JP2003043482A

JP2003043482A - 反射型液晶表示装置

Info

Publication number: JP2003043482A
Application number: JP2001233499A
Authority: JP
Inventors: Kentaro Shirato; 健太郎白土
Original assignee: Fuji Photo Film Co Ltd
Current assignee: Fujifilm Holdings Corp
Priority date: 2001-08-01
Filing date: 2001-08-01
Publication date: 2003-02-13

Abstract

(57)【要約】（修正有）【課題】フロントライトを備える反射型液晶表示
装置の表示輝度を向上させる。【解決手段】光源１と導光板２とからなるフロントラ
イト、偏光板３、および反射型液晶セルがこの順に積層
されている反射型液晶表示装置において、直交する直線
偏光の一方を散乱し、他方を実質的に透過する異方性散
乱層９を有しており、フロントライトから入射し異方性
散乱層９の散乱軸に平行な偏光面を有する入射光の少な
くとも５０％を反射型液晶セル側に出射し、出射光の少
なくとも１０％を偏光変換する偏光板を用いる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、各種装置の情報を
表示するためのシステムとして用いられているフロント
ライトを備えた反射型液晶表示装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】反射型液晶表示装置は、偏光板を備えた
反射型液晶セルからなり、周囲光を利用して画像の表示
を行うことができる。しかし、周囲光による画像表示で
は、画像の輝度が不足する場合が多い。カラーフィルタ
ーを用いた反射型カラー液晶表示装置では、輝度不足の
問題が重大で、補助照明手段が必要になる。反射型液晶
表示装置では、透過型液晶表示装置のバックライトとは
異なり、補助照明手段としてフロントライトを用いる。
フロントライトについては、SID'95Digest p.375-378、
および特開平１１-１８４３８７号、同１１-２１８７５
７号、特開２００１-２３４２４号の各公報に記載があ
る。

【０００３】図１は、フロントライトを備えた反射型液
晶表示装置の基本的な構成を示す断面模式図である。図
１に示すように、フロントライトは、導光板（２）とそ
の側面の入射面（２ａ）に配置された光源（１）からな
る。図１に示す反射型液晶表示装置では、フロントライ
トの導光板（２）の下側に、偏光板（３）、λ／４板
（４）、ガラス基板（５）、液晶層（６）、反射電極
（７）、ガラス基板（８）をこの順に有している。二枚
のガラス基板とその間の要素（５〜８）が、反射型液晶
セルを構成している。光源（１）から出射された光は、
側面の入射面（２ａ）から導光板（２）に入射し、出射
面（２ｂ）や対向面（２ｃ）で全反射され、導光板
（２）の内部を伝搬し、対向面（２ｃ）によって出射面
（２ｂ）に向かって反射され、導光板（２）から出射す
る。対向面（２ｃ）は、周期的凹凸のような、出射面
（２ｂ）に向かって光を反射する構造を有している。

【０００４】導光板（２）の出射面（２ｂ）から出射さ
れた光は、偏光板（３）を透過して直線偏光になる。偏
光板（３）の下側には偏光板（３）の透過軸（または吸
収軸）とλ／４板（４）の遅相軸（または進相軸）とが
４５°の角度をなすように設置されている。偏光板
（３）を透過した直線偏光はλ／４板（４）で円偏光に
変換されて、ガラス基板（５）、液晶層（６）に入射す
る。液晶層（６）が偏光を変調しない場合には、反射板
（７）で反射される際に円偏光の回転方向が逆転するの
で、再びλ／４板（４）を透過した後で偏光板（３）の
透過軸と直交する直線偏光になって偏光板（３）で吸収
される。この場合では黒色が表示される。一方、液晶層
（６）に入射した円偏光がその偏光状態で液晶層（６）
を出射するように液晶層（６）に入射した円偏光を変調
させる場合は、再びλ／４板（４）を透過した後で偏光
板（３）の透過軸と一致する直線偏光になって偏光板
（３）を透過する。これにより白色が表示される。

【０００５】フロントライトを備える反射型液晶表示装
置においては、明るい表示輝度を得るため、偏光板３や
カラー表示を行う場合に画素毎に配置された、赤
（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の３原色のカラーフィルタ
ーによる光学吸収を低減することが強く望まれている。
偏光板の光学吸収による損失を抑制する手法としては、
透過型液晶表示装置において異方性反射方式および異方
性散乱方式による光源の光利用効率向上手段が知られて
おり、輝度向上フイルムとして広く使用されている。

【０００６】異方性反射方式では、一軸延伸フイルムと
未延伸フイルムを多重に積層して、延伸方向の屈折率差
を大きくすることにより反射率ならびに透過率の異方性
を有する偏光素子、そしてこの素子と通常の二色性の光
吸収型偏光素子を積層してバックライト側の偏光素子と
して用いて、バックライトの光利用効率を高めることが
できる。異方性反射方式は、誘電体ミラーの原理を用い
た多層膜方式（ＷＯ９５／１７６９１号、ＷＯ９５／１
７６９２号、ＷＯ９５／１７６９９号の各明細書記載）
とコレステリック液晶方式（欧州特許６０６９４０Ａ２
号明細書、特開平８−２７１７３１号公報記載）とが知
られている。

【０００７】異方性散乱方式では、高分子と液晶の複合
体を延伸したフイルムが光学的に異方性の散乱体（異方
性散乱体）となる性質を利用する（リキッドクリスタル
ズ、１９９３年、１５巻、ＮＯ．３、３９５〜４０７頁
に記載）。また、ＷＯ９７／３２２２３号、ＷＯ９７／
３２２２４号、ＷＯ９７／３２２２５号、ＷＯ９７／３
２２２６号の各明細書および特開平９−２７４１０８
号、同１１−１７４２３１号の各公報には、正の固有複
屈折性ポリマーと負の固有複屈折性ポリマーをブレンド
し一軸延伸することで異方性散乱体を作製する方法が提
案されている。

【０００８】従来知られている異方性反射方式および異
方性散乱方式の輝度向上フイルムは、透過型液晶表示装
置においてはバックライト側に反射もしくは後方散乱し
た光がバックライト部分で反射した光を再利用する。し
かし、フロントライトを備える反射型液晶表示装置で
は、反射もしくは後方散乱光の大部分が大気中に出射さ
れ、前記の輝度向上フイルムでは再利用できない。従っ
て、フロントライトを備える反射型液晶表示装置に有効
な輝度向上膜はないというのが現状である。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、表示
輝度が向上したフロントライトを備える反射型液晶表示
装置を提供することである。

【００１０】

【課題を解決するための手段】本発明の目的は、下記
（１）〜（１９）の反射型液晶表示装置により達成され
た。（１）光源と導光板とからなるフロントライト、偏光
板、および反射型液晶セルがこの順に積層されている反
射型液晶表示装置であって、偏光板が、直交する直線偏
光の一方を散乱し、他方を実質的に透過する異方性散乱
層を有しており、偏光板が、フロントライトから入射し
異方性散乱層の散乱軸に平行な偏光面を有する入射光の
少なくとも５０％を反射型液晶セル側に出射し、出射光
の少なくとも１０％を偏光変換することを特徴とする反
射型液晶表示装置。

【００１１】（２）異方性散乱層が、光学的等方性連続
相と光学的異方性不連続相とからなる（１）に記載の反
射型液晶表示装置。（３）異方性散乱層面内の透過軸方向において、光学的
等方性連続相と光学的異方性不連続相との屈折率差が
０．０５未満である（２）に記載の反射型液晶表示装
置。（４）異方性散乱層面内の散乱軸方向において、光学的
等方性連続相と光学的異方性不連続相との屈折率差が
０．０３以上である（２）に記載の反射型液晶表示装
置。

【００１２】（５）光学的等方性連続相が、高分子化合
物からなる（２）に記載の反射型液晶表示装置。（６）光学的異方性不連続相が、０．０１乃至１０μｍ
の平均径を有する（２）に記載の反射型液晶表示装置。（７）光学的異方性不連続相が、液晶性化合物を含む
（２）に記載の反射型液晶表示装置。（８）液晶性化合物が、重合性基を有する（７）に記載
の反射型液晶表示装置。

【００１３】（９）偏光板が、フロントライトから入射
し異方性散乱層の散乱軸に平行な偏光面を有する入射光
の少なくとも７０％を反射型液晶セル側に出射し、出射
光の少なくとも１０％を偏光変換する（１）に記載の反
射型液晶表示装置。（１０）偏光板が、フロントライトから入射し異方性散
乱層の散乱軸に平行な偏光面を有する入射光の少なくと
も８０％を反射型液晶セル側に出射し、出射光の少なく
とも１０％を偏光変換する（１）に記載の反射型液晶表
示装置。（１１）偏光板が、さらに偏光度が９９％以上の光吸収
型偏光素子を有し、光吸収型偏光素子の透過軸が異方性
散乱層の透過軸と実質的に平行になるように、光吸収型
偏光素子が異方性散乱層よりも反射型液晶セル側に配置
されている（１）に記載の反射型液晶表示装置。（１２）さらにλ／４板を有する（１）に記載の反射型
液晶表示装置。（１３）さらに反射板を有する（１）に記載の反射型液
晶表示装置。

【００１４】なお、本明細書において、「光学的等方
性」とは複屈折が０．０５未満であることを意味し、
「光学的異方性」とは複屈折が０．０５以上であること
を意味する。

【００１５】

【発明の実施の形態】［反射型液晶表示装置および異方
性散乱膜の構成］図２は、反射型液晶表示装置の好まし
い構成を示す断面模式図である。図２に示す反射型液晶
表示装置は、導光板（２）とその端面に配置された光源
（１）を有し、導光板（２）の下側に、異方性散乱層
（９）、偏光板（３）、λ／４板（４）、ガラス基板
（５）、液晶層（６）、反射電極（７）およびガラス基
板（８）をこの順に有している。光源（１）としては、
蛍光管が好ましい。蛍光管以外にも、導光板（２）の光
入射面（２ａ）に均一に光を照射する光源（例えば、Ｅ
Ｌ、ＬＥＤ、ＬＥＤと棒状導光板の組み合せ）を用いる
ことができる。出射面（２ｂ）と対向面（２ｃ）につい
ては、図１で説明した反射型液晶表示装置と同様であ
る。

