JP2002006139A - 偏光板、光散乱型偏光素子の製造方法および液晶表示装置 - Google Patents
偏光板、光散乱型偏光素子の製造方法および液晶表示装置Info
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- JP2002006139A JP2002006139A JP2001020434A JP2001020434A JP2002006139A JP 2002006139 A JP2002006139 A JP 2002006139A JP 2001020434 A JP2001020434 A JP 2001020434A JP 2001020434 A JP2001020434 A JP 2001020434A JP 2002006139 A JP2002006139 A JP 2002006139A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 液晶表示装置のような画像表示装置におい
て、光の利用効率を改善する。 【解決手段】 所定の偏光を選択的に透過し他の偏光を
選択的に反射または散乱する偏光選択層を有する光散乱
型偏光素子と、所定の偏光を選択的に透過し他の偏光を
選択的に吸収する偏光選択層を有する光吸収型偏光素子
とを積層し、光散乱型偏光素子の偏光透過軸と光吸収型
偏光素子の偏光透過軸とが実質的に平行となるように配
置し、そして、光散乱型偏光選択素子の偏光選択層が光
学的等方性連続相と光学的異方性不連続相とから構成す
ることにより得られる偏光板を用いる。
て、光の利用効率を改善する。 【解決手段】 所定の偏光を選択的に透過し他の偏光を
選択的に反射または散乱する偏光選択層を有する光散乱
型偏光素子と、所定の偏光を選択的に透過し他の偏光を
選択的に吸収する偏光選択層を有する光吸収型偏光素子
とを積層し、光散乱型偏光素子の偏光透過軸と光吸収型
偏光素子の偏光透過軸とが実質的に平行となるように配
置し、そして、光散乱型偏光選択素子の偏光選択層が光
学的等方性連続相と光学的異方性不連続相とから構成す
ることにより得られる偏光板を用いる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、所定の偏光を選択
的に透過し、他の偏光を選択的に反射または散乱する偏
光選択層を有する光散乱型偏光素子と、所定の偏光を選
択的に透過し、他の偏光を選択的に吸収する偏光選択層
を有する光吸収型偏光素子とが積層されている偏光板に
関する。さらに本発明は、偏光板を用いて光の利用効率
が改善された液晶表示装置にも関する。
的に透過し、他の偏光を選択的に反射または散乱する偏
光選択層を有する光散乱型偏光素子と、所定の偏光を選
択的に透過し、他の偏光を選択的に吸収する偏光選択層
を有する光吸収型偏光素子とが積層されている偏光板に
関する。さらに本発明は、偏光板を用いて光の利用効率
が改善された液晶表示装置にも関する。
【０００２】
【従来の技術】太陽光のような自然光やランプのような
通常の人為的光源からの光は無偏光（ランダム偏光）で
あるが、偏光板を用いることで偏光（直線偏光、円偏
光、楕円偏光）成分を取り出すことができる。取り出し
た偏光は、様々な光学機器に利用できる。現在広く普及
している液晶表示装置は、偏光の性質を利用して画像を
表示する装置であるとも言える。広義の偏光板には、直
線偏光板、円偏光板および楕円偏光板が含まれる。ただ
し、通常の（狭義の）偏光板は、直線偏光板を意味す
る。本明細書においても、特に規定しない「偏光板」
は、直線偏光板を意味する。直線偏光板は、最も基本的
な偏光板である。
通常の人為的光源からの光は無偏光（ランダム偏光）で
あるが、偏光板を用いることで偏光（直線偏光、円偏
光、楕円偏光）成分を取り出すことができる。取り出し
た偏光は、様々な光学機器に利用できる。現在広く普及
している液晶表示装置は、偏光の性質を利用して画像を
表示する装置であるとも言える。広義の偏光板には、直
線偏光板、円偏光板および楕円偏光板が含まれる。ただ
し、通常の（狭義の）偏光板は、直線偏光板を意味す
る。本明細書においても、特に規定しない「偏光板」
は、直線偏光板を意味する。直線偏光板は、最も基本的
な偏光板である。
【０００３】直線偏光板としては、一般にポリビニルア
ルコール系フイルムからなる光吸収型偏光素子が用いら
れている。ポリビニルアルコール系偏光素子は、ポリビ
ニルアルコール系フイルムを延伸しヨウ素または二色性
染料を吸着することにより製造する。偏光素子の透過軸
（偏光軸）は、フイルムの延伸方向に垂直な方向に相当
する。光吸収型偏光素子は、偏光軸に平行な偏光成分の
みを透過して、それと直交方向の偏光成分を吸収する。
従って、光の利用効率は、理論的に５０％（実際にはさ
らに低い値）以下である。
ルコール系フイルムからなる光吸収型偏光素子が用いら
れている。ポリビニルアルコール系偏光素子は、ポリビ
ニルアルコール系フイルムを延伸しヨウ素または二色性
染料を吸着することにより製造する。偏光素子の透過軸
（偏光軸）は、フイルムの延伸方向に垂直な方向に相当
する。光吸収型偏光素子は、偏光軸に平行な偏光成分の
みを透過して、それと直交方向の偏光成分を吸収する。
従って、光の利用効率は、理論的に５０％（実際にはさ
らに低い値）以下である。
【０００４】偏光素子の光の利用効率を向上させるた
め、光吸収型偏光素子に代えて、光散乱型偏光素子を使
用することが提案されている。光散乱型偏光素子も、光
吸収型偏光素子と同様に、偏光軸と平行な偏光成分のみ
を透過する。ただし、光散乱型偏光素子では、偏光軸と
直交方向の偏光成分を吸収せずに前方もしくは後方に散
乱し、偏光素子の光の利用効率を向上させる。光散乱型
偏光素子については、特開平８−７６１１４号、同９−
２７４１０８号、同９−２９７２０４号、特表平１１−
５０２０３６号、同１１−５０９０１４号の各公報およ
び米国特許５７８３１２０号、同５８２５５４３号、同
５８６７３１６号の各明細書に記載がある。
め、光吸収型偏光素子に代えて、光散乱型偏光素子を使
用することが提案されている。光散乱型偏光素子も、光
吸収型偏光素子と同様に、偏光軸と平行な偏光成分のみ
を透過する。ただし、光散乱型偏光素子では、偏光軸と
直交方向の偏光成分を吸収せずに前方もしくは後方に散
乱し、偏光素子の光の利用効率を向上させる。光散乱型
偏光素子については、特開平８−７６１１４号、同９−
２７４１０８号、同９−２９７２０４号、特表平１１−
５０２０３６号、同１１−５０９０１４号の各公報およ
び米国特許５７８３１２０号、同５８２５５４３号、同
５８６７３１６号の各明細書に記載がある。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、光の
利用効率を向上させることができる偏光板を提供するこ
とである。本発明の別の目的は、明るい表示画像が得ら
れる液晶表示装置を提供することでもある。
利用効率を向上させることができる偏光板を提供するこ
とである。本発明の別の目的は、明るい表示画像が得ら
れる液晶表示装置を提供することでもある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明の目的は、下記
（１）〜（１３）の偏光板および下記（１４）〜（１
９）の液晶表示装置により達成された。 （１）所定の偏光を選択的に透過し他の偏光を選択的に
反射または散乱する偏光選択層を有する光散乱型偏光素
子と、所定の偏光を選択的に透過し他の偏光を選択的に
吸収する偏光選択層を有する光吸収型偏光素子とが積層
されている偏光板。
（１）〜（１３）の偏光板および下記（１４）〜（１
９）の液晶表示装置により達成された。 （１）所定の偏光を選択的に透過し他の偏光を選択的に
反射または散乱する偏光選択層を有する光散乱型偏光素
子と、所定の偏光を選択的に透過し他の偏光を選択的に
吸収する偏光選択層を有する光吸収型偏光素子とが積層
されている偏光板。
【０００７】（２）さらに、少なくとも一枚の透明支持
体を有する（１）に記載の偏光板。 （３）光散乱型偏光素子が、透明支持体と偏光選択層と
からなる（１）または（２）に記載の偏光板。 （４）光散乱型偏光素子の偏光選択層が光学的等方性連
続相と光学的異方性不連続相とからなる（１）乃至
（３）のいずれか一つに記載の偏光板。 （５）光散乱型偏光素子の偏光透過軸と光吸収型偏光素
子の偏光透過軸とが実質的に平行となるように配置され
ている（１）乃至（４）のいずれか一つに記載の偏光
板。 （６）光学的等方性連続相が、高分子化合物を含む
（４）に記載の偏光板。 （７）偏光選択層の面内の方向において、光学的等方性
連続相の屈折率と、光学異方性不連続相の屈折率との差
の最小値が０．０５未満である（４）または（６）に記
載の偏光板。 （８）偏光選択層の面内の方向において、光学的等方性
連続相の屈折率と、光学異方性不連続相の屈折率との差
の最大値が０．０５以上である（４）、（６）、（７）
のいずれか一つに記載の偏光板。
体を有する（１）に記載の偏光板。 （３）光散乱型偏光素子が、透明支持体と偏光選択層と
からなる（１）または（２）に記載の偏光板。 （４）光散乱型偏光素子の偏光選択層が光学的等方性連
続相と光学的異方性不連続相とからなる（１）乃至
（３）のいずれか一つに記載の偏光板。 （５）光散乱型偏光素子の偏光透過軸と光吸収型偏光素
子の偏光透過軸とが実質的に平行となるように配置され
ている（１）乃至（４）のいずれか一つに記載の偏光
板。 （６）光学的等方性連続相が、高分子化合物を含む
（４）に記載の偏光板。 （７）偏光選択層の面内の方向において、光学的等方性
連続相の屈折率と、光学異方性不連続相の屈折率との差
の最小値が０．０５未満である（４）または（６）に記
載の偏光板。 （８）偏光選択層の面内の方向において、光学的等方性
連続相の屈折率と、光学異方性不連続相の屈折率との差
の最大値が０．０５以上である（４）、（６）、（７）
のいずれか一つに記載の偏光板。
【０００８】（９）光学的異方性不連続相が、０．０１
乃至１０μｍの平均径を有する（４）、（６）、
（７）、（８）のいずれか一つに記載の偏光板。 （１０）光学的異方性不連続相が、液晶性化合物を含む
（４）、（６）、（７）、（８）、（９）のいずれか一
つに記載の偏光板。 （１１）光学的異方性不連続相が、重合性基を有する液
晶性化合物の重合生成物を含む（４）、（６）、
（７）、（８）、（９）のいずれか一つに記載の偏光
板。 （１２）光学的異方性不連続相が、光配向性官能基を有
する化合物を含む（４）、（６）、（７）、（８）、
（９）、（１０）、（１１）のいずれか一つに記載の偏
光板。 （１３）光配向性官能基を有する化合物を含む不連続相
に光照射することにより、光学的異方性不連続相が形成
されている（２）に記載の偏光板。 （１４）光吸収型偏光素子の偏光度が９９％以上である
（１）に記載の偏光板。
乃至１０μｍの平均径を有する（４）、（６）、
（７）、（８）のいずれか一つに記載の偏光板。 （１０）光学的異方性不連続相が、液晶性化合物を含む
（４）、（６）、（７）、（８）、（９）のいずれか一
つに記載の偏光板。 （１１）光学的異方性不連続相が、重合性基を有する液
晶性化合物の重合生成物を含む（４）、（６）、
（７）、（８）、（９）のいずれか一つに記載の偏光
板。 （１２）光学的異方性不連続相が、光配向性官能基を有
する化合物を含む（４）、（６）、（７）、（８）、
（９）、（１０）、（１１）のいずれか一つに記載の偏
光板。 （１３）光配向性官能基を有する化合物を含む不連続相
に光照射することにより、光学的異方性不連続相が形成
されている（２）に記載の偏光板。 （１４）光吸収型偏光素子の偏光度が９９％以上である
（１）に記載の偏光板。
【０００９】（１５）透明支持体が、セルローストリア
セテートフイルムからなる（２）に記載の偏光板。 （１６）セルローストリアセテートフイルムが、ハロゲ
ン化炭化水素を溶媒として実質的に使用せずに製造され
たフイルムである（１５）に記載の偏光板。 （１７）さらに、ディスコティック化合物からなる光学
異方層を有し、光学異方層、光吸収型偏光素子、そして
光散乱型偏光素子の順に積層されている（１）に記載の
偏光板。 （１８）光学的等方性連続相を形成する材料中に光学的
異方性不連続相を形成する材料を分散した後、透明支持
体上に塗設し、次いで光照射することにより、光学的等
方性連続相と光学的異方性不連続相とは直交する直線偏
光の一方に対する屈折率がほぼ同じで、他方に対する屈
折率が異なる偏光選択層を形成する光散乱型偏光素子の
製造方法。 （１９）バックライトおよび偏光板を備えた液晶表示装
置であって、偏光板として、（１）または（１７）に記
載の偏光板を光散乱型偏光素子がバックライト側となる
ように配置したことを特徴とする液晶表示装置。
セテートフイルムからなる（２）に記載の偏光板。 （１６）セルローストリアセテートフイルムが、ハロゲ
ン化炭化水素を溶媒として実質的に使用せずに製造され
たフイルムである（１５）に記載の偏光板。 （１７）さらに、ディスコティック化合物からなる光学
異方層を有し、光学異方層、光吸収型偏光素子、そして
光散乱型偏光素子の順に積層されている（１）に記載の
偏光板。 （１８）光学的等方性連続相を形成する材料中に光学的
異方性不連続相を形成する材料を分散した後、透明支持
体上に塗設し、次いで光照射することにより、光学的等
方性連続相と光学的異方性不連続相とは直交する直線偏
光の一方に対する屈折率がほぼ同じで、他方に対する屈
折率が異なる偏光選択層を形成する光散乱型偏光素子の
製造方法。 （１９）バックライトおよび偏光板を備えた液晶表示装
置であって、偏光板として、（１）または（１７）に記
載の偏光板を光散乱型偏光素子がバックライト側となる
ように配置したことを特徴とする液晶表示装置。
【００１０】（２０）バックライト、偏光板、ツイスト
ネマチック配向モードの液晶セル、そして偏光板が、こ
の順に積層されている液晶表示装置であって、バックラ
イト側の偏光板が、バックライト側から順に、所定の偏
光を選択的に透過し他の偏光を選択的に反射または散乱
する偏光選択層を有する光散乱型偏光素子と、所定の偏
光を選択的に透過し他の偏光を選択的に吸収する偏光選
択層を有する光吸収型偏光素子とが積層されており、光
散乱型偏光素子の偏光透過軸と光吸収型偏光素子の偏光
透過軸とが実質的に平行となるように配置されており、
そして、光散乱型偏光選択素子の偏光選択層が光学的等
方性連続相と光学的異方性不連続相とからなる液晶表示
装置。 （２１）バックライト側の偏光板が、バックライト側か
ら順に、上記の光散乱型偏光素子、上記の光吸収型偏光
素子、透明支持体、そして、ディスコティック化合物か
らなる光学異方性層が積層されている（２０）に記載の
液晶表示装置。 （２２）透明支持体が光学異方性を有し、ディスコティ
ック化合物の円盤面の法線の該透明支持体面への正射影
の平均方向と該透明支持体の面内遅相軸との角度が実質
的に平行または実質的に垂直になり、さらに、該透明支
持体の面内遅相軸と光吸収型偏光素子の面内透過軸とが
実質的に平行または実質的に垂直になるように、光学異
方性層、透明支持体および光吸収型偏光素子が配置され
ている（２１）に記載の液晶表示装置。
ネマチック配向モードの液晶セル、そして偏光板が、こ
の順に積層されている液晶表示装置であって、バックラ
イト側の偏光板が、バックライト側から順に、所定の偏
光を選択的に透過し他の偏光を選択的に反射または散乱
する偏光選択層を有する光散乱型偏光素子と、所定の偏
光を選択的に透過し他の偏光を選択的に吸収する偏光選
択層を有する光吸収型偏光素子とが積層されており、光
散乱型偏光素子の偏光透過軸と光吸収型偏光素子の偏光
透過軸とが実質的に平行となるように配置されており、
そして、光散乱型偏光選択素子の偏光選択層が光学的等
方性連続相と光学的異方性不連続相とからなる液晶表示
装置。 （２１）バックライト側の偏光板が、バックライト側か
ら順に、上記の光散乱型偏光素子、上記の光吸収型偏光
素子、透明支持体、そして、ディスコティック化合物か
らなる光学異方性層が積層されている（２０）に記載の
液晶表示装置。 （２２）透明支持体が光学異方性を有し、ディスコティ
ック化合物の円盤面の法線の該透明支持体面への正射影
の平均方向と該透明支持体の面内遅相軸との角度が実質
的に平行または実質的に垂直になり、さらに、該透明支
持体の面内遅相軸と光吸収型偏光素子の面内透過軸とが
実質的に平行または実質的に垂直になるように、光学異
方性層、透明支持体および光吸収型偏光素子が配置され
ている（２１）に記載の液晶表示装置。
【００１１】（２３）バックライト、偏光板、ベンド配
向モードの液晶セル、そして偏光板が、この順に積層さ
れている液晶表示装置であって、バックライト側の偏光
板が、バックライト側から順に、所定の偏光を選択的に
透過し他の偏光を選択的に反射または散乱する偏光選択
層を有する光散乱型偏光素子と、所定の偏光を選択的に
透過し他の偏光を選択的に吸収する偏光選択層を有する
光吸収型偏光素子とが積層されており、光散乱型偏光素
子の偏光透過軸と光吸収型偏光素子の偏光透過軸とが実
質的に平行となるように配置されており、そして、光散
乱型偏光選択素子の偏光選択層が光学的等方性連続相と
光学的異方性不連続相とからなる液晶表示装置。 （２４）バックライト側の偏光板が、バックライト側か
ら順に、上記の光散乱型偏光素子、上記の光吸収型偏光
素子、透明支持体、そして、ディスコティック化合物か
らなる光学異方性層が積層されている（２３）に記載の
液晶表示装置。 （２５）透明支持体が光学異方性を有し、ディスコティ
ック化合物の円盤面の法線の該透明支持体面への正射影
の平均方向と該透明支持体の面内遅相軸との角度が実質
的に４５゜になり、さらに、該透明支持体の面内遅相軸
と光吸収型偏光素子の面内透過軸とが実質的に平行また
は実質的に垂直になるように、光学異方性層、透明支持
体および光吸収型偏光素子が配置されている（２４）に
記載の液晶表示素子。
向モードの液晶セル、そして偏光板が、この順に積層さ
れている液晶表示装置であって、バックライト側の偏光
板が、バックライト側から順に、所定の偏光を選択的に
透過し他の偏光を選択的に反射または散乱する偏光選択
層を有する光散乱型偏光素子と、所定の偏光を選択的に
透過し他の偏光を選択的に吸収する偏光選択層を有する
光吸収型偏光素子とが積層されており、光散乱型偏光素
子の偏光透過軸と光吸収型偏光素子の偏光透過軸とが実
質的に平行となるように配置されており、そして、光散
乱型偏光選択素子の偏光選択層が光学的等方性連続相と
光学的異方性不連続相とからなる液晶表示装置。 （２４）バックライト側の偏光板が、バックライト側か
ら順に、上記の光散乱型偏光素子、上記の光吸収型偏光
素子、透明支持体、そして、ディスコティック化合物か
らなる光学異方性層が積層されている（２３）に記載の
液晶表示装置。 （２５）透明支持体が光学異方性を有し、ディスコティ
ック化合物の円盤面の法線の該透明支持体面への正射影
の平均方向と該透明支持体の面内遅相軸との角度が実質
的に４５゜になり、さらに、該透明支持体の面内遅相軸
と光吸収型偏光素子の面内透過軸とが実質的に平行また
は実質的に垂直になるように、光学異方性層、透明支持
体および光吸収型偏光素子が配置されている（２４）に
記載の液晶表示素子。
【００１２】（２６）バックライト、偏光板、水平配向
モードの液晶セル、そして偏光板が、この順に積層され
ている液晶表示装置であって、バックライト側の偏光板
が、バックライト側から順に、所定の偏光を選択的に透
過し他の偏光を選択的に反射または散乱する偏光選択層
を有する光散乱型偏光素子と、所定の偏光を選択的に透
過し他の偏光を選択的に吸収する偏光選択層を有する光
吸収型偏光素子とが積層されており、光散乱型偏光素子
の偏光透過軸と光吸収型偏光素子の偏光透過軸とが実質
的に平行となるように配置されており、そして、光散乱
型偏光選択素子の偏光選択層が光学的等方性連続相と光
学的異方性不連続相とからなる液晶表示装置。 （２７）バックライト側の偏光板が、バックライト側か
ら順に、上記の光散乱型偏光素子、上記の光吸収型偏光
素子、透明支持体、そして、ディスコティック化合物か
らなる光学異方性層が積層されている（２６）に記載の
液晶表示装置。 （２８）透明支持体が光学異方性を有し、ディスコティ
ック化合物の円盤面の法線の該透明支持体面への正射影
の平均方向と該透明支持体の面内遅相軸との角度が実質
的に４５゜になり、そして、該透明支持体の面内遅相軸
と偏光素子の面内透過軸とが実質的に平行または実質的
に垂直になるように、光学異方性層、透明支持体および
光吸収型偏光素子が配置されていることを特徴とする
（２７）に記載の液晶表示装置。
モードの液晶セル、そして偏光板が、この順に積層され
ている液晶表示装置であって、バックライト側の偏光板
が、バックライト側から順に、所定の偏光を選択的に透
過し他の偏光を選択的に反射または散乱する偏光選択層
を有する光散乱型偏光素子と、所定の偏光を選択的に透
過し他の偏光を選択的に吸収する偏光選択層を有する光
吸収型偏光素子とが積層されており、光散乱型偏光素子
の偏光透過軸と光吸収型偏光素子の偏光透過軸とが実質
的に平行となるように配置されており、そして、光散乱
型偏光選択素子の偏光選択層が光学的等方性連続相と光
学的異方性不連続相とからなる液晶表示装置。 （２７）バックライト側の偏光板が、バックライト側か
ら順に、上記の光散乱型偏光素子、上記の光吸収型偏光
素子、透明支持体、そして、ディスコティック化合物か
らなる光学異方性層が積層されている（２６）に記載の
液晶表示装置。 （２８）透明支持体が光学異方性を有し、ディスコティ
ック化合物の円盤面の法線の該透明支持体面への正射影
の平均方向と該透明支持体の面内遅相軸との角度が実質
的に４５゜になり、そして、該透明支持体の面内遅相軸
と偏光素子の面内透過軸とが実質的に平行または実質的
に垂直になるように、光学異方性層、透明支持体および
光吸収型偏光素子が配置されていることを特徴とする
（２７）に記載の液晶表示装置。
【００１３】なお、本明細書において、「実質的に垂
直」、「実質的に平行」あるいは「実質的に４５゜」と
は、厳密な角度よりも±５°未満の範囲内であることを
意味する。この範囲は、±４°未満であることが好まし
く、±３°未満であることがさらに好ましく、±２°未
満であることが最も好ましい。また、本明細書におい
て、「遅相軸(slow axis) 」は屈折率が最大となる方向
を、そして「透過軸（transmission axis) 」は透過率
が最大となる方向をそれぞれ意味する。
直」、「実質的に平行」あるいは「実質的に４５゜」と
は、厳密な角度よりも±５°未満の範囲内であることを
意味する。この範囲は、±４°未満であることが好まし
く、±３°未満であることがさらに好ましく、±２°未
満であることが最も好ましい。また、本明細書におい
て、「遅相軸(slow axis) 」は屈折率が最大となる方向
を、そして「透過軸（transmission axis) 」は透過率
が最大となる方向をそれぞれ意味する。
【００１４】
【発明の実施の形態】（光散乱型偏光素子による光の利
用効率改善）光散乱型偏光素子による光の利用効率改善
の機構として、下記（Ａ）〜（Ｃ）が提案されている。
いずれも、本発明に応用できる。
用効率改善）光散乱型偏光素子による光の利用効率改善
の機構として、下記（Ａ）〜（Ｃ）が提案されている。
いずれも、本発明に応用できる。
【００１５】（Ａ）前方散乱光の偏光解消 光散乱型偏光素子では、偏光軸と直交方向の偏光成分は
前方もしくは後方に散乱される。このうち前方散乱され
た光が偏光解消され、前方散乱光の偏光方向が入射光の
偏光方向から回転することにより、光散乱型偏光素子の
偏光軸方向の偏光成分が入射光よりも増加する。光散乱
型偏光子において、厚み方向に多数の粒子が存在する場
合には、多重散乱により偏光解消の程度が強くなる。こ
のように、散乱型偏光板を使用する場合には、前方散乱
光の偏光解消により光吸収型偏光板のみを使用する場合
よりも光の利用効率が向上する。
前方もしくは後方に散乱される。このうち前方散乱され
た光が偏光解消され、前方散乱光の偏光方向が入射光の
偏光方向から回転することにより、光散乱型偏光素子の
偏光軸方向の偏光成分が入射光よりも増加する。光散乱
型偏光子において、厚み方向に多数の粒子が存在する場
合には、多重散乱により偏光解消の程度が強くなる。こ
のように、散乱型偏光板を使用する場合には、前方散乱
光の偏光解消により光吸収型偏光板のみを使用する場合
よりも光の利用効率が向上する。
【００１６】（Ｂ）後方散乱光の再利用（偏光解消）に
よるもの 光散乱型偏光素子の偏光軸と直交方向の偏光成分のうち
後方散乱された光は、後方散乱される際に偏光解消され
る。後方散乱された光は、光源であるバックライトの背
面に配置された金属反射板により反射され、再度光散乱
型偏光素子へ入射する。ここで、再入射する光は後方散
乱する際に偏光解消を受け、散乱型偏光板の偏光軸と平
行方向の偏光成分が生じており、この偏光成分は散乱型
偏光子を透過する。このように、光散乱型偏光子による
後方散乱と金属反射板での反射を繰り返すことにより光
の利用効率を向上させることができる。
よるもの 光散乱型偏光素子の偏光軸と直交方向の偏光成分のうち
後方散乱された光は、後方散乱される際に偏光解消され
る。後方散乱された光は、光源であるバックライトの背
面に配置された金属反射板により反射され、再度光散乱
型偏光素子へ入射する。ここで、再入射する光は後方散
乱する際に偏光解消を受け、散乱型偏光板の偏光軸と平
行方向の偏光成分が生じており、この偏光成分は散乱型
偏光子を透過する。このように、光散乱型偏光子による
後方散乱と金属反射板での反射を繰り返すことにより光
の利用効率を向上させることができる。
【００１７】（Ｃ）後方散乱光の再利用（偏光方向の回
転） λ／４板と金属反射板とを配置した光学系に、λ／４板
の遅相軸と４５°をなすように直線偏光を入射させる
と、偏光方向が入射光と９０°回転した反射光が戻って
くる。光散乱型偏光素子と金属反射板（バックライトの
背面に配置される）との間に、λ／４板を光散乱型偏光
素子の偏光軸とλ／４板の遅相軸が４５°をなすように
配置することによって上記と同じ効果が得られる。光散
乱型偏光素子において後方散乱された光の偏光方向の分
布は、光散乱型偏光素子の偏光軸と直交方向が大きい。
この後方散乱された光がλ／４板を透過して金属反射板
により反射され再度、光散乱型偏光素子に入射する光の
偏光方向の分布は、光散乱型偏光素子の偏光軸に平行方
向に大きくなっており、偏光軸に平行な偏光成分は光散
乱型偏光素子を透過する。このように、光散乱型偏光素
子と金属反射板との間にλ／４板を配置することによ
り、光の利用効率を向上させることができる。
