JP2003156624A

JP2003156624A - 偏光板および液晶表示装置

Info

Publication number: JP2003156624A
Application number: JP2001357748A
Authority: JP
Inventors: Kentaro Shirato; 健太郎白土
Original assignee: Fuji Photo Film Co Ltd
Current assignee: Fujifilm Holdings Corp
Priority date: 2001-11-22
Filing date: 2001-11-22
Publication date: 2003-05-30

Abstract

(57)【要約】【課題】薄型でありながら、光の利用効率を著し
く改善でき、偏光透過軸方向の調整が容易で、接着強度
が高い偏光板を提供する。【解決手段】所定の偏光を選択的に透過し他の偏光を
選択的に反射または散乱する偏光選択層を有する光散乱
型偏光素子と、所定の偏光を選択的に透過し他の偏光を
選択的に吸収する偏光選択層を有する光吸収型偏光素子
とが積層されており、光散乱型偏光素子の偏光透過軸と
光吸収型偏光素子の偏光透過軸とが実質的に平行となる
ように配置されている偏光板において、光吸収型偏光素
子の偏光選択層を、光散乱型偏光素子の偏光選択層上に
塗布により形成する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、所定の偏光を選択
的に透過し、他の偏光を選択的に反射または散乱する偏
光選択層を有する光散乱型偏光素子と、所定の偏光を選
択的に透過し、他の偏光を選択的に吸収する偏光選択層
を有する光吸収型偏光素子とが積層されている偏光板に
関する。さらに本発明は、偏光板を用いて光の利用効率
が改善された液晶表示装置にも関する。

【０００２】

【従来の技術】太陽光のような自然光やランプのような
通常の人為的光源からの光は無偏光（ランダム偏光）で
あるが、偏光板を用いることで偏光（直線偏光、円偏
光、楕円偏光）成分を取り出すことができる。取り出し
た偏光は、様々な光学機器に利用できる。現在広く普及
している液晶表示装置は、偏光の性質を利用して画像を
表示する装置であるとも言える。広義の偏光板には、直
線偏光板、円偏光板および楕円偏光板が含まれる。ただ
し、通常の（狭義の）偏光板は、直線偏光板を意味す
る。本明細書においても、特に規定しない「偏光板」
は、直線偏光板を意味する。直線偏光板は、最も基本的
な偏光板である。

【０００３】直線偏光板としては、一般にポリビニルア
ルコール系フイルムからなる光吸収型偏光素子が用いら
れている。ポリビニルアルコール系偏光素子は、ポリビ
ニルアルコール系フイルムを延伸しヨウ素または二色性
色素を吸着することにより製造する。偏光素子の透過軸
（偏光透過軸）は、フイルムの延伸方向に垂直な方向に
相当する。光吸収型偏光素子は、偏光透過軸に平行な偏
光成分のみを透過して、それと直交方向の偏光成分を吸
収する。従って、光の利用効率は、理論的にも５０％以
下である。

【０００４】偏光素子の光の利用効率を向上させるた
め、光吸収型偏光素子に代えて、光散乱型偏光素子を使
用することが提案されている。光散乱型偏光素子も、光
吸収型偏光素子と同様に、偏光透過軸と平行な偏光成分
のみを透過する。ただし、光散乱型偏光素子では、偏光
透過軸と直交方向の偏光成分を吸収せずに前方もしくは
後方に反射（異方性反射方式）または散乱（異方性散乱
方式）し、光の利用効率を向上させる。異方性反射方式
の偏光素子については、特開平８−２７１７３１号公
報、ＷＯ９５／１７６９１号、同９５／１７６９２号、
同９５／１７６９９号、ＥＰ６０６９４０Ａ２号の各明
細書に記載がある。異方性散乱方式の偏光素子について
は、特開平５−７２４１６号、同８−７６１１４号、同
９−１５９８１９号、同９−２７４１０８号、同９−２
９７２０４号、同１１−１７４２１１号、同１１−１７
４２３１号、特表平１１−５０２０３６号、同１１−５
０９０１４号の各公報、ＥＰ５０６１７６Ａ１号、米国
特許５２０４７６３号、同５７８３１２０号、同５８２
５５４３号、同５８６７３１６号、ＷＯ９７／３２２２
３号、同９７／３２２２４号、同９７／３２２２５号、
同９７／３２２２６号、同０１／５５７５３号の各明細
書に記載がある。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】特開平５−７２４１６
号（ＥＰ５０６１７６Ａ１号、米国特許５２０４７６３
号の各明細書）、同９−１５９８１９号、同１１−１７
４２１１号の各公報およびＷＯ０１／５５７５３号明細
書に、光散乱型偏光素子と光吸収型偏光素子とを積層し
た偏光板が開示されている。光散乱型偏光素子は、光吸
収型偏光素子と比較すると、一般に偏光度が不足してい
る。光散乱型偏光素子に光吸収型偏光素子を積層する
と、光吸収型偏光素子の高い偏光度によって光散乱型偏
光素子の偏光度不足を補うことができる。また、ＷＯ０
１／５５７５３号明細書に記載されているように、光散
乱型偏光選択素子の偏光選択層を、光学等方性連続相と
光学異方性不連続相とから構成すると、偏光素子の光の
利用効率がさらに改善され、明るい画像を表示すること
ができる。

【０００６】しかし、光散乱型偏光素子と光吸収型偏光
素子とを積層すると、偏光板が厚くなる。偏光板の主な
用途である液晶表示装置には、軽量かつ薄型との長所が
あるが、厚い偏光板を使用するとそれらの長所が損なわ
れる。また、光散乱型偏光素子と光吸収型偏光素子と
は、光散乱型偏光素子の偏光透過軸と光吸収型偏光素子
の偏光透過軸とが実質的に平行となるように配置する。
従って、光散乱型偏光素子と光吸収型偏光素子とを積層
する際には、両方の偏光透過軸を厳密に調整する必要が
ある。本発明の目的は、薄型でありながら、光の利用効
率を著しく改善できる偏光板を提供することである。ま
た、本発明の目的は、製造において光散乱型偏光素子の
偏光透過軸と光吸収型偏光素子の偏光透過軸との方向の
調整が容易である偏光板を提供することでもある。さら
に、本発明の目的は、光散乱型偏光素子と光吸収型偏光
素子との接着強度が高い偏光板を提供することでもあ
る。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明の目的は、下記
（１）〜（１１）の偏光板および下記（１２）の液晶表
示装置により達成された。（１）所定の偏光を選択的に透過し他の偏光を選択的に
反射または散乱する偏光選択層を有する光散乱型偏光素
子と、所定の偏光を選択的に透過し他の偏光を選択的に
吸収する偏光選択層を有する光吸収型偏光素子とが積層
されており、光散乱型偏光素子の偏光透過軸と光吸収型
偏光素子の偏光透過軸とが実質的に平行となるように配
置されている偏光板であって、光吸収型偏光素子の偏光
選択層が、光散乱型偏光素子の偏光選択層上に塗布によ
り形成された層であることを特徴とする偏光板。

【０００８】（２）光散乱型偏光選択素子の偏光選択層
が、光学等方性連続相と光学異方性不連続相とからなる
（１）に記載の偏光板。（３）さらに、少なくとも一枚の透明保護膜を有する
（１）に記載の偏光板。（４）光散乱型偏光選択素子の偏光選択層の面内の方向
において、光学等方性連続相の屈折率と、光学異方性不
連続相の屈折率との差の最大値が０．０５以上である
（２）に記載の偏光板。（５）光散乱型偏光選択素子の偏光選択層の面内の方向
において、光学等方性連続相の屈折率と、光学異方性不
連続相の屈折率との差の最小値が０．０５未満である
（２）に記載の偏光板。（６）光学異方性不連続相が、０．０１乃至１０μｍの
平均径を有する（２）に記載の偏光板。

【０００９】（７）光学異方性不連続相が、重合性基を
有する液晶性化合物の重合生成物を含む（２）に記載の
偏光板。（８）光学等方性連続相が、高分子化合物を含む（２）
に記載の偏光板。（９）高分子化合物が、ポリビニルアルコールである
（８）に記載の偏光板。（１０）光吸収型偏光素子の偏光選択層が、光学等方性
連続相と同じ高分子化合物を含む（８）に記載の偏光
板。（１１）光吸収型偏光素子と光散乱型偏光素子とが積層
された状態で延伸処理されている（１）に記載の偏光
板。

【００１０】（１２）バックライト、偏光板、液晶セ
ル、そして偏光板が、この順に積層されている液晶表示
装置であって、バックライト側の偏光板が、バックライ
ト側から順に、所定の偏光を選択的に透過し他の偏光を
選択的に反射または散乱する偏光選択層を有する光散乱
型偏光素子と、所定の偏光を選択的に透過し他の偏光を
選択的に吸収する偏光選択層を有する光吸収型偏光素子
とが積層されており、光散乱型偏光素子の偏光透過軸と
光吸収型偏光素子の偏光透過軸とが実質的に平行となる
ように配置されており、そして、光吸収型偏光素子の偏
光選択層が、光散乱型偏光素子の偏光選択層上に塗布に
より形成された層であることを特徴とする液晶表示装
置。

【００１１】なお、本明細書において、「実質的に垂
直」、「実質的に平行」あるいは「実質的に４５゜」と
は、厳密な角度よりも±５°未満の範囲内であることを
意味する。この範囲は、±４°未満であることが好まし
く、±３°未満であることがさらに好ましく、±２°未
満であることが最も好ましい。また、本明細書におい
て、「遅相軸(slow axis) 」は屈折率が最大となる方向
を、そして「透過軸（transmission axis) 」は透過率
が最大となる方向をそれぞれ意味する。