【００１６】図３は、マイクロプリズム構造を有するフ
ロントライト（SID'９５ Digestp．３７６のFig.1に記
載）を示す断面模式図である。図３に示すフロントライ
トでは、照明用蛍光灯（１０）から照射された光が、導
光板（１１）の側面（１１ａ）から導光板（１１）内に
入り、表示面側に形成されたマイクロプリズム（１１
ｂ）により下方側に反射され、下方に設置された反射型
カラー表示装置を照射する。また、導光板（１１）の側
面（１１ａ）側の部分には傾斜プリズム（１１ｃ）が設
けてあり、照明用蛍光灯（１０）から照射された光の導
光板（１１）の厚み方向への入射角を絞り込んで導光板
（１１）内に入射した光がマイクロプリズム（１１ｂ）
により図面下側に反射されるようになっている。なお、
照明用蛍光灯（１０）は、ホルダー（１２）によって保
護されている。また、マイクロプリズム（１１ｂ）側に
は、光学補償板（１３）が設けられている。

【００１７】図４は、傾斜型フロントライト（特開平１
１−２１８７５７号公報記載）を示す断面模式図であ
る。図４に示すフロントライトでは、導光板下面部（１
５Ａ）が平面からなり、導光板上面部（１５Ｂ）が下面
部（１５Ａ）に対して所定角度（α）で傾いた斜面部か
らなる。冷陰極管や熱陰極管などのランプ（１７）とラ
ンプホルダ（１８）とからなる光源部（１６）からフロ
ントライトユニット（１４）に入射した光は、一定の傾
斜角（例えば、α＝２０゜）の導光板上面部（１５Ｂ）
で反射し、導光板下面部（１５Ａ）を出射する際に屈折
する。これにより、出射角度が垂直成分に近い光を導光
できる。

【００１８】図５はプリズム連続型フロントライト（特
開２００１−２３４２４号号公報記載）を示す断面模式
図である。図５に示すフロントライトでは、導光板（２
０）の表面上に、緩斜面（２０ａ）および急斜面（２０
ｂ）からなる凹凸部が、一定のピッチ（ｐ）で周期的に
多数並列形成されている。光源（１９）で出射し、導光
板（２０）に入射した光のうち、板面に沿って伝搬する
光は、導光板の裏面や緩斜面（２０ａ）に当っても導光
板と空気層の大きな屈折率差によって全反射するため外
部へは漏れず伝搬するが、入射角が臨界角より大きい状
態で急斜面（２０ｂ）に当る光は全反射される。急斜面
（２０ｂ）で全反射した光が導光板（２０）の裏面に達
したとき、裏面への入射角が臨界角より小さい場合、導
光板（２０）の裏面から下方向へと照明光として出射さ
れる。導光板（２０）の材質は、ポリメチルメタクリレ
ート、ガラス、アクリル系樹脂、ポリカーボネート系樹
脂およびエポキシ系樹脂が好ましい。凹凸部の周期長
（ｐ）は１００〜６００μｍが好ましく、２５０〜４５
０μｍがさらに好ましい。

【００１９】導光板（２０）に形成される周期的な凹凸
の筋の方向は、モアレ縞の生成を回避するため、反射型
液晶表示素子の画素パターンに応じて適宜、画素と角度
を持たせることが好ましい。反射型液晶表示素子の画素
パターンがデルタ配列である場合には、画素パターンの
水平方向と１０〜２５°または５５°〜８０°の角度を
持たせることが好ましい。反射型液晶表示素子の画素パ
ターンがストライプ配列である場合には、１５〜７５°
の角度を持たせることが好ましい。

【００２０】図６は、体積ホログラム型フロントライト
（特開平１１−１８４３８７号公報記載）を示す断面模
式図である。図６に示すフロントライトでは、表示面と
の間に導光板（２２）を介して、体積ホログラム層（２
３）が配置されている。体積ホログラム層（２３）によ
って、導光板（２２）内に導光された光源（２１）から
の光の一部を表示面側に反射して表示面を照明する。

【００２１】異方性散乱層は、偏光素子が直交する直線
偏光の一方を散乱し、他方を実質的に透過する光学特性
を有し、さらに散乱軸に平行な偏光面を有する入射光の
少なくとも５０％を入射面の反対側に出射し、該出射光
の少なくとも１０％を偏光変換する。図７は、異方性散
乱層の基本的な構成を示す模式図である。図７に示す異
方性散乱層では、光学的等方性連続相（２５）中で光学
異方性分散相（２４）が相分離して存在している。分散
相（２４）は複屈折を有する光学異方性化合物からな
り、透過軸（２７）との方位角を垂直に保ちながら遅相
軸（分子の長軸）方向が散乱軸（２６）に対し平行とな
るよう配向している。遅相軸または散乱軸の方向（２
６）は、光の入射方向（２８）に対しても垂直である。

【００２２】図８は、異方性散乱層の別の基本的な構成
を示す模式図である。図８に示す異方性散乱層では、光
学的異方性連続相（２９）中で光学等方性分散相（３
０）が相分離して存在している。連続相（２９）は複屈
折を有する光学異方性化合物からなり、透過軸（３２）
との方位角を垂直に保ちながら遅相軸（分子の長軸）方
向が散乱軸（３１）に対し平行となるよう配向してい
る。遅相軸または散乱軸の方向（３１）は、光の入射方
向（３３）に対しても垂直である。

【００２３】図９は、異方性散乱層に光を入射した状態
を示す断面模式図である。図９に示すように、異方性散
乱層（３６）のフイルム面に垂直の方向で光を入射する
と、フイルムの散乱軸と直交する電界ベクトルの光（３
４）とフイルムの散乱軸に平行な電界ベクトルの光（３
５）とが生じる。フイルムの散乱軸に平行な電界ベクト
ルの光（３５）は、入射光軸に対して傾斜した角度でフ
イルムを通過する。

【００２４】図１０は、偏光素子の一般的な形態を示す
断面模式図である。図１０に示す偏光素子は、図７また
は図８に示した異方性散乱層（３７）のみからなる。図
１１は、偏光素子の別の一般的な形態を示す断面模式図
である。図１１に示す偏光素子は、異方性散乱層（３
７）が透明支持体（３８）上に設けられている。図１２
は、偏光素子のまた別の一般的な形態を示す断面模式図
である。図１２に示す偏光素子は、異方性散乱層（３
７）が二枚の透明支持体（３８）でサンドイッチされた
構成を有している。

【００２５】図１３は、光散乱型偏光素子と光吸収型偏
光素子とを組み合わせた偏光板を示す断面模式図であ
る。図１３に示す偏光板では、光吸収型偏光層（４０）
を二枚の透明支持体（３８）でサンドイッチした光吸収
型偏光素子と、光散乱型偏光素子（３９）とを分離した
形で使用する。図１４は、光散乱型偏光素子と光吸収型
偏光素子とを組み合わせた別の偏光板を示す断面模式図
である。図１４に示す偏光板では、光散乱型偏光素子
（３９）を、光吸収型偏光層（４０）の一方の保護フイ
ルムとして使用する。他方の保護フイルムは、透明支持
体（３８）である。図１５は、光散乱型偏光素子と光吸
収型偏光素子とを組み合わせたまた別の偏光板を示す断
面模式図である。図１５に示す偏光板でも、光散乱型偏
光素子（３９）を、光吸収型偏光層（４０）の一方の保
護フイルムとして使用する。他方の保護フイルムは、λ
／４板（４１）として機能する。

【００２６】［光学的等方性連続相と光学的異方性不連
続相とからなる異方性散乱層］光学的等方性連続相は、
光透過率が８０％以上を有する材料から形成することが
好ましい。光学等方性連続相は、一般に、ポリマーから
形成する。ポリマーの例には、ポリオレフィン（例、ポ
リエチレン、ポリプロピレン）、ノルボルネン樹脂、ポ
リエステル（例、ポリエチレンテレフタレート、ポリエ
チレンナフタレート）、ポリカーボネート、ポリスチレ
ン、ポリアリレート、ポリスルホン、ポリエーテルスル
ホン、ポリ塩化ビニル、ポリビニルアルコール、セルロ
ースエステル（例、セルロースアセテート）が含まれ
る。ポリビニルアルコールおよびポリカーボネートが好
ましい。市販のポリマー（例、ゼオネックス、ゼオノ
ア、日本ゼオン（株）製；ＡＲＴＯＮ、日本合成ゴム
（株）製；フジタック（富士写真フイルム（株）製）を
使用することもできる。フジタック（富士写真フイルム
（株）製）およびゼオノア（日本ゼオン（株）製）が好
ましい。二種類以上のポリマーを混合して用いてもよ
い。

【００２７】光学的等方性連続相の複屈折は０．０５未
満であることが好ましく、０．０３未満であることがさ
らに好ましい。異方性散乱層の厚さは、０．５乃至５０
０μｍが好ましく、１乃至２００μｍがさらに好まし
い。

【００２８】光学的異方性不連続相（分散相）は、屈折
率異方性材料を主成分として構成することができる。屈
折率異方性材料は、延伸、光照射、電場印加あるいは磁
場印加により傾斜一軸配向させることが好ましい。屈折
率異方性材料では、直線偏光の一方に対する屈折率と該
直線偏光の他方に対する屈折率が異なっている。屈折率
異方性材料として、液晶性化合物が好ましく用いられ
る。液晶性化合物は、常光屈折率（ｎ_o）と異常光屈折
率（ｎ_e）の差、すなわち固有複屈折が大きいことが好
ましい。固有複屈折は０．１より大きいことが好まし
く、０．２より大きいことがさらに好ましく、０．３よ
り大きいことが最も好ましい。該液晶性化合物のｎ₀と
光学的等方性連続相の屈折率との差は０．０５未満であ
ることが好ましく、０．０３未満であることがさらに好
ましい。また、液晶性化合物のｎ_eと光学的等方性連続
相を構成する高分子素材の屈折率との差は０．０３以上
であることが好ましく、０．０５以上であることがさら
に好ましい。

