JPWO2019156027A1 - 積層体、積層体の製造方法および画像表示装置 - Google Patents

Abstract

本発明は、光吸収異方性膜とバリア層との密着性に優れた積層体およびその製造方法ならびにそれを用いた画像表示装置を提供することを課題とする。本発明の積層体は、バリア層Ａと、光吸収異方性膜Ｂとを有する積層体であって、バリア層Ａが、光吸収異方性膜Ｂ上に隣接して設けられており、バリア層Ａに含まれる最も含有量の多い化合物Ａ１と、光吸収異方性膜Ｂに含まれる最も含有量の多い化合物Ｂ１との関係が、ハンセン溶解度パラメータから計算され、下記式（Ｉ）で表されるｄｉｓｔａｎｃｅの値が０．０〜５．０の範囲となる関係を満たし、光吸収異方性膜Ｂが、化合物Ａ１と同じ成分を含有している、積層体である。

Description

本発明は、積層体、積層体の製造方法および画像表示装置に関する。

従来、レーザー光や自然光を含む照射光の減衰機能、偏光機能、散乱機能、遮光機能等が必要となった際には、それぞれの機能ごとに異なった原理によって作動する装置を利用していた。そのため、上記の機能に対応する製品も、それぞれの機能別に異なった製造工程によって製造されていた。
例えば、液晶ディスプレイ（liquid crystal display：ＬＣＤ）では、表示における旋光性や複屈折性を制御するために直線偏光板や円偏光板が用いられている。また、有機発光ダイオード（Organic Light Emitting Diode：ＯＬＥＤ）においても、外光の反射防止のために円偏光板が使用されている。

これらの偏光板（偏光素子）には、ヨウ素が二色性物質として広く使用されてきたが、ヨウ素の代わりに有機色素を二色性物質として使用する偏光素子についても検討されている。
例えば、特許文献１には、所定のアゾ系色素と重合性液晶化合物とを含む組成物から形成される偏光膜が記載されている（［請求項１］）。

特開２０１６−００６５０２号公報

本発明者らは、特許文献１に記載された偏光膜について検討したところ、偏光膜を含む積層体の層構成によっては、高温耐久性および湿熱耐久性が劣ることを明らかとした。
そして、本発明者らは、耐久性改善の観点から、偏光膜の隣接するバリア層を設けた態様について検討したところ、二色性物質の配向度が高い場合などには、バリア層と偏光膜との密着性が劣ることを明らかとした。

そこで、本発明は、光吸収異方性膜とバリア層との密着性に優れた積層体およびその製造方法ならびにそれを用いた画像表示装置を提供することを課題とする。

本発明者らは、上記課題を達成すべく鋭意検討した結果、光吸収異方性膜およびバリア層の各層に含まれる最大含有量の化合物同士の関係が、ハンセン溶解度パラメータから計算されるｄｉｓｔａｎｃｅの値が所定の範囲を満たすことにより、光吸収異方性膜とバリア層との密着性が良好となることを見出し、本発明を完成させた。
すなわち、以下の構成により上記課題を達成することができることを見出した。

［１］ バリア層Ａと、光吸収異方性膜Ｂとを有する積層体であって、
バリア層Ａが、光吸収異方性膜Ｂ上に隣接して設けられており、
バリア層Ａに含まれる最も含有量の多い化合物Ａ１と、光吸収異方性膜Ｂに含まれる最も含有量の多い化合物Ｂ１との関係が、ハンセン溶解度パラメータから計算され、後述する式（Ｉ）で表されるｄｉｓｔａｎｃｅの値が０．０〜５．０の範囲となる関係を満たし、
光吸収異方性膜Ｂが、化合物Ａ１と同じ成分を含有している、積層体。

［２］ 光吸収異方性膜Ｂのバリア層Ａとは反対側に透明支持体を有し、
透明支持体と光吸収異方性膜Ｂとの間に、配向膜を有する、［１］に記載の積層体。
［３］ 配向膜が、化合物Ａ１と同じ成分を含有している、［２］に記載の積層体。
［４］ 光吸収異方性膜Ｂの視感度補正した配向度が０．９０以上である、［１］〜［３］のいずれかに記載の積層体。
［５］ 化合物Ｂ１が、後述する式（Ｉ）で表される化合物またはその重合体である、［１］〜［４］のいずれかに記載の積層体。

［６］ 光吸収異方性膜Ｂが、化合物Ｂ１と二色性物質とを含有する組成物を用いて形成される膜である、［１］〜［５］のいずれかに記載の積層体。
［７］ 更に、バリア層Ａの光吸収異方性膜Ｂ側とは反対側に接着層を有する、［１］〜［６］のいずれかに記載の積層体。
［８］ 更に、接着層のバリア層Ａ側とは反対側にλ／４板を有する、［７］に記載の積層体。

［９］ バリア層Ａと、光吸収異方性膜Ｂとを有する積層体を作製する積層体の製造方法であって、
化合物Ｂ１を含有する組成物を用いて、化合物Ｂ１を５０質量％以上含有する光吸収異方性膜Ｂを形成する、光吸収異方性膜形成工程と、
光吸収異方性膜Ｂ上に、化合物Ａ１を含有する組成物を用いて、化合物Ａ１を５０質量％以上含有するバリア層Ａを形成する、バリア層形成工程とを有し、
化合物Ａ１と化合物Ｂ１との関係が、ハンセン溶解度パラメータから計算され、後述する式（Ｉ）で表されるｄｉｓｔａｎｃｅの値が０．０〜５．０の範囲となる関係を満たす、積層体の製造方法。

［１０］ ［１］〜［８］のいずれかに記載の積層体と、積層体におけるバリア層Ａの光吸収異方性膜Ｂ側とは反対側に設置された表示素子と、を有する、画像表示装置。

本発明によれば、光吸収異方性膜とバリア層との密着性に優れた積層体およびその製造方法ならびにそれを用いた画像表示装置を提供することができる。

図１は、本発明の積層体の一例を示す模式的な断面図である。 図２は、本発明の積層体の一例を示す模式的な断面図である。 図３は、比較例の積層体の一例を示す模式的な断面図である。 図４は、比較例の積層体の一例を示す模式的な断面図である。

以下、本発明について詳細に説明する。
以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施態様に限定されるものではない。
なお、本明細書において、「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。
また、本明細書において、「（メタ）アクリル」とは、「アクリル」または「メタクリル」を意味する表記であり、「（メタ）アクリレート」とは、「アクリレート」または「メタクリレート」を意味する表記である。

［積層体］
本発明の積層体は、バリア層Ａと、光吸収異方性膜Ｂとを有する積層体である。
また、本発明の積層体は、バリア層Ａが、光吸収異方性膜Ｂ上に隣接して設けられている。
また、本発明の積層体が有するバリア層Ａに含まれる最も含有量の多い化合物Ａ１と、光吸収異方性膜Ｂに含まれる最も含有量の多い化合物Ｂ１との関係が、ハンセン溶解度パラメータ（以下、「ＨＳＰ値」ともいう。）から計算され、下記式（Ｉ）で表されるｄｉｓｔａｎｃｅの値が０．０〜５．０の範囲となる関係を満たしている。
また、本発明の積層体が有する光吸収異方性膜Ｂが、化合物Ａ１と同じ成分を含有している。

上記式（Ｉ）中、δ_Ｄは、ハンセン溶解度パラメータの分散項であり、δ_Ｐは、ハンセン溶解度パラメータの極性項であり、δ_Ｈは、ハンセン溶解度パラメータの水素結合項を表す。
ただし、上記化合物Ａ１が重合体である場合、上記式（Ｉ）中のδ_{Ｄ（Ａ１）}、δ_{Ｐ（Ａ１）}およびδ_{Ｈ（Ａ１）}は、重合体を構成する繰り返し単位のうち、最も含有量の多い繰り返し単位を形成する単量体のハンセン溶解度パラメータであり、
また、上記化合物Ａ１が重合体である場合、光吸収異方性膜Ｂに含まれる化合物Ａ１と同じ成分は、重合体と同じ成分、または、重合体を構成する繰り返し単位のうち、最も含有量の多い繰り返し単位を形成する単量体と同じ成分のことをいう。

ここで、ＨＳＰ値の詳細については、Ｈａｎｓｅｎ，Ｃｈａｒｌｅｓ（２００７）．Ｈａｎｓｅｎ Ｓｏｌｕｂｉｌｉｔｙ Ｐａｒａｍｅｔｅｒｓ：Ａ ｕｓｅｒ’ｓ ｈａｎｄｂｏｏｋ，Ｓｅｃｏｎｄ Ｅｄｉｔｉｏｎ．Ｂｏｃａ Ｒａｔｏｎ，Ｆｌａ：ＣＲＣ Ｐｒｅｓｓ．ＩＳＢＮ ９７８０８４９３７２４８３に説明がある。
また、ＨＳＰ値は、以下のソフトウェアに化合物の構造式を入力することにより算出される。ソフトウェアとしては、ＨＳＰｉＰ（Ｈａｎｓｅｎ Ｓｏｌｕｂｉｌｉｔｙ Ｐａｒａｍｅｔｅｒｓ ｉｎ Ｐｒａｃｔｉｃｅ） ｖｅｒ４．１．０７が用いられる。

本発明においては、上述した通り、バリア層Ａに含まれる最も含有量の多い化合物Ａ１と、光吸収異方性膜Ｂに含まれる最も含有量の多い化合物Ｂ１との関係が、ハンセン溶解度パラメータから計算され、上述した式（Ｉ）で表されるｄｉｓｔａｎｃｅの値が０．０〜５．０の範囲となる関係を満たしていることにより、バリア層Ａと光吸収異方性膜Ｂとの密着性が良好となる。
この理由の詳細は未だ明らかになっていないが、本発明者らは以下の理由によるものと推測している。
まず、本発明者らは、バリア層と光吸収異方性膜との密着性が劣る原因を調べたところ、光吸収異方性膜における二色性物質の配向度が高い場合には、密着性が劣る問題が顕著に発生することを知見した。
そのため、本発明において密着性が良好となる理由は、上述した式（Ｉ）で表されるｄｉｓｔａｎｃｅの値が０．０〜５．０の範囲となる関係を満たしていることにより、バリア層Ａに含まれる最も含有量の多い化合物Ａ１と同じ成分が光吸収異方性膜Ｂに浸入し、その結果、光吸収異方性膜Ｂの脆性が緩和（靭性が向上）したためであると考えられる。

本発明においては、バリア層Ａと光吸収異方性膜Ｂとの密着性がより良好となる理由から、バリア層Ａに含まれる最も含有量の多い化合物Ａ１と、光吸収異方性膜Ｂに含まれる最も含有量の多い化合物Ｂ１との関係が、上述した式（Ｉ）で表されるｄｉｓｔａｎｃｅの値が０．５以上３．５未満の範囲となる関係を満たしていることが好ましく、１．０以上３．０以下の範囲となる関係を満たしていることがより好ましい。

図１および図２に、本発明の積層体の一例を示す模式的な断面図を示す。
ここで、図１に示す積層体１０は、透明支持体１２、配向膜１４、光吸収異方性膜１６および透明樹脂層１８をこの順に有する層構成の積層体である。
また、図２に示す積層体２０は、透明支持体１２、配向膜１４、光吸収異方性膜１６、透明樹脂層１８および接着層１９をこの順に有する層構成の積層体である。
なお、図１および図２に示す例では、本発明の積層体が透明支持体および配向膜を有する態様を示したが、本発明の積層体はこの態様に限定されず、本発明の積層体は透明支持体および配向膜を有していなくてもよい。
一方、図３および図４は、比較例の積層体の一例を示す模式的な断面図である。
ここで、図３に示す積層体３０は、透明支持体１２、配向膜１４および光吸収異方性膜１６をこの順に有する層構成の積層体である。
また、図４に示す積層体４０は、透明支持体１２、配向膜１４、光吸収異方性膜１６および接着層１９をこの順に有する層構成の積層体である。

〔バリア層Ａ〕
本発明の積層体が有するバリア層Ａは、後述する光吸収異方性膜Ｂ上に隣接して設けられる層である。

＜化合物Ａ１＞
バリア層Ａに含まれる最も含有量の多い化合物Ａ１は、後述する光吸収異方性膜Ｂに含まれる最も含有量の多い化合物Ｂ１との関係が、上述した式（Ｉ）で表されるｄｉｓｔａｎｃｅの値が０．０〜５．０の範囲となる関係を満たす化合物であれば特に限定されないが、重合性化合物または重合性化合物を重合させて得られる重合体であることが好ましい。

重合性化合物としては、重合性基を１分子中に１つ含む単官能重合性化合物、および、同一または異なる重合性基を１分子中に２つ以上含む多官能重合性化合物が挙げられる。
また、重合性基としては、ラジカル重合性基およびカチオン重合性基が挙げられる。
ラジカル重合性基としては、エチレン性不飽和結合基等が挙げられる。
カチオン重合性基としては、エポキシ基およびオキセタン基等が挙げられ、エポキシ基が好ましい。
エチレン性不飽和結合基としては、アクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基等が挙げられ、アクリロイル基およびメタクリロイル基が好ましい。

重合性化合物としては、具体的には、例えば、下記式で表される化合物が挙げられ、中でも、下記ＣＥＬ２０２１Ｐで表される３’，４’−エポキシシクロヘキシルメチル−３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレートが好ましい。

本発明においては、バリア層Ａにおける化合物Ａ１の含有量は、５０〜１００質量％であることが好ましく、５０〜９９質量％であることがより好ましい。
ここで、化合物Ａ１の含有量は、本発明の積層体を、積層体の表面に対して１°の角度で斜めに切削し、生成した断面におけるバリア層Ａの部分を飛行時間型二次イオン質量分析計（Time-of-Flight Secondary Ion Mass Spectrometry：ＴＯＦ−ＳＩＭＳ）でマッピング測定した際の、特異的に検出されるフラグメントイオンのピーク強度比から算出することができる。具体的には、以下に示す測定条件のＴＯＦ−ＳＩＭＳにより確認することができる。
なお、エッチングにより、バリア層Ａを露出させた後に同様の方法で測定し、算出することができる。
＜ＴＯＦ−ＳＩＭＳの測定条件＞
本発明におけるＴＯＦ−ＳＩＭＳによる測定は、以下に示すように測定する。
・装置：ＴＯＦ−ＳＩＭＳ ４（ＩＯＮ−ＴＯＦ社製）
・一次イオン：Ｂｉ^３＋（２５ｋＶ、０．２ｐＡ）
・帯電補正：２０ｅＶの低速電子銃の併用
・測定範囲：２００×２００μｍ
・ラスター：２５６ × ２５６ ｐｉｘｅｌｓ
・積算回数：１６回
・極性：ｐｏｓｉ、ｎｅｇａ