【００１２】

【発明の効果】従来の技術では、光散乱型偏光素子と光
吸収型偏光素子とを、それぞれ別に製造してから、それ
ぞれの偏光透過軸が実質的に平行となるように接着剤を
用いて貼り合わせていた。本発明者は、研究の結果、光
吸収型偏光素子の偏光選択層を、光散乱型偏光素子の偏
光選択層の上に塗布により形成することに成功した。こ
れにより、光散乱型偏光素子の一方の面を光吸収型偏光
素子の偏光選択層で構成することができる。従って、接
着剤層は不要である。また、本発明では、光散乱型偏光
素子の偏光選択層のうち、光学等方性連続相の一部（表
面側）を光吸収型偏光素子の偏光選択層として機能させ
ることもできる。すなわち、本発明に従う偏光板は、従
来の光散乱型偏光素子の偏光選択層と同じ程度の厚さ
で、光散乱型偏光素子と光吸収型偏光素子との双方の機
能を有することができる。さらに、偏光素子の製造にお
いて用いる支持体（または透明保護膜）の枚数を削減す
ることもできる。以上の結果、本発明に従うと偏光板全
体の厚さを従来よりも薄くすることができる。

【００１３】本発明に従い、光散乱型偏光素子と光吸収
型偏光素子とを一体化して製造すると、それぞれの偏光
透過軸の調整が容易である。光散乱型偏光素子を延伸に
より製造すると、偏光透過軸は延伸方向に直交する。光
吸収型偏光素子を延伸により製造すると、同様に、偏光
透過軸は延伸方向に直交する。光散乱型偏光素子と光吸
収型偏光素子とを一体化して延伸すると、特に調整する
必要なく、それぞれの偏光透過軸は実質的に平行にな
る。さらに、光散乱型偏光素子の偏光選択層（好ましく
は、光学等方性連続相）と、光吸収型偏光素子の偏光選
択層とを、共通または類似の高分子化合物（例えば、ポ
リビニルアルコール）で構成すると、光散乱型偏光素子
と光吸収型偏光素子との接着強度が著しく高い偏光板が
得られる。本発明では、光吸収型偏光素子の偏光選択層
を塗布により形成する。ヨウ素または二色性色素の塗布
によって、光学等方性連続相の一部（塗布面）を光吸収
型偏光素子の偏光選択層として機能させることができ
る。その場合は、光散乱型偏光素子と光吸収型偏光素子
とは、明確な境界面が存在しない程度に一体化する。ま
た、光吸収型偏光素子の偏光選択層を高分子化合物を含
む層として塗布する場合であっても、光吸収型偏光素子
の偏光選択層と光散乱型偏光素子の偏光選択層とにそれ
と共通の高分子化合物があると、塗布液の溶媒に対し
て、光散乱型偏光素子の偏光選択層が膨潤または部分的
に溶解する。その結果、光散乱型偏光素子の偏光選択層
と、光吸収型偏光素子の偏光選択層とを、接着剤を全く
使用せずに、境界面が不明瞭となる程度まで密着させる
ことができる。

【００１４】

【発明の実施の形態】（光散乱型偏光素子による光の利
用効率改善）光散乱型偏光素子による光の利用効率改善
の機構として、下記（Ａ）〜（Ｃ）が提案されている。
いずれも、本発明に応用できる。

【００１５】（Ａ）前方散乱光の偏光解消光散乱型偏光素子では、偏光透過軸と直交方向の偏光成
分は前方もしくは後方に散乱される。このうち前方散乱
された光が偏光解消され、前方散乱光の偏光方向が入射
光の偏光方向から回転することにより、光散乱型偏光素
子の偏光透過軸方向の偏光成分が入射光よりも増加す
る。光散乱型偏光素子において、厚み方向に多数の粒子
が存在する場合には、多重散乱により偏光解消の程度が
強くなる。このように、光散乱型偏光素子を使用する場
合には、前方散乱光の偏光解消により光吸収型偏光素子
のみを使用する場合よりも光の利用効率が向上する。

【００１６】（Ｂ）後方散乱光の再利用（偏光解消）に
よるもの光散乱型偏光素子の偏光透過軸と直交方向の偏光成分の
うち後方散乱された光は、後方散乱される際に偏光解消
される。後方散乱された光は、光源であるバックライト
の背面に配置された金属反射板により反射され、再度光
散乱型偏光素子へ入射する。ここで、再入射する光は後
方散乱する際に偏光解消を受け、光散乱型偏光素子の偏
光透過軸と平行方向の偏光成分が生じており、この偏光
成分は光散乱型偏光素子を透過する。このように、光散
乱型偏光素子による後方散乱と金属反射板での反射を繰
り返すことにより光の利用効率を向上させることができ
る。

【００１７】（Ｃ）後方散乱光の再利用（偏光方向の回
転） λ／４板と金属反射板とを配置した光学系に、λ／４板
の遅相軸と４５°をなすように直線偏光を入射させる
と、偏光方向が入射光と９０°回転した反射光が戻って
くる。光散乱型偏光素子と金属反射板（バックライトの
背面に配置される）との間に、λ／４板を光散乱型偏光
素子の偏光透過軸とλ／４板の遅相軸が４５°をなすよ
うに配置することによって上記と同じ効果が得られる。
光散乱型偏光素子において後方散乱された光の偏光方向
の分布は、光散乱型偏光素子の偏光透過軸と直交方向が
大きい。この後方散乱された光がλ／４板を透過して金
属反射板により反射され再度、光散乱型偏光素子に入射
する光の偏光方向の分布は、光散乱型偏光素子の偏光透
過軸に平行方向に大きくなっており、偏光透過軸に平行
な偏光成分は光散乱型偏光素子を透過する。このよう
に、光散乱型偏光素子と金属反射板との間にλ／４板を
配置することにより、光の利用効率を向上させることが
できる。

【００１８】（偏光板および液晶表示装置の構成）図１
は、偏光板の一態様を示す断面模式図である。図１に示
す偏光板は、下から順に、第１の透明保護膜（１ａ）、
光散乱型偏光素子（３）、光吸収型偏光素子（２）、そ
して第２の透明保護膜（１ｂ）との積層構造を有する。
光散乱型偏光素子（３）は、光学等方性連続相（３１）
と光学異方性不連続相（３２）とに相分離している。光
散乱型偏光素子（３）と光吸収型偏光素子（２）とは、
それぞれの偏光透過軸が実質的に平行となるように配置
されている

【００１９】図２は、偏光板の別の態様を示す断面模式
図である。図２に示す偏光板は、下から順に、透明保護
膜（１）、光散乱型偏光素子（３）、光吸収型偏光素子
（２）、そして位相差板（４）との積層構造を有する。
光散乱型偏光素子（３）は、光学等方性連続相（３１）
と光学異方性不連続相（３２）とに相分離している。光
散乱型偏光素子（３）と光吸収型偏光素子（２）とは、
それぞれの偏光透過軸が実質的に平行となるように配置
されている。位相差板（４）は、液晶表示装置に対する
光学補償機能を有する。言い換えると、位相差板（４）
は、光学補償シートとして機能する。位相差板（４）の
方向（遅相軸または透過軸の方向）は、液晶表示装置の
液晶セル（表示モード）および位相差板の光学補償機能
に応じて決定する。ＴＮモードの液晶セルの場合は、偏
光板が楕円偏光板として機能するような光学的性質を有
する位相差板を用いて、位相差板の遅相軸と、偏光素子
の偏光透過軸とが、実質的に４５゜で交差するように配
置することが普通である。

【００２０】図３は、偏光板のさらに別の態様（円偏光
板）を示す断面模式図である。図３に示す偏光板（円偏
光板）は、下から順に、透明保護膜（１）、光散乱型偏
光素子（３）、光吸収型偏光素子（２）、そして、λ／
４板（５）との積層構造を有する。光散乱型偏光素子
（３）は、光学等方性連続相（３１）と光学異方性不連
続相（３２）とに相分離している。光散乱型偏光素子
（３）と光吸収型偏光素子（２）とは、それぞれの偏光
透過軸が実質的に平行となるように配置されている。λ
／４板（５）と、光散乱型偏光素子（３）および光吸収
型偏光素子（２）とは、λ／４板（５）の遅相軸と、偏
光素子の偏光透過軸とが、実質的に４５゜で交差するよ
うに配置する。

【００２１】図４は、偏光板を備えた液晶表示装置を示
す断面模式図である。図４に示す液晶表示装置は、下か
ら順に光源（１０）を備えた導光板（９）、第１の偏光
板（８）、液晶セル（７）、そして、第２の偏光板
（６）との積層構造を有する。光源（１０）としては、
冷陰極管が一般的である。光源（１０）と導光板（９）
との組み合わせがバックライトを構成する。液晶セル
（７）としては、ＴＮモードの液晶セルが代表的であ
る。本発明に従う偏光板は、第１の偏光板（８）として
使用することが好ましい。バックライト側から、光散乱
型偏光素子、そして光吸収型偏光素子の順序で配置する
ことが望ましい。

【００２２】（光吸収型偏光素子）光吸収型偏光素子
は、所定の偏光を選択的に透過し、他の偏光を選択的に
吸収する偏光選択層を有する。上記「所定の偏光」と
「他の偏光」とは、一般に偏光面が互いに直交する。光
吸収型偏光素子の偏光度は、９９％以上であることが好
ましい。偏光度は、下記式で定義される値である。偏光度＝１００×｛（Ｐ−Ｃ）／（Ｐ＋Ｃ）｝^1/2 式中、Ｐは透過軸を平行にした２枚の偏光素子を透過す
る光の透過率であり；そして、Ｃは透過軸を直交させた
２枚の偏光素子を透過する光の透過率である。