転） λ／４板と金属反射板とを配置した光学系に、λ／４板
の遅相軸と４５°をなすように直線偏光を入射させる
と、偏光方向が入射光と９０°回転した反射光が戻って
くる。光散乱型偏光素子と金属反射板（バックライトの
背面に配置される）との間に、λ／４板を光散乱型偏光
素子の偏光軸とλ／４板の遅相軸が４５°をなすように
配置することによって上記と同じ効果が得られる。光散
乱型偏光素子において後方散乱された光の偏光方向の分
布は、光散乱型偏光素子の偏光軸と直交方向が大きい。
この後方散乱された光がλ／４板を透過して金属反射板
により反射され再度、光散乱型偏光素子に入射する光の
偏光方向の分布は、光散乱型偏光素子の偏光軸に平行方
向に大きくなっており、偏光軸に平行な偏光成分は光散
乱型偏光素子を透過する。このように、光散乱型偏光素
子と金属反射板との間にλ／４板を配置することによ
り、光の利用効率を向上させることができる。
【００１８】（光学フイルムおよび液晶表示装置の構
成）図１は、光学フイルムの基本的な構成を示す断面模
式図である。図１に示す光学フイルムでは、透明支持体
（１１）上において、偏光選択層（１２）が光学的等方
性連続相（１３）と光学的異方性不連続相（１４）とに
相分離している。不連続相（１４）は複屈折を有する光
学異方性化合物からなる。不連続相の二つの屈折率（ｎ
１およびｎ２）は、用いる光学的異方性化合物の性質あ
るいは不連続相内における配向度により異なる。図１に
示す光学フイルムが、光散乱型偏光素子として機能する
ためには、光学的異方性不連続相（１４）の二つの屈折
率（ｎ１およびｎ２）の一方が、光学的等方性連続相の
屈折率と実質的に等しい値、すなわち０．０５未満とな
ることが必要である。屈折率が実質的に等しくなる屈折
率（ｎ１またはｎ２）の方向が、偏光選択層の透過軸に
相当する。
成）図１は、光学フイルムの基本的な構成を示す断面模
式図である。図１に示す光学フイルムでは、透明支持体
（１１）上において、偏光選択層（１２）が光学的等方
性連続相（１３）と光学的異方性不連続相（１４）とに
相分離している。不連続相（１４）は複屈折を有する光
学異方性化合物からなる。不連続相の二つの屈折率（ｎ
１およびｎ２）は、用いる光学的異方性化合物の性質あ
るいは不連続相内における配向度により異なる。図１に
示す光学フイルムが、光散乱型偏光素子として機能する
ためには、光学的異方性不連続相（１４）の二つの屈折
率（ｎ１およびｎ２）の一方が、光学的等方性連続相の
屈折率と実質的に等しい値、すなわち０．０５未満とな
ることが必要である。屈折率が実質的に等しくなる屈折
率（ｎ１またはｎ２）の方向が、偏光選択層の透過軸に
相当する。
【００１９】図２は、光吸収型偏光素子のみを用いた従
来の液晶表示装置を示す断面模式図である。図２に示す
液晶表示装置は、光源として最裏面にエッジライト方式
のバックライト光源（２１）を配置し、裏面より順に、
バックライトの光を表面に出射させる反射板（２２）お
よび導光板（２３）を有する。導光板を用いない直下型
バックライト使用タイプの液晶表示装置もある。光源の
上には、両側を２枚の光吸収型偏光素子（２４、２５）
により挟持されてなる液晶セル（２６）が配置されてい
る。２枚の光吸収型偏光素子と液晶セルとの組み合わせ
により、画像を表示する。光源（２１）から出射された
光は、下側の光吸収型偏光素子（２４）によって、少な
くとも５０％吸収される。
来の液晶表示装置を示す断面模式図である。図２に示す
液晶表示装置は、光源として最裏面にエッジライト方式
のバックライト光源（２１）を配置し、裏面より順に、
バックライトの光を表面に出射させる反射板（２２）お
よび導光板（２３）を有する。導光板を用いない直下型
バックライト使用タイプの液晶表示装置もある。光源の
上には、両側を２枚の光吸収型偏光素子（２４、２５）
により挟持されてなる液晶セル（２６）が配置されてい
る。２枚の光吸収型偏光素子と液晶セルとの組み合わせ
により、画像を表示する。光源（２１）から出射された
光は、下側の光吸収型偏光素子（２４）によって、少な
くとも５０％吸収される。
【００２０】図３は、光吸収型偏光素子と光散乱型偏光
素子とを積層せずに用いた液晶表示装置を示す断面模式
図である。図３に示す液晶表示装置では、図２に示す液
晶表示装置に、光散乱型偏光素子（３１）を追加した構
成を有する。光散乱型偏光素子（３１）によって、下側
の光吸収型偏光素子（２４）の透過軸と同じ方向の偏光
は選択的に透過し、透過軸と直交する偏光の一部は前方
散乱による偏光解消によって偏光面が透過軸方向に揃え
られることにより利用効率が向上する。また、透過軸と
直交する偏光の一部は、後方散乱によって光源（２１）
側へ戻り、導光板（２３）により偏光解消されて反射板
（２２）で反射され、再び光散乱型偏光素子（３１）に
戻って再利用されることによっても、利用効率が向上す
る。図３に示す液晶表示装置では、光吸収型偏光素子
（２４）と光散乱型偏光素子（３１）とを積層していな
いが、これらを積層した偏光板として用いることで、光
の利用効率をさらに改善することができる。
素子とを積層せずに用いた液晶表示装置を示す断面模式
図である。図３に示す液晶表示装置では、図２に示す液
晶表示装置に、光散乱型偏光素子（３１）を追加した構
成を有する。光散乱型偏光素子（３１）によって、下側
の光吸収型偏光素子（２４）の透過軸と同じ方向の偏光
は選択的に透過し、透過軸と直交する偏光の一部は前方
散乱による偏光解消によって偏光面が透過軸方向に揃え
られることにより利用効率が向上する。また、透過軸と
直交する偏光の一部は、後方散乱によって光源（２１）
側へ戻り、導光板（２３）により偏光解消されて反射板
（２２）で反射され、再び光散乱型偏光素子（３１）に
戻って再利用されることによっても、利用効率が向上す
る。図３に示す液晶表示装置では、光吸収型偏光素子
（２４）と光散乱型偏光素子（３１）とを積層していな
いが、これらを積層した偏光板として用いることで、光
の利用効率をさらに改善することができる。
【００２１】図４は、光吸収型偏光素子と光散乱型偏光
素子とを積層した偏光板を用いた液晶表示装置を示す断
面模式図である。図４に示す液晶表示装置では、光源
（２１）から出射され、反射板（２２）および導光板
（２３）を経由した光は散乱シート（３３）により面内
で輝度が均一化され、光を所定方向に集光する機能を有
する集光性フイルム（３４）により、ユーザが見ること
の無い極端に斜め方向の光を正面付近に集光させて利用
効率を向上させる。集光性フイルム（３４）では逆にユ
ーザが見る可能性のある正面よりやや斜め方向の光を減
少させるが、光吸収型偏光素子（２４）と光散乱型偏光
素子（３１）とを積層した偏光板（３２）によって適度
に拡散される。光吸収型偏光素子（２４）と光散乱型偏
光素子（３１）とを積層した偏光板（３２）は、さらに
図３に示す液晶表示装置と同様の原理で輝度を向上させ
る。以上の結果、自然な輝度の視野角分布が得られるこ
とになる。図３に示す液晶表示装置は、光散乱型偏光素
子（３１）の偏光選択層とは反対側の面および光吸収型
偏光素子（２４）の表面で反射があるため、光の利用効
率が約１０％減少する。一方、図４に示す液晶表示装置
では、光吸収型偏光素子（２４）と光散乱型偏光素子
（３１）とを積層した偏光板（３２）を用いることで、
これらの反射面が無くなり、それだけでも光の利用効率
は約１０％増加する。
素子とを積層した偏光板を用いた液晶表示装置を示す断
面模式図である。図４に示す液晶表示装置では、光源
（２１）から出射され、反射板（２２）および導光板
（２３）を経由した光は散乱シート（３３）により面内
で輝度が均一化され、光を所定方向に集光する機能を有
する集光性フイルム（３４）により、ユーザが見ること
の無い極端に斜め方向の光を正面付近に集光させて利用
効率を向上させる。集光性フイルム（３４）では逆にユ
ーザが見る可能性のある正面よりやや斜め方向の光を減
少させるが、光吸収型偏光素子（２４）と光散乱型偏光
素子（３１）とを積層した偏光板（３２）によって適度
に拡散される。光吸収型偏光素子（２４）と光散乱型偏
光素子（３１）とを積層した偏光板（３２）は、さらに
図３に示す液晶表示装置と同様の原理で輝度を向上させ
る。以上の結果、自然な輝度の視野角分布が得られるこ
とになる。図３に示す液晶表示装置は、光散乱型偏光素
子（３１）の偏光選択層とは反対側の面および光吸収型
偏光素子（２４）の表面で反射があるため、光の利用効
率が約１０％減少する。一方、図４に示す液晶表示装置
では、光吸収型偏光素子（２４）と光散乱型偏光素子
（３１）とを積層した偏光板（３２）を用いることで、
これらの反射面が無くなり、それだけでも光の利用効率
は約１０％増加する。
【００２２】図５は、光吸収型偏光素子と光散乱型偏光
素子とを積層した偏光板を用いた別の液晶表示装置を示
す断面模式図である。図５に示す液晶表示装置では、光
吸収型偏光素子（２４）と光散乱型偏光素子（３１）と
を積層した偏光板（３２）の輝度向上機能が、さらに改
善されている。光散乱型偏光素子（３１）の偏光選択層
表面に直接または他の層を介して反射防止層（３５）を
設けることにより、表面での反射を減少させ、偏光選択
層内に入射する光量を増加させることができる。さらに
前記（Ｃ）の後方散乱光の再利用（偏光方向の回転）で
述べたように、偏光板（３２）の下側にλ／４板（３
６）を用いることにより、後方散乱された光散乱型偏光
素子（３１）の透過軸と直交する偏光が２度λ／４板
（３６）を通過して、光散乱型偏光素子（３１）の透過
軸に偏光面を有するように回転され、光の利用効率が著
しく改善される。その他の光源（２１）、反射板（２
２）、導光板（２３）、散乱シート（３３）および集光
性フイルム（３４）の機能は、図４に示す液晶表示装置
と同様である。
素子とを積層した偏光板を用いた別の液晶表示装置を示
す断面模式図である。図５に示す液晶表示装置では、光
吸収型偏光素子（２４）と光散乱型偏光素子（３１）と
を積層した偏光板（３２）の輝度向上機能が、さらに改
善されている。光散乱型偏光素子（３１）の偏光選択層
表面に直接または他の層を介して反射防止層（３５）を
設けることにより、表面での反射を減少させ、偏光選択
層内に入射する光量を増加させることができる。さらに
前記（Ｃ）の後方散乱光の再利用（偏光方向の回転）で
述べたように、偏光板（３２）の下側にλ／４板（３
６）を用いることにより、後方散乱された光散乱型偏光
素子（３１）の透過軸と直交する偏光が２度λ／４板
（３６）を通過して、光散乱型偏光素子（３１）の透過
軸に偏光面を有するように回転され、光の利用効率が著
しく改善される。その他の光源（２１）、反射板（２
２）、導光板（２３）、散乱シート（３３）および集光
性フイルム（３４）の機能は、図４に示す液晶表示装置
と同様である。
【００２３】（透明支持体）偏光板は、少なくとも一枚
の透明支持体を有することが好ましい。一枚の透明支持
体を光散乱型偏光素子と光吸収型偏光素子とで共有する
こともできる。また、光散乱型偏光素子と光吸収型偏光
素子とが、それぞれ透明支持体を有することもできる。
また、光散乱型偏光素子または光吸収型偏光素子の偏光
選択層の両面を、二枚の透明支持体で保護してもよい。
透明支持体が「透明」であるとは、光線透過率が８０％
以上であることを意味する。また、透明支持体は、正面
から見たときに光学的等方性を有することが好まし
い。。従って、透明支持体は小さい固有複屈折を有する
材料から形成することが好ましい。ただし、固有複屈折
の大きい素材（例、ポリカーボネート、ポリエステル、
ポリアリレート、ポリスルホン、ポリエーテルスルホ
ン）であっても、フイルム製造（例えば、溶液流延や溶
融押し出し）条件、あるいは縦、横方向の延伸条件を適
宜調節することによって、光学的等方性のフイルムを得
ることができる。
の透明支持体を有することが好ましい。一枚の透明支持
体を光散乱型偏光素子と光吸収型偏光素子とで共有する
こともできる。また、光散乱型偏光素子と光吸収型偏光
素子とが、それぞれ透明支持体を有することもできる。
また、光散乱型偏光素子または光吸収型偏光素子の偏光
選択層の両面を、二枚の透明支持体で保護してもよい。
透明支持体が「透明」であるとは、光線透過率が８０％
以上であることを意味する。また、透明支持体は、正面
から見たときに光学的等方性を有することが好まし
い。。従って、透明支持体は小さい固有複屈折を有する
材料から形成することが好ましい。ただし、固有複屈折
の大きい素材（例、ポリカーボネート、ポリエステル、
ポリアリレート、ポリスルホン、ポリエーテルスルホ
ン）であっても、フイルム製造（例えば、溶液流延や溶
融押し出し）条件、あるいは縦、横方向の延伸条件を適
宜調節することによって、光学的等方性のフイルムを得
ることができる。
【００２４】透明支持体としては、ガラス板またはポリ
マーフイルムを用いることができる。ポリマーフイルム
が好ましい。フイルムを形成するポリマーの例には、ポ
リオレフィン（例、ポリエチレン）、ノルボルネン樹
脂、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタ
レート、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリスチ
レン（例、シンジオタクチックポリスチレン）、ポリア
リレート、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリ
塩化ビニル、ポリビニルアルコール、セルロースエステ
ル（例、セルロースアセテート）が含まれる。二種類以
上のポリマーを混合したフイルムを用いてもよい。市販
のポリマー（例、ゼオネックス、日本ゼオン（株）製；
ＡＲＴＯＮ、ＪＳＲ（株）製；フジタック（富士写真フ
イルム（株）製）を使用することもできる。透明支持体
は、偏光選択層（特に光吸収型偏光素子の偏光選択層）
の保護機能を有することが好ましい。保護機能の観点で
は、セルロールアセテートフイルムが好ましい。セルロ
ースアセテートの酢化度は、５５乃至６１．５％（セル
ロールジアセテートまたはセルローストリアセテート）
であることが好ましく、５９乃至６１％（セルロースト
リアセテート）であることがさらに好ましい。
マーフイルムを用いることができる。ポリマーフイルム
が好ましい。フイルムを形成するポリマーの例には、ポ
リオレフィン（例、ポリエチレン）、ノルボルネン樹
脂、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタ
レート、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリスチ
レン（例、シンジオタクチックポリスチレン）、ポリア
リレート、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリ
塩化ビニル、ポリビニルアルコール、セルロースエステ
ル（例、セルロースアセテート）が含まれる。二種類以
上のポリマーを混合したフイルムを用いてもよい。市販
のポリマー（例、ゼオネックス、日本ゼオン（株）製；
ＡＲＴＯＮ、ＪＳＲ（株）製；フジタック（富士写真フ
イルム（株）製）を使用することもできる。透明支持体
は、偏光選択層（特に光吸収型偏光素子の偏光選択層）
の保護機能を有することが好ましい。保護機能の観点で
は、セルロールアセテートフイルムが好ましい。セルロ
ースアセテートの酢化度は、５５乃至６１．５％（セル
ロールジアセテートまたはセルローストリアセテート）
であることが好ましく、５９乃至６１％（セルロースト
リアセテート）であることがさらに好ましい。
【００２５】セルローストリアセテートフイルムを透明
支持体として使用する場合、セルローストリアセテート
フイルムは、ハロゲン化炭化水素を溶媒として実質的に
使用せずに製造されたフイルムであることが好ましい。
従来のセルローストリアセテートフイルムは、一般にハ
ロゲン化炭化水素（特に塩化メチレン）を溶媒として製
造されていた。しかし、環境問題から、ハロゲン化炭化
水素の使用は徐々に制限されている。一方、ハロゲン化
炭化水素以外の有機溶媒では、セルローストリアセテー
トを溶解させることは困難であった。特開平９−９５５
３８号、同９−９５５４４号および同９−９５５５７号
の各公報には、冷却によってセルローストリアセテート
を通常の有機溶媒（炭素原子数３乃至１２のエステル、
エーテル、ケトンまたはアルコール）に溶解する方法が
開示されている。この方法を用いることで、ハロゲン化
炭化水素を溶媒として実質的に使用せずに製造されたセ
ルローストリアセテートフイルムを製造することができ
る。この「実質的に使用せずに」とは、溶媒中のハロゲ
ン化炭化水素の量が、５質量％以下（好ましくは１質量
％以下）であることを意味する。また、製造されたセル
ローストリアセテートフイルムから、ハロゲン化炭化水
素が全く検出されないことが好ましい。
支持体として使用する場合、セルローストリアセテート
フイルムは、ハロゲン化炭化水素を溶媒として実質的に
使用せずに製造されたフイルムであることが好ましい。
従来のセルローストリアセテートフイルムは、一般にハ
ロゲン化炭化水素（特に塩化メチレン）を溶媒として製
造されていた。しかし、環境問題から、ハロゲン化炭化
水素の使用は徐々に制限されている。一方、ハロゲン化
炭化水素以外の有機溶媒では、セルローストリアセテー
トを溶解させることは困難であった。特開平９−９５５
３８号、同９−９５５４４号および同９−９５５５７号
の各公報には、冷却によってセルローストリアセテート
を通常の有機溶媒（炭素原子数３乃至１２のエステル、
エーテル、ケトンまたはアルコール）に溶解する方法が
開示されている。この方法を用いることで、ハロゲン化
炭化水素を溶媒として実質的に使用せずに製造されたセ
ルローストリアセテートフイルムを製造することができ
る。この「実質的に使用せずに」とは、溶媒中のハロゲ
ン化炭化水素の量が、５質量％以下（好ましくは１質量
％以下）であることを意味する。また、製造されたセル
ローストリアセテートフイルムから、ハロゲン化炭化水
素が全く検出されないことが好ましい。
【００２６】透明支持体の厚みは、１０乃至５００μｍ
が好ましく、４０乃至２００μｍがさらに好ましい。透
明支持体に表面処理（例、化学処理、機械処理、コロナ
処理、グロー放電処理）を行ってもよい。化学処理とし
ては、ケン化処理が代表的である。透明支持体と、偏光
選択層のような隣接層とを密着性させるため、透明支持
体に下塗り層を設けることができる。セルローストリア
セテートフイルムを透明支持体として用いる場合は、下
塗り層を、ゼラチン、ポリ（メタ）アクリレート、ポリ
（メタ）アクリル酸エステル、ポリ（メタ）アクリルア
ミド、ポリスチレン、ポリブタジエンあるいはこれらの
共重合体から形成することができる。
が好ましく、４０乃至２００μｍがさらに好ましい。透
明支持体に表面処理（例、化学処理、機械処理、コロナ
処理、グロー放電処理）を行ってもよい。化学処理とし
ては、ケン化処理が代表的である。透明支持体と、偏光
選択層のような隣接層とを密着性させるため、透明支持
体に下塗り層を設けることができる。セルローストリア
セテートフイルムを透明支持体として用いる場合は、下
塗り層を、ゼラチン、ポリ（メタ）アクリレート、ポリ
（メタ）アクリル酸エステル、ポリ（メタ）アクリルア
ミド、ポリスチレン、ポリブタジエンあるいはこれらの
共重合体から形成することができる。
【００２７】（光学的等方性連続相）光散乱型偏光素子
は、所定の偏光を選択的に透過し、他の偏光を選択的に
反射または散乱する偏光選択層を有する。上記「所定の
偏光」と「他の偏光」とは、一般に偏光面が互いに直交
する。光散乱型偏光素子の偏光選択層は、光学的等方性
連続相と光学異方性不連続相とからなる。光学的等方性
連続相は偏光選択層の５乃至９５質量％であることが好
ましく、２０乃至９０質量％であることがさらに好まし
く、５０乃至８０質量％であることが最も好ましい。光
学的等方性連続相の「光学的等方性」とは、具体的に
は、光学的異方性が０．０５未満であることを意味する
（光学的異方性は、後述する光学的異方性不連続相につ
いて定義する）。
は、所定の偏光を選択的に透過し、他の偏光を選択的に
反射または散乱する偏光選択層を有する。上記「所定の
偏光」と「他の偏光」とは、一般に偏光面が互いに直交
する。光散乱型偏光素子の偏光選択層は、光学的等方性
連続相と光学異方性不連続相とからなる。光学的等方性
連続相は偏光選択層の５乃至９５質量％であることが好
ましく、２０乃至９０質量％であることがさらに好まし
く、５０乃至８０質量％であることが最も好ましい。光
学的等方性連続相の「光学的等方性」とは、具体的に
は、光学的異方性が０．０５未満であることを意味する
（光学的異方性は、後述する光学的異方性不連続相につ
いて定義する）。
【００２８】光学的等方性連続相は、ポリマーマトリッ
クスとして形成することができる。使用するポリマー
は、偏光選択層の形成段階（例えば、層の塗布液の状
態）からポリマーであってもよいし、偏光選択層の形成
段階ではモノマーであって、その後、重合によりポリマ
ーを形成してもよい。ポリマーとしては、光学的等方性
が高いポリマーを用いる。ただし、固有複屈折が比較的
大きいとされるポリマー（例、ポリカーボネート、ポリ
スチレン）であっても、添加剤により光学的等方性にす
ることで光学的等方性連続相に使用することもできる。
クスとして形成することができる。使用するポリマー
は、偏光選択層の形成段階（例えば、層の塗布液の状
態）からポリマーであってもよいし、偏光選択層の形成
段階ではモノマーであって、その後、重合によりポリマ
ーを形成してもよい。ポリマーとしては、光学的等方性
が高いポリマーを用いる。ただし、固有複屈折が比較的
大きいとされるポリマー（例、ポリカーボネート、ポリ
スチレン）であっても、添加剤により光学的等方性にす
ることで光学的等方性連続相に使用することもできる。
【００２９】なお、光散乱型偏光素子へ入射する光に対
する反射率を低下させることにより、バックライト光の
利用効率を向上させることができる。そのためには、光
学的等方性連続相を構成するポリマーマトリックスの平
均屈折率（ｎ）は１．７０以下であることが好ましく、
１．６以下であることがさらに好ましく、１．５５以下
であることが最も好ましい。ここで、平均屈折率（ｎ）
は下記式で表される。 ｎ＝（ｎｘ＋ｎｙ＋ｎｚ）／３ 式中、ｎｘは、面内の遅相軸方向の屈折率であり；ｎｙ
は、面内の進相軸方向の屈折率であり；そして、ｎｚ
は、厚み方向の屈折率である。
する反射率を低下させることにより、バックライト光の
利用効率を向上させることができる。そのためには、光
学的等方性連続相を構成するポリマーマトリックスの平
均屈折率（ｎ）は１．７０以下であることが好ましく、
１．６以下であることがさらに好ましく、１．５５以下
であることが最も好ましい。ここで、平均屈折率（ｎ）
は下記式で表される。 ｎ＝（ｎｘ＋ｎｙ＋ｎｚ）／３ 式中、ｎｘは、面内の遅相軸方向の屈折率であり；ｎｙ
は、面内の進相軸方向の屈折率であり；そして、ｎｚ
は、厚み方向の屈折率である。
【００３０】光学的等方性連続相に使用するポリマーの
例には、タンパク質（例、ゼラチン、カゼイン）、多糖
類（例、アガロース、セルロース、プルラン、カラギー
ナン、ポリガラクツロン酸、アルギン酸）、セルロース
エーテル、セルロースエステル（例、セルロースアセテ
ート、セルロースジアセテート、セルローストリアセテ
ート、セルロースプロピオネート、セルロースブチレー
ト、セルロースアセテートプロピオネート、セルロース
ニトレート）、ポリオレフィン（例、ポリエチレン、ポ
リプロピレン、ポリメチルペンテン）、ポリオレフィン
誘導体（例、ポリ塩化ビニル、ポリビニルアルコール、
変性ポリビニルアルコール、ノルボルネン樹脂）、ポリ
スチレン（例、シンジオタクチックポリスチレン）、ポ
リエステル（ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレ
ンナフタレート、ポリカーボネート、ポリ−１，４−シ
クロヘキサンジメチレンテレフタレート、ポリエチレン
−１，２−ジフェノキシエタン−４，４’−ジカルボキ
シレート、ポリブチレンテレフタレート）、ポリアミ
ド、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリアリレ
ート、ポリエーテルイミド、ポリエーテルケトン、ポリ
アクリル酸エステルおよびポリメタクリル酸エステル
（例、メチルメタクリレート）が含まれる。
例には、タンパク質（例、ゼラチン、カゼイン）、多糖
類（例、アガロース、セルロース、プルラン、カラギー
ナン、ポリガラクツロン酸、アルギン酸）、セルロース
エーテル、セルロースエステル（例、セルロースアセテ
ート、セルロースジアセテート、セルローストリアセテ
ート、セルロースプロピオネート、セルロースブチレー
ト、セルロースアセテートプロピオネート、セルロース
ニトレート）、ポリオレフィン（例、ポリエチレン、ポ
リプロピレン、ポリメチルペンテン）、ポリオレフィン
誘導体（例、ポリ塩化ビニル、ポリビニルアルコール、
変性ポリビニルアルコール、ノルボルネン樹脂）、ポリ
スチレン（例、シンジオタクチックポリスチレン）、ポ
リエステル（ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレ
ンナフタレート、ポリカーボネート、ポリ−１，４−シ
クロヘキサンジメチレンテレフタレート、ポリエチレン
−１，２−ジフェノキシエタン−４，４’−ジカルボキ
シレート、ポリブチレンテレフタレート）、ポリアミ
ド、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリアリレ
ート、ポリエーテルイミド、ポリエーテルケトン、ポリ
アクリル酸エステルおよびポリメタクリル酸エステル
（例、メチルメタクリレート）が含まれる。
【００３１】二種類以上のポリマーを混合して用いても
よい。市販のポリマー（例、ゼオネックス、日本ゼオン
（株）製；ＡＲＴＯＮ、ＪＳＲ（株）製；フジタック
（富士写真フイルム（株）製）を使用することもでき
る。光学的等方性連続相のポリマーを形成するためのモ
ノマーは、熱または電離放射線照射により重合すること
が好ましい。モノマーの重合性基の例には、エチレン性
不飽和二重結合、イソシアナート基、エポキシ基、アジ
リジン基、オキサゾリン基、アルデヒド基、カルボニル
基、ヒドラジン基、カルボキシル基、メチロール基、活
性メチレン基、ビニルスルホ基、酸無水結合（−ＣＯ−
Ｏ−ＣＯ−）、シアノアクリレート基、メラミン、エー
テル化メチロール、エステル結合、、ウレタン結合およ
び金属アルコキシド（テトラメトキシシラン）構造が含
まれる。エチレン性不飽和二重結合が好ましい。二個以