＜形成方法＞
バリア層Ａの形成方法としては、例えば、上述した化合物Ａ１を含有する組成物（以下、「バリア層形成用組成物」ともいう。）を用いて、後述する光吸収異方性膜Ｂ上に塗布し、乾燥させた後に、重合により固定化する方法などが挙げられる。
ここで、塗布方法は特に限定されず、例えば、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ダイコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法などが挙げられる。
ここで、重合条件は特に限定されないが、光照射による重合においては、紫外線を用いることが好ましい。照射量は、１０ｍＪ／ｃｍ^２〜５０Ｊ／ｃｍ^２であることが好ましく、２０ｍＪ／ｃｍ^２〜５Ｊ／ｃｍ^２であることがより好ましく、３０ｍＪ／ｃｍ^２〜３Ｊ／ｃｍ^２であることが更に好ましく、５０〜１０００ｍＪ／ｃｍ^２であることが特に好ましい。また、重合反応を促進するため、加熱条件下で実施してもよい。

＜重合開始剤＞
バリア層形成用組成物は、重合開始剤を含有してもよい。
重合開始剤としては特に制限はないが、感光性を有する化合物、すなわち光ラジカル重合開始剤、または、光カチオン重合開始剤（光酸発生剤）であることが好ましい。

光ラジカル重合開始剤としては、各種の化合物を特に制限なく使用できる。光重合開始剤の例には、α−カルボニル化合物（米国特許第２３６７６６１号、同２３６７６７０号の各明細書）、アシロインエーテル（米国特許第２４４８８２８号明細書）、α−炭化水素置換芳香族アシロイン化合物（米国特許第２７２２５１２号明細書）、多核キノン化合物（米国特許第３０４６１２７号および同２９５１７５８号の各明細書）、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ−アミノフェニルケトンとの組み合わせ（米国特許第３５４９３６７号明細書）、アクリジンおよびフェナジン化合物（特開昭６０−１０５６６７号公報および米国特許第４２３９８５０号明細書）、オキサジアゾール化合物（米国特許第４２１２９７０号明細書）、および、アシルフォスフィンオキシド化合物（特公昭６３−４０７９９号公報、特公平５−２９２３４号公報、特開平１０−９５７８８号公報および特開平１０−２９９９７号公報）等が挙げられる。
このような光ラジカル重合開始剤としては、市販品も用いることができ、ＢＡＳＦ社製のイルガキュア１８４、イルガキュア９０７、イルガキュア３６９、イルガキュア６５１、イルガキュア８１９およびイルガキュアＯＸＥ−０１等が挙げられる。

光カチオン重合開始剤（カチオン光重合開始剤）としては、光照射により活性種としてカチオンを発生できるものであればよく、公知のカチオン光重合開始剤を、何ら制限なく用いることができる。
具体例としては、公知のスルホニウム塩、アンモニウム塩、ヨードニウム塩（例えばジアリールヨードニウム塩）、トリアリールスルホニウム塩、ジアゾニウム塩、イミニウム塩などが挙げられる。
より具体的には、例えば、特開平８−１４３８０６号公報の［００５０］〜［００５３］段落に示されている式（２５）〜（２８）で表されるカチオン光重合開始剤、特開平８−２８３３２０号公報の［００２０］段落にカチオン重合触媒として例示されているもの等を挙げることができ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。
また、カチオン光重合開始剤は、公知の方法で合成可能であり、市販品としても入手可能である。市販品としては、例えば、日本曹達社製のＣＩ−１３７０、ＣＩ−２０６４、ＣＩ−２３９７、ＣＩ−２６２４、ＣＩ−２６３９、ＣＩ−２７３４、ＣＩ−２７５８、ＣＩ−２８２３、ＣＩ−２８５５およびＣＩ−５１０２等；ローディア社製のＰＨＯＴＯＩＮＩＴＩＡＴＯＲ２０４７等；ユニオンカーバイト社製のＵＶＩ−６９７４、ＵＶＩ−６９９０等；サンアプロ社製のＣＰＩ−１０Ｐ等；を挙げることができる。

カチオン光重合開始剤としては、光重合開始剤の光に対する感度、化合物の安定性等の点からは、ジアゾニウム塩、ヨードニウム塩、スルホニウム塩、イミニウム塩が好ましい。また、耐候性の点からは、ヨードニウム塩が最も好ましい。

ヨードニウム塩系のカチオン光重合開始剤としては、具体的には、例えば、ジフェニルヨードニウムトリフルオロメタンスルホネート、ジフェニルヨードニウムピレンスルホネート、ジフェニルヨードニウムドデシルベンゼンスルホネート、ジフェニルヨードニウムノナフルオロｎ−ブタンスルホネート、ビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムトリフルオロメタンスルホネート、ビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムドデシルベンゼンスルホネート、ビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムナフタレンスルホネート、ビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、ビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムノナフルオロｎ−ブタンスルホネート、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート等が挙げられる。

ヨードニウム塩系のカチオン光重合開始剤の具体的な市販品としては、例えば、東京化成社製Ｂ２３８０、みどり化学社製ＢＢＩ−１０２、和光純薬工業社製ＷＰＩ−１１３、和光純薬工業社製ＷＰＩ−１２４、和光純薬工業社製ＷＰＩ−１６９、和光純薬工業社製ＷＰＩ−１７０、東洋合成化学社製ＤＴＢＰＩ−ＰＦＢＳを挙げることができる。

また、カチオン光重合開始剤として使用可能なヨードニウム塩化合物の具体例としては、下記化合物ＰＡＧ−１、ＰＡＧ−２を挙げることもできる。

バリア層形成用組成物が重合開始剤を含有する場合、重合開始剤の含有量は、バリア層形成用組成物中の上記化合物Ａ１（特に、上述した重合性化合物）の１００質量部に対して、０．１〜１０質量部が好ましく、１〜６質量部が好ましい。

＜溶媒＞
バリア層形成用組成物は、作業性等の観点から、溶媒を含有するのが好ましい。
溶媒としては、例えば、ケトン類（例えば、アセトン、２−ブタノン、メチルイソブチルケトン、シクロペタンタノン、シクロヘキサノンなど）、エーテル類（例えば、ジオキサン、テトラヒドロフランなど）、脂肪族炭化水素類（例えば、ヘキサンなど）、脂環式炭化水素類（例えば、シクロヘキサンなど）、芳香族炭化水素類（例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、トリメチルベンゼンなど）、ハロゲン化炭素類（例えば、ジクロロメタン、トリクロロメタン、ジクロロエタン、ジクロロベンゼン、クロロトルエンなど）、エステル類（例えば、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチルなど）、アルコール類（例えば、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、シクロヘキサノールなど）、セロソルブ類（例えば、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、１，２−ジメトキシエタンなど）、セロソルブアセテート類、スルホキシド類（例えば、ジメチルスルホキシドなど）、アミド類（例えば、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドなど）、および、ヘテロ環化合物（例えば、ピリジンなど）などの有機溶媒、ならびに、水が挙げられる。これの溶媒は、１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
これらの溶媒のうち、有機溶媒を用いることが好ましく、ハロゲン化炭素類またはケトン類を用いることがより好ましい。
バリア層形成用組成物が溶媒を含有する場合において、溶媒の含有量は、バリア層形成用組成物の全質量に対して、０〜９９量％であることが好ましく、３０〜９５質量％であることがより好ましく、５０〜８０質量％であることが更に好ましい。

本発明においては、バリア層Ａの厚みは特に限定されず、０．１〜１０μｍであることが好ましく、０．５〜５μｍであることがより好ましい。

〔光吸収異方性膜Ｂ〕
本発明の積層体が有する光吸収異方性膜Ｂは、光吸収異方性膜Ｂに隣接するバリア層Ａに含まれる最も含有量の多い化合物Ａ１との関係が、上述した式（Ｉ）で表されるｄｉｓｔａｎｃｅの値が０．０〜５．０の範囲となる関係を満たす化合物Ｂ１を最大の含有量成分として含有する光吸収異方性膜である。なお、化合物Ｂ１は、化合物Ａ１とは異なる化合物である。
また、本発明の積層体が有する光吸収異方性膜Ｂは、上述したバリア層Ａに含まれる最大含有量の化合物Ａ１と同じ成分を含有している。なお、化合物Ａ１と同じ成分が含有しているか否かは、上述した測定条件のＴＯＦ−ＳＩＭＳにより、積層体の断面における光吸収異方性膜Ｂの部分を測定することにより、確認することができる。

本発明においては、バリア層Ａと光吸収異方性膜Ｂとの密着性の改善効果がより顕在化する理由から、光吸収異方性膜Ｂの視感度補正した配向度が０．９０以上であることが好ましく、０．９２以上であることがより好ましく、０．９４以上であることが更に好ましい。
ここで、「視感度補正した配向度」とは、光源と、直線偏光子と、透明支持体と、支持体上に設けた光吸収異方性膜Ｂとをこの順に設置し、透明支持体側から入射した３８０〜７８０ｎｍの波長域における透過率を測定し、下記式で各波長の配向度を算出し、視感度補正係数を乗じた値の平均値をいう。
配向度：Ｓ＝（Ａ（吸収）−Ａ（透過））／[２×Ａ（透過）＋Ａ（吸収）］
Ａ（吸収）：入射偏光と光吸収異方性膜Ｂがクロスニコルになるように配置した際の吸光度
Ａ（透過）：入射偏光と光吸収異方性膜Ｂがパラニコルになるように配置した際の吸光度
Ａ（吸収）＝−ｌｏｇ_１０（Ｔ（吸収）／１００）
Ａ（透過）＝−ｌｏｇ_１０（Ｔ（透過）／１００）
Ｔ（吸収）：入射偏光と光吸収異方性膜Ｂがクロスニコルになるように配置した際の透過率（入射偏光を１００％とする）
Ｔ（透過）：入射偏光と光吸収異方性膜Ｂがパラニコルになるように配置した際の透過率（入射偏光を１００％とする）

＜化合物Ｂ１＞
本発明においては、光吸収異方性膜Ｂの配向度を高くする観点から、光吸収異方性膜Ｂに含まれる最大含有量の化合物Ｂ１が、下記式（１）で表される化合物またはその重合体であることが好ましい。
Ｑ^１−Ｄ^１−Ｇ^１−Ｄ^２−Ｇ^２−Ｄ^３−Ｑ^２ ・・・（１）

上記式（１）中、Ｑ^１およびＱ^２は、それぞれ独立に、水素原子または１価の有機基を表し、Ｑ^１およびＱ^２の少なくとも一方は重合性基を表す。
また、上記式（１）中、Ｄ^１、Ｄ^２およびＤ^３は、それぞれ独立に、単結合、あるいは、−（Ｃ＝Ｏ）Ｏ−、−Ｏ（Ｃ＝Ｏ）−、置換もしくは非置換の炭素数１〜２０のアルキレン基、置換もしくは非置換の炭素数６〜４０のアリーレン基、置換もしくは非置換の炭素数４〜３０のヘテロアリーレン基、置換もしくは非置換の炭素数６〜４０のシクロアルキレン基、または、これらの基を構成する−ＣＨ_２−の１個以上が−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＲ−もしくは−ＰＲ−に置換された２価の連結基を表し、Ｒは、水素原子または炭素数１〜２０のアルキル基を表す。
また、上記式（１）中、Ｇ^１およびＧ^２は、それぞれ独立に、置換もしくは非置換の炭素数６〜４０のアリーレン基、置換もしくは非置換の炭素数４〜３０のヘテロアリーレン基、または、置換もしくは非置換の炭素数６〜４０のシクロアルキレン基を表す。

上記式（１）中、Ｑ^１およびＱ^２が示す１価の有機基としては、例えば、アルキル基、アリール基、ヘテロアリール基などを挙げることができる。
アルキル基は、直鎖状、分岐状または環状であってもよいが、直鎖状が好ましい。アルキル基の炭素数は、１〜３０が好ましく、１〜２０がより好ましく、１〜１０が更に好ましい。
また、アリール基は、単環であっても多環であってもよいが単環が好ましい。アリール基の炭素数は、６〜２５が好ましく、６〜１０がより好ましい。
また、ヘテロアリール基は、単環であっても多環であってもよい。ヘテロアリール基を構成するヘテロ原子の数は１〜３が好ましい。ヘテロアリール基を構成するヘテロ原子は、窒素原子、硫黄原子、酸素原子が好ましい。ヘテロアリール基の炭素数は６〜１８が好ましく、６〜１２がより好ましい。
また、アルキル基、アリール基およびヘテロアリール基は、無置換であってもよく、置換基を有していてもよい。
置換基としては、例えば、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子などが挙げられる。
アルキル基としては、例えば、炭素数１〜１８の直鎖状、分岐鎖状または環状のアルキル基が好ましく、炭素数１〜８のアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、シクロヘキシル基等）がより好ましく、炭素数１〜４のアルキル基であることが更に好ましく、メチル基またはエチル基であるのが特に好ましい。
アルコキシ基としては、例えば、炭素数１〜１８のアルコキシ基が好ましく、炭素数１〜８のアルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−ブトキシ基、メトキシエトキシ基等）がより好ましく、炭素数１〜４のアルコキシ基であることが更に好ましく、メトキシ基またはエトキシ基であるのが特に好ましい。
ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられ、中でも、フッ素原子、塩素原子であるのが好ましい。

上記式（１）中、Ｑ^１およびＱ^２の少なくとも一方が示す重合性基は、特に限定されないが、ラジカル重合またはカチオン重合可能な重合性基が好ましい。
ラジカル重合性基としては、一般に知られているラジカル重合性基を用いることができ、好適なものとして、アクリロイル基またはメタクリロイル基を挙げることができる。この場合、重合速度はアクリロイル基が一般的に速いことが知られており、生産性向上の観点からアクリロイル基が好ましいが、メタクリロイル基も重合性基として同様に使用することができる。
カチオン重合性基としては、一般に知られているカチオン重合性を用いることができ、具体的には、脂環式エーテル基、環状アセタール基、環状ラクトン基、環状チオエーテル基、スピロオルソエステル基、および、ビニルオキシ基などを挙げることができる。中でも、脂環式エーテル基、または、ビニルオキシ基が好適であり、エポキシ基、オキセタニル基、または、ビニルオキシ基が特に好ましい。
特に好ましい重合性基の例としては下記が挙げられる。

上記式（１）中、Ｄ^１、Ｄ^２およびＤ^３が示す、置換もしくは非置換の炭素数１〜２０のアルキレン基としては、例えば、炭素数１〜１２の直鎖状もしくは分岐状のアルキレン基が挙げられ、具体的には、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ペンチレン基、ヘキシレン基、メチルヘキシレン基、へプチレン基等が挙げられる。
なお、置換する置換基としては、上記式（１）中のＱ^１およびＱ^２が示す１価の有機基として例示したアルキル基等が有していてもよい置換基と同様のものが挙げられる。

上記式（１）中、Ｄ^１、Ｄ^２およびＤ^３が示す、置換もしくは非置換の炭素数６〜４０のアリーレン基としては、例えば、炭素数６〜１２のアリーレン基が挙げられ、具体的には、フェニレン基、クメニレン基、メシチレン基、トリレン基、キシリレン基等が挙げられる。中でもフェニレン基が好ましい。
なお、置換する置換基としては、上記式（１）中のＱ^１およびＱ^２が示す１価の有機基として例示したアルキル基等が有していてもよい置換基と同様のものが挙げられる。

