−ル、
n−ヘプタノール、2−ヘプタノ−ル、n−オクタノ−
ル、2−オクタノ−ル、2−エチルヘキサノ−ル、ノナ
ノ−ル、n−デカノ−ル、ウンデカノ−ル、シクロヘキ
サノ−ル、2−メチルシクロヘキサノ−ル、ベンジルア
ルコール、グリシドール、フルフリルアルコール、テト
ラヒドロフルフリルアルコール等のアルコール類;エチ
レングリコール、エチレングリコールモノメチルエーテ
ル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレン
グリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモ
ノアセテート、ジエチレングリコール、ジエチレングリ
コールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノ
エチルエーテル、トリエチレングリコール、トリエチレ
ングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコー
ル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、1,3
−ブタンジオール、1,4−ブタンジオール、グリセリ
ン、グリセリンモノアセテート等の多価アルコール及び
その誘導体類としたジエステルの製造に実施できる。
【0008】本反応に用いるアルコールの使用量として
は、不飽和二塩基酸1モルに対して1.5モル以上用い
ることが好ましい。さらに好ましくは2モル〜5モルの
範囲である。1.5モル未満では反応の収率が低下し、
5モルを超えると未反応アルコールの除去が困難なる一
方で副生成物の生成が生じるため好ましくない。
は、不飽和二塩基酸1モルに対して1.5モル以上用い
ることが好ましい。さらに好ましくは2モル〜5モルの
範囲である。1.5モル未満では反応の収率が低下し、
5モルを超えると未反応アルコールの除去が困難なる一
方で副生成物の生成が生じるため好ましくない。
【0009】本発明におけるエステル化反応は、必ずし
も有機溶剤の存在を必要としないが、例えばヘキサン、
ヘプタン、オクタン、ノナン、シクロヘキサン、メチル
シクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン等の等
の炭化水素、塩化メチル、クロロホルム、塩化エチレ
ン、トリクロロエチレン、クロロベンゼン等のハロゲン
化炭化水素;エチルエーテル、イソプロピルエーテル、
n−ブチルエーテル等のエーテルを使用できる。好まし
い有機溶媒としては、反応水を連続で系外に除去するた
めに水と共沸混合物を作ることができ、さらに反応液を
アルカリ水溶液および水による洗浄を行う際に安定で油
層と水層との分離が良いものであり、前記炭化水素が使
用される。この場合の使用量としては、前記アルコール
に対して0.5〜2倍容量が適当である。
も有機溶剤の存在を必要としないが、例えばヘキサン、
ヘプタン、オクタン、ノナン、シクロヘキサン、メチル
シクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン等の等
の炭化水素、塩化メチル、クロロホルム、塩化エチレ
ン、トリクロロエチレン、クロロベンゼン等のハロゲン
化炭化水素;エチルエーテル、イソプロピルエーテル、
n−ブチルエーテル等のエーテルを使用できる。好まし
い有機溶媒としては、反応水を連続で系外に除去するた
めに水と共沸混合物を作ることができ、さらに反応液を
アルカリ水溶液および水による洗浄を行う際に安定で油
層と水層との分離が良いものであり、前記炭化水素が使
用される。この場合の使用量としては、前記アルコール
に対して0.5〜2倍容量が適当である。
【0010】エステル化反応は、窒素、アルゴン等の不
活性ガス中でおこなうのが好ましい。反応中の酸素に起
因した着色劣化を抑制することができる。また、反応中
には反応を円滑に進めるために、エステル化反応により
生成した水を順次系外へ除去して製造することが好まし
い。
活性ガス中でおこなうのが好ましい。反応中の酸素に起
因した着色劣化を抑制することができる。また、反応中
には反応を円滑に進めるために、エステル化反応により
生成した水を順次系外へ除去して製造することが好まし
い。
【0011】エステル化反応を行うための酸触媒として