【００２９】液晶性化合物は、室温もしくは加熱するこ
とによってネマチック相もしくはスメクチック相を示す
低分子液晶、例えば、シアノビフェニル系液晶、シアノ
フェニルシクロヘキサン系液晶、シアノフェニルエステ
ル系液晶、安息香酸フェニルエステル系液晶、フェニル
ピリミジン系液晶、もしくはそれらの混合物を挙げるこ
とができる。また、室温もしくは加熱状態でネマチック
相もしくはスメクティック相を示す高分子液晶を使用す
ることもできる。

【００３０】光学異方性相には、棒状の液晶性化合物を
好ましく使用することができる。棒状液晶性化合物およ
びその組成物については、季刊化学総説第２２巻液
晶の化学（１９９４年）日本化学会編の第４章、第７
章，第１０章、および液晶デバイスハンドブック日本
学術振興会第１４２委員会編の第３章に記載された化合
物および組成物を参考にすることができる。光学異方性
相では特にネマチック相およびスメクチックＣ相を示す
棒状の液晶性化合物を好ましく使用することができる。

【００３１】液晶性化合物の配向状態は長期間または温
度，湿度や機械的変形に対し，安定に維持するのが困難
な場合が多い。配向状態を長期間にわたって維持するた
め、重合性の液晶性化合物を使用し、配向状態で重合さ
せ、架橋網目構造を形成させることが望ましい。重合性
の液晶性化合物の重合手段としては、熱重合、光重合の
いずれを使用することもできるが、本発明では紫外線を
用いた光重合が好ましく用いられる。重合性基はエチレ
ン性不飽和基であることが好ましく、液晶性化合物当
り、少なくとも１個導入されていることが好ましい。耐
熱性及び配向の均一性の点から、棒状液晶分子の両末端
に光重合性基を有する二官能重合性液晶化合物が、特に
好ましく用いられる。光学異方性相に好ましく使用され
る液晶性化合物の例を、以下に挙げる。

【００３２】

【化１】

【００３３】

【化２】

【００３４】

【化３】

【００３５】

【化４】

【００３６】

【化５】

【００３７】

【化６】

【００３８】

【化７】

【００３９】

【化８】

【００４０】

【化９】

【００４１】

【化１０】

【００４２】

【化１１】

【００４３】

【化１２】

【００４４】

【化１３】

【００４５】

【化１４】

【００４６】

【化１５】

【００４７】

【化１６】

【００４８】液晶性化合物の好ましい使用量は、光学的
等方性連続相を構成する高分子素材１ｇあたり、０．０
０１乃至２．０ｇが好ましく。０．０１乃至１．５ｇが
さらに好ましい。

【００４９】光学的異方性不連続相を構成する液晶性化
合物は、光を用いてラジカル重合することが好ましい。
ラジカル重合に使用する光重合開始剤の例には、チオキ
サントン系光重合開始剤（例、２，４−ジエチルチオキ
サントン、２−クロロチオキサントン）、ベンゾフェノ
ン系光重合開始剤（例、ベンゾフェノン、（４−（メチ
ルフェニルチオ）フェニル）フェニルメタノン）および
アントラキノン系光重合開始剤（例、エチルアントラキ
ノン）が含まれる。市販の光重合開始剤（例えば、Ciba
Specialty Chemicals. Inc.製のIrgacure184、Irgacu
re369、Irgacure５０0、Irgacure651、Irgacure784、Ir
gacure819、Irgacure907、Irgacure1000、Irgacure130
0、Irgacure1700、Irgacure1800、Irgacure18５０、Irg
acure2959、Darocur 1173, Darocur 4265等）を用いて
もよい。光重合開始剤の添加量は、重合性の液晶性化合
物の総量に対し０．０１質量％以上２０質量％以下であ
ることが好ましく、０．５質量％以上１０質量％以下で
あることがさらに好ましい。

【００５０】光重合性開始剤と、分光増感剤や光重合促
進剤（例、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸イソアミルエス
テル、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチルエステル）と
を併用してもよい。分光増感剤や光重合促進剤を添加す
る場合の好ましい添加量は光重合開始剤の１０質量％以
上３００質量％未満であり、さらに好ましくは２０質量
％以上２００質量％未満である。

【００５１】光学的等方性連続相と光学的異方性不連続
相とからなる異方性散乱層は、光学的等方性連続相を構
成する高分子素材の溶液に液晶性化合物および光重合性
開始剤などの添加剤を分散した液を塗布後、乾燥し、さ
らに配向させて光照射により配向固定させて製造するこ
とが好ましい。

【００５２】液晶性化合物をポリビニルアルコールなど
の水溶液に乳化分散する場合、分散粒径をコントロール
したり、分散安定性を付与するため界面活性剤を添加す
ることが好ましく行われる。添加する界面活性剤として
は特に限定はなく、ノニオン性およびイオン性（アニオ
ン、カチオン、ベタイン）のいずれも使用できる。

【００５３】ノニオン界面活性剤は、ポリオキシエチレ
ン、ポリオキシプロピレン、ポリオキシブチレン、ポリ
グリシジルやソルビタンをノニオン性親水性基とする界
面活性剤であり、具体的には、ポリオキシエチレンアル
キルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルフェニール
エーテル、ポリオキシエチレン−ポリオキシプロピレン
グリコール、多価アルコール脂肪酸部分エステル、ポリ
オキシエチレン多価アルコール脂肪酸部分エステル、ポ
リオキシエチレン脂肪酸エステル、ポリグリセリン脂肪
酸エステル、脂肪酸ジエタノールアミド、トリエタノー
ルアミン脂肪酸部分エステルを挙げることができる。ア
ニオン界面活性剤としては、カルボン酸塩、硫酸塩、ス
ルフォン酸塩、リン酸エステル塩が使用できる。代表的
なアニオン界面活性剤は、脂肪酸塩、アルキルベンゼン
スルフォン酸塩、アルキルナフタレンスルフォン酸塩、
アルキルスルフォン酸塩、α―オレフィンスルフォン酸
塩、ジアルキルスルフォコハク酸塩、α―スルフォン化
脂肪酸塩、Ｎ−メチルーＮオレイルタウリン、石油スル
フォン酸塩、アルキル硫酸塩、硫酸化油脂、ポリオキシ
エチレンアルキルエーテル硫酸塩、ポリオキシエチレン
アルキルフェニールエーテル硫酸塩、ポリオキシエチレ
ンスチレン化フェニールエーテル硫酸塩、アルキルリン
酸塩、ポリオキシエチレンアルキルエーテルリン酸塩お
よびナフタレンスルフォン酸塩ホルムアルデヒド縮合物
である。

【００５４】カチオン界面活性剤としてはアミン塩、４
級アンモニウム塩、ピリジニウム塩を使用できる。第１
〜第３脂肪族アミンの塩および４級アンモニウム塩
（例、テトラアルキルアンモニウム塩、トリアルキルベ
ンジルアンモニウム塩、アルキルピリジウム塩、アルキ
ルイミダゾリウム塩）が好ましい。両性界面活性剤とし
ては、カルボキシベタインおよびスルフォベタインが好
ましい。両性界面活性剤の例には、Ｎ−トリアルキル−
Ｎ−カルボキシメチルアンモニウムベタインおよびＮ−
トリアルキル−Ｎ−スルフォアルキレンアンモニウムベ
タインが含まれる。

【００５５】界面活性剤については、各種文献（例え
ば、界面活性剤の応用、幸書房、刈米孝夫著、昭和５５
年９月１日発行）に記載がある。界面活性剤の使用量
は、不連続相の液晶性化合物１ｇあたり、０．００１乃
至１ｇが好ましく。０．０１乃至０．１ｇがさらに好ま
しい。分散は、超音波分散法、ホモジナイザーなどの攪
拌機を使用する方法、サンドミル、コロイドミルのよう
な混練機を使用する方法が好ましい。水不溶性ポリマー
（例、セルロースアセテート）に液晶性化合物を分散さ
せる場合、水不溶性ポリマーの有機溶剤溶液に液晶性化
合物の有機溶剤溶液を混合し均一な透明混合液を作製
後、塗布後の乾燥工程で相分離させることが好ましく行
われる。

【００５６】異方性散乱層の散乱は、Ｍie散乱なので、
不連続相のサイズを大きくすることで顕著に前方散乱の
割合を増大させることができる。入射光と反対側への出
射光を確保するため、ある程度まで不連続相のサイズを
大きくすることが好ましい。不連続相のサイズは、各領
域をほぼ同面積の円で近似した近似円形の平均径で０．
５〜１０μｍの範囲にあることが好ましく、１〜５μｍ
の範囲にあることがさらに好ましい。

【００５７】塗布方法は、ディップコート法、エアーナ
イフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、
ワイヤーバーコート法、グラビアコート法やエクストル
ージョンコート法（米国特許２６８１２９４号明細書）
等が好ましく使用される。２層以上を同時に塗布しても
よい。同時塗布の方法は、米国特許２７６１７９１号、
同２９４１８９８号、同３５０８９４７号、同３５２６
５２８号の各明細書および原崎勇次著、コーティング工
学、２５３頁、朝倉書店（１９７３）を参照することが
できる。

【００５８】異方性散乱層の膜厚は、０．５乃至１００
μｍであることが好ましく、１乃至７０μｍであること
がさらに好ましい。

【００５９】［液晶性化合物を配向させる手段］光学的
異方性不連続相を構成する液晶性化合物は、延伸、光照
射、電場印加および磁場印加の少なくともひとつの手段
を用いて配向させることが好ましい。