上記式（１）中、Ｄ^１、Ｄ^２およびＤ^３が示す、置換もしくは非置換の炭素数４〜３０のヘテロアリーレン基としては、例えば、５員複素環、６員複素環が挙げられ、具体的には、５員複素環としては、オキソール環、チオール環、アゾール環、イミダゾール環、ピラゾール環、オキサゾール環、イソオキサゾール環、チアゾール環、イソチアゾール環などが挙げられ、６員複素環としては、トリアジン環、ピラジン環、ピリジン環などが挙げられる。
なお、置換する置換基としては、上記式（１）中のＱ^１およびＱ^２が示す１価の有機基として例示したアルキル基等が有していてもよい置換基と同様のものが挙げられる。

上記式（１）中、Ｄ^１、Ｄ^２およびＤ^３が示す、置換もしくは非置換の炭素数６〜４０のシクロアルキレン基としては、例えば、シクロアルカン環が挙げられ、具体的には、シクロヘキサン環、シクロペプタン環、シクロオクタン環、シクロドデカン環、シクロドコサン環などが挙げられる。
なお、置換する置換基としては、上記式（１）中のＱ^１およびＱ^２が示す１価の有機基として例示したアルキル基等が有していてもよい置換基と同様のものが挙げられる。

上記式（１）中、Ｇ^１およびＧ^２が示す、置換もしくは非置換の炭素数６〜４０のアリーレン基、置換もしくは非置換の炭素数４〜３０のヘテロアリーレン基、および、置換もしくは非置換の炭素数６〜４０のシクロアルキレン基としては、それぞれ、上記式（１）中のＤ^１、Ｄ^２およびＤ^３が示すアリーレン基、ヘテロアリーレン基、および、シクロアルキレン基として例示したものが挙げられる。

上記式（１）で表される化合物の重合体としては、例えば、下記式（１−１）で表される繰り返し単位（以下、「繰り返し単位（１−１）」ともいう。）を有する高分子液晶性化合物が好適に挙げられる。

上記式（１−１）中、Ｒ^１は、水素原子またはメチル基を表し、Ｌ^１およびＬ^２は、それぞれ独立に単結合または２価の連結基を表し、Ｍ^１は、後述する式（１−１ｍ）で表されるメソゲン基を表し、Ｔ^１は、末端基を表す。

上記式（１−１）中のＬ^１およびＬ^２が表す２価の連結基について説明する。
２価の連結基としては、例えば、炭素数１〜３０のアルキレン基が挙げられ、アルキレン基を構成する−ＣＨ₂−の１個以上が、−Ｏ−、−（ＣＨ_２）_ｎ−、−（ＣＦ_２）_ｎ−、−Ｓｉ（ＣＨ_２）_ｎ−、−（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_ｎ−、−Ｎ（Ｚ）−、−Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）−、−Ｃ（Ｚ）＝Ｎ−、−Ｎ＝Ｃ（Ｚ）−、−Ｃ（Ｚ）_２−Ｃ（Ｚ’）_２−、−Ｃ（Ｏ）−、−ＯＣ（Ｏ）−、−Ｃ（Ｏ）Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（Ｏ）Ｏ−、−Ｎ（Ｚ）Ｃ（Ｏ）−、−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｚ）−、−Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）−Ｃ（Ｏ）Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（Ｏ）−Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）−、−Ｃ（Ｚ）＝Ｎ−、−Ｎ＝Ｃ（Ｚ）−、−Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｚ”）−、−Ｎ（Ｚ”）−Ｃ（Ｏ）−Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）−、−Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）−Ｃ（Ｏ）−Ｓ−、−Ｓ−Ｃ（Ｏ）−Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）−、−Ｃ（Ｚ）＝Ｎ−Ｎ＝Ｃ（Ｚ’）−、−Ｃ≡Ｃ−、−Ｎ＝Ｎ−、−Ｓ−、−Ｓ（Ｏ）−、−Ｓ（Ｏ）（Ｏ）−、−（Ｏ）Ｓ（Ｏ）Ｏ−、−Ｏ（Ｏ）Ｓ（Ｏ）Ｏ−、−ＳＣ（Ｏ）−、または、−Ｃ（Ｏ）Ｓ−で置換されていてもよい。なお、ｎは１〜３の整数を表し、Ｚ、Ｚ’およびＺ”は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、シクロアルキル基、アリール基、シアノ基、または、ハロゲン原子を表す。
また、炭素数１〜３０のアルキレン基としては、具体的には、例えば、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ペンチレン基、ヘキシレン基、へプチレン基、オクチレン基、ノニレン基、デシレン基、ウンデシレン基、ドデシレン基、トリデシレン基、テトラデシレン基、ペンタデシレン基、ヘキサデシレン基、ヘプタデシレン基、オクタデシレン基などが挙げられる。
また、アルキレン基の炭素数は、１〜１２であることが好ましい。

本発明においては、上記式（１−１）中のＬ^１が、上述したアルキレン基を構成する−ＣＨ₂−の１個以上が−Ｏ−で置換されたオキシアルキレン構造であることが好ましい。
オキシアルキレン構造としては、例えば、＊−（ＣＨ_２−ＣＨ_２Ｏ）_ｎ１−＊で表されるオキシエチレン構造、＊−（ＣＨ_２−ＣＨ_２−ＣＨ_２Ｏ）_ｎ２−＊または＊−（ＣＨ（ＣＨ_３）−ＣＨ_２Ｏ）_ｎ２−＊で表されるオキシプロピレン構造、＊−（ＣＨ_２−ＣＨ_２−ＣＨ_２−ＣＨ_２Ｏ）_ｎ３−＊で表されるオキシブチレン構造が挙げられる。なお、ｎ１、ｎ２およびｎ３は、それぞれ独立に１〜２０の整数を表し、＊は、上記式（１）中の酸素原子またはＭ^１との結合位置を表す。
一方、上記式（１−１）中のＬ²は、単結合であることが好ましい。

次に、上記式（１−１）中のＴ^１が表す末端基について説明する。
末端基としては、具体的には、例えば、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数１〜１０のアルコキシ基、炭素数１〜１０のアルキルチオ基、炭素数１〜１０のオキシカルボニル基、炭素数１〜１０のアシルオキシ基、炭素数１〜１０のアシルアミノ基、炭素数１〜１０のアルコキシカルボニルアミノ基、炭素数１〜１０のスルホニルアミノ基、炭素数１〜１０のスルファモイル基、炭素数１〜１０のカルバモイル基、炭素数１〜１０のスルフィニル基、および、炭素数１〜１０のウレイド基などが挙げられる。これらの末端基は、これらの基、または、特開２０１０−２４４０３８号公報に記載の重合性基によって、さらに置換されていてもよい。

次に、上記式（１−１）中のＭ^１、すなわち、下記式（１−１ｍ）で表されるメソゲン基について説明する。

上記式（１−１ｍ）中、Ａ^１は、置換基を有していてもよい、芳香族炭化水素基、複素環基および脂環式基からなる群から選択される２価の基を表し、Ｌ^３は、単結合または２価の連結基を表し、ｍは、１〜１０の整数を表し、＊は、Ｌ^１またはＬ^２との結合位置を表す。ｍが２〜１０の整数である場合、複数のＡ^１はそれぞれ同一であっても異なっていてもよく、複数のＬ^３はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。

Ａ^１で表される２価の基は、４〜６員環であることが好ましい。
また、Ａ^１で表される２価の基は、単環であっても、縮環であってもよい。
また、Ａ^１が有していてもよい置換基としては、例えば、アルキル基、フッ化アルキル基およびアルコキシ基などが挙げられる。

Ａ^１が表す２価の芳香族炭化水素基としては、フェニレン基、ナフチレン基、フルオレン−ジイル基、アントラセン−ジイル基およびテトラセン−ジイル基などが挙げられ、メソゲン骨格の設計の多様性や原材料の入手性などの観点から、フェニレン基またはナフチレン基が好ましく、フェニレン基がより好ましい。

Ａ^１が表す２価の複素環基としては、芳香族または非芳香族のいずれであってもよいが、配向度がより向上するという観点から、２価の芳香族複素環基であることが好ましい。
２価の芳香族複素環基を構成する炭素以外の原子としては、窒素原子、硫黄原子および酸素原子が挙げられる。芳香族複素環基が炭素以外の環を構成する原子を複数有する場合、これらは同一であっても異なっていてもよい。
２価の芳香族複素環基の具体例としては、例えば、ピリジレン基（ピリジン−ジイル基）、ピリダジン−ジイル基、イミダゾール−ジイル基、チエニレン（チオフェン−ジイル基）、キノリレン基（キノリン−ジイル基）、イソキノリレン基（イソキノリン−ジイル基）、オキサゾール−ジイル基、チアゾール−ジイル基、オキサジアゾール−ジイル基、ベンゾチアゾール−ジイル基、ベンゾチアジアゾール−ジイル基、フタルイミド−ジイル基、チエノチアゾール−ジイル基、チアゾロチアゾール−ジイル基、チエノチオフェン−ジイル基、および、チエノオキサゾール−ジイル基などが挙げられる。

Ａ^１が表す２価の脂環式基の具体例としては、シクロペンチレン基およびシクロへキシレン基などが挙げられる。

一方、Ｌ^３が表す２価の連結基としては、−Ｏ−、−（ＣＨ_２）_ｇ−、−（ＣＦ_２）_ｇ−、−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２−、−（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_ｇ−、−（ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２）_ｇ−、−Ｎ（Ｚ）−、−Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）−、−Ｃ（Ｚ）＝Ｎ−、−Ｎ＝Ｃ（Ｚ）−、−Ｃ（Ｚ）_２−Ｃ（Ｚ’）_２−、−Ｃ（Ｏ）−、−ＯＣ（Ｏ）−、−Ｃ（Ｏ）Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（Ｏ）Ｏ−、−Ｎ（Ｚ）Ｃ（Ｏ）−、−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｚ）−、−Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）−Ｃ（Ｏ）Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（Ｏ）−Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）−、−Ｃ（Ｚ）＝Ｎ−、−Ｎ＝Ｃ（Ｚ）−、−Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｚ”）−、−Ｎ（Ｚ”）−Ｃ（Ｏ）−Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）−、−Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）−Ｃ（Ｏ）−Ｓ−、−Ｓ−Ｃ（Ｏ）−Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）−、−Ｃ（Ｚ）＝Ｎ−Ｎ＝Ｃ（Ｚ’）−、−Ｃ≡Ｃ−、−Ｎ＝Ｎ−、−Ｓ−、−Ｓ（Ｏ）−、−Ｓ（Ｏ）（Ｏ）−、−（Ｏ）Ｓ（Ｏ）Ｏ−、−Ｏ（Ｏ）Ｓ（Ｏ）Ｏ−、−ＳＣ（Ｏ）−、および、−Ｃ（Ｏ）Ｓ−などが挙げられ、これらの基を２つ以上組み合わせた基であってもよい。なお、ｇは１〜１０の整数を表し、Ｚ、Ｚ’およびＺ”は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、シクロアルキル基、アリール基、シアノ基、または、ハロゲン原子を表す。

Ｍ^１の具体例としては、例えば以下の構造が挙げられる。なお、下記具体例において、「Ａｃ」は、アセチル基を表す。

繰り返し単位（１−１）を有する高分子液晶性化合物としては、具体的には、例えば、下記構造式で表される高分子化合物が挙げられる。なお、下記構造式中、Ｒは、水素原子またはメチル基を表す。

上記高分子液晶性化合物が繰り返し単位（１−１）を有する場合の繰り返し単位（１−１）の含有量は、上記高分子液晶性化合物が有する全繰り返し単位１００質量％に対して、２０〜１００質量％が好ましく、３０〜９９．９質量％がより好ましく、４０〜９９．０質量％がさらに好ましい。
本発明において、高分子液晶性化合物に含まれる各繰り返し単位の含有量は、各繰り返し単位を得るために使用される各単量体の仕込み量（質量）に基づいて算出される。

繰り返し単位（１−１）は、高分子液晶性化合物中において、１種単独で含まれていてもよいし、２種以上含まれていてもよい。高分子液晶性化合物が繰り返し単位（１−１）を２種以上含むと、高分子液晶性化合物の溶媒に対する溶解性が向上すること、および、液晶相転移温度の調整が容易になることなどの利点がある。繰り返し単位（１−１）を２種以上含む場合には、その合計量が上記範囲内であることが好ましい。

繰り返し単位（１−１）を２種以上含む場合には、Ｔ^１に重合性基を含まない繰り返し単位（１ａ）と、Ｔ^１に重合性基を含む繰り返し単位（１ｂ）と、を併用してもよい。これにより、光吸収異方性膜Ｂの硬化性がより向上する。
この場合、高分子液晶性化合物中における、Ｔ^１に重合性基を含まない繰り返し単位（１ａ）に対する、Ｔ^１に重合性基を含む繰り返し単位（１ｂ）の割合（Ｔ^１に重合性基を含む繰り返し単位（１ｂ）／Ｔ^１に重合性基を含まない繰り返し単位（１ａ））が、質量比で０．００５〜４が好ましく、０．０１〜２．４がより好ましい。質量比が４以下であると、光吸収異方性膜Ｂの配向度がより向上するという利点がある。質量比が０．０５以上であると、光吸収異方性膜Ｂの硬化性がより向上する。

また、上記高分子液晶性化合物は、高分子液晶性化合物の溶媒に対する溶解性、および、液晶相転移温度を調整する観点から、繰り返し単位（１−１）以外の他の繰り返し単位（以下、「繰り返し単位（１−２）」とも略す。）を有していてもよい。
ここで、繰り返し単位（１−２）としては、メソゲン基を有していない点以外は、上述した繰り返し単位（１−１）と同じ繰り返し単位が挙げられる。

上記高分子液晶性化合物が繰り返し単位（１−２）を有する場合、上記高分子液晶性化合物は、繰り返し単位（１−１）と繰り返し単位（１−２）との共重合体となるが、ブロック重合体、交互重合体、ランダム重合体、および、グラフト重合体など、いずれの重合体であってもよい。

上記高分子液晶性化合物が繰り返し単位（１−２）を含有する場合の繰り返し単位（１−２）の含有量は、上記高分子液晶性化合物が有する全繰り返し単位１００質量％に対して、０．５〜４０質量％が好ましく、１〜３０質量％がより好ましい。
繰り返し単位（１−２）は、高分子液晶性化合物中において、１種単独で含まれていてもよいし、２種以上含まれていてもよい。繰り返し単位（１−２）を２種以上含む場合には、その合計量が上記範囲内であることが好ましい。