は、硫酸、リン酸、五酸化リン、ヘテロポリリン酸等の
無機酸、パラトルエンスルホン酸、メタンスルホン酸、
トリフルオロ酢酸、トリフルオロ酢酸無水物、フッ化ホ
ウ素、酸型イオン交換樹脂等の有機酸、ジシクロヘキシ
ルカルボジイミド等の脱水剤も挙げられる。中でも、エ
ステルの着色を抑えつつ、好ましい反応速度を維持する
ためには、パラトルエンスルホン酸、メタンスルホン酸
等の有機スルホン酸を使用することが好ましい。酸触媒
の使用量は、前記不飽和二塩基酸に対して0.1〜20
重量%、好ましくは1〜10重量%の範囲で使用され
る。
は、硫酸、リン酸、五酸化リン、ヘテロポリリン酸等の
無機酸、パラトルエンスルホン酸、メタンスルホン酸、
トリフルオロ酢酸、トリフルオロ酢酸無水物、フッ化ホ
ウ素、酸型イオン交換樹脂等の有機酸、ジシクロヘキシ
ルカルボジイミド等の脱水剤も挙げられる。中でも、エ
ステルの着色を抑えつつ、好ましい反応速度を維持する
ためには、パラトルエンスルホン酸、メタンスルホン酸
等の有機スルホン酸を使用することが好ましい。酸触媒
の使用量は、前記不飽和二塩基酸に対して0.1〜20
重量%、好ましくは1〜10重量%の範囲で使用され
る。
【0012】本発明におけるエステル化反応の反応温度
としては、有機溶媒の使用の有無、使用される有機溶媒
の種類によっても異なるが、通常40℃〜160℃、好
ましくは60℃〜150℃である。反応温度が40℃未
満では反応速度が極度に低下し、反応収率の低下が起き
る。また160℃を超えると極度の発熱が見られ、エス
テル化反応液の着色が著しくなり、副生成物も生成され
やすくなるので好ましくない。前記エステル反応の反応
時間としては、反応温度にもよるが、通常2〜48時間
の間であるが、反応液の着色度を抑える為には80〜1
40℃の反応温度で、2〜15時間の範囲であることが
好ましい。
としては、有機溶媒の使用の有無、使用される有機溶媒
の種類によっても異なるが、通常40℃〜160℃、好
ましくは60℃〜150℃である。反応温度が40℃未
満では反応速度が極度に低下し、反応収率の低下が起き
る。また160℃を超えると極度の発熱が見られ、エス
テル化反応液の着色が著しくなり、副生成物も生成され
やすくなるので好ましくない。前記エステル反応の反応
時間としては、反応温度にもよるが、通常2〜48時間
の間であるが、反応液の着色度を抑える為には80〜1
40℃の反応温度で、2〜15時間の範囲であることが
好ましい。
【0013】本発明において、前記エステル化反応によ
り得られた反応液は、5〜30重量%、好ましくは10
〜20重量%のアルカリ水溶液と接触させ洗浄する。接
触は、反応液とアルカリ水溶液を混和してなされる。洗
浄する目的は酸触媒の除去を目的とすると同時に反応液
の着色除去をするものである。アルカリとしては例えば
苛性ソーダ、苛性カリ、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素
カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等のアルカリ
性の無機化合物が挙げられ、苛性ソーダ、苛性カリの強
アルカリが反応液の脱色に有効で好ましい。アルカリ水
溶液洗浄処理は、濃度5〜20重量%のアルカリ水溶液
を室温〜100℃の処理温度で、反応液と接触処理す
る。濃度が5重量%未満では、反応液を中和除去するこ
とができるが、脱色は十分にできず、APHA100以
下の不飽和二塩基酸ジエステルを製造することができな
い。濃度が20重量%を超えると、脱色には効果がある
が、エステルの加水分解も副反応として起こるため、収
量よく製造することができなくなる。アルカリ水溶液の
使用量は、反応液の100重量部に対して10〜100
0重量部の範囲が好ましい。10重量部未満ではアルカ
リ除去及び脱色ができず、1000重量部を超えてもア
ルカリ水溶液による処理効果は変わらない。洗浄処理
後、静置することにより水層であるアルカリ水溶液と油
層である反応液を分層することができ、容易に脱色精製
した反応液を取り出すことができる。
り得られた反応液は、5〜30重量%、好ましくは10
〜20重量%のアルカリ水溶液と接触させ洗浄する。接
触は、反応液とアルカリ水溶液を混和してなされる。洗
浄する目的は酸触媒の除去を目的とすると同時に反応液
の着色除去をするものである。アルカリとしては例えば