上のエチレン性不飽和重合性基を有するモノマーを用い
て、架橋構造を有するポリマーを形成することが特に好
ましい。
よい。市販のポリマー（例、ゼオネックス、日本ゼオン
（株）製；ＡＲＴＯＮ、ＪＳＲ（株）製；フジタック
（富士写真フイルム（株）製）を使用することもでき
る。光学的等方性連続相のポリマーを形成するためのモ
ノマーは、熱または電離放射線照射により重合すること
が好ましい。モノマーの重合性基の例には、エチレン性
不飽和二重結合、イソシアナート基、エポキシ基、アジ
リジン基、オキサゾリン基、アルデヒド基、カルボニル
基、ヒドラジン基、カルボキシル基、メチロール基、活
性メチレン基、ビニルスルホ基、酸無水結合（−ＣＯ−
Ｏ−ＣＯ−）、シアノアクリレート基、メラミン、エー
テル化メチロール、エステル結合、、ウレタン結合およ
び金属アルコキシド（テトラメトキシシラン）構造が含
まれる。エチレン性不飽和二重結合が好ましい。二個以
上のエチレン性不飽和重合性基を有するモノマーを用い
て、架橋構造を有するポリマーを形成することが特に好
ましい。
【００３２】二個以上のエチレン性不飽和結合を有する
モノマーの例には、多価アルコールと（メタ）アクリル
酸とのエステル（例、エチレングリコールジ（メタ）ア
クリレート、１，４−ジクロヘキサンジアクリレート、
ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート）、
ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリ
メチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメ
チロールエタントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエ
リスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエ
リスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ペンタエリ
スリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，３，５−
シクロヘキサントリオールトリアクリレート、ポリウレ
タンポリアクリレート、ポリエステルポリアクリレー
ト）、ビニルベンゼンおよびその誘導体（例、１，４−
ジビニルベンゼン、４−ビニル安息香酸−２−アクリロ
イルエチルエステル、１，４−ジビニルシクロヘキサノ
ン）、ビニルスルホン（例、ジビニルスルホン）、アク
リルアミド（例、メチレンビスアクリルアミド）および
メタクリルアミドが含まれる。
モノマーの例には、多価アルコールと（メタ）アクリル
酸とのエステル（例、エチレングリコールジ（メタ）ア
クリレート、１，４−ジクロヘキサンジアクリレート、
ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート）、
ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリ
メチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメ
チロールエタントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエ
リスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエ
リスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ペンタエリ
スリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，３，５−
シクロヘキサントリオールトリアクリレート、ポリウレ
タンポリアクリレート、ポリエステルポリアクリレー
ト）、ビニルベンゼンおよびその誘導体（例、１，４−
ジビニルベンゼン、４−ビニル安息香酸−２−アクリロ
イルエチルエステル、１，４−ジビニルシクロヘキサノ
ン）、ビニルスルホン（例、ジビニルスルホン）、アク
リルアミド（例、メチレンビスアクリルアミド）および
メタクリルアミドが含まれる。
【００３３】（光学的異方性不連続相）光学的異方性不
連続相は偏光選択層の３質量％以上であることが好まし
く、４質量％以上であることがより好ましく、５質量％
以上であることがさらに好ましく、１０質量％以上であ
ることがさらにまた好ましく、２０質量％以上であるこ
とが最も好ましい。光学的異方性不連続相は偏光選択層
の９５質量％以下であることが好ましく、８０質量％以
下であることがより好ましく、６０質量％以下であるこ
とがさらに好ましく、５０質量％以下であることがさら
にまた好ましく、４０質量％以下であることが最も好ま
しい。光学的異方性不連続相の「光学的異方性」とは、
具体的には、光学的異方性が０．０５以上であることを
意味する。光学的異方性は、偏光選択層の全光線透過率
が最大となる偏光の偏光面を含む軸方向の屈折率（ｎ
１）と全光線透過率が最小となる偏光の偏光面を含む軸
方向の屈折率（ｎ２）との差の絶対値である複屈折（｜
ｎ１−ｎ２｜）に相当する。光学的異方性は、０．０５
乃至１．００であることが好ましく、０．１０乃至１．
００であることがさらに好ましく、０．１５乃至１．０
０であることが最も好ましい。
連続相は偏光選択層の３質量％以上であることが好まし
く、４質量％以上であることがより好ましく、５質量％
以上であることがさらに好ましく、１０質量％以上であ
ることがさらにまた好ましく、２０質量％以上であるこ
とが最も好ましい。光学的異方性不連続相は偏光選択層
の９５質量％以下であることが好ましく、８０質量％以
下であることがより好ましく、６０質量％以下であるこ
とがさらに好ましく、５０質量％以下であることがさら
にまた好ましく、４０質量％以下であることが最も好ま
しい。光学的異方性不連続相の「光学的異方性」とは、
具体的には、光学的異方性が０．０５以上であることを
意味する。光学的異方性は、偏光選択層の全光線透過率
が最大となる偏光の偏光面を含む軸方向の屈折率（ｎ
１）と全光線透過率が最小となる偏光の偏光面を含む軸
方向の屈折率（ｎ２）との差の絶対値である複屈折（｜
ｎ１−ｎ２｜）に相当する。光学的異方性は、０．０５
乃至１．００であることが好ましく、０．１０乃至１．
００であることがさらに好ましく、０．１５乃至１．０
０であることが最も好ましい。
【００３４】光学フイルムが、光散乱型偏光素子として
機能するためには、光学的異方性不連続相の二つの屈折
率（ｎ１およびｎ２）の一方が、光学的等方性連続相の
屈折率と実質的に等しい（具体的には、差が０．０５未
満の）値となることが必要である。屈折率の差は、０．
０１未満であることが好ましく、０．００１未満である
ことがさらに好ましい。連続相と不連続相の屈折率が実
質的に等しい値となる方向が、偏光選択層の透過軸に相
当する。光学的異方性不連続相は、粒子または液滴の状
態で、光学的等方性連続相中に分散している。粒子また
は液滴の平均粒径（粒子または液滴の平面領域をほぼ同
面積の円で近似した近似円形の平均径）は、０．０１乃
至１０μｍであることが好ましく、０．０５乃至５μｍ
であることがさらに好ましく、０．０５乃至１μｍであ
ることが最も好ましい。粒子または液滴の形状について
は、特に制限はない。実質的に球状（平均アスペクト比
が２以下）であっても、表面積が大きな不定形であって
もよい。
機能するためには、光学的異方性不連続相の二つの屈折
率（ｎ１およびｎ２）の一方が、光学的等方性連続相の
屈折率と実質的に等しい（具体的には、差が０．０５未
満の）値となることが必要である。屈折率の差は、０．
０１未満であることが好ましく、０．００１未満である
ことがさらに好ましい。連続相と不連続相の屈折率が実
質的に等しい値となる方向が、偏光選択層の透過軸に相
当する。光学的異方性不連続相は、粒子または液滴の状
態で、光学的等方性連続相中に分散している。粒子また
は液滴の平均粒径（粒子または液滴の平面領域をほぼ同
面積の円で近似した近似円形の平均径）は、０．０１乃
至１０μｍであることが好ましく、０．０５乃至５μｍ
であることがさらに好ましく、０．０５乃至１μｍであ
ることが最も好ましい。粒子または液滴の形状について
は、特に制限はない。実質的に球状（平均アスペクト比
が２以下）であっても、表面積が大きな不定形であって
もよい。
【００３５】光学的異方性不連続相は、光学的異方性物
質を用いて形成する。光学的異方性は、偏光選択層の形
成後に、一定方向からの光照射により光学的異方性物質
に発現（配向）させることが好ましい。光学的異方性物
質としては、光配向性化合物（光反応性化合物または光
異性化化合物）、液晶性化合物あるいは光配向性化合物
と液晶性化合物との混合物が好ましく用いられる。光配
向性化合物および光配向性化合物と液晶性化合物との混
合物は、一定方向からの光照射により光学的異方性を発
現させることができる。液晶性化合物自身が光配向性を
有して光の方向に自発的に並ぶ（液晶性化合物が後述す
る光異性化基あるいは光反応性基を有する）場合は、液
晶性化合物のみでも一定方向からの光照射により光学的
異方性を発現させることができる。
質を用いて形成する。光学的異方性は、偏光選択層の形
成後に、一定方向からの光照射により光学的異方性物質
に発現（配向）させることが好ましい。光学的異方性物
質としては、光配向性化合物（光反応性化合物または光
異性化化合物）、液晶性化合物あるいは光配向性化合物
と液晶性化合物との混合物が好ましく用いられる。光配
向性化合物および光配向性化合物と液晶性化合物との混
合物は、一定方向からの光照射により光学的異方性を発
現させることができる。液晶性化合物自身が光配向性を
有して光の方向に自発的に並ぶ（液晶性化合物が後述す
る光異性化基あるいは光反応性基を有する）場合は、液
晶性化合物のみでも一定方向からの光照射により光学的
異方性を発現させることができる。
【００３６】光配向性化合物（光反応性化合物または光
異性化化合物）は、ポリマー、すなわち光反応性ポリマ
ーまたは光異性化ポリマーであることが好ましい。光反
応性ポリマーは、さらに光二量化ポリマーと光分解ポリ
マーとに分類できる。光二量化ポリマーは、光二量化型
の感光性基を側鎖に有する。光二量化型感光性基は、光
（好ましくは紫外線）の照射によって、二つの基の間に
付加反応を起こして環化する官能基である。この付加反
応により、ポリマーが二量化する。光二量化反応につい
ては、永松乾「感光性高分子」（講談社、１９７７）に
記載がある。
異性化化合物）は、ポリマー、すなわち光反応性ポリマ
ーまたは光異性化ポリマーであることが好ましい。光反
応性ポリマーは、さらに光二量化ポリマーと光分解ポリ
マーとに分類できる。光二量化ポリマーは、光二量化型
の感光性基を側鎖に有する。光二量化型感光性基は、光
（好ましくは紫外線）の照射によって、二つの基の間に
付加反応を起こして環化する官能基である。この付加反
応により、ポリマーが二量化する。光二量化反応につい
ては、永松乾「感光性高分子」（講談社、１９７７）に
記載がある。
【００３７】光二量化型感光性基は、（ａ）カルボニル
基または（ｂ）エチレン不飽和結合と（ｃ）芳香族基ま
たは（ｄ）複素環基とを有することが好ましい。（ａ）
カルボニル基と（ｂ）エチレン不飽和結合の双方を有す
ることが好ましい。また、（ｄ）複素環基よりも（ｃ）
芳香族基の方が好ましい。従って、光二量化型感光性基
は、（ａ）カルボニル基、（ｂ）エチレン不飽和結合お
よび（ｃ）芳香族基を有する官能基であることが好まし
い。 （ａ）カルボニル基は、アシル基、アシルオキシ基また
はアルコキシカルボニル基に含まれていることが好まし
い。 （ｂ）エチレン性不飽和結合は、シス型よりもトランス
型の方が好ましい。複数のエチレン不飽和結合が含まれ
る場合、それらは共役していることが好ましい。
基または（ｂ）エチレン不飽和結合と（ｃ）芳香族基ま
たは（ｄ）複素環基とを有することが好ましい。（ａ）
カルボニル基と（ｂ）エチレン不飽和結合の双方を有す
ることが好ましい。また、（ｄ）複素環基よりも（ｃ）
芳香族基の方が好ましい。従って、光二量化型感光性基
は、（ａ）カルボニル基、（ｂ）エチレン不飽和結合お
よび（ｃ）芳香族基を有する官能基であることが好まし
い。 （ａ）カルボニル基は、アシル基、アシルオキシ基また
はアルコキシカルボニル基に含まれていることが好まし
い。 （ｂ）エチレン性不飽和結合は、シス型よりもトランス
型の方が好ましい。複数のエチレン不飽和結合が含まれ
る場合、それらは共役していることが好ましい。
【００３８】（ａ）カルボニル基、（ｂ）エチレン不飽
和結合および（ｃ）芳香族基を有する官能基では、主鎖
−（ａ）−（ｂ）−（ｃ）の順序で結合していることが
好ましい。上記（ａ）、（ｂ）および（ｃ）を有する官
能基の例には、シンナモイルおよびフェニルマレイミド
が含まれる。シンナモイル基を有する化合物について
は、Jpn.J.Appl.Phys.,31,P.2155(1992)に記載がある。
光二量化ポリマーの主鎖と側鎖とはエステル結合で結合
し、（ａ）カルボニル基はエステル結合に含まれている
ことが好ましい。
和結合および（ｃ）芳香族基を有する官能基では、主鎖
−（ａ）−（ｂ）−（ｃ）の順序で結合していることが
好ましい。上記（ａ）、（ｂ）および（ｃ）を有する官
能基の例には、シンナモイルおよびフェニルマレイミド
が含まれる。シンナモイル基を有する化合物について
は、Jpn.J.Appl.Phys.,31,P.2155(1992)に記載がある。
光二量化ポリマーの主鎖と側鎖とはエステル結合で結合
し、（ａ）カルボニル基はエステル結合に含まれている
ことが好ましい。
【００３９】（ｂ）エチレン不飽和結合、（ｃ）芳香族
基および（ｄ）複素環基は、置換基を有していてもよ
い。置換基の例には、アルキル基（例、メチル、エチ
ル、プロピル、ブチル、ヘキシル）、アルコキシ基
（例、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ）、
アルケニル基（例、アリル）、アルケニルオキシ基
（例、アリルオキシ）、アリール基（例、フェニル）、
アリールオキシ基（例、フェノキシ）、シアノ、アルコ
キシカルボニル基（例、メトキシカルボニル基、エトキ
シカルボニル基）、ヒドロキシ、アルキル置換アミノ基
（例、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ）およびニトロ
が含まれる。置換基としては、炭素原子数が１乃至６の
アルキル基、炭素原子数が１乃至６のアルコキシ基、シ
アノ基、炭素原子数が１乃至６のアルコキシカルボニル
基が好ましい。
基および（ｄ）複素環基は、置換基を有していてもよ
い。置換基の例には、アルキル基（例、メチル、エチ
ル、プロピル、ブチル、ヘキシル）、アルコキシ基
（例、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ）、
アルケニル基（例、アリル）、アルケニルオキシ基
（例、アリルオキシ）、アリール基（例、フェニル）、
アリールオキシ基（例、フェノキシ）、シアノ、アルコ
キシカルボニル基（例、メトキシカルボニル基、エトキ
シカルボニル基）、ヒドロキシ、アルキル置換アミノ基
（例、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ）およびニトロ
が含まれる。置換基としては、炭素原子数が１乃至６の
アルキル基、炭素原子数が１乃至６のアルコキシ基、シ
アノ基、炭素原子数が１乃至６のアルコキシカルボニル
基が好ましい。
【００４０】光二量化型感光性基を側鎖に有する光二量
化ポリマーは、様々な方法で合成できる。例えば、感光
性基と重合性基とを有する化合物（モノマー）を重合さ
せることにより、ポリマーを合成することができる。重
合性基としては、アクリロイル基またはメタクリロイル
基が好ましい。（メタ）アクリロイル基は、ラジカル重
合反応によって、容易にポリマーを合成できる。また、
ヒドロキシ、カルボキシル、アミノあるいはシアネート
のような重合性基の縮重合反応によるポリエステル、ポ
リアミド、ポリイミドあるいはポリウレタンであっても
よい。これらの縮重合の場合は、モノマー中に少なくと
も二つの重合性基が必要である。また、感光性基を有す
る化合物と、ポリマーとを反応させて、感光性基を有す
ポリマーを得ることもできる。感光性基を有する化合物
と反応させるポリマーとしては、ポリビニルアルコール
およびポリ（メタ）アクリル酸が好ましい。ポリマー
（主鎖）と化合物（側鎖）との結合は、エーテル結合、
エステル結合またはアミド結合であることが好ましい。
代表的な光二量化ポリマーは、ポリビニルシンナメート
である。
化ポリマーは、様々な方法で合成できる。例えば、感光
性基と重合性基とを有する化合物（モノマー）を重合さ
せることにより、ポリマーを合成することができる。重
合性基としては、アクリロイル基またはメタクリロイル
基が好ましい。（メタ）アクリロイル基は、ラジカル重
合反応によって、容易にポリマーを合成できる。また、
ヒドロキシ、カルボキシル、アミノあるいはシアネート
のような重合性基の縮重合反応によるポリエステル、ポ
リアミド、ポリイミドあるいはポリウレタンであっても
よい。これらの縮重合の場合は、モノマー中に少なくと
も二つの重合性基が必要である。また、感光性基を有す
る化合物と、ポリマーとを反応させて、感光性基を有す
ポリマーを得ることもできる。感光性基を有する化合物
と反応させるポリマーとしては、ポリビニルアルコール
およびポリ（メタ）アクリル酸が好ましい。ポリマー
（主鎖）と化合物（側鎖）との結合は、エーテル結合、
エステル結合またはアミド結合であることが好ましい。
代表的な光二量化ポリマーは、ポリビニルシンナメート
である。
【００４１】光二量化ポリマーを用いる代わりに、感光
性基を有する化合物をポリマー（バインダー）中に分散
して用いてもよい。バインダーとして用いるポリマー
は、（メタ）アクリル系ポリマー、ポリエステルまたは
ポリウレタンであることが好ましい。感光性基を有する
化合物をバインダー中に分散してから、重合開始剤を用
いて重合させてもよい。光分解ポリマーの例には、ポリ
イミドが含まれる。光分解型ポリイミドについては、特
開平５−３４６９９号、同６−２８９３９９号、同８−
１２２７９２号の各公報および第２２回液晶討論会講演
予稿集、１６７２頁Ａ１７(1996)に記載がある。光分解
ポリマーよりも光二量化ポリマーの方が好ましい。
性基を有する化合物をポリマー（バインダー）中に分散
して用いてもよい。バインダーとして用いるポリマー
は、（メタ）アクリル系ポリマー、ポリエステルまたは
ポリウレタンであることが好ましい。感光性基を有する
化合物をバインダー中に分散してから、重合開始剤を用
いて重合させてもよい。光分解ポリマーの例には、ポリ
イミドが含まれる。光分解型ポリイミドについては、特
開平５−３４６９９号、同６−２８９３９９号、同８−
１２２７９２号の各公報および第２２回液晶討論会講演
予稿集、１６７２頁Ａ１７(1996)に記載がある。光分解
ポリマーよりも光二量化ポリマーの方が好ましい。
【００４２】光異性化化合物は、一般にフォトクロミッ
ク化合物として知られている。光異性化化合物は、光の
作用で化学構造に変化が生じ、それにより光に対する挙
動（例えば色調）も変化する化合物である。一般に、そ
れらの変化は可逆的である。光異性化化合物には、アゾ
ベンゼン化合物（K. Ichimura et al., Langmuir,vol.
4, page 1214 (1988)；K. Aoki et al., Langmuir, vo
l. 8, page 1007 (1992)；Y. Suzuki et al., Langmui
r, vol. 8, page 2601 (1992)；K. Ichimuraet al., Ap
pl. Phys. Lett., vol. 63, No. 4, page 449 (1993)；
N. Ishizuki,Langmuir, vol. 9, page 3298 (1993) ；
N. Ishizuki, Langmuir, vol. 9, page 857 (1993)）、
カルコン化合物（Nature,381,P.212(1998)）、クマリン
化合物（SID'98.Digest,P.734(1998)）、ヒドラゾノ−
β−ケトエステル化合物（S. Yamamura et al., Liquid
Crystals, vol. 13, No. 2, page 189 (1993)）、スチ
ルベン化合物（市村國宏他、高分子論文集、第４７巻、
１０号、７７１頁(1990)）およびスピロピラン化合物
（K. Ichimura et al., Chemistry Letters, page1063
(1992) ；K. Ichimura et al., Thin Solid Films, vo
l. 235, page 101 (1993) ）が含まれる。
ク化合物として知られている。光異性化化合物は、光の
作用で化学構造に変化が生じ、それにより光に対する挙
動（例えば色調）も変化する化合物である。一般に、そ
れらの変化は可逆的である。光異性化化合物には、アゾ
ベンゼン化合物（K. Ichimura et al., Langmuir,vol.
4, page 1214 (1988)；K. Aoki et al., Langmuir, vo
l. 8, page 1007 (1992)；Y. Suzuki et al., Langmui
r, vol. 8, page 2601 (1992)；K. Ichimuraet al., Ap
pl. Phys. Lett., vol. 63, No. 4, page 449 (1993)；
N. Ishizuki,Langmuir, vol. 9, page 3298 (1993) ；
N. Ishizuki, Langmuir, vol. 9, page 857 (1993)）、
カルコン化合物（Nature,381,P.212(1998)）、クマリン
化合物（SID'98.Digest,P.734(1998)）、ヒドラゾノ−
β−ケトエステル化合物（S. Yamamura et al., Liquid
Crystals, vol. 13, No. 2, page 189 (1993)）、スチ
ルベン化合物（市村國宏他、高分子論文集、第４７巻、
１０号、７７１頁(1990)）およびスピロピラン化合物
（K. Ichimura et al., Chemistry Letters, page1063
(1992) ；K. Ichimura et al., Thin Solid Films, vo
l. 235, page 101 (1993) ）が含まれる。
【００４３】Ｃ＝Ｃ、Ｃ＝ＮまたはＮ＝Ｎからなる二重
結合構造を含む光異性化化合物が、特に好ましい。二重
結合構造を有するフォトクロミック化合物は、下記
（１）および（２）の必須要素と、下記（３）〜（５）
の任意要素からなる。 （１）Ｃ＝Ｃ、Ｃ＝ＮまたはＮ＝Ｎからなる二重結合構
造 （２）上記（１）の結合の両側に（直結しなくてもよ
く）存在する環状構造 （３）任意の（１）と（２）との間の連結基 （４）任意の（１）の炭素原子の置換基 （５）任意の（２）の環状構造の置換基
結合構造を含む光異性化化合物が、特に好ましい。二重
結合構造を有するフォトクロミック化合物は、下記
（１）および（２）の必須要素と、下記（３）〜（５）
の任意要素からなる。 （１）Ｃ＝Ｃ、Ｃ＝ＮまたはＮ＝Ｎからなる二重結合構
造 （２）上記（１）の結合の両側に（直結しなくてもよ
く）存在する環状構造 （３）任意の（１）と（２）との間の連結基 （４）任意の（１）の炭素原子の置換基 （５）任意の（２）の環状構造の置換基
【００４４】上記（１）の二重結合構造は、シス型より
もトランス型が好ましい。二重結合構造は、分子内に二
つ以上存在していてもよい。複数の二重結合構造は、共
役の関係にあることが好ましい。上記（２）の環状構造
の例には、ベンゼン環、ナフタレン環および含窒素複素
環（例、ピリジニウム環、ベンゾピリジニウム環）が含
まれる。含窒素複素環の場合、環を構成する（窒素原子
ではなく）炭素原子が（１）の二重結合構造の炭素原子
または窒素原子と結合することが好ましい。ベンゼン環
が特に好ましい。
もトランス型が好ましい。二重結合構造は、分子内に二
つ以上存在していてもよい。複数の二重結合構造は、共
役の関係にあることが好ましい。上記（２）の環状構造
の例には、ベンゼン環、ナフタレン環および含窒素複素
環（例、ピリジニウム環、ベンゾピリジニウム環）が含
まれる。含窒素複素環の場合、環を構成する（窒素原子
ではなく）炭素原子が（１）の二重結合構造の炭素原子
または窒素原子と結合することが好ましい。ベンゼン環
が特に好ましい。
【００４５】上記（３）の連結基の例には、−ＮＨ−お
よび−ＣＯ−が含まれる。ただし、（３）の連結基がな
く、（１）と（２）とが直結していることが好ましい。
上記（４）の置換基の例には、アリール基（例、フェニ
ル）およびシアノが含まれる。ただし、（４）の置換基
がなく、二重結合構造に含まれる炭素原子が、（２）と
の結合以外は無置換（−ＣＨ＝ＣＨ−または−ＣＨ＝Ｎ
−）であることが好ましい。
よび−ＣＯ−が含まれる。ただし、（３）の連結基がな
く、（１）と（２）とが直結していることが好ましい。
上記（４）の置換基の例には、アリール基（例、フェニ
ル）およびシアノが含まれる。ただし、（４）の置換基
がなく、二重結合構造に含まれる炭素原子が、（２）と
の結合以外は無置換（−ＣＨ＝ＣＨ−または−ＣＨ＝Ｎ
−）であることが好ましい。
【００４６】上記（５）の置換基の例には、アルコキシ
基（例、メトキシ、ヘキシルオキシ）、シアノ、アルキ
ル基（例、ブチル、ヘキシル）およびアルキルアミノ基
（例、ジメチルアミノ）を挙げることができる。（２）
の環状構造がベンゼン環の場合、パラ位に置換基が結合
することが好ましい。なお、後述するように、フォトク
ロミック化合物をポリマーに化学的結合させて使用する
場合は、ポリマーに化学的結合させるための官能基を、
（５）の置換基として光異性化化合物に導入する。
基（例、メトキシ、ヘキシルオキシ）、シアノ、アルキ
ル基（例、ブチル、ヘキシル）およびアルキルアミノ基
（例、ジメチルアミノ）を挙げることができる。（２）
の環状構造がベンゼン環の場合、パラ位に置換基が結合
することが好ましい。なお、後述するように、フォトク
ロミック化合物をポリマーに化学的結合させて使用する
場合は、ポリマーに化学的結合させるための官能基を、
（５）の置換基として光異性化化合物に導入する。