【００２３】光吸収型偏光素子の偏光選択層は、バイン
ダーポリマーと偏光子とを含む。バインダーポリマーと
しては、ポリビニルアルコールが一般に用いられる。一
般には、ポリビニルアルコール系フイルムを延伸し、偏
光子（ヨウ素または二色性色素）を吸着させることによ
り光吸収型偏光素子の偏光選択層を得ている。光吸収型
偏光素子の透過軸（偏光透過軸）は、フイルムの延伸方
向に垂直な方向に相当する。ポリビニルアルコールは、
ビニルアルコール単位に加えて、酢酸ビニル単位を含む
ことができる。言い換えると、ポリビニルアルコールの
鹸化度は、１００％未満であってもよい。ポリビニルア
ルコールとして、変性ポリビニルアルコール（２０モル
％未満の変性基を有するポリビニルアルコール）を用い
てもよい。本明細書において、ポリビニルアルコール
は、変性ポリビニルアルコールを含む。

【００２４】偏光子として用いるヨウ素は、多ヨウ素イ
オン（Ｉ₃ ^-、Ｉ₅ ^-）の状態で偏光選択層に含まれること
が好ましい。偏光子としてヨウ素を用いる場合、偏光選
択層の塗布液は、ヨウ素−ヨウ化カリウム水溶液である
ことが好ましい。ヨウ素−ヨウ化カリウム水溶液の組成
としては、ヨウ素が０．１乃至２０ｇ／ｌ、ヨウ化カリ
ウムが１乃至２００ｇ／ｌ、ヨウ素／ヨウ化カリウムの
質量比が１乃至２００であることが好ましい。

【００２５】偏光子として用いる二色性色素の例には、
アゾ色素、スチルベン色素、ピラゾロン色素、トリフェ
ニルメタン色素、キノリン色素、オキサジン色素、チア
ジン色素およびアントラキノン色素が含まれる。二色性
色素は、分子構造中に親水性基（例、スルホ、アミノ、
ヒドロキシル）を有することが好ましい。二色性色素の
例には、シー．アイ．ダイレクト・イエロー１２、シ
ー．アイ．ダイレクト・オレンジ３９、シー．アイ．ダ
イレクト・レンジ７２、シー．アイ．ダイレクト・レッ
ド３９、シー．アイ．ダイレクト・レッド７９、シー．
アイ．ダイレクト・レッド８１、シー．アイ．ダイレ
クト・レッド８３、シー．アイ．ダイレクト・レッド８
９、シー．アイ．ダイレクト・バイオレット４８、シ
ー．アイ．ダイレクト・ブルー６７、シー．アイ．ダイ
レクト・ブルー９０、シー．アイ．ダイレクト・グリー
ン５９およびシー．アイ．アシッド・ッド３７が含まれ
る。二色性色素については、特開平１−１６１２０２
号、同１−１７２９０６号、同１−１７２９０７号、同
１−１８３６０２号、同１−２４８１０５号、同１−２
６５２０５号、同７−２６１０２４号の各公報にも記載
がある。

【００２６】二色性色素は、遊離酸、アルカリ金属塩、
アンモニウム塩、あるいはアミン類の塩の状態で用いる
ことができる。二種類以上の二色性色素を併用してもよ
い。偏光素子または偏光板として偏光軸を直交させた時
に黒色を呈する色素や黒色を呈するように複数の二色性
色素を配合することが、単板透過率および偏光率の観点
で望ましい。光吸収型偏光素子の偏光選択層は、バイン
ダーポリマーおよび偏光子に加えて、硬膜剤（例、ホウ
酸）や金属（例、亜鉛、コバルト、ジルコニウム、鉄、
ニッケル、マンガン）の塩を含むことができる。硬膜剤
としては、米国再発行特許２３２８９７号明細書に記載
がある。

【００２７】（光学等方性連続相）光散乱型偏光素子
は、所定の偏光を選択的に透過し、他の偏光を選択的に
反射または散乱する偏光選択層を有する。上記「所定の
偏光」と「他の偏光」とは、一般に偏光面が互いに直交
する。光散乱型偏光素子の偏光選択層は、光学等方性連
続相と光学異方性不連続相とからなることが好ましい。
光学等方性連続相は偏光選択層の５乃至９５質量％であ
ることが好ましく、２０乃至９０質量％であることがさ
らに好ましく、５０乃至８０質量％であることが最も好
ましい。光学等方性連続相の光学等方性は、具体的に
は、複屈折が０．０５未満であることを意味する（光学
異方性は、後述するように複屈折が０．０５以上である
ことを意味する）。

【００２８】光学等方性連続相は、ポリマーマトリック
スとして形成することができる。ポリマーとしては、光
学等方性が高いポリマーを用いる。ただし、固有複屈折
が比較的大きいとされるポリマー（例、ポリカーボネー
ト、ポリスチレン）であっても、添加剤により光学等方
性にすることで光学等方性連続相に使用することもでき
る。

【００２９】なお、光散乱型偏光素子へ入射する光に対
する反射率を低下させることにより、バックライト光の
利用効率を向上させることができる。そのためには、光
学等方性連続相を構成するポリマーマトリックスの平均
屈折率（ｎ）は１．７０以下であることが好ましく、
１．６０以下であることがさらに好ましく、１．５５以
下であることが最も好ましい。ここで、平均屈折率
（ｎ）は下記式で表される。ｎ＝（ｎｘ＋ｎｙ＋ｎｚ）
／３式中、ｎｘは、面内の遅相軸方向の屈折率であり；
ｎｙは、面内の進相軸方向の屈折率であり；そして、ｎ
ｚは、厚み方向の屈折率である。

【００３０】光学等方性連続相に使用するポリマーの例
には、タンパク質（例、ゼラチン、カゼイン）、多糖類
（例、アガロース、セルロース、プルラン、カラギーナ
ン、ポリガラクツロン酸、アルギン酸）、セルロースエ
ーテル、セルロースエステル（例、セルロースアセテー
ト、セルロースジアセテート、セルローストリアセテー
ト、セルロースプロピオネート、セルロースブチレー
ト、セルロースアセテートプロピオネート、セルロース
ニトレート）、ポリオレフィン（例、ポリエチレン、ポ
リプロピレン、ポリメチルペンテン）、ポリオレフィン
誘導体（例、ポリ塩化ビニル、ポリビニルアルコール、
変性ポリビニルアルコール、ノルボルネン樹脂）、ポリ
スチレン（例、シンジオタクチックポリスチレン）、ポ
リエステル（ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレ
ンナフタレート、ポリカーボネート、ポリ−１，４−シ
クロヘキサンジメチレンテレフタレート、ポリエチレン
−１，２−ジフェノキシエタン−４，４’−ジカルボキ
シレート、ポリブチレンテレフタレート）、ポリアミ
ド、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリアリレ
ート、ポリエーテルイミド、ポリエーテルケトン、ポリ
アクリル酸エステルおよびポリメタクリル酸エステル
（例、メチルメタクリレート）が含まれる。

【００３１】二種類以上のポリマーを混合して用いても
よい。市販のポリマー（例、ゼオネックス、日本ゼオン
（株）製；ＡＲＴＯＮ、ＪＳＲ（株）製；フジタック
（富士写真フイルム（株）製）を使用することもでき
る。光学等方性連続相は、ポリビニルアルコールから形
成することが特に好ましい。ポリビニルアルコールは、
ビニルアルコール単位に加えて、酢酸ビニル単位を含む
ことができる。言い換えると、ポリビニルアルコールの
鹸化度は、１００％未満であってもよい。ポリビニルア
ルコールとして、変性ポリビニルアルコール（２０モル
％未満の変性基を有するポリビニルアルコール）を用い
てもよい。本明細書において、ポリビニルアルコール
は、変性ポリビニルアルコールを含む。

【００３２】（光学異方性不連続相）光学異方性不連続
相は、光学等方性連続相を構成するポリマー１ｇ当たり
０．００１乃至２．０ｇであることが好ましく。０．０
１乃至１．５ｇであることががさらに好ましい。光学異
方性不連続相の「光学異方性」とは、具体的には、複屈
折が０．０５以上であることを意味する。複屈折は、偏
光選択層の全光線透過率が最大となる偏光の偏光面を含
む軸方向の屈折率（ｎ１）と全光線透過率が最小となる
偏光の偏光面を含む軸方向の屈折率（ｎ２）との差の絶
対値（｜ｎ１−ｎ２｜）である。複屈折は、０．０５乃
至１．００であることが好ましく、０．１０乃至１．０
０であることがさらに好ましく、０．１５乃至１．００
であることが最も好ましい。

【００３３】光学フイルムが、光散乱型偏光素子として
機能するためには、光学異方性不連続相の二つの屈折率
（ｎ１およびｎ２）の一方が、光学等方性連続相の屈折
率と実質的に等しい（差が０．０５未満の）値となるこ
とが必要である。屈折率の差は、０．０１未満であるこ
とが好ましく、０．００１未満であることがさらに好ま
しい。連続相と不連続相の屈折率が実質的に等しい値と
なる方向が、偏光選択層の透過軸に相当する。光学異方
性不連続相は、粒子または液滴の状態で、光学等方性連
続相中に分散している。粒子または液滴の平均粒径（粒
子または液滴の平面領域をほぼ同面積の円で近似した近
似円形の平均径）は、０．０１乃至１０μｍであること
が好ましく、０．０５乃至５μｍであることがさらに好
ましく、０．０５乃至１μｍであることが最も好まし
い。粒子または液滴の形状については、特に制限はな
い。実質的に球状（平均アスペクト比が２以下）であっ
ても、表面積が大きな不定形であってもよい。

【００３４】光学異方性不連続相は、光学異方性物質を
用いて形成する。偏光選択層の形成後に、延伸、光照
射、電場印加および磁場印加から選ばれる少なくとも一
つの手段を用いて、光学異方性物質の光学異方性を発現
（配向）させることが好ましい。延伸による配向が特に
好ましい。光学異方性物質としては、液晶性化合物が好
ましく用いられる。