上記高分子液晶性化合物の重量平均分子量（Ｍｗ）は、２０００〜３０００００が好ましく、２０００〜１０００００がより好ましい。高分子液晶性化合物のＭｗが上記範囲内にあれば、高分子液晶性化合物の取り扱いが容易になる。
ここで、本発明における重量平均分子量および数平均分子量は、ゲル浸透クロマトグラフ（ＧＰＣ）法により測定された値である。
・溶媒（溶離液）：Ｎ−メチルピロリドン
・装置名：ＴＯＳＯＨ ＨＬＣ−８２２０ＧＰＣ
・カラム：ＴＯＳＯＨ ＴＳＫｇｅｌ Ｓｕｐｅｒ ＨＺＭ−Ｈ（４．６ｍｍ×１５ｃｍ）を３本接続して使用
・カラム温度：２５℃
・試料濃度：０．１質量％
・流速：０．３５ｍｌ／ｍｉｎ
・校正曲線：ＴＯＳＯＨ製ＴＳＫ標準ポリスチレン Ｍｗ＝２８０００００〜１０５０（Ｍｗ／Ｍｎ＝１．０３〜１．０６）までの７サンプルによる校正曲線を使用

上記高分子液晶性化合物の液晶性は、ネマチック性およびスメクチック性のいずれを示してもよいが、少なくともネマチック性を示すことが好ましい。
ネマチック相を示す温度範囲は、室温（２３℃）〜４００℃であることが好ましく、取り扱いや製造適性の観点から、５０℃〜３００℃であることが好ましい。

本発明においては、光吸収異方性膜Ｂにおける化合物Ｂ１の含有量は、５０〜１００質量％であることが好ましく、６０〜９９質量％であることがより好ましい。
ここで、化合物Ｂ１の含有量は、本発明の積層体を、積層体の表面に対して１°の角度で斜めに切削し、生成した断面における光吸収異方性膜Ｂの部分をＴＯＦ−ＳＩＭＳでマッピング測定した際の、特異的に検出されるフラグメントイオンのピーク強度比から算出することができる。具体的には、化合物Ａ１の含有量をＴＯＦ−ＳＩＭＳで測定する際の条件と同様の測定条件のＴＯＦ−ＳＩＭＳにより確認することができる。
なお、エッチングにより、光吸収異方性膜Ｂを露出させた後に同様の方法で測定し、算出することができる。

本発明においては、光吸収異方性膜Ｂが、上記化合物Ｂ１（特に、上述した高分子液晶性化合物）と上記二色性物質を含有する組成物（以下、「液晶組成物」と略す。）を用いて形成される膜であることが好ましい。

＜二色性物質＞
上記二色性物質は、特に限定されず、可視光吸収物質（二色性色素）、発光物質（蛍光物質、燐光物質）、紫外線吸収物質、赤外線吸収物質、非線形光学物質、カーボンナノチューブ、無機物質（例えば量子ロッド）などが挙げられ、従来公知の二色性物質（二色性色素）を使用することができる。
具体的には、例えば、特開２０１３−２２８７０６号公報の［００６７］〜［００７１］段落、特開２０１３−２２７５３２号公報の［０００８］〜［００２６］段落、特開２０１３−２０９３６７号公報の［０００８］〜［００１５］段落、特開２０１３−１４８８３号公報の［００４５］〜［００５８］段落、特開２０１３−１０９０９０号公報の［００１２］〜［００２９］段落、特開２０１３−１０１３２８号公報の［０００９］〜［００１７］段落、特開２０１３−３７３５３号公報の［００５１］〜［００６５］段落、特開２０１２−６３３８７号公報の［００４９］〜［００７３］段落、特開平１１−３０５０３６号公報の［００１６］〜［００１８］段落、特開２００１−１３３６３０号公報の［０００９］〜［００１１］段落、特開２０１１−２１５３３７号公報の［００３０］〜［０１６９］、特開２０１０−１０６２４２号公報の［００２１］〜［００７５］段落、特開２０１０−２１５８４６号公報の［００１１］〜［００２５］段落、特開２０１１−０４８３１１号公報の［００１７］〜［００６９］段落、特開２０１１−２１３６１０号公報の［００１３］〜［０１３３］段落、特開２０１１−２３７５１３号公報の［００７４］〜［０２４６］段落、特開２０１６−００６５０２号公報の［０００５］〜［００５１］段落、国際公開第２０１６／０６０１７３号公報の［０００５］〜［００４１］段落、国際公開第２０１６／１３６５６１号公報の［０００８］〜［００６２］段落、国際公開第２０１７／１５４８３５号の［００１４］〜［００３３］段落、国際公開第２０１７／１５４６９５号の［００１４］〜［００３３］段落、国際公開第２０１７／１９５８３３号の［００１３］〜［００３７］段落などに記載されたものが挙げられる。

本発明においては、上記二色性物質が、下記式（２）で表される二色性物質（以下、「特定二色性色素化合物」とも略す。）であることが好ましい。

ここで、式（２）中、Ａ^２、Ａ^３およびＡ^４は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよい２価の芳香族基を表す。
また、式（２）中、Ｌ^４およびＬ^５は、それぞれ独立に、置換基を表す。
また、式（２）中、ｎは、１〜４の整数を表し、ｎが２〜４の整数の場合、複数のＡ^３は互いに同一でも異なっていてもよい。なお、ｎは、１または２であることが好ましい。

上記式（２）中、Ａ^２、Ａ^３およびＡ^４が表す「置換基を有していてもよい２価の芳香族基」について説明する。
上記置換基としては、例えば、特開２０１１−２３７５１３号公報の［０２３７］〜［０２４０］段落に記載された置換基群Ｇが挙げられ、中でも、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニルなど）、アリールオキシカルボニル基（例えば、フェノキシカルボニル、４−メチルフェノキシカルボニル、４−メトキシフェニルカルボニルなど）等が好適に挙げられ、アルキル基がより好適に挙げられ、炭素数１〜５のアルキル基がさらに好適に挙げられる。
一方、２価の芳香族基としては、例えば、２価の芳香族炭化水素基および２価の芳香族複素環基が挙げられる。
上記２価の芳香族炭化水素基としては、例えば、炭素数６〜１２のアリーレン基が挙げられ、具体的には、フェニレン基、クメニレン基、メシチレン基、トリレン基、キシリレン基等が挙げられる。中でもフェニレン基が好ましい。
また、上記２価の芳香族複素環基としては、単環または２環性の複素環由来の基が好ましい。芳香族複素環基を構成する炭素以外の原子としては、窒素原子、硫黄原子および酸素原子が挙げられる。芳香族複素環基が炭素以外の環を構成する原子を複数有する場合、これらは同一であっても異なっていてもよい。芳香族複素環基としては、具体的には、ピリジレン基（ピリジン−ジイル基）、キノリレン基（キノリン−ジイル基）、イソキノリレン基（イソキノリン−ジイル基）、ベンゾチアジアゾール−ジイル基、フタルイミド−ジイル基、チエノチアゾール−ジイル基（以下、「チエノチアゾール基」と略す。）等が挙げられる。
上記２価の芳香族基の中でも、２価の芳香族炭化水素基が好ましい。

ここで、Ａ^２、Ａ^３およびＡ^４のうちいずれか１つが、置換基を有していてもよい２価のチエノチアゾール基であることが好ましい。なお、２価のチエノチアゾール基の置換基の具体例は、上述した「置換基を有していてもよい２価の芳香族基」における置換基と同じであり、好ましい態様も同じである。
また、Ａ^２、Ａ^３およびＡ^４のうち、Ａ^３が２価のチエノチアゾール基であることがより好ましい。この場合には、Ａ^２およびＡ^４は、置換基を有していてもよい２価の芳香族基を表す。
Ａ^３が２価のチエノチアゾール基である場合には、Ａ^２およびＡ^４の少なくとも一方が置換基を有していてもよい２価の芳香族炭化水素基であることが好ましく、Ａ^２およびＡ^４の両方が置換基を有していてもよい２価の芳香族炭化水素基であることが好ましい。

上記式（２）中、Ｌ^４およびＬ^５が表す「置換基」について説明する。
上記置換基としては、溶解性やネマティック液晶性を高めるために導入される基、色素としての色調を調節するために導入される電子供与性や電子吸引性を有する基、または、配向を固定化するために導入される架橋性基（重合性基）を有する基が好ましい。
例えば、置換基としては、アルキル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１２、特に好ましくは炭素数１〜８のアルキル基であり、例えば、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−デシル基、ｎ−ヘキサデシル基、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などが挙げられる）、アルケニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１２、特に好ましくは炭素数２〜８のアルケニル基であり、例えば、ビニル基、アリール基、２−ブテニル基、３−ペンテニル基などが挙げられる）、アルキニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１２、特に好ましくは炭素数２〜８のアルキニル基であり、例えば、プロパルギル基、３−ペンチニル基などが挙げられる）、アリール基（好ましくは炭素数６〜３０、より好ましくは炭素数６〜２０、特に好ましくは炭素数６〜１２のアリール基であり、例えば、フェニル基、２，６−ジエチルフェニル基、３，５−ジトリフルオロメチルフェニル基、スチリル基、ナフチル基、ビフェニル基などが挙げられる）、置換もしくは無置換のアミノ基（好ましくは炭素数０〜２０、より好ましくは炭素数０〜１０、特に好ましくは炭素数０〜６のアミノ基であり、例えば、無置換アミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、アニリノ基などが挙げられる）、アルコキシ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１５であり、例えば、メトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基などが挙げられる）、オキシカルボニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１５、特に好ましくは２〜１０であり、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基などが挙げられる）、アシルオキシ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１０、特に好ましくは２〜６であり、例えば、アセトキシ基、ベンゾイルオキシ基、アクリロイル基およびメタクリロイル基などが挙げられる）、アシルアミノ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１０、特に好ましくは炭素数２〜６であり、例えばアセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基などが挙げられる）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１０、特に好ましくは炭素数２〜６であり、例えば、メトキシカルボニルアミノ基などが挙げられる）、アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数７〜２０、より好ましくは炭素数７〜１６、特に好ましくは炭素数７〜１２であり、例えば、フェニルオキシカルボニルアミノ基などが挙げられる）、スルホニルアミノ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１０、特に好ましくは炭素数１〜６であり、例えば、メタンスルホニルアミノ基、ベンゼンスルホニルアミノ基などが挙げられる）、スルファモイル基（好ましくは炭素数０〜２０、より好ましくは炭素数０〜１０、特に好ましくは炭素数０〜６であり、例えば、スルファモイル基、メチルスルファモイル基、ジメチルスルファモイル基、フェニルスルファモイル基などが挙げられる）、カルバモイル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１０、特に好ましくは炭素数１〜６であり、例えば、無置換のカルバモイル基、メチルカルバモイル基、ジエチルカルバモイル基、フェニルカルバモイル基などが挙げられる）、アルキルチオ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１０、特に好ましくは炭素数１〜６であり、例えば、メチルチオ基、エチルチオ基などが挙げられる）、アリールチオ基（好ましくは炭素数６〜２０、より好ましくは炭素数６〜１６、特に好ましくは炭素数６〜１２であり、例えば、フェニルチオ基などが挙げられる）、スルホニル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１０、特に好ましくは炭素数１〜６であり、例えば、メシル基、トシル基などが挙げられる）、スルフィニル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１０、特に好ましくは炭素数１〜６であり、例えば、メタンスルフィニル基、ベンゼンスルフィニル基などが挙げられる）、ウレイド基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１０、特に好ましくは炭素数１〜６であり、例えば、無置換のウレイド基、メチルウレイド基、フェニルウレイド基などが挙げられる）、リン酸アミド基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１０、特に好ましくは炭素数１〜６であり、例えば、ジエチルリン酸アミド基、フェニルリン酸アミド基などが挙げられる）、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキサム酸基、スルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基、アゾ基、ヘテロ環基（好ましくは炭素数１〜３０、より好ましくは１〜１２のヘテロ環基であり、例えば、窒素原子、酸素原子、硫黄原子等のヘテロ原子を有するヘテロ環基であり、例えば、エポキシ基、オキセタニル基、イミダゾリル基、ピリジル基、キノリル基、フリル基、ピペリジル基、モルホリノ基、ベンゾオキサゾリル基、ベンズイミダゾリル基、ベンズチアゾリル基などが挙げられる）、シリル基（好ましくは、炭素数３〜４０、より好ましくは炭素数３〜３０、特に好ましくは、炭素数３〜２４のシリル基であり、例えば、トリメチルシリル基、トリフェニルシリル基などが挙げられる）が含まれる。
これらの置換基はさらにこれらの置換基によって置換されていてもよい。また、置換基を２つ以上有する場合は、同じでも異なってもよい。また、可能な場合には互いに結合して環を形成していてもよい。

Ｌ^４およびＬ^５が表す置換基として好ましくは、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアルケニル基、置換基を有していてもよいアルキニル基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよいアルコキシ基、置換基を有していてもよいオキシカルボニル基、置換基を有していてもよいアシルオキシ基、置換基を有していてもよいアシルアミノ基、置換基を有していてもよいアミノ基、置換基を有していてもよいアルコキシカルボニルアミノ基、置換基を有していてもよいスルホニルアミノ基、置換基を有していてもよいスルファモイル基、置換基を有していてもよいカルバモイル基、置換基を有していてもよいアルキルチオ基、置換基を有していてもよいスルホニル基、置換基を有していてもよいウレイド基、ニトロ基、ヒドロキシ基、シアノ基、イミノ基、アゾ基、ハロゲン原子、および、ヘテロ環基であり、より好ましくは、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアルケニル基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよいアルコキシ基、置換基を有していてもよいオキシカルボニル基、置換基を有していてもよいアシルオキシ基、置換基を有していてもよいアミノ基、ニトロ基、イミノ基、および、アゾ基である。

Ｌ^４およびＬ^５の少なくとも一方は、架橋性基（重合性基）を含むことが好ましく、Ｌ^４およびＬ^５の両方に架橋性基を含むことがより好ましい。
架橋性基としては、具体的には、特開２０１０−２４４０３８号公報の［００４０］〜［００５０］段落に記載された重合性基が挙げられ、反応性および合成適性の観点から、アクリロイル基、メタクリロイル基、エポキシ基、オキセタニル基、および、スチリル基が好ましく、アクリロイル基およびメタクリロイル基が好ましい。

Ｌ^４およびＬ^５の好適な態様としては、上記架橋性基で置換されたアルキル基、上記架橋性基で置換されたジアルキルアミノ基、および、上記架橋性基で置換されたアルコキシ基が挙げられる。

本発明においては、光吸収異方性膜に含まれる特定二色性色素化合物の配向度がより向上する理由から、特定二色性色素化合物が、下記式（３）で表される構造を有していることが好ましい。