【００４７】光異性化化合物は、ポリマーに化学的に結
合させて用いることが好ましい。使用するポリマーは、
親水性ポリマー（例、ゼラチン、ポリビニルアルコー
ル）であることが好ましい。ポリビニルアルコールが特
に好ましく用いられる。光異性化化合物とポリマーとの
反応は、ポリマーの種類（特に官能基の種類）に応じて
決定する。ポリビニルアルコールのような水酸基を有す
るポリマーの場合は、酸ハライドと水酸基との反応を利
用して、光異性化化合物をポリマーと結合させることが
できる。具体的には、ハロゲン化アシル基（−ＣＯＸ、
Ｘはハロゲン）を、光異性化化合物に置換基として導入
し、ハロゲン化アシル基とポリマーの水酸基との反応
（Ｐｈ−ＣＯＸ＋ＨＯ−Ｐｌ→Ｐｈ−ＣＯ−Ｏ−Ｐｌ＋
ＨＸ、Ｐｈは光異性化化合物、Ｐｌはポリマーの主鎖）
により化学的に結合させる。
合させて用いることが好ましい。使用するポリマーは、
親水性ポリマー（例、ゼラチン、ポリビニルアルコー
ル）であることが好ましい。ポリビニルアルコールが特
に好ましく用いられる。光異性化化合物とポリマーとの
反応は、ポリマーの種類（特に官能基の種類）に応じて
決定する。ポリビニルアルコールのような水酸基を有す
るポリマーの場合は、酸ハライドと水酸基との反応を利
用して、光異性化化合物をポリマーと結合させることが
できる。具体的には、ハロゲン化アシル基（−ＣＯＸ、
Ｘはハロゲン）を、光異性化化合物に置換基として導入
し、ハロゲン化アシル基とポリマーの水酸基との反応
（Ｐｈ−ＣＯＸ＋ＨＯ−Ｐｌ→Ｐｈ−ＣＯ−Ｏ−Ｐｌ＋
ＨＸ、Ｐｈは光異性化化合物、Ｐｌはポリマーの主鎖）
により化学的に結合させる。
【００４８】光配向性化合物（光反応性化合物または光
異性化化合物）は、光配向性官能基として、アゾベンゼ
ン構造、スチルベン構造、シンナモイル基、カルコン構
造、クマリン構造またはポリイミド構造を有することが
好ましく、アゾベンゼン構造、スチルベン構造、シンナ
モイル基、カルコン構造またはクマリン構造を有するこ
とがさらに好ましく、シンナモイル構造、カルコン構造
またはクマリン構造を有することが特に好ましい。光配
向性化合物と液晶性化合物とを併用する場合は、光学的
異方性不連続相に、光配向性化合物が０．０５乃至１０
質量％含まれることが好ましく、０．１乃至５質量％含
まれることがさらに好ましい。以下に光配向性化合物の
例を、ポリマーの繰り返し単位として示す。ポリマーと
しては、他の繰り返し単位を含むコポリマーを用いても
よい。
異性化化合物）は、光配向性官能基として、アゾベンゼ
ン構造、スチルベン構造、シンナモイル基、カルコン構
造、クマリン構造またはポリイミド構造を有することが
好ましく、アゾベンゼン構造、スチルベン構造、シンナ
モイル基、カルコン構造またはクマリン構造を有するこ
とがさらに好ましく、シンナモイル構造、カルコン構造
またはクマリン構造を有することが特に好ましい。光配
向性化合物と液晶性化合物とを併用する場合は、光学的
異方性不連続相に、光配向性化合物が０．０５乃至１０
質量％含まれることが好ましく、０．１乃至５質量％含
まれることがさらに好ましい。以下に光配向性化合物の
例を、ポリマーの繰り返し単位として示す。ポリマーと
しては、他の繰り返し単位を含むコポリマーを用いても
よい。
【００４９】
【化１】
【００５０】
【化２】
【００５１】液晶性化合物は、π共役が３個以上結合し
た化合物であることが好ましい。光学的異方性を満足す
るためには、常光屈折率と異常光屈折率との差が大きな
液晶性化合物を用いることが好ましい。室温でネマチッ
ク相もしくはスメクティック相を示す液晶性化合物が好
ましい。棒状液晶性化合物を用いることが特に好まし
い。棒状液晶性化合物としては、アゾメチン類、アゾキ
シ類、シアノビフェニル類、シアノフェニルエステル
類、安息香酸エステル類、シクロヘキサンカルボン酸フ
ェニルエステル類、シアノフェニルシクロヘキサン類、
シアノ置換フェニルピリミジン類、アルコキシ置換フェ
ニルピリミジン類、フェニルジオキサン類、トラン類お
よびアルケニルシクロヘキシルベンゾニトリル類が好ま
しい。なお、棒状液晶性化合物には、金属錯体も含まれ
る。
た化合物であることが好ましい。光学的異方性を満足す
るためには、常光屈折率と異常光屈折率との差が大きな
液晶性化合物を用いることが好ましい。室温でネマチッ
ク相もしくはスメクティック相を示す液晶性化合物が好
ましい。棒状液晶性化合物を用いることが特に好まし
い。棒状液晶性化合物としては、アゾメチン類、アゾキ
シ類、シアノビフェニル類、シアノフェニルエステル
類、安息香酸エステル類、シクロヘキサンカルボン酸フ
ェニルエステル類、シアノフェニルシクロヘキサン類、
シアノ置換フェニルピリミジン類、アルコキシ置換フェ
ニルピリミジン類、フェニルジオキサン類、トラン類お
よびアルケニルシクロヘキシルベンゾニトリル類が好ま
しい。なお、棒状液晶性化合物には、金属錯体も含まれ
る。
【００５２】棒状液晶性化合物については、季刊化学総
説第２２巻液晶の化学（１９９４年）日本化学会編の第
４章、第７章および第１１章、および液晶デバイスハン
ドブック日本学術振興会第１４２委員会編の第３章に記
載がある。棒状液晶性化合物の固有複屈折は、０．００
１以上であることが好ましく、０．０５以上であること
がさらに好ましく、０．１０以上であることが最も好ま
しい。固有複屈折は、１．００以下であることが好まし
く、０．７０以下であることがさらに好ましい。棒状液
晶性化合物は、重合性基（重合架橋性基を含む）を有す
ることが好ましい。重合性基としては、不飽和重合性
基、エポキシ基またはアジリジニル基が好ましく、不飽
和重合性基がさらに好ましく、エチレン性不飽和重合性
基が最も好ましい。棒状液晶性化合物は、短軸方向に対
してほぼ対称となる分子構造を有することが好ましい。
そのためには、棒状分子構造の両端に重合性基を有する
ことが好ましい。以下に、棒状液晶性化合物の例を示
す。
説第２２巻液晶の化学（１９９４年）日本化学会編の第
４章、第７章および第１１章、および液晶デバイスハン
ドブック日本学術振興会第１４２委員会編の第３章に記
載がある。棒状液晶性化合物の固有複屈折は、０．００
１以上であることが好ましく、０．０５以上であること
がさらに好ましく、０．１０以上であることが最も好ま
しい。固有複屈折は、１．００以下であることが好まし
く、０．７０以下であることがさらに好ましい。棒状液
晶性化合物は、重合性基（重合架橋性基を含む）を有す
ることが好ましい。重合性基としては、不飽和重合性
基、エポキシ基またはアジリジニル基が好ましく、不飽
和重合性基がさらに好ましく、エチレン性不飽和重合性
基が最も好ましい。棒状液晶性化合物は、短軸方向に対
してほぼ対称となる分子構造を有することが好ましい。
そのためには、棒状分子構造の両端に重合性基を有する
ことが好ましい。以下に、棒状液晶性化合物の例を示
す。
【００５３】
【化３】
【００５４】
【化４】
【００５５】
【化５】
【００５６】
【化６】
【００５７】
【化７】
【００５８】
【化８】
【００５９】
【化９】
【００６０】
【化１０】
【００６１】
【化１１】
【００６２】
【化１２】
【００６３】
【化１３】
【００６４】
【化１４】
【００６５】
【化１５】
【００６６】二種類以上の光反応性化合物、光異性化化
合物または液晶性化合物を併用できる。光学的異方性不
連続相には、光反応性化合物、光異性化化合物または液
晶性化合物に加えて、可塑剤、ポリマーバインダーある
いは光重合開始剤を、必要に応じて添加することができ
る。可塑剤は、重合性を有することが好ましい。
合物または液晶性化合物を併用できる。光学的異方性不
連続相には、光反応性化合物、光異性化化合物または液
晶性化合物に加えて、可塑剤、ポリマーバインダーある
いは光重合開始剤を、必要に応じて添加することができ
る。可塑剤は、重合性を有することが好ましい。
【００６７】（光散乱型偏光素子の偏光選択層形成）光
散乱型偏光素子の偏光選択層は、下記（Ｉ）〜（III)の
順序で形成できる。 （Ｉ）光学的等方性連続相の材料（一般にポリマー溶
液）中に、光学的異方性不連続相の材料を、乳化または
分散する。 （II）得られた塗布液を支持体上に塗布および乾燥す
る。 （III)一定方向から光を照射することで、光学的異方性
不連続相の光学的異方性を発現（液晶性化合物ならば配
向）させる。
散乱型偏光素子の偏光選択層は、下記（Ｉ）〜（III)の
順序で形成できる。 （Ｉ）光学的等方性連続相の材料（一般にポリマー溶
液）中に、光学的異方性不連続相の材料を、乳化または
分散する。 （II）得られた塗布液を支持体上に塗布および乾燥す
る。 （III)一定方向から光を照射することで、光学的異方性
不連続相の光学的異方性を発現（液晶性化合物ならば配
向）させる。
【００６８】（Ｉ）の乳化または分散は、攪拌機（例、
ホモジナイザー）あるいは混練機（例、サンドミル、コ
ロイドミル）を用いることが好ましい。界面活性剤を添
加して、光学的異方性不連続相の粒径を微細かつ均一に
調節してもよい。また、界面活性剤により光学的異方性
不連続相の分散安定性を改善することもできる。界面活
性剤は、光学的等方性連続相の溶媒が水である場合（光
学的等方性連続相のポリマーが水溶性である場合）に特
に有効である。ノニオン界面活性剤、アニオン界面活性
剤、カチオン界面活性剤および両性界面活性剤のいずれ
も使用できる。
ホモジナイザー）あるいは混練機（例、サンドミル、コ
ロイドミル）を用いることが好ましい。界面活性剤を添
加して、光学的異方性不連続相の粒径を微細かつ均一に
調節してもよい。また、界面活性剤により光学的異方性
不連続相の分散安定性を改善することもできる。界面活
性剤は、光学的等方性連続相の溶媒が水である場合（光
学的等方性連続相のポリマーが水溶性である場合）に特
に有効である。ノニオン界面活性剤、アニオン界面活性
剤、カチオン界面活性剤および両性界面活性剤のいずれ
も使用できる。
【００６９】ノニオン界面活性剤としては、ポリオキシ
エチレン、ポリオキシプロピレン、ポリオキシブチレ
ン、ポリグリシジルあるいはソルビタンを用いることが
できる。ノニオン界面活性剤の例には、ポリオキシエチ
レンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルフ
ェニールエーテル、ポリオキシエチレン−ポリオキシプ
ロピレングリコール、多価アルコール脂肪酸部分エステ
ル、ポリオキシエチレン多価アルコール脂肪酸部分エス
テル、ポリオキシエチレン脂肪酸エステル、ポリグリセ
リン脂肪酸エステルおよび脂肪酸ジエタノールアミド、
トリエタノールアミン脂肪酸部分エステルが含まれる。
アニオン界面活性剤としては、カルボン酸塩、硫酸塩、
スルホン酸塩あるいはリン酸エステル塩を用いることが
できる。アニオン界面活性剤の例には、脂肪酸塩、アル
キルベンゼンスルホン酸塩、アルキルナフタレンスルホ
ン酸塩、アルキルスルホン酸塩、α―オレフィンスルホ
ン酸塩、ジアルキルスルフォコハク酸塩、α―スルホン
化脂肪酸塩、Ｎ−メチル−Ｎ−オレイルタウリン、石油
スルホン酸塩、アルキル硫酸塩、硫酸化油脂、ポリオキ
シエチレンアルキルエーテル硫酸塩、ポリオキシエチレ
ンアルキルフェニルエーテル硫酸塩、ポリオキシエチレ
ンスチレン化フェニルエーテル硫酸塩、アルキルリン酸
塩、ポリオキシエチレンアルキルエーテルリン酸塩およ
びナフタレンスルホン酸塩ホルムアルデヒド縮合物が含
まれる。
エチレン、ポリオキシプロピレン、ポリオキシブチレ
ン、ポリグリシジルあるいはソルビタンを用いることが
できる。ノニオン界面活性剤の例には、ポリオキシエチ
レンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルフ
ェニールエーテル、ポリオキシエチレン−ポリオキシプ
ロピレングリコール、多価アルコール脂肪酸部分エステ
ル、ポリオキシエチレン多価アルコール脂肪酸部分エス
テル、ポリオキシエチレン脂肪酸エステル、ポリグリセ
リン脂肪酸エステルおよび脂肪酸ジエタノールアミド、
トリエタノールアミン脂肪酸部分エステルが含まれる。
アニオン界面活性剤としては、カルボン酸塩、硫酸塩、
スルホン酸塩あるいはリン酸エステル塩を用いることが
できる。アニオン界面活性剤の例には、脂肪酸塩、アル
キルベンゼンスルホン酸塩、アルキルナフタレンスルホ
ン酸塩、アルキルスルホン酸塩、α―オレフィンスルホ
ン酸塩、ジアルキルスルフォコハク酸塩、α―スルホン
化脂肪酸塩、Ｎ−メチル−Ｎ−オレイルタウリン、石油
スルホン酸塩、アルキル硫酸塩、硫酸化油脂、ポリオキ
シエチレンアルキルエーテル硫酸塩、ポリオキシエチレ
ンアルキルフェニルエーテル硫酸塩、ポリオキシエチレ
ンスチレン化フェニルエーテル硫酸塩、アルキルリン酸
塩、ポリオキシエチレンアルキルエーテルリン酸塩およ
びナフタレンスルホン酸塩ホルムアルデヒド縮合物が含
まれる。
【００７０】カチオン界面活性剤としては、アミン塩、
４級アンモニウム塩あるいはピリジニウム塩を用いるこ
とができる。カチオン界面活性剤の例には、第一〜第三
脂肪アミン塩、テトラアルキルアンモニウム塩、トリア
ルキルベンジルアンモニウム塩、アルキルピリジウム塩
およびアルキルイミダゾリウム塩が含まれる。両性界面
活性剤としては、カルボキシベタインまたはスルホベタ
インを用いることができる。両性界面活性剤の例には、
Ｎ−トリアルキル−Ｎ−カルボキシメチルアンモニウム
ベタインおよびＮ−トリアルキル−Ｎ−スルフォアルキ
レンアンモニウムベタインが含まれる。界面活性剤につ
いては、「界面活性剤の応用（幸書房、刈米孝夫著、昭
和55年9月1日発行）」に記載がある。界面活性剤の使用
量は、不連続相１ｇ当たり、０．００１乃至１ｇである
ことが好ましく、０．０１乃至０．１ｇであることがさ
らに好ましい。
４級アンモニウム塩あるいはピリジニウム塩を用いるこ
とができる。カチオン界面活性剤の例には、第一〜第三
脂肪アミン塩、テトラアルキルアンモニウム塩、トリア
ルキルベンジルアンモニウム塩、アルキルピリジウム塩
およびアルキルイミダゾリウム塩が含まれる。両性界面
活性剤としては、カルボキシベタインまたはスルホベタ
インを用いることができる。両性界面活性剤の例には、
Ｎ−トリアルキル−Ｎ−カルボキシメチルアンモニウム
ベタインおよびＮ−トリアルキル−Ｎ−スルフォアルキ
レンアンモニウムベタインが含まれる。界面活性剤につ
いては、「界面活性剤の応用（幸書房、刈米孝夫著、昭
和55年9月1日発行）」に記載がある。界面活性剤の使用
量は、不連続相１ｇ当たり、０．００１乃至１ｇである
ことが好ましく、０．０１乃至０．１ｇであることがさ
らに好ましい。
【００７１】（II）の塗布は、公知の塗布方法（例、デ
ィップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコー
ト法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラ
ビアコート法、押し出しコート法、スピンコート法、印
刷コート法、スプレイコート法およびスライドコート
法）により実施できる。連続塗布が可能である方法、す
なわち、ディップコート法、カーテンコート法、押し出
しコート法（米国特許２６８１２９４号明細書記載）、
ローラーコート法およびスライドコート法が好ましい。
二以上の層（二以上の層から成る偏光選択層、あるいは
偏光選択層とと他の層）とを同時に塗布してもよい。同
時塗布の方法については、米国特許２７６１７９１号、
同２９４１８９８号、同３５０８９４７号、同３５２６
５２８号の各明細書および原崎勇次著、コーティング工
学、２５３頁、朝倉書店（１９７３）に記載がある。偏
光選択層中で、光学的異方性不連続相の粒径に厚み方向
で分布をつける場合は、Ｃ型重層塗布法を採用すること
が好ましい。
ィップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコー
ト法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラ
ビアコート法、押し出しコート法、スピンコート法、印
刷コート法、スプレイコート法およびスライドコート
法）により実施できる。連続塗布が可能である方法、す
なわち、ディップコート法、カーテンコート法、押し出
しコート法（米国特許２６８１２９４号明細書記載）、
ローラーコート法およびスライドコート法が好ましい。
二以上の層（二以上の層から成る偏光選択層、あるいは
偏光選択層とと他の層）とを同時に塗布してもよい。同
時塗布の方法については、米国特許２７６１７９１号、
同２９４１８９８号、同３５０８９４７号、同３５２６
５２８号の各明細書および原崎勇次著、コーティング工
学、２５３頁、朝倉書店（１９７３）に記載がある。偏
光選択層中で、光学的異方性不連続相の粒径に厚み方向
で分布をつける場合は、Ｃ型重層塗布法を採用すること
が好ましい。
【００７２】形成する偏光選択層の厚さは、０．１μｍ
以上であることが好ましく、１μｍ以上であることがよ
り好ましく、３μｍ以上であることがさらに好ましく、
１０μｍ以上であることが最も好ましい。偏光選択層の
厚さは、１０００μｍ以下であることが好ましく、５０
０μｍ以下であることがより好ましく、３００μｍ以下
であることがさらに好ましく、１００μｍ以下であるこ
とがさらにまた好ましく、７０μｍ以下であることが最
も好ましい。偏光選択層は、上記のように、任意の支持
体（例えば、バンドまたはドラムのような無端支持体）
の上に形成し、支持体から剥ぎ取ってから（III)の光照
射を実施し、それを透明支持体にラミネートすることが
できる。また、透明支持体に塗布した後、そのまま（II
I)の光照射を実施して用いることもできる。また、任意
の支持体の上に偏光選択層を形成し、（III)の光照射を
実施して、それから透明支持体に転写してもよい。
以上であることが好ましく、１μｍ以上であることがよ
り好ましく、３μｍ以上であることがさらに好ましく、
１０μｍ以上であることが最も好ましい。偏光選択層の
厚さは、１０００μｍ以下であることが好ましく、５０
０μｍ以下であることがより好ましく、３００μｍ以下
であることがさらに好ましく、１００μｍ以下であるこ
とがさらにまた好ましく、７０μｍ以下であることが最
も好ましい。偏光選択層は、上記のように、任意の支持
体（例えば、バンドまたはドラムのような無端支持体）
の上に形成し、支持体から剥ぎ取ってから（III)の光照
射を実施し、それを透明支持体にラミネートすることが
できる。また、透明支持体に塗布した後、そのまま（II
I)の光照射を実施して用いることもできる。また、任意
の支持体の上に偏光選択層を形成し、（III)の光照射を
実施して、それから透明支持体に転写してもよい。
【００７３】（III)の光照射は、光として直線偏光を用
いることが好ましい。また、なるべく単一方向から光を
照射することも好ましい。単一方向とは、層の平面（光
の方向を平面に投影した向き）において単一の方向であ
ることを意味し、平面に対して水平または垂直の方向も
含む。光の波長は、一般に１９０乃至１６００ｎｍであ
り、３２０ｎｍ以下（紫外線）であることが好ましい。
具体的な波長は、光配向性化合物の光配向性官能基の種
類に応じて決定する。光源としては、水銀灯、キセノン
灯、蛍光灯、メタルハライドランプ、ケミカルランプお
よび不活性ガスレーザーが好ましい。光源から出射され
た紫外線は、偏光素子を利用して紫外線偏光とする。偏
光素子は、プリズム系素子（例、グラントムソンプリズ
ム）またはブリュースター角を利用した反射型素子であ
ることが好ましい。なお、不活性ガスレーザーを光源と
する紫外線は偏光となっている場合がある。その場合に
は、偏光素子は不要である。非偏光を用いる場合は、斜
めに光を照射する必要がある。非偏光の斜め照射による
光学異方性の発現（配向）については、Polym.Mater.Sc
i.Eng.,66.P.263 (1992)に記載がある。
いることが好ましい。また、なるべく単一方向から光を
照射することも好ましい。単一方向とは、層の平面（光
の方向を平面に投影した向き）において単一の方向であ
ることを意味し、平面に対して水平または垂直の方向も
含む。光の波長は、一般に１９０乃至１６００ｎｍであ
り、３２０ｎｍ以下（紫外線）であることが好ましい。
具体的な波長は、光配向性化合物の光配向性官能基の種
類に応じて決定する。光源としては、水銀灯、キセノン
灯、蛍光灯、メタルハライドランプ、ケミカルランプお
よび不活性ガスレーザーが好ましい。光源から出射され
た紫外線は、偏光素子を利用して紫外線偏光とする。偏
光素子は、プリズム系素子（例、グラントムソンプリズ
ム）またはブリュースター角を利用した反射型素子であ
ることが好ましい。なお、不活性ガスレーザーを光源と
する紫外線は偏光となっている場合がある。その場合に
は、偏光素子は不要である。非偏光を用いる場合は、斜
めに光を照射する必要がある。非偏光の斜め照射による
光学異方性の発現（配向）については、Polym.Mater.Sc
i.Eng.,66.P.263 (1992)に記載がある。
【００７４】露光量は、１ｍＪ／ｃｍ2 以上であること
が好ましく、１０ｍＪ／ｃｍ2 以上であることがより好
ましく、２０ｍＪ／ｃｍ2 以上であることがさらに好ま
しく、４０ｍＪ／ｃｍ2 以上であることがさらにまた好
ましく、８０ｍＪ／ｃｍ2 以上であることが最も好まし
い。露光量は、１０Ｊ／ｃｍ2 以下であることが好まし
く、２Ｊ／ｃｍ2 以下であることがより好ましく、１Ｊ
／ｃｍ2 以下であることがさらに好ましく、５００ｍＪ
／ｃｍ2 以下であることが最も好ましい。露光強度は、
２０乃至２０００ｍＷ／ｃｍ2 であることが好ましく、
４０乃至１０００ｍＷ／ｃｍ2 であることがさらに好ま
しく、８０乃至５００ｍＷ／ｃｍ 2 であることが最も好
ましい。短時間で光学的異方性を発現させるために、加
熱しながら光を照射してもよい。
が好ましく、１０ｍＪ／ｃｍ2 以上であることがより好
ましく、２０ｍＪ／ｃｍ2 以上であることがさらに好ま
しく、４０ｍＪ／ｃｍ2 以上であることがさらにまた好
ましく、８０ｍＪ／ｃｍ2 以上であることが最も好まし
い。露光量は、１０Ｊ／ｃｍ2 以下であることが好まし
く、２Ｊ／ｃｍ2 以下であることがより好ましく、１Ｊ
／ｃｍ2 以下であることがさらに好ましく、５００ｍＪ
／ｃｍ2 以下であることが最も好ましい。露光強度は、
２０乃至２０００ｍＷ／ｃｍ2 であることが好ましく、
４０乃至１０００ｍＷ／ｃｍ2 であることがさらに好ま
しく、８０乃至５００ｍＷ／ｃｍ 2 であることが最も好
ましい。短時間で光学的異方性を発現させるために、加
熱しながら光を照射してもよい。
【００７５】（光吸収型偏光素子）光吸収型偏光素子
は、所定の偏光を選択的に透過し、他の偏光を選択的に
吸収する偏光選択層を有する。上記「所定の偏光」と
「他の偏光」とは、一般に偏光面が互いに直交する。光
吸収型偏光素子の偏光選択層は、一般にポリビニルアル
コール系フイルムからなる光吸収型偏光素子が用いられ
ている。ポリビニルアルコール系フイルムを延伸し、ヨ
ウ素または二色性染料を吸着することにより光吸収型偏
光素子の偏光選択層が得られる。光吸収型偏光素子の透
過軸（偏光軸）は、フイルムの延伸方向に垂直な方向に
相当する。光吸収型偏光素子の偏光度は、９９％以上で
あることが好ましい。偏光度は、下記式で定義される値
である。 偏光度＝１００×｛（Ｐ−Ｃ）／（Ｐ＋Ｃ）｝1/2 式中、Ｐは透過軸を平行にした２枚の偏光素子を透過す
る光の透過率であり；そして、Ｃは透過軸を直交させた
２枚の偏光素子を透過する光の透過率である。光吸収型
偏光素子は、市販されており、市販品を用いてもよい。
は、所定の偏光を選択的に透過し、他の偏光を選択的に
吸収する偏光選択層を有する。上記「所定の偏光」と
「他の偏光」とは、一般に偏光面が互いに直交する。光
吸収型偏光素子の偏光選択層は、一般にポリビニルアル
コール系フイルムからなる光吸収型偏光素子が用いられ
ている。ポリビニルアルコール系フイルムを延伸し、ヨ
ウ素または二色性染料を吸着することにより光吸収型偏
光素子の偏光選択層が得られる。光吸収型偏光素子の透
過軸（偏光軸）は、フイルムの延伸方向に垂直な方向に
相当する。光吸収型偏光素子の偏光度は、９９％以上で
あることが好ましい。偏光度は、下記式で定義される値
である。 偏光度＝１００×｛（Ｐ−Ｃ）／（Ｐ＋Ｃ）｝1/2 式中、Ｐは透過軸を平行にした２枚の偏光素子を透過す
る光の透過率であり；そして、Ｃは透過軸を直交させた
２枚の偏光素子を透過する光の透過率である。光吸収型
偏光素子は、市販されており、市販品を用いてもよい。
【００７６】（偏光板）光散乱型偏光素子と、光吸収型
偏光素子とを積層して偏光板として用いる。光散乱型偏
光素子の透過軸と光吸収型偏光素子の透過軸とは、実質
的に平行になるように配置する。偏光板は、直線偏光板
として機能する。偏光板とλ／４板とを積層すること
で、積層体を円偏光板として機能させることもできる。
円偏光板では、偏光板の透過軸とλ／４板の遅相軸との
角度を、実質的に４５゜になるように配置する。円偏光
板を液晶表示装置に組み込む場合、一般に、バックライ
ト側からλ／４板、光散乱型偏光素子、光吸収型偏光素
子の順序で配置する。光散乱型偏光素子の偏光選択層側
表面に、反射防止層を設けることもできる。反射防止層
により表面反射が減少し、結果としてディスプレイの輝
度を上昇させることができる。反射防止層としては、低
屈折率層と高屈折率層の積層体（日本写真学会誌２９、
１３７頁（１９６６）記載）あるいは低屈折率層一層の
みを設けることができる。
偏光素子とを積層して偏光板として用いる。光散乱型偏
光素子の透過軸と光吸収型偏光素子の透過軸とは、実質
的に平行になるように配置する。偏光板は、直線偏光板
として機能する。偏光板とλ／４板とを積層すること
で、積層体を円偏光板として機能させることもできる。
円偏光板では、偏光板の透過軸とλ／４板の遅相軸との
角度を、実質的に４５゜になるように配置する。円偏光
板を液晶表示装置に組み込む場合、一般に、バックライ
ト側からλ／４板、光散乱型偏光素子、光吸収型偏光素
子の順序で配置する。光散乱型偏光素子の偏光選択層側
表面に、反射防止層を設けることもできる。反射防止層
により表面反射が減少し、結果としてディスプレイの輝
度を上昇させることができる。反射防止層としては、低
屈折率層と高屈折率層の積層体（日本写真学会誌２９、
１３７頁（１９６６）記載）あるいは低屈折率層一層の
みを設けることができる。
【００７７】偏光板と液晶表示装置の光学補償シートと
を組み合わせることもできる。本発明の偏光板と光学補
償フイルムとを組み合わせると、液晶表示装置の視野角
を著しく拡大し、高い輝度の画像が得られる。透明支持
支持体上にディスコティック液晶性化合物から形成した