【００３５】液晶性化合物は、室温または加熱状態でネ
マチック相もしくはスメクティック相を示すことが好ま
しい。なお、液晶性化合物には、金属錯体や高分子液晶
も含まれる。棒状液晶性化合物を用いることが好まし
い。棒状液晶性化合物としては、アゾメチン類、アゾキ
シ類、シアノビフェニル類、シアノフェニルエステル
類、安息香酸エステル類（例、安息香酸フェニルエステ
ル類）、シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル
類、シアノフェニルシクロヘキサン類、フェニルピリミ
ジン類（例、シアノ置換フェニルピリミジン類、アルコ
キシ置換フェニルピリミジン類）、フェニルジオキサン
類、トラン類およびアルケニルシクロヘキシルベンゾニ
トリル類が好ましく、シアノビフェニル類、シアノフェ
ニルエステル類、安息香酸フェニルエステル類、シアノ
フェニルシクロヘキサン類およびフェニルピリミジン類
がさらに好ましい。

【００３６】棒状液晶性化合物については、季刊化学総
説第２２巻液晶の化学（１９９４年）日本化学会編の第
４章、第７章および第１１章、および液晶デバイスハン
ドブック日本学術振興会第１４２委員会編の第３章に記
載がある。棒状液晶性化合物は、重合性基（重合架橋性
基を含む）を有することが好ましい。液晶性化合物の配
向状態は長期間または温度、湿度や機械的変形に対し，
安定に維持するのが困難な場合が多い。配向状態を長期
間にわたって維持するため、重合性の液晶性化合物を使
用し、配向状態で重合させ、架橋網目構造を形成させる
ことが望ましい。。重合性基はエチレン性不飽和基であ
ることが好ましい。耐熱性および配向の均一性の点か
ら、棒状液晶分子の両末端に重合性基を有する二官能重
合性液晶化合物が特に好ましい。以下に、棒状液晶性化
合物の例を示す。

【００３７】

【化１】

【００３８】

【化２】

【００３９】

【化３】

【００４０】

【化４】

【００４１】

【化５】

【００４２】

【化６】

【００４３】

【化７】

【００４４】

【化８】

【００４５】

【化９】

【００４６】

【化１０】

【００４７】

【化１１】

【００４８】

【化１２】

【００４９】

【化１３】

【００５０】二種類以上の液晶性化合物を併用できる。
光学異方性不連続相には、液晶性化合物に加えて、可塑
剤、ポリマーバインダーあるいは光重合開始剤を、必要
に応じて添加することができる。液晶性化合物の重合
は、光によるラジカル重合であることが好ましい。光重
合開始剤の例には、チオキサントン類（例、２，４−ジ
エチルチオキサントン、２−クロロチオキサントン）、
ベンゾフェノン類（例、ベンゾフェノン、（４−（メチ
ルフェニルチオ）フェニル）フェニルメタノン）および
アントラキノン類（例、エチルアントラキノン）が含ま
れる。市販の光重合開始剤（例、Ciba Specialty Chemi
cals. Inc.製のIrgacure184 、Irgacure369 、Irgacure
500 、Irgacure651 、Irgacure784 、Irgacure819 、Ir
gacure907 、Irgacure1000、Irgacure1300、Irgacure17
00、Irgacure1800、Irgacure1850、Irgacure2959、Daro
cur1173 、Darocur4265 ）を用いてもよい。光重合開始
剤の使用量は、重合性の液晶性化合物の総量に対して、
０．０１乃至２０質量％であることが好ましく、０．５
乃至１０質量％であることがさらに好ましい。光重合性
開始剤に加えて、分光増感剤や光重合促進剤（例、ｐ−
ジメチルアミノ安息香酸イソアミルエステル、ｐ−ジメ
チルアミノ安息香酸エチルエステル）を用いてもよい。
分光増感剤や光重合促進剤の使用量は、光重合開始剤の
１０乃至３００質量％であることが好ましく、２０乃至
２００質量％であることがさらに好ましい。

【００５１】光散乱型偏光素子の偏光選択層は、光学等
方性連続相を構成するポリマーの溶液に、光学異方性不
連続相の成分（例えば、液晶性化合物および光重合性開
始剤）を分散した液を支持体上に塗布後、乾燥し、さら
に配向させて光照射により配向固定させて製造すること
が好ましい。液晶性化合物をポリビニルアルコールなど
の水溶液に乳化分散する場合、分散粒径をコントロール
したり、分散安定性を付与するため界面活性剤を添加す
ることが好ましい。ノニオン界面活性剤、アニオン界面
活性剤、カチオン界面活性剤および両性界面活性剤のい
ずれも使用できる。

【００５２】ノニオン界面活性剤のノニオン親水性基
は、ポリオキシエチレン、ポリオキシプロピレン、ポリ
オキシブチレン、ポリグリシジルおよびソルビタンが好
ましい。ノニオン界面活性剤の例には、ポリオキシエチ
レンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルフ
ェニールエーテル、ポリオキシエチレン−ポリオキシプ
ロピレングリコール、多価アルコール脂肪酸部分エステ
ル、ポリオキシエチレン多価アルコール脂肪酸部分エス
テル、ポリオキシエチレン脂肪酸エステル、ポリグリセ
リン脂肪酸エステル、脂肪酸ジエタノールアミドおよび
トリエタノールアミン脂肪酸部分エステルが含まれる。

【００５３】アニオン界面活性剤のアニオン親水性基
は、カルボン酸塩、硫酸塩、スルフォン酸塩およびリン
酸エステル塩が好ましい。アニオン界面活性剤の例に
は、脂肪酸塩、アルキルベンゼンスルフォン酸塩、アル
キルナフタレンスルフォン酸塩、アルキルスルフォン酸
塩、α―オレフィンスルフォン酸塩、ジアルキルスルフ
ォコハク酸塩、α―スルフォン化脂肪酸塩、Ｎ−メチル
ーＮオレイルタウリン、石油スルフォン酸塩、アルキル
硫酸塩、硫酸化油脂、ポリオキシエチレンアルキルエー
テル硫酸塩、ポリオキシエチレンアルキルフェニールエ
ーテル硫酸塩、ポリオキシエチレンスチレン化フェニー
ルエーテル硫酸塩、アルキルリン酸塩、ポリオキシエチ
レンアルキルエーテルリン酸塩およびナフタレンスルフ
ォン酸塩ホルムアルデヒド縮合物が含まれる。

【００５４】カチオン界面活性剤のカチオン親水性基
は、アミン塩、４級アンモニウム塩およびピリジニウム
塩が好ましい。カチオン界面活性剤の例には、第１脂肪
族アミン塩、第２脂肪族アミン塩、第３脂肪族アミン
塩、第４級アンモニウム塩（リエ、テトラアルキルアン
モニウム塩、トリアルキルベンジルアンモニウム塩、ア
ルキルピリジウム塩、アルキルイミダゾリウム塩）が含
まれる。両性系界面活性剤の例には、カルボキシベタイ
ン、スルフォベタインなどであり、Ｎ−トリアルキル−
Ｎ−カルボキシメチルアンモニウムベタインおよびＮ−
トリアルキル−Ｎ−スルフォアルキレンアンモニウムベ
タインが含まれる。界面活性剤については、界面活性剤
の応用（幸書房、刈米孝夫著、昭和５５年９月１日発
行）に記載がある。界面活性剤の使用量は、光学異方性
不連続相１ｇ当たり、０．００１乃至１ｇが好ましく。
０．０１乃至０．１ｇがさらに好ましい。

【００５５】光学異方性不連続相の分散は、超音波分散
法、攪拌機（例、ホモジナイザー）を使用する方法、あ
るいは混練機（例、サンドミル、コロイドミル）を使用
する方法が好ましい。光散乱型偏光素子の偏光選択層
は、塗布により形成することが好ましい。塗布方法は、
ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコ
ート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グ
ラビアコート法またはエクストルージョンコート法（米
国特許２６８１２９４号明細書）が好ましい。２層以上
を（例えば、光吸収型偏光素子の偏光選択当と共に）同
時に塗布してもよい。同時塗布の方法は、米国特許２７
６１７９１号、同２９４１８９８号、同３５０８９４７
号、同３５２６５２８号の各明細書および原崎勇次著、
コーティング工学、２５３頁、朝倉書店（１９７３）を
参照することができる。光散乱型偏光素子の偏光選択層
は、０．５乃至１００μｍの厚さを有することが好まし
く、１乃至７０μｍの厚さを有することがさらに好まし
い。

【００５６】（偏光板の製造）偏光板は、下記（１）〜
（６）のいずれかの手順で製造できる。いずれの手順に
おいても、光吸収型偏光素子の偏光選択層は、光散乱型
偏光素子の偏光選択層上に塗布により形成するため、本
発明の効果が得られる。（１）光学等方性連続相と光学異方性分連続相とからな
る光散乱型偏光素子の偏光選択層を形成し、その一方の
面に偏光子（ヨウ素または二色性色素）を塗布し、そし
て、延伸する。この手順では、偏光子の塗布面における
光学等方性連続相が、光吸収型偏光素子の偏光選択層と
して機能する。（２）光学等方性連続相と光学異方性分連続相とからな
る光散乱型偏光素子の偏光選択層を形成し、延伸し、偏
光選択層の一方の面に偏光子（ヨウ素または二色性色
素）を塗布する。この手順においても、偏光子の塗布面
における光学等方性連続相が、光吸収型偏光素子の偏光
選択層として機能する。