ここで、式（３）中、Ａ^５は、置換基を有していてもよい２価の芳香族基を表す。
また、式（３）中、Ｌ^６およびＬ^７は、それぞれ独立に、置換基を表す。
また、式（３）中、Ｅは、窒素原子、酸素原子および硫黄原子のいずれかの原子を表す。
また、式（３）中、Ｒ^２は、水素原子、ハロゲン原子、置換基を有していてもよいアルキル基および置換基を有していてもよいアルコキシ基のいずれかの基または原子を表す。
また、式（３）中、Ｒ^３は、水素原子または置換基を有していてもよいアルキル基を表す。
また、式（３）中、Ｒ^４は、水素原子または置換基を表す。
また、式（３）中、ｐは、０または１を表す。ただし、Ｅが窒素原子である場合には、ｐは１であり、Ｅが酸素原子または硫黄原子である場合には、ｐは０である。

上記式（３）中、Ａ^５が表す「置換基を有していてもよい２価の芳香族基」の具体例および好適態様は、上述した式（２）中のＡ^１〜Ａ^３が表す「置換基を有していてもよい２価の芳香族基」と同様である。
Ａ^５の特に好ましい態様としては、フェニレン基である。

上記式（３）中、Ｌ^６およびＬ^７が表す「置換基」の具体例および好適態様は、上述した式（２）中のＬ^４およびＬ^５が表す「置換基」と同様である。
Ｌ^６およびＬ^７のより好適な態様としては、Ｌ^６およびＬ^７の少なくとも一方が架橋性基を含むことであり、さらに好適な態様としては、Ｌ^６およびＬ^７の両方が架橋性基を含むことである。これにより、光吸収異方性膜に含まれる特定二色性色素化合物の配向度がより向上し、積層体の高温耐久性および湿熱耐久性がより良好となる。
また、Ｌ^６およびＬ^７の架橋性基のより好適な態様としては、アクリロイル基またはメタクリロイル基である。

上記式（３）中、Ｅは、窒素原子、酸素原子および硫黄原子のいずれかの原子を表し、合成適性の観点から、窒素原子であることが好ましい。
また、特定二色性色素化合物を短波長側に吸収を持つもの（例えば、５００〜５３０ｎｍ付近に極大吸収波長を持つもの）にすることが容易になるという観点からは、上記式（１）におけるＥは、酸素原子であることが好ましい。
一方、特定二色性色素化合物を長波長側に吸収を持つもの（例えば、６００ｎｍ付近に極大吸収波長を持つもの）にすることが容易になるという観点からは、上記式（３）におけるＥは、窒素原子であることが好ましい。

上記式（３）中、Ｒ^２は、水素原子、ハロゲン原子、置換基を有していてもよいアルキル基および置換基を有していてもよいアルコキシ基のいずれかの基または原子を表し、水素原子または置換基を有してもよいアルキル基が好ましい。
次に、Ｒ^２が表す「置換基を有していてもよいアルキル基」および「置換基を有していてもよいアルコキシ基」について説明する。
置換基としては、例えば、ハロゲン原子等が挙げられる。
アルキル基としては、炭素数１〜８の直鎖状、分岐鎖状または環状のアルキル基が挙げられる。中でも、炭素数１〜６の直鎖状のアルキル基が好ましく、炭素数１〜３の直鎖状のアルキル基がより好ましく、メチル基またはエチル基がさらに好ましい。
アルコキシ基としては、炭素数１〜８のアルコキシ基が挙げられる。中でも、炭素数１〜６のアルコキシ基であることが好ましく、炭素数１〜３のアルコキシ基であることがより好ましく、メトキシ基またはエトキシ基であることがさらに好ましい。

上記式（３）中、Ｒ^３は、水素原子または置換基を有していてもよいアルキル基を表し、置換基を有していてもよいアルキル基であることが好ましい。
Ｒ^３が表す「置換基を有していてもよいアルキル基」の具体例および好適態様は、上述した式（３）のＲ^２における「置換基を有していてもよいアルキル基」と同様であるので、その説明を省略する。
なお、Ｒ^３は、Ｅが窒素原子である場合に式（２）中で存在する基となる（すなわち、ｐ＝１の場合を意味する）。一方で、Ｒ^３は、Ｅが酸素原子または硫黄原子である場合、式（３）中で存在しない基となる（すなわち、ｐ＝０の場合を意味する）。

上記式（３）中、Ｒ^４は、水素原子または置換基を表す。
Ｒ^４が表す「置換基」の具体例および好適態様は、上述した「置換基を有していてもよい２価の芳香族基」における置換基と同じであり、好ましい態様も同じであるので、その説明を省略する。

上記式（３）中、ｐは、０または１を表す。ただし、Ｅが窒素原子である場合には、ｐは１であり、Ｅが酸素原子または硫黄原子である場合には、ｐは０である。

上記式（２）で表される特定二色性色素化合物としては、具体的には、例えば、特開２０１０−１５２３５１号公報の［００５１］〜［００８１］段落に記載された化合物が挙げられ、この内容は本明細書に組み込まれる。
これらのうち、上記式（３）で表される構造を有する特定二色性色素化合物としては、特開２０１０−１５２３５１号公報の［００７４］〜［００８１］段落に記載された化合物（Ｄ−１）〜（Ｄ−５３）の他に、以下に示す化合物（Ｄ−５４）〜（Ｄ−５８）も好適に挙げられる。

液晶組成物に含まれる二色性物質の含有量は、固形分の全質量に対して１〜４０質量％であることが好ましく、３〜２５質量％であることがより好ましい。

＜界面改良剤＞
液晶組成物は、界面改良剤を含むことが好ましい。界面改良剤を含むことにより、塗布表面の平滑性が向上し、配向度の更なる向上や、ハジキおよびムラを抑制して、面内の均一性の向上が見込まれる。
界面改良剤としては、液晶性化合物を塗布表面側で水平にさせるものが好ましく、特開２０１１−２３７５１３号公報の［０２５３］〜［０２９３］段落に記載の化合物（水平配向剤）を用いることができる。
液晶組成物が界面改良剤を含有する場合、界面改良剤の含有量は、液晶組成物中の上記化合物Ｂ１（特に、上述した高分子液晶性化合物）と上記二色性物質との合計１００質量部に対し、０．００１〜５質量部が好ましく、０．０１〜３質量部が好ましい。

＜重合開始剤＞
液晶組成物は、重合開始剤を含有してもよい。
重合開始剤としては、上述したバリア層形成用組成物において説明したものと同様のものが挙げられる。

＜溶媒＞
液晶組成物は、作業性等の観点から、溶媒を含有するのが好ましい。
溶媒としては、上述したバリア層形成用組成物において説明したものと同様のものが挙げられる。

＜形成方法＞
上述した液晶組成物を用いた光吸収異方性膜Ｂの形成方法は特に限定されず、上記液晶組成物を後述する透明支持体上に塗布して塗布膜を形成する工程（以下、「塗布膜形成工程」ともいう。）と、塗布膜に含まれる液晶性成分を配向させる工程（以下、「配向工程」ともいう。）と、をこの順に含む方法が挙げられる。
なお、液晶性成分とは、上述した液晶性化合物だけでなく、上述した二色性物質が液晶性を有している場合は、液晶性を有する二色性物質も含む成分である。

（塗布膜形成工程）
塗布膜形成工程は、液晶組成物を透明支持体上に塗布して塗布膜を形成する工程である。
上述した溶媒を含有する液晶組成物を用いたり、液晶組成物を加熱などによって溶融液などの液状物としたものを用いたりすることにより、透明支持体上に液晶組成物を塗布することが容易になる。
液晶組成物の塗布方法としては、具体的には、例えば、ロールコーティング法、グラビア印刷法、スピンコート法、ワイヤーバーコーティング法、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、ダイコーティング法、スプレー法、および、インクジェット法などの公知の方法が挙げられる。
なお、本態様では、液晶組成物が透明支持体上に塗布されている例を示したが、これに限定されず、例えば、透明支持体上に設けられた配向膜上に液晶組成物を塗布してもよい。配向膜の詳細については後述する。

（配向工程）
配向工程は、塗布膜に含まれる液晶性成分を配向させる工程である。これにより、光吸収異方性膜が得られる。
配向工程は、乾燥処理を有していてもよい。乾燥処理によって、溶媒などの成分を塗布膜から除去することができる。乾燥処理は、塗布膜を室温下において所定時間放置する方法（例えば、自然乾燥）によって行われてもよいし、加熱および／または送風する方法によって行われてもよい。
ここで、液晶組成物に含まれる液晶性成分は、上述した塗布膜形成工程または乾燥処理によって、配向する場合がある。例えば、液晶組成物が溶媒を含む塗布液として調製されている態様では、塗布膜を乾燥して、塗布膜から溶媒を除去することで、光吸収異方性を持つ塗布膜（すなわち、光吸収異方性膜）が得られる。
乾燥処理が塗布膜に含まれる液晶性成分の液晶相への転移温度以上の温度により行われる場合には、後述する加熱処理は実施しなくてもよい。

塗布膜に含まれる液晶性成分の液晶相への転移温度は、製造適性等の面から１０〜２５０℃が好ましく、２５〜１９０℃がより好ましい。上記転移温度が１０℃以上であると、液晶相を呈する温度範囲にまで温度を下げるための冷却処理等が必要とならず、好ましい。また、上記転移温度が２５０℃以下であると、一旦液晶相を呈する温度範囲よりもさらに高温の等方性液体状態にする場合にも高温を要さず、熱エネルギーの浪費、ならびに、基板の変形および変質等を低減できるため、好ましい。

配向工程は、加熱処理を有することが好ましい。これにより、塗布膜に含まれる液晶性成分を配向させることができるため、加熱処理後の塗布膜を光吸収異方性膜として好適に使用できる。
加熱処理は、製造適性等の面から１０〜２５０℃が好ましく、２５〜１９０℃がより好ましい。また、加熱時間は、１〜３００秒が好ましく、１〜６０秒がより好ましい。

配向工程は、加熱処理後に実施される冷却処理を有していてもよい。冷却処理は、加熱後の塗布膜を室温（２０〜２５℃）程度まで冷却する処理である。これにより、塗布膜に含まれる液晶性成分の配向を固定することができる。冷却手段としては、特に限定されず、公知の方法により実施できる。
以上の工程によって、光吸収異方性膜を得ることができる。
なお、本態様では、塗布膜に含まれる液晶性成分を配向する方法として、乾燥処理および加熱処理などを挙げているが、これに限定されず、公知の配向処理によって実施できる。

（他の工程）
光吸収異方性膜Ｂの形成方法は、上記配向工程後に、光吸収異方性膜Ｂを硬化させる工程（以下、「硬化工程」ともいう。）を有していてもよい。
硬化工程は、例えば、光吸収異方性膜Ｂが架橋性基（重合性基）を有している場合には、加熱および／または光照射（露光）によって実施される。このなかでも、硬化工程は光照射によって実施されることが好ましい。
硬化に用いる光源は、赤外線、可視光または紫外線など、種々の光源を用いることが可能であるが、紫外線であることが好ましい。また、硬化時に加熱しながら紫外線を照射してもよいし、特定の波長のみを透過するフィルタを介して紫外線を照射してもよい。
露光が加熱しながら行われる場合、露光時の加熱温度は、光吸収異方性膜に含まれる液晶性成分の液晶相への転移温度にもよるが、２５〜１４０℃であることが好ましい。
また、露光は、窒素雰囲気下で行われてもよい。ラジカル重合によって光吸収異方性膜Ｂの硬化が進行する場合において、酸素による重合の阻害が低減されるため、窒素雰囲気下で露光することが好ましい。

本発明においては、光吸収異方性膜Ｂの厚みは特に限定されず、０．１〜５．０μｍであることが好ましく、０．３〜１．５μｍであることがより好ましい。

〔透明支持体〕
本発明の積層体は、上記光吸収異方性膜Ｂの上記バリア層Ａとは反対側に透明支持体を有していてもよい。
ここで、本発明でいう「透明」とは、可視光の透過率が６０％以上であることを示し、好ましくは８０％以上であり、特に好ましくは９０％以上である。

透明支持体を形成する材料としては、例えば、ポリカーボネート系ポリマー；ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系ポリマー；ポリメチルメタクリレート等のアクリル系ポリマー；ポリスチレン、アクリロニトリル・スチレン共重合体（ＡＳ樹脂）等のスチレン系ポリマー；ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン・プロピレン共重合体等のポリオレフィン系ポリマー；塩化ビニル系ポリマー；ナイロン、芳香族ポリアミド等のアミド系ポリマー；イミド系ポリマー；スルホン系ポリマー；ポリエーテルスルホン系ポリマー；ポリエーテルエーテルケトン系ポリマー；ポリフェニレンスルフィド系ポリマー；塩化ビニリデン系ポリマー；ビニルアルコール系ポリマー；ビニルブチラール系ポリマー；アリレート系ポリマー；ポリオキシメチレン系ポリマー；エポキシ系ポリマー；などが挙げられる。

また、透明支持体を形成する材料としては、熱可塑性ノルボルネン系樹脂を好ましく用いることができる。このような熱可塑性ノルボルネン系樹脂としては、日本ゼオン（株）製のゼオネックス、ゼオノア、ＪＳＲ（株）製のアートン等が挙げられる。
また、透明支持体を形成する材料としては、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）に代表される、セルロース系ポリマーも好ましく用いることができる。

本発明においては、透明支持体の厚みは特に限定されず、１００μｍ以下であることが好ましく、８０μｍ以下であることがより好ましく、１０〜８０μｍであることが更に好ましい。

〔配向膜〕
本発明の積層体は、上記透明支持体と上記光吸収異方性膜Ｂとの間に、配向膜を有していてもよい。
配向膜を形成する方法としては、例えば、有機化合物（好ましくはポリマー）の膜表面へのラビング処理、無機化合物の斜方蒸着、マイクログルーブを有する層の形成、および、ラングミュアブロジェット法（ＬＢ膜）による有機化合物（例えば、ω−トリコサン酸、ジオクタデシルメチルアンモニウムクロライド、ステアリル酸メチルなど）の累積などの手法が挙げられる。さらに、電場の付与、磁場の付与あるいは光照射により、配向機能が生じる配向膜も知られている。
なかでも、本発明では、配向膜のプレチルト角の制御し易さの点からはラビング処理により形成する配向膜が好ましく、配向の均一性の点からは光照射により形成する光配向膜も好ましい。

＜ラビング処理配向膜＞
ラビング処理により形成される配向膜に用いられるポリマー材料としては、多数の文献に記載があり、多数の市販品を入手することができる。本発明においては、ポリビニルアルコール又はポリイミド、及びその誘導体が好ましく用いられる。配向膜については国際公開ＷＯ０１／８８５７４Ａ１号公報の４３頁２４行〜４９頁８行の記載を参照することができる。配向膜の厚さは、０．０１〜１０μｍであることが好ましく、０．０１〜１μｍであることが更に好ましい。