光学異方性層を有する光学補償シート（特許第２５８７
３９８号公報記載）が好ましい。光学補償シートの透明
支持体は、偏光板の透明支持体（前述）とは異なり、光
学的異方性を有することが好ましい。特開平７−１９１
２１７号公報に記載されているように、光学補償シート
と偏光板と一体化することもできる。
を組み合わせることもできる。本発明の偏光板と光学補
償フイルムとを組み合わせると、液晶表示装置の視野角
を著しく拡大し、高い輝度の画像が得られる。透明支持
支持体上にディスコティック液晶性化合物から形成した
光学異方性層を有する光学補償シート（特許第２５８７
３９８号公報記載）が好ましい。光学補償シートの透明
支持体は、偏光板の透明支持体（前述）とは異なり、光
学的異方性を有することが好ましい。特開平７−１９１
２１７号公報に記載されているように、光学補償シート
と偏光板と一体化することもできる。
【００７８】（液晶表示装置）偏光板は、液晶表示装置
に組み込んで使用する。本発明は、液晶表示装置がツイ
ストネマチック配向モードの液晶セル、ベンド配向モー
ドの液晶セルまたは水平配向モードの液晶セルを有する
場合に、特に効果がある。透過型液晶表示装置では、液
晶セルの両側（バックライト側と観察者側）に二枚の偏
光板を使用する。本発明の偏光板をバックライト側の偏
光板として使用すると、液晶表示装置の光の利用効率を
改善できる。一体型の偏光板は、バックライト付き透過
型の液晶表示装置のバックライト側の偏光板に、異方性
散乱体が偏光素子よりバックライト側になるように配置
して用いる。これにより、偏光素子のみからなる偏光板
を用いた液晶表示装置よりもバックライト光の偏光板透
過率を高い、明るく鮮明な液晶表示装置が得られる。偏
光素子の光吸収軸に平行な偏光成分は偏光素子内部でそ
の１００％近くが吸収される。一体型の偏光素子におい
ては、偏光素子の光吸収軸と異方性散乱層の散乱軸が平
行に配置されている。そのため、バックライトの光吸収
軸に平行な偏光成分は、最初に入射する異方性散乱層で
強く散乱を受け、後方散乱光がバックライト側に戻され
る。
に組み込んで使用する。本発明は、液晶表示装置がツイ
ストネマチック配向モードの液晶セル、ベンド配向モー
ドの液晶セルまたは水平配向モードの液晶セルを有する
場合に、特に効果がある。透過型液晶表示装置では、液
晶セルの両側（バックライト側と観察者側）に二枚の偏
光板を使用する。本発明の偏光板をバックライト側の偏
光板として使用すると、液晶表示装置の光の利用効率を
改善できる。一体型の偏光板は、バックライト付き透過
型の液晶表示装置のバックライト側の偏光板に、異方性
散乱体が偏光素子よりバックライト側になるように配置
して用いる。これにより、偏光素子のみからなる偏光板
を用いた液晶表示装置よりもバックライト光の偏光板透
過率を高い、明るく鮮明な液晶表示装置が得られる。偏
光素子の光吸収軸に平行な偏光成分は偏光素子内部でそ
の１００％近くが吸収される。一体型の偏光素子におい
ては、偏光素子の光吸収軸と異方性散乱層の散乱軸が平
行に配置されている。そのため、バックライトの光吸収
軸に平行な偏光成分は、最初に入射する異方性散乱層で
強く散乱を受け、後方散乱光がバックライト側に戻され
る。
【００７９】後方散乱光の大部分は、バックライト部分
（例えば、導光板、光拡散板、集光シート）で散乱反射
された後に再び異方性散乱層に入射する。この再入射し
た光は、散乱に基づく偏光解消を受けて楕円偏光になる
ため、偏光素子の光透過軸に平行な偏光成分が出現す
る。また、前方散乱光についても僅かに散乱解消によっ
て楕円偏光となるため、光透過軸に平行な偏光成分が出
現する。これらの結果として、偏光素子の光透過軸に平
行な偏光成分が増加し、トータルでバックライト光の偏
光板透過率が上昇する。一体型の偏光板の偏光度につい
ては、一体化された偏光素子の高い偏光度がそのまま維
持され、偏光素子単独の偏光度と同等以上の値を得るこ
とができる。ツイストネマチック（ＴＮ）配向モードの
液晶セルは、最も普通に（特に、ＴＦＴ液晶表示装置
に）用いられている液晶セルであって、様々な文献に記
載がある。本発明の偏光板と光学異方性透明支持体上に
ディスコティック液晶性化合物から形成した光学異方性
層を有する光学補償シートとを一体化した積層体を、ツ
イストネマチック配向モードの液晶表示装置に組み込む
場合、ディスコティック液晶性化合物の円盤面の法線の
光学異方性透明支持体面への正射影の平均方向と光学異
方性透明支持体の面内遅相軸との角度が実質的に平行ま
たは実質的に垂直になるように、光学異方性層と光学異
方性透明支持体とを配置する。また、光学異方性透明支
持体の面内遅相軸と偏光板の面内透過軸とは、実質的に
平行または実質的に垂直になるように、光学異方性透明
支持体と偏光板とを配置する。
（例えば、導光板、光拡散板、集光シート）で散乱反射
された後に再び異方性散乱層に入射する。この再入射し
た光は、散乱に基づく偏光解消を受けて楕円偏光になる
ため、偏光素子の光透過軸に平行な偏光成分が出現す
る。また、前方散乱光についても僅かに散乱解消によっ
て楕円偏光となるため、光透過軸に平行な偏光成分が出
現する。これらの結果として、偏光素子の光透過軸に平
行な偏光成分が増加し、トータルでバックライト光の偏
光板透過率が上昇する。一体型の偏光板の偏光度につい
ては、一体化された偏光素子の高い偏光度がそのまま維
持され、偏光素子単独の偏光度と同等以上の値を得るこ
とができる。ツイストネマチック（ＴＮ）配向モードの
液晶セルは、最も普通に（特に、ＴＦＴ液晶表示装置
に）用いられている液晶セルであって、様々な文献に記
載がある。本発明の偏光板と光学異方性透明支持体上に
ディスコティック液晶性化合物から形成した光学異方性
層を有する光学補償シートとを一体化した積層体を、ツ
イストネマチック配向モードの液晶表示装置に組み込む
場合、ディスコティック液晶性化合物の円盤面の法線の
光学異方性透明支持体面への正射影の平均方向と光学異
方性透明支持体の面内遅相軸との角度が実質的に平行ま
たは実質的に垂直になるように、光学異方性層と光学異
方性透明支持体とを配置する。また、光学異方性透明支
持体の面内遅相軸と偏光板の面内透過軸とは、実質的に
平行または実質的に垂直になるように、光学異方性透明
支持体と偏光板とを配置する。
【００８０】ベンド配向モードの液晶セルは、セル中央
部の液晶分子がねじれ配向していてもよい。ベンド配向
液晶セルでは、液晶性化合物の屈折率異方性Δｎと、液
晶セルの液晶層の厚みｄとの積（Δｎ×ｄ）は、輝度と
視野角を両立させるために、１００乃至２０００ｎｍの
範囲であることが好ましく、１５０乃至１７００ｎｍの
範囲であることがさらに好ましく、５００乃至１５００
ｎｍの範囲であることが最も好ましい。本発明の偏光板
と光学異方性透明支持体上にディスコティック液晶性化
合物から形成した光学異方性層を有する光学補償シート
とを一体化した積層体を、ベンド配向モードの液晶表示
装置に組み込む場合、ディスコティック液晶性化合物の
円盤面の法線の光学異方性透明支持体面への正射影の平
均方向と光学異方性透明支持体の面内遅相軸との角度が
実質的に４５゜になるように、光学異方性層と光学異方
性透明支持体とを配置する。また、光学異方性透明支持
体の面内遅相軸と偏光板の面内透過軸とが実質的に平行
または実質的に垂直になるように、透明支持体と偏光板
とを配置する。
部の液晶分子がねじれ配向していてもよい。ベンド配向
液晶セルでは、液晶性化合物の屈折率異方性Δｎと、液
晶セルの液晶層の厚みｄとの積（Δｎ×ｄ）は、輝度と
視野角を両立させるために、１００乃至２０００ｎｍの
範囲であることが好ましく、１５０乃至１７００ｎｍの
範囲であることがさらに好ましく、５００乃至１５００
ｎｍの範囲であることが最も好ましい。本発明の偏光板
と光学異方性透明支持体上にディスコティック液晶性化
合物から形成した光学異方性層を有する光学補償シート
とを一体化した積層体を、ベンド配向モードの液晶表示
装置に組み込む場合、ディスコティック液晶性化合物の
円盤面の法線の光学異方性透明支持体面への正射影の平
均方向と光学異方性透明支持体の面内遅相軸との角度が
実質的に４５゜になるように、光学異方性層と光学異方
性透明支持体とを配置する。また、光学異方性透明支持
体の面内遅相軸と偏光板の面内透過軸とが実質的に平行
または実質的に垂直になるように、透明支持体と偏光板
とを配置する。
【００８１】水平配向液晶セルでは、液晶性化合物の屈
折率異方性Δｎと、液晶セルの液晶層の厚みｄとの積
（Δｎ×ｄ）は、輝度と視野角を両立させるために、１
００乃至２０００ｎｍの範囲であることが好ましく、１
００乃至１０００ｎｍの範囲であることがさらに好まし
く、１００乃至７００ｎｍの範囲であることが最も好ま
しい。本発明の偏光板と光学異方性透明支持体上にディ
スコティック液晶性化合物から形成した光学異方性層を
有する光学補償シートとを一体化した積層体を、水平配
向モードの液晶表示装置に組み込む場合、ディスコティ
ック液晶性化合物の円盤面の法線の光学異方性透明支持
体面への正射影の平均方向と光学異方性透明支持体の面
内遅相軸との角度が実質的に４５゜になるように、光学
異方性層と光学異方性透明支持体とを配置する。また、
光学異方性透明支持体の面内遅相軸と偏光板の面内透過
軸とが実質的に平行または実質的に垂直になるように、
光学異方性透明支持体と偏光板とを配置する。液晶セル
は、いずれも、ノーマリーホワイトモード（ＮＷモー
ド）またはノーマリーブラックモード（ＮＢモード）で
用いることができる。ことが好ましい。
折率異方性Δｎと、液晶セルの液晶層の厚みｄとの積
（Δｎ×ｄ）は、輝度と視野角を両立させるために、１
００乃至２０００ｎｍの範囲であることが好ましく、１
００乃至１０００ｎｍの範囲であることがさらに好まし
く、１００乃至７００ｎｍの範囲であることが最も好ま
しい。本発明の偏光板と光学異方性透明支持体上にディ
スコティック液晶性化合物から形成した光学異方性層を
有する光学補償シートとを一体化した積層体を、水平配
向モードの液晶表示装置に組み込む場合、ディスコティ
ック液晶性化合物の円盤面の法線の光学異方性透明支持
体面への正射影の平均方向と光学異方性透明支持体の面
内遅相軸との角度が実質的に４５゜になるように、光学
異方性層と光学異方性透明支持体とを配置する。また、
光学異方性透明支持体の面内遅相軸と偏光板の面内透過
軸とが実質的に平行または実質的に垂直になるように、
光学異方性透明支持体と偏光板とを配置する。液晶セル
は、いずれも、ノーマリーホワイトモード（ＮＷモー
ド）またはノーマリーブラックモード（ＮＢモード）で
用いることができる。ことが好ましい。
【００８２】［実施例１］ （屈折率の測定）偏光素子の製造後では屈折率の測定が
難しいため、製造前に光学的等方性連続相と光学的異方
性不連続相との屈折率を測定した。ゼラチン（光学的等
方性連続相のポリマーマトリックス）１０質量部を水９
０質量部に加え、加熱しながら溶解した。得られた溶液
を高屈折率ガラス上に塗布し、乾燥した。形成したゼラ
チン膜（光学的等方性相）の屈折率をナトリウムのＤ線
においてアッベ屈折計で測定したところ、いずれの方向
の屈折率も１．５４であった。光配向性ポリマー（ＰＡ
−５、光二量化ポリマー）をジクロロメタンに溶解して
３０質量％溶液を調製した。溶液を高屈折率ガラス上に
塗布し、乾燥した後、室温で波長３６５ｎｍの直線偏光
（２００ｍＷ／ｃｍ2 ）を１０秒間照射した。形成した
光配向性ポリマーの被膜（光学的異方性相）の屈折率を
アッベ屈折計で測定したところ、偏向方向の屈折率（ｎ
ｅ）は１．６４、偏向方向と直交する方向の屈折率（ｎ
ｏ）は１．５４であった。
難しいため、製造前に光学的等方性連続相と光学的異方
性不連続相との屈折率を測定した。ゼラチン（光学的等
方性連続相のポリマーマトリックス）１０質量部を水９
０質量部に加え、加熱しながら溶解した。得られた溶液
を高屈折率ガラス上に塗布し、乾燥した。形成したゼラ
チン膜（光学的等方性相）の屈折率をナトリウムのＤ線
においてアッベ屈折計で測定したところ、いずれの方向
の屈折率も１．５４であった。光配向性ポリマー（ＰＡ
−５、光二量化ポリマー）をジクロロメタンに溶解して
３０質量％溶液を調製した。溶液を高屈折率ガラス上に
塗布し、乾燥した後、室温で波長３６５ｎｍの直線偏光
（２００ｍＷ／ｃｍ2 ）を１０秒間照射した。形成した
光配向性ポリマーの被膜（光学的異方性相）の屈折率を
アッベ屈折計で測定したところ、偏向方向の屈折率（ｎ
ｅ）は１．６４、偏向方向と直交する方向の屈折率（ｎ
ｏ）は１．５４であった。
【００８３】（光散乱型偏光素子の作製）ゼラチン１０
質量部を水９０質量部に加え、加熱しながら溶解した。
得られた溶液に、光配向性ポリマー（ＰＡ−５、光二量
化ポリマー）の３０質量％ジクロロメタン溶液２質量部
を添加し、ホモジナイザーを用いて乳化した。セルロー
ストリアセテートフイルム（透明支持体）に、ゼラチン
下塗り層を設けた。ゼラチン下塗り層の上に、得られた
乳化液を塗布し、乾燥した。形成した厚さ３０μｍの被
膜に、室温で波長３６５ｎｍの直線偏光（２００ｍＷ／
ｃｍ2）を１０秒間照射し、光散乱型偏光素子を作製し
た。
質量部を水９０質量部に加え、加熱しながら溶解した。
得られた溶液に、光配向性ポリマー（ＰＡ−５、光二量
化ポリマー）の３０質量％ジクロロメタン溶液２質量部
を添加し、ホモジナイザーを用いて乳化した。セルロー
ストリアセテートフイルム（透明支持体）に、ゼラチン
下塗り層を設けた。ゼラチン下塗り層の上に、得られた
乳化液を塗布し、乾燥した。形成した厚さ３０μｍの被
膜に、室温で波長３６５ｎｍの直線偏光（２００ｍＷ／
ｃｍ2）を１０秒間照射し、光散乱型偏光素子を作製し
た。
【００８４】（偏光板の作製）作製した光散乱型偏光素
子と、市販の光吸収型偏光素子とを接着剤を介して積層
し、偏光板を作製した。偏光板を液晶表示装置用バック
ライトの上に配置した。光散乱型偏光素子の透過軸（光
学的等方性連続相の屈折率と光学的異方性不連続相の屈
折率とが実質的に等しくなる方向）と光吸収型偏光素子
の透過軸とは、平行になるように配置した。その状態で
透過率を測定したところ、４５％であった。
子と、市販の光吸収型偏光素子とを接着剤を介して積層
し、偏光板を作製した。偏光板を液晶表示装置用バック
ライトの上に配置した。光散乱型偏光素子の透過軸（光
学的等方性連続相の屈折率と光学的異方性不連続相の屈
折率とが実質的に等しくなる方向）と光吸収型偏光素子
の透過軸とは、平行になるように配置した。その状態で
透過率を測定したところ、４５％であった。
【００８５】［実施例２］ （屈折率の測定）光配向性ポリマー（ＰＡ−１、光異性
化ポリマー）をシクロヘキサノンに溶解して３０質量％
溶液を調製した。溶液を高屈折率ガラス上に塗布し、乾
燥した後、室温で波長４３５ｎｍの直線偏光（２００ｍ
Ｗ／ｃｍ2 ）を１０秒間照射した。形成した光配向性ポ
リマーの被膜（光学的異方性相）の屈折率をアッベ屈折
計で測定したところ、偏向方向の屈折率（ｎｅ）は１．
５４、偏向方向と直交する方向の屈折率（ｎｏ）は１．
６２であった。
化ポリマー）をシクロヘキサノンに溶解して３０質量％
溶液を調製した。溶液を高屈折率ガラス上に塗布し、乾
燥した後、室温で波長４３５ｎｍの直線偏光（２００ｍ
Ｗ／ｃｍ2 ）を１０秒間照射した。形成した光配向性ポ
リマーの被膜（光学的異方性相）の屈折率をアッベ屈折
計で測定したところ、偏向方向の屈折率（ｎｅ）は１．
５４、偏向方向と直交する方向の屈折率（ｎｏ）は１．
６２であった。
【００８６】（光散乱型偏光素子の作製）ゼラチン１０
質量部を水９０質量部に加え、加熱しながら溶解した。
得られた溶液に、光配向性ポリマー（ＰＡ−１、光異性
化ポリマー）の３０質量％シクロヘキサノン溶液２質量
部を添加し、ホモジナイザーを用いて乳化した。セルロ
ーストリアセテートフイルム（透明支持体）に、ゼラチ
ン下塗り層を設けた。ゼラチン下塗り層の上に、得られ
た乳化液を塗布し、乾燥した。形成した厚さ３０μｍの
被膜に、室温で波長４３５ｎｍの直線偏光（２００ｍＷ
／ｃｍ2）を１０秒間照射し、光散乱型偏光素子を作製
した。
質量部を水９０質量部に加え、加熱しながら溶解した。
得られた溶液に、光配向性ポリマー（ＰＡ−１、光異性
化ポリマー）の３０質量％シクロヘキサノン溶液２質量
部を添加し、ホモジナイザーを用いて乳化した。セルロ
ーストリアセテートフイルム（透明支持体）に、ゼラチ
ン下塗り層を設けた。ゼラチン下塗り層の上に、得られ
た乳化液を塗布し、乾燥した。形成した厚さ３０μｍの
被膜に、室温で波長４３５ｎｍの直線偏光（２００ｍＷ
／ｃｍ2）を１０秒間照射し、光散乱型偏光素子を作製
した。
【００８７】（偏光板の作製）作製した光散乱型偏光素
子と、市販の光吸収型偏光素子とを接着剤を介して積層
し、偏光板を作製した。偏光板を液晶表示装置用バック
ライトの上に配置した。光散乱型偏光素子の透過軸（光
学的等方性連続相の屈折率と光学的異方性不連続相の屈
折率とが実質的に等しくなる方向）と光吸収型偏光素子
の透過軸とは、平行になるように配置した。その状態で
透過率を測定したところ、４４．５％であった。
子と、市販の光吸収型偏光素子とを接着剤を介して積層
し、偏光板を作製した。偏光板を液晶表示装置用バック
ライトの上に配置した。光散乱型偏光素子の透過軸（光
学的等方性連続相の屈折率と光学的異方性不連続相の屈
折率とが実質的に等しくなる方向）と光吸収型偏光素子
の透過軸とは、平行になるように配置した。その状態で
透過率を測定したところ、４４．５％であった。
【００８８】［実施例３］ （屈折率の測定）光配向性ポリマー（ＰＡ−５、光二量
化ポリマー）１０質量部および棒状液晶性化合物（Ｎ２
６）９０質量部を混合した。混合物をジクロロメタンに
溶解して、３０質量％溶液を調製した。溶液を高屈折率
ガラス上に塗布し、乾燥した後、室温で波長３６５ｎｍ
の直線偏光（２００ｍＷ／ｃｍ2 ）を１０秒間照射し
た。さらに、波長３１０ｎｍの非偏光（２００ｍＷ／ｃ
ｍ2 ）を１０秒間照射して、棒状液晶性化合物を重合さ
せて配向状態を固定した。形成した被膜（光学的異方性
相）の屈折率をアッベ屈折計で測定したところ、偏向方
向の屈折率（ｎｅ）は１．６６、偏向方向と直交する方
向の屈折率（ｎｏ）は１．５４であった。
化ポリマー）１０質量部および棒状液晶性化合物（Ｎ２
６）９０質量部を混合した。混合物をジクロロメタンに
溶解して、３０質量％溶液を調製した。溶液を高屈折率
ガラス上に塗布し、乾燥した後、室温で波長３６５ｎｍ
の直線偏光（２００ｍＷ／ｃｍ2 ）を１０秒間照射し
た。さらに、波長３１０ｎｍの非偏光（２００ｍＷ／ｃ
ｍ2 ）を１０秒間照射して、棒状液晶性化合物を重合さ
せて配向状態を固定した。形成した被膜（光学的異方性
相）の屈折率をアッベ屈折計で測定したところ、偏向方
向の屈折率（ｎｅ）は１．６６、偏向方向と直交する方
向の屈折率（ｎｏ）は１．５４であった。
【００８９】（光散乱型偏光素子の作製）ゼラチン１０
質量部を水９０質量部に加え、加熱しながら溶解した。
得られた溶液に、光配向性ポリマー（ＰＡ−５、光二量
化ポリマー）１０質量部および棒状液晶性化合物（Ｎ２
６）９０質量部からなる混合物の３０質量％ジクロロメ
タン溶液２質量部を添加し、ホモジナイザーを用いて乳
化した。セルローストリアセテートフイルム（透明支持
体）に、ゼラチン下塗り層を設けた。ゼラチン下塗り層
の上に、得られた乳化液を塗布し、乾燥した。形成した
厚さ３０μｍの被膜に、室温で波長３６５ｎｍの直線偏
光（２００ｍＷ／ｃｍ2）を１０秒間照射した。さら
に、波長３１０ｎｍの非偏光（２００ｍＷ／ｃｍ2）を
１０秒間照射して、棒状液晶性化合物を重合させて配向
状態を固定し、光散乱型偏光素子を作製した。
質量部を水９０質量部に加え、加熱しながら溶解した。
得られた溶液に、光配向性ポリマー（ＰＡ−５、光二量
化ポリマー）１０質量部および棒状液晶性化合物（Ｎ２
６）９０質量部からなる混合物の３０質量％ジクロロメ
タン溶液２質量部を添加し、ホモジナイザーを用いて乳
化した。セルローストリアセテートフイルム（透明支持
体）に、ゼラチン下塗り層を設けた。ゼラチン下塗り層
の上に、得られた乳化液を塗布し、乾燥した。形成した
厚さ３０μｍの被膜に、室温で波長３６５ｎｍの直線偏
光（２００ｍＷ／ｃｍ2）を１０秒間照射した。さら
に、波長３１０ｎｍの非偏光（２００ｍＷ／ｃｍ2）を
１０秒間照射して、棒状液晶性化合物を重合させて配向
状態を固定し、光散乱型偏光素子を作製した。
【００９０】（偏光板の作製）作製した光散乱型偏光素
子と、市販の光吸収型偏光素子とを接着剤を介して積層
し、偏光板を作製した。偏光板を液晶表示装置用バック
ライトの上に配置した。光散乱型偏光素子の透過軸（光
学的等方性連続相の屈折率と光学的異方性不連続相の屈
折率とが実質的に等しくなる方向）と光吸収型偏光素子
の透過軸とは、平行になるように配置した。その状態で
透過率を測定したところ、４６％であった。
子と、市販の光吸収型偏光素子とを接着剤を介して積層
し、偏光板を作製した。偏光板を液晶表示装置用バック
ライトの上に配置した。光散乱型偏光素子の透過軸（光
学的等方性連続相の屈折率と光学的異方性不連続相の屈
折率とが実質的に等しくなる方向）と光吸収型偏光素子
の透過軸とは、平行になるように配置した。その状態で
透過率を測定したところ、４６％であった。
【００９１】［実施例４］ （屈折率の測定）光配向性ポリマー（ＰＡ−１、光異性
化ポリマー）１０質量部および棒状液晶性化合物（Ｎ２
６）９０質量部をシクロヘキサノンに溶解して３０質量
％溶液を調製した。溶液を高屈折率ガラス上に塗布し、
乾燥した後、室温で波長４３５ｎｍの直線偏光（２００
ｍＷ／ｃｍ2 ）を１０秒間照射した。偏光照射後、１３
０℃で３０分間加熱した。さらに、波長３１０ｎｍの非
偏光（２００ｍＷ／ｃｍ2）を１０秒間照射して、棒状
液晶性化合物を重合させて配向状態を固定した。形成し
た被膜（光学的異方性不連続相）の屈折率をアッベ屈折
計で測定したところ、偏向方向の屈折率（ｎｅ）は１．
５４、偏向方向と直交する方向の屈折率（ｎｏ）は１．
６５であった。
化ポリマー）１０質量部および棒状液晶性化合物（Ｎ２
６）９０質量部をシクロヘキサノンに溶解して３０質量
％溶液を調製した。溶液を高屈折率ガラス上に塗布し、
乾燥した後、室温で波長４３５ｎｍの直線偏光（２００
ｍＷ／ｃｍ2 ）を１０秒間照射した。偏光照射後、１３
０℃で３０分間加熱した。さらに、波長３１０ｎｍの非
偏光（２００ｍＷ／ｃｍ2）を１０秒間照射して、棒状
液晶性化合物を重合させて配向状態を固定した。形成し
た被膜（光学的異方性不連続相）の屈折率をアッベ屈折
計で測定したところ、偏向方向の屈折率（ｎｅ）は１．
５４、偏向方向と直交する方向の屈折率（ｎｏ）は１．
６５であった。
【００９２】（光散乱型偏光素子の作製）ゼラチン１０
質量部を水９０質量部に加え、加熱しながら溶解した。
得られた溶液に、光配向性ポリマー（ＰＡ−１、光異性
化ポリマー）１０質量部および棒状液晶性化合物（Ｎ２
６）９０質量部からなる混合物の３０質量％シクロヘキ
サノン溶液２質量部を添加し、ホモジナイザーを用いて
乳化した。セルローストリアセテートフイルム（透明支
持体）に、ゼラチン下塗り層を設けた。ゼラチン下塗り
層の上に、得られた乳化液を塗布し、乾燥した。形成し
た厚さ３０μｍの被膜に、室温で波長４３５ｎｍの直線
偏光（２００ｍＷ／ｃｍ2）を１０秒間照射した。偏光
照射後、１３０℃で３０分間加熱した。さらに、波長３
１０ｎｍの非偏光（２００ｍＷ／ｃｍ2 ）を１０秒間照
射して、光散乱型偏光素子を作製した。
質量部を水９０質量部に加え、加熱しながら溶解した。
得られた溶液に、光配向性ポリマー（ＰＡ−１、光異性
化ポリマー）１０質量部および棒状液晶性化合物（Ｎ２
６）９０質量部からなる混合物の３０質量％シクロヘキ
サノン溶液２質量部を添加し、ホモジナイザーを用いて
乳化した。セルローストリアセテートフイルム（透明支
持体）に、ゼラチン下塗り層を設けた。ゼラチン下塗り
層の上に、得られた乳化液を塗布し、乾燥した。形成し
た厚さ３０μｍの被膜に、室温で波長４３５ｎｍの直線
偏光（２００ｍＷ／ｃｍ2）を１０秒間照射した。偏光
照射後、１３０℃で３０分間加熱した。さらに、波長３
１０ｎｍの非偏光（２００ｍＷ／ｃｍ2 ）を１０秒間照
射して、光散乱型偏光素子を作製した。
【００９３】（偏光板の作製）作製した光散乱型偏光素
子と、市販の光吸収型偏光素子とを接着剤を介して積層
し、偏光板を作製した。偏光板を液晶表示装置用バック
ライトの上に配置した。光散乱型偏光素子の透過軸（光
学的等方性連続相の屈折率と光学的異方性不連続相の屈
折率とが実質的に等しくなる方向）と光吸収型偏光素子
の透過軸とは、平行になるように配置した。その状態で
透過率を測定したところ、４５．５％であった。
子と、市販の光吸収型偏光素子とを接着剤を介して積層
し、偏光板を作製した。偏光板を液晶表示装置用バック
ライトの上に配置した。光散乱型偏光素子の透過軸（光
学的等方性連続相の屈折率と光学的異方性不連続相の屈
折率とが実質的に等しくなる方向）と光吸収型偏光素子
の透過軸とは、平行になるように配置した。その状態で
透過率を測定したところ、４５．５％であった。
【００９４】［実施例５］ （円偏光板の作製）実施例２で作製した偏光板の光散乱
型偏光素子側に、λ／４板を積層して円偏光板を作製し
た。偏光板の透過軸とλ／４板の遅相軸とは、同一平面
で４５゜の角度で交差するように配置した。円偏光板の
λ／４板側を液晶表示装置用バックライトの上に配置し
た。その状態で透過率を測定したところ、４９％であっ
た。
型偏光素子側に、λ／４板を積層して円偏光板を作製し
た。偏光板の透過軸とλ／４板の遅相軸とは、同一平面
で４５゜の角度で交差するように配置した。円偏光板の
λ／４板側を液晶表示装置用バックライトの上に配置し
た。その状態で透過率を測定したところ、４９％であっ
た。
【００９５】［参考例１］市販の光吸収型偏光素子を、
液晶表示装置用バックライトの上に配置した。その状態
で透過率を測定したところ、４１％であった。
液晶表示装置用バックライトの上に配置した。その状態
で透過率を測定したところ、４１％であった。
【００９６】［実施例６］ （屈折率の測定）ゼラチン１０質量部を水９０質量部に
加熱溶解した溶液を高屈折率ガラス上に塗布し、乾燥さ
せた。ゼラチンフイルム（光学的等方性相）の屈折率を
アッベ屈折計で測定したところ、いずれの方向も１．５
４であった。光配向性ポリマー（ＰＡ−５、光二量化ポ
リマー）の３０質量％ジクロロメタン溶液を高屈折率ガ
ラス上に塗布し、乾燥させた後、室温で波長３６５ｎｍ
の直線偏光（２００ｍＷ／ｃｍ2 ）を１０秒間照射し
た。光配向性ポリマーのフイルム（光学的異方性相）で
は偏向方向の屈折率（ｎｅ）は１．６４、偏向方向と直
交方向の屈折率（ｎｏ）は１．５４であった。