苛性ソーダ、苛性カリ、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素
カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等のアルカリ
性の無機化合物が挙げられ、苛性ソーダ、苛性カリの強
アルカリが反応液の脱色に有効で好ましい。アルカリ水
溶液洗浄処理は、濃度5〜20重量%のアルカリ水溶液
を室温〜100℃の処理温度で、反応液と接触処理す
る。濃度が5重量%未満では、反応液を中和除去するこ
とができるが、脱色は十分にできず、APHA100以
下の不飽和二塩基酸ジエステルを製造することができな
い。濃度が20重量%を超えると、脱色には効果がある
が、エステルの加水分解も副反応として起こるため、収
量よく製造することができなくなる。アルカリ水溶液の
使用量は、反応液の100重量部に対して10〜100
0重量部の範囲が好ましい。10重量部未満ではアルカ
リ除去及び脱色ができず、1000重量部を超えてもア
ルカリ水溶液による処理効果は変わらない。洗浄処理
後、静置することにより水層であるアルカリ水溶液と油
層である反応液を分層することができ、容易に脱色精製
した反応液を取り出すことができる。
【0014】さらに、アルカリ水溶液洗浄処理後は反応
液を水又は温水により洗浄し、アルカリ除去や未反応ア
ルコールを除去することが好ましい。前記処理後の不飽
和二塩基酸ジエステルを主成分とする反応液は、25〜
120℃、好ましくは100℃以下の温度範囲で、窒
素、アルゴン等の不活性ガスの存在下又は無存在下で常
圧もしくは減圧下脱水及び/又は脱溶剤して目的の不飽
和二塩基酸ジエステルを製造することができる。
液を水又は温水により洗浄し、アルカリ除去や未反応ア
ルコールを除去することが好ましい。前記処理後の不飽
和二塩基酸ジエステルを主成分とする反応液は、25〜
120℃、好ましくは100℃以下の温度範囲で、窒
素、アルゴン等の不活性ガスの存在下又は無存在下で常
圧もしくは減圧下脱水及び/又は脱溶剤して目的の不飽
和二塩基酸ジエステルを製造することができる。
【0015】製造される不飽和二塩基酸ジエステルとし
ては、例えばフマル酸ジブチル、フマル酸ジアミル、フ
マル酸ジヘキシル、フマル酸ジオクチル、フマル酸ジシ
クロヘキシル、フマル酸ジベンジル、フマル酸ジグリシ
ジル、フマル酸ジテトラヒドロフルフリル、フマル酸ジ
−2−ヒドロキシエチル、フマル酸ジメトキシエチル、
フマル酸ジエトキシエチル、フマル酸ジ−2−ヒドロキ
シエトキシエチル、フマル酸ジメトキシエトキシエチ
ル、フマル酸ジエトキシエトキシエチル、フマル酸ジ−
2−ヒドロキシエトキシエトキシエチルトリエチレング
リコール、フマル酸ジメトキシジエトキシエチル、フマ
ル酸ジ−2−ヒドロキシプロピル等のフマル酸ジエステ
ル;同様のエステル基を有するマレイン酸ジエステル、
イタコン酸ジエステル、メサコン酸ジエステル、シトラ
コン酸ジエステル等の蒸留や再結晶による精製が難しい
不飽和二塩基酸ジエステルが挙げられ、本発明の前記製
造方法により純度90重量%以上で、APHA100以
下のものを得ることができる。
ては、例えばフマル酸ジブチル、フマル酸ジアミル、フ
マル酸ジヘキシル、フマル酸ジオクチル、フマル酸ジシ
クロヘキシル、フマル酸ジベンジル、フマル酸ジグリシ
ジル、フマル酸ジテトラヒドロフルフリル、フマル酸ジ
−2−ヒドロキシエチル、フマル酸ジメトキシエチル、
フマル酸ジエトキシエチル、フマル酸ジ−2−ヒドロキ
シエトキシエチル、フマル酸ジメトキシエトキシエチ
ル、フマル酸ジエトキシエトキシエチル、フマル酸ジ−
2−ヒドロキシエトキシエトキシエチルトリエチレング
リコール、フマル酸ジメトキシジエトキシエチル、フマ
ル酸ジ−2−ヒドロキシプロピル等のフマル酸ジエステ
ル;同様のエステル基を有するマレイン酸ジエステル、
イタコン酸ジエステル、メサコン酸ジエステル、シトラ
コン酸ジエステル等の蒸留や再結晶による精製が難しい
不飽和二塩基酸ジエステルが挙げられ、本発明の前記製
造方法により純度90重量%以上で、APHA100以
下のものを得ることができる。
【0016】本発明の不飽和二塩基酸ジエステルは、不
飽和二重結合を利用すればビニルモノマーとして用いる
ことができ、光学用樹脂,電気材料やビニルポリマーの