【００６０】（１）延伸法延伸法を用いて液晶性化合物を配向させる場合、光学的
等方性連続相と光学的異方性不連続相とからなる異方性
散乱層は上記方法によって、バンドまたはドラムのよう
な無端支持体、あるいは透明支持体に塗布した後、剥ぎ
取ってから延伸し、透明支持体にラミネートしてもよい
し、透明支持体に塗布した後、そのまま延伸して用いる
かまたは別の透明支持体とラミネートまたは別の透明支
持体に転写して形成してもよい。延伸倍率は特に不連続
相が液晶性化合物の場合、ヨウ素系吸収型偏光フイルム
のように４乃至１０倍もの高延伸倍率は必要でないた
め、生産性の観点から３．０倍以下が好ましく、２．０
倍以下がさらに好ましい。

【００６１】（２）光配向法光照射で液晶性化合物を傾斜一軸配向させる場合、光化
学反応性基を含有する化合物を液晶性化合物および/も
しくは光学等方性バインダーに添加することが好ましく
行われる。光化学反応性基は光エネルギーを吸収して励
起した状態を経由して、光分解、光架橋、光重合、光酸
化還元、光転移、光異性化を行う官能基を意味し、本発
明では光架橋および／もしくは光異性化反応を行う官能
基を特に好ましく使用することができる。光架橋性官能
基は光照射により分子内の結合が切断されたり、あるい
は結合の一部が開裂することによって生成したラジカル
などの活性分子が互いに結合したり（光二量化）、ある
いは他の分子をラジカル化しとして結合反応をする官能
基である。このような光架橋性官能基は、例えば、シン
ナモイル基、シンナミリデン基、ジアゾ基、アジド基、
アクリロイル基、カルコン基、クマリン基などが挙げら
れるが、この中でも本発明ではシンナモイル基、シンナ
ミリデン基、カルコン基、クマリン基などの光二量化性
官能基が特に好ましい。

【００６２】光異性化反応を行う官能基としては、例え
ば、光照射によりシス-トランス異性化するアゾベンゼ
ン基(K.Ichimura et al ,Langmuir.Vol.4,2) ; K.Ichim
ura etal ,Appl.Phys.Lett.Vol.63,No.4,Page449(1993)
; N.Ishizuki,Langmuir.Vol.9,Page3298(1993); N.Ish
izuki,Langmuir.Vol.9,Page857(1993))、ヒドラゾノ−
β−ケトエステル基(S.Yamamura et al,Liquid Crysta
l,Vol.13,No.2,page189(1993))、スチルベン基(市村國
宏他、高分子論文集、第47巻、10号、771頁(1990))、お
よびスピロピラン基(K.Ichimura et al ,Chemistry Let
ters,Page1063(1992) ; K.Ichimura et al,Thin Solid
Films,Vol.235,Page101(1993))が挙げられる。アゾベン
ゼン基およびスチルベン基を好ましく使用することがで
きる。

【００６３】光化学反応性化合物の好ましい使用量は、
不連続相の液晶性化合物１ｇ当たり０．００１乃至１ｇ
が好ましく。０．０１乃至０．５ｇがさらに好ましい。
光化学反応性化合物の好ましい例を以下に挙げる。

【００６４】

【化１７】

【００６５】

【化１８】

【００６６】光配向は、直線偏光照射もしくは斜め非偏
光照射により好ましく行われる。照射光の波長は用いる
光化学反応性化合物が光学吸収を有する波長領域を好ま
しく使用することができる。１９０ｎｍ以上、５００ｎ
ｍ未満であることが好ましく、さらに好ましくは２５０
ｎｍ以上、４５０ｎｍ未満である。光源は、超高圧水銀
ランプ、フラッシュ水銀ランプ、高圧水銀ランプ、低圧
水銀ランプ、低圧水銀ランプ、ＤｅｅｐＵＶランプ、
クセノンランプ、クセノンフラッシュランプ、メタルハ
ライドランプを好ましく使用することができる。直線偏
光を用いて光配向させる場合、光源から出射された紫外
線は偏光素子を通過させて直線偏光とすることが好まし
い。偏光素子としてはグランテーラー型プリズムやグラ
ントムソン型プリズムなどのプリズム系素子もしくはブ
リュースター角を利用した反射型偏光素子であることが
好ましい。照射光量は、１〜２０００ｍＪ／ｃｍ²であ
ることが好ましく、さらに好ましくは５〜１０００ｍＪ
／ｃｍ²である。短時間で光学的異方性を発現させるた
め、加熱しながら直線偏光を照射することも本発明では
好ましく行われる。直線偏光照射時の好ましい基板の温
度範囲は０℃以上２００℃未満であり、さらに好ましく
は１０℃以上１５０℃未満である。また、斜め非偏光照
射を用いて光配向させる場合、Polym. Mater. Sci. En
g. , 66, p263(1992)に記載されているような方法を好
ましく使用することができる。

【００６７】（３）電場配向法光学的等方性連続相に液晶性化合物を分散したフイルム
の傾斜した電極間に挿入し、１Ｖ以上５０Ｖ未満の電圧
を印加することで不連続相の液晶性化合物を傾斜一軸配
向することができる。電極の傾斜角は１０度以上８０度
未満が好ましい。また、電圧印加は液晶性化合物が液晶
相を形成する温度範囲で行い、配向状態で紫外線照射し
て傾斜配向状態を固定化することが好ましく行われる。

【００６８】（４）磁場配向法光学的等方性連続相に液晶性化合物を分散したフイルム
の傾斜した電磁コイルを備えた磁場配向装置の磁極間に
挿入し、０．２Ｔ以上１０Ｔ未満の磁場を印加すること
で不連続相の液晶性化合物を傾斜一軸配向することがで
きる。磁極の傾斜角は１０度以上８０度未満が好まし
い。また、磁場印加は液晶性化合物が液晶相を形成する
温度範囲で行い、配向状態で紫外線照射して傾斜配向状
態を固定化することが好ましく行われる。

【００６９】上記（１）〜（４）の少なくともひとつの
手段を用いて傾斜一軸配向させる。液晶性化合物の好ま
しい傾斜角度は１０度以上８０度未満であり、さらに好
ましくは２０度以上６０度未満である。液晶性化合物の
傾斜配向後は、紫外線照射して傾斜配向状態を固定化す
ることが好ましい。紫外線照射重合の照射光波長、照射
光量、光源、照射時の基板温度は、前述の光配向法の場
合と同じである。光配向法を用いる場合、光配向に使用
する照射光波長と重合性の液晶性化合物を光重合させる
ための照射光波長は異なっている方が好ましい。

【００７０】以上のように分散物を作製し、透明支持体
上に塗設し、直線偏光照射により液晶性分子を配向さ
せ、さらに必要に応じ配向状態の液晶性分子を光重合す
ることで異方性散乱層を作製することができる。異方性
散乱層を透明支持体上に設けることも好ましく行われ
る。

【００７１】［透明支持体］透明支持体は、光透過率が
８０％以上を有する材料から形成することが好ましい。
透明支持体としては、ポリマーフイルムを用いることが
できる。ポリマーの例には、ポリオレフィン（例、ポリ
エチレン）、ノルボルネン樹脂、ポリエチレンテレフタ
レート、ポリエチレンナフタレート、ポリプロピレン、
ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリアリレート、ポ
リスルフォン、ポリエーテルスルホン、ポリ塩化ビニ
ル、ポリビニルアルコール、セルロースエステル（例、
セルロースアセテート）が含まれる。二種類以上のポリ
マーの混合したフイルムを用いてもよい。市販のポリマ
ー（例、ゼオネックス、ゼオノア、日本ゼオン（株）
製；ＡＲＴＯＮ、日本合成ゴム（株）製；フジタック
（富士写真フイルム（株）製）を使用することもでき
る。この中でもフジタック（富士写真フイルム（株）
製）、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフ
タレート、ポリカーボネート、ゼオノア（日本ゼオン
（株）製）が特に好ましい。透明支持体には、透明性、
適度な透湿度、低複屈折性、適度な剛性といった物性が
求められ、セルロースアシレートが好ましく、特にセル
ロースアセテートが好ましい。

【００７２】透明支持体の物性は、用途に応じ任意の値
が可能であるが、通常の透過型ＬＣＤに用いる場合の代
表的な好ましい値を以下に示す。膜厚は取り扱い性や耐
久性の観点から５〜５００μｍが好ましく、２０〜２０
０μｍがより好ましく、２０〜１００μｍが特に好まし
い。レターデーション値は６３２．８ｎｍにおいて０〜
１５０ｎｍが好ましく、０〜２０ｎｍがより好ましく、
０〜５ｎｍが特に好ましい。透明支持体の遅相軸は、偏
光フイルムの吸収軸と実質的に平行または直交させるこ
とが、直線偏光の楕円化を避ける観点から好ましい。た
だし、透明支持体に位相差板等、偏光性を変化させる機
能を持たせる場合には、この限りではなく、偏光フイル
ムの吸収軸と透明支持体の遅相軸は任意の角度をとるこ
とができる。可視光線透過率は６０％以上が好ましく、
９０％以上が特に好ましい。９０℃１２０時間処理後の
寸度減少は、０．３〜０．０１％であることが好まし
く、０．１５〜０．０１％であることが特に好ましい。
フイルムの引っ張り試験による抗張力値は、５０〜１０
００ＭＰａが好ましく、１００〜３００ＭＰaが特に好
ましい。フイルムの透湿度は、１００〜８００ｇ／ｍ²
・ｄａｙが好ましく、３００〜６００ｇ／ｍ²・ｄａｙ
が特に好ましい。