＜光配向膜＞
光照射により形成される配向膜に用いられる光配向化合物としては、多数の文献等に記載がある。本発明においては、例えば、特開２００６−２８５１９７号公報、特開２００７−７６８３９号公報、特開２００７−１３８１３８号公報、特開２００７−９４０７１号公報、特開２００７−１２１７２１号公報、特開２００７−１４０４６５号公報、特開２００７−１５６４３９号公報、特開２００７−１３３１８４号公報、特開２００９−１０９８３１号公報、特許第３８８３８４８号、特許第４１５１７４６号に記載のアゾ化合物、特開２００２−２２９０３９号公報に記載の芳香族エステル化合物、特開２００２−２６５５４１号公報、特開２００２−３１７０１３号公報に記載の光配向性単位を有するマレイミド及び／又はアルケニル置換ナジイミド化合物、特許第４２０５１９５号、特許第４２０５１９８号に記載の光架橋性シラン誘導体、特表２００３−５２０８７８号公報、特表２００４−５２９２２０号公報、または、特許第４１６２８５０号に記載の光架橋性ポリイミド、ポリアミドもしくはエステルが好ましい例として挙げられる。より好ましくは、アゾ化合物、光架橋性ポリイミド、ポリアミド、または、エステルである。

これらのうち、光配向化合物として、光の作用により二量化および異性化の少なくとも一方が生じる光反応性基を有する感光性化合物を用いることが好ましい。
また、光反応性基が、桂皮酸誘導体、クマリン誘導体、カルコン誘導体、マレイミド誘導体、アゾベンゼン化合物、ポリイミド化合物、スチルベン化合物およびスピロピラン化合物からなる群から選択される少なくとも１種の誘導体または化合物の骨格を有することが好ましい。

上記材料から形成した光配向膜に、直線偏光または非偏光照射を施し、光配向膜を製造する。
本明細書において、「直線偏光照射」「非偏光照射」とは、光配向材料に光反応を生じせしめるための操作である。用いる光の波長は、用いる光配向材料により異なり、その光反応に必要な波長であれば特に限定されるものではない。光照射に用いる光のピーク波長は、２００ｎｍ〜７００ｎｍが好ましく、光のピーク波長が４００ｎｍ以下の紫外光がより好ましい。

光照射に用いる光源は、通常使われる光源、例えばタングステンランプ、ハロゲンランプ、キセノンランプ、キセノンフラッシュランプ、水銀ランプ、水銀キセノンランプおよびカーボンアークランプ等のランプ、各種のレーザー［例、半導体レーザー、ヘリウムネオンレーザー、アルゴンイオンレーザー、ヘリウムカドミウムレーザーおよびＹＡＧ（イットリウム・アルミニウム・ガーネット）レーザー］、発光ダイオード、ならびに、陰極線管などを挙げることができる。

直線偏光を得る手段としては、偏光板（例えば、ヨウ素偏光板、２色色素偏光板、および、ワイヤーグリッド偏光板）を用いる方法、プリズム系素子（例えば、グラントムソンプリズム）もしくはブリュースター角を利用した反射型偏光子を用いる方法、または、偏光を有するレーザー光源から出射される光を用いる方法が採用できる。また、フィルタまたは波長変換素子等を用いて必要とする波長の光のみを選択的に照射してもよい。

照射する光は、直線偏光の場合には、配向膜に対して上面、又は裏面から配向膜表面に対して垂直、又は斜めから光を照射する方法が採用される。光の入射角度は、光配向材料によって異なるが、０〜９０°（垂直）が好ましく、４０〜９０°が好ましい。
非偏光の場合には、配向膜に対して、斜めから非偏光を照射する。その入射角度は、１０〜８０°が好ましく、２０〜６０°がより好ましく、３０〜５０°が更に好ましい。
照射時間は、１分〜６０分が好ましく、１分〜１０分がより好ましい。

パターン化が必要な場合には、フォトマスクを用いた光照射をパターン作製に必要な回数施す方法、または、レーザー光走査によるパターンの書き込みによる方法を採用できる。

本発明においては、配向膜を有する場合、バリア層Ａと光吸収異方性膜Ｂとの密着性がより良好となる理由から、配向膜が、上述したバリア層Ａに含まれる最大含有量の化合物Ａ１と同じ成分を含有していることが好ましい。なお、化合物Ａ１と同じ成分が含有しているか否かは、上述した測定条件のＴＯＦ−ＳＩＭＳにより、積層体の断面における配向膜の部分を測定することにより、確認することができる。

〔接着層〕
本発明の積層体は、上記バリア層Ａの上記光吸収異方性膜Ｂ側とは反対側に他の機能層（例えば、後述するλ／４板など）を貼合する観点から、上記バリア層Ａの上記光吸収異方性膜Ｂ側とは反対側に接着層を有していてもよい。
なお、本明細書中において、「接着層」とは、「粘着層」を包含する概念である。ここで、「粘着」とは、接着の一種であり、被着物に貼り付けた後一定時間経過しても貼り付いている力（粘着力）の変化が小さく、必要に応じて剥離できることを意味する。また、「接着」とは、上記「粘着」を含む概念であり、単純に、貼り付ける対象物同士が一体の状態に貼り付くことを意味する。

接着層は、粘着剤を含有するのが好ましい。
粘着剤としては、例えば、ゴム系粘着剤、（メタ）アクリル系粘着剤、シリコーン系粘着剤、ウレタン系粘着剤、ビニルアルキルエーテル系粘着剤、ポリビニルアルコール系粘着剤、ポリビニルピロリドン系粘着剤、ポリアクリルアミド系粘着剤、セルロース系粘着剤等が挙げられる。
これらのうち、透明性、耐候性、耐熱性などの観点から、アクリル系粘着剤（感圧粘着剤）であるのが好ましい。

接着層は、例えば、粘着剤の溶液（接着剤組成物）を離型シート上に塗布し、乾燥した後、バリア層Ａの表面に転写する方法；粘着剤の溶液をバリア層Ａの表面に直接塗布し、乾燥させる方法；等により形成することができる。
粘着剤の溶液（接着剤組成物）は、例えば、トルエンや酢酸エチル等の溶剤に、粘着剤を溶解または分散させた１０〜４０質量％程度の溶液として調製される。
塗布法は、リバースコーティング、グラビアコーティング等のロールコーティング法、スピンコーティング法、スクリーンコーティング法、ファウンテンコーティング法、ディッピング法、スプレー法などを採用できる。

また、離型シートの構成材料としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレートなどの合成樹脂フィルム；ゴムシート；紙；布；不織布；ネット；発泡シート；金属箔；等の適宜な薄葉体等が挙げられる。

本発明においては、任意の接着層の厚みは特に限定されないが、３μｍ〜５０μｍであることが好ましく、４μｍ〜４０μｍであることがより好ましく、５μｍ〜３０μｍであることが更に好ましい。

〔λ／４板〕
本発明の積層体は、上記接着層の上記バリア層Ａ側とは反対側にλ／４板を有していてもよい。
ここで、「λ／４板」とは、λ／４機能を有する板であり、具体的には、ある特定の波長の直線偏光を円偏光に（または円偏光を直線偏光に）変換する機能を有する板である。
λ／４板の具体例としては、例えば米国特許出願公開２０１５／０２７７００６号などが挙げられる。
例えば、λ／４板が単層構造である態様としては、具体的には、延伸ポリマーフィルムや、支持体上にλ／４機能を有する光学異方性層を設けた位相差フィルム等が挙げられ、また、λ／４板が複層構造である態様としては、具体的には、λ／４板とλ／２板とを積層してなる広帯域λ／４板が挙げられる。

〔用途〕
本発明の積層体は、偏光素子（偏光板）として使用でき、具体的には、例えば、直線偏光板または円偏光板として使用できる。
本発明の積層体が上記λ／４板などの光学異方性層を有さない場合には、積層体は直線偏光板として使用できる。一方、本発明の積層体が上記λ／４板を有する場合には、積層体は円偏光板として使用できる。

［積層体の製造方法］
本発明の積層体の製造方法は、上述した本発明の積層体を作製する積層体の製造方法であり、上述した化合物Ｂ１を含有する組成物を用いて、化合物Ｂ１を５０質量％以上含有する光吸収異方性膜Ｂを形成する、光吸収異方性膜形成工程と、形成された光吸収異方性膜Ｂ上に、上述した化合物Ａ１を含有する組成物を用いて、化合物Ａ１を５０質量％以上含有するバリア層Ａを形成する、バリア層形成工程とを有する。
また、化合物Ａ１と化合物Ｂ１との関係は、ハンセン溶解度パラメータから計算され、上記式（Ｉ）で表されるｄｉｓｔａｎｃｅの値が０．０〜５．０の範囲となる関係を満たすものである。

〔光吸収異方性膜形成工程〕
光吸収異方性膜形成工程は、上述した化合物Ｂ１を含有する組成物を用いて、化合物Ｂ１を５０質量％以上含有する光吸収異方性膜Ｂを形成する工程である。
ここで、化合物Ｂ１を含有する組成物は、本発明の積層体が有する光吸収異方性膜において説明した液晶組成物と同様、化合物Ｂ１（特に、上述した高分子液晶性化合物）とともに、二色性物質、界面活性剤、重合開始剤、溶媒および他の成分を含有していてもよい。
また、化合物Ｂ１を含有する組成物を用いた光吸収異方性膜Ｂの形成方法としては、本発明の積層体が有する光吸収異方性膜Ｂにおいて説明した形成方法と同様の方法、すなわち、上述した塗布膜形成工程および配向工程を有する形成方法が挙げられる。

〔バリア層形成工程〕
バリア層形成工程は、上述した光吸収異方性膜Ｂ上に、上述した化合物Ａ１を含有する組成物を用いて、化合物Ａ１を５０質量％以上含有するバリア層Ａを形成する工程である。
ここで、化合物Ａ１を含有する組成物は、化合物Ａ１（特に、上述した重合性化合物）とともに、重合開始剤、溶媒および他の成分を含有していてもよい。
また、化合物Ａ１を含有する組成物を用いたバリア層Ａの形成方法としては、本発明の積層体が有するバリア層Ａにおいて説明した形成方法と同様の方法、すなわち、組成物を塗布し、乾燥させた後に、重合により固定化する方法などが挙げられる。

［画像表示装置］
本発明の画像表示装置は、上述した本発明の積層体と、上記積層体におけるバリア層Ａの光吸収異方性膜Ｂ側とは反対側に設置された表示素子とを有する。
本発明の画像表示装置に用いられる表示素子は特に限定されず、例えば、液晶セル、有機エレクトロルミネッセンス（以下、「ＥＬ」と略す。）表示パネル、および、プラズマディスプレイパネル等が挙げられる。
これらのうち、液晶セルまたは有機ＥＬ表示パネルであるのが好ましく、液晶セルであるのがより好ましい。すなわち、本発明の画像表示装置としては、表示素子として液晶セルを用いた液晶表示装置、表示素子として有機ＥＬ表示パネルを用いた有機ＥＬ表示装置であるのが好ましく、液晶表示装置であるのがより好ましい。

〔液晶表示装置〕
本発明の画像表示装置の一例である液晶表示装置としては、上述した本発明の積層体（ただし、λ／４板を含まない）と、液晶セルと、を有する液晶表示装置である。
なお、本発明においては、液晶セルの両側に設けられる積層体のうち、フロント側の偏光素子として本発明の積層体を用いるのが好ましく、フロント側およびリア側の偏光素子として本発明の積層体を用いるのがより好ましい。
以下に、液晶表示装置を構成する液晶セルについて詳述する。

＜液晶セル＞
液晶表示装置に利用される液晶セルは、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）モード、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｅｄ Ｂｅｎｄ）モード、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ−Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）モード、またはＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）であることが好ましいが、これらに限定されるものではない。
ＴＮモードの液晶セルでは、電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に水平配向し、更に６０〜１２０゜にねじれ配向している。ＴＮモードの液晶セルは、カラーＴＦＴ（Ｔｈｉｎ Ｆｉｌｍ Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）液晶表示装置として最も多く利用されており、多数の文献に記載がある。
ＶＡモードの液晶セルでは、電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に垂直に配向している。ＶＡモードの液晶セルには、（１）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直に配向させ、電圧印加時に実質的に水平に配向させる狭義のＶＡモードの液晶セル（特開平２−１７６６２５号公報記載）に加えて、（２）視野角拡大のため、ＶＡモードをマルチドメイン化した（ＭＶＡモード（Ｍｕｌｔｉ−ｄｏｍａｉｎ Ｖｅｒｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）の）液晶セル（ＳＩＤ９７、Ｄｉｇｅｓｔ ｏｆ ｔｅｃｈ．Ｐａｐｅｒｓ（予稿集）２８（１９９７）８４５記載）、（３）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直配向させ、電圧印加時にねじれマルチドメイン配向させるモード（ｎ−ＡＳＭ（Ａｘｉａｌｌｙ ｓｙｍｍｅｔｒｉｃ ａｌｉｇｎｅｄ ｍｉｃｒｏｃｅｌｌ）モード）の液晶セル（日本液晶討論会の予稿集５８〜５９（１９９８）記載）および（４）ＳＵＲＶＩＶＡＬモードの液晶セル（ＬＣＤ（ｌｉｑｕｉｄ ｃｒｙｓｔａｌ ｄｉｓｐｌａｙ）インターナショナル９８で発表）が含まれる。また、ＰＶＡ（Ｐａｔｔｅｒｎｅｄ Ｖｅｒｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）型、光配向型（Ｏｐｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）、およびＰＳＡ（Ｐｏｌｙｍｅｒ−Ｓｕｓｔａｉｎｅｄ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）のいずれであってもよい。これらのモードの詳細については、特開２００６−２１５３２６号公報、および特表２００８−５３８８１９号公報に詳細な記載がある。
ＩＰＳモードの液晶セルは、棒状液晶性分子が基板に対して実質的に平行に配向しており、基板面に平行な電界が印加することで液晶分子が平面的に応答する。ＩＰＳモードは電界無印加時で黒表示となり、上下一対の偏光板の吸収軸は直交している。光学補償シートを用いて、斜め方向での黒表示時の漏れ光を低減させ、視野角を改良する方法が、特開平１０−５４９８２号公報、特開平１１−２０２３２３号公報、特開平９−２９２５２２号公報、特開平１１−１３３４０８号公報、特開平１１−３０５２１７号公報、特開平１０−３０７２９１号公報などに開示されている。

〔有機ＥＬ表示装置〕
本発明の画像表示装置の一例である有機ＥＬ表示装置としては、例えば、視認側から、上述した本発明の積層体（ただし、粘着層およびλ／４板を含む）と、有機ＥＬ表示パネルと、をこの順で有する態様が好適に挙げられる。この場合には、積層体は、視認側から、透明支持体、必要に応じて設けられる配向膜、光吸収異方性膜、透明樹脂層、粘着層、および、λ／４板の順に配置されている。
また、有機ＥＬ表示パネルは、電極間（陰極および陽極間）に有機発光層（有機エレクトロルミネッセンス層）を挟持してなる有機ＥＬ素子を用いて構成された表示パネルである。有機ＥＬ表示パネルの構成は特に制限されず、公知の構成が採用される。

以下に実施例に基づいて本発明をさらに詳細に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。したがって、本発明の範囲は以下に示す実施例により限定的に解釈されるべきものではない。