改質剤の原料として、また、高沸点の油剤として可塑剤
や潤滑剤等に利用することもできる。
飽和二重結合を利用すればビニルモノマーとして用いる
ことができ、光学用樹脂,電気材料やビニルポリマーの
改質剤の原料として、また、高沸点の油剤として可塑剤
や潤滑剤等に利用することもできる。
【0017】
【発明の効果】本発明によると、アルコールと不飽和二
塩基酸又は不飽和二塩基酸無水物とから、APHA10
0以下で高純度の不飽和二塩基酸ジエステルを高収率で
製造することができる。
塩基酸又は不飽和二塩基酸無水物とから、APHA10
0以下で高純度の不飽和二塩基酸ジエステルを高収率で
製造することができる。
【0018】
【実施例】以下、実施例を挙げて詳細に説明するが、本
発明はこれらに限定されるものではない。なお、色相A
PHAは、JIS−K4101に準じて測定した。
発明はこれらに限定されるものではない。なお、色相A
PHAは、JIS−K4101に準じて測定した。
【0019】実施例1
(フマル酸ジ2−エチルヘキシルの製造1)攪拌機、温
度計、コック付水分受器、コンデンサー及び窒素導入管
を取り付けた1リットルの4口フラスコにフマル酸11
6g(1.0モル)、2−エチルヘキサノ−ル390g
(3.0モル)及びパラトルエンスルホン酸2.32g
を仕込んだ。反応器内を窒素気流下、反応液の温度を1
00〜130℃に保ちながら、生成する水を2−エチル
ヘキサノ−ルと共沸混合物で留出させながら、8時間反
応した。反応終了後、反応液を分液ロート中で50℃に
加温下、10重量%苛性ソーダ水溶液400gと接触さ
せ、静置分層させた。下層の水層を除外し分取した上層
の油層をさらに50℃の温水にて洗浄した。その後、減
圧蒸留により未反応2−エチルヘキサノ−ルおよび水を
窒素下50〜120℃の温度範囲で留出除去した。得ら
れた精製物は、GC分析により純度は97重量%で、酸
価0.02mgKOH/g、APHA15のフマル酸ジ
2−エチルヘキサノ−ルで、理論収量に対し収率85重
量%で得られた。ここで、エステルは、IR分析により
フマル酸由来の3500〜2500cm-1の幅広いカル
ボン酸吸収の消失とエステル由来の1730cm-1付近
にカルボニルの吸収が見られ、1H−NMR分析により
6.82ppmにトランス位のCH=CHプロトン、
0.8〜1.1ppm及び4.1ppm付近に2−エチ
ルヘキシル基由来の吸収があることから、フマル酸ジ2
−エチルヘキシルであることが確認された。
度計、コック付水分受器、コンデンサー及び窒素導入管
を取り付けた1リットルの4口フラスコにフマル酸11
6g(1.0モル)、2−エチルヘキサノ−ル390g
(3.0モル)及びパラトルエンスルホン酸2.32g
を仕込んだ。反応器内を窒素気流下、反応液の温度を1
00〜130℃に保ちながら、生成する水を2−エチル
ヘキサノ−ルと共沸混合物で留出させながら、8時間反
応した。反応終了後、反応液を分液ロート中で50℃に
加温下、10重量%苛性ソーダ水溶液400gと接触さ
せ、静置分層させた。下層の水層を除外し分取した上層
の油層をさらに50℃の温水にて洗浄した。その後、減
圧蒸留により未反応2−エチルヘキサノ−ルおよび水を
窒素下50〜120℃の温度範囲で留出除去した。得ら
れた精製物は、GC分析により純度は97重量%で、酸
価0.02mgKOH/g、APHA15のフマル酸ジ
2−エチルヘキサノ−ルで、理論収量に対し収率85重
量%で得られた。ここで、エステルは、IR分析により
フマル酸由来の3500〜2500cm-1の幅広いカル
ボン酸吸収の消失とエステル由来の1730cm-1付近
にカルボニルの吸収が見られ、1H−NMR分析により
6.82ppmにトランス位のCH=CHプロトン、
0.8〜1.1ppm及び4.1ppm付近に2−エチ
ルヘキシル基由来の吸収があることから、フマル酸ジ2
−エチルヘキシルであることが確認された。
【0020】実施例2
(フマル酸ジシクロヘキシルの製造)実施例1と同様の
反応器にアルコールとしてシクロヘキサノ−ル220
g、溶剤としてトルエン250gを用いた以外実施例1
と同様に原料を仕込んで反応した。反応器内を窒素気流
下、反応液の温度を110〜130℃に保ちながら、生
成する水をトルエンと共沸混合物で留出させ、8時間反
応した。反応終了後、10重量%苛性カリ水溶液500
gを用いて、他は実施例1と同様にアルカリ洗浄処理