【００５７】（３）光学等方性連続相と光学異方性分連
続相とからなる光散乱型偏光素子の偏光選択層を形成
し、その一方の面の上に光吸収型偏光素子の偏光選択層
を構成するポリマー（例、ポリビニルアルコール）の溶
液を塗布し、その上に偏光子（ヨウ素または二色性色
素）を塗布し、そして、延伸する。（４）光学等方性連続相と光学異方性分連続相とからな
る光散乱型偏光素子の偏光選択層を形成し、その一方の
面の上に光吸収型偏光素子の偏光選択層を構成するポリ
マー（例、ポリビニルアルコール）の溶液を塗布し、延
伸し、そして、ポリマーの塗布層の上に偏光子（ヨウ素
または二色性色素）を塗布する。

【００５８】（５）光学等方性連続相と光学異方性分連
続相とからなる光散乱型偏光素子の偏光選択層を形成
し、その一方の面の上に光吸収型偏光素子の偏光選択層
を構成するポリマー（例、ポリビニルアルコール）と偏
光子（ヨウ素または二色性色素）との溶液を塗布し、そ
して、延伸する。（６）光散乱型偏光素子の偏光選択層の塗布液と、光吸
収型偏光素子の偏光選択層を構成するポリマー（例、ポ
リビニルアルコール）の溶液とを同時流延で塗布し、延
伸し、そして、ポリマーの塗布層の上に偏光子（ヨウ素
または二色性色素）を塗布する。

【００５９】（７）光散乱型偏光素子の偏光選択層の塗
布液と、光吸収型偏光素子の偏光選択層を構成するポリ
マー（例、ポリビニルアルコール）の溶液とを同時流延
で塗布し、ポリマーの塗布層の上に偏光子（ヨウ素また
は二色性色素）を塗布し、そして、延伸する。（８）光散乱型偏光素子の偏光選択層の塗布液と、光吸
収型偏光素子の偏光選択層の塗布液（ポリマーと偏光子
との溶液）とを同時流延で塗布し、そして、延伸する。

【００６０】（１）または（２）の手順が好ましく、
（１）の手順が特に好ましい。光吸収型偏光素子の偏光
選択層の塗布には、ロールコータ、ダイコータ、バーコ
ータ、スライドコータまたはカーテンコータを用いるこ
とが好ましい。以上の手順の後、光散乱型偏光素子（光
学異方性不連続相に用いる液晶化合物）の配向状態を固
定するため、光照射を実施することが好ましい。

【００６１】（透明保護膜）偏光板は、少なくとも一枚
の透明保護膜を有することが好ましい。一枚の透明保護
膜を光散乱型偏光素子と光吸収型偏光素子とで共有する
こともできる。また、光散乱型偏光素子と光吸収型偏光
素子とが、それぞれ透明保護膜を有する（偏光板の両面
を、二枚の透明保護膜で保護する）こともできる。ただ
し、光散乱型偏光素子と光吸収型偏光素子との間には、
透明保護膜は存在しない。透明保護膜が「透明」である
とは、光線透過率が８０％以上であることを意味する。

【００６２】透明保護膜としては、ポリマーフイルムが
好ましい。フイルムを形成するポリマーの例には、ポリ
オレフィン（例、ポリエチレン）、ノルボルネン樹脂、
ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレー
ト、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリスチレン
（例、シンジオタクチックポリスチレン）、ポリアリレ
ート、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリ塩化
ビニル、ポリビニルアルコール、セルロースエステル
（例、セルロースアシレート）が含まれる。二種類以上
のポリマーを混合したフイルムを用いてもよい。市販の
ポリマー（例、ゼオネックス、日本ゼオン（株）製；Ａ
ＲＴＯＮ、ＪＳＲ（株）製；フジタック（富士写真フイ
ルム（株）製）を使用することもできる。透明保護膜
は、偏光選択層（特に光吸収型偏光素子の偏光選択層）
の保護機能を有することが好ましい。保護機能および光
学的性質の観点で、セルロールアシレートフイルムが好
ましい。

【００６３】透明保護膜の厚みは、５乃至５００μｍが
好ましく、２０乃至２００μｍがさらに好ましく、２０
〜１００μｍが最も好ましい。レターデーション値は６
３２．８ｎｍにおいて０〜１５０ｎｍが好ましく、０〜
２０ｎｍがより好ましく、０〜５ｎｍが特に好ましい。
保護膜の遅相軸は、偏光フイルムの吸収軸と実質的に平
行または直交させることが、直線偏光の楕円化を避ける
観点から好ましい。但し、保護膜に位相差板等、偏光性
を変化させる機能を持たせる場合には、この限りではな
く、偏光フイルムの吸収軸と保護膜の遅相軸は任意の角
度をとることができる。可視光線透過率は６０％以上が
好ましく、９０％以上が特に好ましい。９０℃１２０時
間処理後の寸度減少は、０．３〜０．０１％であること
が好ましく、０．１５〜０．０１％であることが特に好
ましい。フイルムの引っ張り試験による抗張力値は、５
０〜１０００ＭＰａが好ましく、１００〜３００ＭＰa
が特に好ましい。フイルムの透湿度は、１００〜８００
ｇ／ｍ２・ｄａｙが好ましく、３００〜６００ｇ／ｍ２
・ｄａｙが特に好ましい。

【００６４】セルロースアシレートは、セルロースの水
酸基への置換度が下記式（Ｉ）〜（IV）の全てを満足す
ることが好ましい。

【００６５】（Ｉ）２．６≦Ａ＋Ｂ≦３．０（II）２．０≦Ａ≦３．０（III）０≦Ｂ≦０．８（IV）１．９＜Ａ−Ｂ式中、ＡおよびＢはセルロースの水酸基に置換されてい
るアシル基の置換基を表し、Ａはアセチル基の置換度、
またＢは炭素原子数３〜５のアシル基の置換度である。
セルロースには１グルコース単位に３個の水酸基があ
り、上記の数字はその水酸基３．０に対する置換度を表
すもので、最大の置換度が３．０である。セルロースト
リアセテートは一般にＡの置換度が２．６以上３．０以
下であり（この場合、置換されなかった水酸基が最大
０．４もある）、Ｂ＝０の場合がセルローストリアセテ
ートである。偏光フイルム保護膜として用いるセルロー
スアシレートは、アシル基が全部アセチル基のセルロー
ストリアセテート、及びアセチル基が２．０以上で、炭
素原子数が３〜５のアシル基が０．８以下、置換されな
かった水酸基が０．４以下のものが好ましい。炭素原子
数３〜５のアシル基の場合、０．３以下が物性の点から
特に好ましい。なお、置換度は、セルロースの水酸基に
置換する酢酸及び炭素原子数３〜５の脂肪酸の結合度を
測定し、計算によって得られる。測定方法としては、Ａ
ＳＴＭのＤ−８１７−９１に準じて実施することが出来
る。

【００６６】アセチル基の他の炭素原子数３〜５のアシ
ル基はプロピオニル基（Ｃ₂Ｈ₅ＣＯ−）、ブチリル基
（Ｃ₃Ｈ₇ＣＯ−）（ｎ−、ｉｓｏ−）、バレリル基
（Ｃ₄Ｈ₉ＣＯ−）（ｎ−、ｉｓｏ−、ｓｅｃ−、ｔｅ
ｒｔ−）で、これらのうちｎ−置換のものがフイルムに
した時の機械的強さ、溶解し易さ等から好ましく、特に
ｎ−プロピオニル基が好ましい。また、アセチル基の置
換度が低いと機械的強さ、耐湿熱性が低下する。炭素原
子数３〜５のアシル基の置換度が高いと有機溶媒への溶
解性は向上するが、それぞれの置換度が前記の範囲であ
れば良好な物性を示す。

【００６７】セルロースアシレートの重合度（粘度平
均）は２００〜７００が好ましく、特に２５０〜５５０
のものが好ましい。粘度平均重合度はオストワルド粘度
計で測定することができ、測定されたセルロースアシレ
ートの固有粘度［η］から下記式により求められる。Ｄ
Ｐ＝［η］／Ｋｍ（式中ＤＰは粘度平均重合度、Ｋ
ｍは定数６×１０-4）

【００６８】セルロースアシレート原料のセルロースと
しては、綿花リンターや木材パルプなどがあるが、何れ
の原料セルロースから得られるセルロースアシレートで
も使用できるし、混合して使用してもよい。

【００６９】上記セルロースアシレートは、通常ソルベ
ントキャスト法により製造される。ソルベントキャスト
法は、セルロースアシレートおよび各種添加剤を溶媒に
溶解して濃厚溶液（以下、ドープと称する）を調製し、
これをドラムまたはバンドのような無端支持体上に流延
し、溶媒を蒸発させてフイルムを形成するものである。
ドープは、固形分量が１０〜４０質量％となるように濃
度を調整することが好ましい。ドラムまたはバンドの表
面は、鏡面状態に仕上げておくことが好ましい。ソルベ
ントキャスト法における流延および乾燥方法について
は、米国特許２３３６３１０号、同２３６７６０３号、
同２４９２０７８号、同２４９２９７７号、同２４９２
９７８号、同２６０７７０４号、同２７３９０６９号、
同２７３９０７０号、英国特許６４０７３１号、同７３
６８９２号の各明細書、特公昭４５−４５５４号、同４
９−５６１４号、特開昭６０−１７６８３４号、同６０
−２０３４３０号、同６２−１１５０３５号の各公報に
記載がある。