［実施例１］
〔透明支持体１の作製〕
厚み４０μｍのＴＡＣ基材（ＴＧ４０、富士フイルム社製）上に、下記の組成のブロッキング層塗布液１を＃１７のワイヤーバーで連続的に塗布した。
その後、１００℃の温風で２分間乾燥することにより、ＴＡＣ基材上に厚み１．２μｍのポリビニルアルコール（ＰＶＡ）ブロッキング層が形成された透明支持体１が得られた。
なお、変性ポリビニルアルコールは、固形分濃度が６．５ｗｔ％となるようにブロッキング層塗布液１中に加えた。
―――――――――――――――――――――――――――――――――
ブロッキング層塗布液１の組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記変性ポリビニルアルコール １５質量部
・重合開始剤ＩＲＧＡＣＵＲＥ２９５９（ＢＡＳＦ社製）０．７５質量部
・イソプロピルアルコール（ＩＰＡ） ４４質量部
・ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ） ０．９１質量部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）
４．２質量部
・水 １６６質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

変性ポリビニルアルコール

〔配向膜Ｃの形成〕
下記構造の光配向材料Ｃ−１の１質量部に、２−ブトキシエタノール４１．６質量部、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル４１．６質量部、および、純水１５．８質量部を加え、得られた溶液を０．４５μｍメンブレンフィルターで加圧ろ過することで光配向膜用塗布液１を調製した。
次いで、得られた光配向膜用塗布液１を透明支持体１上に塗布し、６０℃で１分間乾燥した。その後、得られた塗布膜に、偏光紫外線露光装置を用いて直線偏光紫外線（照度４．５ｍＷ、照射量３００ｍＪ／ｃｍ^２）を照射し、配向膜Ｃを作製した。

光配向材料Ｃ−１

〔光吸収異方性膜Ｂの形成〕
得られた配向膜Ｃ上に、下記組成の光吸収異方性膜形成用組成物１を＃４のワイヤーバーで連続的に塗布し、塗布膜１を形成した。
次いで、塗布膜１を１４０℃で９０秒間加熱し、塗布膜１を室温（２３℃）になるまで冷却した。
次いで、８０℃で６０秒間加熱し、再び室温になるまで冷却した。
その後、高圧水銀灯を用いて照度３０ｍＷ／ｃｍ^２の照射条件で１０秒間照射することにより、配向膜Ｃ上に光吸収異方性膜Ｂを作製した。
――――――――――――――――――――――――――――――――
光吸収異方性膜形成用組成物１の組成
――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記高分子液晶性化合物Ｌ−１ ３６．０質量部
・下記色素ｄｙｅ−１ １．１質量部
・下記色素ｄｙｅ−２ ４．７質量部
・重合開始剤ＩＲＧＡＣＵＲＥ８１９（ＢＡＳＦ社製） ０．４質量部
・下記界面改良剤Ｆ−１ ０．３質量部
・テトラヒドロフラン ３２０．０質量部
・シクロペンタノン １３７．０質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――

高分子液晶性化合物Ｌ−１

色素ｄｙｅ−１

色素ｄｙｅ−２

界面改良剤Ｆ−１

〔バリア層Ａの形成〕
光吸収異方性膜Ｂ上に、下記バリア層形成用組成物１を＃２のワイヤーバーで連続的に塗布し、４０℃で９０秒間乾燥を行った。
その後、高圧水銀灯を用いて照度３０ｍＷ／ｃｍ^２の照射条件で１０秒間照射し、樹脂組成物を硬化させ、光吸収異方性膜Ｂ上にバリア層Ａが形成された積層体を作製した。
ミクロトーム切削機を用いて、バリア層Ａの断面を切削し、走査型電子顕微鏡（Scanning Electron Microscope：ＳＥＭ）観察にて膜厚を測定したところ、膜厚は約０．７μｍであった。

―――――――――――――――――――――――――――――――――
バリア層形成用組成物１
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記ＣＥＬ２０２１Ｐ（ダイセル社製） １４４質量部
・ＩＲＧＡＣＵＲＥ８１９（ＢＡＳＦ社製） ３質量部
・下記光カチオン重合開始剤
〔ＣＰＩ−１００Ｐ（炭酸プロピレン溶液）、サンアプロ社製〕６質量部
・下記界面改良剤Ｆ−２ ０．３質量部
・メチルエチルケトン（ＭＥＫ） ３４７質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

ＣＥＬ２０２１Ｐ

光カチオン重合開始剤（ＣＰＩ−１００Ｐ）

界面改良剤Ｆ−２

［実施例２］
光吸収異方性膜形成用組成物１に代えて下記組成の光吸収異方性膜形成用組成物２を用い、＃４のワイヤーバーに代えて＃１１のワイヤーバーを用いた以外は、実施例１と同様の方法で、積層体を作製した。
――――――――――――――――――――――――――――――――
光吸収異方性膜形成用組成物２の組成
――――――――――――――――――――――――――――――――
・上記高分子液晶性化合物Ｌ−１ ５０．６質量部
・上記色素ｄｙｅ−１ ３．５質量部
・上記色素ｄｙｅ−２ ４．６質量部
・重合開始剤ＩＲＧＡＣＵＲＥ８１９（ＢＡＳＦ社製） ０．５質量部
・上記界面改良剤Ｆ−１ ０．１質量部
・テトラヒドロフラン １３２．２質量部
・シクロペンタノン ３０８．５質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――

［実施例３］
バリア層形成用組成物１に代えて、下記組成のバリア層形成用組成物２を用いた以外は、実施例１と同様の方法で、積層体を作製した。
―――――――――――――――――――――――――――――――――
バリア層形成用組成物２
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・上記ＣＥＬ２０２１Ｐ（ダイセル社製） １１１質量部
・アルミナエタノールゾルＡ２Ｋ５−１０
（川研ファインケミカル社製、柱状のアルミナ水和物粒子が
液中に分散したコロイド液） １１５質量部
・ＩＲＧＡＣＵＲＥ８１９（ＢＡＳＦ社製） ２質量部
・上記ＣＰＩ−１００Ｐ（炭酸プロピレン溶液） ５質量部
・メチルエチルケトン ２６７質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

［実施例４］
光吸収異方性膜形成用組成物１に代えて、下記組成の光吸収異方性膜形成用組成物３を用いた以外は、実施例１と同様の方法で、積層体を作製した。
――――――――――――――――――――――――――――――――
光吸収異方性膜形成用組成物３の組成
――――――――――――――――――――――――――――――――
・上記高分子液晶性化合物Ｌ−１ ２４．３質量部
・上記色素ｄｙｅ−１ ０．８質量部
・下記色素ｄｙｅ−３ ３．３質量部
・下記色素ｄｙｅ−４ １．２質量部
・重合開始剤ＩＲＧＡＣＵＲＥ８１９（ＢＡＳＦ社製）０．２５質量部
・上記界面改良剤Ｆ−１ ０．２１質量部
・テトラヒドロフラン ３２９．０質量部
・シクロペンタノン １４１．０質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――

色素ｄｙｅ−３

色素ｄｙｅ−４

［実施例５］
光吸収異方性膜形成用組成物１に代えて、実施例４で用いた光吸収異方性膜形成用組成物３を用いた以外は、実施例３と同様の方法で、積層体を作製した。

［実施例６］
バリア層形成用組成物１に代えて、下記組成のバリア層形成用組成物３を用いた以外は、実施例１と同様の方法で、積層体を作製した。
―――――――――――――――――――――――――――――――――
バリア層形成用組成物３
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・上記ＣＥＬ２０２１Ｐ（ダイセル社製） １３９質量部
・ＩＲＧＡＣＵＲＥ８１９（ＢＡＳＦ社製） ３質量部
・下記光カチオン重合開始剤ＰＡＧ−１ ８質量部
・上記界面改良剤Ｆ−２ ０．３質量部
・メチルエチルケトン（ＭＥＫ） ３５０質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

光カチオン重合開始剤ＰＡＧ−１

［実施例７］
バリア層形成用組成物１に代えて、下記組成のバリア層形成用組成物４を用いた以外は、実施例１と同様の方法で、積層体を作製した。
―――――――――――――――――――――――――――――――――
バリア層形成用組成物４
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・上記ＣＥＬ２０２１Ｐ（ダイセル社製） １１３質量部
・ブタンテトラカルボン酸テトラ
（３，４−エポキシシクロヘキシルメチル）修飾ε−カプロラクトン
〔エポリードＧＴ４０１、ダイセル社製〕 １０７質量部
・ＩＲＧＡＣＵＲＥ８１９（ＢＡＳＦ社製） ２質量部
・上記ＣＰＩ−１００Ｐ（炭酸プロピレン溶液） ５質量部
・メチルエチルケトン（ＭＥＫ） ２７３質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

［実施例８］
バリア層形成用組成物１に代えて、下記組成のバリア層形成用組成物５を用いた以外は、実施例１と同様の方法で、積層体を作製した。
―――――――――――――――――――――――――――――――――
バリア層形成用組成物５
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・上記ＣＥＬ２０２１Ｐ（ダイセル社製） １３６質量部
・ポリビニルブチラール
（エスレックＫＳ−１０、積水化学製） ２８質量部
・ＩＲＧＡＣＵＲＥ８１９（ＢＡＳＦ社製） ３質量部
・上記ＣＰＩ−１００Ｐ（炭酸プロピレン溶液） ６質量部
・メチルエチルケトン（ＭＥＫ） ３２７質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

［実施例９］
バリア層形成用組成物１に代えて、下記組成のバリア層形成用組成物６を用いた以外は、実施例１と同様の方法で、積層体を作製した。
―――――――――――――――――――――――――――――――――
バリア層形成用組成物６
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・上記ＣＥＬ２０２１Ｐ（ダイセル社製） １４４質量部
・ＩＲＧＡＣＵＲＥ８１９（ＢＡＳＦ社製） ３質量部
・上記ＣＰＩ−１００Ｐ（炭酸プロピレン溶液） ６質量部
・メガファックＲＳ−９０（ＤＩＣ製） ０．３質量部
・メチルエチルケトン（ＭＥＫ） ３４７質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

［実施例１０〜１４］
ＣＥＬ２０２１Ｐ（ダイセル社製）に代えて、下記表１に記載し、下記式で表される化合物を用いた以外は、実施例１と同様の方法で、積層体を作製した。

［比較例１〜４］
ＣＥＬ２０２１Ｐ（ダイセル社製）に代えて、下記表１に記載し、下記式で表される化合物を用いた以外は、実施例１と同様の方法で、積層体を作製した。

作製した積層体について、上述した方法で、化合物Ａ１および化合物Ｂ１の含有量を測定し、また、化合物Ａ１および化合物Ｂ１のハンセン溶解度パラメータならびに上記式（Ｉ）で表されるｄｉｓｔａｎｃｅの値を算出した。これらの結果を表１に示す。
なお、実施例１〜１４で作製した積層体については、光吸収異方性膜Ｂおよび配向膜Ｃ中にも化合物Ａ１が含有していることが確認できた。

〔配向度〕
作製した積層体について、日本分光（株）製自動偏光フィルム測定装置ＶＡＰ−７０７０を用いて、上述した方法で配向度を算出した。結果を下記表１に示す。

〔密着性〕
作製した積層体について、バリア層Ａを有する側の表面に、カッターナイフで碁盤目状に縦１１本、横１１本の切り込みを入れて、合計１００個の正方形の升目を刻み、その面に日東電工（株）製のポリエステル粘着テープ（Ｎｏ．３１Ｂ）を貼りつけた。３０分経時したあとに、垂直方向にテープを素早く引き剥がし、剥がれた升目の数を数えて、以下の基準で評価した。結果を下記表１に示す。
Ａ：１００升において剥がれが全く認められなかった。
Ｂ：１００升において１〜１０升の剥がれが認められた（許容範囲内）。
Ｃ：１００升において１０升以上の剥がれが認められた。

表１に示す結果から、バリア層Ａに含まれる最も含有量の多い化合物Ａ１と、光吸収異方性膜Ｂに含まれる最も含有量の多い化合物Ｂ１との関係が、ハンセン溶解度パラメータから計算され、上記式（Ｉ）で表されるｄｉｓｔａｎｃｅの値が０．０〜５．０の範囲となる関係であると、光吸収異方性膜とバリア層との密着性が良好となることが分かった（実施例１〜１４）。

［実施例１５］
〔光配向膜用組成物の調製〕
＜重合体Ｃ−１の合成＞
撹拌機、温度計、滴下漏斗および還流冷却管を備えた反応容器に、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン１００．０質量部、メチルイソブチルケトン５００質量部、および、トリエチルアミン１０．０質量部を仕込み、室温で混合物を撹拌した。次に、脱イオン水１００質量部を滴下漏斗より３０分かけて得られた混合物に滴下した後、還流下で混合物を混合しつつ、８０℃で６時間反応させた。反応終了後、有機相を取り出し、０．２質量％硝酸アンモニウム水溶液により洗浄後の水が中性になるまで有機相を洗浄した。その後、得られた有機相から減圧下で溶媒および水を留去し、エポキシ基を有するポリオルガノシロキサンを粘調な透明液体として得た。
このエポキシ基を有するポリオルガノシロキサンについて、^１Ｈ−ＮＭＲ（Nuclear Magnetic Resonance）分析を行ったところ、化学シフト（δ）＝３．２ｐｐｍ付近にオキシラニル基に基づくピークが理論強度どおりに得られ、反応中にエポキシ基の副反応が起こっていないことが確認された。このエポキシ基を有するポリオルガノシロキサンの重量平均分子量Ｍｗは２，２００、エポキシ当量は１８６ｇ／モルであった。
次に、１００ｍＬの三口フラスコに、上記で得たエポキシ基を有するポリオルガノシロキサン１０．１質量部、アクリル基含有カルボン酸（東亜合成株式会社、商品名「アロニックスＭ−５３００」、アクリル酸ω−カルボキシポリカプロラクトン（重合度ｎ≒２））０．５質量部、酢酸ブチル２０質量部、特開２０１５−２６０５０号公報の合成例１の方法で得られた桂皮酸誘導体１．５質量部、および、テトラブチルアンモニウムブロミド０．３質量部を仕込み、得られた混合物を９０℃で１２時間撹拌した。撹拌後、得られた混合物と等量（質量）の酢酸ブチルで混合物を希釈し、さらに希釈された混合物を３回水洗した。得られた混合物を濃縮し、酢酸ブチルで希釈する操作を２回繰り返し、最終的に、光配向性基を有するポリオルガノシロキサン（下記重合体Ｃ−１）を含む溶液を得た。この重合体Ｃ−１の重量平均分子量Ｍｗは９，０００であった。また、^１Ｈ−ＮＭＲ分析の結果、重合体Ｃ−１中のシンナメート基を有する成分は２３．７質量％であった。

重合体Ｃ−１

＜光配向膜形成用組成物２の調製＞
以下の成分を混合して、光配向膜形成用組成物２を調製した。
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・上記重合体Ｃ−１ １０．６７質量部
・下記低分子化合物Ｂ−１ ５．１７質量部
・下記添加剤Ｐ−１（ＴＡ−６０Ｂ、サンアプロ社製） ０．５３質量部
・酢酸ブチル ８２８７．３７質量部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート
２０７１．８５質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