加熱溶解した溶液を高屈折率ガラス上に塗布し、乾燥さ
せた。ゼラチンフイルム（光学的等方性相）の屈折率を
アッベ屈折計で測定したところ、いずれの方向も１．５
４であった。光配向性ポリマー（ＰＡ−５、光二量化ポ
リマー）の３０質量％ジクロロメタン溶液を高屈折率ガ
ラス上に塗布し、乾燥させた後、室温で波長３６５ｎｍ
の直線偏光（２００ｍＷ／ｃｍ2 ）を１０秒間照射し
た。光配向性ポリマーのフイルム（光学的異方性相）で
は偏向方向の屈折率（ｎｅ）は１．６４、偏向方向と直
交方向の屈折率（ｎｏ）は１．５４であった。
【００９７】（光散乱型偏光素子の作製）ゼラチン１０
質量部を水９０質量部に加熱溶解した溶液に、光配向性
ポリマー（ＰＡ−５、光二量化ポリマー）の３０質量％
ジクロロメタン溶液を２質量部添加し、ホモジナイザー
を用いて分散させた。この液をゼラチン下塗層を設けた
セルローストリアセテートフイルム（透明支持体）に塗
布し、乾燥させた。さらに、室温で波長３６５ｎｍの直
線偏光（２００ｍＷ／ｃｍ2 ）を１０秒間照射し、光散
乱型偏光素子を作製した。
質量部を水９０質量部に加熱溶解した溶液に、光配向性
ポリマー（ＰＡ−５、光二量化ポリマー）の３０質量％
ジクロロメタン溶液を２質量部添加し、ホモジナイザー
を用いて分散させた。この液をゼラチン下塗層を設けた
セルローストリアセテートフイルム（透明支持体）に塗
布し、乾燥させた。さらに、室温で波長３６５ｎｍの直
線偏光（２００ｍＷ／ｃｍ2 ）を１０秒間照射し、光散
乱型偏光素子を作製した。
【００９８】（偏光板の作製）延伸したポリビニルアル
コールフイルムにヨウ素を吸着させて、光吸収型偏光素
子を作製した。光吸収型偏光素子の片側に、ポリビニル
アルコール系接着剤を用いて、作製した光散乱型偏光素
子を、偏光選択層が外側となるように貼り付けた。反対
側には、セルローストリアセテートフイルム（フジタッ
ク、富士写真フイルム（株）製）を同様にポリビニルア
ルコール系接着剤を用いて貼り付けた。作製した偏光板
を、光散乱型偏光素子がバックライト側となるように、
バックライト上に配置したときの透過率を測定したとこ
ろ、４６％であった。
コールフイルムにヨウ素を吸着させて、光吸収型偏光素
子を作製した。光吸収型偏光素子の片側に、ポリビニル
アルコール系接着剤を用いて、作製した光散乱型偏光素
子を、偏光選択層が外側となるように貼り付けた。反対
側には、セルローストリアセテートフイルム（フジタッ
ク、富士写真フイルム（株）製）を同様にポリビニルア
ルコール系接着剤を用いて貼り付けた。作製した偏光板
を、光散乱型偏光素子がバックライト側となるように、
バックライト上に配置したときの透過率を測定したとこ
ろ、４６％であった。
【００９９】［実施例７］ （屈折率の測定）光配向性ポリマー（ＰＡ−１、光異性
化ポリマー）の３０質量％シクロヘキサノン溶液を、高
屈折率ガラス上に塗布し、乾燥させた後、室温で波長４
３５ｎｍの直線偏光（２００ｍＷ／ｃｍ2 ）を１０秒間
照射した。偏光照射後、１３０℃で３０分間加熱処理し
た。直線偏光照射した光配向性ポリマーのフイルム（光
学的異方性相）では偏向方向の屈折率（ｎｅ）が１．６
２、偏向方向と直交方向の屈折率（ｎｏ）が１．５４で
あった。
化ポリマー）の３０質量％シクロヘキサノン溶液を、高
屈折率ガラス上に塗布し、乾燥させた後、室温で波長４
３５ｎｍの直線偏光（２００ｍＷ／ｃｍ2 ）を１０秒間
照射した。偏光照射後、１３０℃で３０分間加熱処理し
た。直線偏光照射した光配向性ポリマーのフイルム（光
学的異方性相）では偏向方向の屈折率（ｎｅ）が１．６
２、偏向方向と直交方向の屈折率（ｎｏ）が１．５４で
あった。
【０１００】（光散乱型偏光素子の作製）ゼラチン１０
質量部を水９０質量部に加熱溶解した溶液に、光配向性
ポリマー（ＰＡ−１、光異性化ポリマー）の３０質量％
ジクロロメタン溶液を２質量部添加し、ホモジナイザー
を用いて分散させた。ゼラチン下塗層を設けたセルロー
ストリアセテートフイルム（透明支持体）上にこの液を
塗布し、乾燥させた。さらに、室温で波長４３５ｎｍの
直線偏光（２００ｍＷ／ｃｍ2 ）を１０秒間照射し、偏
光照射後、１３０℃で３０分間加熱処理し、光散乱型偏
光素子を作製した。
質量部を水９０質量部に加熱溶解した溶液に、光配向性
ポリマー（ＰＡ−１、光異性化ポリマー）の３０質量％
ジクロロメタン溶液を２質量部添加し、ホモジナイザー
を用いて分散させた。ゼラチン下塗層を設けたセルロー
ストリアセテートフイルム（透明支持体）上にこの液を
塗布し、乾燥させた。さらに、室温で波長４３５ｎｍの
直線偏光（２００ｍＷ／ｃｍ2 ）を１０秒間照射し、偏
光照射後、１３０℃で３０分間加熱処理し、光散乱型偏
光素子を作製した。
【０１０１】（偏光板の作製）延伸したポリビニルアル
コールフイルムにヨウ素を吸着させて、光吸収型偏光素
子を作製した。光吸収型偏光素子の片側に、ポリビニル
アルコール系接着剤を用いて、作製した光散乱型偏光素
子を、偏光選択層が外側となるように貼り付けた。反対
側には、セルローストリアセテートフイルム（フジタッ
ク、富士写真フイルム（株）製）を同様にポリビニルア
ルコール系接着剤を用いて貼り付けた。作製した偏光板
を、光散乱型偏光素子がバックライト側となるように、
バックライト上に配置したときの透過率を測定したとこ
ろ、４５．５％であった。
コールフイルムにヨウ素を吸着させて、光吸収型偏光素
子を作製した。光吸収型偏光素子の片側に、ポリビニル
アルコール系接着剤を用いて、作製した光散乱型偏光素
子を、偏光選択層が外側となるように貼り付けた。反対
側には、セルローストリアセテートフイルム（フジタッ
ク、富士写真フイルム（株）製）を同様にポリビニルア
ルコール系接着剤を用いて貼り付けた。作製した偏光板
を、光散乱型偏光素子がバックライト側となるように、
バックライト上に配置したときの透過率を測定したとこ
ろ、４５．５％であった。
【０１０２】［実施例８］ （屈折率の測定）光配向性ポリマー（ＰＡ−５、光二量
化ポリマー）１０質量部と棒状液晶性化合物（Ｎ２６）
９０質量部との混合物の３０質量％ジクロロメタン溶液
を高屈折率ガラス上に塗布し、乾燥させた後、室温で波
長３６５ｎｍの直線偏光（２００ｍＷ／ｃｍ2 ）を１０
秒間照射した。この後、波長３１０ｎｍの非偏光（２０
０ｍＷ／ｃｍ2 ）を１０秒間照射し、棒状液晶性化合物
を重合させて配向を固定した。直線偏光照射したフイル
ム（光学異方性相）では偏向方向の屈折率（ｎｅ）が
１．６６、偏向方向と直交方向の屈折率（ｎｏ）が１．
５４であった。
化ポリマー）１０質量部と棒状液晶性化合物（Ｎ２６）
９０質量部との混合物の３０質量％ジクロロメタン溶液
を高屈折率ガラス上に塗布し、乾燥させた後、室温で波
長３６５ｎｍの直線偏光（２００ｍＷ／ｃｍ2 ）を１０
秒間照射した。この後、波長３１０ｎｍの非偏光（２０
０ｍＷ／ｃｍ2 ）を１０秒間照射し、棒状液晶性化合物
を重合させて配向を固定した。直線偏光照射したフイル
ム（光学異方性相）では偏向方向の屈折率（ｎｅ）が
１．６６、偏向方向と直交方向の屈折率（ｎｏ）が１．
５４であった。
【０１０３】（光散乱型偏光素子の作製）ゼラチン１０
質量部を水９０質量部に加熱溶解した溶液に、光配向性
ポリマー（ＰＡ−５、光二量化ポリマー）１０質量部と
棒状液晶性化合物（Ｎ２６）９０質量部との混合物の３
０質量％ジクロロメタン溶液を２質量部添加し、ホモジ
ナイザーを用いて分散させた。ゼラチン下塗層を設けた
セルローストリアセテートフイルム（透明支持体）上に
この液を塗布し、乾燥させた。このフイルムに室温で波
長３６５ｎｍの直線偏光（２００ｍＷ／ｃｍ2 ）を１０
秒間照射した。この後、波長３１０ｎｍの非偏光（２０
０ｍＷ／ｃｍ2 ）を１０秒間照射し、棒状液晶性化合物
を重合させて配向を固定し、光散乱型偏光素子を作製し
た。
質量部を水９０質量部に加熱溶解した溶液に、光配向性
ポリマー（ＰＡ−５、光二量化ポリマー）１０質量部と
棒状液晶性化合物（Ｎ２６）９０質量部との混合物の３
０質量％ジクロロメタン溶液を２質量部添加し、ホモジ
ナイザーを用いて分散させた。ゼラチン下塗層を設けた
セルローストリアセテートフイルム（透明支持体）上に
この液を塗布し、乾燥させた。このフイルムに室温で波
長３６５ｎｍの直線偏光（２００ｍＷ／ｃｍ2 ）を１０
秒間照射した。この後、波長３１０ｎｍの非偏光（２０
０ｍＷ／ｃｍ2 ）を１０秒間照射し、棒状液晶性化合物
を重合させて配向を固定し、光散乱型偏光素子を作製し
た。
【０１０４】（偏光板の作製）延伸したポリビニルアル
コールフイルムにヨウ素を吸着させて、光吸収型偏光素
子を作製した。光吸収型偏光素子の片側に、ポリビニル
アルコール系接着剤を用いて、作製した光散乱型偏光素
子を、偏光選択層が外側となるように貼り付けた。反対
側には、セルローストリアセテートフイルム（フジタッ
ク、富士写真フイルム（株）製）を同様にポリビニルア
ルコール系接着剤を用いて貼り付けた。作製した偏光板
を、光散乱型偏光素子がバックライト側となるように、
バックライト上に配置したときの透過率を測定したとこ
ろ、４７％であった。
コールフイルムにヨウ素を吸着させて、光吸収型偏光素
子を作製した。光吸収型偏光素子の片側に、ポリビニル
アルコール系接着剤を用いて、作製した光散乱型偏光素
子を、偏光選択層が外側となるように貼り付けた。反対
側には、セルローストリアセテートフイルム（フジタッ
ク、富士写真フイルム（株）製）を同様にポリビニルア
ルコール系接着剤を用いて貼り付けた。作製した偏光板
を、光散乱型偏光素子がバックライト側となるように、
バックライト上に配置したときの透過率を測定したとこ
ろ、４７％であった。
【０１０５】［実施例９］ （屈折率の測定）光配向性ポリマー（ＰＡ−１、光異性
化ポリマー）１０質量部と棒状液晶性化合物（Ｎ２６）
９０質量部との混合物の３０質量％シクロヘキサノン溶
液を高屈折率ガラス上に塗布し、乾燥させた後、室温で
波長４３５ｎｍの直線偏光（２００ｍＷ／ｃｍ2 ）を１
０秒間照射した。偏光照射後、１３０℃で３０分間加熱
処理した。この後、波長３１０ｎｍの非偏光（２００ｍ
Ｗ／ｃｍ2 ）を１０秒間照射し、棒状液晶性化合物を重
合させて配向を固定した。直線偏光照射したフイルム
（光学異方性相）では偏向方向の屈折率（ｎｅ）が１．
６５、偏向方向と直交方向の屈折率（ｎｏ）が１．５４
であった。
化ポリマー）１０質量部と棒状液晶性化合物（Ｎ２６）
９０質量部との混合物の３０質量％シクロヘキサノン溶
液を高屈折率ガラス上に塗布し、乾燥させた後、室温で
波長４３５ｎｍの直線偏光（２００ｍＷ／ｃｍ2 ）を１
０秒間照射した。偏光照射後、１３０℃で３０分間加熱
処理した。この後、波長３１０ｎｍの非偏光（２００ｍ
Ｗ／ｃｍ2 ）を１０秒間照射し、棒状液晶性化合物を重
合させて配向を固定した。直線偏光照射したフイルム
（光学異方性相）では偏向方向の屈折率（ｎｅ）が１．
６５、偏向方向と直交方向の屈折率（ｎｏ）が１．５４
であった。
【０１０６】（光散乱型偏光素子の作製）ゼラチン１０
質量部を水９０質量部に加熱溶解した溶液に、光配向性
ポリマー（ＰＡ−１、光異性化ポリマー）１０質量部と
棒状液晶性化合物（Ｎ２６）９０質量部９０質量部との
混合物の３０質量％ジクロロメタン溶液を２質量部添加
し、ホモジナイザーを用いて分散させた。ゼラチン下塗
層を設けたセルローストリアセテートフイルム（透明支
持体）上にこの液を塗布し、乾燥させた。このフイルム
に室温で波長４３５ｎｍの直線偏光（２００ｍＷ／ｃｍ
2 ）を１０秒間照射した。偏光照射後、１３０℃で３０
分間加熱処理した。この後、波長３１０ｎｍの非偏光
（２００ｍＷ／ｃｍ2 ）を１０秒間照射し、棒状液晶性
化合物を重合させて配向を固定して、光散乱型偏光素子
を作製した。
質量部を水９０質量部に加熱溶解した溶液に、光配向性
ポリマー（ＰＡ−１、光異性化ポリマー）１０質量部と
棒状液晶性化合物（Ｎ２６）９０質量部９０質量部との
混合物の３０質量％ジクロロメタン溶液を２質量部添加
し、ホモジナイザーを用いて分散させた。ゼラチン下塗
層を設けたセルローストリアセテートフイルム（透明支
持体）上にこの液を塗布し、乾燥させた。このフイルム
に室温で波長４３５ｎｍの直線偏光（２００ｍＷ／ｃｍ
2 ）を１０秒間照射した。偏光照射後、１３０℃で３０
分間加熱処理した。この後、波長３１０ｎｍの非偏光
（２００ｍＷ／ｃｍ2 ）を１０秒間照射し、棒状液晶性
化合物を重合させて配向を固定して、光散乱型偏光素子
を作製した。
【０１０７】（偏光板の作製）延伸したポリビニルアル
コールフイルムにヨウ素を吸着させて、光吸収型偏光素
子を作製した。光吸収型偏光素子の片側に、ポリビニル
アルコール系接着剤を用いて、作製した光散乱型偏光素
子を、偏光選択層が外側となるように貼り付けた。反対
側には、セルローストリアセテートフイルム（フジタッ
ク、富士写真フイルム（株）製）を同様にポリビニルア
ルコール系接着剤を用いて貼り付けた。作製した偏光板
を、光散乱型偏光素子がバックライト側となるように、
バックライト上に配置したときの透過率を測定したとこ
ろ、４６．５％であった。
コールフイルムにヨウ素を吸着させて、光吸収型偏光素
子を作製した。光吸収型偏光素子の片側に、ポリビニル
アルコール系接着剤を用いて、作製した光散乱型偏光素
子を、偏光選択層が外側となるように貼り付けた。反対
側には、セルローストリアセテートフイルム（フジタッ
ク、富士写真フイルム（株）製）を同様にポリビニルア
ルコール系接着剤を用いて貼り付けた。作製した偏光板
を、光散乱型偏光素子がバックライト側となるように、
バックライト上に配置したときの透過率を測定したとこ
ろ、４６．５％であった。
【０１０８】［実施例１０] （円偏光板の作製）実施例７で作製した偏光板の光散乱
型偏光素子側に、λ／４板を積層して円偏光板を作製し
た。偏光板の透過軸とλ／４板の遅相軸とは、同一平面
で４５゜の角度で交差するように配置した。円偏光板の
λ／４板側を液晶表示装置用バックライトの上に配置し
た。その状態で透過率を測定したところ、５０％であっ
た。
型偏光素子側に、λ／４板を積層して円偏光板を作製し
た。偏光板の透過軸とλ／４板の遅相軸とは、同一平面
で４５゜の角度で交差するように配置した。円偏光板の
λ／４板側を液晶表示装置用バックライトの上に配置し
た。その状態で透過率を測定したところ、５０％であっ
た。
【０１０９】［実施例１１] （光学異方性透明支持体の作製）下記組成のセルロース
アセテート溶液をミキシングタンクに投入し、加熱攪拌
して溶解した。
アセテート溶液をミキシングタンクに投入し、加熱攪拌
して溶解した。
【０１１０】 ──────────────────────────────────── セルロースアセテート溶液組成 ──────────────────────────────────── 酢化度６０．９％のセルロースアセテート １００質量部 ＴＰＰ（トリフェニルホスフェート） ７．８質量部 ＢＤＰ（ビフェニルジフェニルホスフェート） ３．９質量部 メチレンクロライド ３００質量部 メタノール ５４質量部 １−ブタノール １１質量部 ────────────────────────────────────
【０１１１】別のミキシングタンクに、下記の溶液を加
熱攪拌、溶解して作製し、上記ドープ４７４質量部に対
し２２質量部添加して充分攪拌混合した。
熱攪拌、溶解して作製し、上記ドープ４７４質量部に対
し２２質量部添加して充分攪拌混合した。
【０１１２】 ──────────────────────────────────── レターデーション上昇剤溶液組成 ──────────────────────────────────── ２−ヒドロキシ−４−ベンジルオキシベンゾフェノン １２質量部 ２，４−ベンジルオキシベンゾフェノン ４質量部 メチレンクロライド ８０質量部 メタノール ２０質量部 ────────────────────────────────────
【０１１３】セルロースアセテート溶液とレターデーシ
ョン上昇剤溶液との混合液（ドープ）を、流延口からを
０℃に冷却したドラム上に流延した。フイルムの溶媒含
有率７０質量％の状態で剥取り、両端をピンテンターに
固定し、３〜５質量％の領域で機械方向と垂直方向の延
伸率３％となる間隔に保ちつつ乾燥し、その後多数のロ
ールを有する熱処理装置の中を搬送することにより乾燥
した。ガラス転移温度である１２０℃を越える領域で
は、機械方向の延伸率が実質０％であった。剥取り時に
機械方向に４％延伸するため、機械方向と垂直方向の延
伸率と機械方向の全延伸率の比は０．７５となるように
して、厚さ１０７μｍのセルロースアセテートフイルム
を作製した。このようにしてセルロースアセテートフイ
ルムを作製した。得られたフイルムの弾性率は、機械方
向（ＭＤ）で４３０ｋｇ／ｍｍ2 、機械方向に垂直な方
向（ＴＤ）で３６０ｋｇ／ｍｍ2 、ＭＤ／ＴＤ比が１．
１９であった。また、Ｒthは８０ｎｍ、Ｒｅは１１ｎｍ
であった。後述の下塗後も、支持体フイルム表面への析
出が認められず、光学異方性の高いムラのない良好な透
明支持体が得られた。
ョン上昇剤溶液との混合液（ドープ）を、流延口からを
０℃に冷却したドラム上に流延した。フイルムの溶媒含
有率７０質量％の状態で剥取り、両端をピンテンターに
固定し、３〜５質量％の領域で機械方向と垂直方向の延
伸率３％となる間隔に保ちつつ乾燥し、その後多数のロ
ールを有する熱処理装置の中を搬送することにより乾燥
した。ガラス転移温度である１２０℃を越える領域で
は、機械方向の延伸率が実質０％であった。剥取り時に
機械方向に４％延伸するため、機械方向と垂直方向の延
伸率と機械方向の全延伸率の比は０．７５となるように
して、厚さ１０７μｍのセルロースアセテートフイルム
を作製した。このようにしてセルロースアセテートフイ
ルムを作製した。得られたフイルムの弾性率は、機械方
向（ＭＤ）で４３０ｋｇ／ｍｍ2 、機械方向に垂直な方
向（ＴＤ）で３６０ｋｇ／ｍｍ2 、ＭＤ／ＴＤ比が１．
１９であった。また、Ｒthは８０ｎｍ、Ｒｅは１１ｎｍ
であった。後述の下塗後も、支持体フイルム表面への析
出が認められず、光学異方性の高いムラのない良好な透
明支持体が得られた。
【０１１４】（下塗り層の形成）光学異方性透明支持体
に下記組成の塗布液を２８ｍｌ／ｍ2 塗布、乾燥し、
０．１μｍのゼラチン下塗り層を塗設した。
に下記組成の塗布液を２８ｍｌ／ｍ2 塗布、乾燥し、
０．１μｍのゼラチン下塗り層を塗設した。
【０１１５】 ──────────────────────────────────── ゼラチン下塗り層塗布液組成 ──────────────────────────────────── ゼラチン ０．５４２質量部 ホルムアルデヒド ０．１３６質量部 サリチル酸 ０．１６０質量部 アセトン ３９．１質量部 メタノール １５．８質量部 メチレンクロライド ４０．６質量部 水 １．２質量部 ────────────────────────────────────
【０１１６】ゼラチン下塗り層の上に下記組成の塗布液
を７ｍｌ／ｍ2 塗布、乾燥して、第２下塗り層を設け
た。
を７ｍｌ／ｍ2 塗布、乾燥して、第２下塗り層を設け
た。
【０１１７】 ──────────────────────────────────── 第２下塗り層塗布液組成 ──────────────────────────────────── 下記のアニオン性コポリマー ０．０７９質量部 クエン酸モノエチルエステル １．０１質量部 アセトン ２０質量部 メタノール ８７．７質量部 水 ４．０５質量部 ────────────────────────────────────
【０１１８】
【化１６】
【０１１９】さらに、光学異方性透明支持体の反対側
に、下記組成の塗布液を２５ｍｌ／ｍ 2 塗布、乾燥し、
バック層を設けた。
に、下記組成の塗布液を２５ｍｌ／ｍ 2 塗布、乾燥し、
バック層を設けた。
【０１２０】 ──────────────────────────────────── バック層塗布液組成 ──────────────────────────────────── 酢化度５５％のセルロースジアセテート ０．６５６質量部 シリカ系マット剤（平均粒径：１μｍ） ０．０６５質量部 アセトン ６７．９質量部 メタノール １０．４質量部 ────────────────────────────────────
【０１２１】（光学異方性層の形成）第２下塗り層の上
に、厚さ０．５μｍのポリビニルアルコール系配向膜を
設け、表面をラビング処理した。配向膜の上に、下記の
ディスコティック液晶性化合物９．１ｇ、エチレンオキ
サイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート
（ＳＰ３２７、大阪有機化学（株）製） ０．９ｇ、セ
ルロ−スアセテ−トブチレ−ト（ＣＡＢ５５１−０．
２、イ−ストマンケミカル社製）０．２ｇ、セルロ−ス
アセテ−トブチレ−ト（ＣＡＢ５３１−１、イ−ストマ
ンケミカル社製）０．０５ｇ、光重合開始剤（イルガキ
ュアー９０７、チバガイギー社製）３．０ｇおよび光増
感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）０．
１ｇを、２０．６７ｇのメチルエチルケトンに溶解した
塗布液を、＃４のワイヤーバーで塗布した。これを、金
属の枠に貼りつけて１２０℃の高温槽中で３分間加熱
し、ディスコティック液晶性化合物を配向させた。１２
０℃のまま高圧水銀灯を用いて１分間ＵＶ照射し、室温
まで放冷して、ディスコティック液晶性化合物を含む光
学異方性層を形成した。
に、厚さ０．５μｍのポリビニルアルコール系配向膜を
設け、表面をラビング処理した。配向膜の上に、下記の
ディスコティック液晶性化合物９．１ｇ、エチレンオキ
サイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート
（ＳＰ３２７、大阪有機化学（株）製） ０．９ｇ、セ
ルロ−スアセテ−トブチレ−ト（ＣＡＢ５５１−０．
２、イ−ストマンケミカル社製）０．２ｇ、セルロ−ス
アセテ−トブチレ−ト（ＣＡＢ５３１−１、イ−ストマ
ンケミカル社製）０．０５ｇ、光重合開始剤（イルガキ
ュアー９０７、チバガイギー社製）３．０ｇおよび光増
感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）０．
１ｇを、２０．６７ｇのメチルエチルケトンに溶解した
塗布液を、＃４のワイヤーバーで塗布した。これを、金
属の枠に貼りつけて１２０℃の高温槽中で３分間加熱
し、ディスコティック液晶性化合物を配向させた。１２
０℃のまま高圧水銀灯を用いて１分間ＵＶ照射し、室温
まで放冷して、ディスコティック液晶性化合物を含む光
学異方性層を形成した。
【０１２２】
【化１７】
【０１２３】光学異方性層の厚さは、１．９μｍであっ
た。光学異方性層と光学異方性透明支持体との積層体
（光学補償シート）のレターデーションを、配向膜のラ
ビング方向に沿って測定したところ、光学軸の平均傾斜
角は１８．２゜、厚み方向のレターデーション（Ｒth）
は１５６ｎｍ、面内レターデーション（Ｒｅ）は３３ｎ
ｍであった。
た。光学異方性層と光学異方性透明支持体との積層体
（光学補償シート）のレターデーションを、配向膜のラ
ビング方向に沿って測定したところ、光学軸の平均傾斜
角は１８．２゜、厚み方向のレターデーション（Ｒth）
は１５６ｎｍ、面内レターデーション（Ｒｅ）は３３ｎ
ｍであった。
【０１２４】（光学異方性層付き偏光板の作製）延伸し
たポリビニルアルコールフイルムにヨウ素を吸着させ
て、光吸収型偏光素子を作製した。光吸収型偏光素子の
片側に、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、光学
異方性層と光学異方性透明支持体との積層体を、光学異
方性層が外側となるように貼り付けた。反対側には、ポ
リビニルアルコール系接着剤を用いて、実施例６で作製
した光散乱型偏光素子を偏光選択層が外側となるように
貼り付けた。光吸収型偏光素子の透過軸と、光学異方性
層と光学異方性透明支持体との積層体の遅相軸とは、平
行になるように配置した。更に光吸収型偏光素子の透過
軸と、光散乱型偏光素子の透過軸（ｎｅ方向）も平行に
なるように配置し、光学異方性層付き偏光板を作製し
た。光学異方性層付き偏光板をアクリル系接着剤を用い
てガラス板に貼り付け、高温、加圧下でエイジングした
後、９０℃の恒温槽に入れ、５００時間放置した。偏光
板を調べたところ、剥離、泡の発生あるいは皺の発生の
ような問題は全く認められなかった。さらに５００時間
（合計１０００時間）９０℃の恒温槽に入れてから調べ
ても、剥離、泡の発生あるいは皺の発生のような問題は
全く認められなかった。
たポリビニルアルコールフイルムにヨウ素を吸着させ
て、光吸収型偏光素子を作製した。光吸収型偏光素子の
片側に、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、光学
異方性層と光学異方性透明支持体との積層体を、光学異
方性層が外側となるように貼り付けた。反対側には、ポ
リビニルアルコール系接着剤を用いて、実施例６で作製
した光散乱型偏光素子を偏光選択層が外側となるように
貼り付けた。光吸収型偏光素子の透過軸と、光学異方性
層と光学異方性透明支持体との積層体の遅相軸とは、平
行になるように配置した。更に光吸収型偏光素子の透過
軸と、光散乱型偏光素子の透過軸（ｎｅ方向）も平行に
なるように配置し、光学異方性層付き偏光板を作製し
た。光学異方性層付き偏光板をアクリル系接着剤を用い
てガラス板に貼り付け、高温、加圧下でエイジングした
後、９０℃の恒温槽に入れ、５００時間放置した。偏光
板を調べたところ、剥離、泡の発生あるいは皺の発生の
ような問題は全く認められなかった。さらに５００時間
（合計１０００時間）９０℃の恒温槽に入れてから調べ
ても、剥離、泡の発生あるいは皺の発生のような問題は
全く認められなかった。
【０１２５】［実施例１２] （液晶表示装置の作製）ＩＴＯ透明電極が設けられたガ
ラス基板の上に、ポリイミド配向膜を設け、ラビング処
理を行った。５μｍのスペーサーを介して、二枚の基板
を配向膜が向かい合うように重ねた。配向膜のラビング
方向が直交するように、基板の向きを調節した。基板の
間隙に、棒状液晶性分子（ＺＬ４７９２、メルク社製）
を注入し、液晶層を形成した。液晶性分子のΔｎは０．
０９６９であった。以上のように作製したＴＮ液晶セル
のバックライト側に、実施例１１で作製した光学異方性
層付き偏光板を貼り付け、反対側には光散乱型偏光素子
がない光学異方性層付き偏光板を貼り付けて、液晶表示
装置を作製した。光学異方性層と光学異方性透明支持体
との積層体の遅相軸と、液晶セルのラビング方向とは、
直交するように配置した。