【００７０】２層以上のドープを流延する方法も好まし
く用いられる。複数のドープを流延する場合、支持体の
進行方向に間隔を置いて設けた複数の流延口からドープ
を含む溶液をそれぞれ流延させて積層させながらフイル
ムを作製してもよく、例えば特開昭６１−１５８４１４
号、特開平１−１２２４１９号、特開平１１−１９８２
８５号、などに記載の方法が適応できる。また、２つの
流延口からセルロースアシレート溶液を流延することに
よってもフイルム化することでもよく、例えば特公昭６
０−２７５６２号、特開昭６１−９４７２４号、特開昭
６１−９４７２４５号、特開昭６１−１０４８１３号、
特開昭６１−１５８４１３号、特開平６−１３４９３３
号、に記載の方法で実施できる。また、特開昭５６−１
６２６１７号に記載の高粘度ドープの流れを低粘度のド
ープで包み込み、その高，低粘度のドープを同時に押出
す流延方法も好ましく用いられる。

【００７１】セルロースアシレートを溶解する有機溶媒
の例には、炭化水素（例、ベンゼン、トルエン）、ハロ
ゲン化炭化水素（例、メチレンクロライド、クロロベン
ゼン）、アルコール（例、メタノール、エタノール、ジ
エチレングリコール）、ケトン（例、アセトン）、エス
テル（例、酢酸エチル、酢酸プロピル）およびエーテル
（例、テトラヒドロフラン、メチルセロソルブ）などが
あげられる。炭素原子数１〜７のハロゲン化炭化水素が
好ましく用いられ、メチレンクロライドが最も好ましく
用いられる。セルロースアシレートの溶解性、支持体か
らの剥取り性、フイルムの機械強度等、光学特性等の物
性の観点から、メチレンクロライドの他に炭素原子数１
〜５のアルコールを一種、ないし数種類混合することが
好ましい。アルコールの含有量は、溶媒全体に対し２〜
２５質量％が好ましく、５〜２０質量％がより好まし
い。アルコールの具体例としては、メタノール、エタノ
ール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタ
ノール等があげられるが、メタノール、エタノール、ｎ
−ブタノール、あるいはこれらの混合物が好ましく用い
られる。

【００７２】セルロースアシレートの他に、乾燥後固形
分となる成分としては、可塑剤をはじめ、紫外線吸収
剤、無機微粒子、カルシウム、マグネシウムなどのアル
カリ土類金属の塩などの熱安定剤、帯電防止剤、難燃
剤、滑剤、油剤、支持体からの剥離促進剤、セルロース
アシレートの加水分解防止剤等を任意に含むことができ
る。

【００７３】好ましく添加される可塑剤としては、リン
酸エステルまたはカルボン酸エステルが用いられる。リ
ン酸エステルの例には、トリフェニルフォスフェート
（ＴＰＰ）およびトリクレジルフォスフェート（ＴＣ
Ｐ）、クレジルジフェニルフォスフェート、オクチルジ
フェニルフォスフェート、ジフェニルビフェニルフォス
フェート、トリオクチルフォスフェート、トリブチルホ
スフェート等があげられる。カルボン酸エステルとして
は、フタル酸エステルおよびクエン酸エステルが代表的
である。フタル酸エステルの例には、ジメチルフタレー
ト（ＤＭＰ）、ジエチルフタレート（ＤＥＰ）、ジブチ
ルフタレート（ＤＢＰ）、ジオクチルフタレート（ＤＯ
Ｐ）、ジフェニルフタレート（ＤＰＰ）およびジエチル
ヘキシルフタレート（ＤＥＨＰ）が含まれる。クエン酸
エステルの例には、Ｏ−アセチルクエン酸トリエチル
（ＯＡＣＴＥ）およびＯ−アセチルクエン酸トリブチル
（ＯＡＣＴＢ）、クエン酸アセチルトリエチル、クエン
酸アセチルトリブチル、が含まれる。その他のカルボン
酸エステルの例には、オレイン酸ブチル、リシノール酸
メチルアセチル、セバシン酸ジブチル、トリメチルトリ
メリテート等のトリメリット酸エステルが含まれる。グ
リコール酸エステルの例としては、トリアセチン、トリ
ブチリン、ブチルフタリルブチルグリコレート、エチル
フタリルエチルグリコレート、メチルフタリルエチルグ
リコレート、ブチルフタリルブチルグリコレートなどが
ある。

【００７４】以上に例示した可塑剤の中でも、トリフェ
ニルフォスフェート、ビフェニルジフェニルフォスフェ
ート、トリクレジルフォスフェート、クレジルジフェニ
ルフォスフェート、トリブチルフォスフェート、ジメチ
ルフタレート、ジエチルフタレート、ジブチルフタレー
ト、ジオクチルフタレート、ジエチルヘキシルフタレー
ト、トリアセチン、エチルフタリルエチルグリコレー
ト、トリメチルトリメリテートらを用いることがが好ま
しい。特にトリフェニルホスフェート、ビフェニルジフ
ェニルフォスフェート、ジエチルフタレート、エチルフ
タリルエチルグリコレート、トリメチルトリメリテート
が好ましい。これらの可塑剤は１種でもよいし２種以上
併用してもよい。可塑剤の添加量はセルロースアシレー
トに対して５〜３０質量％が好ましく、特に８〜１６質
量％以下が好ましい。これらの化合物は、セルロースア
シレート溶液の調製の際に、セルロースアシレートや溶
媒と共に添加してもよいし、溶液調製中や調製後に添加
してもよい。

【００７５】紫外線吸収剤は、目的に応じ任意の種類の
ものを選択することができ、サリチル酸エステル系、ベ
ンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、ベンゾエート
系、シアノアクリレート系、ニッケル錯塩系等の吸収剤
を用いることができるが、ベンゾフェノン系、ベンゾト
リアゾール系、サリチル酸エステル系が好ましい。ベン
ゾフェノン系紫外線吸収剤の例として、２，４−ジヒド
ロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−アセトキ
シベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベン
ゾフェノン、２，２’−ジ−ヒドロキシ−４−メトキシ
ベンゾフェノン、２，２’−ジ−ヒドロキシ−４，４’
−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ｎ−
オクトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ドデ
シルオキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−（２
−ヒドロキシ−３−メタクリロキシ）プロポキシベンゾ
フェノン等をあげることができる。ベンゾトリアゾール
系紫外線吸収剤としては、２（２’−ヒドロキシ−３’
−ｔｅｒｔ−ブチル−５’−メチルフェニル）−５−ク
ロルベンゾトリアゾール、２（２’−ヒドロキシ−５’
−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２
（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−アミ
ルフェニル）ベンゾトリアゾール、２（２’−ヒドロキ
シ−３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−５
−クロルベンゾトリアゾール、２（２’−ヒドロキシ−
５’−ｔｅｒｔ−オクチルフェニル）ベンゾトリアゾー
ル等をあげることができる。サリチル酸エステル系とし
ては、フェニルサリシレート、ｐ−オクチルフェニル
サリシレート、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニルサリシレ
ート等をあげることができる。これら例示した紫外線吸
収剤の中でも、特に２−ヒドロキシ−４−メトキシベン
ゾフェノン、２，２’−ジ−ヒドロキシ−４，４’−メ
トキシベンゾフェノン、２（２’−ヒドロキシ−３’−
ｔｅｒｔ−ブチル−５’−メチルフェニル）−５−クロ
ルベンゾトリアゾール、２（２’−ヒドロキシ−５’−
ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２
（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−アミ
ルフェニル）ベンゾトリアゾール、２（２’−ヒドロキ
シ−３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−５
−クロルベンゾトリアゾールが特に好ましい。

【００７６】吸収波長の異なる複数の吸収剤を複合して
用いることが、広い波長範囲で高い遮断効果を得ること
ができ、特に好ましい。紫外線吸収剤の量はセルロース
アシレートに対し０．０１〜５質量％が好ましく、０．
１〜３質量％が特に好ましい。紫外線吸収剤はセルロー
スアシレート溶解時に同時に添加しても良いし、溶解後
のドープに添加しても良い。特にスタティックミキサ等
を用い、流延直前にドープに紫外線吸収剤溶液を添加す
る形態が好ましい。

【００７７】セルロースアシレートに添加する無機微粒
子としては、シリカ、カオリン、タルク、ケイソウ土、
石英、炭酸カルシウム、硫酸バリウム、酸化チタン、ア
ルミナなどを目的に応じ、任意に用いることができる。
これら微粒子はドープに添加する前に、高速ミキサー、
ボールミル、アトライター、超音波分散機等、任意の手
段でバインダー溶液中に分散を行うことが好ましい。バ
インダーとしてはセルロースアシレートが好ましい。紫
外線吸収剤等、他の添加物と共に分散を行うことも好ま
しい。分散溶媒は任意であるが、ドープ溶剤と近い組成
であることが好ましい。分散粒子の数平均粒径は０．０
１〜１００μｍが好ましく、０．１〜１０μｍが特に好
ましい。上記の分散液はセルロースアシレート溶解工程
に同時に添加しても良いし、任意の工程でドープに添加
できるが、紫外線吸収剤同様スタティックミキサ等を用
い、流延直前に添加する形態が好ましい。

【００７８】支持体からの剥離促進剤としては、界面活
性剤が有効でありリン酸系、スルフォン酸系、カルボン
酸系、ノニオン系、カチオン系など特に限定されない。
これらは、例えば特開昭６１−２４３８３７号などに記
載されている。

【００７９】上記のセルロースアシレートフイルムを保
護膜に用いる場合、ＰＶＡ層との密着性を高めるため、
フイルム表面にケン化、コロナ処理、火炎処理、グロー
放電処理等の手段により、親水性を付与することが好ま
しい。また、親水性樹脂をセルロースアシレートと親和
性のある溶媒に分散し、薄層塗布しても良い。以上の手
段の中では、フイルムの平面性、物性が損なわれないた
め、ケン化処理が特に好ましい。ケン化処理は、例えば
苛性ソーダのようなアルカリ水溶液にフイルムを浸漬す
ることで行われる。処理後は過剰のアルカリを除くた
め、低濃度の酸で中和し、水洗を十分行うことが好まし
い。透明保護膜と、偏光選択層のような隣接層とを密着
性させるため、透明保護膜に下塗り層を設けることがで
きる。セルローストリアセテートフイルムを透明保護膜
として用いる場合は、下塗り層を、ゼラチン、ポリ（メ
タ）アクリレート、ポリ（メタ）アクリル酸エステル、
ポリ（メタ）アクリルアミド、ポリスチレン、ポリブタ
ジエンあるいはこれらの共重合体から形成することがで
きる。