【００７３】透明支持体として好ましいセルロースアシ
レートは、セルロースの水酸基への置換度が下記式
（Ｉ）〜（III)の全てを満足するものである。

【００７４】（Ｉ）２．６≦Ａ＋Ｂ≦３．０（II）２．０≦Ａ≦３．０（III）０≦Ｂ≦０．８式中、ＡおよびＢはセルロースの水酸基に置換されてい
るアシル基の置換基を表し、Ａはアセチル基の置換度、
またＢは炭素原子数３〜５のアシル基の置換度である。
セルロースには１グルコース単位に３個の水酸基があ
り、上記の数字はその水酸基３．０に対する置換度を表
すもので、最大の置換度が３．０である。セルロースト
リアセテートは一般にＡの置換度が２．６以上３．０以
下であり（この場合、置換されなかった水酸基が最大
０．４もある）、Ｂ＝０の場合がセルローストリアセテ
ートである。偏光フイルム透明支持体として用いるセル
ロースアシレートは、アシル基が全部アセチル基のセル
ローストリアセテート、及びアセチル基が２．０以上
で、炭素原子数が３〜５のアシル基が０．８以下、置換
されなかった水酸基が０．４以下のものが好ましい。炭
素原子数３〜５のアシル基の場合、０．３以下が物性の
点から特に好ましい。なお、置換度は、セルロースの水
酸基に置換する酢酸及び炭素原子数３〜５の脂肪酸の結
合度を測定し、計算によって得られる。測定方法として
は、ＡＳＴＭのＤ−８１７−９１に準じて実施すること
が出来る。

【００７５】アセチル基の他の炭素原子数３〜５のアシ
ル基はプロピオニル基（Ｃ₂Ｈ₅ＣＯ−）、ブチリル基
（Ｃ₃Ｈ₇ＣＯ−）（ｎ−、iso-）、バレリル基（Ｃ₄
Ｈ₉ＣＯ−）（ｎ−、iso-、sec-、tert−）で、これら
のうちｎ−置換のものがフイルムにした時の機械的強
さ、溶解し易さ等から好ましく、特にｎ−プロピオニル
基が好ましい。また、アセチル基の置換度が低いと機械
的強さ、耐湿熱性が低下する。炭素原子数３〜５のアシ
ル基の置換度が高いと有機溶媒への溶解性は向上する
が、それぞれの置換度が前記の範囲であれば良好な物性
を示す。

【００７６】セルロースアシレートの重合度（粘度平
均）は２００〜７００が好ましく、特に２５０〜５５０
のものが好ましい。粘度平均重合度はオストワルド粘度
計で測定することができ、測定されたセルロースアシレ
ートの固有粘度［η］から下記式により求められる。ＤＰ＝［η］／Ｋｍ（式中ＤＰは粘度平均重合度、Ｋｍ
は定数６×１０^-4）

【００７７】セルロースアシレート原料のセルロースと
しては、綿花リンターや木材パルプを用いることができ
る。綿花リンターと木材パルプとを混合して使用しても
よい。セルロースアシレートは、通常はソルベントキャ
スト法により製造される。ソルベントキャスト法は、セ
ルロースアシレートおよび各種添加剤を溶媒に溶解して
濃厚溶液（以下、ドープと称する）を調製し、これをド
ラムまたはバンドのような無端支持体上に流延し、溶媒
を蒸発させてフイルムを形成するものである。ドープ
は、固形分量が１０〜４０質量％となるように濃度を調
整することが好ましい。ドラムまたはバンドの表面は、
鏡面状態に仕上げておくことが好ましい。ソルベントキ
ャスト法における流延および乾燥方法については、米国
特許２３３６３１０号、同２３６７６０３号、同２４９
２０７８号、同２４９２９７７号、同２４９２９７８
号、同２６０７７０４号、同２７３９０６９号、同２７
３９０７０号、英国特許６４０７３１号、同７３６８９
２号の各明細書、特公昭４５−４５５４号、同４９−５
６１４号、特開昭６０−１７６８３４号、同６０−２０
３４３０号、同６２−１１５０３５号の各公報に記載が
ある。

【００７８】２層以上のドープを流延する方法も好まし
く用いられる。複数のドープを流延する場合、支持体の
進行方向に間隔を置いて設けた複数の流延口からドープ
を含む溶液をそれぞれ流延させて積層させながらフイル
ムを作製してもよく、例えば特開昭６１−１５８４１４
号、特開平１−１２２４１９号、特開平１１−１９８２
８５号、などに記載の方法が適応できる。また、２つの
流延口からセルロースアシレート溶液を流延することに
よってもフイルム化することでもよく、例えば特公昭６
０−２７５６２号、特開昭６１−９４７２４号、特開昭
６１−９４７２４５号、特開昭６１−１０４８１３号、
特開昭６１−１５８４１３号、特開平６−１３４９３３
号、に記載の方法で実施できる。また、特開昭５６−１
６２６１７号に記載の高粘度ドープの流れを低粘度のド
ープで包み込み、その高，低粘度のドープを同時に押出
す流延方法も好ましく用いられる。

【００７９】セルロースアシレートを溶解する有機溶媒
の例には、炭化水素（例、ベンゼン、トルエン）、ハロ
ゲン化炭化水素（例、メチレンクロライド、クロロベン
ゼン）、アルコール（例、メタノール、エタノール、ジ
エチレングリコール）、ケトン（例、アセトン）、エス
テル（例、酢酸エチル、酢酸プロピル）およびエーテル
（例、テトラヒドロフラン、メチルセロソルブ）が含ま
れる。炭素原子数１〜７のハロゲン化炭化水素が好まし
く用いられ、メチレンクロライドが最も好ましく用いら
れる。セルロースアシレートの溶解性、支持体からの剥
取り性、フイルムの機械強度等、光学特性等の物性の観
点から、メチレンクロライドの他に炭素原子数１〜５の
アルコールを一種、ないし数種類混合することが好まし
い。アルコールの含有量は、溶媒全体に対し２〜２５質
量％が好ましく、５〜２０質量％がより好ましい。アル
コールの例には、メタノール、エタノール、ｎ−プロパ
ノール、イソプロパノールおよびｎ−ブタノールが含ま
れる。メタノール、エタノール、ｎ−ブタノールあるい
はこれらの混合物が好ましい。

【００８０】セルロースアシレートの他に乾燥後固形分
となる成分には、可塑剤、紫外線吸収剤、無機微粒子、
熱安定剤、帯電防止剤、難燃剤、滑剤、油剤、支持体か
らの剥離促進剤やセルロースアシレートの加水分解防止
剤が含まれる。熱安定剤としては、アルカリ土類金属
（カルシウム、マグネシウム）の塩を用いることができ
る。

【００８１】可塑剤としては、リン酸エステルまたはカ
ルボン酸エステルが用いられる。リン酸エステルの例に
は、トリフェニルフォスフェート（ＴＰＰ）およびトリ
クレジルフォスフェート（ＴＣＰ）、クレジルジフェニ
ルフォスフェート、オクチルジフェニルフォスフェー
ト、ジフェニルビフェニルフォスフェート、トリオクチ
ルフォスフェート、トリブチルホスフェートが含まれ
る。カルボン酸エステルとしては、フタル酸エステルお
よびクエン酸エステルが代表的である。フタル酸エステ
ルの例には、ジメチルフタレート（ＤＭＰ）、ジエチル
フタレート（ＤＥＰ）、ジブチルフタレート（ＤＢ
Ｐ）、ジオクチルフタレート（ＤＯＰ）、ジフェニルフ
タレート（ＤＰＰ）およびジエチルヘキシルフタレート
（ＤＥＨＰ）が含まれる。クエン酸エステルの例には、
Ｏ−アセチルクエン酸トリエチル（ＯＡＣＴＥ）および
Ｏ−アセチルクエン酸トリブチル（ＯＡＣＴＢ）、クエ
ン酸アセチルトリエチル、クエン酸アセチルトリブチ
ル、が含まれる。その他のカルボン酸エステルの例に
は、オレイン酸ブチル、リシノール酸メチルアセチル、
セバシン酸ジブチル、トリメチルトリメリテート等のト
リメリット酸エステルが含まれる。グリコール酸エステ
ルの例には、トリアセチン、トリブチリン、ブチルフタ
リルブチルグリコレート、エチルフタリルエチルグリコ
レート、メチルフタリルエチルグリコレート、ブチルフ
タリルブチルグリコレートが含まれる。

【００８２】トリフェニルフォスフェート、ビフェニル
ジフェニルフォスフェート、トリクレジルフォスフェー
ト、クレジルジフェニルフォスフェート、トリブチルフ
ォスフェート、ジメチルフタレート、ジエチルフタレー
ト、ジブチルフタレート、ジオクチルフタレート、ジエ
チルヘキシルフタレート、トリアセチン、エチルフタリ
ルエチルグリコレートおよびトリメチルトリメリテート
が好ましいく、トリフェニルホスフェート、ビフェニル
ジフェニルフォスフェート、ジエチルフタレート、エチ
ルフタリルエチルグリコレートおよびトリメチルトリメ
リテートがさらに好ましい。二種以上の可塑剤を併用し
てもよい。可塑剤の添加量はセルロースアシレートに対
して５〜３０質量％が好ましく、８〜１６質量％がさら
に好ましい。可塑剤は、セルロースアシレート溶液の調
製の際に、セルロースアシレートや溶媒と共に添加して
もよいし、溶液調製中や調製後に添加してもよい。