ラス基板の上に、ポリイミド配向膜を設け、ラビング処
理を行った。５μｍのスペーサーを介して、二枚の基板
を配向膜が向かい合うように重ねた。配向膜のラビング
方向が直交するように、基板の向きを調節した。基板の
間隙に、棒状液晶性分子（ＺＬ４７９２、メルク社製）
を注入し、液晶層を形成した。液晶性分子のΔｎは０．
０９６９であった。以上のように作製したＴＮ液晶セル
のバックライト側に、実施例１１で作製した光学異方性
層付き偏光板を貼り付け、反対側には光散乱型偏光素子
がない光学異方性層付き偏光板を貼り付けて、液晶表示
装置を作製した。光学異方性層と光学異方性透明支持体
との積層体の遅相軸と、液晶セルのラビング方向とは、
直交するように配置した。
【０１２６】図６は、作製した液晶表示装置の断面模式
図である。図６に示す液晶表示装置は、透明支持体
（１）、光吸収型偏光素子（２）、光学異方性層付き透
明支持体（３）、ＴＮ液晶セル（４）、光学異方性層付
き透明支持体（５）、光吸収型偏光素子（６）、光散乱
型偏光素子（７）、そしてバックライト（８）が、この
順に積層された構成を有する。光学異方性層付き透明支
持体（５）、光吸収型偏光素子（６）および光散乱型偏
光素子（７）が、偏光板（９）を構成する。
図である。図６に示す液晶表示装置は、透明支持体
（１）、光吸収型偏光素子（２）、光学異方性層付き透
明支持体（３）、ＴＮ液晶セル（４）、光学異方性層付
き透明支持体（５）、光吸収型偏光素子（６）、光散乱
型偏光素子（７）、そしてバックライト（８）が、この
順に積層された構成を有する。光学異方性層付き透明支
持体（５）、光吸収型偏光素子（６）および光散乱型偏
光素子（７）が、偏光板（９）を構成する。
【０１２７】液晶表示装置の液晶セルに、電圧を印加
し、白表示２Ｖ、黒表示５Ｖにおける白表示と黒表示と
の透過率の比をコントラスト比として、上下左右でコン
トラスト比が１０、かつ階調反転のない領域を視野角と
して測定した。その結果、上下の視野角は１２５゜、左
右の視野角は１６５゜であった。また、正面コントラス
トは、２３０であった。従来の偏光板を用いた液晶表示
装置と比較したところ、正面輝度が約４０％上昇した。
し、白表示２Ｖ、黒表示５Ｖにおける白表示と黒表示と
の透過率の比をコントラスト比として、上下左右でコン
トラスト比が１０、かつ階調反転のない領域を視野角と
して測定した。その結果、上下の視野角は１２５゜、左
右の視野角は１６５゜であった。また、正面コントラス
トは、２３０であった。従来の偏光板を用いた液晶表示
装置と比較したところ、正面輝度が約４０％上昇した。
【０１２８】［実施例１３］ （光学異方性透明支持体の作製）室温において、平均酢
化度６０．９％のセルロースアセテート４５質量部、下
記のレターデーション上昇剤１．６２質量部、メチレン
クロリド２３２．７２質量部、メタノール４２．５７質
量部およびｎ−ブタノール８．５０質量部を混合して、
溶液（ドープ）を調製した。得られたドープを、有効長
６ｍのバンド流延機を用いて、乾燥膜厚が１００μｍに
なるように流延して乾燥した。得られたセルロースアセ
テートフイルム（光学異方性透明支持体）について、エ
リプソメーター（Ｍ−１５０、日本分光（株）製）を用
いて、波長５５０ｎｍにおけるレターデーションを測定
したところ、Ｒｅレターデーション値が５ｎｍ、Ｒthレ
ターデーション値が１２０ｎｍであった。
化度６０．９％のセルロースアセテート４５質量部、下
記のレターデーション上昇剤１．６２質量部、メチレン
クロリド２３２．７２質量部、メタノール４２．５７質
量部およびｎ−ブタノール８．５０質量部を混合して、
溶液（ドープ）を調製した。得られたドープを、有効長
６ｍのバンド流延機を用いて、乾燥膜厚が１００μｍに
なるように流延して乾燥した。得られたセルロースアセ
テートフイルム（光学異方性透明支持体）について、エ
リプソメーター（Ｍ−１５０、日本分光（株）製）を用
いて、波長５５０ｎｍにおけるレターデーションを測定
したところ、Ｒｅレターデーション値が５ｎｍ、Ｒthレ
ターデーション値が１２０ｎｍであった。
【０１２９】
【化１８】
【０１３０】（光学異方性層の形成）光学異方性透明支
持体にゼラチン下塗り層を設けた。ゼラチン下塗り層の
上に、下記の組成の塗布液を＃１６のワイヤーバーコー
ターで２８ｍｌ／ｍ2 塗布した。６０℃の温風で６０
秒、さらに９０℃の温風で１５０秒乾燥した。次に、光
学異方性透明支持体の遅相軸（波長６３２．８ｎｍで測
定）と４５゜の方向に、形成した膜に対してラビング処
理を実施した。
持体にゼラチン下塗り層を設けた。ゼラチン下塗り層の
上に、下記の組成の塗布液を＃１６のワイヤーバーコー
ターで２８ｍｌ／ｍ2 塗布した。６０℃の温風で６０
秒、さらに９０℃の温風で１５０秒乾燥した。次に、光
学異方性透明支持体の遅相軸（波長６３２．８ｎｍで測
定）と４５゜の方向に、形成した膜に対してラビング処
理を実施した。
【０１３１】 ──────────────────────────────────── 配向膜塗布液組成 ──────────────────────────────────── 下記の変性ポリビニルアルコール １０質量部 水 ３７１質量部 メタノール １１９質量部 グルタルアルデヒド（架橋剤） ０．５質量部 ────────────────────────────────────
【０１３２】
【化１９】
【０１３３】配向膜上に、実施例１１で用いたディスコ
ティック液晶性化合物４１．０１ｇ、エチレンオキサイ
ド変成トリメチロールプロパントリアクリレート（Ｖ＃
３６０、大阪有機化学（株）製）４．０６ｇ、セルロー
スアセテートブチレート（ＣＡＢ５５１−０．２、イー
ストマンケミカル社製）０．９０ｇ、セルロースアセテ
ートブチレート（ＣＡＢ５３１−１、イーストマンケミ
カル社製）０．２３ｇ、光重合開始剤（イルガキュアー
９０７、チバガイギー社製）１．３５ｇ、増感剤（カヤ
キュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）０．４５ｇを、
１０２ｇのメチルエチルケトンに溶解した塗布液を、＃
３のワイヤーバーで塗布した。これを金属の枠に貼り付
けて、１３０℃の恒温槽中で２分間加熱し、ディスコテ
ィック液晶性化合物を配向させた。次に、１３０℃で１
２０Ｗ／ｃｍ高圧水銀灯を用いて、１分間ＵＶ照射しデ
ィスコティック化合物を重合させた。その後、室温まで
放冷した。このようにして、光学異方性層を形成した。
波長５４６ｎｍで測定した光学異方性層のＲｅレターデ
ーション値は３８ｎｍであった。また、円盤面と光学異
方性透明支持体面との間の平均角度（平均傾斜角）は４
０゜であった。
ティック液晶性化合物４１．０１ｇ、エチレンオキサイ
ド変成トリメチロールプロパントリアクリレート（Ｖ＃
３６０、大阪有機化学（株）製）４．０６ｇ、セルロー
スアセテートブチレート（ＣＡＢ５５１−０．２、イー
ストマンケミカル社製）０．９０ｇ、セルロースアセテ
ートブチレート（ＣＡＢ５３１−１、イーストマンケミ
カル社製）０．２３ｇ、光重合開始剤（イルガキュアー
９０７、チバガイギー社製）１．３５ｇ、増感剤（カヤ
キュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）０．４５ｇを、
１０２ｇのメチルエチルケトンに溶解した塗布液を、＃
３のワイヤーバーで塗布した。これを金属の枠に貼り付
けて、１３０℃の恒温槽中で２分間加熱し、ディスコテ
ィック液晶性化合物を配向させた。次に、１３０℃で１
２０Ｗ／ｃｍ高圧水銀灯を用いて、１分間ＵＶ照射しデ
ィスコティック化合物を重合させた。その後、室温まで
放冷した。このようにして、光学異方性層を形成した。
波長５４６ｎｍで測定した光学異方性層のＲｅレターデ
ーション値は３８ｎｍであった。また、円盤面と光学異
方性透明支持体面との間の平均角度（平均傾斜角）は４
０゜であった。
【０１３４】（楕円偏光板の作製）光学異方性透明支持
体をアルカリ浴槽中でケン化処理し、ポリビニルアルコ
ールとヨウ素とからなる光吸収型偏光素子の一方の面に
接着剤を介して貼り合わせた。さらに、光学異方性層と
光学異方性透明支持体との積層体の光学異方性透明支持
体面と、光吸収型偏光素子と光学異方性透明支持体との
積層体の光学異方性透明支持体面とを粘着剤を介して貼
り合わせた。光吸収型偏光素子の透過軸と、二枚の光学
異方性透明支持体の遅相軸とは、全て平行に配置した。
光吸収型偏光素子のもう一方の面に、光散乱型偏光素子
を、光吸収型偏光素子の透過軸と光散乱型偏光素子の透
過軸（ｎｅ方向）とが平行になるように、接着剤を介し
て貼り合わせ、楕円偏光板を作製した。
体をアルカリ浴槽中でケン化処理し、ポリビニルアルコ
ールとヨウ素とからなる光吸収型偏光素子の一方の面に
接着剤を介して貼り合わせた。さらに、光学異方性層と
光学異方性透明支持体との積層体の光学異方性透明支持
体面と、光吸収型偏光素子と光学異方性透明支持体との
積層体の光学異方性透明支持体面とを粘着剤を介して貼
り合わせた。光吸収型偏光素子の透過軸と、二枚の光学
異方性透明支持体の遅相軸とは、全て平行に配置した。
光吸収型偏光素子のもう一方の面に、光散乱型偏光素子
を、光吸収型偏光素子の透過軸と光散乱型偏光素子の透
過軸（ｎｅ方向）とが平行になるように、接着剤を介し
て貼り合わせ、楕円偏光板を作製した。
【０１３５】（第２楕円偏光板の作製）光散乱型偏光素
子の代わりに、光学的等方性セルローストリアセテート
フイルムを用いた以外は楕円偏光板の作製と同様にし
て、第２楕円偏光板を作製した。
子の代わりに、光学的等方性セルローストリアセテート
フイルムを用いた以外は楕円偏光板の作製と同様にし
て、第２楕円偏光板を作製した。
【０１３６】（ベンド配向液晶セルの作製）ＩＴＯ電極
付きのガラス基板に、ポリイミド膜を配向膜として設
け、配向膜にラビング処理を行った。得られた二枚のガ
ラス基板をラビング方向が平行となる配置で向かい合わ
せ、セルギャップを６μｍに設定した。セルギャップに
Δｎが０．１３９６の液晶性化合物（ＺＬＩ１１３２、
メルク社製）を注入し、ベンド配向液晶セルを作製し
た。
付きのガラス基板に、ポリイミド膜を配向膜として設
け、配向膜にラビング処理を行った。得られた二枚のガ
ラス基板をラビング方向が平行となる配置で向かい合わ
せ、セルギャップを６μｍに設定した。セルギャップに
Δｎが０．１３９６の液晶性化合物（ＺＬＩ１１３２、
メルク社製）を注入し、ベンド配向液晶セルを作製し
た。
【０１３７】（液晶表示装置の作製）作製したベンド配
向セルを挟むように、作製した楕円偏光板と第２楕円偏
光板とを貼り付けた。楕円偏光板は光散乱型偏光素子が
バックライト側になるように貼り付け、楕円偏光板は光
学的等方性セルローストリアセテートフイルムが視認側
になるように貼り付けた。そして、各楕円偏光板の光学
異方性層がセル基板に対面し、液晶セルのラビング方向
とそれに対面する光学異方性層のラビング方向とが反平
行となるように配置した。
向セルを挟むように、作製した楕円偏光板と第２楕円偏
光板とを貼り付けた。楕円偏光板は光散乱型偏光素子が
バックライト側になるように貼り付け、楕円偏光板は光
学的等方性セルローストリアセテートフイルムが視認側
になるように貼り付けた。そして、各楕円偏光板の光学
異方性層がセル基板に対面し、液晶セルのラビング方向
とそれに対面する光学異方性層のラビング方向とが反平
行となるように配置した。
【０１３８】［実施例１４] （透明支持体の作製）厚さ１００μｍのセルローストリ
アセテートフイルムに、厚さ０．１μｍのゼラチン下塗
り層を設けて、透明支持体を作製した。波長５４６ｎｍ
におけるレターデーションを測定したところ、Ｒｅレタ
ーデーション値が０．６ｎｍ、Ｒthレターデーション値
が３５ｎｍであった。
アセテートフイルムに、厚さ０．１μｍのゼラチン下塗
り層を設けて、透明支持体を作製した。波長５４６ｎｍ
におけるレターデーションを測定したところ、Ｒｅレタ
ーデーション値が０．６ｎｍ、Ｒthレターデーション値
が３５ｎｍであった。
【０１３９】（配向膜の形成）透明支持体のゼラチン下
塗り層の上に、実施例１３で用いた配向膜塗布液を＃１
６のワイヤーバーコーターで２８ｍｌ／ｍ2 塗布した。
６０℃の温風で６０秒、さらに９０℃の温風で１５０秒
乾燥した。次に、透明支持体の遅相軸（波長６３２．８
ｎｍで測定）と４５゜の方向に、形成した膜に対してラ
ビング処理を実施した。
塗り層の上に、実施例１３で用いた配向膜塗布液を＃１
６のワイヤーバーコーターで２８ｍｌ／ｍ2 塗布した。
６０℃の温風で６０秒、さらに９０℃の温風で１５０秒
乾燥した。次に、透明支持体の遅相軸（波長６３２．８
ｎｍで測定）と４５゜の方向に、形成した膜に対してラ
ビング処理を実施した。
【０１４０】（光学異方性層の形成）配向膜上に、実施
例１１で用いたディスコティック液晶性化合物４１．０
１ｇ、エチレンオキサイド変成トリメチロールプロパン
トリアクリレート（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）
製）４．０６ｇ、セルロースアセテートブチレート（Ｃ
ＡＢ５５１−０．２、イーストマンケミカル社製）０．
９０ｇ、セルロースアセテートブチレート（ＣＡＢ５３
１−１、イーストマンケミカル社製）０．２３ｇ、光重
合開始剤（イルガキュアー９０７、チバガイギー社製）
１．３５ｇ、増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬
（株）製）０．４５ｇを、１０２ｇのメチルエチルケト
ンに溶解した塗布液を、＃３のワイヤーバーで塗布し
た。これを金属の枠に貼り付けて、１３０℃の恒温槽中
で２分間加熱し、ディスコティック液晶性化合物を配向
させた。次に、１３０℃で１２０Ｗ／ｃｍ高圧水銀灯を
用いて、１分間ＵＶ照射しディスコティック化合物を重
合させた。その後、室温まで放冷した。このようにし
て、光学異方性層を形成した。波長５４６ｎｍで測定し
た光学異方性層のＲｅレターデーション値は３８ｎｍで
あった。また、円盤面と透明支持体面との間の平均角度
（平均傾斜角）は４０゜であった。
例１１で用いたディスコティック液晶性化合物４１．０
１ｇ、エチレンオキサイド変成トリメチロールプロパン
トリアクリレート（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）
製）４．０６ｇ、セルロースアセテートブチレート（Ｃ
ＡＢ５５１−０．２、イーストマンケミカル社製）０．
９０ｇ、セルロースアセテートブチレート（ＣＡＢ５３
１−１、イーストマンケミカル社製）０．２３ｇ、光重
合開始剤（イルガキュアー９０７、チバガイギー社製）
１．３５ｇ、増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬
（株）製）０．４５ｇを、１０２ｇのメチルエチルケト
ンに溶解した塗布液を、＃３のワイヤーバーで塗布し
た。これを金属の枠に貼り付けて、１３０℃の恒温槽中
で２分間加熱し、ディスコティック液晶性化合物を配向
させた。次に、１３０℃で１２０Ｗ／ｃｍ高圧水銀灯を
用いて、１分間ＵＶ照射しディスコティック化合物を重
合させた。その後、室温まで放冷した。このようにし
て、光学異方性層を形成した。波長５４６ｎｍで測定し
た光学異方性層のＲｅレターデーション値は３８ｎｍで
あった。また、円盤面と透明支持体面との間の平均角度
（平均傾斜角）は４０゜であった。
【０１４１】（楕円偏光板の作製）透明支持体をアルカ
リ浴槽中でケン化処理した。その透明支持体面を、ポリ
ビニルアルコールとヨウ素とからなる光吸収型偏光素子
の一方の面に接着剤を介して貼り合わせた。さらに、光
学異方性層と透明支持体との積層体の透明支持体面と、
光吸収型偏光素子と透明支持体との積層体の透明支持体
面とを粘着剤を介して貼り合わせた。光吸収型偏光素子
の透過軸は、透明支持体の遅相軸と直交させた。光吸収
型偏光素子のもう一方の面に、光散乱型偏光素子を、光
吸収型偏光素子の透過軸と光散乱型偏光素子の透過軸
（ｎｅ方向）とが平行になるように、接着剤を介して貼
り合わせ、楕円偏光板を作製した。
リ浴槽中でケン化処理した。その透明支持体面を、ポリ
ビニルアルコールとヨウ素とからなる光吸収型偏光素子
の一方の面に接着剤を介して貼り合わせた。さらに、光
学異方性層と透明支持体との積層体の透明支持体面と、
光吸収型偏光素子と透明支持体との積層体の透明支持体
面とを粘着剤を介して貼り合わせた。光吸収型偏光素子
の透過軸は、透明支持体の遅相軸と直交させた。光吸収
型偏光素子のもう一方の面に、光散乱型偏光素子を、光
吸収型偏光素子の透過軸と光散乱型偏光素子の透過軸
（ｎｅ方向）とが平行になるように、接着剤を介して貼
り合わせ、楕円偏光板を作製した。
【０１４２】（第２楕円偏光板の作製）光散乱型偏光素
子の代わりに、光学的等方性セルローストリアセテート
フイルムを用いた以外は楕円偏光板の作製と同様にし
て、第２楕円偏光板を作製した。
子の代わりに、光学的等方性セルローストリアセテート
フイルムを用いた以外は楕円偏光板の作製と同様にし
て、第２楕円偏光板を作製した。
【０１４３】（水平配向液晶セルの作製）ＩＴＯ電極付
きのガラス基板に、ポリイミド膜を配向膜として設け、
配向膜にラビング処理を行った。得られた二枚のガラス
基板をラビング方向が反平行となる配置で向かい合わ
せ、セルギャップを３．７μｍに設定した。セルギャッ
プにΔｎが０．０９８８の液晶性化合物（ＺＬＩ４７９
２、メルク社製）を注入し、水平配向液晶セルを作製し
た。
きのガラス基板に、ポリイミド膜を配向膜として設け、
配向膜にラビング処理を行った。得られた二枚のガラス
基板をラビング方向が反平行となる配置で向かい合わ
せ、セルギャップを３．７μｍに設定した。セルギャッ
プにΔｎが０．０９８８の液晶性化合物（ＺＬＩ４７９
２、メルク社製）を注入し、水平配向液晶セルを作製し
た。
【０１４４】（液晶表示装置の作製）作製した水平配向
セルを挟むように、作製した楕円偏光板と第２楕円偏光
板とを貼り付けた。楕円偏光板は光散乱型偏光素子がバ
ックライト側になるように貼り付け、第２楕円偏光板は
光学的等方性セルローストリアセテートフイルムが視認
側になるように貼り付けた。そして、二枚の楕円偏光板
の光学異方性層がセル基板に対面し、液晶セルのラビン
グ方向とそれに対面する光学異方性層のラビング方向と
が反平行となるように配置した。
セルを挟むように、作製した楕円偏光板と第２楕円偏光
板とを貼り付けた。楕円偏光板は光散乱型偏光素子がバ
ックライト側になるように貼り付け、第２楕円偏光板は
光学的等方性セルローストリアセテートフイルムが視認
側になるように貼り付けた。そして、二枚の楕円偏光板
の光学異方性層がセル基板に対面し、液晶セルのラビン
グ方向とそれに対面する光学異方性層のラビング方向と
が反平行となるように配置した。
【０１４５】（液晶表示装置の評価）実施例１３および
１４で作製した液晶表示装置について、視野角と明るさ
を評価した。結果を第１表に示す。
１４で作製した液晶表示装置について、視野角と明るさ
を評価した。結果を第１表に示す。
【０１４６】
【表１】 第１表 ──────────────────────────────────── 液晶表示装置 表示モード 視野角（上／下／左／右） 明るさ ──────────────────────────────────── 実施例１３ ベンド配向 ８０゜／７０゜／７３゜／７３゜ ６００ｃｄ 実施例１４ 水平配向 ７５゜／４５゜／５６゜／５５゜ ４５０ｃｄ ────────────────────────────────────
【０１４７】［実施例１５］ （偏光選択層用塗布液の調製）市販の棒状液晶性化合物
（Ｅ９、メルク・ジャパン（株）製）７．２ｇ、ポリビ
ニルシンナメート０．３ｇ、２−エチルヘキシルアクリ
レート２．４ｇ、光重合開始剤（イルガキュア９０７、
チバガイギー社製）０．１ｇをジクロロメタン４０ｇに
溶解し、孔径３０μｍのテフロン（登録商標）製フィル
ターでろ過して、偏光選択層用塗布液を調製した。
（Ｅ９、メルク・ジャパン（株）製）７．２ｇ、ポリビ
ニルシンナメート０．３ｇ、２−エチルヘキシルアクリ
レート２．４ｇ、光重合開始剤（イルガキュア９０７、
チバガイギー社製）０．１ｇをジクロロメタン４０ｇに
溶解し、孔径３０μｍのテフロン（登録商標）製フィル
ターでろ過して、偏光選択層用塗布液を調製した。
【０１４８】（光散乱型偏光素子の作製）８０μｍの厚
さのセルローストリアセテートフイルム（ＴＡＣ−ＴＤ
８０Ｕ、富士写真フイルム（株）製）に、偏光選択層用
塗布液をバーコーターを用いて塗布し、１２０℃で乾燥
の後、偏光紫外線露光装置（（株）ニコン技術工房製）
を用いて、照度３０ｍＷ／ｃｍ2 、照射量４００ｍＪ／
ｃｍ2 の直線偏光紫外線を照射して塗布層を硬化させ、
厚さ１５μｍの偏光選択層を形成することにより光散乱
型偏光素子を作製した。
さのセルローストリアセテートフイルム（ＴＡＣ−ＴＤ
８０Ｕ、富士写真フイルム（株）製）に、偏光選択層用
塗布液をバーコーターを用いて塗布し、１２０℃で乾燥
の後、偏光紫外線露光装置（（株）ニコン技術工房製）
を用いて、照度３０ｍＷ／ｃｍ2 、照射量４００ｍＪ／
ｃｍ2 の直線偏光紫外線を照射して塗布層を硬化させ、
厚さ１５μｍの偏光選択層を形成することにより光散乱
型偏光素子を作製した。
【０１４９】（偏光板の作製）作製した光散乱型偏光素
子と、市販の光吸収型偏光素子とを接着剤を介して積層
し、偏光板を作製した。
子と、市販の光吸収型偏光素子とを接着剤を介して積層
し、偏光板を作製した。
【０１５０】［実施例１６］ （偏光選択層用塗布液の調製）棒状液晶性化合物（Ｎ２
６）を４．５ｇ、ジペンタエリスリトールペンタアクリ
レートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの
混合物（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）０．３ｇ、光配
向性ポリマー（ＰＡ−１、光異性化ポリマー）０．１
ｇ、光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバガイギー
社製）０．１ｇを酢酸エチル１５．０ｇに溶解し、孔径
３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、光
学的異方性相を調製した。一方、ゼラチン（６８１、新
田ゼラチン（株）製）１０ｇを水９０ｇに溶解し、さら
に界面活性剤としてドデシルベンゼンスルホン酸ナトリ
ウム０．２ｇを添加、溶解後、孔径３０μｍのポリプロ
ピレン製フィルターでろ過して、光学的等方性相を調製
した。光学的異方性相１０ｇと光学的等方性相１０ｇと
を混合した液を６０℃に加温し、超音波分散によりこの
液を分散して偏光選択層用塗布液を調製した。
６）を４．５ｇ、ジペンタエリスリトールペンタアクリ
レートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの
混合物（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）０．３ｇ、光配
向性ポリマー（ＰＡ−１、光異性化ポリマー）０．１
ｇ、光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバガイギー
社製）０．１ｇを酢酸エチル１５．０ｇに溶解し、孔径
３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、光
学的異方性相を調製した。一方、ゼラチン（６８１、新
田ゼラチン（株）製）１０ｇを水９０ｇに溶解し、さら
に界面活性剤としてドデシルベンゼンスルホン酸ナトリ
ウム０．２ｇを添加、溶解後、孔径３０μｍのポリプロ
ピレン製フィルターでろ過して、光学的等方性相を調製
した。光学的異方性相１０ｇと光学的等方性相１０ｇと
を混合した液を６０℃に加温し、超音波分散によりこの
液を分散して偏光選択層用塗布液を調製した。
【０１５１】（光散乱型偏光素子の作製）ゼラチン下塗
り層を有する１００μｍの厚さのセルローストリアセテ
ートフイルム（富士写真フイルム（株）製）に、上記の
偏光選択層用塗布液をカーテンコート法により塗布し、
１０℃にてゼラチンをセットさせた後、２５℃で乾燥の
後、１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイ
グラフィックス（株）製、波長範囲２００〜５００ｎ
ｍ、最大波長３６５ｎｍ）を用い、光をコリメートして
平行光にしてから入射角４５°、照度２００ｍＷ／ｃｍ
2 、照射量４００ｍＪ／ｃｍ2 の紫外線を照射して塗布
層を硬化させ、厚さ３０μｍの偏光選択層を形成するこ
とにより光散乱型偏光素子を作製した。
り層を有する１００μｍの厚さのセルローストリアセテ
ートフイルム（富士写真フイルム（株）製）に、上記の
偏光選択層用塗布液をカーテンコート法により塗布し、
１０℃にてゼラチンをセットさせた後、２５℃で乾燥の
後、１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイ
グラフィックス（株）製、波長範囲２００〜５００ｎ
ｍ、最大波長３６５ｎｍ）を用い、光をコリメートして
平行光にしてから入射角４５°、照度２００ｍＷ／ｃｍ
2 、照射量４００ｍＪ／ｃｍ2 の紫外線を照射して塗布
層を硬化させ、厚さ３０μｍの偏光選択層を形成するこ
とにより光散乱型偏光素子を作製した。
【０１５２】（偏光板の作製）作製した光散乱型偏光素
子と、市販の光吸収型偏光素子とを接着剤を介して積層
し、偏光板を作製した。
子と、市販の光吸収型偏光素子とを接着剤を介して積層
し、偏光板を作製した。
【０１５３】［実施例１７］ （偏光選択層用塗布液の調製）光配向性ポリマー（ＰＡ
−５、光二量化ポリマー）４．６ｇ、ジペンタエリスリ
トールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘ
キサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）
製）０．３ｇ、光重合開始剤（イルガキュア９０７、チ
バガイギー社製）０．１ｇを酢酸エチル１５．０ｇに溶
解し、孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ
過して、光学的異方性相を調製した。光学的異方性相１
０ｇと実施例１６で調製した光学的等方性相１０ｇとを
混合した液を６０℃に加温し、超音波分散によりこの液
を分散して偏光選択層用塗布液を調製した。
−５、光二量化ポリマー）４．６ｇ、ジペンタエリスリ
トールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘ
キサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）
製）０．３ｇ、光重合開始剤（イルガキュア９０７、チ
バガイギー社製）０．１ｇを酢酸エチル１５．０ｇに溶
解し、孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ
過して、光学的異方性相を調製した。光学的異方性相１
０ｇと実施例１６で調製した光学的等方性相１０ｇとを
混合した液を６０℃に加温し、超音波分散によりこの液
を分散して偏光選択層用塗布液を調製した。
【０１５４】（光散乱型偏光素子の作製）８０μｍの厚
さのセルローストリアセテートフイルム（ＴＡＣ−ＴＤ
８０Ｕ、富士写真フイルム（株）製）に、上記の偏光選
択層用塗布液をカーテンコート法により塗布し、１０℃
にてゼラチンをセットさせた後、２５℃で乾燥の後、偏
光紫外線露光装置（（株）ニコン技術工房製）を用い
て、照度３０ｍＷ／ｃｍ2 、照射量４００ｍＪ／ｃｍ2
の直線偏光紫外線を照射して塗布層を硬化させ、厚さ３
０μｍの偏光選択層を形成することにより光散乱型偏光
素子を作製した。
さのセルローストリアセテートフイルム（ＴＡＣ−ＴＤ
８０Ｕ、富士写真フイルム（株）製）に、上記の偏光選
択層用塗布液をカーテンコート法により塗布し、１０℃
にてゼラチンをセットさせた後、２５℃で乾燥の後、偏
光紫外線露光装置（（株）ニコン技術工房製）を用い
て、照度３０ｍＷ／ｃｍ2 、照射量４００ｍＪ／ｃｍ2
の直線偏光紫外線を照射して塗布層を硬化させ、厚さ３
０μｍの偏光選択層を形成することにより光散乱型偏光
素子を作製した。
【０１５５】（偏光板の作製）作製した光散乱型偏光素
子と、市販の光吸収型偏光素子とを接着剤を介して積層
し、偏光板を作製した。
子と、市販の光吸収型偏光素子とを接着剤を介して積層
し、偏光板を作製した。
【０１５６】［比較例１］ （偏光選択層用塗布液の調製）市販の棒状液晶性化合物
（Ｅ９、メルク・ジャパン（株）製）７．５ｇ、２−エ
チルヘキシルアクリレート２．４ｇ、光重合開始剤（イ
ルガキュア９０７、チバガイギー社製）０．１ｇをジク
ロロメタン４０ｇに溶解し、孔径３０μｍのテフロン製
フィルターでろ過して、偏光選択層用塗布液を調製し
た。
（Ｅ９、メルク・ジャパン（株）製）７．５ｇ、２−エ
チルヘキシルアクリレート２．４ｇ、光重合開始剤（イ
ルガキュア９０７、チバガイギー社製）０．１ｇをジク
ロロメタン４０ｇに溶解し、孔径３０μｍのテフロン製
フィルターでろ過して、偏光選択層用塗布液を調製し
た。
【０１５７】（光散乱型偏光素子の作製）８０μｍの厚
さのセルローストリアセテートフイルム（ＴＡＣ−ＴＤ
８０Ｕ、富士写真フイルム（株）製）に、上記の偏光選
択層用塗布液をバーコーターを用いて塗布し、１２０℃
で乾燥の後、偏光紫外線露光装置（（株）ニコン技術工
房製）を用いて、照度３０ｍＷ／ｃｍ2 、照射量４００
ｍＪ／ｃｍ2 の直線偏光紫外線を照射して塗布層を硬化
させ、厚さ１５μｍの偏光選択層を形成することにより
光散乱型偏光素子を作製した。
さのセルローストリアセテートフイルム（ＴＡＣ−ＴＤ
８０Ｕ、富士写真フイルム（株）製）に、上記の偏光選
択層用塗布液をバーコーターを用いて塗布し、１２０℃
で乾燥の後、偏光紫外線露光装置（（株）ニコン技術工
房製）を用いて、照度３０ｍＷ／ｃｍ2 、照射量４００
ｍＪ／ｃｍ2 の直線偏光紫外線を照射して塗布層を硬化
させ、厚さ１５μｍの偏光選択層を形成することにより
光散乱型偏光素子を作製した。
【０１５８】（偏光板の作製）作製した光散乱型偏光素
子と、市販の光吸収型偏光素子とを接着剤を介して積層
し、偏光板を作製した。
子と、市販の光吸収型偏光素子とを接着剤を介して積層
し、偏光板を作製した。
【０１５９】［比較例２］実施例１５の光散乱型偏光素
子の作製において、光を照射しなかったこと以外は同様
にして、光散乱型偏光素子および偏光板を作製した。
子の作製において、光を照射しなかったこと以外は同様
にして、光散乱型偏光素子および偏光板を作製した。
【０１６０】（光散乱型偏光素子の評価） １．屈折率 光学的異方性相および光学的等方性相の屈折率をアッベ
屈折率計により測定した。光学的異方性相の屈折率を測
定する際には、光学的異方性化合物に光配向性化合物を
混合した液を高屈折率ガラスに塗布し、直線偏光を照射
して配向させてから測定した。光学的等方性相は、ポリ
マーそのものあるいは必要に応じて添加した添加剤を含
んだものを高屈折率ガラスに塗布し、測定した。屈折率
の測定結果を第２表に示す。
屈折率計により測定した。光学的異方性相の屈折率を測
定する際には、光学的異方性化合物に光配向性化合物を
混合した液を高屈折率ガラスに塗布し、直線偏光を照射
して配向させてから測定した。光学的等方性相は、ポリ
マーそのものあるいは必要に応じて添加した添加剤を含
んだものを高屈折率ガラスに塗布し、測定した。屈折率
の測定結果を第２表に示す。
【０１６１】
【表２】 第２表 ──────────────────────────────────── 光学的異方性化合物 光学的等方性化合物 光散乱型偏光素子 ｎ１ ｎ２ ｎ３ ──────────────────────────────────── 実施例１５ １．７８ １．５３ １．５３ 実施例１６ １．６６ １．５３ １．５３ 実施例１７ １．６４ １．５３ １．５３ 比較例１ １．７８ １．５３ １．５３ 比較例２ １．７８ １．５３ １．５３ ────────────────────────────────────
【０１６２】２．光線透過率、光散乱性（ヘイズ） 光散乱型偏光素子の光線透過率および光散乱性（ヘイ
ズ）をヘイズメーター（ＭＯＤＥＬ１００１ＤＰ、日本
電色工業（株）製）を用いて測定した。測定は光源とフ
イルムの間に偏光素子を挿入して行い、偏光素子の透過
軸と偏光選択層の透過軸を同じにしたものを平行、直交
させたものを直交として。光線透過率は全光線透過率
を、光散乱性はヘイズを指標として評価した。偏光選択
性がある場合、平行の方が直交に比べて高透過率、低ヘ
イズとなる。光線透過率、光散乱性の測定結果を第３表
に示す。
ズ）をヘイズメーター（ＭＯＤＥＬ１００１ＤＰ、日本
電色工業（株）製）を用いて測定した。測定は光源とフ
イルムの間に偏光素子を挿入して行い、偏光素子の透過
軸と偏光選択層の透過軸を同じにしたものを平行、直交
させたものを直交として。光線透過率は全光線透過率
を、光散乱性はヘイズを指標として評価した。偏光選択
性がある場合、平行の方が直交に比べて高透過率、低ヘ
イズとなる。光線透過率、光散乱性の測定結果を第３表
に示す。
【０１６３】３．面状 光散乱型偏光素子の面状を、透過軸を直交させた２枚の
偏光素子の間に試料を挟み、偏光素子の間で試料の方向
を回転させながら観察した。測定結果は第３表に示す。
偏光素子の間に試料を挟み、偏光素子の間で試料の方向
を回転させながら観察した。測定結果は第３表に示す。
【０１６４】
【表３】 第３表 ──────────────────────────────────── 光散乱型 全光線透過率 ヘイズ 面状 偏光素子 平行 直交 平行 直交 ──────────────────────────────────── 実施例１５ ８５．３ ４６．２ ５．３ ８２．３ 均一 実施例１６ ８０．２ ５５．７ １０．２ ６３．８ 均一 実施例１７ ８２．９ ５１．０ ８．８ ７９．４ 均一 比較例１ ５９．２ ６１．４ ２８．２ ２８．６ 散乱の異方性なし 比較例２ ６７．４ ６６．３ ３１．８ ３３．３ 散乱の異方性なし ──────────────────────────────────── 註：全光線透過率の単位は、％である。
【０１６５】実施例１５〜１７の光散乱型偏光素子の透
過率は、いずれも平行では８０％以上、直交で２０％以
下となり高い偏光選択性を示した。実施例１５〜１７は
いずれもほとんど着色が無いため、ここで直交における
透過しなかった光は全て後方散乱されたと考えられる。
このフイルムを液晶表示装置に用いることにより、大き
な光の利用効率の向上が期待できる。実施例１６は、本
来の光学的異方性化合物の有するΔｎに比べると偏光選
択性が小さかったが、これは光照射により充分に異方性
が発揮されなかったためであり、直線偏光照射の方がよ
り優れた性能となることを示している。比較例１、２は
偏光選択性を示さなかった。これは比較例１は光配向性
化合物を含まなかったため、比較例２は光照射を行わな
かったため、光学的異方性化合物が配向しなかったため
と考えられる。実際、４００倍の偏光顕微鏡下で観察を
行ったところ、小さなドメイン内で任意の方向に配向し
ていた。
過率は、いずれも平行では８０％以上、直交で２０％以
下となり高い偏光選択性を示した。実施例１５〜１７は
いずれもほとんど着色が無いため、ここで直交における
透過しなかった光は全て後方散乱されたと考えられる。
このフイルムを液晶表示装置に用いることにより、大き
な光の利用効率の向上が期待できる。実施例１６は、本
来の光学的異方性化合物の有するΔｎに比べると偏光選
択性が小さかったが、これは光照射により充分に異方性
が発揮されなかったためであり、直線偏光照射の方がよ
り優れた性能となることを示している。比較例１、２は
偏光選択性を示さなかった。これは比較例１は光配向性
化合物を含まなかったため、比較例２は光照射を行わな
かったため、光学的異方性化合物が配向しなかったため
と考えられる。実際、４００倍の偏光顕微鏡下で観察を
行ったところ、小さなドメイン内で任意の方向に配向し
ていた。
【０１６６】［実施例１８］ （光の利用効率改善の確認）実施例１７で作製した偏光
板をアルミニウムでできた反射板の上に偏光選択層を反
射板側にして置いて観察したところ、光散乱型偏光素子
の方が反射板が明るく見えた。これは外光が反射板で反
射し、反射光が偏光選択層において透過軸の偏光のみ透
過し、後方散乱した光が再度反射板で反射して偏光選択
層に到達することによって光の利用効率が上がったこと
を示している。
板をアルミニウムでできた反射板の上に偏光選択層を反
射板側にして置いて観察したところ、光散乱型偏光素子
の方が反射板が明るく見えた。これは外光が反射板で反
射し、反射光が偏光選択層において透過軸の偏光のみ透
過し、後方散乱した光が再度反射板で反射して偏光選択
層に到達することによって光の利用効率が上がったこと
を示している。
【０１６７】［実施例１９］実施例１７の偏光板を用
い、図４に示す構成の液晶表示装置を作製した。
い、図４に示す構成の液晶表示装置を作製した。
【０１６８】［比較例３］光学干渉による偏光選択層を
有する市販の輝度上昇フイルム（ＤＢＥＦ、３Ｍ製）を
用い、図４に示す構成の液晶表示装置を作製した。
有する市販の輝度上昇フイルム（ＤＢＥＦ、３Ｍ製）を
用い、図４に示す構成の液晶表示装置を作製した。
【０１６９】（液晶表示装置の評価）光散乱型偏光素子
を用いた実施例１９の液晶表示装置は、正面だけでなく
斜めから見たときも明らかに輝度の上昇が見られた。一
方、比較例３の液晶表示装置は、正面は輝度が上昇して
いるものの、斜めから見たときはほとんど輝度の上昇は
なかった。
を用いた実施例１９の液晶表示装置は、正面だけでなく
斜めから見たときも明らかに輝度の上昇が見られた。一
方、比較例３の液晶表示装置は、正面は輝度が上昇して
いるものの、斜めから見たときはほとんど輝度の上昇は
なかった。
【図１】光学フイルムの基本的な構成を示す断面模式図
である。
である。
【図２】光吸収型偏光素子のみを用いた従来の液晶表示
装置を示す断面模式図である。
装置を示す断面模式図である。
【図３】光吸収型偏光素子と光散乱型偏光素子とを積層
せずに用いた液晶表示装置を示す断面模式図である。
せずに用いた液晶表示装置を示す断面模式図である。
【図４】光吸収型偏光素子と光散乱型偏光素子とを積層
した偏光板を用いた液晶表示装置を示す断面模式図であ
る。
した偏光板を用いた液晶表示装置を示す断面模式図であ
る。
【図５】光吸収型偏光素子と光散乱型偏光素子とを積層
した偏光板を用いた別の液晶表示装置を示す断面模式図
である。
した偏光板を用いた別の液晶表示装置を示す断面模式図
である。
【図６】実施例１２で作製した液晶表示装置の断面模式
図である。
図である。
１ 透明支持体 ２ 光吸収型偏光素子 ３ 光学異方性層付き透明支持体 ４ ＴＮ液晶セル ５ 光学異方性層付き透明支持体 ６ 光吸収型偏光素子 ７ 光散乱型偏光素子 ８ バックライト ９ 偏光板 １１ 透明支持体 １２ 偏光選択層 １３ 光学的等方性連続相 １４ 光学的異方性不連続相 ２１ バックライト光源 ２２ 反射板 ２３ 導光板 ２４ 下側光吸収型偏光素子 ２５ 上側光吸収型偏光素子 ２６ 液晶セル ３１ 光散乱型偏光素子 ３２ 偏光板 ３３ 散乱シート ３４ 集光性フイルム ３５ 反射防止層 ３６ λ／４板
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 網中 英一郎 神奈川県南足柄市中沼210番地 富士写真 フイルム株式会社内 Ｆターム(参考） 2H049 BA02 BA03 BA04 BA07 BA25 BA27 BA44 BA47 BB03 BB33 BB43 BB49 BB51 BB63 BB65 BC03 BC04 BC05 BC09 BC14 BC22 2H091 FA08X FA10Z FA11Z FA29Z FA32Z FA41Z FD06 HA06 HA07 LA16
Claims (28)
- 【請求項１】 所定の偏光を選択的に透過し他の偏光を
選択的に反射または散乱する偏光選択層を有する光散乱
型偏光素子と、所定の偏光を選択的に透過し他の偏光を
選択的に吸収する偏光選択層を有する光吸収型偏光素子
とが積層されている偏光板。 - 【請求項２】 さらに、少なくとも一枚の透明支持体を
有する請求項１に記載の偏光板。 - 【請求項３】 光散乱型偏光素子が、透明支持体と偏光
選択層とからなる請求項１または２に記載の偏光板。 - 【請求項４】 光散乱型偏光素子の偏光選択層が光学的
等方性連続相と光学的異方性不連続相とからなる請求項
１乃至３のいずれか一項に記載の偏光板。 - 【請求項５】 光散乱型偏光素子の偏光透過軸と光吸収
型偏光素子の偏光透過軸とが実質的に平行となるように
配置されている請求項１乃至４のいずれか一項に記載の
偏光板。 - 【請求項６】 光学的等方性連続相が、高分子化合物を
含む請求項４に記載の偏光板。 - 【請求項７】 偏光選択層の面内の方向において、光学
的等方性連続相の屈折率と、光学異方性不連続相の屈折
率との差の最小値が０．０５未満である請求項４または
６に記載の偏光板。 - 【請求項８】 偏光選択層の面内の方向において、光学
的等方性連続相の屈折率と、光学異方性不連続相の屈折
率との差の最大値が０．０５以上である請求項４、６、
７のいずれか一項に記載の偏光板。 - 【請求項９】 光学的異方性不連続相が、０．０１乃至
１０μｍの平均径を有する請求項４、６、７、８のいず
れか一項に記載の偏光板。 - 【請求項１０】 光学的異方性不連続相が、液晶性化合
物を含む請求項４、６、７、８、９のいずれか一項に記
載の偏光板。 - 【請求項１１】 光学的異方性不連続相が、重合性基を
有する液晶性化合物の重合生成物を含む請求項４、６、
７、８、９のいずれか一項に記載の偏光板。 - 【請求項１２】 光学的異方性不連続相が、光配向性官
能基を有する化合物を含む請求項４、６、７、８、９、
１０、１１のいずれか一項に記載の偏光板。 - 【請求項１３】 光配向性官能基を有する化合物を含む
不連続相に光照射することにより、光学的異方性不連続
相が形成されている請求項２に記載の偏光板。 - 【請求項１４】 光吸収型偏光素子の偏光度が９９％以
上である請求項１に記載の偏光板。 - 【請求項１５】 透明支持体が、セルローストリアセテ
ートフイルムからなる請求項２に記載の偏光板。 - 【請求項１６】 セルローストリアセテートフイルム
が、ハロゲン化炭化水素を溶媒として実質的に使用せず
に製造されたフイルムである請求項１５に記載の偏光
板。 - 【請求項１７】 さらに、ディスコティック化合物から
なる光学異方層を有し、光学異方層、光吸収型偏光素
子、そして光散乱型偏光素子の順に積層されている請求
項１に記載の偏光板。 - 【請求項１８】 光学的等方性連続相を形成する材料中
に光学的異方性不連続相を形成する材料を分散した後、
透明支持体上に塗設し、次いで光照射することにより、
光学的等方性連続相と光学的異方性不連続相とは直交す
る直線偏光の一方に対する屈折率がほぼ同じで、他方に
対する屈折率が異なる偏光選択層を形成する光散乱型偏
光素子の製造方法。 - 【請求項１９】 バックライトおよび偏光板を備えた液
晶表示装置であって、偏光板として、請求項１または請
求項１７に記載の偏光板を光散乱型偏光素子がバックラ
イト側となるように配置したことを特徴とする液晶表示
装置。 - 【請求項２０】 バックライト、偏光板、ツイストネマ
チック配向モードの液晶セル、そして偏光板が、この順
に積層されている液晶表示装置であって、バックライト
側の偏光板が、バックライト側から順に、所定の偏光を
選択的に透過し他の偏光を選択的に反射または散乱する
偏光選択層を有する光散乱型偏光素子と、所定の偏光を
選択的に透過し他の偏光を選択的に吸収する偏光選択層
を有する光吸収型偏光素子とが積層されており、光散乱
型偏光素子の偏光透過軸と光吸収型偏光素子の偏光透過
軸とが実質的に平行となるように配置されており、そし
て、光散乱型偏光選択素子の偏光選択層が光学的等方性
連続相と光学的異方性不連続相とからなる液晶表示装
置。 - 【請求項２１】 バックライト側の偏光板が、バックラ
イト側から順に、上記の光散乱型偏光素子、上記の光吸
収型偏光素子、透明支持体、そして、ディスコティック
化合物からなる光学異方性層が積層されている請求項２
０に記載の液晶表示装置。 - 【請求項２２】 透明支持体が光学異方性を有し、ディ
スコティック化合物の円盤面の法線の該透明支持体面へ
の正射影の平均方向と該透明支持体の面内遅相軸との角
度が実質的に平行または実質的に垂直になり、さらに、
該透明支持体の面内遅相軸と光吸収型偏光素子の面内透
過軸とが実質的に平行または実質的に垂直になるよう
に、光学異方性層、透明支持体および光吸収型偏光素子
が配置されている請求項２１に記載の液晶表示装置。 - 【請求項２３】 バックライト、偏光板、ベンド配向モ
ードの液晶セル、そして偏光板が、この順に積層されて
いる液晶表示装置であって、バックライト側の偏光板
が、バックライト側から順に、所定の偏光を選択的に透
過し他の偏光を選択的に反射または散乱する偏光選択層
を有する光散乱型偏光素子と、所定の偏光を選択的に透
過し他の偏光を選択的に吸収する偏光選択層を有する光
吸収型偏光素子とが積層されており、光散乱型偏光素子
の偏光透過軸と光吸収型偏光素子の偏光透過軸とが実質
的に平行となるように配置されており、そして、光散乱
型偏光選択素子の偏光選択層が光学的等方性連続相と光
学的異方性不連続相とからなる液晶表示装置。 - 【請求項２４】 バックライト側の偏光板が、バックラ
イト側から順に、上記の光散乱型偏光素子、上記の光吸
収型偏光素子、透明支持体、そして、ディスコティック
化合物からなる光学異方性層が積層されている請求項２
３に記載の液晶表示装置。 - 【請求項２５】 透明支持体が光学異方性を有し、ディ
スコティック化合物の円盤面の法線の該透明支持体面へ
の正射影の平均方向と該透明支持体の面内遅相軸との角
度が実質的に４５゜になり、さらに、該透明支持体の面
内遅相軸と光吸収型偏光素子の面内透過軸とが実質的に
平行または実質的に垂直になるように、光学異方性層、
透明支持体および光吸収型偏光素子が配置されている請
求項２４に記載の液晶表示素子。 - 【請求項２６】 バックライト、偏光板、水平配向モー
ドの液晶セル、そして偏光板が、この順に積層されてい
る液晶表示装置であって、バックライト側の偏光板が、
バックライト側から順に、所定の偏光を選択的に透過し
他の偏光を選択的に反射または散乱する偏光選択層を有
する光散乱型偏光素子と、所定の偏光を選択的に透過し
他の偏光を選択的に吸収する偏光選択層を有する光吸収
型偏光素子とが積層されており、光散乱型偏光素子の偏
光透過軸と光吸収型偏光素子の偏光透過軸とが実質的に
平行となるように配置されており、そして、光散乱型偏
光選択素子の偏光選択層が光学的等方性連続相と光学的
異方性不連続相とからなる液晶表示装置。 - 【請求項２７】 バックライト側の偏光板が、バックラ
イト側から順に、上記の光散乱型偏光素子、上記の光吸
収型偏光素子、透明支持体、そして、ディスコティック
化合物からなる光学異方性層が積層されている請求項２
６に記載の液晶表示装置。 - 【請求項２８】 透明支持体が光学異方性を有し、ディ
スコティック化合物の円盤面の法線の該透明支持体面へ
の正射影の平均方向と該透明支持体の面内遅相軸との角
度が実質的に４５゜になり、そして、該透明支持体の面
内遅相軸と偏光素子の面内透過軸とが実質的に平行また
は実質的に垂直になるように、光学異方性層、透明支持
体および光吸収型偏光素子が配置されていることを特徴
とする請求項２７に記載の液晶表示装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001020434A JP2002006139A (ja) | 2000-01-27 | 2001-01-29 | 偏光板、光散乱型偏光素子の製造方法および液晶表示装置 |
Applications Claiming Priority (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000-18763 | 2000-01-27 | ||
| JP2000018763 | 2000-01-27 | ||
| JP2000116529 | 2000-04-18 | ||
| JP2000-116529 | 2000-04-18 | ||
| JP2001020434A JP2002006139A (ja) | 2000-01-27 | 2001-01-29 | 偏光板、光散乱型偏光素子の製造方法および液晶表示装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002006139A true JP2002006139A (ja) | 2002-01-09 |
Family
ID=27342154
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001020434A Withdrawn JP2002006139A (ja) | 2000-01-27 | 2001-01-29 | 偏光板、光散乱型偏光素子の製造方法および液晶表示装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2002006139A (ja) |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2005091022A1 (ja) * | 2004-03-22 | 2005-09-29 | Nitto Denko Corporation | 円偏光板、光学フィルムおよび画像表示装置 |
| JP2006171102A (ja) * | 2004-12-13 | 2006-06-29 | Fuji Photo Film Co Ltd | 光学補償板の製造方法 |
| CN1325978C (zh) * | 2003-09-29 | 2007-07-11 | 精工爱普生株式会社 | 液晶装置及使用该装置的电子设备 |
| KR100831157B1 (ko) * | 2002-03-06 | 2008-05-20 | 엘지디스플레이 주식회사 | 편광판 및 그 편광판을 이용한 액정표시장치 |
| WO2012050047A1 (ja) * | 2010-10-12 | 2012-04-19 | シャープ株式会社 | 表示装置 |
| KR101536299B1 (ko) * | 2014-07-03 | 2015-07-14 | 나만호 | 영상디스플레이소자 |
| JP2015132852A (ja) * | 2007-01-11 | 2015-07-23 | ピーピージー・インダストリーズ・オハイオ・インコーポレイテッドＰＰＧ Ｉｎｄｕｓｔｒｉｅｓ Ｏｈｉｏ，Ｉｎｃ． | 光に影響を及ぼす特性を有する光学要素 |
| KR101606464B1 (ko) * | 2014-06-05 | 2016-03-25 | 주식회사 디닷 | 영상디스플레이 광학 구조 |
-
2001
- 2001-01-29 JP JP2001020434A patent/JP2002006139A/ja not_active Withdrawn
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100831157B1 (ko) * | 2002-03-06 | 2008-05-20 | 엘지디스플레이 주식회사 | 편광판 및 그 편광판을 이용한 액정표시장치 |
| CN1325978C (zh) * | 2003-09-29 | 2007-07-11 | 精工爱普生株式会社 | 液晶装置及使用该装置的电子设备 |
| WO2005091022A1 (ja) * | 2004-03-22 | 2005-09-29 | Nitto Denko Corporation | 円偏光板、光学フィルムおよび画像表示装置 |
| JP2006171102A (ja) * | 2004-12-13 | 2006-06-29 | Fuji Photo Film Co Ltd | 光学補償板の製造方法 |
| JP2015132852A (ja) * | 2007-01-11 | 2015-07-23 | ピーピージー・インダストリーズ・オハイオ・インコーポレイテッドＰＰＧ Ｉｎｄｕｓｔｒｉｅｓ Ｏｈｉｏ，Ｉｎｃ． | 光に影響を及ぼす特性を有する光学要素 |
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| KR101606464B1 (ko) * | 2014-06-05 | 2016-03-25 | 주식회사 디닷 | 영상디스플레이 광학 구조 |
| KR101536299B1 (ko) * | 2014-07-03 | 2015-07-14 | 나만호 | 영상디스플레이소자 |
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Legal Events
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