【００８０】（偏光板）光散乱型偏光素子と、光吸収型
偏光素子とを積層して偏光板として用いる。光散乱型偏
光素子の透過軸と光吸収型偏光素子の透過軸とは、実質
的に平行になるように配置する。偏光板は、直線偏光板
として機能する。偏光板とλ／４板とを積層すること
で、積層体を円偏光板として機能させることもできる。
円偏光板では、偏光板の透過軸とλ／４板の遅相軸との
角度を、実質的に４５゜になるように配置する。円偏光
板を液晶表示装置に組み込む場合、一般に、バックライ
ト側からλ／４板、光散乱型偏光素子、光吸収型偏光素
子の順序で配置する。光散乱型偏光素子の偏光選択層側
表面に、反射防止層を設けることもできる。反射防止層
により表面反射が減少し、結果としてディスプレイの輝
度を上昇させることができる。反射防止層としては、低
屈折率層と高屈折率層の積層体（日本写真学会誌２９、
１３７頁（１９６６）記載）あるいは低屈折率層一層の
みを設けることができる。

【００８１】偏光板と液晶表示装置の光学補償シートと
を組み合わせることもできる。本発明の偏光板と光学補
償フイルムとを組み合わせると、液晶表示装置の視野角
を著しく拡大し、高い輝度の画像が得られる。透明支持
体上にディスコティック液晶性化合物から形成した光学
異方性層を有する光学補償シート（特許第２５８７３９
８号公報記載）が好ましい。光学補償シートの透明支持
体は、偏光板の透明保護膜（前述）とは異なり、光学異
方性を有することが好ましい。特開平７−１９１２１７
号公報に記載されているように、光学補償シートと偏光
板と一体化することもできる。

【００８２】（液晶表示装置）偏光板は、液晶表示装置
に組み込んで使用する。本発明は、液晶表示装置がツイ
ストネマチック配向モードの液晶セル、ベンド配向モー
ドの液晶セルまたは水平配向モードの液晶セルを有する
場合に、特に効果がある。透過型液晶表示装置では、液
晶セルの両側（バックライト側と観察者側）に二枚の偏
光板を使用する。本発明の偏光板をバックライト側の偏
光板として使用すると、液晶表示装置の光の利用効率を
改善できる。一体型の偏光板は、バックライト付き透過
型の液晶表示装置のバックライト側の偏光板に、異方性
散乱体が偏光素子よりバックライト側になるように配置
して用いる。これにより、偏光素子のみからなる偏光板
を用いた液晶表示装置よりもバックライト光の偏光板透
過率を高い、明るく鮮明な液晶表示装置が得られる。偏
光素子の光吸収軸に平行な偏光成分は偏光素子内部でそ
の１００％近くが吸収される。一体型の偏光素子におい
ては、偏光素子の光吸収軸と異方性散乱層の散乱軸が平
行に配置されている。そのため、バックライトの光吸収
軸に平行な偏光成分は、最初に入射する異方性散乱層で
強く散乱を受け、後方散乱光がバックライト側に戻され
る。

【００８３】後方散乱光の大部分は、バックライト部分
（例えば、導光板、光拡散板、集光シート）で散乱反射
された後に再び異方性散乱層に入射する。この再入射し
た光は、散乱に基づく偏光解消を受けて楕円偏光になる
ため、偏光素子の光透過軸に平行な偏光成分が出現す
る。また、前方散乱光についても僅かに散乱解消によっ
て楕円偏光となるため、光透過軸に平行な偏光成分が出
現する。これらの結果として、偏光素子の光透過軸に平
行な偏光成分が増加し、トータルでバックライト光の偏
光板透過率が上昇する。一体型の偏光板の偏光度につい
ては、一体化された偏光素子の高い偏光度がそのまま維
持され、偏光素子単独の偏光度と同等以上の値を得るこ
とができる。ツイストネマチック（ＴＮ）配向モードの
液晶セルは、最も普通に（特に、ＴＦＴ液晶表示装置
に）用いられている液晶セルであって、様々な文献に記
載がある。本発明の偏光板と光学異方性透明支持体上に
ディスコティック液晶性化合物から形成した光学異方性
層を有する光学補償シートとを一体化した積層体を、ツ
イストネマチック配向モードの液晶表示装置に組み込む
場合、ディスコティック液晶性化合物の円盤面の法線の
光学異方性透明支持体面への正射影の平均方向と光学異
方性透明支持体の面内遅相軸との角度が実質的に平行ま
たは実質的に垂直になるように、光学異方性層と光学異
方性透明支持体とを配置する。また、光学異方性透明支
持体の面内遅相軸と偏光板の面内透過軸とは、実質的に
平行または実質的に垂直になるように、光学異方性透明
支持体と偏光板とを配置する。

【００８４】ベンド配向モードの液晶セルは、セル中央
部の液晶分子がねじれ配向していてもよい。ベンド配向
液晶セルでは、液晶性化合物の屈折率異方性Δｎと、液
晶セルの液晶層の厚みｄとの積（Δｎ×ｄ）は、輝度と
視野角を両立させるために、１００乃至２０００ｎｍの
範囲であることが好ましく、１５０乃至１７００ｎｍの
範囲であることがさらに好ましく、５００乃至１５００
ｎｍの範囲であることが最も好ましい。本発明の偏光板
と光学異方性透明支持体上にディスコティック液晶性化
合物から形成した光学異方性層を有する光学補償シート
とを一体化した積層体を、ベンド配向モードの液晶表示
装置に組み込む場合、ディスコティック液晶性化合物の
円盤面の法線の光学異方性透明支持体面への正射影の平
均方向と光学異方性透明支持体の面内遅相軸との角度が
実質的に４５゜になるように、光学異方性層と光学異方
性透明支持体とを配置する。また、光学異方性透明支持
体の面内遅相軸と偏光板の面内透過軸とが実質的に平行
または実質的に垂直になるように、透明支持体と偏光板
とを配置する。

【００８５】水平配向液晶セルでは、液晶性化合物の屈
折率異方性Δｎと、液晶セルの液晶層の厚みｄとの積
（Δｎ×ｄ）は、輝度と視野角を両立させるために、１
００乃至２０００ｎｍの範囲であることが好ましく、１
００乃至１０００ｎｍの範囲であることがさらに好まし
く、１００乃至７００ｎｍの範囲であることが最も好ま
しい。本発明の偏光板と光学異方性透明支持体上にディ
スコティック液晶性化合物から形成した光学異方性層を
有する光学補償シートとを一体化した積層体を、水平配
向モードの液晶表示装置に組み込む場合、ディスコティ
ック液晶性化合物の円盤面の法線の光学異方性透明支持
体面への正射影の平均方向と光学異方性透明支持体の面
内遅相軸との角度が実質的に４５゜になるように、光学
異方性層と光学異方性透明支持体とを配置する。また、
光学異方性透明支持体の面内遅相軸と偏光板の面内透過
軸とが実質的に平行または実質的に垂直になるように、
光学異方性透明支持体と偏光板とを配置する。液晶セル
は、いずれも、ノーマリーホワイトモード（ＮＷモー
ド）またはノーマリーブラックモード（ＮＢモード）で
用いることができる。ことが好ましい。

【００８６】

【実施例】[実施例１] （光散乱型偏光素子の偏光選択層塗布液の調製）ネマチ
ック相を有する重合性液晶性化合物（Ｎ４１）２ｇおよ
び（Ｎ４２）２ｇ、ジペンタエリスリトールペンタアク
リレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレート
の混合物（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）０．１ｇおよ
び光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバガイギー社
製）０．１ｇを酢酸エチル２ｇに溶解し、孔径３０μｍ
のポリプロピレン製フィルターでろ過して、光学異方性
不連続相溶液を調製した。一方、ポリビニルアルコール
（ＰＶＡ２０５、クラレ（株）製）１０質量％水溶液１
２０ｇに、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム（ア
ニオン界面活性剤）０．２ｇを添加し、溶解後、孔径３
０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、光学
的連続相水溶液を調製した。光学異方性不連続相溶液２
００ｇと光学的連続相水溶液２００ｇとを混合した液
を、ホモジナイザーによりこの液を分散して光散乱型偏
光素子の偏光選択層塗布液を調製した。光学異方性不連
続相の平均分散径は０．２８μｍであった。

【００８７】（塗布による光吸収型偏光素子の偏光選択
層の形成）光散乱型偏光素子の偏光選択層塗布液をダイ
を用いてバンド流延、乾燥し、厚み６０μｍとなるよう
にした。このフイルムに、ヨウ素１．１ｇ／ｌ、ヨウ化
カリウム６０．５ｇ／ｌの水溶液をウェット膜厚塗布量
が１５ｃｃ／ｍ²となるよう塗布し、８０℃で乾燥し
た。このフイルムをバンドから剥ぎ取り、ドライで２５
℃にて３．５倍延伸の後、１２０℃で３分間熟成してか
ら、１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイ
グラフィックス（株）製、波長範囲２００〜５００ｎ
ｍ、最大波長３６５ｎｍ）を用いて、照度２００ｍＷ／
ｃｍ²、照射量４００ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を吸収型の
偏光層がある面と反対側から照射して分散相を硬化さ
せ、幅２０ｃｍ、長さ２０ｃｍの偏光板を作製した。