【００８３】紫外線吸収剤は、サリチル酸エステル系、
ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、ベンゾエー
ト系、シアノアクリレート系やニッケル錯塩系の紫外線
吸収剤を用いることができる。ベンゾフェノン系、ベン
ゾトリアゾール系、サリチル酸エステル系の紫外線吸収
剤が好ましい。ベンゾフェノン系紫外線吸収剤の例に
は、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロ
キシ−４−アセトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ
−４−メトキシベンゾフェノン、２，２’−ジ−ヒドロ
キシ−４−メトキシベンゾフェノン、２，２’−ジ−ヒ
ドロキシ−４，４’−メトキシベンゾフェノン、２−ヒ
ドロキシ−４−ｎ−オクトキシベンゾフェノン、２−ヒ
ドロキシ−４−ドデシルオキシベンゾフェノン、２−ヒ
ドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−メタクリロキ
シ）プロポキシベンゾフェノンが含まれる。ベンゾトリ
アゾール系紫外線吸収剤の例には、２−（２’−ヒドロ
キシ−３’−tert−ブチル−５’−メチルフェニル）−
５−クロルベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキ
シ−５’−tert−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾー
ル、２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−tert−
アミルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒ
ドロキシ−３’，５’−ジ−tert−ブチルフェニル）−
５−クロルベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキ
シ−５’−tert−オクチルフェニル）ベンゾトリアゾー
ルが含まれる。サリチル酸エステル系紫外線吸収剤の例
には、フェニルサリシレート、ｐ−オクチルフェニルサ
リシレート、ｐ−tert−ブチルフェニルサリシレートが
含まれる。２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノ
ン、２，２’−ジ−ヒドロキシ−４，４’−メトキシベ
ンゾフェノン、２−（２’−ヒドロキシ−３’−tert−
ブチル−５’−メチルフェニル）−５−クロルベンゾト
リアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−５’−tert−ブ
チルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒド
ロキシ−３’，５’−ジ−tert−アミルフェニル）ベン
ゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’
−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−５−クロルベンゾ
トリアゾールが特に好ましい。吸収波長の異なる複数の
吸収剤を複合して用いることが、広い波長範囲で高い遮
断効果を得ることができ、特に好ましい。紫外線吸収剤
の量はセルロースアシレートに対し０．０１〜５質量％
が好ましく、０．１〜３質量％が特に好ましい。紫外線
吸収剤はセルロースアシレート溶解時に同時に添加して
も良いし、溶解後のドープに添加しても良い。特にスタ
ティックミキサ等を用い、流延直前にドープに紫外線吸
収剤溶液を添加する形態が好ましい。

【００８４】セルロースアシレートに添加する無機微粒
子としては、シリカ、カオリン、タルク、ケイソウ土、
石英、炭酸カルシウム、硫酸バリウム、酸化チタン、ア
ルミナなどを目的に応じ、任意に用いることができる。
これら微粒子はドープに添加する前に、高速ミキサー、
ボールミル、アトライター、超音波分散機等、任意の手
段でバインダー溶液中に分散を行うことが好ましい。バ
インダーとしてはセルロースアシレートが好ましい。紫
外線吸収剤等、他の添加物と共に分散を行うことも好ま
しい。分散溶媒は任意であるが、ドープ溶剤と近い組成
であることが好ましい。分散粒子の数平均粒径は０．０
１〜１００μｍが好ましく、０．１〜１０μｍが特に好
ましい。上記の分散液はセルロースアシレート溶解工程
に同時に添加しても良いし、任意の工程でドープに添加
できるが、紫外線吸収剤同様に、攪拌機（例、スタティ
ックミキサー）を用い、流延直前に添加する形態が好ま
しい。

【００８５】支持体からの剥離促進剤としては、界面活
性剤が有効でありリン酸系、スルフォン酸系、カルボン
酸系、ノニオン系、カチオン系など特に限定されない。
剥離促進剤として使用できる界面活性剤については、特
開昭６１−２４３８３７号公報に記載がある。

【００８６】セルロースアシレートフイルムを透明支持
体に用いる場合、偏光膜の構成ポリマー（例えば、ポリ
ビニルアルコール系樹脂）との密着性を高めるため、フ
イルムを表面処理して親水性を付与することが好まし
い。親水化表面処理には、ケン化処理、コロナ処理、火
炎処理およびグロー放電処理が含まれる。また、親水性
樹脂をセルロースアシレートと親和性のある溶媒に分散
し、薄層塗布しても良い。以上の手段の中では、フイル
ムの平面性、物性が損なわれないため、ケン化処理が特
に好ましい。ケン化処理は、例えば苛性ソーダのような
アルカリ水溶液にフイルムを浸漬することで行われる。
処理後は過剰のアルカリを除くため、低濃度の酸で中和
し、水洗を十分行うことが好ましい。

【００８７】偏光素子の透明支持体表面には、ＬＣＤの
視野角補償のための光学異方性層（特開平４−２２９８
２８号、同６−７５１１５号、同８−５０２０６号の各
公報に記載）や、ディスプレイの視認性向上のための防
眩層や反射防止層、偏光フイルムの耐傷性を高めるため
のハードコート層、水分や酸素の拡散を抑えるガスバリ
ア層、偏光フイルムあるいは接着剤、粘着剤との密着力
を高める易接着層、スベリ性を付与する層、その他の任
意の機能層を設けることができる。光学異方性層は、デ
ィスコティック液晶性分子から形成することが好まし
い。機能層は偏光層側に設けても良いし、偏光層と反対
面に設けても良く、目的に応じ適宜に選択できる。

【００８８】偏光素子には、各種機能膜を透明支持体と
して直接片面または両面に貼合することができる。機能
膜の例としては、λ／４板、λ／２板などの位相差膜、
光拡散膜、偏光素子と反対面に導電層を設けたプラスチ
ックセル、異方性散乱や異方性光学干渉機能等をもつ輝
度向上膜、反射板や半透過機能を持つ反射板が含まれ
る。

【００８９】透明支持体と、異方性散乱層の高分子媒体
との接着強度を増大させるために下塗り層、もしくは表
面処理を施すことが好ましい。好ましい下塗り層用素材
は、ゼラチン、スチレン−ブタジエンラバー、ポリビニ
ルアルコールである。また、好ましい表面処理は、火炎
処理、コロナ処理、グロー処理、鹸化処理である。

【００９０】［光学的異方性連続相と光学的等方性不連
続相とからなる異方性散乱層］光学的異方性連続相は、
前述の光学的異方性不連続相と同じ棒状の液晶性化合物
を傾斜一軸配向させて構成されることが好ましい。使用
する化合物の種類は、前述の光学的異方性不連続相と同
じである。配向方法は、延伸法は使用できないが、光配
向法、電場配向法、磁場配向法を前述の光学的異方性不
連続相の配向と同様に好ましく使用することができる。
また、光学的異方性相を連続相とする場合、透明支持体
上にポリイミドもしくはポリビニルアルコールのような
ポリマーを配向膜として塗設し、ラビングもしくは直線
偏光照射によりチルト角の大きな配向性を付与すること
も好ましく行われる。配向膜の好ましい膜厚は０．０１
μｍ以上５μｍ以下である。光学的等方性不連続相は、
ポリメチルメタクリレートやポリスチレン等の架橋もし
くは非架橋ポリマー粒子やシリカ、二酸化チタン、酸化
亜鉛、酸化タングステン、酸化錫等の無機粒子を好まし
く使用することができる。光学的等方性不連続相の好ま
しい粒径は前述の光学的異方性不連続相と同じである。
光学的等方性不連続相の好ましい使用量は、光学的異方
性連続相を構成する素材１ｇあたり、０．００１乃至
２．０ｇが好ましく。０．０１乃至１．５ｇがさらに好
ましい。光学的異方性連続相を傾斜配向後、紫外線照射
により配向固定する方法も前述の光学的異方性不連続相
と同様に好ましく行われる。本発明の異方性散乱層を透
明支持体上に設けることも好ましく行われる。使用する
透明支持体は前述のものと同じである。

【００９１】異方性散乱層を有する偏光素子は光散乱型
偏光素子として、光吸収型偏光素子と組み合わせて好ま
しく使用される。光吸収型偏光素子は、直交する直線偏
光の一方を吸収し、他方を実質的に透過する偏光素子で
あり、５倍以上に延伸したポリビニルアルコールフイル
ム中にＩ₃ ^-やＩ₅ ^-および／もしくは有機二色性色素を高
度に一軸配向させ、ホウ酸で架橋したものをセルロース
トリアセテートのような保護フイルムでサンドイッチし
たものが一般に使用されている。このような光吸収型偏
光素子の偏光度（以下の式で定義）は、９９％以上であ
ることが好ましく、４００ｎｍ〜７００ｎｍの平均光線
透過率は４０％以上であることが望ましい。

【００９２】

【数１】

【００９３】式中、Ｐは透過軸を平行にした２枚の偏光
素子を透過する光の透過率であり；そして、Ｃは透過軸
を直交させた２枚の偏光素子を透過する光の透過率であ
る。

【００９４】異方性散乱層を有する光学フイルムとの組
み合わせは、図７に示されるように光吸収型偏光素子と
別々の偏光素子として使用してもよいし、図８〜１０の
ように光吸収型偏光素子の保護フイルムの一方を置換し
て光吸収型素子に一体化して使用してもよい。その際、
異方性散乱層を有する偏光素子の透過軸と光吸収型偏光
素子の透過軸とが実質的に平行になるように配置して使
用することが望ましい。また、異方性散乱層の透過軸異
方性散乱層を有する偏光素子は異方性散乱層が光吸収型
偏光素子よりも外側（液晶セルの反対側）となるように
配置することが望ましい。

【００９５】外光もしくはフロントライトから液晶表示
装置に入射した光は、異方性散乱層を有する偏光素子を
通過する際、直交する直線偏光の一方を散乱し、他方を
実質的に透過する。透過した直線偏光は、次に光吸収型
偏光素子を通過し、液晶セルに入射する。本発明の偏光
素子は散乱したもう一方の直線偏光のうち、５０％以上
は前方散乱することが好ましく、７０％以上は前方散乱
することがさらに好ましい。散乱光は配向した異方性不
連続相もしくは連続相を通過する際に、異方性不連続相
もしくは連続層のレタデーションの大きさに依存する形
で偏光状態が変化する。本発明では、次の式で定義され
る偏光変化率において、散乱軸の偏光変換率において、
散乱軸の偏光変換率が１０％以上であることが好まし
く、１５％以上であることがさらに好ましい。また、透
過軸の偏光変換率は２０％未満であることが好ましく、
１０％未満であることがさらに好ましい。