し、分層後、油層を分取した。その後80〜140℃の
温度範囲で、留出除去処理した。得られた精製物は、G
C分析により純度は94重量%で、酸価0.03mgK
OH/g、APHA20のフマル酸ジシクロへキシルで
あり、収率は91重量%であった。
反応器にアルコールとしてシクロヘキサノ−ル220
g、溶剤としてトルエン250gを用いた以外実施例1
と同様に原料を仕込んで反応した。反応器内を窒素気流
下、反応液の温度を110〜130℃に保ちながら、生
成する水をトルエンと共沸混合物で留出させ、8時間反
応した。反応終了後、10重量%苛性カリ水溶液500
gを用いて、他は実施例1と同様にアルカリ洗浄処理
し、分層後、油層を分取した。その後80〜140℃の
温度範囲で、留出除去処理した。得られた精製物は、G
C分析により純度は94重量%で、酸価0.03mgK
OH/g、APHA20のフマル酸ジシクロへキシルで
あり、収率は91重量%であった。
【0021】実施例3
(フマル酸ジメトキシエトキシエチルの製造)アルコー
ルとしてジエチレングリコールモノメチルエーテル26
4gを用いた以外実施例2と同様の方法でエステル化反
応を行い、処理した後分析を行った。結果は、GC分析
により精製物の純度は96重量%で、酸価0.01mg
KOH/g、APHA20のフマル酸ジメトキシエトキ
シエチルであり、収率は82重量%であった。
ルとしてジエチレングリコールモノメチルエーテル26
4gを用いた以外実施例2と同様の方法でエステル化反
応を行い、処理した後分析を行った。結果は、GC分析
により精製物の純度は96重量%で、酸価0.01mg
KOH/g、APHA20のフマル酸ジメトキシエトキ
シエチルであり、収率は82重量%であった。
【0022】実施例4
(マレイン酸ジベンジルの製造)実施例1と同様の反応
器に無水マレイン酸98g、ベンジルアルコール237
g、パラトルエンスルホン酸2.0g、溶剤としてトル
エン250gを仕込んだ。反応器内を窒素気流下、反応
液の温度を110〜130℃に保ちながら、生成する水
をトルエンと共沸混合物で留出させ、8時間反応した。
反応終了後、10重量%苛性ソーダ水溶液750gを用
いて、他は実施例1と同様にアルカリ洗浄処理し、分層
後、油層を分取した。その後80〜140℃の温度範囲
で、未反応分等を留出除去した。得られた精製物は、G
C分析により純度は97重量%で、酸価0.01mgK
OH/g、APHA10のフマル酸ジベンジルであり、
収率は92重量%であった。
器に無水マレイン酸98g、ベンジルアルコール237
g、パラトルエンスルホン酸2.0g、溶剤としてトル
エン250gを仕込んだ。反応器内を窒素気流下、反応
液の温度を110〜130℃に保ちながら、生成する水
をトルエンと共沸混合物で留出させ、8時間反応した。
反応終了後、10重量%苛性ソーダ水溶液750gを用
いて、他は実施例1と同様にアルカリ洗浄処理し、分層
後、油層を分取した。その後80〜140℃の温度範囲
で、未反応分等を留出除去した。得られた精製物は、G
C分析により純度は97重量%で、酸価0.01mgK
OH/g、APHA10のフマル酸ジベンジルであり、
収率は92重量%であった。
【0023】実施例5
(イタコン酸ジベンジルの製造)不飽和二塩基酸として
イタコン酸を130gを用いた以外、実施例2と全く同
様にしてベンジルアルコールと反応させ、精製した。得
られた精製物は、GC分析により純度は95重量%で、
酸価0.03mgKOH/g、APHA10であり、収
率は89重量%であった。
イタコン酸を130gを用いた以外、実施例2と全く同
様にしてベンジルアルコールと反応させ、精製した。得
られた精製物は、GC分析により純度は95重量%で、
酸価0.03mgKOH/g、APHA10であり、収
率は89重量%であった。
【0024】実施例6
(フマル酸ジ−2−エチルヘキシルの製造2)酸触媒と
して硫酸を用いた以外、実施例1と同様にエステル化反
応、精製、分析を行った。得られた精製物は、GC分析
により純度は95重量%であり、酸価0.01mgKO
H/g、APHA25であり、収率87重量%であっ
た。
して硫酸を用いた以外、実施例1と同様にエステル化反
応、精製、分析を行った。得られた精製物は、GC分析
により純度は95重量%であり、酸価0.01mgKO
H/g、APHA25であり、収率87重量%であっ