【００８８】（微粒子分散液の調製）下記の組成液を、
アトライターにて体積平均粒径が０．７μｍになるまで
分散を行った。粒径は、ＭＡＬＶＥＲＮ社製マスターサ
イザーＭＳ２０にて測定した。

【００８９】 ──────────────────────────────────── 微粒子分散液組成 ──────────────────────────────────── シリカ（アエロジルＲ９７２、日本アエロジル（株）製）０．６７質量％置換度２．８のセルロースアセテート２．９３質量％トリフェニルフォスフェート０．２３質量％ビフェニルジフェニルフォスフェート０．１２質量％メチレンクロライド８８．３７質量％メタノール７．６８質量％ ────────────────────────────────────

【００９０】（原料ドープの調製）下記の組成からなる
固形分１００質量部に対して、上記微粒子分散液１７．
９質量部を添加した。

【００９１】 ──────────────────────────────────── 固形分組成 ──────────────────────────────────── 置換度２．８のセルローストリアセテート８９．３質量％トリフェニルフォスフェート７．１質量％ビフェニルジフェニルフォスフェート３．６質量％ ────────────────────────────────────

【００９２】次に、メチレンクロライド９２質量％およ
びメタノール８質量％からなる混合溶媒を適宜添加、攪
拌溶解してドープを調製した。ドープの固形分濃度は、
１８．５質量％であった。ドープ固形分濃度（％）は、
湿量基準で（ドープを１２０℃２時間加熱した減量分質
量）／（元のドープ質量）×１００で求めた。このドー
プを濾紙（東洋濾紙（株）製、＃６３）にて濾過後さら
に燒結金属フィルタ（日本精線（株）製０６Ｎ、公称孔
径１０μｍ）で濾過し、さらにメッシュフィルタ（日本
ポール（株）製ＲＭ、公称孔径４５μｍ）で濾過した。

【００９３】（紫外線吸収剤溶液の調製）下記組成の紫
外線吸収剤溶液を調製し、フィルタ（アストロポア１
０、富士写真フイルム（株）製フィルタにて濾過した。

【００９４】 ──────────────────────────────────── 紫外線吸収剤溶液組成 ──────────────────────────────────── ２（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−tert−ブチルフェニル）−５−クロルベンゾトリアゾール５．８３質量％２（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−tert−アミルフェニル）ベンゾトリアゾール１１．６６質量％置換度２．８のセルロースアセテート１．４８質量％トリフェニルフォスフェート０．１２質量％ビフェニルジフェニルフォスフェート０．０６質量％メチレンクロライド７４．３８質量％メタノール６．４７質量％ ────────────────────────────────────

【００９５】（透明保護膜の作製）ドープに対し、スタ
ティックミキサを用い、上記紫外線吸収剤溶液を、ドー
プ中の固形分に対し紫外線吸収剤量が１．０４質量％に
なるよう調節しつつ、ドープの配管経路において添加、
混合した。このドープを無端支持体上に流延し、自己支
持性を持つまで熱風乾燥し、フイルムとして剥離した。
剥離した時点の残留溶剤は、３８質量％であった。残留
溶剤は、島津製作所製ＧＣ−１８Ａを用い、メチレンク
ロライド、メタノール、ｎ−ブタノールを定量した。残
量溶剤量は湿量基準であり、これら溶剤の総和が、溶剤
を含むサンプル総質量に占める割合を示す。

【００９６】フイルムをテンター式乾燥機に導入し、両
端を保持して張力を与えつつ乾燥し、残留溶剤が１４質
量％になるまで乾燥した。以降ローラー乾燥ゾーンにて
乾燥し、残留溶剤が０．１質量％になるまで乾燥した。
以上のようにして作製した保護膜の膜厚は８０μｍ、レ
ターデーションは（３．１）ｎｍ、フイルム長手方向の
抗張力は１４０ＭＰａであった。レターデーションは王
子計測（株）製自動複屈折計ＫＯＢＲＡ２１ＤＨにて、
６３２．８ｎｍにおける値を測定した。フイルムの抗張
力は、オリエンテック（株）製ＲＴＡ−１００引張試験
機にて、初期試料長１００ｍｍ、引張速度２００ｍｍ／
ｍｉｎの条件にて、２３℃、６５％ＲＨにて測定した。
作製した透明保護膜を、ＰＶＡ（ＰＶＡ−１１７Ｈ、ク
ラレ（株）製）の３質量％水溶液を接着剤として、偏光
板の光吸収型偏光素子側と貼り合わせ、さらに６３℃で
２０分間加熱して、透明保護膜を有する偏光板を作製し
た。

【００９７】（透過型液晶表示装置の作製）市販の透過
型液晶表示装置（カラー液晶ディスプレイＶＬ−１５３
０ＳＷ、富士通（株）製）から、バックライト側の偏光
フイルムを剥ぎ取り、代わりに作製した透明保護膜を有
する偏光板を貼り付け、導光板と偏光板との間にそれ以
外のフイルムを挿入しない状態で、測定機（ＢＭ−７、
トプコン社製）を用いて中央部輝度を測定したところ、
３４０ｃｄ／ｃｍ²の輝度であった。

【００９８】［比較例１］（偏光板の作製）実施例１において光吸収型偏光素子の
偏光選択層を形成しない、すなわちヨウ素、ヨウ化カリ
ウム水溶液を片面に塗布しない以外は、実施例１と同様
にして透明保護膜を有する偏光板を作製した。

【００９９】（透過型液晶表示装置の作製）市販の透過
型液晶表示装置（カラー液晶ディスプレイＶＬ−１５３
０ＳＷ、富士通（株）製）のバックライト側に、作製し
た透明保護膜を有する偏光板を重ねて、導光板と偏光板
の間にそれ以外のフイルムを挿入しない状態で、測定機
（ＢＭ−７、トプコン社製）を用いて中央部輝度を測定
したところ、３００ｃｄ／ｃｍ²の輝度であった。

【図面の簡単な説明】

【図１】偏光板の一態様を示す断面模式図である。

【図２】偏光板の別の態様を示す断面模式図である。

【図３】偏光板のさらに別の態様（円偏光板）を示す断
面模式図である。

【図４】偏光板を備えた液晶表示装置を示す断面模式図
である。

【符号の説明】

１、１ａ、１ｂ透明保護膜２光吸収型偏光素子３光散乱型偏光素子３１光学等方性連続相３２光学異方性不連続相４位相差板５ λ／４板６偏光板７ＴＮモード液晶セル８偏光板９導光板１０冷陰極管

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続きＦターム(参考） 2H049 BA02 BA05 BA06 BA07 BA27 BA42 BA43 BB03 BB18 BB33 BB46 BC01 BC03 BC22 2H091 FA08X FA08Z FA31X FA31Z FA34X FA34Z FB02 FB12 LA16 LA19 4F006 AA02 AA12 AA15 AA22 AA35 AA36 AA38 AA40 AB20 AB54 BA14 CA05

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】所定の偏光を選択的に透過し他の偏光を
選択的に反射または散乱する偏光選択層を有する光散乱
型偏光素子と、所定の偏光を選択的に透過し他の偏光を
選択的に吸収する偏光選択層を有する光吸収型偏光素子
とが積層されており、光散乱型偏光素子の偏光透過軸と
光吸収型偏光素子の偏光透過軸とが実質的に平行となる
ように配置されている偏光板であって、光吸収型偏光素
子の偏光選択層が、光散乱型偏光素子の偏光選択層上に
塗布により形成された層であることを特徴とする偏光
板。
【請求項２】光散乱型偏光選択素子の偏光選択層が、
光学等方性連続相と光学異方性不連続相とからなる請求
項１に記載の偏光板。
【請求項３】さらに、少なくとも一枚の透明保護膜を
有する請求項１に記載の偏光板。
【請求項４】光散乱型偏光選択素子の偏光選択層の面
内の方向において、光学等方性連続相の屈折率と、光学
異方性不連続相の屈折率との差の最大値が０．０５以上
である請求項２に記載の偏光板。
【請求項５】光散乱型偏光選択素子の偏光選択層の面
内の方向において、光学等方性連続相の屈折率と、光学
異方性不連続相の屈折率との差の最小値が０．０５未満
である請求項２に記載の偏光板。
【請求項６】光学異方性不連続相が、０．０１乃至１
０μｍの平均径を有する請求項２に記載の偏光板。
【請求項７】光学異方性不連続相が、重合性基を有す
る液晶性化合物の重合生成物を含む請求項２に記載の偏
光板。
【請求項８】光学等方性連続相が、高分子化合物を含
む請求項２に記載の偏光板。
【請求項９】高分子化合物が、ポリビニルアルコール
である請求項８に記載の偏光板。
【請求項１０】光吸収型偏光素子の偏光選択層が、光
学等方性連続相と同じ高分子化合物を含む請求項８に記
載の偏光板。
【請求項１１】光吸収型偏光素子と光散乱型偏光素子
とが積層された状態で延伸処理されている請求項１に記
載の偏光板。
【請求項１２】バックライト、偏光板、液晶セル、そ
して偏光板が、この順に積層されている液晶表示装置で
あって、バックライト側の偏光板が、バックライト側か
ら順に、所定の偏光を選択的に透過し他の偏光を選択的
に反射または散乱する偏光選択層を有する光散乱型偏光
素子と、所定の偏光を選択的に透過し他の偏光を選択的
に吸収する偏光選択層を有する光吸収型偏光素子とが積
層されており、光散乱型偏光素子の偏光透過軸と光吸収
型偏光素子の偏光透過軸とが実質的に平行となるように
配置されており、そして、光吸収型偏光素子の偏光選択
層が、光散乱型偏光素子の偏光選択層上に塗布により形
成された層であることを特徴とする液晶表示装置。