【００９６】

【数２】

【００９７】散乱軸偏光変換率は、散乱軸（遅相軸およ
び液晶配向方向と同じ）に平行な直線偏光をサンプルに
入射した場合の、散乱軸平行方向の透過率（Ｔ_//）、散
乱軸と直交方向の透過率（Ｔ⊥）から算出される。透
過軸偏光変換率は散乱軸（遅相軸および液晶配向方向と
同じ）と直交する直線偏光をサンプルに入射した場合
の、散乱軸平行方向の透過率（Ｔ_//）、散乱軸と直交方
向の透過率（Ｔ⊥）から算出される。Ｔ_//およびＴ⊥
は、例えば、分光光度計の積分球もしくは受光機とサン
プルの間に偏光板の透過軸をサンプルの散乱軸と平行も
しくは直交させておくことにより測定できる。

【００９８】λ／４板は、特開平５−２７１１８号およ
び同５−２７１１９号の各公報に記載されたレターデー
ションが大きい複屈折性フイルムと、レターデーション
が小さい複屈折率フイルムとを、それらの光軸が直交す
るように積層させた位相差板、特開平１０−６８８１６
号公報に記載された、特定波長においてλ／４となって
いるポリマーフイルムと、それと同一材料からなり同じ
波長においてλ／２となっているポリマーフイルムとを
積層させて、広い波長領域でλ／４が得られる位相差
板、特開平１０−９０５２１号公報に記載された二枚の
ポリマーフイルムを積層することにより広い波長領域で
λ／４を達成できる位相差板、ＷＯ００／２６７０５号
明細書に記載された変性ポリカーボネートフイルムを用
いた広い波長領域でλ／４を達成できる位相差板、ＷＯ
００／６５３８４号明細書に記載されたセルロースアセ
テートフイルムを用いた広い波長領域でλ／４を達成で
きる位相差板等を使用することができる。λ／４板の遅
相軸は、液晶材料や配向方向、視野角特性などを考慮し
て決定されるが、光吸収型偏光板の透過軸（もしくは散
乱軸）と４５°の角度で配置されることが望ましい。ま
た、λ／４板の光の波長に対する位相遅れの公差を補償
するために、偏光板とλ／４板との間にλ／２板を配置
することもある。一般に、これらの偏光板、λ／２板、
λ／４板は各々粘着層を介して一体化されて反射型液晶
表示素子に貼り合わせられている。

【００９９】液晶層の背面側のガラス基板に配置される
反射板の表面には微細構造が形成されており、偏光板、
λ／２板、λ／４板を介して入射した光を散乱して反射
させることで広い視角範囲で一様に表示できるように工
夫されていることが好ましい。具体的には、フォトリソ
プロセスによって下地層としての微細構造が形成され、
その上にアルミニウムを真空蒸着することで反射電極が
形成される。

【０１００】液晶表示装置においては、液晶層による変
調を画素毎に制御することによって文字や画像が表示さ
れるが、カラー表示を行う場合には、各画素に配置され
た赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の３原色のカラーフィ
ルタ層を透過させて着色光を得る。このＲ、Ｇ、Ｂの配
列パターンは、様々な種類があるが、デルタ配列とスト
ライプ配列が代表的である。画素は、水平方向および垂
直方向に繰り返されて構成される。

【０１０１】画素数や画素サイズについても様々な種類
がある。例えば、デルタ配列の反射型液晶表示素子の場
合には、２．０型では水平画素数×垂直画素数が２８０
×２２０、画素サイズが水平方向１４５．５μｍ、垂直
方向２３４．５μｍであり、２．５型では水平画素数×
垂直画素数が２８０×２２０、画素サイズが水平方向１
７９．５μｍ、垂直方向１６８．５μｍという仕様が採
用されている。また、３．８型ＱＶＧＡの反射型液晶表
示素子では、ストライプ配列で水平画素数×垂直画素数
が９６０×２４０、画素サイズは水平方向が８１μｍ、
垂直方向が２３４．５μｍという仕様が採用されてい
る。

【０１０２】

【実施例】［実施例１］（１）異方性散乱層の形成重合性液晶化合物Ｎ−５０（Δｎ＝０．３７、ｎ₀＝
１．５０）２ｇ、重合性液晶化合物Ｎ−５１（Δｎ＝
０．３７、ｎ₀＝１．８７）２ｇ、ジペンタエリスリト
ールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキ
サアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）
製）０．１ｇ、光重合開始剤（イルガキュア９０７、チ
バガイギー社製）０．１ｇを酢酸エチル２ｇに溶解し、
孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過し
て、不連続相用重合性液晶溶液を調製した。一方、屈折
率が１．５２のポリビニルアルコール（ＰＶＡ２０５、
クラレ（株）製）０．６質量％水溶液５３．３ｇに、界
面活性剤としてドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム
２質量％水溶液０．８ｇを添加、溶解後、孔径３０μｍ
のポリプロピレン製フィルターでろ過して、連続相用水
溶液を調製した。不連続相用重合性液晶溶液と連続相用
水溶液を混合し、ホモジナイザーにより、９０００ｒｐ
ｍで１０分間攪拌し、その後、ポリビニルアルコール
（ＰＶＡ２０５、クラレ（株）製）２０質量％水溶液５
８．４ｇを加え、スターラーで１５分間攪拌し、異方性
散乱層用塗布液を調製した。平均分散径は１．１μｍだ
った。

【０１０３】異方性散乱層用塗布液をダイを用いてバン
ド流延、乾燥し、厚み４０μｍとなるようにした。この
フイルムをバンドから剥ぎ取り、４０℃、６０％ＲＨに
て１．５倍延伸の後、１００℃で２分間熟成してから、
１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラ
フィックス（株）製、波長範囲２００〜５００ｎｍ、最
大波長３６５ｎｍ）を用いて、照度２００ｍＷ／ｃ
ｍ²、照射量４００ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を照射して分
散相を硬化させ、偏光素子を作成した。

【０１０４】偏光素子の光線透過率および光散乱性（ヘ
イズ）をヘイズメーター（ＭＯＤＥＬ１００１ＤＰ、日
本電色工業（株）製）を用いて測定した。測定は光源と
偏光素子の間に直線偏光子を挿入して行い、直線偏光子
の透過軸と異方性散乱層の透過軸を同じにしたものを平
行、直交させたものを直交とした。光線透過率は全光線
透過率を、光散乱性はヘイズを指標として評価したとこ
ろ、偏光素子は、平行透過率（透過軸）が９０．５％、
直交透過率（散乱軸）が８６．２％といずれも大きかっ
た。また、ヘイズは直交方向８９．３％、平行方向５．
４％と、平行方向のみ小さかった。したがって、異方性
散乱層に入射した透過軸方向の光は散乱の影響をあまり
受けず大部分が透過し、散乱軸方向の光は大部分が拡散
光になったが前方（入射面の反対側）に出射したことが
わかった。

【０１０５】次に、偏光素子の偏光変換率を測定した。
上記ヘイズメーターを用いて光線透過率を測定する際
に、光源とフイルムの間、およびフイルムと受光機の間
に計２枚の偏光子を挿入して測定を行った。光源側偏光
子の透過軸と異方性散乱層の透過軸を同じにしたものを
透過軸透過率、直交させたものを散乱軸透過率とした。
偏光変換率は前述の式を用いて算出したが、透過軸偏光
変換率は、透過軸と平行な偏光の入射に対し、偏光素子
と受光機の間に挿入した直線偏光子の透過軸が入射偏光
と平行な透過率（Ｔ//）と直交する透過率（Ｔ⊥）を用
いて算出した。この場合、Ｔ⊥が偏光変換した成分に対
応する。散乱軸偏光変換率は散乱軸と平行な偏光の入射
に対し、フイルムと受光機の間に挿入した直線偏光子の
透過軸が入射偏光と平行な透過率（Ｔ//）と直交する透
過率（Ｔ⊥）を用いて算出した。この場合もＴ⊥が偏光
した成分に対応する。偏光素子は、透過軸の偏光に対す
る偏光変換率が２．５％と小さく、散乱軸の偏光に対す
る偏光変換率が４２．４％と大きかった。従って、異方
性散乱層に入射した透過軸方向の光は偏光状態を変化さ
せずに大部分が透過し、散乱軸方向の光は直交する透過
軸方向の偏光に部分的に変換されて出射することがわか
った。

【０１０６】（２）偏光板の作製ポリビニルアルコールフイルムを、ヨウ素５．０ｇ／リ
ットル、ヨウ化カリウム１０．０ｇ／リットルの水溶液
に２５℃にて９０秒浸漬し、さらにホウ酸１０ｇ／リッ
トルの水溶液に２５℃にて６０秒浸漬後、ロール延伸機
を用いて７．０倍に延伸した。この後、延伸したフイル
ムの片側に作製した偏光素子を重ね、さらに重ねた２枚
のフイルムを、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ１１７、
クラレ（株））５質量％水溶液を糊として用いケン化し
たセルローストリアセテートフイルム（富士写真フイル
ム（株）製）２枚を用いてラミネートした。ラミネート
の際、異方性散乱層の透過軸と光吸収型偏光素子の透過
軸がほぼ平行となるように配置した。この後７０℃で５
分間乾燥して、偏光板を作製した。この偏光板の偏光度
は、９９．７％であった。

【０１０７】（３）λ／４板の作製ポリカーボネート共重合体延伸フイルム（ＷＯ００／２
６７０５号明細書の実施例３に記載）を作製した。波長
４５０ｎｍにおける面内位相差は１４８．５ｎｍ、波長
５５０ｎｍにおける面内位相差は１６１．１ｎｍ、波長
６５０ｎｍにおける面内位相差は１６２．９ｎｍだっ
た。また、次式でＫ値を定義した。Ｋ＝（ｎｚ−（ｎｘ＋ｎｙ）／２）×ｄ式中、ｎｘ、ｎｙ、ｎｚは、それぞれ、フイルムの三次
元屈折率でそれぞれｘ軸、ｙ軸、ｚ軸方向の屈折率であ
り、ｄはフイルムの厚さである。波長４５０ｎｍにおけ
るＫ値は−７３．８、波長５５０ｎｍにおけるＫ値は−
８０．５、波長６５０ｎｍにおけるＫ値は−８１．５だ
った。このポリカーボネート共重合体延伸フイルムの遅
相軸と偏光板の吸収軸との角度を４５゜となるように粘
着層を介してこの順序で一体化した。