た。
【0025】比較例1
10重量%苛性ソーダ水の代わりに水を用いた以外、実
施例1と同様にエステル化反応、処理、分析を行った。
得られた精製物は、GC分析により純度は89重量%
で、酸価2.5mgKOH/g、APHA300であ
り、収率84重量%で得られた。
施例1と同様にエステル化反応、処理、分析を行った。
得られた精製物は、GC分析により純度は89重量%
で、酸価2.5mgKOH/g、APHA300であ
り、収率84重量%で得られた。
【0026】比較例2
10重量%苛性ソーダ水の代わりに2重量%苛性ソーダ
水を用いた以外、実施例1と同様にエステル化反応、処
理、分析を行った。得られた精製物は、GC分析により
純度は94重量%で、酸価0.08mgKOH/g、A
PHA160であり、収率86重量%で得られた。
水を用いた以外、実施例1と同様にエステル化反応、処
理、分析を行った。得られた精製物は、GC分析により
純度は94重量%で、酸価0.08mgKOH/g、A
PHA160であり、収率86重量%で得られた。
【0027】比較例3
10重量%苛性ソーダ水の代わりに水を用いた以外、実
施例2と同様にエステル化反応、処理、分析を行った。
得られた精製物は、GC分析により純度は93重量%
で、酸価3.5mgKOH/g、APHA200であ
り、収率は89重量%であった。
施例2と同様にエステル化反応、処理、分析を行った。
得られた精製物は、GC分析により純度は93重量%
で、酸価3.5mgKOH/g、APHA200であ
り、収率は89重量%であった。
【0028】比較例4
酸触媒として硫酸を用い、10重量%苛性ソーダ水の代
わりに水を用いた以外、実施例1と同様にエステル化反
応、処理、分析を行った。精製物は、GC分析により生
成物の純度は95重量%で、酸価3.3mgKOH/
g、APHA400であり、収率は93重量%であっ
た。
わりに水を用いた以外、実施例1と同様にエステル化反
応、処理、分析を行った。精製物は、GC分析により生
成物の純度は95重量%で、酸価3.3mgKOH/
g、APHA400であり、収率は93重量%であっ
た。
【0029】実施例1〜6の結果より、蒸留又は再結晶
による精製工程を要することなく、高純度で着色の少な
い不飽和二塩基酸ジエステルを収率良く得られる。一
方、比較例において、アルカリ水溶液の濃度が低い場合
は、エステルの着色は高く、純度や酸価の点でも実施例
より低品質であることがわかる。
による精製工程を要することなく、高純度で着色の少な
い不飽和二塩基酸ジエステルを収率良く得られる。一
方、比較例において、アルカリ水溶液の濃度が低い場合
は、エステルの着色は高く、純度や酸価の点でも実施例
より低品質であることがわかる。
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フロントページの続き
(51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考)
// C07B 61/00 300 C07B 61/00 300
Fターム(参考) 4H006 AA02 AC48 AD16 BA52 BA66
BB11 BC10 BC31 BC50 BT12
KA06 KC14
4H039 CA66 CD30
Claims (4)
- 【請求項1】 アルコールと不飽和二塩基酸又は不飽和
二塩基酸無水物とからAPHA100以下の不飽和二塩
基酸ジエステルを製造するにあたり、以下の工程を含む
ことを特徴とする不飽和二塩基酸ジエステルの製造方
法。 工程1:酸触媒を用いてエステル化反応する工程。 工程2:工程1で得られた反応液を5〜30重量%のア
ルカリ水溶液と接触させ洗浄し、分層する工程。 - 【請求項2】 請求項1において、アルコールが110
℃以上の沸点のアルコールである不飽和二塩基酸ジエス
テルの製造方法。 - 【請求項3】 工程1において、酸触媒が有機スルホン
酸である請求項1又は2に記載の不飽和二塩基酸ジエス
テルの製造方法。 - 【請求項4】 アルカリ水溶液が苛性ソーダ水、苛性カ
リ水である請求項1〜3のいずれか1項に記載の不飽和