低分子化合物Ｂ−１

添加剤Ｐ−１

〔光学異方性層用塗布液の調製〕
下記組成の光学異方性層用塗布液を調製した。
―――――――――――――――――――――――――――――――――
光学異方性層用塗布液
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記液晶性化合物Ｌ−３ ４２．００質量部
・下記液晶性化合物Ｌ−４ ４２．００質量部
・下記重合性化合物Ａ−１ １６．００質量部
・下記低分子化合物Ｂ−１ ６．００質量部
・下記重合開始剤Ｓ−１（オキシム型） ０．５０質量部
・下記レベリング剤Ｇ−１ ０．２０質量部
・ハイソルブＭＴＥＭ（東邦化学工業社製） ２．００質量部
・ＮＫエステルＡ−２００（新中村化学工業社製） １．００質量部
・メチルエチルケトン ４２４．８質量部
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なお、下記液晶性化合物Ｌ−３およびＬ−４のアクリロイルオキシ基に隣接する基は、プロピレン基（メチル基がエチレン基に置換した基）を表し、下記液晶性化合物Ｌ−３およびＬ−４は、メチル基の位置が異なる位置異性体の混合物を表す。

〔セルロースアシレートフィルム１の作製〕
＜コア層セルロースアシレートドープの作製＞
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、撹拌して、各成分を溶解し、コア層セルロースアシレートドープとして用いるセルロースアセテート溶液を調製した。
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コア層セルロースアシレートドープ
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・アセチル置換度２．８８のセルロースアセテート １００質量部
・特開２０１５−２２７９５５号公報の実施例に
記載されたポリエステル化合物Ｂ １２質量部
・下記化合物Ｆ ２質量部
・メチレンクロライド（第１溶媒） ４３０質量部
・メタノール（第２溶剤） ６４質量部
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化合物Ｆ

＜外層セルロースアシレートドープの作製＞
上記のコア層セルロースアシレートドープ９０質量部に下記のマット剤溶液を１０質量部加え、外層セルロースアシレートドープとして用いるセルロースアセテート溶液を調製した。
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マット剤溶液
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・平均粒子サイズ２０ｎｍのシリカ粒子
（ＡＥＲＯＳＩＬ Ｒ９７２、日本アエロジル（株）製） ２質量部
・メチレンクロライド（第１溶媒） ７６質量部
・メタノール（第２溶剤） １１質量部
・上記のコア層セルロースアシレートドープ １質量部
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＜セルロースアシレートフィルム１の作製＞
上記コア層セルロースアシレートドープと上記外層セルロースアシレートドープを平均孔径３４μｍのろ紙および平均孔径１０μｍの焼結金属フィルターでろ過した後、上記コア層セルロースアシレートドープとその両側に外層セルロースアシレートドープとを３層同時に流延口から２０℃のドラム上に流延した（バンド流延機）。
次いで、溶剤含有率略２０質量％の状態で剥ぎ取り、フィルムの幅方向の両端をテンタークリップで固定し、横方向に延伸倍率１．１倍で延伸しつつ乾燥した。
その後、熱処理装置のロール間を搬送することにより、更に乾燥し、厚み４０μｍの光学フィルムを作製し、これを実施例２０の光学フィルムとした。得られたセルロースアシレートフィルム１の面内レターデーションは０ｎｍであった。

〔λ/４位相差フィルム１の作製〕
作製したセルロースアシレートフィルム１の片側の面に、先に調製した光配向膜用組成物２をバーコーターで塗布した。
塗布後、１２０℃のホットプレート上で１分間乾燥して溶剤を除去し、厚さ０．３μｍの光異性化組成物層を形成した。
得られた光異性化組成物層を偏光紫外線照射（１０ｍＪ／ｃｍ^２、超高圧水銀ランプ使用）することで、光配向膜を形成した。
次いで、光配向膜上に、先に調製した光学異方性層用塗布液をバーコーターで塗布し、組成物層を形成した。
形成した組成物層をホットプレート上でいったん１１０℃まで加熱した後、６０℃に冷却させて配向を安定化させた。
その後、６０℃に保ち、窒素雰囲気下（酸素濃度１００ｐｐｍ）で紫外線照射（５００ｍＪ／ｃｍ^２、超高圧水銀ランプ使用）によって配向を固定化し、厚さ２．３μｍの光学異方性層を形成し、λ／４位相差フィルム１を作製した。得られた光学積層体の面内レターデーションは１４０ｎｍであった。

〔ポジティブＣプレート膜２の作製〕
仮支持体として、市販されているトリアセチルセルロースフィルム「Ｚ−ＴＡＣ」（富士フイルム社製）を用いた（これをセルロースアシレートフィルム２とする）。
セルロースアシレートフィルム２を温度６０℃の誘電式加熱ロールを通過させ、フィルム表面温度を４０℃に昇温した後に、フィルムの片面に下記に示す組成のアルカリ溶液を、バーコーターを用いて塗布量１４ｍｌ／ｍ^２で塗布し、１１０℃に加熱し、（株）ノリタケカンパニーリミテド製のスチーム式遠赤外ヒーターの下に、１０秒間搬送した。
次いで、同じくバーコーターを用いて、純水を３ｍｌ／ｍ^２塗布した。
次いで、ファウンテンコーターによる水洗とエアナイフによる水切りを３回繰り返した後に、７０℃の乾燥ゾーンに１０秒間搬送して乾燥し、アルカリ鹸化処理したセルロースアシレートフィルム２を作製した。
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アルカリ溶液の組成（質量部）
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水酸化カリウム ４．７質量部
水 １５．８質量部
イソプロパノール ６３．７質量部
含フッ素界面活性剤ＳＦ−１
（Ｃ_１４Ｈ_２９Ｏ（ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ）_２０Ｈ） １．０質量部
プロピレングリコール １４．８質量部
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上記アルカリ鹸化処理されたセルロースアシレートフィルム２を用い、下記の組成の配向膜形成用塗布液を＃８のワイヤーバーで連続的に塗布した。６０℃の温風で６０秒、さらに１００℃の温風で１２０秒乾燥し、配向膜を形成した。
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配向膜形成用塗布液の組成
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ポリビニルアルコール（クラレ製、ＰＶＡ１０３） ２．４質量部
イソプロピルアルコール １．６質量部
メタノール ３６質量部
水 ６０質量部
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上記で作成した配向膜を有するセルロースアシレートフィルム２上に、下記塗布液Ｎを塗布し、６０℃６０秒間熟成させた後に、空気下にて７０ｍＷ／ｃｍ^２の空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて１０００ｍJ／ｃｍ^２の紫外線を照射して、その配向状態を固定化することにより、重合性棒状液晶化合物を垂直配向させ、ポジティブＣプレート膜２を作製した。波長５５０ｎｍにおいてＲｔｈが−６０ｎｍであった。

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光学異方性膜用塗布液Ｎの組成
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下記液晶性化合物Ｌ−１ ８０質量部
下記液晶性化合物Ｌ−２ ２０質量部
下記垂直配液晶化合物向剤（Ｓ０１） １質量部
エチレンオキサイド変成トリメチロールプロパントリアクリレート
（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製） ８質量部
イルガキュアー９０７（ＢＡＳＦ製） ３質量部
カヤキュアーＤＥＴＸ（日本化薬（株）製） １質量部
下記化合物Ｂ０３ ０．４質量部
メチルエチルケトン １７０質量部
シクロヘキサノン ３０質量部
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〔円偏光板の作製〕
λ/４位相差フィルム１のセルロースアシレートフィルム１側に、粘着剤を介して実施例１で作製した積層体のバリア層側を貼り合わせて円偏光板を作製した。
また、同様にして、λ/４位相差フィルム１の光学異方性層側に、粘着剤を介して上記で作製したポジティブＣプレート膜２の光学異方性膜側を転写し、セルロースアシレートフィルム２を除去した後、λ/４位相差フィルム１のセルロースアシレートフィルム１側に、粘着剤を介して実施例１で作製した積層体のバリア層側を貼り合わせて別の円偏光板を作製した。

有機ＥＬパネル（有機ＥＬ表示素子）搭載のＳＡＭＳＵＮＧ社製ＧＡＬＡＸＹ Ｓ５を分解し、有機ＥＬ表示装置から、円偏光板付きタッチパネルを剥離し、さらにタッチパネルから円偏光板を剥がし、有機ＥＬ表示素子、タッチパネルおよび円偏光板をそれぞれ単離した。次いで、単離したタッチパネルを有機ＥＬ表示素子と再度貼合し、さらに上記で作製した円偏光板のλ/４位相差フィルム１側またはポジティブＣプレート膜２側がパネル側になるようにタッチパネル上に貼合し、有機ＥＬ表示装置を作製した。

作製した有機ＥＬ表示装置について、λ／４板として、ピュアエースＷＲ（帝人株式会社製）を用いた場合と同様の評価を行ったところ、λ／４板として、λ/４位相差フィルム１とポジティブＣプレート膜２の積層体を用いた場合でも同様の効果が発揮されることを確認した。

１０、２０、３０、４０ 積層体
１２ 透明支持体
１４ 配向膜
１６ 光吸収異方性膜
１８ バリア層
１９ 接着層

Claims (10)

1. バリア層Ａと、光吸収異方性膜Ｂとを有する積層体であって、
   前記バリア層Ａが、前記光吸収異方性膜Ｂ上に隣接して設けられており、
   前記バリア層Ａに含まれる最も含有量の多い化合物Ａ１と、前記光吸収異方性膜Ｂに含まれる最も含有量の多い化合物Ｂ１との関係が、ハンセン溶解度パラメータから計算され、下記式（Ｉ）で表されるｄｉｓｔａｎｃｅの値が０．０〜５．０の範囲となる関係を満たし、
   前記光吸収異方性膜Ｂが、前記化合物Ａ１と同じ成分を含有している、積層体。
   
   前記式（Ｉ）中、δ_Ｄは、ハンセン溶解度パラメータの分散項であり、δ_Ｐは、ハンセン溶解度パラメータの極性項であり、δ_Ｈは、ハンセン溶解度パラメータの水素結合項を表す。
   ただし、前記化合物Ａ１が重合体である場合、前記式（Ｉ）中のδ_{Ｄ（Ａ１）}、δ_{Ｐ（Ａ１）}およびδ_{Ｈ（Ａ１）}は、前記重合体を構成する繰り返し単位のうち、最も含有量の多い繰り返し単位を形成する単量体のハンセン溶解度パラメータであり、
   また、前記化合物Ａ１が重合体である場合、前記光吸収異方性膜Ｂに含まれる前記化合物Ａ１と同じ成分は、前記重合体と同じ成分、または、前記重合体を構成する繰り返し単位のうち、最も含有量の多い繰り返し単位を形成する単量体と同じ成分をいう。
2. 前記光吸収異方性膜Ｂの前記バリア層Ａとは反対側に透明支持体を有し、
   前記透明支持体と前記光吸収異方性膜Ｂとの間に、配向膜を有する、請求項１に記載の積層体。
3. 前記配向膜が、前記化合物Ａ１と同じ成分を含有している、請求項２に記載の積層体。
4. 前記光吸収異方性膜Ｂの視感度補正した配向度が０．９０以上である、請求項１〜３のいずれか１項に記載の積層体。
5. 前記化合物Ｂ１が、下記式（１）で表される化合物またはその重合体である、請求項１〜４のいずれか１項に記載の積層体。
   Ｑ^１−Ｄ^１−Ｇ^１−Ｄ^２−Ｇ^２−Ｄ^３−Ｑ^２ ・・・（１）
   前記式（１）中、Ｑ^１およびＱ^２は、それぞれ独立に、水素原子または１価の有機基を表し、Ｑ^１およびＱ^２の少なくとも一方は重合性基を表す。
   また、Ｄ^１、Ｄ^２およびＤ^３は、それぞれ独立に、単結合、あるいは、−（Ｃ＝Ｏ）Ｏ−、−Ｏ（Ｃ＝Ｏ）−、置換もしくは非置換の炭素数１〜２０のアルキレン基、置換もしくは非置換の炭素数６〜４０のアリーレン基、置換もしくは非置換の炭素数４〜３０のヘテロアリーレン基、置換もしくは非置換の炭素数６〜４０のシクロアルキレン基、または、これらの基を構成する−ＣＨ_２−の１個以上が−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＲ−もしくは−ＰＲ−に置換された２価の連結基を表し、Ｒは、水素原子または炭素数１〜２０のアルキル基を表す。
   また、Ｇ^１およびＧ^２は、それぞれ独立に、置換もしくは非置換の炭素数６〜４０のアリーレン基、置換もしくは非置換の炭素数４〜３０のヘテロアリーレン基、または、置換もしくは非置換の炭素数６〜４０のシクロアルキレン基を表す。
6. 前記光吸収異方性膜Ｂが、前記化合物Ｂ１と二色性物質とを含有する組成物を用いて形成される膜である、請求項１〜５のいずれか１項に記載の積層体。
7. 更に、前記バリア層Ａの前記光吸収異方性膜Ｂ側とは反対側に接着層を有する、請求項１〜６のいずれか１項に記載の積層体。
8. 更に、前記接着層の前記バリア層Ａ側とは反対側にλ／４板を有する、請求項７に記載の積層体。
9. バリア層Ａと、光吸収異方性膜Ｂとを有する積層体を作製する積層体の製造方法であって、
   化合物Ｂ１を含有する組成物を用いて、前記化合物Ｂ１を５０質量％以上含有する光吸収異方性膜Ｂを形成する、光吸収異方性膜形成工程と、
   前記光吸収異方性膜Ｂ上に、化合物Ａ１を含有する組成物を用いて、前記化合物Ａ１を５０質量％以上含有するバリア層Ａを形成する、バリア層形成工程とを有し、
   前記化合物Ａ１と前記化合物Ｂ１との関係が、ハンセン溶解度パラメータから計算され、下記式（Ｉ）で表されるｄｉｓｔａｎｃｅの値が０．０〜５．０の範囲となる関係を満たす、積層体の製造方法。
   
   前記式（Ｉ）中、δ_Ｄは、ハンセン溶解度パラメータの分散項であり、δ_Ｐは、ハンセン溶解度パラメータの極性項であり、δ_Ｈは、ハンセン溶解度パラメータの水素結合項を表す。
   ただし、前記化合物Ａ１が重合体である場合、前記式（Ｉ）中のδ_{Ｄ（Ａ１）}、δ_{Ｐ（Ａ１）}およびδ_{Ｈ（Ａ１）}は、前記重合体を構成する繰り返し単位のうち、最も含有量の多い繰り返し単位を形成する単量体のハンセン溶解度パラメータである。
10. 請求項１〜８のいずれか１項に記載の積層体と、前記積層体におけるバリア層Ａの光吸収異方性膜Ｂ側とは反対側に設置された表示素子と、を有する、画像表示装置。