【０１０８】（４）フロントライトを備えた液晶表示装
置の作製作製した異方性散乱層、偏光板およびλ／４板を用い
て、さらに図１６に示すフロントライトを備えた液晶表
示装置を作製した。図１６は、実施例１で作製した反射
型液晶表示装置の断面模式図である。図１６に示す液晶
表示装置は、光源（１）および導光板（２）と、異方性
散乱層（９）、偏光板（３）、λ／４板（４）、一対の
ガラス基板（５）、（８）、その間に挟持された液晶層
（６）、およびその背面側に配置された反射電極（７）
を有する反射型液晶表示素子（４２）とで構成されてお
り、導光板（２）と反射型液晶表示素子（４２）とは、
貼り合わされて一体形成されている。

【０１０９】導光板（４３）としては、図５に示した連
続プリズム方式を採用した。図５に示す光源（１９）と
して蛍光管を用いた。導光板（２０）としては、屈折率
が１．４９のポリメチルメタクリレートを射出成型して
作成したものを用いた。導光板（２０）は、光源（１
９）からの光が入射する光入射面、この光入射面にほぼ
垂直な方向に、入射した光を出射する光出射面、この光
出射面に対向する対向面を備えており、さらに、この対
向面には、伝搬部（２０ａ）と反射部（２０ｂ）とを有
するプリズム状の周期的な凹凸が形成されている。周期
ｐを３９０μｍとし、干渉によるモアレ縞が発生を回避
するため、導光板の周期的な凹凸が形成された筋の方向
と反射型液晶表示素子の画素パターンの間に２３°の角
度を与えた。

【０１１０】図１６に示す反射型液晶表示素子（４２）
は、反射電極（７）で導光板（２）から出射される照明
光を反射するとともに、液晶層（６）で変調し、再び導
光板２を透過する光量を調節して画像を表示する。実施
例１では、反射型液晶表示素子（４２）として、３．８
型ＱＶＧＡのストライプ配列、すなわち画素数が９６０
×２４０、画素サイズが８１μｍ×２３４．５μｍのも
のを使用した。異方性散乱層（９）に入射した光は、偏
光板（３）によって直線偏光のみが選択され、この選択
された直線偏光はλ／４板（４）によって円偏光に変換
される。そして、反射型液晶表示素子（４２）は、λ／
４板（４）を通過した円偏光を画素毎に液晶層（６）で
変調しつつ、反射電極（７）で反射させて、再びλ／４
板（４）、偏光板（３）、異方性散乱層（９）を通過す
る光量を制御することで画像を表示している。

【０１１１】［比較例１］異方性散乱層（９）を設けな
かった以外は、実施例１と同様にして、図１７に示すフ
ロントライトを備えた液晶表示装置を作製した。図１７
は、比較例１で作製した反射型液晶表示装置の断面模式
図である。図１７に示す液晶表示装置は、光源（１）お
よび導光板（２）と、偏光板（３）、λ／４板（４）、
一対のガラス基板（５）、（８）、その間に挟持された
液晶層（６）、およびその背面側に配置された反射電極
（７）を有する反射型液晶表示素子とで構成されてお
り、導光板（２）と反射型液晶表示素子とは、貼り合わ
されて一体形成されている。

【０１１２】（液晶表示装置の評価）（１）周囲光による照明によって液晶表示装置を観察す
る場合の表示品位分光測色計（ＣＭ−２００２、ミノルタ（株）製）を用
いて液晶表示装置の白色表示の反射率と黒色表示の反射
率とを測定し、表示の明るさとコントラスト比を算出し
た。結果を第１表に示す。

【０１１３】（２）フロントライト照明によって液晶表
示装置を観察する場合の表示品位輝度計（ＢＭ−５Ａ、ＴＯＰＣＯＭ（株）製）を用いて
液晶表示装置の白色表示の輝度と黒色表示の輝度とを測
定し、表示の明るさとコントラスト比を算出した。結果
を第１表に示す。

【０１１４】

【表１】第１表 ──────────────────────────────────── 反射型液晶周囲光による照明フロントライト照明表示装置反射率コントラスト比輝度コントラスト比 ──────────────────────────────────── 実施例１１６％１９２９１９比較例１１１％１３２０１３ ────────────────────────────────────

【０１１５】

【発明の効果】本発明では、フロントライトを備える反
射型液晶表示素子において、フロントライトと偏光板の
間に異方性散乱層を配置することにより、偏光板の透過
光量を増大し、明るくコントラスト比の良好な液晶表示
装置を実現することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】フロントライトを備えた反射型液晶表示装置の
一般的な構成を示す断面図である。

【図２】本発明に従う反射型液晶表示装置の基本的な構
成を示す断面図である。

【図３】マイクロプリズム構造を有するフロントライト
を示す断面模式図である。

【図４】傾斜型フロントライトを示す断面模式図であ
る。

【図５】プリズム連続型フロントライトを示す断面模式
図である。

【図６】体積ホログラム型フロントライトを示す断面模
式図である。

【図７】異方性散乱層の基本的な構成を示す模式図であ
る。

【図８】異方性散乱層の別な基本的な構成を示す模式図
である。

【図９】異方性散乱層を透過する光の軌跡を示す模式図
である。

【図１０】偏光素子の一般的な形態を示す断面模式図で
ある。

【図１１】偏光素子の別な形態を示す断面模式図であ
る。

【図１２】偏光素子のまた別な形態を示す断面模式図で
ある。

【図１３】光散乱型偏光素子と光吸収型偏光素子とを組
み合わせた偏光板を示す断面模式図である。

【図１４】光散乱型偏光素子と光吸収型偏光素子とを組
み合わせた別の偏光板を示す断面模式図である。

【図１５】光散乱型偏光素子と光吸収型偏光素子とを組
み合わせたまた別の偏光板を示す断面模式図である。

【図１６】実施例１で作製したフロントライトを備えた
反射型液晶表示装置の断面模式図である。

【図１７】比較例１で作製したフロントライトを備えた
反射型液晶表示装置の断面である。

【符号の説明】

１光源２導光板２ａ入射面２ｂ対向面２ｃ出射面３偏光板４ λ／４板５ガラス基板６液晶層７反射板８ガラス基板９異方性散乱層１０照明用蛍光灯１１導光板１１ａ導光板の側面（入射面）１１ｂマイクロプリズム１１ｃ傾斜プリズム１２ホルダー１３光学補償板１４フロントライト１５導光板１５Ａ導光板一面部（下側）１５Ｂ導光板他面部（上側）１６光源部１７ランプ１８ランプホルダ１９光源２０導光板２０ａ導光板の緩斜面部２０ｂ導光板の急斜面部２１光源２２導光板２３体積ホログラム層２４光学的異方性不連続相２５光学的等方性連続相２６、３１散乱軸２７、３２透過軸２８、３３光の入射方向２９光学的異方性連続相３０光学的等方性不連続相３４散乱軸と直交する電界ベクトルの光が通過する軌
跡３５散乱軸と平行な電界ベクトルの光が通過する軌跡３６異方性散乱層３７異方性散乱層３８透明支持体３９異方性散乱層４０光吸収型偏光層４１ λ／４板４２反射型液晶表示素子

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】光源と導光板とからなるフロントライ
ト、偏光板、および反射型液晶セルがこの順に積層され
ている反射型液晶表示装置であって、偏光板が、直交す
る直線偏光の一方を散乱し、他方を実質的に透過する異
方性散乱層を有しており、偏光板が、フロントライトか
ら入射し異方性散乱層の散乱軸に平行な偏光面を有する
入射光の少なくとも５０％を反射型液晶セル側に出射
し、出射光の少なくとも１０％を偏光変換することを特
徴とする反射型液晶表示装置。
【請求項２】異方性散乱層が、光学的等方性連続相と
光学的異方性不連続相とからなる請求項１に記載の反射
型液晶表示装置。
【請求項３】異方性散乱層面内の透過軸方向におい
て、光学的等方性連続相と光学的異方性不連続相との屈
折率差が０．０５未満である請求項２に記載の反射型液
晶表示装置。
【請求項４】異方性散乱層面内の散乱軸方向におい
て、光学的等方性連続相と光学的異方性不連続相との屈
折率差が０．０３以上である請求項２に記載の反射型液
晶表示装置。
【請求項５】光学的等方性連続相が、高分子化合物か
らなる請求項２に記載の反射型液晶表示装置。
【請求項６】光学的異方性不連続相が、０．０１乃至
１０μｍの平均径を有する請求項２に記載の反射型液晶
表示装置。
【請求項７】光学的異方性不連続相が、液晶性化合物
を含む請求項２に記載の反射型液晶表示装置。
【請求項８】液晶性化合物が、重合性基を有する請求
項７に記載の反射型液晶表示装置。
【請求項９】偏光板が、フロントライトから入射し異
方性散乱層の散乱軸に平行な偏光面を有する入射光の少
なくとも７０％を反射型液晶セル側に出射し、出射光の
少なくとも１０％を偏光変換する請求項１に記載の反射
型液晶表示装置。
【請求項１０】偏光板が、フロントライトから入射し
異方性散乱層の散乱軸に平行な偏光面を有する入射光の
少なくとも８０％を反射型液晶セル側に出射し、出射光
の少なくとも１０％を偏光変換する請求項１に記載の反
射型液晶表示装置。
【請求項１１】偏光板が、さらに偏光度が９９％以上
の光吸収型偏光素子を有し、光吸収型偏光素子の透過軸
が異方性散乱層の透過軸と実質的に平行になるように、
光吸収型偏光素子が異方性散乱層よりも反射型液晶セル
側に配置されている請求項１に記載の反射型液晶表示装
置。
【請求項１２】さらにλ／４板を有する請求項１に記
載の反射型液晶表示装置。
【請求項１３】さらに反射板を有する請求項１に記載
の反射型液晶表示装置。