二塩基酸ジエステルの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001363062A JP2003160535A (ja) | 2001-11-28 | 2001-11-28 | 不飽和二塩基酸ジエステルの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001363062A JP2003160535A (ja) | 2001-11-28 | 2001-11-28 | 不飽和二塩基酸ジエステルの製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2003160535A true JP2003160535A (ja) | 2003-06-03 |
Family
ID=19173472
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2001363062A Pending JP2003160535A (ja) | 2001-11-28 | 2001-11-28 | 不飽和二塩基酸ジエステルの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2003160535A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014522413A (ja) * | 2011-06-08 | 2014-09-04 | バイオジェン・アイデック・エムエイ・インコーポレイテッド | 高純度結晶性ジメチルフマラートの調製方法 |
KR20160079065A (ko) * | 2013-10-31 | 2016-07-05 | 바스프 에스이 | 카르복실산 에스테르의 제조 방법 및 가소제로서의 그 용도 |
-
2001
- 2001-11-28 JP JP2001363062A patent/JP2003160535A/ja active Pending
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014522413A (ja) * | 2011-06-08 | 2014-09-04 | バイオジェン・アイデック・エムエイ・インコーポレイテッド | 高純度結晶性ジメチルフマラートの調製方法 |
US9422226B2 (en) | 2011-06-08 | 2016-08-23 | Biogen Ma Inc. | Process for preparing high purity and crystalline dimethyl fumarate |
KR20160079065A (ko) * | 2013-10-31 | 2016-07-05 | 바스프 에스이 | 카르복실산 에스테르의 제조 방법 및 가소제로서의 그 용도 |
JP2016536313A (ja) * | 2013-10-31 | 2016-11-24 | ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピアBasf Se | カルボン酸エステルの製造方法及び可塑剤としての前記カルボン酸エステルの使用 |
RU2636586C1 (ru) * | 2013-10-31 | 2017-11-24 | Басф Се | Способ получения сложных эфиров карбоновых кислот и их применение в качестве пластификаторов |
KR101869174B1 (ko) * | 2013-10-31 | 2018-07-19 | 바스프 에스이 | 카르복실산 에스테르의 제조 방법 및 가소제로서의 그 용도 |
US10106486B2 (en) | 2013-10-31 | 2018-10-23 | Basf Se | Method for producing carboxylic acid esters and the use thereof as plasticizers |
EP3063122B1 (de) * | 2013-10-31 | 2019-08-28 | Basf Se | Verfahren zur herstellung von carbonsäureestern und deren verwendung als weichmacher |
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